JP2019044221A - 銅電解精製の操業方法 - Google Patents
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Abstract
Description
硫酸銅結晶が生成する要因としては様々な要因が考えられる。例えば、電解液温度の低下、電解槽内での電解液の対流不足によるアノード表面での拡散の不足、さらにアノードでの電流密度増加や電解液中の銅イオン濃度の過剰な増加あるいは電解液中の遊離硫酸イオン濃度の増加、さらに銅アノードに含有する不純物の増加、銅アノード表面に付着するアノードスライム層の構造緻密化等もある。
これらが複合的に絡み合いアノードから溶出した銅がイオンとして電解液中に拡散することが制限され、過飽和となって硫酸銅の結晶を析出し不動態化皮膜を形成すると推定される。
例えば、電流密度を下げると不動態化は発生しづらくなるが、一方で時間当たりの銅生産量が低下するために生産性が低下する。また、銅アノード中の不純物品位を低減すると不動態化は発生しにくくなるが、一方で不純物品位を低減しようとしても原料の鉱石事情や経済性から制約がある。
このように、実際の生産現場において不動態化の影響を避けるために取り得る手段には限りがあり、不動態化の発生を完全に抑えることは容易でなかった。
そのため、不動態化の発生を予知し、不動態化皮膜が生成する前に対策を取ることが望まれてきた。
具体的には、1回の電解精製は通常、1週間から10日間前後の日数を掛けて実施されるが、電圧の上昇が確認されるのは4日目以降に多く、確認された時点から1日ないしは数時間で本格的に不動態化してしまうことから、種々の対策を実施しても効果を確認する以前に不動態化が発生する結果となっていた。
例えば、特許文献1に見られるような方法は、アノード電位を浸漬電位より50mVから200mV貴な電位となる様に電圧を印加し、電流値が急激に増加する時間を測定することでステンレス表面に生成する不動態化皮膜の安定性を評価する方法である。
このような手法を用いて、銅電解精製でのアノード不動態化の発生を予測することも可能と考えられる。
特許文献2の方法では、銅電解精製でのアノードの不動態化を予測する場合、図1に示すようなアノード分極曲線の各値を測定し評価する。
具体的には、電位を走査して流れる電流すなわち電流密度を測定し、不動態化皮膜を形成し始めてそれ以上電流が流れなくなる電流密度(以下「臨界不動態化電流密度」とも称する)とその電流密度に対応する電位(以下「不動態化電位」とも称する)、不動態化皮膜を形成し電位を走査しても電流が流れなくなる際の電流密度(以下「不動態保持電流密度」とも称する)等の数値が高い値であるほど、不動態化皮膜が形成し難い状態であると推測できる。
これらのことから、アノードスライム層の影響を加味した上で、かつ短時間に銅アノード不動態化の発生について予想できる方法が望まれていた。
1.種々の電解条件における不動態化の有無確認
実際の生産現場にて実施される可能性のある種々の電解条件にて、小型の電解槽を用いて実際に電解精製を実施し、不動態化するか否かを確認する。
種々の電解条件にて電解精製を行い、不動態化した場合と不動態化しなかった場合に場合分けし、銅アノードの溶解深さが一定の値となるよう電解し、銅アノード表面にアノードスライム層を形成、付着させた後に、アノード電位を貴な方向に掃引することで、それらの臨界不動態化電流密度、もしくは不動態化電位、もしくは不動態保持電流密度といった不動態化の発生に大きな関係のある値を測定し整理することで、不動態化する場合と不動態化しない場合の閾値を設定する。
電解精製を実施した場合に、不動態化が発生するか否かを予想したい条件について、銅アノードの溶解深さが一定の値となるよう電解し、銅アノード表面にアノードスライム層を形成,付着させた後に、アノード電位を貴な方向に掃引することで、臨界不動態化電流密度、不動態化電位、及び不動態保持電流密度といった不動態化の発生に大きな関係のある値を測定し、「2.閾値の設定」にて得られた閾値との大小を比較することで、実際にその条件にて電解精製を実施した場合に不動態化が発生するか否かを予想する。
実際には予想するだけでなく、不動態化の発生が予想されるような場合は、生産現場において不動態化を発生させないための対策を取る。
[閾値設定]
先ず、組成の異なる表1に示す6種類の組成を持つ銅アノード(A,B,C,D,E,F)と、表2に示す5種類の組成の電解液(α,β,γ,δ,ζ)を用意した。
カソードは厚み約1mmの銅の薄板を切断し、電極面積が2×2cmになるようにマスキングテープでマスキングした。
具体的には、容量0.5リットルのガラスビーカー中にアノードとカソードを1枚づつ、20mmの面間距離を保持するように電極部分を対面させて入れ、電解液の温度を60℃に維持しながら、撹拌した。
その後、アノードスライムがアノード表面に付着した状態のままで、アノード電位を0.34V(vs.NHE)から1mV/secの掃引速度によって11分間、貴な方向に掃引する電気化学測定を行い、臨界不動態化電流密度を測定した。
表3に示した12通りの組み合わせで測定した臨界不動態化電流密度は、表4に示す結果が得られた。
本実施例においては、アノードの溶解は、絶縁性テープの被覆により一定方向からのみとなっているため、不純物を含むとは言いながら大部分が銅であるアノードの比重を、純銅と同様の8.96と仮定すると、通電量に対する溶解深さは、銅が2価のイオンとして溶解することから、600A/m2の電流密度で12時間通電した際は、下記のように計算され、952μmの深さになる。
600[A/m2]×12[h]/26.8[A・h/mol]×63.5/2[g/mol]/(8.96×106)[g/m3]=952[μm]
その測定結果を表5に示す。
表4における「銅アノードの溶解深さが約1000μmの場合」と比較すると、全体的に高い電流密度値となった。
この結果からアノードスライム層の厚みが増加するのに伴い、不動態化が発生しやすくなることがわかる。
図2において、銅アノードを約500μm溶解させたが不動態化しなかった点と、銅アノードを約1000μm溶解させたが不動態化しなかった場合の点を結ぶと、「y=−0.47x+3100」という関係式が得られた。
すなわち、400μm以上の深さとする必要がある。
次いでアノード電位を貴な方向に掃引して臨界不動態化電流密度を測定した。臨界不動態化電流密度値は、(YS)=2930A/m2だった。
この(y)値と上記の臨界不動態化電流密度(YS)=2930A/m2とを比較すると、実際に得た(YS)=2930A/m2の方が、式から得た(y)=2630A/m2よりも大きい。
本実施例と同組成のアノードと電解液を用いて実際の生産現場で電解精製したところ、不動態化は発生せず安定して操業できた。
つまり「溶解深さ」から算出した式の(y)値よりも、実際に測定した臨界不動態化電流密度の値が大きい方が、不動態化が生じないことが確かめられた。
表1の銅アノードFおよび表2の電解液ζを用いて、600A/m2の電流密度で12時間電解し、銅アノードを深さ方向に1000μm溶解させ、アノードスライム層をアノード表面に生成させた。その後、アノード電位を貴な方向に掃引することで、臨界不動態化電流密度を測定した。その際の臨界不動態化電流密度値は、(YS)=2350A/m2であった。
これと上記で測定した臨界不動態化電流密度値(YS)=2350A/m2を比較すると、実際に得られた(YS)=2350A/m2の方が、式から得られた(y)=2630A/m2よりも小さな値である。
そこで、実際に銅の電解精製を実施すると、不動態化が発生した。
Claims (5)
- 銅の製錬工程で得た粗銅をアノードに用い、定電流法による電解処理に付し、前記アノードの表面にアノードスライム層を形成、付着させ、
次いで、前記アノードスライム層が前記アノードの表面に付着した状態で、前記アノードを作用極とした電位掃引法による電気化学測定に付し、
前記電気化学測定により得られた臨界電流密度の値が、予め求めてある関係式により算出された電流密度の値よりも小さな場合には、前記アノードの表面の不動態化が発生すると予測することを特徴とする銅電解精製の操業方法。 - 前記アノードの表面に形成させるアノードスライム層の厚みが、アノードを400μm以上、2000μm以下の範囲の深さとなるように定電流法で電解した際に形成するアノードスライム層の厚み、であることを特徴とする請求項1に記載の銅電解精製の操業方法。
- アノードの表面にアノードスライム層を形成、付着させる際のアノード電流密度が、300A/m2以上、1200A/m2以下の範囲であることを特徴とする請求項1又は2に記載の銅電解精製の操業方法。
- アノードの表面にアノードスライム層を形成させる定電流法による電解が、3時間以上、12時間以下の範囲の時間で行われることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の銅電解精製の操業方法。
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