JP2019083275A - インプリントモールドおよびインプリントモールド形成用ブランクならびにパターン転写体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明のインプリントモールドは、表面および裏面を有する光透過性基板を備え、上記光透過性基板の上記表面側にメサ構造が設けられ、上記メサ構造が設けられている領域と平面視上一致する領域であるメサ構造領域は、上記光透過性基板の上記裏面側から入射する入射光を、上記メサ構造領域の中心側に屈折させる特性を有することを特徴とする。
第1実施形態のインプリントモールドは、上記メサ構造領域における上記光透過性基板の上記裏面側には、上記光透過性基板の上記裏面側から入射する入射光を、上記メサ構造領域の中心側に屈折させる形状を有する凸レンズ形状部が設けられていることを特徴とする。
上記光透過性基板は、上記メサ構造領域における上記裏面側に、上記裏面側から入射する入射光を上記メサ構造領域の中心側に屈折させる形状を有する凸レンズ形状部が設けられているものである。
上記凸レンズ形状部は、上記メサ構造領域における上記裏面側に設けられている上記光透過性基板の一部である。
a.メサ構造
上記メサ構造の平面視した形状は、特に限定されるものではなく、例えば、図1に示されるように矩形状でもよい。また、図1(b)においてHで示されるような上記メサ構造の高さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば10μm〜50μm程度である。さらに、平面視して矩形状の上記メサ構造の縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであり、例えば20mm〜35mm程度であるが、この範囲に限定されるものではない。
上記光透過性基板としては、図1および図2(a)〜図2(c)に示されるように上記裏面側における上記メサ構造領域を含む領域には、凹部が設けられているものでもよいし、図3に示されるように上記凹部が設けられていないものでもよいが、上記凹部が設けられているものが好ましい。上記インプリントモールドの転写パターンを被転写体の表面に塗布した硬化性樹脂層に密着させる時に、上記凹部内の空気圧を高くしてインプリントモールドを湾曲させることにより、転写パターンと硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを抑制することができるからである。
図4は、第1実施形態のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図であり、図1(b)に示される断面に対応する断面を示すものである。
上記光透過性基板の形状は、特に限定されないが、通常、矩形状である。この場合、上記光透過性基板の縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば142mm〜162mm程度である。また、上記光透過性基板の厚さは、材料や用途等に応じて異なるものであるが、例えば0.5mm〜15mm程度である。
(1)遮光膜
第1実施形態のインプリントモールドは、遮光膜を備えるものでもよい。
第1実施形態のインプリントモールドの製造方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、光透過性基板を備える一般的なインプリントモールド形成用ブランクから一般的な製造方法を用いることにより製造することができる。
本発明のインプリントモールドとしては、第1実施形態の方が、後述する第2実施形態よりも作製が容易である。
第2実施形態のインプリントモールドは、上記光透過性基板の上記メサ構造領域には、上記メサ構造領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられていることを特徴とする。
上記光透過性基板は、上記メサ構造領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が上記メサ構造領域に設けられているものである。
上記屈折率変化部は、上記メサ構造領域に設けられ、上記メサ構造領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる上記光透過性基板の一部である。
上記光透過性基板は、通常は、図6に示されるように、上記屈折率変化部の外側に低屈折率部が設けられ、上記屈折率変化部の上記中心側に高屈折率部が設けられ、上記屈折率変化部が上記低屈折率部および上記高屈折率部の間に設けられている。
上記低屈折率部は、上記光透過性基板において上記屈折率変化部の外側に設けられているものである。
上記高屈折率部は、上記光透過性基板において上記屈折率変化部に対して上記メサ構造領域の中心側に設けられているものである。
a.接触部分
図8(a)〜図8(c)は、第2実施形態のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図であり、図6(b)に示される断面に対応する断面をそれぞれ示すものである。
上記メサ構造の平面視した形状、高さ、ならびに平面視して矩形状の上記メサ構造の縦および横の長さについては、第1実施形態におけるメサ構造と同様であるため、ここでの記載を省略する。
図9は、第2実施形態のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図であり、図6(b)に示される断面に対応する断面を示すものである。
図10(a)および図10(b)は、それぞれ第2実施形態のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図であり、図6(b)に示される断面に対応する断面を示すものである。
上記光透過性基板の形状については、第1実施形態における光透過性基板の形状と同様であるため、ここでの記載を省略する。また、上記光透過性基板の厚さは、第1実施形態における光透過性基板の厚さと同様であるため、ここでの記載を省略する。
(1)遮光膜
第2実施形態のインプリントモールドは、遮光膜を備えるものでもよい。
上記インプリントモールドの製造方法としては、特に限定されるものではないが、通常は、後述する「B.インプリントモールド形成用ブランク」の項目に記載されたインプリントモールド形成用ブランクから上記インプリントモールドを製造する方法が用いられる。
本発明のインプリントモールドとしては、第1実施形態および第2実施形態の両方を組み合わせたものでもよい。
本発明のインプリントモールドとしては、上述した入射光を屈折させる特性を実現するものであれば、第1実施形態および第2実施形態ならびにそれらの組み合せに限定されるものではなく、例えば、以下の図16に示されるような他の実施形態でもよい。
本発明のインプリントモールド形成用ブランクは、上述した「A.インプリントモールド II.第2実施形態」の項目に記載されたインプリントモールドに用いられる部材であって、上記インプリントモールド形成用ブランクの上記インプリントモールドで上記メサ構造領域となる領域には、上記メサ構造領域となる領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられていることを特徴とする。具体的には、表面および裏面を有する光透過性基板を備え、上記光透過性基板の上記メサ構造領域となる領域に中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられていることを特徴とする。
上記光透過性基板は、表面および裏面を有し、上記インプリントモールドで上記メサ構造領域となる領域に中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられているものである。
上記インプリントモールド形成用ブランクの製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、低屈折率基板に嵌め込み孔を形成する嵌め込み孔形成工程と、高屈折率基板を上記嵌め込み孔に嵌め込む嵌め込み工程と、上記低屈折率基板および上記嵌め込み孔に嵌め込まれた高屈折率基板を加熱することにより融着する融着工程とを備える方法等を挙げることができる。
本発明のパターン転写体の製造方法は、上述した「A.インプリントモールド」の項目に記載されたインプリントモールドのうちの転写パターンが設けられているモールドの転写パターンを被転写体の表面に設けられた硬化性樹脂層に転写する転写工程を有することを特徴とする。
上記転写工程において、上記インプリントモールドの転写パターンを被転写体の表面に設けられた硬化性樹脂層に転写する。
本発明のパターン転写体の製造方法においては、上記被転写体の表面に硬化性樹脂層を塗布する際に、図19(a)に示されるように上記転写パターンに対向する部分だけに塗布するのではなく、上記被転写体の表面の全面に塗布しても良い。また、図19(a)に示されるように上記被転写体の表面における上記転写パターンに対向する部分全体に塗布するのではなく、当該部分の一部に塗布しても良い。この場合には、上記硬化性樹脂層に上記転写パターンが接するように上記インプリントモールドを密着させる図19(b)の工程に対応する工程において、上記メサ構造の表面が上記硬化性樹脂層を押し拡げることにより、上記転写パターンに対向する部分全体に拡げることができる。
20…光透過性基板
22…メサ構造
28…凸レンズ形状部
Nc…屈折率変化部
Claims (11)
- 表面および裏面を有する光透過性基板を備え、
前記光透過性基板の前記表面側にメサ構造が設けられ、
前記メサ構造が設けられている領域と平面視上一致する領域であるメサ構造領域は、前記光透過性基板の前記裏面側から入射する入射光を、前記メサ構造領域の中心側に屈折させる特性を有することを特徴とするインプリントモールド。 - 前記メサ構造領域における前記光透過性基板の前記裏面側には、前記光透過性基板の前記裏面側から入射する入射光を、前記メサ構造領域の中心側に屈折させる形状を有する凸レンズ形状部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のインプリントモールド。
- 前記凸レンズ形状部が前記メサ構造領域の外周部を含む領域に設けられていることを特徴とする請求項2に記載のインプリントモールド。
- 前記光透過性基板の前記メサ構造領域には、前記メサ構造領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記載のインプリントモールド。
- 前記屈折率変化部が前記メサ構造領域の外周部を含む領域に設けられていることを特徴とする請求項4に記載のインプリントモールド。
- 前記光透過性基板の前記裏面側における前記メサ構造領域を含む領域には、凹部が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかに記載のインプリントモールド。
- 前記光透過性基板の前記表面の前記メサ構造の周囲には、遮光膜が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかに記載のインプリントモールド。
- 前記光透過性基板の前記裏面の前記メサ構造領域の周囲には、遮光膜が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかに記載のインプリントモールド。
- 前記メサ構造の表面に転写パターンが設けられていることを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかに記載のインプリントモールド。
- 請求項2または請求項3に記載のインプリントモールドに用いられるインプリントモールド形成用ブランクであって、
前記インプリントモールド形成用ブランクの前記インプリントモールドで前記メサ構造領域となる領域には、前記メサ構造領域となる領域の中心側に向かって屈折率が連続的に高くなる屈折率変化部が設けられていることを特徴とするインプリントモールド形成用ブランク。 - 請求項9に記載のインプリントモールドの転写パターンを被転写体の表面に設けられた硬化性樹脂層に転写する転写工程を有することを特徴とするパターン転写体の製造方法。
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