JP2019075738A - トランスデューサ - Google Patents
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Abstract
Description
。上記トランスデューサにおいて、基板の孔は、基板を非貫通であってもよい。
本発明は、静電容量型のMEMSデバイスに適用することが可能である。例えば、静電容量型のMEMSデバイスとして、圧力センサ、音響センサ、スピーカ、加速度センサ、マイクロミラー等が挙げられる。以下では、静電容量型トランスデューサの一例である音響センサについて説明する。
するためのベンチレーション用の孔あるいはスリットがあってもよい。
図3は、静電容量型トランスデューサ1の模式図である。静電容量型トランスデューサ1は、MEMS技術を用いて製造された静電容量型素子である。静電容量型トランスデューサ1は、シリコン(Si)基板2と、バックプレート3と、ダイアフラム4とを備える。シリコン基板2は、基板の一例である。シリコン基板2は、孔21を有する。図3では、孔21が、シリコン基板2を貫通しているが、図4に示すように、孔21は、シリコン基板2を非貫通であってもよい。すなわち、孔21は、シリコン基板2の表面に設けられた凹部であってもよい。シリコン基板2に孔21を設けることで、シリコン基板2とダイアフラム4との間が一定距離以上になるため、シリコン基板2とダイアフラム4との間の抵抗を低減することができる。
、周辺領域35Aの開口率とも表記する。)は、周辺領域35Aの面積に対する周辺領域35Aに含まれる複数の貫通孔33の開口面積の合計の比率である。周辺領域35Bにおける貫通孔33の開口率(以下、周辺領域35Bの開口率とも表記する。)は、周辺領域35Bの面積に対する周辺領域35Bに含まれる複数の貫通孔33の開口面積の合計の比率である。周辺領域35Cにおける貫通孔33の開口率(以下、周辺領域35Cの開口率と表記する。)は、周辺領域35Cの面積に対する周辺領域35Cに含まれる複数の貫通孔33の開口面積の合計の比率である。貫通孔33の開口面積は、バックプレート3の下面38を基準とする。静電容量型トランスデューサ1のノイズを計算するためには、バックプレート3の下面38を基準とすることが好ましい。ただし、貫通孔33の開口面積は、バックプレート3の上面39を基準としてもよい。
ト100を示している。圧空試験では、圧縮空気をバックプレート100に印加することで、バックプレート100の強度を測定した。図6Aに示すように、バックプレート100の中心から外周まで、均一の大きさの開口を有する複数の貫通孔101を均一の間隔で配置すると、最外周の貫通孔101の近傍に応力が集中しやすくなり、バックプレート100の強度が低下する。図6Bに示すように、外部からバックプレート100に大きな圧力が加わると、バックプレート100の外周近傍の貫通孔101が破損する恐れがある。バックプレート100の開口率が大きくなる場合、最外周の貫通孔101の近傍で更に応力が集中しやすくなり、バックプレート100の強度が更に低下する。バックプレート100の開口率は、バックプレート100の上面の総面積に対する貫通孔101の開口面積の合計の比率である。
る。
ト3の下面38の法線方向から見て(平面視において)、本体部31が、四角形状であってもよい。図10Bのバックプレート3の一例では、平面視において本体部31の4隅が突出していない。バックプレート3の下面38は、バックプレート3のダイアフラム4との対向面である。図10Bでは、支持部32の図示を省略している。図10Bのバックプレート3の一例では、本体部31の外周50から中央領域34の外周51までの距離D1が、本体部31の対向する二辺の間の距離D2の25%以下である。図10Bのバックプレート3の一例では、本体部31が、対向する二辺を有する四角形状であるが、本体部31が、対向する二辺を有する多角形状であってもよい。本体部31の外周50から中央領域34の外周51までの距離D1が、本体部31の対向する二辺の間の距離D2の20%以下であることが好ましい。本体部31の外周50から中央領域34の外周51までの距離が、本体部31の対向する二辺の間の距離D2の15%以下であることが更に好ましい。本体部31の外周50から中央領域34の外周51までの距離D1が、本体部31の対向する二辺の間の距離D2の25%以下であることにより、バックプレート3の開口率を高く保ちつつ、バックプレート3の応力ピークを下げることができ、バックプレート3の強度を維持することができる。また、本体部31が突出部310を有する場合について、図10Bのバックプレート3の一例と同様である。例えば、平面視において突出部310を除いた本体部31が四角形状であり、本体部31の外周50から中央領域34の外周51までの距離D1が、本体部31の対向する二辺の間の距離D2の25%以下、20%以下又は15%以下であってもよい。
の下面38に対する貫通孔33の内面61の角度が90度である。バックプレート3の下面38に対する貫通孔33の内面61の角度が70度以上90度以下であってもよい。
状が、直線的な形状及び曲線的な形状を含む場合であっても、周辺領域35A〜35Cの各領域に含まれる貫通孔33の開口の形状を六角形(略六角形を含む)とすることにより、周辺領域35A〜35Cの各開口率を高くすることができる。
2 シリコン基板
3 バックプレート
4 ダイアフラム
21 孔
31 本体部
32 支持部
33 貫通孔
34 中央領域
35A、35B、35C 周辺領域
Claims (14)
- 孔を有する基板と、
前記基板の前記孔の開口に対向配置されたバックプレートと、
前記バックプレートとの間に空隙を介して前記バックプレートに対向配置されたダイアフラムと、
を備え、
前記バックプレートは、本体部と、前記本体部を支持し、前記基板に接続された支持部と、前記本体部を貫通する複数の貫通孔とを有し、
前記本体部は、前記複数の貫通孔の一部を有する中央領域と、前記中央領域を連続的又は離散的に囲み、前記複数の貫通孔の他の一部を有する3以上の周辺領域とを有し、
前記3以上の周辺領域の各々が、前記中央領域を連続的又は離散的に囲み、
前記中央領域及び前記3以上の周辺領域の各々における前記貫通孔の開口率が互いに異なり、
前記中央領域及び前記3以上の周辺領域の各々における前記開口率が、前記中央領域内及び前記各周辺領域内で一定であり、
前記中央領域における前記開口率が、前記3以上の周辺領域の各々における前記開口率よりも高く、
前記本体部の外周側の前記周辺領域における前記開口率が、前記中央領域側の前記周辺領域における前記開口率よりも低い、
トランスデューサ。 - 前記バックプレートの前記ダイアフラムとの対向面の法線方向から見て、前記本体部は対向する二辺を有する多角形状であり、
前記本体部の外周から前記中央領域の外周までの距離が、前記対向する二辺の間の距離の25%以下である、
請求項1に記載のトランスデューサ。 - 前記バックプレートの前記ダイアフラムとの対向面の法線方向から見て、前記本体部は円形状であり、
前記本体部の外周から前記中央領域の外周までの距離が、前記円形状の直径の25%以下である、
請求項1に記載のトランスデューサ。 - 前記中央領域における前記開口率が50%以上である、
請求項1から3の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記貫通孔は、前記バックプレートの前記ダイアフラムとの対向面から反対面に向かって広がるテーパー状の内面を有し、
前記バックプレートの前記ダイアフラムとの対向面に対する前記貫通孔の前記内面の角度が70度以上90度以下である、
請求項1から4の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記支持部の一部が前記ダイアフラムの前記バックプレートとの対向面に接触している、
請求項1から5の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記本体部と前記支持部とが、一体である、
請求項1から6の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記本体部と前記支持部とが、別部材で形成されている、
請求項1から6の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記貫通孔の開口の形状が円形、楕円形、多角形及び角が丸い多角形からなる群より選択される1種以上の形状である、
請求項1から8の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記3以上の周辺領域のうちの少なくとも一つにおける前記貫通孔の開口の形状が円形及び楕円形からなる群より選択される1種以上の形状である、
請求項1から9の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記中央領域と、前記3以上の周辺領域のうち前記本体部の外周に最も近い前記周辺領域以外の前記周辺領域とにおける前記貫通孔の開口の形状が略六角形である、
請求項1から10の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記中央領域における複数の前記貫通孔が規則的に配置されている、
請求項1から11の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記3以上の周辺領域のうちの少なくとも一つにおける前記貫通孔の開口の形状が楕円形であり、
前記楕円形の長手方向が前記中央領域を向いている、
請求項1から12の何れか一項に記載のトランスデューサ。 - 前記基板の前記孔は、前記基板を非貫通である、
請求項1から13の何れか一項に記載のトランスデューサ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017201800A JP7067891B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | トランスデューサ |
KR1020180101889A KR102066174B1 (ko) | 2017-10-18 | 2018-08-29 | 트랜스듀서 |
CN201811000514.1A CN109688525B (zh) | 2017-10-18 | 2018-08-30 | 转换器 |
EP18192622.1A EP3474573B1 (en) | 2017-10-18 | 2018-09-05 | Mems transducer |
US16/125,017 US10555089B2 (en) | 2017-10-18 | 2018-09-07 | Transducer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017201800A JP7067891B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | トランスデューサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019075738A true JP2019075738A (ja) | 2019-05-16 |
JP7067891B2 JP7067891B2 (ja) | 2022-05-16 |
Family
ID=63517706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017201800A Active JP7067891B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | トランスデューサ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10555089B2 (ja) |
EP (1) | EP3474573B1 (ja) |
JP (1) | JP7067891B2 (ja) |
KR (1) | KR102066174B1 (ja) |
CN (1) | CN109688525B (ja) |
Families Citing this family (4)
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- 2018-08-30 CN CN201811000514.1A patent/CN109688525B/zh active Active
- 2018-09-05 EP EP18192622.1A patent/EP3474573B1/en active Active
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US10555089B2 (en) | 2020-02-04 |
KR20190043460A (ko) | 2019-04-26 |
CN109688525A (zh) | 2019-04-26 |
JP7067891B2 (ja) | 2022-05-16 |
EP3474573A1 (en) | 2019-04-24 |
US20190116427A1 (en) | 2019-04-18 |
EP3474573B1 (en) | 2021-06-02 |
KR102066174B1 (ko) | 2020-01-14 |
CN109688525B (zh) | 2021-05-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200807 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210601 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211124 |
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A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20211125 |
|
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