JP2019034923A - Ｆｅ／ｃｕ媒介ケトン合成 - Google Patents

Ｆｅ／ｃｕ媒介ケトン合成 Download PDF

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Abstract

【課題】ハリコンドリン調製における中間体であるケトン含有有機分子の調製において有用なケトン化合物の合成方法の提供。【解決手段】鉄化合物、銅化合物、リチウム塩、および還元性金属である亜鉛又はマンガンからなる新規の鉄／銅媒介（「Ｆｅ／Ｃｕ媒介」）カップリング反応に基づく、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との反応によるケトン化合物（Ｃ）の合成方法。（Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基；Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳ（ＲＳは、置換/無置換のアルキル、置換/無置換のヘテロアリール等）；ＲＡは、置換/無置換のアルキル；ＲＢは、置換/無置換のアルキル置換/無置換のアリール等）【選択図】なし

Description

カルボン酸または誘導体への有機金属試薬の添加は、ケトン合成のための簡単な解決法を提供する。この方法に付随する一欠点は、所望されるケトンが、しばしば、有機金属試薬とさらに反応するという事実である。ワインレブ（Weinreb）ケトン合成は、この欠点を克服するための解決法を提供する。例えば、Nahm, S.; Weinreb, S. M. Tetrahedron Lett. 1981, 22, 3815を参照。近年において、カルボン酸の活性化形態と有機金属とのＮｉまたはＰｄにより媒介されるカップリングが、代替的な解決法を提供することが示されている。有機金属によるケトン合成に対する一般的な概説については、例えば、Dieter, R. K. Tetrahedron 1999, 55, 4177を参照。金属触媒ケトン合成についての選択された参考文献については、RMgX/Ni：Fiandanese, V.; Marchese, G.; Ronzini, L. Tetrahedron Lett. 1983, 24, 3677；RMgX/NiおよびRMgX/Fe：Cardellicchio, C.; Fiandanese, V.; Marchese, G.; Ronzini, L. Tetrahedron Lett. 1985, 26, 3595およびそれらにおいて引用される参考文献；RZnX/Pd：Negishi, E.-i.; Bagheri, V.; Chatterjee, S.; Luo, F.-T.; Miller, J. A.; Stoll, A. T. Tetrahedron Lett. 1983, 24, 5181；RSnX3/Pd：Wittenberg, R.; Srogl, J.; Egi, M.; Liebeskind, L. S. Org. Lett. 2003, 5, 3033；RB(OH)2/Pd：Liebeskind, L. S.; Srogl, J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 11260；RSnX3/Cu：Li, H.; He, A.; Falck, J. R.; Liebeskind, L. S. Org. Lett. 2011, 13, 3682；R2Zn/Ni：Zhang, Y.; Rovis, T. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 15964を参照。
ケトンの合成のための新たな方法、特にハリコンドリンおよびそのアナログなどの錯体分子の調製における使用のためのものが必要とされている。
ハリコンドリンは、元々、海洋腐食生物Halichondria okadaiから、Uemura、Hirataおよび同僚により単離された、ポリエーテル天然の生成物である。例えば、Uemura, D.; Takahashi, K.; Yamamoto, T.; Katayama, C.; Tanaka, J.; Okumura, Y.; Hirata, Y. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 4796；Hirata, Y.; Uemura, D. Pure Appl. Chem. 1986, 58, 701を参照。ハリスタチン（halistatin）を含むいくつかのさらなるメンバーは、多様な海洋腐食生物から単離された。このクラスの天然の生成物は、Ｃ８〜Ｃ１４多環の炭素の酸化状態、および炭素骨格の長さなどの、興味深い構造多様性を示す。したがって、このクラスの天然の生成物は、ノルハリコンドリンシリーズ（例えばノルハリコンドリンＡ、ＢおよびＣ）、ハリコンドリンシリーズ（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびホモハリコンドリンシリーズ（例えばホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）の下位群に分けられる。ハリコンドリンＡを除いて、全てのメンバーは、天然のソースから単離されている。それらの好奇心をそそる構造的構成および並外れた抗腫瘍活性に起因して、ハリコンドリンは、科学界から多くの注目を受けて来た。ハリコンドリンシリーズ中の化合物（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）の一般的構造を以下に示す。以下の構造において、ハリコンドリンＡは、ＲＹおよびＲＸが、いずれも−ＯＨである場合であり；ハリコンドリンＢは、ＲＹおよびＲＸがいずれも水素である場合であり；および、ハリコンドリンＣは、ＲＸが−ＯＨであり、かつＲＹが水素である場合である：
本明細書において提供されるのは、ケトン含有有機分子を調製するための方法である。方法は、新規の鉄／銅媒介（「Ｆｅ／Ｃｕ媒介」）カップリング反応に基づく。Ｆｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログなどの錯体分子の調製において用いることができる。特に、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化（ketolization）反応は、ハリコンドリンへの途中の中間体の調製において有用である。したがって、本発明はまた、ハリコンドリンの合成において有用な中間体の調製のための方法を提供する。
加えて、本明細書において提供されるのは、本明細書において提供されるカップリング方法において有用な化合物、中間体、試薬、リガンド、触媒およびキット、ならびに、ハリコンドリンおよびそのアナログの調製において有用な化合物（すなわち中間体）である。
一側面において、本発明は、スキーム１Ａにおいて概略されるような、Ｆｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を用いてケトンを調製するための方法を提供する。基ＲＡ、Ｘ１、Ｘ２、およびＲＢは、本明細書において定義される。
スキーム１Ａ
本明細書において提供されるカップリング反応は、ケトン含有化合物、例えばハリコンドリン（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ホモハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ；ノルハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそのアナログへの途中の中間体の合成において用いることができる。スキーム２は、ハリコンドリン（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそのアナログの合成において有用な中間体である式（Ｉ−１３）の化合物を得るためのＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を示す。基ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ５、Ｒ１、Ｘ２、Ｘ１、Ｒ２、ＲＰ４，およびＸ３は、本明細書において定義される。
スキーム２
別の例として、スキーム３は、ハリコンドリンおよびそのアナログの合成において有用な中間体である式（Ｉ−１１）の化合物を得るためのＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を示す。基ＲＰ６、ＲＰ５、Ｒ１、Ｘ２、Ｘ１、Ｒ２、ＲＰ４、Ｘ３は、本明細書において定義される。
スキーム３
さらに別の例として、スキーム４は、ハリコンドリンおよびそのアナログ（すなわちハリコンドリンのＣ２０−Ｃ２６フラグメント）の合成において有用な中間体である式（ＩＩ−３）の化合物を得るためのＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を示す。基Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ５、およびＲ８は、本明細書において定義されるとおりである。
スキーム４
ハリコンドリンシリーズにおける化合物のＣ２０−Ｃ２６炭素を、以下に示す。
ある態様において、既存のケト化方法に対する、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介カップリングの利点は、新規のＦｅ／Ｃｕ媒介性反応が、ビニルハライド（例えばヨウ化ビニル）の存在下において、アルキルハライド（例えば、アルキルヨウ化物）の選択的カップリングを可能にするという点である。他のケトン形成性カップリング反応、ならびにハリコンドリンの合成のための方法は、例えば、２０１６年１１月３日に公開された国際PCT公開WO 2016/176560、および２０１６年１月７日に公開されたWO 2016/003975において見出すことができ、これらの各々の全内容は、本明細書において参考として援用される。
ワンポット（one-pot）ケトン合成は、アルキルハライドから単電子移動（ＳＥＴ）プロセスを介して調製されるアルキル亜鉛ハライドに関連することが報告されており、２つの理由により、この概念をＣｕ媒介ワンポットケトン合成の開発へと展開することにおいて興味深い。例えば、Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc., 2016, 138, 7178を参照。第一に、Ｃｕ媒介ワンポットケトン合成は、Ｎｉおよび／またはＰｄにより媒介されるワンポットケトン合成とは異なる反応性プロフィールを示し得る。第二に、有機金属試薬の過剰添加は、カプレートベースのケトン合成に関しては問題ではないことが、よく認識されている。概説については、例えば、Knochel, P.; Betzemeier, B. Modern Organocopper Chemistry, Wiley-VCH, 2002; Normant, J. F. Synthesis 1972, 63; Lipschutz, B. H. Synthesis 1987, 325を参照。
本発明のある態様の詳細は、以下に記載されるとおり、ある態様の詳細な説明において記載される。本発明の他の特徴、目的、および利点は、定義、例、図面および請求の範囲から明らかであろう。
定義
特定の官能基および化学用語の定義は、以下により詳細に記載される。化学元素は、元素周期表、CASバージョン、Handbook of Chemistry and Physics、第７５版、中表紙に従って同定され、特定の官能基は、それにおいて記載されるように、一般的に定義される。加えて、有機化学の一般的原則、ならびに特定の官能部分および反応性は、Organic Chemistry、Thomas Sorrell、University Science Books、Sausalito、1999年；SmithおよびMarch、March’s Advanced Organic Chemistry、第５版、John Wiley & Sons, Inc.、New York、2001年；Larock、Comprehensive Organic Transformations、VCH Publishers, Inc.、New York、1989年；ならびにCarruthers、Some Modern Methods of Organic Synthesis、第３版、Cambridge University Press、Cambridge、1987年において記載される。
本明細書において記載される化合物は、１つ以上の不斉中心を含んでもよく、したがって、多様な立体異性体、例えば、エナンチオマーおよび／またはジアステレオマーの形態において存在することができる。例えば、本明細書において記載される化合物は、個々のエナンチオマー、ジアステレオマーまたは幾何異性体の形態であってもよく、またはラセミ混合物および１つ以上の立体異性体が濃縮された混合物を含む立体異性体の混合物の形態であってもよい。異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ならびにキラル塩の形成および結晶化を含む当業者に公知の方法により、混合物から単離することができる；または、好ましい異性体を、不斉合成により調製することができる。例えば、Jacquesら、Enantiomers, Racemates and Resolutions（Wiley Interscience, New York, 1981年）；Wilenら、Tetrahedron 33:2725（1977年）；Eliel, E.L. Stereochemistry of Carbon Compounds（McGraw-Hill, NY, 1962年）；およびWilen, S.H., Tables of Resolving Agents and Optical Resolutions p. 268（E.L. Eliel編、Univ. of Notre Dame Press, Notre Dame, IN 1972年）を参照。本発明はさらに、実質的に他の異性体を含まない個々の異性体としての化合物、および代替的に多様な異性体の混合物を包含する。
別段に記されない限り、本明細書において示される構造はまた、１つ以上の同位体が濃縮された原子の存在下においてのみ異なる化合物を含むことを意図される。例えば、重水素もしくはトリチウムによる水素の置き換え、１８Ｆによる１９Ｆの置き換え、または１３Ｃもしくは１４Ｃによる１２Ｃの置き換えを除いて、本構造を有する化合物は、本開示の範囲内である。かかる化合物は、たとえば、生物学的アッセイにおける分析ツールまたはプローブとして有用である。
値の範囲が列記される場合、それは、当該範囲内の各々の値および部分範囲を包含することが意図される。例えば、「Ｃ１〜６アルキル」は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ１〜６、Ｃ１〜５、Ｃ１〜４、Ｃ１〜３、Ｃ１〜２、Ｃ２〜６、Ｃ２〜５、Ｃ２〜４、Ｃ２〜３、Ｃ３〜６、Ｃ３〜５、Ｃ３〜４、Ｃ４〜６、Ｃ４〜５およびＣ５〜６アルキルを包含することを意図される。
用語「脂肪族」とは、アルキル、アルケニル、アルキニル、および炭素環式基を指す。同様に、用語「ヘテロ脂肪族」とは、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、およびヘテロ環式基を指す。
用語「アルキル」とは、１〜１０個の炭素原子を有する、直鎖状または分枝状飽和炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ１〜１０アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜９アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜８アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜７アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜６アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜５アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜４アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜３アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１〜２個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜２アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、１個の炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの態様において、アルキル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルキル」）。Ｃ１〜６アルキル基の例として、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、プロピル（Ｃ３）（例えばｎ−プロピル、イソプロピル）、ブチル（Ｃ４）（例えばｎ−ブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、イソ−ブチル）、ペンチル（Ｃ５）（例えばｎ−ペンチル、３−ペンタニル、アミル、ネオペンチル、３−メチル−２−ブタニル、三級アミル）、およびヘキシル（Ｃ６）（例えばｎ−ヘキシル）が挙げられる。アルキル基のさらなる例として、ｎ−ヘプチル（Ｃ７）、ｎ−オクチル（Ｃ８）などが挙げられる。別段に特定されない限り、アルキル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換アルキル」）、または１つ以上の置換基（例えばＦなどのハロゲン）で置換されている（「置換アルキル」）。ある態様において、アルキル基は、未置換Ｃ１〜１０アルキル（例えば、未置換Ｃ１〜６アルキル、例えば、−ＣＨ３（Ｍｅ）、未置換のエチル（Ｅｔ）、未置換のプロピル（Ｐｒ、例えば、未置換のｎ−プロピル（ｎ−Ｐｒ）、未置換のイソプロピル（ｉ−Ｐｒ））、未置換のブチル（Ｂｕ、例えば、未置換のｎ−ブチル（ｎ−Ｂｕ）、未置換のtert−ブチル（tert−Ｂｕまたはｔ−Ｂｕ）、未置換のsec−ブチル（ｓｅｃ−Ｂｕ）、未置換のイソブチル（ｉ−Ｂｕ））である。ある態様において、アルキル基は、置換Ｃ１〜１０アルキル（例えば、置換Ｃ１〜６アルキル、例えば−ＣＦ３、Ｂｎ）である。
用語「ハロアルキル」とは、水素原子のうちの１つ以上が、独立して、ハロゲン、例えば、フロロ、ブロモ、クロロまたはヨードにより置き換えられている、置換されたアルキル基である。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜８ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜６ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜４ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜３ハロアルキル」）。いくつかの態様において、ハロアルキル部分は、１〜２個の炭素原子を有する（「Ｃ１〜２ハロアルキル」）。ハロアルキル基の例として、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＦＣｌ２、−ＣＦ２Ｃｌなどが挙げられる。
用語「ヘテロアルキル」とは、親鎖中（すなわち、その隣接する炭素原子の間に挿入された）および／またはその１つ以上の末端の位置に配置された、酸素、窒素または硫黄から選択される少なくとも１つのヘテロ原子（例えば１個、２個、３個または４個のヘテロ原子）をさらに含む、アルキル基を指す。ある態様において、ヘテロアルキル基とは、親鎖中に１〜１０個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を有する飽和基を指す。（「ヘテロＣ１〜１０アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜９個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜９アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜８個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜８アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜７個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜７アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜６個の炭素原子および１個以上のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜６アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜５個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜５アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜４個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜４アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜３個の炭素原子および１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜３アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に１〜２個の炭素原子および１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１〜２アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、１個の炭素原子および１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１アルキル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキル基は、親鎖中に２〜６個の炭素原子および１個または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ２〜６アルキル」）。別段に特定されない限り、ヘテロアルキル基の各々の場合は、独立して、未置換である（「未置換のヘテロアルキル」）か、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキル」）。ある態様において、ヘテロアルキル基は、未置換のヘテロＣ１〜１０アルキルである。ある態様において、ヘテロアルキル基は、置換ヘテロＣ１〜１０アルキルである。
用語「アルケニル」とは、２〜１０個の炭素原子および１つ以上の炭素−炭素二重結合（例えば１個、２個、３個または４個の二重結合）を有する直鎖状または分枝状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜９アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜８アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜７アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜５アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜４アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜３アルケニル」）。いくつかの態様において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１つ以上の炭素−炭素二重結合は、内部のものであっても（２−ブテニル中のものなど）または末端のものであってもよい（１−ブテニル中のものなど）。Ｃ２〜４アルケニル基の例として、エテニル（Ｃ２）、１−プロぺニル（Ｃ３）、２−プロぺニル（Ｃ３）、１−ブテニル（Ｃ４）、２−ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２〜６アルケニル基の例として、上述のＣ２〜４アルケニル基、ならびにペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルケニルのさらなる例として、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段に特定されない限り、アルケニル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換アルケニル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある態様において、アルケニル基は、未置換Ｃ２〜１０アルケニルである。ある態様において、アルケニル基は、置換Ｃ２〜１０アルケニルである。アルケニル基において、それについての立体化学が特定されていないＣ＝Ｃ二重結合（例えば−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、または
）は、（Ｅ）−または（Ｚ）−二重結合であってよい。
用語「ヘテロアルケニル」とは、親鎖中（すなわち、その隣接する炭素原子の間に挿入された）および／またはその１つ以上の末端の位置に配置された、酸素、窒素または硫黄から選択される少なくとも１つのヘテロ原子（例えば１個、２個、３個または４個のヘテロ原子）をさらに含む、アルケニル基を指す。ある態様において、ヘテロアルケニル基とは、親鎖中に、２〜１０個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する基を指す（「ヘテロＣ２〜１０アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜９個の炭素原子少なくとも１つの二重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜９アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜８個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜８アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜７個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜７アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜６アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜５個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜５アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜４個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜４アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜３個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜３アルケニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルケニル基は、親鎖中に、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの二重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜６アルケニル」）。別段に特定されない限り、ヘテロアルケニル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換のヘテロアルケニル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルケニル」）。ある態様において、ヘテロアルケニル基は、未置換のヘテロＣ２〜１０アルケニルである。ある態様において、ヘテロアルケニル基は、置換ヘテロＣ２〜１０アルケニルである。
用語「アルキニル」とは、２〜１０個の炭素原子および１つ以上の炭素−炭素三重結合（例えば１個、２個、３個または４個の三重結合）を有する、直鎖状または分枝状炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２〜１０アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜９個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜９アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜８個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜８アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜７個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜７アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜６個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜６アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜５個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜５アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜４個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜４アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２〜３個の炭素原子を有する（「Ｃ２〜３アルキニル」）。いくつかの態様において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１つ以上の炭素−炭素三重結合は、内部のものであっても（２−ブチニル中のものなど）または末端のものであってもよい（１−ブチニル中のものなど）。Ｃ２〜４アルキニル基の例として、限定することなく、エチニル（Ｃ２）、１−プロピニル（Ｃ３）、２−プロピニル（Ｃ３）、１−ブチニル（Ｃ４）、２−ブチニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２〜６アルケニル基の例として、上述のＣ２〜４アルキニル基、ならびにペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルキニルのさらなる例として、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段に特定されない限り、アルキニル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換アルキニル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アルキニル」）。ある態様において、アルキニル基は、未置換Ｃ２〜１０アルキニルである。ある態様において、アルキニル基は、置換Ｃ２〜１０アルキニルである。
用語「ヘテロアルキニル」とは、親鎖中（すなわち、その隣接する炭素原子の間に挿入された）および／またはその１つ以上の末端の位置に配置された、酸素、窒素または硫黄から選択される少なくとも１つのヘテロ原子（例えば１個、２個、３個または４個のヘテロ原子）をさらに含む、アルキニル基を指す。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜１０個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する基を指す（「ヘテロＣ２〜１０アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜９個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜９アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜８個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜８アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜７個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜７アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個以上のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜６アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜５個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜５アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜４個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜４アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜３個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜３アルキニル」）。いくつかの態様において、ヘテロアルキニル基は、親鎖中に、２〜６個の炭素原子、少なくとも１つの三重結合、および１個または２個のヘテロ原子を有する（「ヘテロＣ２〜６アルキニル」）。別段に特定されない限り、ヘテロアルキニル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換のヘテロアルキニル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキニル」）。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、未置換のヘテロＣ２〜１０アルキニルである。ある態様において、ヘテロアルキニル基は、置換ヘテロＣ２〜１０アルキニルである。
「炭化水素鎖」とは、置換されたまたは未置換の二価のアルキル、アルケニル、またはアルキニル基を指す。炭化水素鎖として、以下を含む：（１）炭化水素鎖の２つのラジカルのすぐ間の、炭素原子の１つ以上の鎖；（２）任意に、炭素原子の鎖上の１つ以上の水素原子；および（３）任意に、炭素原子の鎖上の１つ以上の置換基（「非鎖置換基」、これは水素ではない）。炭素原子の鎖は、連続的に連結された炭素原子からなり（「鎖原子」）、水素原子またはヘテロ原子を含まない。しかし、炭化水素鎖の非鎖置換基は、水素原子、炭素原子、およびヘテロ原子を含む任意の原子を含んでもよい。例えば、炭化水素鎖−ＣＡＨ（ＣＢＨ２ＣＣＨ３）−は、１個の鎖原子ＣＡ、ＣＡ上の１個の水素原子、および非鎖置換基−（ＣＢＨ２ＣＣＨ３）を含む。用語「Ｃｘ炭化水素鎖」（ここで、ｘは正の整数である）は、炭化水素鎖の２つのラジカルの間にｘ個の鎖原子を含む炭化水素鎖を指す。１つより多い可能なｘの値が存在する場合、最も小さい可能なｘの値が、炭化水素鎖の定義のために用いられる。例えば、−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−は、Ｃ１炭化水素鎖であり、
は、Ｃ３炭化水素鎖である。値の範囲が用いられるばあ、範囲の意味は、本明細書において記載されるとおりである。例えば、Ｃ３〜１０炭化水素鎖とは、炭化水素鎖の２つのラジカルのすぐ間の、最短の炭素原子の鎖の鎖原子の数が、３、４、５、６、７、８、９または１０である、炭化水素鎖を指す。炭化水素鎖は、飽和していてもよい（例えば−（ＣＨ２）４−）。炭化水素鎖はまた、不飽和であってもよく、炭化水素鎖中のいずれかの場所に、１つ以上のＣ＝Ｃおよび／またはＣ≡結合を含む。例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ２−、および−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−は全て、未置換かつ不飽和の炭化水素鎖の例である。ある態様において、炭化水素鎖は、未置換の（例えば−Ｃ≡Ｃ−または−（ＣＨ２）４−）である。ある態様において、炭化水素鎖は、置換されている（例えば−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−および−ＣＦ２−）。炭化水素鎖上の任意の２個の置換基は、連結されて、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロアリール環を形成してもよい。例えば、
は、全て、炭化水素鎖の例である。対照的に、ある態様において、
は、本明細書において記載される炭化水素鎖の範囲内である。Ｃｘ炭化水素鎖の鎖原子が、ヘテロ原子で置き換えられている場合、生じた基は、Ｃｘ−１炭化水素鎖とは対照的に、鎖原子がヘテロ原子で置き換えられているＣｘ炭化水素鎖として言及される。例えば、
は、１個の鎖原子が酸素原子で置き換えられているＣ３炭化水素鎖である。
用語「カルボシクリル」または「炭素環式」とは、非芳香族環系中に３〜１４個の環炭素原子（「Ｃ３〜１４カルボシクリル」）およびゼロ個のヘテロ原子を有する、非芳香族環状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜１０カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜８カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜７個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜７カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、４〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ４〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、５〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜６カルボシクリル」）。いくつかの態様において、カルボシクリル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜１０カルボシクリル」）。例示的なＣ３〜６カルボシクリル基として、限定することなく、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロぺニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）などが挙げられる。例示的なＣ３〜８カルボシクリル基として、限定することなく、上述のＣ３〜６カルボシクリル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロヘプタジエニル（Ｃ７）、シクロヘプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクタニル（Ｃ８）などが挙げられる。例示的なＣ３〜１０カルボシクリル基として、限定することなく、上述のＣ３〜８カルボシクリル基、ならびにシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ−１Ｈ−インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフタレニル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デカニル（Ｃ１０）などが挙げられる。前述の例が説明するとおり、ある態様において、カルボシクリル基は、単環式（「単環式カルボシクリル」）または多環式（例えば、縮合、架橋もしくはスピロ環系を含む、例えば二環系（「二環式カルボシクリル」）もしくは三環系（「三環式カルボシクリル」））のいずれかであり、飽和していても、１つ以上の炭素−炭素二重または三重結合を含んでいてもよい。「カルボシクリル」もまた、上で定義されるようなカルボシクリル環が、１つ以上のアリールまたはヘテロアリール基と縮合している環系であって、結合の点がカルボシクリル環上にあるものを含み、かかる場合において、炭素の数は、炭素環式環系中の炭素の数を示し続ける。別段に特定されない限り、カルボシクリル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換カルボシクリル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換カルボシクリル」）。ある態様において、カルボシクリル基は、未置換Ｃ３〜１４カルボシクリルである。ある態様において、カルボシクリル基は、置換Ｃ３〜１４カルボシクリルである。
いくつかの態様において、「カルボシクリル」は、３〜１４個の環炭素原子を有する単環式の飽和カルボシクリル基である（「Ｃ３〜１４シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、３〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜１０シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、３〜８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜８シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、３〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、４〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ４〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、５〜６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜６シクロアルキル」）。いくつかの態様において、シクロアルキル基は、５〜１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５〜１０シクロアルキル」）。Ｃ５〜６シクロアルキル基の例として、シクロペンチル（Ｃ５）およびシクロヘキシル（Ｃ５）が挙げられる。Ｃ３〜６シクロアルキル基の例として、上述のＣ５〜６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）およびシクロブチル（Ｃ４）が挙げられる。Ｃ３〜８シクロアルキル基の例として、上述のＣ３〜６シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）およびシクロオクチル（Ｃ８）が挙げられる。別段に特定されない限り、シクロアルキル基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換のシクロアルキル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換シクロアルキル」）。ある態様において、シクロアルキル基は、未置換Ｃ３〜１４シクロアルキルである。ある態様において、シクロアルキル基は、置換Ｃ３〜１４シクロアルキルである。
用語「ヘテロシクリル」または「ヘテロ環式」とは、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する３〜１４員の非芳香族環系のラジカルを指し、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「３〜１４員のヘテロシクリル」）。１つ以上の窒素原子を含むヘテロシクリル基において、結合の点は、原子価が許容する限り、炭素または窒素原子であってよい。ヘテロシクリル基は、単環式（「単環式ヘテロシクリル」）または多環式（例えば、縮合、架橋もしくはスピロ環系、例えば二環系（「二環式ヘテロシクリル」）もしくは三環系（「三環式ヘテロシクリル」））のいずれかであってよく、していても、１つ以上の炭素−炭素二重または三重結合を含んでもよい。ヘテロシクリル多環式環系は、一方または両方の環において１つ以上のヘテロ原子を含んでもよい。「ヘテロシクリル」はまた、上で定義されるようなヘテロシクリル環が、１つ以上のカルボシクリル基と縮合している環系であって、結合の点がカルボシクリルまたはヘテロシクリル環のいずれかの上にあるもの、あるいは、上で定義されるようなヘテロシクリル環が、１つ以上のアリールまたはヘテロアリール基と縮合している環系であって、結合の点がヘテロシクリル環上にあるものを含み、かかる場合において、環員の数は、ヘテロシクリル環系中の環員の数を示し続ける。別段に特定されない限り、ヘテロシクリルの各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換のヘテロシクリル」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロシクリル」）。ある態様において、ヘテロシクリル基は、未置換の３〜１４員のヘテロシクリルである。ある態様において、ヘテロシクリル基は、置換された３〜１４員のヘテロシクリルである。
いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の非芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜１０員のヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜８員の非芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜８員のヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜６員の非芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜６員のヘテロシクリル」）。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。
１個のヘテロ原子を含有する例示的な３員のヘテロシクリル基として、限定することなく、アジリジニル、オキシラニルおよびチイラニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な４員のヘテロシクリル基として、限定することなく、アゼチジニル、オキセタニルおよびチエタニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロシクリル基として、限定することなく、テトラヒドロフラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ジヒドロピロリルおよびピロリル−２，５−ジオンが挙げられる。２個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロシクリル基として、限定することなく、ジオキソラニル、オキサチオラニルおよびジチオラニルが挙げられる。３個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロシクリル基として、限定することなく、トリアゾリニル、オキサジアゾリニルおよびチアジアゾリニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロシクリル基として、限定することなく、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピリジニルおよびチアニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロシクリル基として、限定することなく、ピペラジニル、モルホリニル、ジチアニルおよびジオキサニルが挙げられる。３個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロシクリル基として、限定することなく、トリアジニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な７員のヘテロシクリル基として、限定することなく、アゼパニル、オキセパニルおよびチエパニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な８員のヘテロシクリル基として、限定することなく、アゾカニル、オキセカニルおよびチオカニルが挙げられる。例示的な二環式ヘテロシクリル基として、限定することなく、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾフラニル、テトラヒドロインドリル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、デカヒドロキノリニル、デカヒドロイソキノリニル、オクタヒドロクロメニル、オクタヒドロイソクロメニル、デカヒドロナフチリジニル、デカヒドロ−１，８−ナフチリジニル、オクタヒドロピロロ［３，２−ｂ］ピロール、インドリニル、フタリミジル、ナフタルイミジル、クロマニル、クロメニル、１Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，４］ジアゼピニル、１，４，５，７−テトラヒドロピラノ［３，４−ｂ］ピロリル、５，６−ジヒドロ−４Ｈ−フロ［３，２−ｂ］ピロリル、６，７−ジヒドロ−５Ｈ−フロ［３，２−ｂ］ピラニル、５，７−ジヒドロ−４Ｈ−チエノ［２，３−ｃ］ピラニル、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジニル、２，３−ジヒドロフロ［２，３−ｂ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロ−フロ［３，２−ｃ］ピリジニル、４，５，６，７−テトラヒドロチエノ［３，２−ｂ］ピリジニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−１，６−ナフチリジニルなどが挙げられる。
用語「アリール」とは、単環式または多環式（例えば二環式または三環式）の、４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環アレイ中に共有される６、１０または１４個のπ電子を有する）のラジカルであって、芳香族環系中に提供される６〜１４個の環炭素原子およびゼロ個のヘテロ原子を有するものを指す（「Ｃ６〜１４アリール」）。いくつかの態様において、アリール基は、６個の環炭素原子を有する（「Ｃ６アリール」；例えばフェニル）。いくつかの態様において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例えば、１−ナフチルおよび２−ナフチルなどのナフチル）。いくつかの態様において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例えばアントラシル）。「アリール」はまた、上で定義されるようなアリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系であって、ラジカルまたは結合の点がアリール環上にあるものを含み、かかる場合において、炭素原子の数は、アリール環系中の炭素原子の数を示し続ける。別段に特定されない限り、アリール基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換アリール」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある態様において、アリール基は、未置換Ｃ６〜１４アリールである。ある態様において、アリール基は、置換Ｃ６〜１４アリールである。
用語「ヘテロアリール」とは、５〜１４員の単環式または多環式（例えば二環式、三環式）の、４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環アレイ中に共有される６、１０または１４個のπ電子を有する）のラジカルであって、芳香族環系に提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有するものを指し、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜１４員のヘテロアリール」）。１つ以上の窒素原子を含むヘテロアリール基において、結合の点は、原子価が許容する限り、炭素または窒素原子であってよい。ヘテロアリール多環式環系は、一方または両方の環において、１つ以上のヘテロ原子を含んでもよい。「ヘテロアリール」は、上で定義されるようなヘテロアリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系であって、結合の点がヘテロアリール環上にあるものを含み、かかる場合において、環員の数は、ヘテロアリール環系中の環員の数を示し続ける。「ヘテロアリール」はまた、上で定義されるようなヘテロアリール環が１つ以上のアリール基と縮合している環系であって、結合の点が、アリールまたはヘテロアリール環のいずれかの上にあるものを含み、かかる場合において、環員の数は、縮合多環式（アリール／ヘテロアリール）環系中の環員の数を示し続ける。一つの環がヘテロ原子を含まない（例えばインドリル、キノリニル、カルバゾリルなど）多環式ヘテロアリール基において、結合の点は、いずれの環上にあっても、すなわち、ヘテロ原子を含む環（例えば２−インドリル）またはヘテロ原子を含まない環（例えば５−インドリル）のいずれの上にあってもよい。
いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、その芳香族環系中に提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜１０員の芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜１０員のヘテロアリール」）。いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、その芳香族環系中に提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜８員の芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜８員のヘテロアリール」）。いくつかの態様において、ヘテロアリール基は、その芳香族環系中に提供される環炭素原子および１〜４個の環ヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族環系であり、ここで、各々のヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される（「５〜６員のヘテロアリール」）。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１〜２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの態様において、５〜６員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。別段に特定されない限り、ヘテロアリール基の各々の場合は、独立して、未置換であるか（「未置換のヘテロアリール」）、または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアリール」）。ある態様において、ヘテロアリール基は、未置換の５〜１４員のヘテロアリールである。ある態様において、ヘテロアリール基は、置換された５〜１４員のヘテロアリールである。
１個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロアリール基として、限定することなく、ピロリル、フラニルおよびチオフェニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロアリール基として、限定することなく、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリルおよびイソチアゾリルが挙げられる。３個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロアリール基として、限定することなく、チアゾリル、オキサジアゾリルおよびチアジアゾリルが挙げられる。４個のヘテロ原子を含有する例示的な５員のヘテロアリール基として、限定することなく、テトラゾリルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロアリール基として、限定することなく、ピリジニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロアリール基として、限定することなく、ピリダジニル、ピリミジニルおよびピラジニルが挙げられる。３個または４個のヘテロ原子を含有する例示的な６員のヘテロアリール基として、限定することなく、それぞれ、トリアジニルおよびテトラジニルが挙げられる１個のヘテロ原子を含有する例示的な７員のヘテロアリール基として、限定することなく、アゼピニル、オキセピニルおよびチエピニルが挙げられる。例示的な５，６−二環式ヘテロアリール基として、限定することなく、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、インドリジニルおよびプリニルが挙げられる。例示的な６，６−二環式ヘテロアリール基として、限定することなく、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キノキサリニル、フタラジニルおよびキナゾリニルが挙げられる。例示的な三環式ヘテロアリール基として、限定することなく、フェナントリジニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニルおよびフェナジニルが挙げられる。
用語「不飽和結合」とは、二重または三重結合を指す。
用語「不飽和」または「部分的に不飽和」とは、少なくとも１つの二重または三重結合を含む部分を指す。
用語「飽和している」とは、二重または三重結合を含まない部分、すなわち、当該部分が単結合のみを含むことを指す。
接尾辞「−エン」を、基に付すことにより、当該基が二価部分であること、例えば、アルキレンはアルキルの二価部分であり、アルケニレンはアルケニルの二価部分であり、アルキニレンはアルキニルの二価部分であり、ヘテロアルキレンはヘテロアルキルの二価部分であり、ヘテロアルケニレンはヘテロアルケニルの二価部分であり、ヘテロアルキニレンはヘテロアルキニルの二価部分であり、カルボシクリレンはカルボシクリルの二価部分であり、ヘテロシクリレンはヘテロシクリルの二価部分であり、アリーレンはアリールの二価部分であり、およびヘテロアリーレンはヘテロアリールの二価部分であることが示される。
基は、別段に明示的に提供されない限り、任意に置換されていてもよい。用語「任意に置換されていてもよい」とは、置換されているかまたは未置換であることを指す。ある態様において、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリール基は、任意に置換されていてもよい。「任意に置換されていてもよい」とは、置換されていても未置換であってもよい基（例えば、「置換」または「未置換」アルキル、「置換」または「未置換」アルケニル、「置換」または「未置換」アルキニル、「置換」または「未置換」ヘテロアルキル、「置換」または「未置換」ヘテロアルケニル、「置換」または「未置換」ヘテロアルキニル、「置換」または「未置換」カルボシクリル、「置換」または「未置換」ヘテロシクリル、「置換」または「未置換」アリール、あるいは「置換」または「未置換」ヘテロアリール基）を指す。一般的に、用語「置換された」は、ある基上に存在する少なくとも１個の水素が、許容し得る置換基、例えば置換により安定な化合物（例えば自発的には再配列、環化、除去または他の反応などによる変形を受けない化合物）をもたらす置換基で置き換えられることを意味する。別段に示されない限り、「置換された」基は、１つ以上の置換可能な基の位置において置換基を有し、任意の所与の構造における１つより多い位置が置換される場合、置換基は、各々の位置において同じであるかまたは異なっている。用語「置換された」は、全ての許容可能な置換基による有機化合物の置換を含むことを企図され、本明細書において記載される置換基のうちの任意のものであって、安定な化合物もたらすものを含む。本発明は、安定な化合物に到達するために、任意のおよび全てのかかる組みあわせを企図する。本発明の目的のために、窒素などのヘテロ原子は、水素置換基および／または本明細書において記載されるような任意の好適な置換基であって、当該ヘテロ原子の原子価を満たし、安定な部分の形成をもたらすものを有していてよい。本発明は、いかなる様式においても、本明細書において記載される例示的な置換基により限定されることを意図されない。
例示的な炭素原子置換基として、限定されないが、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−ＯＮ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｎ（Ｒｂｂ）３ ＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｃｃ）Ｒｂｂ、−ＳＨ、−ＳＲａａ、−ＳＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＨＯ、−Ｃ（ＯＲｃｃ）３、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＳＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２ＯＲａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−ＯＳｉ（Ｒａａ）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（Ｒｃｃ）４、−Ｐ（ＯＲｃｃ）４、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３ ＋Ｘ−、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）３ ＋Ｘ−、−ＯＰ（Ｒｃｃ）４、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）４、−Ｂ（Ｒａａ）２、−Ｂ（ＯＲｃｃ）２、−ＢＲａａ（ＯＲｃｃ）、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０パーハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールが挙げられ、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換されており；ここで、Ｘ−は、対イオンであり；
あるいは、炭素原子上の２個のジェミナルな水素は、基＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＮ（Ｒｂｂ）２、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、＝ＮＮＲｂｂＳ（＝Ｏ）２Ｒａａ、＝ＮＲｂｂ、または＝ＮＯＲｃｃで置き換えられ；
Ｒａａの各々の場合は、独立して、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０パーハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは２個のＲａａ基は、連結されて、３〜１４員のヘテロシクリルまたは５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；
Ｒｂｂの各々の場合は、独立して、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｃｃ）２）２、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０パーハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは２個のＲｂｂ基は、連結されて、３〜１４員のヘテロシクリルまたは５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；ここで、Ｘ−は、対イオンであり；
Ｒｃｃのの各々の場合は、独立して、水素、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０パーハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは２個のＲｃｃ基は、連結されて、３〜１４員のヘテロシクリルまたは５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換され；
Ｒｄｄの各々の場合は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＲｅｅ、−ＯＮ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｎ（Ｒｆｆ）３ ＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＲｅｅ）Ｒｆｆ、−ＳＨ、−ＳＲｅｅ、−ＳＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＯＣＯ２Ｒｅｅ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣＯ２Ｒｅｅ、−ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｒｅｅ、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、−Ｃ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＮＲｆｆＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｆｆ）２、−ＳＯ２Ｒｅｅ、−ＳＯ２ＯＲｅｅ、−ＯＳＯ２Ｒｅｅ、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、−Ｓｉ（Ｒｅｅ）３、−ＯＳｉ（Ｒｅｅ）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｅｅ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１０員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１０アリール、５〜１０員のヘテロアリールから選択され、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｇｇ基で置換されているか、または２個のジェミナルなＲｄｄ置換基は、連結されて＝Ｏまたは＝Ｓを形成してもよく；ここで、Ｘ−は、対イオンであり；
Ｒｅｅの各々の場合は、独立して、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、および３〜１０員のヘテロアリールから選択され、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｇｇ基で置換され；
Ｒｆｆの各々の場合は、独立して、水素、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１０員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１０アリールおよび５〜１０員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは２個のＲｆｆ基は、連結されて、３〜１０員のヘテロシクリルまたは５〜１０員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｇｇ基で置換され；ならびに
Ｒｇｇの各々の場合は、独立して、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１〜６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）３ ＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）２ ＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１〜６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３ ＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１〜６アルキル）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１〜６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｓｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、５〜１０員のヘテロアリールであるか；または２個のジェミナルなＲｇｇ置換基は、連結されて＝Ｏまたは＝Ｓを形成してもよく；ここで、Ｘ−は、対イオンである。
ある態様において、炭素原子置換基として、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１〜６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）３ ＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）２ ＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１〜６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３ ＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１〜６アルキル）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１〜６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｓｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、５〜１０員のヘテロアリールが挙げられ；または２個のジェミナルなＲｇｇ置換基は、連結されて＝Ｏまたは＝Ｓを形成してもよく；ここで、Ｘ−は、対イオンである。
ある態様において、置換基として、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ２、−Ｎ３、−ＳＯ２Ｈ、−ＳＯ３Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣ１〜６アルキル、−ＯＮ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）３ ＋Ｘ−、−ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）２ ＋Ｘ−、−ＮＨ２（Ｃ１〜６アルキル）＋Ｘ−、−ＮＨ３ ＋Ｘ−、−Ｎ（ＯＣ１〜６アルキル）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨ（ＯＨ）、−ＳＨ、−ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＳ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１〜６アルキル、−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、−ＮＨＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ２Ｏ（Ｃ１〜６アルキル）、−ＯＳＯ２（Ｃ１〜６アルキル）、−ＳＯ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｓｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−ＯＳｉ（Ｃ１〜６アルキル）３、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１〜６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１〜６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１〜６アルキル）、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１〜６アルキル、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１〜６アルキル）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１〜６アルキル）２、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６パーハロアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ２〜６アルキニル、ヘテロＣ１〜６アルキル、ヘテロＣ２〜６アルケニル、ヘテロＣ２〜６アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、Ｃ６〜１０アリール、３〜１０員のヘテロシクリル、５〜１０員のヘテロアリールが挙げられ；または２個のジェミナルなＲｇｇ置換基は、連結されて＝Ｏまたは＝Ｓを形成してもよく；ここで、Ｘ−は、対イオンである。
用語「ハロ」または「ハロゲン」とは、フッ素（フロロ、−Ｆ）、塩素（クロロ、−Ｃｌ）、臭素（ブロモ、−Ｂｒ）、またはヨウ素（ヨード、−Ｉ）を指す。
用語「ヒドロキシル」または「ヒドロキシ」とは、基−ＯＨを指す。用語「置換ヒドロキシル」または「置換ヒドロキシル」、拡大解釈により、ヒドロキシル基であって、親分子に直接結合している酸素原子が水素以外の基で置換されており、−ＯＲａａ、−ＯＮ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−ＯＳｉ（Ｒａａ）３、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３ ＋Ｘ−、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（ＯＲｃｃ）３ ＋Ｘ−、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２、から選択される基を含むものを指し、ここで、Ｘ−、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アミノ」とは、基−ＮＨ２を指す。用語「置換アミノ」とは、拡大解釈により、一置換アミノ、二置換アミノ、三置換アミノを指す。ある態様において、「置換アミノ」は、一置換アミノまたは二置換アミノ基である、
用語「一置換アミノ」とは、アミノ基を指し、ここで、親分子に直接結合している窒素原子は、１個の水素および１個の水素以外の基で置換されており、−ＮＨ（Ｒｂｂ）、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＨＣＯ２Ｒａａ、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＨＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＨＳＯ２Ｒａａ、−ＮＨＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＮＨＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２から選択される基を含み、ここで、Ｒａａ、ＲｂｂおよびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりであり、およびここで、基−ＮＨ（Ｒｂｂ）のＲｂｂは、水素ではない。
用語「二置換アミノ」とは、アミノ基を指し、ここで、親分子に直接結合している窒素原子は、２個の水素以外の基で置換されており、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２から選択される基を含み、ここで、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりであり、ただし、親分子に直接結合している窒素原子は、水素では置換されていない。
用語「三置換アミノ」とは、アミノ基を指し、ここで、親分子に直接結合している窒素原子は、３個の基で置換されており、−Ｎ（Ｒｂｂ）３および−Ｎ（Ｒｂｂ）３ ＋Ｘ−から選択される基を含み、ここで、ＲｂｂおよびＸ−は、本明細書において定義されるとおりである。
用語「スルホニル」とは、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＳＯ２Ｒａａおよび−ＳＯ２ＯＲａａから選択される基を指し、ここで、ＲａａおよびＲｂｂは、本明細書において定義されるとおりである.
用語「スルフィニル」とは、基−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａを指し、ここで、Ｒａａは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アシル」とは、一般式−Ｃ（＝Ｏ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＸ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＸ１）２、−Ｃ（＝Ｓ）ＲＸ１、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（ＲＸ１）２、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ（ＲＸ１）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｓ（ＲＸ１）、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＲＸ１、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＯＲＸ１、−Ｃ（＝ＮＲＸ１）ＳＲＸ１、および−Ｃ（＝ＮＲＸ１）Ｎ（ＲＸ１）２を有する基を指し、ここで、ＲＸ１は、水素；ハロゲン；置換されたまたは未置換のヒドロキシル；置換されたまたは未置換のチオール；置換されたまたは未置換のアミノ；置換されたまたは未置換のアシル、環状または非環状の、置換されたまたは未置換の、分枝状または非分枝状の脂肪族；環状または非環状の、置換されたまたは未置換の、分枝状または非分枝状のヘテロ脂肪族；環状または非環状の、置換されたまたは未置換の、分枝状または非分枝状のアルキル；環状または非環状の、置換されたまたは未置換の、分枝状または非分枝状のアルケニル；置換されたまたは未置換のアルキニル；置換されたまたは未置換のアリール、置換されたまたは未置換のヘテロアリール、脂肪族オキシ、ヘテロ脂肪族オキシ、アルキルオキシ、ヘテロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、脂肪族チオキシ、ヘテロ脂肪族チオキシ、アルキルチオキシ、ヘテロアルキルチオキシ、アリールチオキシ、ヘテロアリールチオキシ、モノ−またはジ−脂肪族アミノ、モノ−またはジ−ヘテロ脂肪族アミノ、モノ−またはジ−アルキルアミノ、モノ−またはジ−ヘテロアルキルアミノ、モノ−またはジ−アリールアミノ、または、モノ−またはジ−ヘテロアリールアミノであり；あるいは２個のＲＸ１基は、一緒になって、５〜６員のヘテロ環式環を形成する。例示的なアシル基として、アルデヒド（−ＣＨＯ）、カルボン酸（−ＣＯ２Ｈ）、ケトン、アシルハライド、エステル、アミド、イミン、カルボネート、カルバメート、および尿素が挙げられる。アシル置換基として、限定されないが、本明細書において記載される置換基のうちのいずれかであって、安定な部分（例えば脂肪族、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ環式、アリール、ヘテロアリール、アシル、オキソ、イミノ、チオオキソ、シアノ、イソシアノ、アミノ、アジド、ニトロ、ヒドロキシル、チオール、ハロ、脂肪族アミノ、ヘテロ脂肪族アミノ、アルキルアミノ、ヘテロアルキルアミノ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノ、アルキルアリール、アリールアルキル、脂肪族オキシ、ヘテロ脂肪族オキシ、アルキルオキシ、ヘテロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、脂肪族チオキシ、ヘテロ脂肪族チオキシ、アルキルチオキシ、ヘテロアルキルチオキシ、アリールチオキシ、ヘテロアリールチオキシ、アシルオキシなど；これらの各々は、さらに置換されていても、置換されていなくてもよい）の形成をもたらすものが挙げられる。
用語「カルボニル」とは、親分子に直接結合している炭素がｓｐ２ハイブリダイズされている基であって、酸素、窒素、または硫黄原子で置換されているもの、例えば、ケトン（例えば−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）、カルボン酸（例えば−ＣＯ２Ｈ）、アルデヒド（−ＣＨＯ）、エステル（例えば−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ）、アミド（例えば−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２）、およびイミン（例えば−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ）、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２）から選択されるものを指し、ここで、ＲａａおよびＲｂｂは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「シリル」とは、基−Ｓｉ（Ｒａａ）３を指し、ここで、Ｒａａは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「オキソ」とは、基＝Ｏを指し、用語「チオキソ」とは、基＝Ｓを指す。
窒素原子は、原子価が許容する限り、置換されていても未置換であってもよく、一級、二級、三級および四級窒素原子を含む。例示的な窒素原子置換基として、限定されないが、水素、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｃｃ）２）２、Ｃ１〜１０アルキル、Ｃ１〜１０パーハロアルキル、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリールが挙げられ、あるいはＮ原子に結合している２個のＲｃｃ基は、連結されて、３〜１４員のヘテロシクリルまたは５〜１４員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換されており、およびここで、Ｒａａ、Ｒｂｂ、ＲｃｃおよびＲｄｄは、上で定義されるとおりである。
ある態様において、窒素原子上に存在する置換基は、窒素保護基である（本明細書においてまた、「アミノ保護基」とも称される）。窒素保護基として、限定されないが、−ＯＨ、−ＯＲａａ、−Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＣＯ２Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、−ＳＯ２Ｒｃｃ、−ＳＯ２ＯＲｃｃ、−ＳＯＲａａ、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、−Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、Ｃ１〜１０アルキル（例えばアラルキル、ヘテロアラルキル）、Ｃ２〜１０アルケニル、Ｃ２〜１０アルキニル、ヘテロＣ１〜１０アルキル、ヘテロＣ２〜１０アルケニル、ヘテロＣ２〜１０アルキニル、Ｃ３〜１０カルボシクリル、３〜１４員のヘテロシクリル、Ｃ６〜１４アリール、および５〜１４員のヘテロアリール基が挙げられ、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アラルキル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４または５個のＲｄｄ基で置換されており、およびここで、Ｒａａ、Ｒｂｂ、ＲｃｃおよびＲｄｄは、本明細書において定義されるとおりである。窒素保護基は、当該分野において周知であり、本明細書において参考として援用されるProtecting Groups in Organic Synthesis、T. W. GreeneおよびP. G. M. Wuts、第３版（John Wiley & Sons、1999年）において詳細に記載されるものを含む。
例えば、アミド基（例えば−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）などの窒素保護基として、限定されないが、ホルムアミド、アセタミド、クロロアセタミド、トリクロロアセタミド、トリフルオロアセタミド、フェニルアセタミド、３−フェニルプロパンアミド、ピコリンアミド、３−ピリジルカルボキサミド、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、ベンズアミド、ｐ−フェニルベンズアミド、ｏ−ニトロフェニルアセタミド、ｏ−ニトロフェノキシアセタミド、アセトアセタミド、（Ｎ’−ジチオベンジルオキシアシルアミノ）アセタミド、３−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンアミド、３−（ｏ−ニトロフェニル）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−ニトロフェノキシ）プロパンアミド、２−メチル−２−（ｏ−フェニルアゾフェノキシ）プロパンアミド、４−クロロブタンアミド、３−メチル−３−ニトロブタンアミド、ｏ−ニトロシンナミド、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、ｏ−ニトロベンズアミドおよびｏ−（ベンゾイルオキシメチル）ベンズアミドが挙げられる。
カルバメート基（例えば−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ）などの窒素保護基として、限定されないが、以下が挙げられる：メチルカルバメート、エチルカルバメート、９−フルオレニルメチルカルバメート（Ｆｍｏｃ）、９−（２−スルホ）フルオレニルメチルカルバメート、９−（２，７−ジブロモ）フロロエニルメチルカルバメート、２，７−ジ−ｔ−ブチル−［９−（１０，１０−ジオキソ−１０，１０，１０，１０−テトラヒドロチオキサンチル）］メチルカルバメート（ＤＢＤ−Ｔｍｏｃ）、４−メトキシフェナシルカルバメート（Ｐｈｅｎｏｃ）、２，２，２−トリクロロエチルカルバメート（Ｔｒｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルバメート（Ｔｅｏｃ）、２−フェニルエチルカルバメート（ｈＺ）、１−（１−アダマンチル）−１−メチルエチルカルバメート（Ａｄｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−ハロエチルカルバメート、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチルカルバメート（ＤＢ−ｔ−ＢＯＣ）、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルカルバメート（ＴＣＢＯＣ）、１−メチル−１−（４−ビフェニリル）エチルカルバメート（Ｂｐｏｃ）、１−（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−１−メチルエチルカルバメート（ｔ−Ｂｕｍｅｏｃ）、２−（２’−および４’−ピリジル）エチルカルバメート（Ｐｙｏｃ）、２−（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボキサミド）エチルカルバメート、ｔ−ブチルカルバメート（ＢＯＣまたはＢｏｃ）、１−アダマンチルカルバメート（Ａｄｏｃ）、ビニルカルバメート（Ｖｏｃ）、アリルカルバメート（Ａｌｌｏｃ）、１−イソプロピルアリルカルバメート（Ｉｐａｏｃ）、シンナミルカルバメート（Ｃｏｃ）、４−ニトロシンナミルカルバメート（Ｎｏｃ）、８−キノリルカルバメート、Ｎ−ヒドロキシピペリジニルカルバメート，アルキルジチオカルバメート、ベンジルカルバメート（Ｃｂｚ）、ｐ−メトキシベンジルカルバメート（Ｍｏｚ）、ｐ−ニトロベンジルカルバメート、ｐ−ブロモベンジルカルバメート、ｐ−クロロベンジルカルバメート、２，４−ジクロロベンジルカルバメート、４−メチルスルフィニルベンジルカルバメート（Ｍｓｚ）、９−アントリルメチルカルバメート、ジフェニルメチルカルバメート、２−メチルチオエチルカルバメート、２−メチルスルホニルエチルカルバメート、２−（ｐ−トルエンスルホニル）エチルカルバメート、［２−（１，３−ジチアニル）］メチルカルバメート（Ｄｍｏｃ）、４−メチルチオフェニルカルバメート（Ｍｔｐｃ）、２，４−ジメチルチオフェニルカルバメート（Ｂｍｐｃ）、２−ホスホニオエチルカルバメート（Ｐｅｏｃ）、２−トリフェニルホスホニオイソプロピルカルバメート（Ｐｐｏｃ）、１，１−ジメチル−２−シアノエチルカルバメート、ｍ−クロロ−ｐ−アシルオキシベンジルカルバメート、ｐ−（ｄｉヒドロキシボリル）ベンジルカルバメート、５−ベンゾイソキサゾリルメチルカルバメート、２−（トリフルオロメチル）−６−クロモニルメチルカルバメート（Ｔｃｒｏｃ）、ｍ−ニトロフェニルカルバメート、３，５−ジメトキシベンジルカルバメート、ｏ−ニトロベンジルカルバメート、３，４−ジメトキシ−６−ニトロベンジルカルバメート、フェニル（ｏ−ニトロフェニル）メチルカルバメート、ｔ−アミルカルバメート、Ｓ−ベンジルチオカルバメート、ｐ−シアノベンジルカルバメート、シクロブチルカルバメート、シクロヘキシルカルバメート、シクロペンチルカルバメート、シクロプロピルメチルカルバメート、ｐ−デシルオキシベンジルカルバメート、２，２−ジメトキシアシルビニルカルバメート、ｏ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）ベンジルカルバメート、１，１−ジメチル−３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルボキサミド）プロピルカルバメート、１，１−ジメチルプロピニルカルバメート、ｄｉ（２−ピリジル）メチルカルバメート、２−フラニルメチルカルバメート、２−ヨードエチルカルバメート、イソボルニルカルバメート、イソブチルカルバメート、イソニコチニルカルバメート、ｐ−（ｐ’−メトキシフェニルアゾ）ベンジルカルバメート、１−メチルシクロブチルカルバメート、１−メチルシクロヘキシルカルバメート、１−メチル−１−シクロプロピルメチルカルバメート、１−メチル−１−（３，５−ジメトキシフェニル）エチルカルバメート、１−メチル−１−（ｐ−フェニルアゾフェニル）エチルカルバメート、１−メチル−１−フェニルエチルカルバメート、１−メチル−１−（４−ピリジル）エチルカルバメート、フェニルカルバメート、ｐ−（フェニルアゾ）ベンジルカルバメート、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニルカルバメート、４−（トリメチルアンモニウム）ベンジルカルバメート、および２，４，６−トリメチルベンジルカルバメート。
スルホンアミド基（例えば−Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）などの窒素保護基として、限定されないが、ｐ−トルエンスルホンアミド（Ｔｓ）、ベンゼンスルホンアミド、２，３，６−トリメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｒ）、２，４，６−トリメトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｂ）、２，６−ジメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｐｍｅ）、２，３，５，６−テトラメチル−４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｅ）、４−メトキシベンゼンスルホンアミド（Ｍｂｓ）、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホンアミド（Ｍｔｓ）、２，６−ジメトキシ−４−メチルベンゼンスルホンアミド（ｉＭｄｓ）、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホンアミド（Ｐｍｃ）、メタンスルホンアミド（Ｍｓ）、β−トリメチルシリルエタンスルホンアミド（ＳＥＳ）、９−アントラセンスルホンアミド、４−（４’，８’−ジメトキシナフチルメチル）ベンゼンスルホンアミド（ＤＮＭＢＳ）、ベンジルスルホンアミド、トリフルオロメチルスルホンアミド、およびフェナシルスルホンアミドが挙げられる。
他の窒素保護基として、限定されないが、フェノチアジニル−（１０）−アシル誘導体、Ｎ’−ｐ−トルエンスルホニルアミノアシル誘導体、Ｎ’−フェニルアミノチオアシル誘導体、Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニル誘導体、Ｎ−アセチルメチオニン誘導体、４，５−ジフェニル−３−オキサゾリン−２−オン、Ｎ−フタルイミド、Ｎ−ジチアスクシンイミド（Ｄｔｓ）、Ｎ−２，３−ジフェニルマレイミド、Ｎ−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−１，１，４，４−テトラメチルジシリルアザシクロペンタン付加体（STABASE）、５−置換１，３−ジメチル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、５−置換１，３−ジベンジル−１，３，５−トリアザシクロヘキサン−２−オン、１−置換３，５−ジニトロ−４−ピリドン、Ｎ−メチルアミン、Ｎ−アリルアミン、Ｎ−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メチルアミン（ＳＥＭ）、Ｎ−３−アセトキシプロピルアミン、Ｎ−（１−イソプロピル−４−ニトロ−２−オキソ−３−ピロリン−３−イル）アミン、四級アンモニウム塩、Ｎ−ベンジルアミン、Ｎ−ジ（４−メトキシフェニル）メチルアミン、Ｎ−５−ジベンゾスベリルアミン、Ｎ−トリフェニルメチルアミン（Ｔｒ）、Ｎ−［（４−メトキシフェニル）ジフェニルメチル］アミン（ＭＭＴｒ）、Ｎ−９−フェニルフルオレニルアミン（ＰｈＦ）、Ｎ−２，７−ジクロロ−９−フルオレニルメチレンアミン、Ｎ−フェロセニルメチルアミノ（Ｆｃｍ）、Ｎ−２−ピコリルアミノＮ’−オキシド、Ｎ−１，１−ジメチルチオメチレンアミン、Ｎ−ベンジリデンアミン、Ｎ−ｐ−メトキシベンジリデンアミン、Ｎ−ジフェニルメチレンアミン、Ｎ−［（２−ピリジル）メシチル］メチレンアミン、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノメチレン）アミン、Ｎ，Ｎ’−イソプロピリデンジアミン、Ｎ−ｐ−ニトロベンジリデンアミン、Ｎ−サリチリデンアミン、Ｎ−５−クロロサリチリデンアミン、Ｎ−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニルメチレンアミン、Ｎ−シクロヘキシリデンアミン、Ｎ−（５，５−ジメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセニル）アミン、Ｎ−ボラン誘導体、Ｎ−ジフェニルボリン酸誘導体、Ｎ−［フェニル（ペンタアシルクロミウムまたはタングステン）アシル］アミン、Ｎ−銅キレート、Ｎ−亜鉛キレート、Ｎ−ニトロアミン、Ｎ−ニトロソアミン、アミンＮ−オキシド、ジフェニルホスフィンアミド（Ｄｐｐ）、ジメチルチオホスフィンアミド（Ｍｐｔ）、ジフェニルチオホスフィンアミド（Ｐｐｔ）、ジアルキルホスホルアミデート、ジベンジルホスホルアミデート、ジフェニルホスホルアミデート、ベンゼンスルフェンアミド、ｏ−ニトロベンゼンスルフェンアミド（Ｎｐｓ）、２，４−ジニトロベンゼンスルフェンアミド、ペンタクロロベンゼンスルフェンアミド、２−ニトロ−４−メトキシベンゼンスルフェンアミド、トリフェニルメチルスルフェンアミド、および３−ニトロピリジンスルフェンアミド（Ｎｐｙｓ）が挙げられる。ある態様において、窒素保護基は、ベンジル（Ｂｎ）、tert−ブチルオキシカルボニル（ＢＯＣ）、カルボベンジルオキシ（Ｃｂｚ）、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、トリフルオロアセチル、トリフェニルメチル、アセチル（Ａｃ）、ベンゾイル（Ｂｚ）、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル（ＤＭＰＭ）、ｐ−メトキシフェニル（ＰＭＰ）、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル（Ｔｒｏｃ）、トリフェニルメチル（Ｔｒ）、トシル（Ｔｓ）、ブロシル（Ｂｓ）、ノシル（Ｎｓ）、メシル（Ｍｓ）、トリフリル（Ｔｆ）、またはダンシル（Ｄｓ）である。
ある態様において、酸素原子上に存在する置換基は、酸素保護基である（本明細書においてまた「ヒドロキシル保護基」としても言及される）。酸素保護基として、限定されないが、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２が挙げられ、ここで、Ｘ−、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりである。酸素保護基は、当該分野において周知であり、本明細書において参考として援用されるProtecting Groups in Organic Synthesis、T. W. GreeneおよびP. G. M. Wuts、第３版（John Wiley & Sons、1999年）において詳細に記載されるものを含む。
例示的な酸素保護基として、これらに限定されないが、以下が挙げられる：メチル、メトキシルメチル（ＭＯＭ）、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、ｔ−ブチルチオメチル、（フェニルジメチルシリル）メトキシメチル（ＳＭＯＭ）、ベンジルオキシメチル（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル（ＰＭＢＭ）、（４−メトキシフェノキシ）メチル（ｐ−ＡＯＭ）、グアイアコールメチル（ＧＵＭ）、ｔ−ブトキシメチル、４−ペンテニルオキシメチル（ＰＯＭ）、シロキシメチル、２−メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル（ＳＥＭＯＲ）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）、３−ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、１−メトキシシクロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニル（ＭＴＨＰ）、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルＳ，Ｓ−ジオキシド、１−［（２−クロロ−４−メチル）フェニル］−４−メトキシピペリジン−４−イル（ＣＴＭＰ）、１，４−ジオキサン−２−イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イル、１−エトキシエチル、１−（２−クロロエトキシ）エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシエチル、１−メチル−１−ベンジルオキシ−２−フロロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−トリメチルシリルエチル、２−（フェニルセレニル）エチル、ｔ−ブチル、アリル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−メトキシフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ベンジル（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−ハロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、ｐ−シアノベンジル、ｐ−フェニルベンジル、２−ピコリル、４−ピコリル、３−メチル−２−ピコリルＮ−オキシド、ジフェニルメチル、ｐ，ｐ’−ジニトロベンズヒドリル、５−ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）フェニルメチル、トリ（ｐ−メトキシフェニル）メチル、４−（４’−ブロモフェナシルオキシフェニル）ジフェニルメチル、４，４’，４’’−トリス（４，５−ジクロロフタルイミドフェニル）メチル、４，４’，４’’−トリス（レブリノイルオキシフェニル）メチル、４，４’，４’’−トリス（ベンゾイルオキシフェニル）メチル、３−（イミダゾール−１−イル）ビス（４’，４’’−ジメトキシフェニル）メチル、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−１’−ピレニルメチル、９−アントリル、９−（９−フェニル）キサンテニル、９−（９−フェニル−１０−オキソ）アントリル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イル、ベンゾイソチアゾリルＳ，Ｓ−ジオキシド、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ジメチルイソプロピルシリル（ＩＰＤＭＳ）、ジエチルイソプロピルシリル（ＤＥＩＰＳ）、ジメチルテキシルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、トリベンジルシリル、トリ−ｐ−キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル（ＤＰＭＳ）、ｔ−ブチルメトキシフェニルシリル（ＴＢＭＰＳ）、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、ｐ−クロロフェノキシ酢酸、３−フェニルプロピオナート、４−オキソペンタノエート（レブリン酸）、４，４−（エチレンジチオ）ペンタノエート（レブリノイルジチオアセタール）、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、４−メトキシクロトン酸、安息香酸、ｐ−フェニル安息香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸（メシト酸）、メチルカルボネート、９−フルオレニルメチルカルボネート（Ｆｍｏｃ）、エチルカルボネート、２，２，２−トリクロロエチルカルボネート（Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エチルカルボネート（ＴＭＳＥＣ）、２−（フェニルスルホニル）エチルカルボネート（Ｐｓｅｃ）、２−（トリフェニルホスホニオ）エチルカルボネート（Ｐｅｏｃ）、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、ｔ−ブチルカルボネート（ＢＯＣまたはＢｏｃ）、ｐ−ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、ｐ−メトキシベンジルカルボネート、３，４−ジメトキシベンジルカルボネート、ｏ−ニトロベンジルカルボネート、ｐ−ニトロベンジルカルボネート、Ｓ−ベンジルチオカルボネート、４−エトキシ−１−ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、２−ヨードベンゾエート、４−アジドブチレート、４−ニトロ−４−メチルペンタン酸、ｏ−（ジブロモメチル）ベンゾエート、２−ホルミルベンゼンスルホナート、２−（メチルチオメトキシ）エチル、４−（メチルチオメトキシ）ブチレート、２−（メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、２，６−ジクロロ−４−メチルフェノキシアセテート、２，６−ジクロロ−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノキシアセテート、２，４−ビス（１，１−ジメチルプロピル）フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート（monosuccinoate）、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノエート、ｏ−（メトキシアシル）ベンゾエート、α−ナフトエート、硝酸、アルキルＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルＮ−フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル２，４−ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート（メシレート）、ベンジルスルホナート、およびトシレート（Ｔｓ）。ある態様において、酸素保護基は、シリルである。ある態様において、酸素保護基は、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、トリフェニルシリル（ＴＰＳ）、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリイソプロピルシロキシメチル（ＴＯＭ）、アセチル（Ａｃ）、ベンゾイル（Ｂｚ）、アリルカルボネート、２，２，２−トリクロロエチルカルボネート（Ｔｒｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルボネート、メトキシメチル（ＭＯＭ）、１−エトキシエチル（ＥＥ）、２−メトキシ−２−プロピル（ＭＯＰ）、２，２，２−トリクロロエトキシエチル、２−メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、２−トリメチルシリルエトキシメチル（ＳＥＭ）、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）、テトラヒドロフラニル（ＴＨＦ）、ｐ−メトキシフェニル（ＰＭＰ）、トリフェニルメチル（Ｔｒ）、メトキシトリチル（ＭＭＴ）、ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）、アリル、ｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）、ｔ−ブチル、ベンジル（Ｂｎ）、アリル、またはピバロイル（Ｐｉｖ）である。
ある態様において、硫黄原子上に存在する置換基は、硫黄保護基である（また「チオール保護基」とも称される）。硫黄保護基として、限定されないが、−Ｒａａ、−Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＣＯ２Ｒａａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＳＯ２Ｒａａ、−Ｓｉ（Ｒａａ）３、−Ｐ（Ｒｃｃ）２、−Ｐ（Ｒｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（ＯＲｃｃ）２、−Ｐ（ＯＲｃｃ）３ ＋Ｘ−、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、および−Ｐ（＝Ｏ）（Ｎ（Ｒｂｂ）２）２が挙げられ、ここで、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりである。硫黄保護基は、当該分野において周知であり、本明細書において参考として援用されるProtecting Groups in Organic Synthesis、T. W. GreeneおよびP. G. M. Wuts、第３版（John Wiley & Sons、1999年）において詳細に記載されるものを含む。ある態様において、硫黄保護基は、アセタミドメチル、ｔ−ブチル、３−ニトロ−２−ピリジンスルフェニル、２−ピリジン−スルフェニル、またはトリフェニルメチルである。
「対イオン」または「アニオン性対イオン」は、電気的中性を維持するために、正に荷電した基と結合している、負に荷電した基である。アニオン性対イオンは、一価（すなわち、１の形式上の負の電荷を含む）であってもよい。アニオン性対イオンはまた、二価または三価などの多価（すなわち、１より多い形式上の負の電荷を含む）であってもよい。例示的な対イオンとして、ハライドイオン（例えばＦ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、ＮＯ３−、ＣｌＯ４−、ＯＨ−、Ｈ２ＰＯ４−、ＨＣＯ３−、ＨＳＯ４−、スルホン酸イオン（例えばメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸、ナフタレン−２−スルホン酸、ナフタレン−１−スルホン酸−５−スルホン酸、エタン−１−スルホン酸−２−スルホン酸など）、カルボン酸イオン（例えば酢酸、プロピオン酸、安息香酸、グリセリン酸、乳酸、酒石酸、グリコール酸、グルコン酸など）、ＢＦ４−、ＰＦ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、Ｂ［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４］−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＢＰｈ４−、Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ３）３）４−、およびカルボランアニオン（例えばＣＢ１１Ｈ１２−または（ＨＣＢ１１Ｍｅ５Ｂｒ６）−）が挙げられる。多価であってもよい例示的な対イオンとして、ＣＯ３ ２−、ＨＰＯ４ ２−、ＰＯ４ ３−、Ｂ４Ｏ７ ２−、ＳＯ４ ２−、Ｓ２Ｏ３ ２−、カルボン酸アニオン（例えば酒石酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、マロン酸、グルコン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸（pimelate）、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、サリチル酸、フタル酸、アスパラギン酸、グルタミン酸など）、およびカルボランが挙げられる。
用語「脱離基」は、合成有機化学の分野におけるその通常の意味を与えられ、求核剤により置き換えられることができる原子または基を指す。例えば、Smith、March Advanced Organic Chemistry、第６版（501-502）を参照。好適な脱離基の例として、限定されないが、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ（ヨウ素）など）、アルコキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、アルカンスルホニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ、アルキル−カルボニルオキシ（例えばアセトキシ）、アリールカルボニルオキシ、アリールオキシ、メトキシ、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミノ、ピキシルおよびハロギ酸が挙げられる。いくつかの場合において、脱離基は、スルホン酸エステル、例えばトルエンスルホナート（トシレート、−ＯＴｓ）、メタンスルホナート（メシレート、−ＯＭｓ）、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシ（ブロシレート、−ＯＢｓ）、−ＯＳ（＝Ｏ）２（ＣＦ２）３ＣＦ３（ノナフレート、−ＯＮｆ）、またはトリフルオロメタンスルホナート（トリフレート、−ＯＴｆ）である。いくつかの場合において、脱離基は、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシなどのブロシレートである。いくつかの場合において、脱離基は、２−ニトロベンゼンスルホニルオキシなどのノシレートである。脱離基はまた、ホスフィンオキシド（例えば光延反応の間に形成されるもの）またはエポキシドもしくは環状スルフェナートなどの内部脱離基であってもよい。脱離基の他の非限定的例は、水、アンモニア、アルコール、エーテル部分、チオエーテル部分、亜鉛ハライド、マグネシウム部分、ジアゾニウム塩、および銅部分である。さらに例示的な脱離基として、限定されないが、ハロ（例えばクロロ、ブロモ、ヨード）および活性化された置換ヒドロキシル基（例えば−ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＣＯ２Ｒａａ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、−ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、−ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、−ＯＳＯ２Ｒａａ、−ＯＰ（Ｒｃｃ）２、−ＯＰ（Ｒｃｃ）３、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｒａａ、−ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、−ＯＰ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、および−ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられ、ここで、Ｒａａ、Ｒｂｂ、およびＲｃｃは、本明細書において定義されるとおりである）。
本明細書において用いられる場合、句「少なくとも１つの場合」の使用は、１、２、３、４、またはより多くの場合を指すが、また例えば、例えば、１〜４、１〜３、１〜２、２〜４、２〜３、または３〜４の場合の範囲（境界を含む）を包含する。
「非水素基」とは、水素ではない特定の変数について定義された任意の基を指す。
以下の定義は、本願を通して用いられる、より一般的な用語である。
本明細書において用いられる場合、用語「塩」とは、任意のおよび全ての塩を指し、薬学的に受入可能な塩を包含する。用語「薬学的に受入可能な塩」とは、健全な医学的判断の範囲内において、過度の毒性、刺激、アレルギー応答などを伴わず、ヒトおよびより下級の動物の組織と接触させての使用のために好適である塩であって、妥当な利益／リスク比と釣り合うものを指す。薬学的に受入可能な塩は、当該分野において周知である。例えば、Bergeらは、本明細書において参考として援用されるJ. Pharmaceutical Sciences, 1977, 66, 1-19において、薬学的に受入可能な塩を詳細に記載する。本発明の化合物の薬学的に受入可能な塩は、好適な無機および有機の酸および塩基から誘導されるものを含む。薬学的に受入可能な、非毒性の酸付加塩の例は、塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸および過塩素酸などの無機酸により、または酢酸、シュウ酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸もしくはマロン酸などの有機酸により、あるいは、イオン交換などの当該分野において公知の他の方法を用いることにより形成される、アミノ酸の塩である。他の薬学的に受入可能な塩として、アジピン酸塩、アルギン酸塩、アスコルビン酸塩、アスパラギン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重硫酸塩、ホウ酸塩、酪酸塩、樟脳酸塩、カンファースルホン酸塩、クエン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ジグルコン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、ギ酸塩、フマル酸塩、グルコヘプトン酸塩、グリセロリン酸塩、グルコン酸塩、半硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヨウ化水素酸塩、２−ヒドロキシ-エタンスルホン酸塩、ラクトビオン酸塩、乳酸塩、ラウリン酸塩、ラウリル硫酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マロン酸塩、メタンスルホン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、硝酸塩、オレイン酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パモ酸塩、ペクチン酸塩、過硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸、リン酸塩、ピクリン酸塩、ピバル酸塩、プロピオン酸塩、ステアリン酸塩、コハク酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ウンデカン酸塩、吉草酸塩などが挙げられる。適切な塩基から誘導される塩として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムおよびＮ＋（Ｃ１〜４アルキル）４の塩が挙げられる。代表的なアルカリまたはアルカリ土類金属塩として、ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどが挙げられる。さらなる薬学的に受入可能な塩として、適切である場合には、非毒性のアンモニウム、四級アンモニウム、ならびにハロゲンイオン、水酸化物イオン、カルボン酸、硫酸、リン酸、硝酸、低級アルキルスルホン酸、およびアリールスルホン酸などの対イオンを用いて形成されるアミンカチオンが挙げられる。
また、同じ分子式を有するが、性質またはそれらの原子の結合の配列またはそれらの原子の空間における配置が異なる化合物は、「異性体」と称されることも理解されるべきである。それらの原子の空間における配置が異なる異性体を、「立体異性体」と称する。
互いの鏡像とならない立体異性体は、「ジアステレオマー」と称され、互いの重ね合わせることができない鏡像であるものを、「エナンチオマー」と称する。化合物が不斉中心を有する、例えばそれが、４つの異なる基に結合している場合、一対のエナンチオマーが存在し得る。エナンチオマーは、その不斉中心の絶対的な立体配置により特徴づけることができ、CahnおよびPrelogのＲおよびＳの配列法則により、または分子が偏光の平面を回転する様式により記載され、右旋性または左旋性として（すなわち、それぞれ（＋）または（−）−異性体として）指定される。キラル化合物は、いずれかの個々のエナンチオマーとして、またはそれらの混合物として存在することができる。等比率のエナンチオマーを含有する混合物を、「ラセミ混合物」と称する。
用語「小分子」とは、天然に存在する、または人工的に作製された（例えば化学合成を介して）分子であって、相対的に低い分子量を有するものを指す。典型的には、小分子は、有機化合物である（すなわち、それが炭素を含む）。小分子は、複数の炭素−炭素結合、立体中心、および他の官能基（例えばアミン、ヒドロキシル、カルボニルおよびヘテロ環式環など）を含んでもよい。ある態様において、小分子の分子量は、約１，０００ｇ／ｍｏｌ以下、約９００ｇ／ｍｏｌ以下、約８００ｇ／ｍｏｌ以下、約７００ｇ／ｍｏｌ以下、約６００ｇ／ｍｏｌ以下、約５００ｇ／ｍｏｌ以下、約４００ｇ／ｍｏｌ以下、約３００ｇ／ｍｏｌ以下、約２００ｇ／ｍｏｌ以下、または約１００ｇ／ｍｏｌ以下である。ある態様において、小分子の分子量は、少なくとも約１００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約２００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約３００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約４００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約５００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約６００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約７００ｇ／ｍｏｌ、少なくとも約８００ｇ／ｍｏｌ、または少なくとも約９００ｇ／ｍｏｌ、または少なくとも約１，０００ｇ／ｍｏｌである。上の範囲の組み合わせ（例えば少なくとも約２００ｇ／ｍｏｌであって、約５００ｇ／ｍｏｌ以下である）もまた可能である。ある態様において、小分子は、薬物（例えば、連邦規則集（Ｃ．Ｆ．Ｒ．）において提供されるように米国食品医薬品局により承認された分子）などの、治療的に活性な剤である。
用語「触媒」、「触媒する」、または「触媒的な」とは、「触媒」と称される物質の関与に起因する化学反応の速度の増大を指す。ある態様において、触媒の量及び性質は、反応の間に本質的に変化しないままである。ある態様において、触媒は、再生されるか、または反応の後で触媒の性質が本質的に復元される。触媒は、複数の化学的転移に関与してもよい。触媒の効果は、阻害剤もしくは毒（これらは触媒活性を低下させる）、または促進剤（これらは活性を増大させる）として知られる他の物質の存在により変化してもよい。触媒された反応は、対応する触媒されない反応よりも低い活性化エネルギー（律速的な活性化自由エネルギー）を有し、同じ温度でより高い反応速度をもたらす。触媒は、反応環境に対して有利に影響を及ぼすか、試薬に結合して結合に極性を与えるか、触媒されない反応によっては典型的には生成されない特異的な中間体を形成するか、または試薬の反応性の形態への分離を引き起こしてもよい。
用語「溶媒」とは、１つ以上の溶質を溶解して、溶液をもたらす物質を指す。溶媒は、本明細書において記載される任意の反応または変形のための媒体として役立ち得る。溶媒は、１つ以上の反応物質または試薬を反応混合物中で溶解することができる。溶媒は、１つ以上の試薬または反応物質の反応混合物中での混合を促進することができる。溶媒はまた、異なる溶媒中での反応と比較して、反応の速度を増大または低下させるために役立ち得る。溶媒は、極性または非極性、プロトン性または非プロトン性であってよい。本明細書において記載される方法において有用である一般的な有機溶媒として、限定されないが、以下が挙げられる：アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、ベンゾニトリル、１−ブタノール、２−ブタノン、ブチルアセテート、tert−ブチルメチルエーテル、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、１−クロロブタン、クロロホルム、シクロヘキサン、シクロペンタン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン（ＤＣＭ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、ジエチルエーテル、２−エトキシエチルエーテル、酢酸エチル、エチルアルコール、エチレングリコール、ジメチルエーテル、ヘプタン、ｎ−ヘキサン、ヘキサン、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、２−メトキシエタノール、２−メトキシ酢酸エチル、メチルアルコール、２−メチルブタン、４−メチル−２−ペンタノン、２−メチル−１−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−メチル−２−ピロリジノン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ニトロメタン、１−オクタノール、ペンタン、３−ペンタノン、１−プロパノール、２−プロパノール、ピリジン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン、トルエン、トリクロロベンゼン、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、２，２，４−トリメチルペンタン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、水、ｏ−キシレン、およびｐ−キシレン。
本明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明のいくつかの態様を説明し、説明と一緒に、本発明の原理を説明するために役立つ。
図１Ａは、ケトンを形成するための例示的なカップリング反応を概略する。図１Ｂは、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応において有用な、例示的な鉄触媒を示す。図１Ｃは、例示的なＦｅ媒介カップリング反応を示す。
図２は、広範な基質のアレイを用いてケトンを形成するための例示的なＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を示す。
図３は、ハリコンドリンおよびそのアナログの合成において有用な中間体（化合物１１および１３）を形成する、例示的なＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を示す。
図４は、一般的なラジカルプローブによるＦｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を概略する。
図５は、リチウムハライドスクリーニングの結果を概略する。ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒおよびＬｉＩは、本明細書において記載されるカップリング反応において有用であることが見出された。
ある態様の詳細な説明
本明細書において提供されるのは、ケトン含有有機分子を調製するための方法である。方法は、新規の鉄／銅媒介（「Ｆｅ／Ｃｕ媒介」）カップリング反応に基づく。ある態様において、既存のケト化方法に対する本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介カップリングの利点は、Ｆｅ／Ｃｕ媒介方法が、ビニルハライドの存在下におけるアルキルハライドの選択的カップリングを可能にするという点である。Ｆｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログの調製において、特にハリコンドリンおよびそのアナログへの途中の中間体の調製において、用いることができる。本発明はまた、ハリコンドリンの合成において有用な中間体の調製のための方法を提供する。別の側面において、本発明は、本明細書において提供されるカップリング方法において有用な化合物、試薬、リガンド、触媒、およびキット、ならびにハリコンドリンおよびそのアナログの調製において有用な化合物（すなわち、中間体）を提供する。
Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応
本明細書において提供されるのは、スキーム１Ａにおいて概略されるとおり、Ｆｅ／Ｃｕ媒介カップリング反応を用いてケトンを調製するための方法である。本明細書において記載されるとおり、ケト化反応は、鉄および銅の存在下において、例えば鉄錯体および銅塩の存在下において、行われる。ケト化反応は、分子間または分子内におけるものであってよい（すなわち、スキーム１Ａにおいて、ＲＡおよびＲＢは、任意にリンカーにより連結される）。
スキーム１Ａ
ある態様において、スキーム１Ｂにおいて示されるとおり、式（Ａ）の化合物は、一級または二級アルキルハライド（Ｘ１＝ハロゲン）であり、式（Ｂ）の化合物は、アルキルチオエステルまたは酸ハライドである（ＲＢは、任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに、Ｘ２は、ハロゲンまたは−ＳＲＳである）。スキーム１Ｂ
スキーム１Ａにおいて示されるとおり、本明細書において提供されるのは、式（Ｃ）：
の化合物、またはその塩を調製するための方法であって、該方法は、式（Ａ）：
の化合物、またはその塩を、式（Ｂ）：
の化合物またはその塩と、鉄および銅の存在下において反応させることを含み；式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；
ＲＡは、任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＢは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；
任意に、ここで、ＲＡおよびＲＢは、リンカーを介して一緒に連結され、ここで、リンカーは、任意に置換されていてもよいアルキレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキレン、任意に置換されていてもよいアルケニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルケニレン、任意に置換されていてもよいアルキニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキニレン、任意に置換されていてもよいアリーレン、任意に置換されていてもよいヘテロアリーレン、任意に置換されていてもよいカルボシクリレン、任意に置換されていてもよいヘテロシクリレン、任意に置換されていてもよいアシレン（acylene）、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される。
ある態様において、ＲＡは、錯体分子の部分、例えば、天然の生成物、医薬剤、それらのフラグメント、またはそれらへの中間体である。ある態様において、ＲＢは、錯体分子の部分、例えば、天然の生成物、医薬剤、それらのフラグメント、またはそれらへの中間体である。
本明細書において一般的に定義されるとおり、ある態様において、「リンカー」は、任意に置換されていてもよいアルキレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキレン、任意に置換されていてもよいアルケニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルケニレン、任意に置換されていてもよいアルキニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキニレン、任意に置換されていてもよいアリーレン、任意に置換されていてもよいヘテロアリーレン、任意に置換されていてもよいカルボシクリレン、任意に置換されていてもよいヘテロシクリレン、任意に置換されていてもよいアシレン、または任意のそれらの組み合わせを含む基である。ある態様において、「リンカー」は、任意に置換されていてもよい炭化水素鎖である。
ある態様において、式（Ａ）の化合物は、式（Ａ−１）：
のもの、またはその塩であり；
式（Ｂ）の化合物は、式（Ｂ−１）：
のもの、またはその塩であり；および、
式（Ｃ）の化合物は、式（Ｃ−１）：
のもの、またはその塩であり、
式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；ならびに、
ＲＡ１、ＲＡ２、ＲＢ１、およびＲＢ２の各々の場合は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；任意にここで、ＲＡ１とＲＢ１とは、リンカーを介して一緒に連結される。
本明細書において定義されるとおり、ＲＡ１は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、ＲＡ１は、水素である。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいアルケニルである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいアルキニルである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいカルボシクリルである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＡ１は、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。
本明細書において定義されるとおり、ＲＡ２は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、ＲＡ２は、水素である。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいアルケニルである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいアルキニルである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいカルボシクリルである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＡ２は、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。
本明細書において定義されるとおり、ＲＢ１は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、ＲＢ１は、水素である。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいアルケニルである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいアルキニルである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいカルボシクリルである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＢ１は、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。
本明細書において定義されるとおり、ＲＢ２は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、ＲＢ２は、水素である。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいアルケニルである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいアルキニルである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいカルボシクリルである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＢ２は、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。
ある態様において、ＲＡ１および／またはＲＡ２は、錯体分子の部分、例えば、天然の生成物、医薬剤、それらのフラグメント、またはそれらへの中間体である。ある態様において、ＲＢ１、ＲＢ２および／またはＲＢ３は、錯体分子の部分、例えば、天然の生成物、医薬剤、それらのフラグメント、またはそれらへの中間体である。
本明細書において提供されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、スキーム１Ｃにおいて示されるとおり、環状ケトンを生じるために、分子内の様式において行ってもよい。
スキーム１Ｃ
スキーム１Ｃにおいて示されるとおり、本明細書において提供されるのは、式（Ｃ−２）：
の化合物、またはその塩を調製するための方法であって、該方法は、式（Ａ−Ｂ）：
の化合物、またはその塩を、鉄および銅の存在下において反応させることを含み；
式中：
Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；
ＲＡ２およびＲＢ２は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；ならびに
は、リンカーを表す。
ある態様において、Ｘ１は、ハロゲン（例えば−Ｉ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｆ）である。ある態様において、Ｘ１は、アルキル基に結合したハロゲン（すなわち「アルキルハライド」）。ある態様において、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、ビニルハライドよりもアルキルハライドについて選択的である。例えば、反応混合物または化合物が、アルキルハライドおよびビニルハライドの両方を含む場合、アルキルハライドは、ビニルハライドよりも早い速度で反応する。ある態様において、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介性反応は、ビニルハライド（例えばヨウ化ビニル）よりもアルキルヨウ化物について選択的である。ある態様において、選択性は、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１よりも高い。
ある態様において、Ｘ２は、ハロゲン（例えば−Ｉ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｆ）である。ある態様において、Ｘ２は、−Ｃｌである。他の態様において、Ｘ２は、−ＳＲＳであり、ここで、ＲＳは、本明細書において定義されるとおりである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｓ−ヘテロアリールである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｓ−ピリジルである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｓ−２−ピリジル：
である。
本明細書において提供されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、鉄の存在下において行われる。鉄源は、鉄錯体、鉄塩、鉄触媒、またはプレ触媒であってよい。ある態様において、鉄源は、鉄（ＩＩ）である。ある態様において、鉄源は、鉄（ＩＩＩ）である。
ある態様において、鉄錯体は、式Ｆｅ（リガンド）３のものである。ある態様において、「リガンド」は、ＴＭＨＤ、ＤＢＭまたはａｃａｃである。ある態様において、鉄錯体は、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（ＤＢＭ）３であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（ａｃａｃ）３であり、これは、式：
のものである。
ある態様において、鉄錯体は、２つのホスフィンリガンドを含む。ある態様において、鉄錯体は、ビスホスフィンリガンドを含む。ある態様において、鉄錯体は、式Ｆｅ（Ｘ）２（リガンド）のものであり、ここで、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）であり、「リガンド」は、ビスホスフィンリガンドである。ある態様において、ビスホスフィンリガンドは、ｄｐｐｂまたはＳｃｉＯＰＰである。ある態様において、鉄錯体は、式：
のものであり、ここで、Ａｒの各々の場合は、独立して、任意に置換されていてもよいアリールであり、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｘ）２（ｄｐｐｂ）（Ａｒの各々の場合は、フェニル（Ｐｈ）である）。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｂｒ）２（ｄｐｐｂ）であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｃｌ）２（ｄｐｐｂ）であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｘ）２（ＳｃｉＯＰＰ）（Ａｒの各々の場合は、式：
のものである）である。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｂｒ）２（ＳｃｉＯＰＰ）であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、Ｆｅ（Ｃｌ）２（ＳｃｉＯＰＰ）であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、式：
のものであり、ここで、Ａｒの各々の場合は、独立して、任意に置換されていてもよいアリールであり；およびＸの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、鉄錯体は、式ＦｅＸ２（ｄｐｐｅ）のものであり、ここで、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、鉄錯体は、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｅ）であり、これは、式：
のものである。ある態様において、鉄錯体は、ＦｅＣｌ２（ｄｐｐｅ）である。
ある態様において、鉄錯体は、式：
のものであり、ここで、Ａｒの各々の場合は、独立して、任意に置換されていてもよいアリールであり、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、鉄錯体は、式：ＦｅＸ２（ＰＰｈ３）２のものであり、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、鉄錯体は、式：ＦｅＢｒ２（ＰＰｈ３）２またはＦｅＣｌ２（ＰＰｈ３）２のものである。
ある態様において、鉄は、触媒的な量において存在する。ある態様において、鉄は、反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、約１〜５ｍｏｌ％、５〜１０ｍｏｌ％、１〜１０ｍｏｌ％、５〜２０ｍｏｌ％、１０〜２０ｍｏｌ％、２０〜３０ｍｏｌ％、２０〜４０ｍｏｌ％、３０〜４０ｍｏｌ％、４０〜５０ｍｏｌ％、５０〜６０ｍｏｌ％、６０〜７０ｍｏｌ％、７０〜８０ｍｏｌ％、または８０〜９０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、１〜５０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、１〜１０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、１〜２０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、約５ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、約１０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、約１５ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、鉄は、反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、化学量論的量または過剰量において存在する。
Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応本明細書において提供されるのは、銅の存在下において行われる。銅源は、銅錯体、銅塩、銅触媒またはプレ触媒であってよい。ある態様において、銅源は、銅（Ｉ）である。ある態様において、銅源は、銅（ＩＩ）である。ある態様において、銅源は、銅塩である。ある態様において、銅塩は、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、ＣｕＴｃ、ＣｕＢｒ２、およびＣｕＣｌ２から選択される。ある態様において、銅塩は、ＣｕＣｌ２である。ある態様において、銅塩は、ＣｕＩである。
ある態様において、銅が反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、化学量論的量または過剰量において存在する。ある態様において、約１当量の銅が存在する（すなわち、化学量論的）。他の態様においては、１当量より多い銅が存在する（すなわち、過剰）。ある態様において、約１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０、２．５、３．０、３．５、４．０、４．５、５．０、６．０、７．０、８．０、９．０または１０．０当量の銅が存在する。ある態様において、銅が触媒的な量において存在する。ある態様において、銅は、反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、約１〜５ｍｏｌ％、５〜１０ｍｏｌ％、１〜１０ｍｏｌ％、５〜２０ｍｏｌ％、１０〜２０ｍｏｌ％、２０〜３０ｍｏｌ％、２０〜４０ｍｏｌ％、３０〜４０ｍｏｌ％、４０〜５０ｍｏｌ％、５０〜６０ｍｏｌ％、６０〜７０ｍｏｌ％、７０〜８０ｍｏｌ％、または８０〜９０ｍｏｌ％において存在する。
Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、１つ以上のさらなる試薬または触媒の存在下において行ってもよい。ある態様において、反応は、ジルコニウムの存在下において行われる。ある態様において、反応は、ジルコニウム錯体の存在下において行われる。ある態様において、ジルコニウム錯体は、式：（リガンド）ｎＺｒＸ２のものであり；ここで、ｎは、リガンド（例えば０、１、２、３、４）の数であり、およびＸは、ハロゲン（例えばＣｌ、Ｂｒ、ＩまたはＦ）である。ある態様において、ｎは、２であり、リガンドは、シクロペンタジエニルである。ある態様において、ジルコニウム源は、Ｃｐ２ＺｒＸ２である。ある態様において、ジルコニウム源は、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である。
ある態様において、ジルコニウムが触媒的な量において存在する。ある態様において、ジルコニウムは、反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、１〜５ｍｏｌ％、５〜１０ｍｏｌ％、１〜１０ｍｏｌ％、５〜２０ｍｏｌ％、１０〜２０ｍｏｌ％、２０〜３０ｍｏｌ％、３０〜４０ｍｏｌ％、４０〜５０ｍｏｌ％、５０〜６０ｍｏｌ％、６０〜７０ｍｏｌ％、７０〜８０ｍｏｌ％、または８０〜９０ｍｏｌ％において存在する。ある態様において、ジルコニウムが反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、化学量論的量または過剰量において存在する。他の態様において、１当量より多いジルコニウムが存在する（すなわち過剰）。ある態様において、約１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、６、７、８、９または１０当量のジルコニウムが存在する。ある態様において、約１当量のジルコニウムが存在する（すなわち、化学量論的）。ある態様において、ジルコニウム錯体は、チオエステルがカップリングパートナーとして用いられる反応（例えばＸ２が−ＳＲＳである場合）において使用される。
ある態様において、反応は、リチウム塩の存在下において行われる。ある態様において、リチウム塩は、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、またはＬｉＩである。ある態様において、リチウム塩は、ＬｉＣｌである。ある態様において、リチウム塩は、触媒的な量において存在する。ある態様において、リチウム塩が反応混合物中で、式（Ａ）または（Ｂ）の化合物に対して、化学量論的量または過剰量において存在する。ある態様において、約１当量のリチウム塩が存在する（すなわち化学量論的）。他の態様において、１当量より多いリチウム塩が存在する（すなわち過剰）。ある態様において、約１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、６、７、８、９または１０当量のリチウム塩が存在する。ある態様において、約３当量のリチウム塩が存在する。
ある態様において、反応は、還元性金属の存在下において行われる。ある態様において、還元性金属は、亜鉛またはマンガン（例えば亜鉛（０）またはマンガン（０））である。
ある態様において、亜鉛源は、亜鉛粉末、亜鉛箔、亜鉛ビーズ、または任意の他の形態の亜鉛金属である。亜鉛は、触媒的、化学量論的、または過剰量で存在してもよい。ある態様において、亜鉛は、式（Ａ）または式（Ｂ）の化合物と比較して過剰（すなわち１当量より多い）に存在する。ある態様において、１〜１０当量の亜鉛が用いられる。ある態様において、約１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、５．５、６、７、８、９または１０当量の亜鉛が存在する。ある態様において、約２当量の亜鉛が用いられる。
ある態様において、マンガン源は、マンガン粉末、マンガン箔、マンガンビーズ、またはマンガン金属の任意の他の形態である。マンガンは、触媒的、化学量論的、または過剰量で存在してもよい。ある態様において、マンガンは、式（Ａ）または式（Ｂ）の化合物と比較して過剰（すなわち１当量より多い）に存在する。ある態様において、１〜１０当量のマンガンが用いられる。ある態様において、約１．５、２、２．５、３、３．５、４、４．５、５、５．５、６、７、８、９または１０当量のマンガンが存在する。ある態様において、約２当量のマンガンが用いられる。
ある態様において、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、溶媒中で行われる。任意の溶媒を用いてよく、方法の範囲は、任意の特定の溶媒または溶媒の混合物に限定されない。溶媒は、極性であっても非極性であっても、プロトン性であっても非プロトン性であっても、または溶媒の組み合わせ（例えば共溶媒）であってもよい。有用な有機溶媒の例は、本明細書において提供される。ある態様において、ケト化は、エーテル性溶媒などの極性溶媒中で行われる。ある態様において、ケト化反応は、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）中で行われる。
本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、溶媒中で任意の濃度において行うことができる。濃度とは、溶媒中のカップリングパートナー（例えば式（Ａ）または（Ｂ）の化合物）のモル濃度（ｍｏｌ／Ｌ）を指す。ある態様において、濃度は、約０．５Ｍである。ある態様において、濃度は、約０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８または０．９Ｍである。ある態様において、濃度は、１Ｍよりも高い。ある態様において、濃度は、０．１Ｍ未満である。
本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、任意の温度において行うことができる。ある態様において、反応は、室温付近（すなわち１８〜２４℃）において行う。ある態様において、反応は、室温未満（例えば０℃〜室温）において行う。ある態様において、反応は、室温より高い温度（例えば室温〜１００℃）において行う。ある態様において、反応は、約０℃において行う。
本明細書において記載される反応は、任意の時間量にわたり行ってよい。ある態様において、反応は、数秒間、数分間、数時間または数日間にわたり行わせる。
ある態様において、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、および還元性金属の存在下において行う。ある態様において、ケト化は、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎの存在下において行う。ある態様において、ケト化は、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行う。ある態様において、反応は、極性溶媒中で行う。ある態様において、極性溶媒は、ＤＭＥなどのエーテル性溶媒である。ある態様において、反応は、室温においてまたは室温未満で行う。ある態様において、反応は、０℃付近の温度で行う。
例えば、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３（１０ｍｏｌ％）、ＣｕＣｌ２（１．０当量）、Ｍｎ（２当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、ＤＭＥ、０℃、１０〜２０時間。別の例として、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（５ｍｏｌ％）、ＣｕＣｌ２（１．０当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、Ｍｎ（２当量）、ＤＭＥ、０℃、１０〜２０時間。
ある態様において、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、鉄錯体、銅塩、ジルコニウム錯体、リチウム塩、および還元性金属の存在下において行う。ある態様において、ケト化は、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）、ＣｕＩ、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行う。ある態様において、反応は、極性溶媒中で行う。ある態様において、極性溶媒は、ＤＭＥなどのエーテル性溶媒である。ある態様において、反応は、室温においてまたは室温未満で行う。ある態様において、反応は、０℃付近の温度で行う。
例えば、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（５ｍｏｌ％）、ＣｕＩ（１．０当量）、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２（１．０当量）ＬｉＣｌ（３当量）、Ｍｎ（２当量）、ＤＭＥ、０℃、１０〜２０時間。
ハリコンドリンおよび中間体の合成
本明細書において提供されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログへの途上の中間体などの錯体分子の合成に適用することができる。例えば、スキーム２は、式（Ｉ−１３）の化合物は、式（Ｉ−１２）の化合物の式（Ｉ−１０）の化合物とのＦｅ／Ｃｕ媒介カップリングを介して調製することができることを示す。スキーム２において、式（Ｉ−１３）の化合物は、ハリコンドリン（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）およびそのアナログの合成において有用な中間体である。
スキーム２
スキーム２において示されるとおり、本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１３）：
の化合物またはその塩を調製する方法であって、該方法は、式（Ｉ−１２）：
の化合物またはその塩を、式（Ｉ−１０）：
の化合物またはその塩とカップリングすることを含み、式中：
Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
ある態様において、式（Ｉ−１２）の化合物は、式（Ｉ−１２−Ｓ）：
の化合物またはその塩であり、式中：
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
ある態様において、式（Ｉ−１２）の化合物またはその塩を、式（Ｉ−１０）の化合物またはその塩とカップリングするステップは、本明細書において記載されるようなＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応を含む（例えば鉄および銅の存在下において行われる）。本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化について記載される任意の試薬または条件を、カップリングステップにおいて用いることができる。
本明細書において記載されるとおり、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、ビニルハライドの存在下において、アルキルハライドについて選択的である。したがって、ある態様において、Ｘ１およびＸ３が、いずれもハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（Ｉ−１３）の化合物を生じる。ある態様において、Ｘ１が−Ｉであり、かつＸ３がハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（Ｉ−１３）の化合物を生じる。ある態様において、選択性は、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１よりも高い。
ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々、任意に置換されていてもよいシリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々、トリアルキルシリル保護基である。ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ４は、ＴＢＳ保護基であり、ＲＰ２、ＲＰ３、およびＲＰ５は、ＴＥＳ保護基である。
ある態様において、式（Ｉ−１３）の化合物またはその塩を形成するためのカップリングは、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、ジルコニウム錯体、および還元性金属の存在下において行う。ある態様において、カップリングは、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）、ＣｕＩ、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、ＬｉＣｌおよびＭｎ金属の存在下において行われる。ある態様において、反応は、極性溶媒中で行う。ある態様において、極性溶媒は、ＤＭＥなどのエーテル性溶媒である。ある態様において、反応は、室温においてまたは室温未満で行う。ある態様において、反応は、０℃付近の温度で行う。
例えば、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（５ｍｏｌ％）、ＣｕＩ（１．０当量）、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２（１．０当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、およびＭｎ（２．０当量）、ＤＭＥ、０℃、１０〜２０時間。
本明細書において提供されるケト化反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログの合成において有用な他の中間体の調製に適用することができる。例えば、スキーム３において示されるとおり、式（Ｉ−１１）の化合物は、式（Ｉ−９）の化合物と式（Ｉ−１０）の化合物とのＦｅ／Ｃｕ媒介カップリングを介して調製することができる。式（Ｉ−１１）の化合物は、ハリコンドリンおよびそのアナログの合成において有用な中間体である。
スキーム３
スキーム３において示されるとおり、本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１１）：
の化合物またはその塩を調製する方法であって、該方法は、式（Ｉ−９）：
の化合物、またはその塩を、式（Ｉ−１０）：
の化合物、またはその塩とカップリングすることを含み、式中：
Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
ある態様において、式（Ｉ−９）の化合物は、式（Ｉ−９−Ｓ）：
のもの、またはその塩であり、式中：
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
ある態様において、式（Ｉ−９）の化合物またはその塩を、式（Ｉ−１０）の化合物またはその塩とカップリングするステップは、本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化である（例えば鉄および銅の存在下において行われる）。本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化について記載される任意の試薬または条件を、カップリングステップにおいて用いることができる。
本明細書において記載されるとおり、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、ビニルハライドよりもアルキルハライドについて選択的である。したがって、ある態様において、Ｘ１およびＸ３が、いずれもハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（Ｉ−１１）の化合物を生じる。ある態様において、Ｘ１が−Ｉであり、かつＸ３がハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（Ｉ−１１）の化合物を生じる。ある態様において、選択性は、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１よりも高い。
ある態様において、ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は、各々、シリル保護基である。ある態様において、ＲＰ４およびＲＰ５は、トリアルキルシリル保護基であり、２個のＲＰ６基は、一緒に連結されて：
を形成する。ある態様において、ＲＰ４は、ＴＢＳ保護基であり、ＲＰ５は、ＴＥＳ保護基であり、２個のＲＰ６基は、一緒に連結されて：
を形成する。
ある態様において、式（Ｉ−１１）の化合物を得るためのカップリングは、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、ジルコニウム錯体、および還元性金属の存在下において行う。ある態様において、カップリングは、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）、ＣｕＩ、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行われる。ある態様において、反応は、極性溶媒中で行う。ある態様において、極性溶媒は、ＤＭＥなどのエーテル性溶媒である。ある態様において、反応は、室温においてまたは室温未満で行う。ある態様において、反応は、０℃付近の温度で行う。
例えば、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（５ｍｏｌ％）、ＣｕＩ（１．０当量）、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２（１．０当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、およびＭｎ（２．０当量）、ＤＭＥ、０℃、１０〜２０時間。
本明細書において記載される方法は、任意の化学収率において化合物を調製するために用いることができる。ある態様において、化合物は、１〜１０％、１０〜２０％、２０〜３０％、３０〜４０％、４０〜５０％、５０〜６０％、６０〜７０％、７０〜８０％、８０〜９０％、または９０〜１００％の収率において生成される。ある態様において、所望される生成物は、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％または９０％よりも高い収率において得られる。ある態様において、それは、５０％よりも高い収率である。ある態様において、それは、７０％よりも高い収率である。ある態様において、収率は、１つの合成ステップの後のパーセント収率である。ある態様において、収率は、１より多い合成ステップ（例えば２、３、４または５つの合成ステップ）の後のパーセント収率である。
本明細書において記載されるとおり、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、ビニルハライドよりもアルキルハライドについて選択的である。したがって、ある態様において、Ｘ１およびＸ３が、いずれもハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において、選択的に起こる。ある態様において、選択性は、約２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１より高い。ある態様において、選択性は、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１よりも高い。
本明細書において記載される方法は、１つ以上の精製ステップをさらに含んでもよい。例えば、ある態様において、本明細書において記載される方法により生成される化合物は、クロマトグラフィー、抽出、濾過、沈殿、結晶化、または当該分野において公知の任意の他の方法により精製することができる。ある態様において、化合物または混合物は、無精製（すなわち粗生成物）で、次の合成ステップに持ち越される。
スキーム４は、式（ＩＩ−３）の化合物が、式（ＩＩ−１）の化合物の、式（ＩＩ−２）の化合物との、Ｆｅ／Ｃｕ媒介カップリングを介して調製することができることを示す。スキーム４において、式（ＩＩ−３）の化合物は、ハリコンドリンシリーズ中の化合物（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそのアナログの合成において有用な中間体である。特に、式（ＩＩ−３）の化合物は、ハリコンドリンのＣ２０−Ｃ２６フラグメント（すなわち構成要素）として有用である。
スキーム４
スキーム４において示されるとおり、本明細書において提供されるのは、式（ＩＩ−３）：
の化合物またはその塩を調製する方法であって、該方法は、式（ＩＩ−１）：
の化合物、またはその塩を、式（ＩＩ−２）：
の化合物またはその塩とカップリングすることを含み、式中：
Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
Ｒ５は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
Ｒ８は、アルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
ある態様において、式（ＩＩ−１）の化合物は、式（ＩＩ−１−Ｃｌ）：
の化合物、またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−１）の化合物は、以下：
またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−１）の化合物は、以下：
またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−２）の化合物は、式（ＩＩ−１−Ｉ）：
の化合物、またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−２）の化合物は、以下：
またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−３）の化合物は、以下：
またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−３）の化合物は、以下：
またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩ−１）の化合物またはその塩を、式（ＩＩ−２）の化合物またはその塩とカップリングするステップは、本明細書において記載されるようなＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応を含む（例えば鉄および銅の存在下において行われる）。本明細書において記載されるＦｅ／Ｃｕ媒介ケト化について記載される任意の試薬または条件を、カップリングステップにおいて用いることができる。
本明細書において記載されるとおり、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、ビニルハライドの存在下において、アルキルハライドについて選択的である。したがって、ある態様において、Ｘ１およびＸ３が、いずれもハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（ＩＩ−３）の化合物を生じる。ある態様において、Ｘ１が−Ｉであり、かつＸ３がハロゲンである場合、反応は、Ｘ３よりもむしろＸ１において選択的に起こり、主要生成物として式（ＩＩ−３）の化合物を生じる。ある態様において、選択性は、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、２０：１、２５：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、または１００：１よりも高い。ある態様において、Ｘ１は、−Ｉであり；Ｘ３は、−Ｉであり；およびＸ２は、−Ｃｌである。
ある態様において、Ｒ８は、エチルであり；およびＲ５は、メチルである。ある態様において、Ｒ８は、メチルであり；およびＲ５は、メチルである。
ある態様において、Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化は、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、および還元性金属の存在下において行う。ある態様において、ケト化は、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌおよびＭｎの存在下において行われる。ある態様において、ケト化は、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行われる。ある態様において、反応は、極性溶媒中で行われる。ある態様において、極性溶媒は、ＤＭＥなどのエーテル性溶媒である。ある態様において、反応は、室温においてまたは室温未満で行われる。ある態様において、反応は、０℃付近の温度で行われる。
例えば、ある態様において、カップリングは、以下の条件下において行ってもよい：ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（５ｍｏｌ％）、ＣｕＣｌ２（２０ｍｏｌ％）、ＬｉＣｌ（３当量）、Ｍｎ（２当量）、ＤＭＥ、約０℃（例えば約０〜５℃）、１０〜３０時間。
ある態様において、方法は、式（ＩＩ−３）：
の化合物またはその塩を、式ＲＰ９ＯＨの試薬の存在下において反応させて、式（ＩＩＩ−１）：
化合物またはその塩を生じるステップをさらに含み；ここで：
Ｘ３は、ハロゲンであり；
Ｒ８は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；ならびに
各々のＲＰ９は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基；任意にここで、２個のＲＰ９基は、介在原子により一緒に連結される。
ある態様において、反応は、酸の存在下において行う。ある態様において、酸は、スルホン酸である。ある態様において、酸は、ｐ−トルエンスルホン酸である。ある態様において、反応は、オルトギ酸エステルの存在下において行う。ある態様において、反応は、トリメチルオルトギ酸エステルの存在下において行う。
ある態様において、式ＲＰ９ＯＨの試薬は、ジオールであり；２個のＲＰ９は、介在原子により一緒に連結される。これらの態様において、式（ＩＩＩ−１）の化合物において、２個のＲＰ９は、介在原子により一緒になって、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。ある態様において、試薬は、１，３−ジオールである。ある態様において、試薬ＲＰ９ＯＨは、式：
のものである。ある態様において、試薬は、構造：
の２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールである。
ある態様において、式（ＩＩ−３）の化合物は、式：
のもの、またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩＩ−１）の化合物は、式：
のもの、またはその塩である。
ある態様において、式（ＩＩＩ−１）の化合物を生じる反応は、ジオールおよび酸の存在下において行われる。ある態様において、反応は、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールおよび酸の存在下において行われる。ある態様において、反応は、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールおよびｐ−トルエンスルホン酸の存在下において行われる。ある態様において、式（ＩＩＩ−１）の化合物を生じる反応は、ジオール、酸およびオルトギ酸エステルの存在下において行われる。ある態様において、反応は、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、ｐ−トルエンスルホン酸、およびトリメチルオルトギ酸エステルの存在下において行われる。ある態様において、反応は、アセトニトリルなどの極性溶媒中で行われる。例えば、ある態様において、反応は、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（５当量）、ｐ−トルエンスルホン酸水和物（２ｍｏｌ％）、およびトリメチルオルトギ酸エステル（１．５当量）の存在下において、ＭｅＣＮ中で、室温で（例えば約２０時間にわたり）行われる。
化合物
また本明細書において提供されるのは、ハリコンドリン（例えばハリコンドリンＡ、Ｂ、Ｃ）、およびそのアナログの合成において有用な中間体である化合物である。例えば、本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１３）：
の化合物、およびその塩であり、式中：
Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
また本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１２）：
の化合物、およびその塩であり、式中：
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
ある態様において、式（Ｉ−１２）の化合物は、式（Ｉ−１２−Ｓ）：
のもの、またはその塩であり、式中：
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
また本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１０）：
の化合物、およびその塩であり、式中：
Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｒ２は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ４は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−１１）：
の化合物、およびその塩であり、式中：
Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基であり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
また本明細書において提供されるのは、式（Ｉ−９）：
の化合物、およびその塩であり、式中：
Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
ＲＰ５およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
ある態様において、式（Ｉ−９）の化合物は、式（Ｉ−９−Ｓ）：
のもの、またはその塩であり、式中：
ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
別の側面において、本明細書において提供されるのは、式：
の化合物、またはその塩である。
さらに別の側面において、本明細書において提供されるのは、式：
の化合物、またはその塩である。
基Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３
本明細書において定義されるとおり、Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基である。ある態様において、Ｘ１は、ハロゲンである。ある態様において、Ｘ１は、−Ｃｌ（すなわち塩素）である。ある態様において、Ｘ１は、−Ｂｒ（すなわち臭素）である。ある態様において、Ｘ１は、−Ｉ（すなわちヨウ化物）である。ある態様において、Ｘ１は、−Ｆ（すなわちフッ素）である。ある態様において、Ｘ１は、脱離基である。
本明細書において定義されるとおり、Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳである。ある態様において、Ｘ２は、ハロゲンである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｃｌである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｂｒである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｉである。ある態様において、Ｘ２は、−Ｆである。ある態様において、Ｘ２は、脱離基である。ある態様において、Ｘ２は、−ＳＲＳである。
本明細書において定義されるとおり、ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＳは、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＳは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいカルボシクリルである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよい６員のヘテロアリールである。ある態様において、ＲＳは、１、２または３個の窒素原子を含む任意に置換されていてもよい６員のヘテロアリールである。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよいピリジルである。ある態様において、ＲＳは、未置換のピリジル（Ｐｙ）である。ある態様において、ＲＳは、任意に置換されていてもよい２−ピリジルである。ある態様において、ＲＳは、未置換の２−ピリジル（２−Ｐｙ）である。ある態様において、ＲＳは、以下：
からなる群より選択される。
ある態様において、ＲＳは、
（２−Ｐｙ）である。
本明細書において定義されるとおり、Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基である。ある態様において、Ｘ３は、ハロゲンである。ある態様において、Ｘ３は、−Ｃｌである。ある態様において、Ｘ３は、−Ｂｒである。ある態様において、Ｘ３は、−Ｉである。ある態様において、Ｘ３は、−Ｆである。ある態様において、Ｘ３は、脱離基である。
基Ｒ、Ａｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、およびＲ８
本明細書において定義されるとおり、Ｒは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、Ｒは、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒは、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒは、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒは、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒは、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Ｒは、メチルである。ある態様において、Ｒは、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、Ｒは、任意に置換されていてもよいフェニルである。ある態様において、Ｒは、フェニル（−Ｐｈ）である。
本明細書において定義されるとおり、Ａｒは、任意に置換されていてもよいアリールまたは任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。ある態様において、Ａｒは、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、Ａｒは、任意に置換されていてもよいフェニルである。ある態様において、Ａｒは、未置換のフェニル（−Ｐｈ）である。
本明細書において定義されるとおり、Ｒ１は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ１は、水素である。ある態様において、Ｒ１は、ハロゲンである。ある態様において、Ｒ１は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ１は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ１は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ１は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ１は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Ｒ１は、メチルである。
本明細書において定義されるとおり、Ｒ２は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ２は、水素である。ある態様において、Ｒ２は、ハロゲンである。ある態様において、Ｒ２は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ２は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ２は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ２は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ２は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ２は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Ｒ２は、メチルである。
本明細書において定義されるとおり、Ｒ８は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、Ｒ８は、水素である。ある態様において、Ｒ８は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ある態様において、Ｒ８は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ８は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ８は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ８は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ８は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Ｒ８は、メチルである。ある態様において、Ｒ８は、エチルである。ある態様において、Ｒ８は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。
本明細書において定義されるとおり、Ｒ５は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ５は、水素である。ある態様において、Ｒ５は、ハロゲンである。ある態様において、Ｒ３は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Ｒ５は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ５は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、Ｒ５は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ５は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、Ｒ５は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Ｒ５は、メチルである。
基ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ１は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ１は、水素である。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ１は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ１は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ１は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ１は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ１は、アリルである。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ１は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ１は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ１は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ１は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ１は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ１は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ１は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ１は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ１は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。
ある態様において、ＲＰ１およびＲＰ２は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ２は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ２は、水素である。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ２は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ２は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ２は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ２は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ２は、アリルである。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ２は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ２は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ２は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ２は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ２は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ２は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ２は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ２は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ２は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。
ある態様において、ＲＰ３およびＲＰ３は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ３は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ３は、水素である。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ３は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ３は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ３は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ３は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ３は、アリルである。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ３は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ３は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ３は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ３は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ３は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ３は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ３は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ３は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ３は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ４は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ４は、水素である。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ４は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ４は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ４は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ４は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ４は、アリルである。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ４は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ４は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ４は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ４は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ４は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ４は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ４は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ４は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ４は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ５は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ５は、水素である。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ５は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ５は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ５は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ５は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ５は、アリルである。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ５は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ５は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ５は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ５は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ５は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ５は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ５は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ５は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ５は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ６は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。ある態様において、ＲＰ６は、水素である。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ６は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ６は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ６は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ６は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ６は、アリルである。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ６は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ６は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ６は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ６は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ６は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ６は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ６は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ６は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ６は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。ある態様において、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。ある態様において、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよい６員のヘテロシクリルを形成する。ある態様において、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、式：
の環を形成する。ある態様において、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、式：
の環を形成する。
本明細書において定義されるとおり、ＲＰ９は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ９は、水素である。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ９は、未置換Ｃ１〜６アルキルである。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ９は、未置換Ｃ１〜３アルキルである。ある態様において、ＲＰ９は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルからなる群より選択される。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、ＲＰ９は、酸素保護基である。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、ＲＰ９は、アリルである。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、ＲＰ９は、トリアルキルシリルである。ある態様において、ＲＰ９は、トリエチルシリル（−ＳｉＥｔ３；「ＴＥＳ」）である。ある態様において、ＲＰ９は、トリメチルシリル（−ＳｉＭｅ３；「ＴＭＳ」）である。ある態様において、ＲＰ９は、tert−ブチルジメチルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ２；「ＴＢＳ」）である。ある態様において、ＲＰ９は、tert−ブチルジフェニルシリル（−Ｓｉｔ−ＢｕＰｈ２；「ＴＢＤＰＳ」）である。ある態様において、ＲＰ９は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ９は、ベンジル（−ＣＨ２Ｐｈ；「Ｂｎ」）である。ある態様において、ＲＰ９は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、ＲＰ９は、パラ−メトキシベンジル：
（「ＭＰＭ」または「ＰＭＢ」）である。ある態様において、２個のＲＰ９は、介在原子により一緒に連結される。ある態様において、２個のＲＰ９は、介在原子により一緒に連結されて
を形成する：
ある態様において、２個のＲＰ９は、介在原子により一緒に連結されて、
を形成する：
ある態様において、２個のＲＰ９は、介在原子により一緒に連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。ある態様において、２個のＲＰ９は、一緒に連結されて、
を形成する。ある態様において、２個のＲＰ９は、一緒に連結されて、
を形成する。基Ｒは、本明細書において定義されるとおりである。
例
Ｆｅ／Ｃｕ媒介ケト化反応
還元性カップリングの実現可能性の研究のために、図１Ａにおいて示される基質を第一に選択した。任意に選択された条件［２ａ（５当量）、１ａ（１当量）、ＭｎＰｃ（１０ｍｏｌ％）、ＣｕＣＮ（１当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、ＴＨＦ（Ｃ＝０．２Ｍ）、ｒｔ、６時間］下における第一の試みにより、３５％単離収率において３種を得た。以下を含むカップリング条件を最適化した：（１）ラジカル開始剤およびローディング(試験されたラジカル開始剤の相対的反応性は、ざっと以下の順序であった：Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３＞Ｆｅ（ＤＢＭ）３＞ＣｏＰｃ＞Ｆｅ（ａｃａｃ）３〜ＺｎＰｃ＞ＭｎＰｃ〜ＦｅＰｃ）、（２）銅源(いくつかのＣｕ（Ｉ）塩を試験した：ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮおよびＣｕＴｃは、それぞれ、６２％、２０％、５８％、１２％および１０％の収率をもたらした；また、Ｃｕ（ＩＩ）塩によるＣｕ（Ｉ）塩の置き換えを試験した：ＣｕＣｌ２およびＣｕＢｒ２は、２ａを、それぞれ７６％および３２％で生じた）、（３）ＬｉＣｌ効果（ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、およびＬｉＩを試験した）、（４）１ａ：２ａのモル比（１ａ：２ａ＝１．０：１．５、１．０：２．０、１．０：３．０のモル比を試験した）、（５）還元性金属（ＭｎおよびＺｎ粉末を試験した）、（６）溶媒および濃度（Ｃ＝０．２Ｍ、０．３Ｍおよび０．４Ｍを用いて濃度効果を試験したが、有意差は見出されなかった。したがって、Ｃ＝０．４を研究のために選択した）、ならびに（７）添加物。この研究を通して、例として、［１ａ（１．０当量）、２ａ（３．０当量）、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３（１０ｍｏｌ％；図１Ｂにおける４）、ＣｕＣｌ２（１．０当量）、Ｍｎ（２当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、ＤＭＥ（Ｃ０．４Ｍ）、０℃、１５時間］の条件が、（１ａ＋２ａ）−カップリングのために有効であることが見出された（７６％単離収率）。図２における方法Ａを参照。
このＦｅ／Ｃｕ媒介方法は、一つの魅力的な反応性プロフィールを示した；すなわち、他の最先端の方法とは異なり、このＦｅ／Ｃｕ媒介方法は、ビニルまたはアリールヨウ化物、例えば化合物１ｊ−ｍよりも、アルキルヨウ化物を選択的に活性化することを可能にした。この選択性は、錯体分子の合成にとって多大な重要性を持つ。特に、このことは、ハリコンドリンのＣ２０−Ｃ２６の構成要素である８ａを、６と７とのカップリングを介して合成する可能性を開いた。先には、このカップリングは、複数のステップ、すなわち、Ｃｏ／Ｃｒ媒介カップリングとその後の酸化において行われた：Kim, D.-S.; Dong, C.-G.; Kim, J. T.; Guo, H.; Huang, J.; Tiseni, P. S.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15636; Dong, C.-G.; Henderson, J. A.; Kaburagi, Y.; Sasaki, T.; Kim, D.-S.; Kim, J. T.; Urabe, D.; Guo, H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15642。
方法Ａ（図２）の条件下において、ワンポットケトンカップリングは、所望される生成物８ａをもたらした。カップリングは、さらに最適化された。７中でのアルキルヨウ化物の活性化速度は、モデル１ｊにおけるものよりは遅かった。Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３のより高いローディングにより、予測されるとおり、カップリング速度が加速した。１３〜１５ｍｏｌ％の触媒を用いて、（６＋７）カップリングは、１５ｇスケールの実験において、微量の８ｂ（＜１％収率）と共に、所望されるケトン８ａ（７５％単離収率）をもたらした。同様に、７に対応する臭化ビニルを用いたＦｅ／Ｃｕ媒介カップリングは、所望される生成物を、匹敵する収率においてもたらした。
６＋７→８ａの変換において説明されるように、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３により開始されるＦｅ／Ｃｕ媒介ワンポットケトン合成は、他の最先端のケトン合成によっては達成することが困難であり得る反応性のプロフィールを示した。
さらなる最適化の間に、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３がラジカル開始剤として機能するためには、Ｍｎ金属によりＦｅ（ＩＩＩ）がＦｅ（ＩＩ）に還元されるべきであることが認識された。還元は、１個のβ−ジケトンの分子を放出し、これが、６のうちの幾つかを非生産的な様式において消費した。この副反応は、Ｆｅ（ＩＩ）開始剤の使用により回避することができた。この理由のために、多様なラジカル開始剤を、Ｃｕ媒介ケトンカップリングについてスクリーニングした。それらのうちで、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）は、（１ａ＋２ａ）カップリングを良好に促進することが見出された。ホスフィン錯体であるＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）、ＦｅＣｌ２（ｄｐｐｂ）、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｅ）、ＦｅＣｌ２（ｄｐｐｅ）、およびＦｅＢｒ２（ＰＰｈ３）２は、カップリング条件方法Ｂ−１下において、生成物３ａを、それぞれ９０％、７９％、５４％、４６％および４８％においてもたらした（図２）。最適化を通して、例えば以下の条件下において、カップリングが効果的に達成されたことが見出された：ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（５ｍｏｌ％）、酸塩化物（１．０当量）、ヨウ化物（１．２当量）、ＣｕＣｌ２（１．０当量）、ＬｉＣｌ（３当量）、Ｍｎ（２当量）、ＤＭＥ（Ｃ＝０．４Ｍ）、０℃、１５時間。例えば、Britovsek, G. J. P.; England, J.; Spitzmesser, S. K.; White, A. J. P.; Williams, D. J. Dalton Trans. 2005, 945、およびこれらにおいて引用される参考文献を参照。最適化された条件下において、カップリングを、１ａ／２ａのモル比を１．２／１．０および１．０／１．２として試験し、それぞれ９０％および８７％の単離収率において、３ａを得た。求核剤と求電子剤との比を１．２／１．０および１．０／１．２とすることにより、図２における方法Ｂ−１およびＢ−２において列記される基質について、カップリング効率を研究した。
ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）条件を、（６＋７）−カップリングのために適用させ、８ａを７２％の単離収率において得た。ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）を、最近Ｎａｋａｍｕｒａらにより報告されたＳｃｉＯＰＰリガンドから調製されるＦｅＢｒ２錯体に置き換えることにより、カップリングの収率を、さらに８０％の収率まで改善した。例えば、Hatakeyama, T.; Fujiwara, Y.; Okada, Y.; Itoh, T.; Hashimoto, T.; Kawamura, S.; Ogata, K. Takaya, H.; Nakamura, M. Chem. Lett. 2011, 40, 1030を参照。
ホスフィンベースのＦｅＢｒ２触媒は、１：１に近い求核剤と求電子剤とのモル比を用いてすら、効率的なワンポットケトン合成を可能にする。このアプローチを、ハリコンドリンシリーズの左半分の「構成要素」であるヨウ化ビニル１３、ならびに関連するヨウ化ビニル１１の合成に適用した。９−シリーズにおいて、本発明者らは、酸塩化物を調製することが可能であり、カップリングが、所望される生成物１１を、カルボン酸から２０〜２５％の全体的収率においてもたらすことを示した。ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）およびＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）を用いて、それぞれ２０％および２５％の収率において１１を得た。これらの環境下において、２−チオピリジンエステルが、Ｚｒ／Ｎｉ媒介ワンポットケトン合成における効果的な求電子剤であることが証明されたので、これを代替的な求電子剤として用いた。例えば、Araki, M.; Sakata, S.; Takei, H.; Mukaiyama, T. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1974, 47, 1777; Onaka, M.; Matsuoka, Y.; Mukaiyama, T. Chem. Lett. 1981, 531を参照。
この背景により、方法Ｂ−１の条件下における（１ａ＋２ｂ→３ａ）カップリングを行い、約１５％の収率において所望される生成物を得た。２−チオピリジンエステルは、ＣｕＩの存在下において安定であることが見出され、このことは、ＣｕＣｌ２の代わりにＣｕＩの存在下におけるカップリングを示唆した（方法Ｃ）。この条件下におけるカップリング効率を、図２において列記される各々の基質について研究した。
方法Ｃの条件下におけるＦｅ／Ｃｕ媒介ワンポットケトン合成は、ハリコンドリンシリーズの「左半分」の構成要素であるヨウ化ビニル１３、ならびに緊密に関連するヨウ化ビニル１１を、１．０：１．２の求電子剤と求核剤とのモル比により、供給した（図３）。新たな経路は、（１）より高い程度の収束、および（２）、ケトンカップリングに先立つ、末端アセチレンのトランスヨウ化ビニルへの標準的な変換を介するＣ３９ビニル基の導入を含む、いくつかの魅力的な側面を有した。以前の合成において、C39におけるトランスヨウ化ビニルは、Takaiトランスヨードオレフィン化を介して導入された；Takai, K.; Nitta, K.; Utimoto, K. J. Am. Chem. Soc. 1986, 108, 7408. (b) Takai, K.; Ichiguchi, T.; Hikasa, S. Synlett 1999, 1268を参照。
最後に、一般的なラジカルプローブの挙動を、３つのカップリング条件下において試験した（図４）。予測されたとおり、観察された結果は、３つ全てのカップリング方法においてラジカル中間体が関与していることを示した。
本明細書において例示されるＦｅ／Ｃｕ媒介ワンポットケトン合成は、いくつかの例において、ワンポットケトン合成のために、ヨウ化ビニルよりもアルキルヨウ化物を選択的に活性化することを可能にした。新たに開発された方法を、ハリコンドリンのＣ２０−Ｃ２６構成要素であるヨウ化ビニル／ケトン８ａ、ならびにハリコンドリンの「左半分」であるヨウ化ビニル／ケトン１３の合成に適用した。
一般的手順
ＮＭＲスペクトルは、Varian Inova 600MHz、500MHzまたは400MHz分光器において記録した。化学シフトは、百万分率（ｐｐｍ）において報告する。１Ｈ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３およびＣ６Ｄ６）について、残留溶媒ピークを内部参照として（ＣＤＣｌ３においては７．２６ｐｐｍ；Ｃ６Ｄ６においては７．１６ｐｐｍ）、一方、中心溶媒ピークを１３Ｃ ＮＭＲスペクトルのための参照として（ＣＤＣｌ３においては７７．０ｐｐｍ；Ｃ６Ｄ６においては１２８．０ｐｐｍ）用いた。報告されるスペクトルデータにおいて、以下の略語を用いた：ｓ＝一重線、ｄ＝二重線、ｔ＝三重線、ｑ＝四重線、ｍ＝多重線、ｄｄ＝二重線、ｔｄ＝三重二重線（triplet doublet）、ｑｄ＝四十二重線（quartet doublet）。Agilent 6210 Time-of-Flight LC/MCマシンにおいて、高分解能質量スペクトル（ＨＲＭＳ）を得、ｍ／ｚの単位において報告した。旋光度は、２０℃で、Perkin-Elmer 241偏光計を用いて測定した。ＩＲスペクトルは、Bruker Alpha FT-IR分光器において記録した。分析的および半調製的薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）は、層厚がそれぞれ０．２５および１．００ｍｍの、E. MerckプレコートＴＬＣプレート、シリカゲル60 F254、を用いて行った。ＴＬＣプレートは、ｐ−アニスアルデヒドまたはホスホモリブデン酸染料による染色により可視化した。E. Merck Kieselgel 60（230〜400メッシュ）シリカゲル上で、フラッシュクロマトグラフィー分離を行った。全ての湿度感受性反応は、不活性な大気下において行った。
実験材料
ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン（９８％、Strem Chemimcals）、１，２−ビス［ビス［３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル］ホスフィノ］ベンゼン（９７％＋、Wako Pure Chemicals）、臭化鉄（ＩＩ）（ＦｅＢｒ２、〜１０メッシュ、９９．９９９％、Sigma-Aldrich）、エチル４−クロロ−４−オキソブチレート（９７％、Alfa Aesar）、塩化リチウム（≧９９％、Sigma-Aldrich）、マンガン（≧９９．９％、Sigma-Aldrich）、塩化銅（ＩＩ）（ＣｕＣｌ２、９９％、Sigma-Aldrich）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ、≧９９．５％、Sigma-Aldrich）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム（ＩＶ）二塩化物（Ｃｐ２ＺｒＣｌ２、≧９８％、Sigma-Aldrich）、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート（９５％、Oakwood Chemical）、１，２−１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ、９９．５％、阻害剤フリー、Sigma-Aldrich）は、示されるとおりに購入し、さらなる精製なしで用いた。他のものは、商業用等級であり、供給されたままで用いた。
鉄錯体の合成
鉄（ＩＩＩ）トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）（Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３） ４の合成
テフロンコートされた卵型の磁性スタラーバー（２．５ｃｍ）および還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した５００ｍＬの二口フラスコに、エタノール（１００ｍＬ）中の塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物（１０ｇ、３６．９ｍｍｏｌ）の溶液を加え、その後、水（１００ｍＬ）、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート（２０．０４ｇ、１１０．１ｍｍｏｌ）および酢酸ナトリウム（１５．０ｇ、１１０．１ｍｍｏｌ）を加えた。反応フラスコを、６０℃まで３時間かけて加熱し、この時点において、橙色の沈殿が形成された。反応混合物を室温まで冷却し、１００ｍＬの水を、反応混合物に導入した。橙色の固体を濾過し、２００ｍＬのエタノールで洗浄した。生じた橙色の固体（１９．３ｇ）を、１２時間かけて高圧化において乾燥させた。再結晶化：上で得られた橙色の固体（１９．３ｇ）を、６０℃まで加熱しながら３００ｍＬの酢酸エチル中で溶解した。酢酸エチル溶液を、濾紙を通して濾過し、生じた濾過物（酢酸エチル）を、減圧下において濃縮し、純粋な結晶性の橙色の固体４（１８．３ｇ）を８２％の収率において生じた。
ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ） ５ａの合成
磁性スタラーバーおよび還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した２００ｍＬの二口フラスコに、エタノール（７０ｍＬ）中の無水臭化鉄（ＩＩ）（１．５ｇ、６．９５ｍｍｏｌ）および１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン（３．４１ｇ、７．６５ｍｍｏｌ）の溶液を加えた。反応フラスコを、８０℃まで１８時間かけて加熱し、この時点において、淡褐色の沈殿が形成された。反応混合物を、室温まで冷却した。褐色固体を濾過し、１００ｍＬのエタノールで乾燥させた。生じた黄色がかった褐色固体５ａ（３．５４ｇ、７７％）を、高圧化において１２時間かけて乾燥させた。
ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ） ５ｂの合成
例えば、Takaya, H.; Nakajima, S.; Nakagawa, N.; Isozaki, K.; Iwamoto, T.; Imayoshi, R.; Gower, N. J.; Adak, L.; Hatakeyama, T.; Honma, T.; Takagaki, M.; Sunada, Y.; Nagashima, H.; Hashizume, D.; Takahashi, O.; Nakamura, M. Bull. Chem. Soc. Jpn. 2015, 88, 410 - 418を参照。磁性スタラーバーおよび還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した２００ｍＬの二口フラスコに、エタノール（７０ｍＬ）中の無水臭化鉄（ＩＩ）（１．５ｇ、６．９５ｍｍｏｌ）および１，２−ビス（ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィノ）ベンゼン（６．８４ｇ、７．６５ｍｍｏｌ）の溶液を加えた。反応フラスコを、８０℃まで１８時間かけて加熱し、この時点において、淡褐色の沈殿が形成された。反応混合物を、室温まで冷却した。褐色固体を濾過し、５０ｍＬの熱いエタノールで乾燥させた。生じた淡褐色固体５ｂ（５．０１ｇ、６５％）を、高圧化において、１２時間かけて乾燥させた。
基質の合成
化合物１ｄ、１ｍは、文献の手順に従って調製した。例えば、Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186; Thornton, A. R.; Martin, V. I.; Blakey, A. B. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 2434 - 2435を参照。
一般的手順Ａ
０℃のＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中のアルコール（１．０当量）の撹拌溶液に、塩化シリル（１．１当量）およびイミダゾール（１．５当量）を添加した。反応混合物を室温にし、出発材料が消費されるまで撹拌した。反応混合物を、飽和ＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ）の添加によりクエンチした。ＣＨ２Ｃｌ２（３×１０ｍＬ）で水層を抽出し、有機抽出物を、Ｈ２Ｏ（２×１０ｍＬ）および鹹水で洗浄した。洗浄した有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、純粋な生成物を得た。
一般的手順Ｂ
０℃のＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中のアルコール（１．０当量）の撹拌溶液に、ＰＰｈ３（１．１当量）、イミダゾール（１．２当量）およびヨウ素（１．１当量）を添加した。反応混合物を、ＴＬＣプレート上の出発材料がなくなるまで、室温で撹拌した。水性ハイポ（hypo）溶液（１０ｍＬ）の添加により反応をクエンチし、３０分間撹拌した。有機層を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（２×１０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機物を乾燥させ、濃縮して、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、純粋なアルキルヨウ化物を得た。
基質の合成：アルキルハライド
化合物１ａ
１ａは、３−ヨード−プロパン−１−オールから、一般的手順Ａに従って調製した。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.73 - 7.65 (m, 4H), 7.23 - 7.18 (m, 6H), 3.48 (t, J = 5.7 Hz, 2H), 2.94 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 1.68 - 1.58 (m, 2H), 1.10 (s, 9H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 135.6, 133.6, 129.7, 127.7, 63.0, 35.9, 26.7, 26.7, 19.1, 2.7; IR (neat) v 2929, 2856, 1426, 1104, 822, 686, 488; C19H25INaOSiについて計算されたHRMS (ESI) [M + Na]+ : 460.0612, 実測値447.0600.
化合物１ｂ
１ａは、一般的手順Ａに従って、３−ヨード−２−メチルプロパン−１−オール（例えば、Fleming, F. F.; Gudipati, S.; Vu, V.A.; Mycka, R. J.; Knochel, P. Org. Lett. 2007, 9, 4507 - 4509を参照）から調製した。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6): δ 7.76 - 7.68 (m, 4H), 7.24 - 7.18 (m, 6H), 3.43 (dd, J = 10.1, 5.1 Hz, 1H), 3.36 (dd, J = 10.1, 6.7 Hz, 1H), 3.06 - 3.00 (m, 2H), 1.42 - 1.35 (m, 1H), 1.11 (s, 9H), 0.68 (d, J = 6.7 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 135.7, 135.6, 133.6, 133.5, 129.7, 129.7, 127.7, 67.2, 37.3, 26.7, 19.1, 16.8, 12.8; IR (neat) v 2958, 2929, 2856, 1426, 1104, 848, 698, 484; C20H28IOSi [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 439.0949, 実測値439.0932.
化合物１ｃ
１ｃは、一般的手順Ａと、その後の一般的手順Ｂに従って、２，２−ジメチル−ブタン−１，３−ジオールから調製した。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.79 - 7.71 (m, 4H), 7.27 - 7.17 (m, 6H), 3.35 (s, 2H), 3.06 (s, 2H), 1.13 (s, 9H), 0.80 (s, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 135.8, 133.4, 129.7, 127.7, 70.3, 35.8, 26.8, 23.6, 20.0, 19.2; IR (neat) v 2958, 2929, 2856, 1427, 1105, 823, 699, 503, 487; C21H30IOSi [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 453.1105, 実測値453.1127.
化合物１ｅ
１ｅは、一般的手順Ａに従って、３−ヨード−３−メチルブタン−１−オールから調製した（例えば、Turhanen, P. A.; Vepsalainen, J. J. RSC Adv. 2015, 5, 26218 - 26222を参照）。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.79 - 7.72 (m, 4H), 7.24 - 7.19 (m, 6H), 3.90 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 1.81 (t, J = 6.7 Hz, 2H), 1.64 (s, 6H), 1.14 (s, 9H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 135.6, 133.6, 129.7, 127.8, 64.3, 51.9, 47.6, 38.3, 26.7, 19.0; IR (neat) v 2954, 2930, 2854, 1428, 1107, 824, 701, 502, 485; C21H30IOSi [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 453.1105, 実測値453.1122.
化合物１ｆ
１ｆは、一般的手順Ａに従って、３−ヨード−２−メチルプロパン−１−オールから調製した。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 3.29 (dd, J = 9.9, 5.0 Hz, 1H), 3.21 (dd, J = 9.9, 6.7 Hz, 1H), 3.02 - 2.94 (m, 2H), 1.36 - 1.27 (m, 1H), 0.91 (s, 9H), 0.71 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.01 (s, 3H), -0.00 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 66.4, 37.1, 25.7, 18.1, 16.8, 13.0, -5.6; IR (neat) v 2954, 2928, 2856, 1470, 1250, 1097, 833, 773; C10H23INaOSi [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 337.0455, 実測値337.0450.
化合物１ｇ
塩化ベンゾイル（１．２当量）を、ＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中の３−ヨード−２−メチルプロパン−１−オール（１．０当量）およびＥｔ３Ｎ（２．０当量）の撹拌溶液に０℃で添加した。０℃で１時間および室温で６時間にわたり撹拌した後、反応混合物を水中に注いだ。水層をＣＨ２Ｃｌ２（２×１０ｍＬ）で抽出し、組み合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥および蒸発させた。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる粗生成物の精製により、表題の化合物１ｇを、９５％の収率において得た。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 8.08 - 8.03 (m, 2H), 7.12 - 7.06 (m, 1H), 7.05 - 6.98 (m, 2H), 3.98 (dd, J = 11.0, 5.7 Hz, 1H), 3.90 (dd, J = 11.1, 6.9 Hz, 1H), 2.76 (dd, J = 9.9, 5.0 Hz, 1H), 2.71 (dd, J = 10.0, 6.1 Hz, 1H), 1.50 - 1.41 (m, 1H), 0.65 (d, J = 6.7 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 165.5, 132.6, 130.4, 129.5, 128.2, 67.8, 34.2, 17.0, 11.1; IR (neat) v 2964, 2887, 1715, 1450, 1266, 1108, 706; C11H13INaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 326.9852, 実測値326.9851.
化合物１ｈ
無水ＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中の３−ヨード−２−メチルプロパン−１−オール（１．０当量）の溶液に、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（２．０当量）およびＰＴＳＡ（１０ｍｏｌ％）を０℃で加え、次いで室温で２時間撹拌した。反応混合物を、次いで、ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）および水（３×３０ｍＬ）で洗浄した。組み合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、真空中で濃縮して、ＴＨＰ生成物１ｈを、ジアステレオマーの１：１の混合物として得た。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.49 - 4.42 (m, 1H), 3.78 - 3.65 (m, 1H), 3.55 (dd, J = 9.7, 5.4 Hz, 0.5H), 3.50 (dd, J = 9.7, 7.1 Hz, 0.5H), 3.41 - 3.30 (m, 1H), 3.07 - 2.95 (m, 3H), 1.69 - 1.57 (m, 1H), 1.52 - 1.44 (m, 3H), 1.40 - 1.26 (m, 1H), 1.25 - 1.16 (m, 2H), 0.77 (d, J = 6.7 Hz, 1.5H), 0.75 (d, J = 6.7 Hz, 1.5H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ (98.6, 98.0) (THP), (71.0, 70.6) (-CH2-O), (61.4, 61.2) (THP), (35.2, 35.1) (-CH-) (-CH-CH3), (30.5, 30.5) (THP), (25.5, 25.5) (THP), (19.3, 19.1) (THP), (17.4, 17.2) (-CH-CH3), (13.4, 13.1) (-CH2-I); IR (neat) v 2939, 2868, 1453, 1199, 1031, 884, 869; C9H17INaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 307.0165, 実測値307.0164.
化合物１ｉ
ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート（１０ｍｏｌ％）を、ＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）中の３−ヨード−２−メチルプロパン−１−オール（１．０当量）および４−メトキシベンゾイルトリクロロアセトイミデート（１．２当量）の溶液に添加した。混合物を一晩撹拌し、その後、反応を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液でクエンチした。水相をＣＨ２Ｃｌ２（２×１０ｍＬ）で抽出し、組み合わせた有機抽出物を、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥および蒸発させた。残渣を、フラッシュクロマトグラフィーにより精製して、生成物１ｉを無色のオイルとして得た。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.17 - 7.13 (m, 2H), 6.80 - 6.76 (m, 2H), 4.22 (s, 2H), 3.28 (s, 3H), 3.09 - 3.02 (m, 2H), 3.02 - 2.96 (m, 2H), 1.49 - 1.40 (m, 1H), 0.73 (d, J = 6.7 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 159.4, 130.6, 129.1, 113.7, 73.4, 72.6, 54.5, 35.1, 17.3, 13.5; IR (neat) v 2958, 2855, 1611, 1510, 1243, 1086, 1033, 816, 579; C12H17INaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 343.0165, 実測値343.0168.
化合物１ｊ
１ｊは、一般的手順Ｂを用いて、５−ヨードへキス−５−エン−１−オールから調製した（例えば、Johannes, J. W.; Wenglowsky, S.; Kishi, Y. Org. Lett. 2005, 7, 3997 - 4000を参照）。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.52 - 5.49 (m, 1H), 5.45 (s, 1H), 2.56 - 2.50 (m, 2H), 1.87 (td, J = 7.0, 1.3 Hz, 2H), 1.28 - 1.13 (m, 4H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) 125.4, 111.4, 43.7, 31.6, 29.5, 5.3; IR (neat) v 2934, 2832, 1614, 1425, 1165, 1154, 890, 723, 492; C6H11I2 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 336.8944, 実測値336.8938.
化合物１ｋ
１ｋは、一般的手順Ｂを用いて、５−ブロモへキス−５−エン−１−オールから調製した（例えば、Ruscoe, R. E.; Fazakerley, N. J.; Huang, H.; Flitsch, S.; Procter, D. J. Chem. Eur. J. 2016, 22, 116-119を参照）。1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.15 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 5.05 - 5.03 (m, 1H), 2.52 (t, J = 6.7 Hz, 2H), 1.89 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 1.29 - 1.15 (m, 4H); 13C NMR (150 MHz, ベンゼン-d6) δ 136.5, 119.1, 42.5, 34.5, 31.0, 7.9; IR (neat) v 2938, 2859, 1627, 1426, 1212, 1167, 885, 737, 518; C6H10IBrNa [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 310.8903, 実測値310.8895.
化合物１ｌ
１ｌは、一般的手順Ｂを用いて、３−（４−ヨードフェニル）プロパン−１−オールから調製した（例えば、Miyajima, D.; Araoka, F.; Takezoe, H.; Kim, J.; Kato, K.; Takata, M.; Aida, T. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 7865 - 7869を参照）。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.37 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 6.41 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 2.56 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 2.12 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 1.56 - 1.47 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 139.7, 137.4, 130.4, 91.3, 35.3, 34.3, 5.5; IR (neat) v 2934, 1483, 1398, 1209, 1005, 830, 507, 495; C9H11I2 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 372.8945, 実測値372.8938.
化合物１ｑ
１ｌは、一般的手順Ａを用いて、６−（トリエチルシリル）へキス−５−イン−１−オールから調製した。1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 2.60 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 1.85 (t, J = 6.9 Hz, 2H), 1.51 (p, J = 7.1 Hz, 2H), 1.20 (p, J = 7.1 Hz, 2H), 1.08 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.62 (q, J = 7.9 Hz, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 107.6, 82.0, 32.3, 29.1, 18.6, 7.5, 5.2, 4.6; IR (neat) v 2952, 2910, 2872, 2171, 1457, 1210, 1017, 687; C12H24ISi [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 323.0687, 実測値323.0680.
ケトン合成についての一般的手順
方法Ａ
１，２−ジメトキシエタン（Ｃ ０．４Ｍ）中のアルキルヨウ化物１ａ〜ｑ（１．０当量）、酸塩化物２ａ（３．０当量）に、マンガン（２．０当量）、塩化銅（ＩＩ）（１．０当量）、塩化リチウム（３．０当量）および鉄（ＩＩＩ）トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート） ４（１０ｍｏｌ％）を添加した。反応混合物を、０℃まで冷却し、１５時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシル（florosil）を添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、濾過物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン３ａ〜ｑを生じた。
方法Ｂ−１
１，２−ジメトキシエタン（Ｃ ０．４Ｍ）中のアルキルヨウ化物１ａ〜ｑ（１．２当量）、酸塩化物２ａ（１．０当量）に、マンガン（２．０当量）、塩化銅（ＩＩ）（１．０当量）、塩化リチウム（３．０当量）およびＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）５ａ（５ｍｏｌ％）を添加した。反応混合物を、０℃まで冷却し、１５時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、濾過物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、塩基性アルミナカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン３ａ〜ｑを生じた。
方法Ｂ−２
１，２−ジメトキシエタン（Ｃ ０．４Ｍ）中のアルキルヨウ化物１ａ〜ｑ（１．０当量）、酸塩化物２ａ（１．２当量）に、マンガン（２．０当量）、塩化銅（ＩＩ）（１．０当量）、塩化リチウム（３．０当量）およびＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）５ａ（５ｍｏｌ％）を添加した。反応混合物を、０℃まで冷却し、１５時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、濾過物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン３ａ〜ｑを生じた。
方法Ｃ
１，２−ジメトキシエタン（Ｃ ０．４Ｍ）中のアルキルヨウ化物１ａ〜ｑ（１．０当量）、チオエステル２ｂ（１．２当量）に、マンガン（２．０当量）、ヨウ化銅（Ｉ）（１．０当量）、塩化リチウム（３．０当量）、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２（１．０当量）およびＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）５ａ（５ｍｏｌ％）を添加した。反応混合物を、０℃まで冷却し、１５時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、濾過物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン３ａ〜ｑを生じた。
化合物３ａ
収率：７６％（方法Ａ）、９０％（方法Ｂ−１）、８７％（方法Ｂ−２）、８０％（方法Ｃ）；1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.73 - 7.68 (m, 4H), 7.22 - 7.17 (m, 6H), 6.94 - 6.90 (m, 2H), 6.74 - 6.70 (m, 2H), 3.54 (t, J = 6.2 Hz, 2H), 3.29 (s, 3H), 2.74 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.24 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 2H), 2.08 - 2.03 (m, 2H), 1.78 - 1.72 (m, 2H), 1.12 (s, 9H); IR (neat) v 2953, 2930, 1712, 1511, 1244, 1105, 1035, 822, 700, 503; C29H37O3Si [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 461.2506, 実測値461.2508. See, 例えば、Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186.
化合物３ｂ
収率：７４％（方法Ａ）、８６％（方法Ｂ−１）、８３％（方法Ｂ−２）、７８％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.76 - 7.72 (m, 4H), 7.24 - 7.19 (m, 6H), 6.95 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.75 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 3.48 - 3.39 (m, 2H), 3.30 (s, 3H), 2.81 - 2.75 (m, 2H), 2.36 - 2.23 (m, 4H), 1.88 - 1.79 (m, 1H), 1.14 (s, 9H), 0.83 (d, J = 6.7 Hz, 3H); IR (neat) v 2956, 2930, 1711, 1512, 1245, 1110, 1036, 823, 701, 504; C30H39O3Si [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 475.2663, 実測値475.2675. Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186.
化合物３ｃ
収率：７２％（方法Ａ）、８０％（方法Ｂ−１）、８０％（方法Ｂ−２）、７２％（方法Ｃ）；1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.76 - 7.70 (m, 4H), 7.24 - 7.16 (m, 6H), 6.97 - 6.90 (m, 2H), 6.75 - 6.71 (m, 2H), 3.47 (s, 2H), 3.28 (s, 3H), 2.77 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.34 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 2.15 (s, 2H), 1.13 (s, 9H), 0.94 (s, 6H); IR (neat) v 2955, 2930, 2587, 1712, 1512, 1246, 1111, 1037, 824, 701; C31H41O3Si [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 489.2819, 実測値489.2842. Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186.
化合物３ｄ
収率：７４％（方法Ａ）、８０％（方法Ｂ−１）、８０％（方法Ｂ−２）、７４％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.72 - 7.67 (m, 4H), 7.22 - 7.16 (m, 6H), 6.97 - 6.93 (m, 2H), 6.75 - 6.70 (m, 2H), 3.59 - 3.50 (m, 2H), 3.28 (s, 3H), 2.81 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.48 (q, J = 6.9 Hz, 1H), 2.45 - 2.41 (m, 2H), 1.95-1.86 (m, 1H), 1.38 - 1.31 (m, 1H), 1.11 (s, 9H), 0.80 (d, J = 7.0 Hz, 3H); IR (neat) v 2956, 2930, 1709, 1512, 1245, 1109, 822, 701, 503; C30H39O3Si [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 475.2663, 実測値475.2680. Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186.
化合物３ｆ
収率：７８％（方法Ａ）、９０％（方法Ｂ−１）、８６％（方法Ｂ−２）、８１％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.97 - 6.93 (m, 2H), 6.76 - 6.73 (m, 2H), 3.33 (dd, J = 9.7, 5.4, 1H), 3.31 (s, 3H), 3.25 (dd, J = 9.7, 6.0, 1H), 2.79 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.40 - 2.24 (m, 3H), 2.24 - 2.16 (m, 1H), 1.88 - 1.85 (dd, J = 15.8, 7.0 Hz, 1H), 0.93 (d, J = 0.8 Hz, 9H), 0.82 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.01 (s, 3H), 0.00 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.4, 158.2, 133.3, 129.2, 113.8, 67.4, 54.4, 46.2, 44.7, 31.7, 28.9, 25.8, 18.1, 16.6, -5.7; C20H34NaO3Si [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 373.2169, 実測値373.2169.
化合物３ｇ
収率：８１％（方法Ａ）、９０％（方法Ｂ−１）、９０％（方法Ｂ−２）、９０％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 8.14 - 8.09 (m, 2H), 7.11 - 7.01 (m, 3H), 6.93 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.77 - 6.71 (m, 2H), 4.03 (dd, J = 10.8, 6.0 Hz, 1H), 3.96 (dd, J = 10.8, 6.4 Hz, 1H), 3.29 (s, 3H), 2.82 - 2.68 (m, 2H), 2.44 - 2.33 (m, 1H), 2.28 - 2.15 (m, 2H), 2.02 (dd, J = 16.9, 5.8 Hz, 1H), 1.74 (dd, J = 16.9, 7.6 Hz, 1H), 0.76 (d, J = 6.8 Hz, 3H); IR (neat) v 2958, 2935, 1711, 1511, 1270, 1109, 828, 710, 544, 519; C21H24NaO4 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 363.1567, 実測値363.1575. Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186.
化合物３ｈ
収率：７５％（方法Ａ）、８５％（方法Ｂ−１）、８４％（方法Ｂ−２）、８０％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.99 - 6.94 (m, 2H), 6.78 - 6.72 (m, 2H), 4.50 - 4.45 (m, 1H), 3.77 - 3.69 (m, 1H), 3.60 (dd, J = 9.4, 5.9 Hz, 0.5H), 3.51 (dd, J = 9.4, 6.9 Hz, 0.5H), 3.39 - 3.32 (m, 1H), 3.30 (s, 3H), 3.12 (dd, J = 9.4, 5.3 Hz, 0.5H), 3.04 (dd, J = 9.3, 6.5 Hz, 0.5H), 2.84 - 2.77 (m, 2H), 2.41 - 2.29 (m, 4.5H), 2.25 (dd, J = 16.3, 6.1 Hz, 0.5H), 1.90 (dd, J = 7.3, 3.0 Hz, 0.5H), 1.87 (dd, J = 7.3, 3.3 Hz, 0.5H), 1.73 - 1.62 (m, 1H), 1.57 - 1.50 (m, 2H), 1.37 - 1.28 (m, 1H), 1.28 - 1.17 (m, 1H), 0.86 (d, J = 6.8 Hz, 1.5H), 0.84 (d, J = 6.6 Hz, 1.5H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ (207.35, 207.27) (-C=O), 158.23 (MPM-CH-), 133.37 (MPM-CH-), 129.26 (MPM-CH-), 113.84 (MPM-CH-), (98.55, 98.27), (71.88, 71.67), (61.44, 61.41), 54.40, 46.88, (44.69, 44.64), 30.60, (29.76, 29.64), 28.89, 25.54, (19.41, 19.37), (17.09, 17.02); IR (neat) v 2937, 2872, 1710, 1512, 1244, 1177, 1032, 904, 545, 521; C19H28NaO4 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 343.1880, 実測値343.1892.
化合物３ｉ
収率：７１％（方法Ａ）、７８％（方法Ｂ−１）、７４％（方法Ｂ−２）、７０％（方法Ｃ）；1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.16 (dd, J = 7.5, 1.3 Hz, 2H), 6.94 - 6.90 (m, 2H), 6.79 - 6.75 (m, 2H), 6.74 - 6.70 (m, 2H), 4.22 (m, 2H), 3.28 (s, 3H), 3.26 (s, 3H), 3.12 (dd, J = 9.0, 5.3 Hz, 1H), 3.03 (dd, J = 9.0, 6.7 Hz, 1H), 2.76 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.39 - 2.32 (m, 2H), 2.32 - 2.25 (m, 2H), 1.86 (dd, J = 16.3, 7.2 Hz, 1H), 0.82 (d, J = 6.7 Hz, 3H); IR (neat) v 2954, 2932, 1710, 1512, 1245, 11177, 1034, 819; C22H27O3 [M + H-H2O]+について計算されたHRMS (ESI): 339.1955, 実測値339.1969. Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178-7186.
化合物３ｊ
収率：７６％（方法Ａ）、８６％（方法Ｂ−１）、８３％（方法Ｂ−２）、７９％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.96 (d, J = 8.5 Hz, 2H), 6.76 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 5.62 - 5.60 (m, 1H), 5.50 (s, 1H), 3.31 (s, 3H), 2.76 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.21 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.03 (td, J = 7.1, 1.3 Hz, 2H), 1.78 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 1.34 - 1.26 (m, 2H), 1.25 - 1.17 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.3, 158.3, 133.2, 129.3, 125.2, 113.9, 112.1, 54.4, 44.9, 44.1, 42.0, 29.0, 28.5, 22.0; IR (neat) v 2932, 2859, 2833, 1710, 1611, 1510, 1242, 1176, 1033, 824, 542; C16H21INaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 395.0478, 実測値395.0468.
化合物３ｋ
収率：７４％（方法Ａ）、８５％（方法Ｂ−１）、８３％（方法Ｂ−２）、８０％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.98 - 6.94 (m, 2H), 6.78 - 6.74 (m, 2H), 5.23 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 5.18 - 5.16 (m, 1H), 3.31 (s, 3H), 2.76 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.22 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.07 (td, J = 7.1, 1.1 Hz, 2H), 1.79 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 1.36 - 1.23 (m, 4H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.3, 158.3, 134.3, 133.2, 129.3, 116.3, 113.9, 54.4, 44.1, 41.9, 41.0, 28.9, 27.3, 22.2; IR (neat) v 2937, 2834, 1712, 1512, 1245, 1178, 1035, 826; C16H21BrNaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 347.0617, 実測値347.0615.
化合物3l
収率：７５％（方法Ａ）、８６％（方法Ｂ−１）、８６％（方法Ｂ−２）、８１％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.42 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 6.95 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 6.75 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.48 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 3.31 (s, 3H), 2.75 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.19 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.14 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.79 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 1.64 - 1.55 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.3, 158.3, 141.2, 137.3, 133.2, 130.4, 129.3, 113.9, 90.9, 54.4, 44.1, 41.3, 34.2, 28.9, 24.7; IR (neat) v 2940, 2865, 1701, 1510, 1240, 1178, 1028, 1006, 816, 794, 508; C19H22IO2 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 409.0659, 実測値409.0662.
化合物３ｍ
収率：７４％（方法Ａ）、８７％（方法Ｂ−１）、８４％（方法Ｂ−２）、８０％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 7.24 - 7.20 (m, 2H), 6.97 - 6.93 (m, 2H), 6.77 - 6.73 (m, 2H), 6.61 - 6.57 (m, 2H), 3.30 (s, 3H), 2.75 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.19 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.17 - 2.13 (m, 2H), 1.79 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 1.63 - 1.56 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.3, 158.3, 140.6, 133.2, 131.3, 130.1, 129.3, 119.6, 113.9, 54.4, 44.1, 41.3, 34.1, 28.9, 24.7; IR (neat) v 2933, 2834, 1709, 1511, 1242, 1176, 1033, 818, 513; C19H21BrNaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 383.0617, 実測値383.0609.
化合物３ｎ
収率：７２％（方法Ａ）、７６％（方法Ｂ−１）、７４％（方法Ｂ−２）、７０％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.92 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.75 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 3.30 (s, 3H), 3.07 (t, J = 6.3 Hz, 2H), 2.70 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.15 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.90 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 1.69 - 1.61 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 206.7, 158.3, 133.0, 129.2, 113.9, 54.4, 44.1, 44.0, 38.9, 28.8, 26.2; IR (neat) v 2955, 2835, 1712, 1512, 1245, 1178, 1034, 827; C13H17ClNaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 263.0809, 実測値263.0813.
化合物３ｏ
収率：１５％（方法Ａ）、３０％（方法Ｂ−１）、２５％（方法Ｂ−２）、２１％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.94 - 6.90 (m, 2H), 6.78 - 6.73 (m, 2H), 3.30 (s, 3H), 2.92 (t, J = 6.4 Hz, 2H), 2.70 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.14 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.89 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 1.76 - 1.68 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 206.5, 158.3, 133.0, 129.2, 113.9, 54.4, 44.0, 40.2, 33.1, 28.8, 26.3; IR (neat) v 2954, 2934, 1711, 1511, 1243, 1177, 1034, 827, 552, 521; C13H18BrO2 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 285.0485, 実測値285.0478.
化合物３ｐ
収率：２５％（方法Ａ）、３６％（方法Ｂ−１）、３５％（方法Ｂ−２）、３６％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.97 - 6.91 (m, 2H), 6.78 - 6.72 (m, 2H), 3.33 (dd, J = 10.0, 4.2 Hz, 2H), 3.31 (s, 3H), 2.74 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.26 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.03 (t, J = 7.0 Hz, 2H), 1.84 (bs, 1H), 1.65 - 1.57 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 208.9, 158.2, 133.2, 129.3, 113.9, 61.6, 54.4, 44.2, 39.1, 28.9, 26.6; IR (neat) v 3409, 2933, 2835, 1707, 1511, 1242, 1177, 1056, 826, 542, 520; C13H17O2 [M + H-H2O]+について計算されたHRMS (ESI): 205.1233, 実測値205.1219.
化合物３ｑ
収率：７５％（方法Ａ）、８６％（方法Ｂ−１）、８２％（方法Ｂ−２）、７８％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.95 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 6.76 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 3.31 (s, 3H), 2.75 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.21 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.99 (t, J = 7.1 Hz, 2H), 1.82 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 1.56 - 1.49 (m, 2H), 1.29 - 1.22 (m, 2H), 1.09 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.64 (q, J = 7.9 Hz, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.2, 158.3, 133.3, 129.2, 113.9, 108.3, 81.7, 54.4, 44.0, 41.7, 28.9, 28.1, 22.6, 19.6, 7.5, 4.7; IR (neat) v 2951, 2910, 2170, 1713, 1512, 1244, 1035, 825, 723; C22H34NaO2Si [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 381.2220, 実測値381.2208.
化合物１５
収率：７２％（方法Ａ）、７５％（方法Ｂ−１）、７０％（方法Ｃ）；1H NMR (400 MHz, ベンゼン- d6) δ 6.99 - 6.89 (m, 2H), 6.78 - 6.69 (m, 2H), 5.63 (ddt, J = 16.9, 10.3, 6.6 Hz, 1H), 4.94 - 4.84 (m, 2H), 3.27 (s, 3H), 2.73 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.16 (t, J = 7.5 Hz, 4H), 1.90 (t, J = 7.4 Hz, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン- d6) δ 206.7, 158.3, 137.3, 133.2, 129.2, 114.7, 113.9, 54.4, 44.1, 41.5, 28.8, 27.6; C14H19O2 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 219.1380, 実測値219.1387.
化合物１７
収率：７５％（方法Ａ）、８４％（方法Ｂ−１）、７９％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.96 - 6.92 (m, 2H), 6.74 - 6.70 (m, 2H), 5.68 - 5.59 (m, 1H), 4.97 - 4.90 (m, 2H), 3.93 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.28 (s, 3H), 2.80 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.40 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.81 (dd, J = 14.3, 7.3 Hz, 2H), 1.39 - 1.30 (m, 2H), 1.22 - 1.12 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 171.9, 158.3, 138.2, 132.6, 129.2, 114.5, 113.8, 63.8, 54.4, 36.0, 33.2, 30.2, 28.1, 25.1; IR (neat) v 2934, 2859, 1730, 1612, 1512, 1244, 1175, 1035, 823, 544, 520; C16H22NaO3 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 285.1461, 実測値285.1460.
化合物１９／２０
収率：７８％（方法Ａ）、７０％（方法Ｂ−１）、７８％（方法Ｃ）；1H NMR (500 MHz, ベンゼン- d6) δ 7.00 - 6.93 (m, 2H), 6.79 - 6.72 (m, 2H), 5.69 (ddt, J = 16.9, 10.1, 6.7 Hz, 1H), 5.02 - 4.90 (m, 2H), 3.30 (s, 3H), 2.77 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 2.24 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.87 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 1.42 (dt, J = 15.3, 7.3 Hz, 2H), 1.21 - 1.10 (m, 4H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン- d6) δ 207.5, 158.3, 138.4, 133.3, 129.3, 114.4, 113.8, 54.4, 44.1, 42.3, 33.5, 28.9, 28.3, 23.0; IR (neat) v 2933, 2859, 2835, 1710, 1511, 1243, 1176, 1034, 824, 545, 521; C16H22NaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI) : 269.1512, 実測値269.1500.
（Ｒ）−２，４−ジヨード−３−メチルブト−１−エン（７）
化合物７は、文献の手順に従って合成した（例えば、Kim, D.-S.; Dong, C.-G.; Kim, J. T.; Guo, H.; Huang, J.; Tiseni, P. S.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15636 - 15641.を参照）。MP: 20℃; ［α］D 23-19.2 (c 0.5, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.65 - 5.59 (m, 1H), 5.51 (dd, J = 1.8, 0.6 Hz, 1H), 2.73 (dd, J = 10.0, 7.3 Hz, 1H), 2.65 (dd, J = 10.0, 6.0 Hz, 1H), 1.71 - 1.62 (m, 1H), 0.71 (d, J = 6.6 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 126.0, 117.7, 48.2, 20.6, 12.1; IR (neat) v 2966, 2926, 1607, 1370, 1200, 1166, 896, 783, 614, 541; C5H8I2 [M]+について計算されたHRMS (ESI) : 321.8721, 実測値321.8715.
（Ｓ）−２−ブロモ−４−ヨード−３−メチルブト−１−エン（Ｓ−１）
化合物Ｓ−１は、改変された文献の手順に従って合成した（Kim, D.-S.; Dong, C.-G.; Kim, J. T.; Guo, H.; Huang, J.; Tiseni, P. S.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15636 - 15641). ［α］D 23-17.8 (c 1.3, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.21 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 5.15 - 5.13 (m, 1H), 2.83 (dd, J = 10.0, 7.1 Hz, 1H), 2.74 (dd, J = 10.0, 6.0 Hz, 1H), 2.12 - 2.04 (m, 1H), 0.78 (d, J = 6.6 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 137.28, 117.25, 45.98, 19.36, 10.45; IR (neat) v 2971, 2926, 1622, 1372, 1205, 1172, 892, 788, 564; C5H8IBr [M]+について計算されたHRMS (ESI): 273.8849, 実測値273.7850.
（Ｒ）−エチル７−ヨード−６−メチル−４−オキソオクト−７−エノエート（８ａ）
触媒としてのＦｅ（ＴＭＨＤ）３：テフロンコートされた卵型の磁性スタラーバーを備えた、オーヴン乾燥した５００ｍＬの一口フラスコに、鉄（ＩＩＩ）トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）４（４．２３ｇ、６．９９ｍｍｏｌ）、マンガン（５．１１ｇ、９３．２ｍｍｏｌ）、塩化銅（ＩＩ）（６．２６ｇ、４６．６ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（５．９１ｇ、１３９．８ｍｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（５０ｍＬ）を室温で加えた。１，２−ジメトキシエタン（６６ｍＬ）中の（Ｒ）−２，４−ジヨード−３−メチルブト−１−エン（７）（１５．０ｇ、４６．６ｍｍｏｌ）の溶液を、上の一口フラスコ中に加え、エチル４−クロロ−４−オキソブタノエート（６）（２２．９３ｇ、１３９．８ｍｍｏｌ）を反応混合物中に添加した。反応混合物を、０℃まで冷却し、反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（３０ｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、酢酸エチル（１００ｍＬ）で濾過ケーキを洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いで、塩基性アルミナ上でのＥｔＯＡｃ／ヘキサンを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、１１．３２ｇの（Ｒ）−エチル７−ヨード−６−メチル−４−オキソオクト−７−エノエート（８ａ）を、７５％の収率において無色の液体として得た。[α]D 23 -14.8 (c 1.0, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.81 - 5.74 (m, 1H), 5.49 (d, J = 1.7 Hz, 1H), 3.89 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 2.47 - 2.36 (m, 1H), 2.36 - 2.29 (m, 1H), 2.29 - 2.21 (m, 2H), 2.20 - 2.09 (m, 2H), 1.92 (dd, J = 16.8, 7.2 Hz, 1H), 0.91 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 0.84 (d, J = 6.6 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 204.7, 171.9, 124.6, 120.6, 60.0, 48.8, 41.7, 37.3, 27.6, 20.7, 13.8; IR (neat) v 2977, 2931, 1730, 1716, 1408, 1197, 1174, 899; C11H18IO3 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 325.0295, 実測値325.0299.
触媒としてのＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）：グローヴボックス中で、磁性スタラーバーを備えた、オーヴン乾燥した２５０ｍＬの一口フラスコに、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（１．０３ｇ、１．５５ｍｍｏｌ）、マンガン（３．４１ｇ、６２．２ｍｍｏｌ）、塩化銅（ＩＩ）（４．１８ｇ、３１．１ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（３．９５ｇ、９３．３ｍｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（５０ｍＬ）を室温で加えた。１，２−ジメトキシエタン（２８ｍＬ）中の（Ｒ）−２，４−ジヨード−３−メチルブト−１−エン（７）（１０．０ｇ、３１．１ｍｍｏｌ）の溶液を、上の一口フラスコ中に加え、エチル４−クロロ−４−オキソブタノエート（６）（７．６５ｇ、４６．７ｍｍｏｌ）を反応混合物中に添加した。反応混合物をグローヴボックスから取り出し、０℃まで冷却した。反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（１５ｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル（５０ｍＬ）で洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いでシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、７．２４ｇの（Ｒ）−エチル７−ヨード−６−メチル−４−オキソオクト−７−エノエート（８ａ）を、７２％の収率において無色の液体としてを得た。
触媒としてのＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）：グローヴボックス中で、テフロンコートされた磁性スタラーバーを備えた、オーヴン乾燥した１００ｍＬの一口フラスコに、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（８６０ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、マンガン（１．７ｇ、３１．０６ｍｍｏｌ）、塩化銅（ＩＩ）（２．０８ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（１．９７ｇ、４６．５ｍｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（２５ｍＬ）を室温で加えた。１，２−ジメトキシエタン（１５ｍＬ）中の（Ｒ）−２，４−ジヨード−３−メチルブト−１−エン（７）（５．０ｇ、１５．５ｍｍｏｌ）の溶液を、上の一口フラスコ中に加え、エチル４−クロロ−４−オキソブタノエート（６）（３．８ｇ、２３．２ｍｍｏｌ）を反応混合物中に添加した。反応混合物をグローヴボックスから取り出し、０℃まで冷却した。反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（５ｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル(50mL）で洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いでシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、４．０２ｇの（Ｒ）−エチル７−ヨード−６−メチル−４−オキソオクト−７−エノエート（８ａ）を、８０％の収率において無色の液体として得た。
（Ｒ）−エチル７−ブロモ−６−メチル−４−オキソオクト−７−エノエート（Ｓ−２）
化合物Ｓ−２は、８ａについての手順に従って、（Ｓ）−２−ブロモ−４−ヨード−３−メチルブト−１−エン（Ｓ−１）を出発材料として用いて、７６％の収率において合成した。[α]D 23 −6.4 (c 0.52, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 5.28 - 5.25 (m, 1H), 5.19 - 5.16 (m, 1H), 3.88 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 2.93 - 2.85 (m, 1H), 2.41 - 2.33 (m, 2H), 2.29 - 2.21 (m, 1H), 2.20 - 2.06 (m, 2H), 1.98 (dd, J = 16.9, 7.5 Hz, 1H), 0.94 - 0.88 (m, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 204.95, 171.89, 139.95, 115.87, 60.03, 47.49, 39.31, 37.18, 27.60, 19.34, 13.83; IR (neat) v 2974, 2929, 1729, 1714, 1408, 1189, 1172, 898; C11H17BrNaO3 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 299.0253, 実測値299.0261.
Ｃ２０−Ｃ２６フラグメントへのさらなる経路
ジクロロメタン（２５８ｍＬ）中の、J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15636-15641のSupporting Informationにおいて記述された合成方法により得られた出発材料の溶液（２５．８ｇ、０．１２１ｍｏｌ）に、１０℃未満で、Ｎ２雰囲気下において、Ｅｔ３Ｎ（５０．８ｍＬ、０．３６４ｍｏｌ）を添加し、その後、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルクロリド（４６．６ｇ、０．１８２ｍｏｌ）を添加した。室温で８時間にわたり撹拌した後、混合物を、１０〜１５℃において５％のＮａＣｌ水溶液（１３０ｍＬ）でクエンチし、二相の混合物を得た。分離した有機層を、５％のＮａＣｌ水溶液／５ＮのＨＣｌ＝２．５／１（ｗ／ｗ）の混合物、５％のＮａＨＣＯ３水溶液および５％のＮａＣｌ水溶液で連続的に洗浄した。有機層を、減圧下において濃縮して、粗材料を得た。この粗材料を、２６℃で１−プロパノール（２０９ｍＬ）中に溶解し、１５℃まで冷却し、その後、種晶（５２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を添加した。この混合物に、１−プロパノール／水＝１／３（ｖ／ｖ）（４１９ｍＬ）を１０〜１４℃で滴加し、０℃まで冷却し、生じた混合物を、４時間にわたり撹拌した。生じた懸濁液を濾過し、１−プロパノール／水＝１／２（ｖ／ｖ）でリンスした。回収した固体を、室温で減圧下において乾燥させて、所望される化合物（５１．３ｇ、０．１１９ｍｏｌ、９８％）を得た。
1H-NMR (500MHz, CDCl3) δ ppm 1.01 (d, J=6.7 Hz, 3H), 2.35 (tq, J=6.7 Hz, 1H), 3.91 (d, J=6.7 Hz, 2H), 5.82 (d, J=1.8 Hz, 1H), 6.21 (s, 1H), 7.65-7.75 (m, 2H), 7.75-7.83 (m, 2H).
アセトン（１５０ｍＬ）中の出発材料（５０．０ｇ、０．１１６ｍｏｌ）の溶液に、ＮａＩ（５２．２ｇ、０．３４８ｍｏｌ）を室温でＮ２雰囲気下において添加し、生じた混合物を４５℃まで加熱した。２５時間にわたり撹拌した後、混合物を室温まで冷却し、その後ｎ−ヘキサン（５００ｍＬ）および水（２５０ｍＬ）を添加して、二相の混合物を得た。分離した有機層を、５％のＮａＨＣＯ３水溶液、１０％のＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液および水で、連続的に洗浄した。有機層を、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、Celite（登録商標）パッド通して濾過した。濾過溶液を、減圧下において１０〜１５℃で濃縮し、粗ヨウ化物を得、これを減圧下において蒸留により精製して（槽温度：８６〜９４℃、沸点：０．７５ｍｍＨｇで６３〜６４℃）、純粋なヨウ化物（２２．９ｇ、０．０７１ｍｏｌ、６１％）を橙色のオイルとして得た。
1H-NMR (500MHz, CDCl3) δ ppm 1.17 (d, J=6.7 Hz, 3H), 2.24 (tq, J=6.6 Hz, 1H), 3.14-3.20 (m, 2H), 5.86 (d, J=1.8 Hz, 1H), 6.20 (s, 1H).
Ｎ２雰囲気下において、グローヴボックス中で、ＬｉＣｌ（１．９８ｇ、４６．６ｍｍｏｌ）、ＣｕＣｌ２（０．４１８ｇ、３．１１ｍｍｏｌ）、Ｍｎ（１．７１ｇ、３１．１ｍｍｏｌ）およびＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）（０．５１４ｇ、０．７７７ｍｍｏｌ）を、スクリューキャップを有するバイアル中に加えた。バイアルをグローヴボックスから取り出した後で、混合物を、速やかにＮ２を満たした別のフラスコに移した。フラスコをＮ２で洗浄した後で、４℃まで冷却し、無水ＤＭＥ（１５ｍＬ）を添加し、その後、無水ＤＭＥ（２０ｍＬ）中のヨウ化物（５．００ｇ、１５．５ｍｍｏｌ）の溶液を、１２℃未満で、撹拌せずに添加した。この混合物に、酸塩化物（３．４４ｍＬ、２８．０ｍｍｏｌ）を撹拌することなく１１℃未満で滴加した。２２時間にわたり４℃で撹拌した後、混合物に、１０℃未満でＭＴＢＥ（７５ｍＬ）を添加し、その後２０％のクエン酸水溶液（５０ｍＬ）を添加した。３０分間にわたり室温で撹拌した後、混合物を、Celite（登録商標）パッドに通し、残渣をＭＴＢＥでリンスした。生じた二相の混合物を分離し、水層をＭＴＢＥで２回抽出した。組み合わせた有機層を、５％のＮａＨＣＯ３水溶液で乾燥させ、有機層を、減圧下において濃縮して粗い黄色のオイルを得、これをさらなる精製なしで次のステップにおいて用いた。
ＭｅＣＮ（４７ｍＬ）中の、前のステップからの粗生成物（粗生成物のいくつかのバッチを組みあわせて、３７．３ｍｍｏｌとして計算した）の撹拌溶液に、トリメチルオルトギ酸エステル（６．１２ｍＬ、５６．０ｍｍｏｌ）および２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（１９．４ｇ、１８７ｍｍｏｌ）と、その後ｐ−ＴｓＯＨ水和物（０．１４２ｇ、０．７４６ｍｍｏｌ）を、室温で添加した。室温で２０時間にわたり撹拌した後、混合物を５℃未満まで冷却し、ｎ−ヘプタン（１７５ｍＬ）で希釈し、その後、５％のＮａＨＣＯ３水溶液（５８ｍＬ）を添加して、二相の混合物を得た。有機層を分離し、水層をｎ−ヘプタンで２回抽出した。組み合わせた有機層を、水および５％のＮａＣｌ水溶液で連続的に洗浄した。有機層を中性のシリカゲルパッドに通した（７０ｇ、溶離液：ｎ−ヘプタン中、０％、１．３％、２％、次いで５％のＥｔＯＡｃ）。回収した画分を、減圧下において濃縮して、淡黄色のオイルを得た。この混合物を、室温でＭｅＯＨ／水＝１０／１（ｖ／ｖ）（６６ｍＬ）中に溶解し、１０〜１２℃まで冷却した。この混合物に、種晶を添加し、さらに４℃まで冷却し、その後、ＭｅＯＨ／水＝３／５（ｖ／ｖ）（５７ｍＬ）を滴加した。４℃で１９時間にわたり撹拌した後、懸濁液を濾過し、冷たいＭｅＯＨ／水＝２／１（ｖ／ｖ）（６１ｍＬ）でリンスした。回収した固体を、室温で減圧下において乾燥させ、所望される化合物（１２．１ｇ、３０．５ｍｍｏｌ、８２％（２ステップにおいて６５％））を、白色固体として得た。
1H-NMR (500MHz, C6D6) δ ppm 0.66 (s, 3H), 0.71 (s, 3H), 1.05 (d, J=6.7 Hz, 3H), 1.60 (dd, J=15.0, 5.8 Hz, 1H), 1.97 (dd, J=14.7, 5.5 Hz, 1H), 2.27-2.07 (m, 3H), 2.54 (ddd, J=9.2, 6.7, 2.4 Hz, 2H), 3.32-3.20 (m, 4H), 3.37 (s, 3H), 5.54 (d, J=1.8 Hz, 1H), 5.87 (s, 1H).
二ヨウ化物１０の合成
化合物Ｓ−４
３−（トリエチルシリル）プロピオルアルデヒド（例えば、McGee, P.; Bellavance, G.; Korobkov, I.; Tarasewicz, A.; Barriault, L. Chem. Eur. J. 2015, 21, 9662-9665を参照）の１，４−ジオキサン溶液（３０ｍＬ、１Ｍ）に、Ｓ−３（５．０ｇ、２９．７ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−２−［ビス（３，５−ビス−トリフルオロメチル−フェニル）ヒドロキシメチル］ピロリジンＬ１（例えば、Hayashi, Y.; Kojima, M.; Yasui, Y.; Kanda, Y.; Mukaiyama, T.; Shomura, H.; Nakamura, D.; Ritmaleni, Sato, I. Chem Cat Chem 2013, 5, 2887 -2892を参照）（１．５６ｇ、２．９７ｍｍｏｌ）、Ｈ２Ｏ（１．６ｍＬ、８９．１ｍｍｏｌ）およびプロパナール（４．３ｍＬ、５９．５ｍｍｏｌ）を室温でを添加した。反応混合物を８時間にわたり室温で撹拌した後、ＮａＢＨ４（２．４７ｇ、６５．３ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。反応混合物を室温で１時間にわたり撹拌した後、緩衝液（ｐＨ＝７．０）の添加により反応をクエンチした。有機材料を酢酸エチル（３×５０ｍＬ）で抽出し、抽出物を水および鹹水で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、真空下において濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物の１Ｈ ＮＭＲにより、ｓｙｎ／ａｎｔｉ比が８．９：１であることが明らかとなった。粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、純粋なアンチ異性体Ｓ−４を粘性の液体として得た（５．０５ｇ、７４％）。[α]D 23 + 5.0 (c 2.5, CHCl3); 1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.25 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 3.57 (dd, J = 10.8, 4.1 Hz, 1H), 3.38 (dd, J = 10.7, 6.9 Hz, 1H), 2.71 (bs, 1H), 2.05 (bs, 1H), 1.85 - 1.76 (m, 1H), 1.02 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.91 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 0.58 (q, J = 7.9 Hz, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 107.9, 86.7, 66.6, 65.7, 41.4, 12.8, 7.4, 4.4; IR (neat) v 3316, 2955, 2875, 2170, 1457, 1279, 1004, 977, 697; C12H24NaO2Si [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 251.1438, 実測値251.1432.
化合物Ｓ−５
ＭｅＯＨ／ＴＨＦ（１：１、７０ｍＬ）中の（２Ｓ，３Ｓ）−２−メチル−５−（トリエチルシリル）ペンタ−４−イエン−１，３−ジオールＳ−４（５．０ｇ、２１．９１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（６．０５ｇ、４３．８２ｍｍｏｌ）を添加し、反応を室温で１５時間にわたり撹拌した。完了後、反応混合物をヘキサン（１００ｍＬ）で希釈し、Celiteのパッドを通して濾過した。固体を酢酸エチル（１００ｍＬ）で洗浄した。濾過物を真空下において濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、ジオールＳ−５を粘性の液体として得た（２．３４ｇ、９３％）。[α]D 23 - 0.7 (c 0.2, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.13 (ddd, J = 6.9, 5.2, 2.1 Hz, 1H), 3.49 - 3.44 (m, 1H), 3.30 - 3.21 (m, 1H), 2.21 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 2.03 - 1.98 (m, 1H), 1.77 - 1.65 (m, 1H), 1.39 - 1.34 (m, 1H), 0.83 (dd, J = 7.0, 1.2 Hz, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 83.95, 73.23, 65.96, 65.48, 41.06, 12.52; IR (neat) v 3289, 2966, 2934, 1457, 1381, 1025, 64; C6H10NaO2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 137.0573, 実測値137.0565.
化合物Ｓ−６
ＣＨ２Ｃｌ２（６６ｍＬ）中の１，３−ジオールＳ−５（２．３ｇ、２０．０３ｍｍｏｌ）撹拌溶液に、ＴＢＳ−Ｃｌ（９．０１ｇ、６０．０９ｍｍｏｌ）、イミダゾール（５．４５ｇ、８０．１２ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（２４４ｍｇ、２．０１ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。生じた溶液を、室温で１０時間にわたり撹拌した。次いで、反応を水（１００ｍＬ）で希釈し、二層を分離し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（２×５０ｍＬ）で洗浄した。組み合わせた有機層を鹹水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、真空下において濃縮した。粗残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、６．８５ｇのジ−ＴＢＳ生成物Ｓ−６を９５％の収率において得た。[α]D 23 - 13.9 (c 2.04, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.64 (ddd, J = 6.0, 2.2, 1.0 Hz, 1H), 3.59 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 2.05 - 1.96 (m, 2H), 1.07 (dd, J = 6.9, 0.8 Hz, 3H), 0.98 (d, J = 0.9 Hz, 9H), 0.94 (d, J = 0.9 Hz, 9H), 0.21 (s, 3H), 0.13 (s, 3H), 0.03 (s, 3H), 0.03 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 83.7, 73.3, 64.3, 42.9, 25.7, 25.7, 18.1, 18.1, 11.7, -4.7, -5.4, -5.6, -5.7; IR (neat) v 2929, 2857, 1463, 1251, 1077, 833, 773; C18H38NaO2Si2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 365.2305, 実測値365.2999.
化合物Ｓ−７
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＺｒＣｐ２Ｃｌ２（８．７１ｍｇ、２９．８１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＩＢＡＬ−Ｈの溶液（ヘキサン中１．０Ｍ、２５．８６ｍＬ、２５．８３ｍｍｏｌ）を０℃でアルゴン下においてゆっくりと添加した。生じた懸濁液を室温で２時間にわたり撹拌した。反応混合物を、０℃まで冷却し、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のアセチレンＳ−６（６．８ｇ、１９．８７ｍｍｏｌ）の溶液。混合物を室温まで加温し、均一な溶液がもたらされるまで撹拌し（ｃａ．２時間）、次いで、−７８℃まで冷却し、その後、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＩ２（７．５５ｇ、２９．８１ｍｍｏｌ）を添加した。３０分後、−７８℃において、反応混合物の温度をＲＴまで上昇させ、２時間にわたり撹拌した。反応混合物を１ＮのＨＣｌでクエンチし、エーテルで抽出し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３、ＮａＨＣＯ３および鹹水で連続的に洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。シリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーにより、表題の化合物ヨウ化ビニルＳ−７を透明なオイルとして得た（６．５３ｇ、７０％）。[α]D 23 - 10.2 (c 1.89, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.53 (dd, J = 14.5, 7.0 Hz, 1H), 6.09 (dd, J = 14.5, 1.1 Hz, 1H), 4.07 - 4.04 (m, 1H), 3.47 (dd, J = 10.0, 5.4 Hz, 1H), 3.41 (dd, J = 10.0, 6.4 Hz, 1H), 1.74 - 1.64 (m, 1H), 0.94 (s, 9H), 0.91 (s, 9H), 0.76 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 0.01 (s, 3H), 0.01 (s, 3H), 0.00 (s, 3H), -0.01 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 147.3, 76.5, 76.3, 64.2, 42.1, 25.8, 25.6, 18.1, 18.0, 11.9, -4.6, -5.3, -5.6, -5.7; IR (neat) v 2954, 2928, 2856, 1471, 1251, 1098, 831, 772, 668; C18H39INaO2Si2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 493.1425, 実測値493.1416.
化合物Ｓ−８
４−トルエンスルホン酸（２３８ｍｇ、１０ｍｏｌ％）を、ＭｅＯＨ（４５ｍＬ）中のＳ−６（６．５ｇ、１３．８２ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃で添加した。反応混合物を、この温度で１時間にわたり撹拌し、次いで、Ｅｔ３Ｎ（２ｍＬ）でクエンチし、３０分間にわたり撹拌した。次いで、反応混合物を真空下において濃縮し、粗残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、純粋なアルコールＳ−８（４．１８ｇ）を、透明な液体として、８５％の収率において得た。[α]D 23 -34.2 (c 4.53, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.43 - 6.37 (m, 1H), 6.01 - 5.97 (m, 1H), 3.81 (dd, J = 85.9, 5.9 Hz, 1H), 3.41 - 3.35 (m, 1H), 3.28 - 3.23 (m, 1H), 1.52 - 1.43 (m, 1H), 1.20 (t, J = 5.3 Hz, 1H), 0.87 (s, 9H), 0.67 (d, J = 7.0 Hz, 3H), -0.05 (s, 3H), -0.07 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 147.5, 78.1, 76.8, 64.3, 41.1, 25.6, 17.9, 12.5, -4.7, -5.3; IR (neat) v 2954, 2928, 2856, 1462, 1252, 1067, 1027, 833, 774, 674; C12H25INaO2Si [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 379.0561, 実測値379.0543.
化合物１０
ＣＨ２Ｃｌ２（４０ｍＬ）中の一級アルコールＳ−８（４．１ｇ、１１．５１ｍｍｏｌ）の溶液に、トリフェニルホスフィン（３．６２ｇ、１３．８１ｍｍｏｌ）およびイミダゾール（１．１７ｇ、１７．２６ｍｍｏｌ）を連続的に添加した。完全に溶解した後で、混合物を０℃まで冷却し、ヨウ素（３．７９ｇ、１４．９６ｍｍｏｌ）を添加した。０℃で３０分後、混合物を室温まで加温し、８時間にわたり撹拌した。溶媒を真空下で除去し、粗生成物をシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーにより精製し、二ヨウ化物１０（４．８２ｇ、９０％）を無色のオイルとして得た[α]20 D = -1.1 (c 1.77, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.21 (dd, J = 14.5, 7.7 Hz, 1H), 5.89 (dd, J = 14.5, 0.8 Hz, 1H), 3.63 (t, J = 6.8 Hz, 1H), 3.00 (dd, J = 9.7, 5.6 Hz, 1H), 2.79 (dd, J = 9.7, 4.7 Hz, 1H), 1.12 - 1.04 (m, 1H), 0.87 (s, 9H), 0.61 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.00 (s, 3H), -0.05 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 146.4, 78.4, 78.1, 40.1, 25.6, 17.9, 16.1, 12.8, -4.5, -5.0; IR (neat) v 2954, 2927, 2855, 1470, 1250, 1080, 1064, 833, 774; C12H25I2OSi [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 466.9759, 実測値466.9750.
９ａおよび９ｂの合成
化合物Ｓ−８
ＤＩＢＡＬ−Ｈ（ヘキサン中１．０Ｍ、３．８ｍＬ、３．７９ｍｍｏｌ）を、ＣＨ２Ｃｌ２（１４ｍＬ）中のラクトンＳ−７の溶液に、−７８℃で、アルゴン雰囲気下において滴加した。反応混合物を、−７８℃で１時間にわたり撹拌し、メタノール（０．２ｍＬ）でクエンチし、その後、酒石酸ナトリウムカリウム溶液（１０ｍＬ）を添加し、生じた溶液を、室温で１時間にわたり撹拌した。有機層を分離し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（２×５０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機層を水および鹹水で洗浄し、次いで乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過し、濃縮して、ラクタル（lactal）を、無色の液体として、定量的な収率において得た。粗生成物を、さらなる精製なしで次の反応に直接用いた。
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のメチルトリフェニルホスホニウムブロミド（４．１７ｇ、１１．６８ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＫｔ−ＯＢｕ（９８２ｍｇ、８．７６ｍｍｏｌ）を添加し、生じた橙色の懸濁液を、室温で１時間にわたり撹拌した。ＴＨＦ（４ｍＬ）中の上で調製したラクタルの溶液を、シリンジを介して、１０分間の期間をかけて０℃で滴加し、懸濁液を、１時間にわたりＲＴで撹拌した。ＮＨ４Ｃｌの飽和水溶液（１０ｍＬ）を添加し、その後、二相の混合物をＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機層を乾燥させ（ＭｇＳＯ４）、濾過し、減圧下において濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、オレフィンＳ−８（９４８ｍｇ、２ステップにわたり９５％）を無色の液体として生じた。[α]D23 -40.5 (c 1.26, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.21 - 6.12 (m, 1H), 5.15 (dt, J = 17.3, 1.7 Hz, 1H), 5.11 (ddd, J = 10.4, 1.9, 1.2 Hz, 1H), 4.10 (dd, J = 12.3, 1.3 Hz, 1H), 3.91 - 3.89 (m, 1H), 3.80 (dd, J = 12.3, 2.9 Hz, 1H), 3.70 (d, J = 10.7 Hz, 1H), 3.58 - 3.53 (m, 1H), 3.02 - 2.93 (m, 1H), 2.71 (dd, J = 9.5, 1.3 Hz, 1H), 2.61 - 2.59 (m, 1H), 2.15 (dt, J = 14.6, 3.0 Hz, 1H), 1.16 (s, 9H), 1.12 (m, 1H), 1.05 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.02 (s, 9H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 142.3, 113.2, 85.1, 76.1, 69.3, 68.3, 63.9, 38.2, 36.6, 27.6, 27.2, 23.0, 20.2, 14.6; IR (neat) v 3504, 2966, 2933, 1473, 1133, 1092, 949, 825, 736; C18H35O4Si [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 343.2299, 実測値343.2285.
化合物Ｓ−９
ＣＨ２Ｃｌ２（１４ｍＬ）中のアルコールＳ−８（９４８ｍｇ、２．７６ｍｍｏｌ）の溶液に、室温でイミダゾール（４７０ｍｇ、６．９ｍｍｏｌ）を添加し、その後ＴＥＳ−Ｃｌ（０．７ｍＬ、４．１５ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を、室温で１２時間にわたり撹拌した。反応の完了後、メタノール（１ｍＬ）を添加し、透明かつ無色の溶液を、１０分間にわたり撹拌した。全ての揮発性物質を取り除き、生じた粗残渣を高圧化において乾燥させ、さらなる精製なしで次のステップにおいて用いた。
９−ＢＢＮ（ＴＨＦ中０．５Ｍ、８．２７ｍＬ、４．１４ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（１４ｍＬ）中の上で調製した粗残渣の溶液に０℃で滴加した。透明かつ無色の溶液を、室温で２時間にわたり撹拌した。この時点において、ＴＬＣ分析は、出発材料の完全な消費を示した。溶液を０℃まで冷却し、水（８．３ｍＬ）を添加し（気体発生！）、その後、過ほう酸ナトリウム４水和物（２．４７ｇ、２４．８４ｍｍｏｌ）を添加した。白色の懸濁液を室温まで加温させ、２時間にわたり撹拌した。白色の懸濁液を濾過し、ＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）で洗浄した。有機層を水（２０ｍＬ）で希釈した。層を分離し、水相を、２０ｍＬの酢酸エチルのポーションで３回抽出した。組み合わせた有機相を、水、鹹水で洗浄し、濾過して濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して、一級アルコールＳ−９（１．２１ｇ、２ステップにわたり９２％）を、粘性の液体として得た。[α]D 23 + 4.1 (c 1.16, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6): δ 4.18 (dd, J = 12.4, 1.5 Hz, 1H), 3.94 (dd, J = 12.4, 2.5 Hz, 1H), 3.89 - 3.86 (m, 1H), 3.72 - 3.60 (m, 2H), 3.57 - 3.52 (m, 1H), 2.64 - 2.59 (m, 2H), 2.25 - 2.13 (m, 1H), 2.03 (dt, J = 14.9, 2.5 Hz, 1H), 1.93 - 1.83 (m, 1H), 1.70 (br. s, 1H), 1.54 - 1.45 (m, 1H), 1.28 (s, 9H), 1.19 (dt, J = 14.8, 3.9 Hz, 1H), 1.11 (s, 9H), 1.05 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 0.81 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.76 - 0.61 (m, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 86.0, 76.9, 67.8, 67.6, 63.7, 61.4, 38.4, 37.5, 31.2, 27.7, 27.3, 23.2, 20.6, 16.7, 7.0, 5.2; IR (neat) v 2953, 2933, 2875, 1473, 1156, 1106, 1034, 926, 827, 800, 736, 441; C24H50NaO5Si2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 497.3089, 実測値497.3070.
化合物Ｓ−１０
ＮａＨＣＯ３（１．０７ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）およびＤＭＰ（１．６２ｇ、３．８２ｍｍｏｌ）を、ＣＨ２Ｃｌ２（１３ｍＬ）中のアルコールＳ−９（１．２１ｇ、２．５４ｍｍｏｌ）の溶液に、室温で添加した。反応混合物を２時間にわたり撹拌し、その後、ハイポ水溶液（２０ｍＬ）を添加した。層を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（３×１０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機相を水、鹹水で洗浄し、濾過して濃縮し、フラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、粗アルデヒド（１．１５ｇ）を得、さらなる精製なしで次のステップにおいて用いた。
Ｈ２Ｏ（２．０ｍＬ）中のＮａＣｌＯ２（５４９ｍｇ、６．０８ｍｍｏｌ）およびＮａＨ２ＰＯ４（１．０ｇ、７．２９ｍｍｏｌ）の溶液を、ｔ−ＢｕＯＨ（１０ｍＬ）および２−メチル−２−ブテン（１．７ｍＬ）中のアルデヒドの溶液に、０℃で添加した。１時間にわたり撹拌した後、ｐＨ７緩衝液（８ｍＬ）の添加により、反応をクエンチした。混合物をＣＨ２Ｃｌ２（３×１５ｍＬ）で抽出し、組み合わせた有機抽出物を鹹水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過して濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、酸Ｓ−１０（１．１２ｇ）を９０％の収率において生じた。[α]D 23 - 1.8 (c 1.17, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6): δ 4.19 (dd, J = 12.3, 1.5 Hz, 1H), 3.95 (dd, J = 12.3, 2.6 Hz, 1H), 3.91 - 3.86 (m, 1H), 3.54 - 3.49 (m, 1H), 2.72 (dd, J = 9.2, 1.8 Hz, 1H), 2.68 (dd, J = 15.3, 5.2 Hz, 1H), 2.66 - 2.64 (m, 1H), 2.63 - 2.56 (m, 1H), 2.33 (dd, J = 15.3, 7.2 Hz, 1H), 2.01 (dt, J = 14.9, 2.4 Hz, 1H), 1.28 (s, 9H), 1.19 (dt, J = 14.9, 4.0 Hz, 1H), 1.11 (s, 9H), 1.04 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 0.90 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.75 - 0.59 (m, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 179.9, 84.6, 76.9, 67.7, 67.5, 63.6, 38.4, 38.1, 30.8, 27.7, 27.3, 23.2, 20.6, 16.0, 6.9, 5.2; IR (neat) v 2954, 2934, 2875, 1705, 1473, 1155, 1106, 1034, 927, 826, 736, 441; C24H48NaO6Si2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 511.2882, 実測値511.2875.
化合物９ａ
ＣＨ２Ｃｌ２（０．５ｍＬ）中の酸Ｓ−１０（６０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ＤＴＢＭＰ（４０ｍｇ、０．１８）の溶液を、塩化オキサリル（３０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）に０℃で添加し、同じ温度で２時間にわたり撹拌した。次いで、全ての揮発物を、真空下において取り除いた。残渣をベンゼン（２ｍＬ）で希釈し、小さいCeliteのパッドに通した。固体をベンゼン（５ｍＬ）で洗浄し、真空下において濃縮し、高真空下において１時間にわたり乾燥させて、酸塩化物９ａを淡黄色液体として得た。生じた生成物を、さらなる精製なしで次のステップにおいて用いた。1H NMR (400 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.13 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 3.89 (dd, J = 12.4, 2.5 Hz, 1H), 3.84 - 3.79 (m, 1H), 3.39 - 3.33 (m, 1H), 2.98 (dd, J = 16.6, 4.2 Hz, 1H), 2.67 - 2.54 (m, 2H), 2.54 - 2.44 (m, 2H), 2.00 - 1.90 (m, 3H), 1.25 (s, 8H), 1.09 (s, 9H), 1.00 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.74 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.69 - 0.53 (m, 7H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 172.83, 83.56, 76.96, 67.59, 67.32, 63.52, 50.42, 38.16, 31.61, 27.69, 27.29, 27.21, 23.17, 20.58, 15.50, 6.88, 5.06; IR (neat) v 2954, 2934, 2875, 1707, 1419, 1155, 1105, 1034, 927, 828, 771, 419; ESI-MS (M-Cl+OMe) 525.3026.
化合物９ｂ
ＣＨ２Ｃｌ２（１２ｍＬ）中に溶解した酸Ｓ−１０（１．１２ｇ、２．２９ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（９００ｍｇ、３．４３ｍｍｏｌ）および２，２’−ジピリジルジスルフィド（６０５ｍｇ、２．７５ｍｍｏｌ）の溶液を、Ｎ２下においてＲＴで１５時間にわたり撹拌した。反応混合物を黄色のオイルになるまで濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、表題の化合物９ｂを白色固体として得た（１．０９ｍｇ、８２％）。[α]D 23 - 26.5 (c 1.97, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 8.33 - 8.28 (m, 1H), 7.63 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 6.98 (td, J = 7.7, 2.0 Hz, 1H), 6.45 (ddd, J = 7.5, 4.8, 1.1 Hz, 1H), 4.35 - 4.25 (m, 1H), 3.95 (dd, J = 12.3, 2.6 Hz, 1H), 3.91 - 3.86 (m, 1H), 3.52 - 3.45 (m, 1H), 2.89 (dd, J = 14.2, 3.5 Hz, 1H), 2.76 - 2.61 (m, 4H), 2.04 - 1.97 (m, 1H), 1.30 (s, 9H), 1.17 (dt, J = 14.7, 4.0 Hz, 1H), 1.12 (s, 9H), 1.05 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.91 (d, J = 6.0 Hz, 3H), 0.77 - 0.58 (m, 6H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 194.9, 153.0, 149.9, 136.0, 129.6, 122.5, 84.2, 76.9, 67.7, 67.6, 63.5, 47.5, 38.3, 31.8, 27.7, 27.3, 23.2, 20.6, 15.8, 7.0, 5.1; IR (neat) v 2954, 2934, 2875, 1707, 1419, 1155, 1105, 1034, 927, 828, 771, 419; C29H51NNaO5SSi2 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 604.2919, 実測値604.2905.
化合物１１
酸塩化物９ａを用いる：オーヴン乾燥した２ｍＬのバイアルに、１，２−ジメトキシエタン（０．３ｍＬ）中のＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（５．６ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、マンガン（１１．２ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）、塩化銅（ＩＩ）（１３．８０ｍｇ、０．１０２ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（１３ｍｇ、０．３０６ｍｍｏｌ）、二ヨウ化物１０（５７ｍｇ、０．１２２）および酸塩化物９ａ（５２ｍｇ、０．１０２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物をグローヴボックスから取り出し、０℃まで冷却した。反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（１０ｍｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いで調製ＴＬＣにより精製して、２０．８ｍｇ（２５％）のケトン１１を粘性の無色の液体として得た。上の手順に従って、ラジカル開始剤としてＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）の存在下においてケトンカップリングを行い、２０％の生成物を得た。
チオエステル９ｂを用いる：オーヴン乾燥した１００ｍＬの一口フラスコに、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（７１ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）、マンガン（１４０ｍｇ、２．５６ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（２４３ｍｇ、１．２８ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（１６２ｍｇ、３．８４ｍｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（４．０ｍＬ）を室温で加えた。１，２−ジメトキシエタン（２．５ｍＬ）中のチオエステル９ｂ（６００ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ）および二ヨウ化物１０（５７８ｍｇ、１．２４ｍｍｏｌ）の溶液を、上の一口フラスコに加えた。反応混合物をグローヴボックスから取り出し、０℃まで冷却した。反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（３ｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル（２０ｍＬ）で洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いでシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、５９３ｍｇ（７１％）のケトン１１を粘性の無色の液体として得た。[α]D 23 - 29.3 (c 4.8, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.39 (dd, J = 14.4, 6.2 Hz, 1H), 6.08 (dd, J = 14.4, 1.1 Hz, 1H), 4.13 (dd, J = 12.4, 1.6 Hz, 1H), 3.96 (dd, J = 12.3, 2.5 Hz, 1H), 3.92 - 3.87 (m, 1H), 3.81 - 3.78 (m, 1H), 3.56 - 3.52 (m, 1H), 2.81 - 2.73 (m, 2H), 2.63 - 2.65 (m, 1H), 2.59 - 2.50 (m, 1H), 2.36 (dd, J = 16.7, 4.3 Hz, 1H), 2.26 - 2.18 (m, 2H), 2.12 (dd, J = 16.7, 8.6 Hz, 1H), 2.01 (dt, J = 14.9, 2.4 Hz, 1H), 1.27 (s, 9H), 1.22 (dt, J = 14.7, 3.9 Hz, 1H), 1.10 (s, 9H), 1.04 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 0.93 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.89 (s, 9H), 0.85 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.74 - 0.59 (m, 6H) -0.01 (s, 3H), -0.04 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, ベンゼン-d6) δ 208.2, 147.2, 84.5, 78.4, 76.9, 76.6, 67.8, 67.6, 63.9, 46.7, 44.6, 38.4, 34.7, 30.4, 27.7, 27.3, 25.7, 25.7, 23.2, 20.7, 18.0, 16.5, 15.5, 7.0, 5.1, -4.7, -5.2; IR (neat) v 2954, 2932, 2875, 1709, 1472, 1161, 1105, 1007, 927, 827, 772, 737, 441; C36H71INaO6Si3 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 833.3495, 実測値833.3465.
チオエステル１２の合成
化合物Ｓ−１４
ＣＨ２Ｃｌ２（２ｍＬ）中のジオールＳ−１３（４００ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＴＥＳ−Ｃｌ（３１１ｍｇ、２．０７ｍｍｏｌ）、イミダゾール（２３４ｍｇ、３．４５ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。生じた溶液を、室温で１５時間にわたり撹拌した。次いで、反応を水で希釈し（１０ｍＬ）、２つの層を分離し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（３×１０ｍＬ）で洗浄した。組み合わせた有機層を鹹水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、真空下において濃縮した。粗残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、５０８ｍｇの表題の生成物Ｓ−１４を、９１％の収率において得た。[α]D 23 +0.6 (c 0.2, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.29 - 4.21 (m, 3H), 4.06 - 4.00 (m, 1H), 3.96 - 3.92 (m, 1H), 3.82 (dd, J = 10.3, 3.0 Hz, 1H), 3.77 - 3.67 (m, 2H), 2.95 (dd, J = 9.1, 3.7 Hz, 1H), 2.35 - 2.26 (m, 1H), 2.20 - 2.11 (m, 1H), 2.01 - 1.94 (m, 1H), 1.94 - 1.87 (m, 1H), 1.77 - 1.69 (m, 1H), 1.60 - 1.50 (m, 2H), 1.22 (s, 9H), 1.12 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 1.07 (s, 9H), 1.02 (s, 9H), 0.96 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.84 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.83 - 0.76 (m, 6H), 0.55 (qd, J = 7.9, 2.0 Hz, 6H), 0.27 (s, 3H), 0.27 (s, 3H), 0.14 (s, 3H), 0.14 (s, 3H); 13C NMR(125 MHz, ベンゼン-d6) δ 177.3, 87.8, 80.9, 72.1, 71.7, 71.0, 67.9, 62.6, 38.5, 38.4, 38.4, 32.5, 29.3, 27.0, 25.9, 18.3, 18.1, 15.9, 7.0, 6.8, 6.7, 6.4, 5.4, 4.9, -4.3, -4.6, -5.4, -5.5; IR (neat) v 2955, 2936, 1730, 1461, 1239, 1075, 1004, 850, 776. 740; C41H88NaO7Si4 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 827.599, 実測値827.5517.
化合物Ｓ−１５
ＤＩＢＡＬ−Ｈ（ヘキサン中１．０Ｍ、１．５５ｍＬ、１．５５ｍｍｏｌ）を、ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）中のラクトンＳ−１４の溶液に、−７８℃でアルゴン雰囲気において滴加した。反応混合物を、−７８℃で１時間にわたり撹拌し、メタノール（０．２ｍＬ）でクエンチし、その後、酒石酸ナトリウムカリウム溶液（１０ｍＬ）を添加した。生じた溶液を、室温で１時間にわたり撹拌した。有機層を分離し、水層をＣＨ２Ｃｌ２（２×２０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機層を水および鹹水で洗浄し、次いで乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過して濃縮し、フラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにより、一級アルコールＳ−１５（４２０ｍｇ、９４％）を透明なオイルとして得た。[α]D 23 +4.3 (c 1.22, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.27 - 4.20 (m, 1H), 4.06 (ddd, J = 7.9, 6.6, 3.7 Hz, 1H), 3.96 (ddd, J = 5.9, 3.6, 1.9 Hz, 1H), 3.86 - 3.79 (m, 2H), 3.72 - 3.68 (m, 2H), 3.64 (ddt, J = 10.6, 7.6, 5.6 Hz, 1H), 3.04 (dd, J = 9.0, 3.6 Hz, 1H), 2.18 (dtd, J = 9.1, 7.0, 4.8 Hz, 1H), 2.06 - 1.96 (m, 2H), 1.92 (ddd, J = 14.1, 8.3, 6.2 Hz, 1H), 1.74 (ddd, J = 14.0, 8.0, 4.7 Hz, 1H), 1.70 (dd, J = 6.1, 5.1 Hz, 1H), 1.64 (ddd, J = 13.5, 6.8, 2.0 Hz, 1H), 1.59 - 1.51 (m, 1H), 1.11 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 1.07 (s, 9H), 1.01 (s, 9H), 0.97 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.87 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.79 (qd, J = 7.9, 1.7 Hz, 6H), 0.56 (qd, J = 7.9, 2.4 Hz, 6H), 0.28 (s, 3H), 0.26 (s, 3H), 0.14 (s, 3H), 0.13 (s, 3H); 13C NMR(125 MHz, ベンゼン-d6) δ 88.0, 80.6, 71.8, 71.7, 70.9, 67.9, 60.8, 38.4, 38.0, 37.6, 30.0, 25.9, 18.3, 18.9, 16.9, 7.0, 6.8, 5.3, 4.9, -4.3, -4.6, -5.5, -5.6; IR (neat) v 2953, 2928, 2877, 1471, 1462, 1250, 1076, 1004, 843, 775, 737. 726; C36H80KO6Si4 [M + K]+について計算されたHRMS (ESI): 759.4664, 実測値759.4690.
化合物Ｓ−１６
ＮａＨＣＯ３（２４３ｍｇ、２．９ｍｍｏｌ）およびDess-Martinペルヨージナン（３７０ｍｇ、０．８７ｍｍｏｌ）を、ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）中のアルコールＳ−１５（４２０ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ）の溶液に０℃で添加した。反応混合物を１時間にわたり撹拌し、その後、ハイポ水溶液（２０ｍＬ）を添加した。層を分離し、水相をＣＨ２Ｃｌ２（３×１０ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機相を水、鹹水で洗浄し、濾過して濃縮し、フラッシュシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、粗アルデヒド（４００ｍｇ）を得、それを、さらなる精製なしで次のステップにおいて用いた。
ＮａＣｌＯ２（１３２ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（０．４ｍＬ、５．８ｍｍｏｌ）およびＮａＨ２ＰＯ４（２４０ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ）の溶液を、ｔ−ＢｕＯＨ（４ｍＬ）およびＨ２Ｏ（１ｍＬ）中のアルデヒドの溶液に０℃で添加した。１時間にわたり撹拌した後、ｐＨ７緩衝液（４ｍＬ）の添加により、反応をクエンチした。混合物をＣＨ２Ｃｌ２（３×１０ｍＬ）で抽出し、組み合わせた有機抽出物を鹹水で洗浄し、乾燥させ（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過して濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、酸Ｓ−１６（３６０ｍｇ）を８４％の収率において生じた。[α]D 23 +14.3 (c 1.7, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 4.25 - 4.19 (m, 1H), 4.03 (ddd, J = 8.2, 6.6, 3.8 Hz, 1H), 3.95 (ddd, J = 6.6, 4.2, 2.7 Hz, 1H), 3.79 (dd, J = 10.3, 3.4 Hz, 1H), 3.76 - 3.68 (m, 2H), 3.08 (dd, J = 8.0, 4.1 Hz, 1H), 3.04 (dd, J = 15.9, 3.2 Hz, 1H), 2.63 - 2.54 (m, 1H), 2.30 (dd, J = 15.9, 9.9 Hz, 1H), 1.99 (ddd, J = 13.8, 8.1, 3.8 Hz, 1H), 1.91 (ddd, J = 13.9, 7.9, 6.3 Hz, 1H), 1.73 (ddd, J = 13.5, 8.2, 4.7 Hz, 1H), 1.60 (ddd, J = 13.4, 7.4, 2.8 Hz, 1H), 1.10 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 1.06 (s, 9H), 1.02 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 1.01 (s, 9H), 0.95 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.78 (qd, J = 7.9, 2.8 Hz, 6H), 0.58 - 0.49 (m, 6H), 0.25 (s, 3H), 0.25 (s, 3H), 0.13 (s, 3H), 0.13 (s, 3H); 13C NMR(125 MHz, ベンゼン-d6) δ 170.0, 86.3, 80.8, 72.0, 71.9, 70.8, 67.8, 38.6, 38.5, 38.1, 29.6, 25.9, 18.3, 18.1, 16.7, 7.0, 6.7, 5.3, 4.8, -4.4, -4.7, -5.5, -5.6; IR (neat) v 2953, 2929, 2877, 1708, 1462, 1250, 1076, 1004, 833, 774, 737; C36H79O7Si4 [M + H]+について計算されたHRMS (ESI): 735.4897, 実測値735.4897.
化合物１２
ＣＨ２Ｃｌ２（２ｍＬ）中に溶解した酸Ｓ−１６（３００ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１６１ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）および２，２’−ジピリジルジスルフィド（９９ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）の溶液をＮ２下において２４時間にわたり撹拌した。反応混合物を黄色のオイルになるまで濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、表題の化合物１２を淡黄色固体として得た（２７０ｍｇ、８０％）。[α]D 23 +16.3 (c 3.1, CHCl3); 1H NMR (600 MHz, ベンゼン-d6) δ 8.26 (ddd, J = 4.8, 2.0, 0.9 Hz, 1H), 7.54 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 6.89 (td, J = 7.7, 1.9 Hz, 1H), 6.40 (ddd, J = 7.6, 4.8, 1.1 Hz, 1H), 4.25 - 4.18 (m, 1H), 4.05 - 3.99 (m, 1H), 3.96 - 3.91 (m, 1H), 3.79 (dd, J = 10.3, 3.3 Hz, 1H), 3.76 - 3.66 (m, 2H), 3.40 (dd, J = 15.0, 2.5 Hz, 1H), 3.06 (dd, J = 7.5, 4.1 Hz, 1H), 2.75 - 2.68 (m, 1H), 2.65 (dd, J = 14.9, 10.3 Hz, 1H), 1.97 (ddd, J = 13.9, 8.2, 3.6 Hz, 1H), 1.89 (ddd, J = 12.8, 7.9, 6.3 Hz, 1H), 1.72 (ddd, J = 13.4, 8.4, 4.7 Hz, 1H), 1.56 (ddd, J = 13.4, 7.4, 2.8 Hz, 1H), 1.12 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 1.06 - 1.03 (s, 12H), 0.99 (s, 9H), 0.94 (t, J = 8.0 Hz, 9H), 0.84 - 0.75 (m, 6H), 0.55 - 0.49 (m, 6H), 0.25 (s, 3H), 0.24 (s, 3H), 0.12 (s, 3H), 0.11 (s, 3H); IR (neat) v 2953, 2929, 2877, 1707, 1471, 1420, 1250, 1080, 1004, 834, 774, 737; C41H81NNaO6SSi4 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 850.4754, 実測値850.4773.
化合物１３
オーヴン乾燥した５０ｍＬの一口フラスコに、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）（８ｍｇ、５ｍｏｌ％）、マンガン（１６．４ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（２８．４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（１９ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）および１，２−ジメトキシエタン（０．５ｍＬ）を室温で加えた。１，２−ジメトキシエタン（０．５ｍＬ）中のチオエステル１２（１００ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）および二ヨウ化物１０（６７ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）の溶液を、上の一口フラスコに加えた。反応混合物をグローヴボックスから取り出し、０℃まで冷却した。反応混合物を、窒素雰囲気下において１５分間にわたり撹拌した。反応が完了した後、フロリジル（１００ｍｇ）を反応混合物に添加し、３０分間にわたり０℃で撹拌した。反応混合物を、Celiteを通して濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル（１０ｍＬ）で洗浄し、減圧下において濃縮して粗生成物を得、これを次いでシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、８２ｍｇ（６４％）のケトン１３を、粘性の無色の液体として得た。[α]D 23 -11.6 (c 1.3, CHCl3); 1H NMR (500 MHz, ベンゼン-d6) δ 6.39 (dd, J = 14.4, 6.2 Hz, 1H), 6.14 - 6.08 (m, 1H), 4.26-4.19 (m, 1H), 4.06 - 4.00 (m, 1H), 4.00 - 3.95 (m, 1H), 3.80 (dd, J = 10.3, 3.3 Hz, 1H), 3.77 - 3.66 (m, 3H), 3.09 (dd, J = 8.1, 3.9 Hz, 1H), 3.00 (dd, J = 16.8, 2.6 Hz, 1H), 2.72 - 2.62 (m, 1H), 2.44 (dd, J = 16.6, 3.9 Hz, 1H), 2.36 - 2.15 (m, 3H), 2.03 - 1.87 (m, 2H), 1.74 (ddd, J = 13.4, 8.5, 4.4 Hz, 1H), 1.57 (ddd, J = 13.5, 7.1, 2.5 Hz, 1H), 1.13 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 1.06 (d, J = 0.8 Hz, 9H), 1.03 - 1.00 (m, 12H), 0.97 (t, J = 7.9 Hz, 9H), 0.91 (s, 9H), 0.88 (d, J = 6.5 Hz, 3H), 0.83 - 0.77 (m, 6H), 0.55 (q, J = 8.1 Hz, 6H), 0.26 (s, 3H), 0.25 (s, 3H), 0.1 (s, 6H), -0.02 (s, 3H), -0.04 (s, 3H); 13C NMR(125 MHz, ベンゼン-d6) δ 207.7, 147.3, 86.9, 80.9, 78.4, 76.6, 72.2, 71.9, 70.9, 67.8, 47.3, 44.8, 38.7, 38.6, 34.5, 28.6, 25.9, 25.7, 18.3, 18.1, 18.0, 17.1, 15.8, 7.1, 6.8, 5.5, 4.9, -4.3, -4.6, -4.7, -5.2, -5.4, -5.5; IR (neat) v 2954, 2928, 2856, 1713, 1471, 1462, 1361, 1252, 1078, 1005, 835, 775, 740; C48H101INaO7Si5 [M + Na]+について計算されたHRMS (ESI): 1079.5336, 実測値1079.5275.
均等物および範囲
請求の範囲において、「a」、「an」、および「the」などの冠詞は、逆であることが示されるか、文脈から別段に明らかでない限りにおいて、１つまたは１つより多いことを意味し得る。群の１つ以上のメンバーの間に「or」を含む請求項または記載は、逆であることが示されるか、文脈から別段に明らかでない限りにおいて、当該群のメンバーのうちの１つ、１つより多く、または全てが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する場合に、満たされると考えられる。本発明は、当該群のうちの正確に１つのメンバーが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する態様を含む。本発明は、当該群のメンバーのうちの１つより多くまたは全てが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する態様を含む。
さらに、本発明は、列記される請求項のうちの１つ以上からの１つ以上の限定、要素、条項、および説明的用語が、別の請求項に導入される、全てのバリエーション、組み合わせおよび順列を包含する。例えば、別の請求項に従属する任意の請求項は、同じ基礎請求項に従属する任意の他の請求項において見出すことができる１つ以上の限定を含むように、改変することができる。要素がリストとして、例えばマーカッシュ群形式において提示される場合、要素の各々のサブグループもまた開示され、任意の要素を、当該群から取り除くことができる。一般的に、本発明または本発明の側面が、特定の要素および／または特徴を含むものとして言及される場合、本発明または本発明の側面のある態様は、かかる要素および／または特徴からなるか、またはこれらから本質的になることが、理解されるべきである。簡略化を目的として、これらの態様は、本明細書においては、文言通りには特に記載されていない。
また、用語「含む（comprising）」および「含む（containing）」は、オープンであり、さらなる要素またはステップの包含を許容することを意図されることに注意する。範囲が示される場合、エンドポイントが含まれる。さらに、別段に示されるか、文脈または当業者の理解から別段に明らかでない限り、範囲として表される値は、本発明の異なる態様において記述された範囲の内の任意の特定の値または部分範囲を、文脈が明らかに別段に指定しない限り、当該範囲の下限の１０分の１の単位まで仮定することができる。
本願は、多様な発行された特許、公開された特許出願、学術文献の記事、および他の刊行物を参照し、これらの全ては、本明細書において参考として援用される。援用された参考文献のいずれかと本明細書との間に矛盾が存在する場合、本明細書が制御すべきである。加えて、本発明の任意の特定の態様であって先行技術に該当するものは、請求項のうちの任意の１つ以上から明示的に取り除くことができる。かかる態様は、当業者に公知であると考えられるため、それらは、除外が本明細書において明示的に記載されていない場合であってすら、取り除くことができる。本発明の任意の特定の態様は、任意の請求項から、任意の理由により、先行技術の存在に関連するか否かに関わらず、取り除くことができる。
当業者は、本明細書において記載される特定の態様に対する多くの均等物を認識するか、慣用的な実験のみを用いてこれを確認することができるであろう。本明細書において記載される本発明の態様の範囲は、上の説明に限定されることを意図されず、むしろ、添付の請求の範囲において記載されるとおりである。当業者は、以下の請求の範囲において定義されるような本発明の精神または範囲から逸脱することなく、この説明に対して多様な変更および改変を行うことができることを理解するであろう。

Claims (152)

  1. 式（Ｃ）：
    の化合物またはその塩を調製する方法であって、式（Ａ）：
    の化合物またはその塩を、式（Ｂ）：
    の化合物またはその塩と、鉄および銅の存在下においてカップリングすることを含み；
    式中：
    Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；
    ＲＡは、任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＢは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；
    任意にここで、ＲＡおよびＲＢは、リンカーを介して一緒に連結され、ここで、リンカーは、任意に置換されていてもよいアルキレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキレン、任意に置換されていてもよいアルケニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルケニレン、任意に置換されていてもよいアルキニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキニレン、任意に置換されていてもよいアリーレン、任意に置換されていてもよいヘテロアリーレン、任意に置換されていてもよいカルボシクリレン、任意に置換されていてもよいヘテロシクリレン、任意に置換されていてもよいアシレン、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、
    前記方法。
  2. 請求項１に記載の方法であって、式（Ａ）の化合物が、式（Ａ−１）：
    のもの、またはその塩であり；
    式（Ｂ）の化合物が、式（Ｂ−１）：
    のもの、またはその塩であり；および
    式（Ｃ）の化合物が、式（Ｃ−１）：
    のもの、またはその塩であり、
    式中：
    Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；ならびに、
    ＲＡ１、ＲＡ２、ＲＢ１、およびＲＢ２の各々の場合は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；任意にここで、ＲＡ１およびＲＢ１は、リンカーを介して一緒に連結される、
    前記方法。
  3. 式（Ｃ−２）：
    の化合物またはその塩を調製する方法であって、式（Ａ−Ｂ）：
    の化合物またはその塩を、鉄および銅の存在下において反応させることを含み；
    式中：
    Ｘ１は、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり；
    ＲＡ２およびＲＢ２は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり；ならびに
    は、リンカーを表す、
    前記方法。
  4. 式（Ｉ−１３）：
    の化合物またはその塩を調製する方法であって、式（Ｉ−１２）：
    の化合物またはその塩を、式（Ｉ−１０）：
    の化合物またはその塩とカップリングすることを含み、
    式中：
    Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
    前記方法。
  5. 式（Ｉ−１１）：
    の化合物またはその塩を調製する方法であって、式（Ｉ−９）：
    の化合物またはその塩を、式（Ｉ−１０）：
    の化合物またはその塩とカップリングすることを含み、
    式中：
    Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
    前記方法。
  6. 式（ＩＩ−３）：
    の化合物またはその塩を調製する方法であって、式（ＩＩ−１）：
    の化合物またはその塩を、式（ＩＩ−２）：
    の化合物またはその塩とカップリングすることを含み、
    式中：
    Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    Ｒ５は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    Ｒ８は、アルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
    前記方法。
  7. 請求項６に記載の方法であって、式（ＩＩ−３）の化合物が、
    またはその塩であり；
    式（ＩＩ−１）の化合物が、
    またはその塩であり；および
    式（ＩＩ−２）の化合物が、
    またはその塩である、
    前記方法。
  8. カップリングのステップが、銅および鉄の存在下において行われる、請求項４〜７のいずれか一項に記載の方法。
  9. 鉄源が、鉄（ＩＩ）または鉄（ＩＩＩ）である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
  10. 鉄源が、鉄錯体である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
  11. 鉄錯体が、式Ｆｅ（リガンド）３のものである、請求項１０に記載の方法。
  12. 鉄錯体が、式：
    のものであり、式中、Ｒは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである、請求項１１に記載の方法。
  13. 鉄錯体が、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３、Ｆｅ（ＤＢＭ）３またはＦｅ（ａｃａｃ）３である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
  14. 鉄錯体が、式Ｆｅ（Ｘ）２（リガンド）のものであり、式中、Ｘの各々の場合は、独立して、ハロゲンであり；および「リガンド」は、２つのホスフィンリガンドまたはビスホスフィンリガンドである、請求項１０に記載の方法。
  15. 鉄錯体が、Ｆｅ（Ｂｒ）２（ｄｐｐｂ）、Ｆｅ（Ｃｌ）２（ｄｐｐｂ）、Ｆｅ（Ｂｒ）２（ＳｃｉＯＰＰ）、Ｆｅ（Ｃｌ）２（ＳｃｉＯＰＰ）、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｅ）、およびＦｅＣｌ２（ｄｐｐｅ）からなる群より選択される、請求項１４に記載の方法。
  16. 鉄錯体が、ＦｅＢｒ２（ＰＰｈ３）２またはＦｅＣｌ２（ＰＰｈ３）２である、請求項１０に記載の方法。
  17. 鉄が、触媒的な量において存在する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
  18. 鉄が、１〜２０ｍｏｌ％において存在する、請求項１７に記載の方法。
  19. 鉄が、約５ｍｏｌ％において存在する、請求項１８に記載の方法。
  20. 鉄が、約１０ｍｏｌ％において存在する、請求項１８に記載の方法。
  21. 鉄が、約１５ｍｏｌ％において存在する、請求項１８に記載の方法。
  22. 銅源が、銅（Ｉ）または銅（ＩＩ）である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
  23. 銅源が、銅塩である、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の方法。
  24. 銅塩が、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＣＮ、ＣｕＴｃ、ＣｕＢｒ２、およびＣｕＣｌ２からなる群より選択される、請求項２３に記載の方法。
  25. 銅が、触媒的量、化学量論的量、または過剰量において存在する、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
  26. 銅が、約１当量において存在する、請求項２５に記載の方法。
  27. カップリングが、ジルコニウム錯体の存在下において行われる、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
  28. ジルコニウム錯体が、Ｃｐ２ＺｒＣｌ２である、請求項２７に記載の方法。
  29. ジルコニウムが、化学量論的量または過剰量において存在する、請求項２７または２８に記載の方法。
  30. ジルコニウムが、約１当量において存在する、請求項２９に記載の方法。
  31. カップリングのステップは、リチウム塩の存在下において行われる、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の方法。
  32. リチウム塩が、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、またはＬｉＩである、請求項３１に記載の方法。
  33. リチウム塩が、化学量論的量または過剰量において存在する、請求項３１または３２に記載の方法。
  34. 約３当量のリチウム塩が存在する、請求項３３に記載の方法
  35. カップリングのステップが、還元性金属の存在下において行われる、請求項１〜３４のいずれか一項に記載の方法。
  36. 還元性金属が、亜鉛またはマンガンである、請求項３５に記載の方法。
  37. 還元性金属が、亜鉛（０）である、請求項３６に記載の方法。
  38. 還元性金属が、マンガン（０）である、請求項３６に記載の方法。
  39. 還元性金属が、化学量論的量または過剰量において存在する、請求項３５〜３８のいずれか一項に記載の方法。
  40. 約２当量の還元性金属が用いられる、請求項３９に記載の方法。
  41. カップリングのステップが、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、および還元性金属の存在下において行われる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
  42. カップリングのステップが、Ｆｅ（ＴＭＨＤ）３、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行われる、請求項４１に記載の方法
  43. カップリングのステップが、ＦｅＢｒ２（ｄｐｐｂ）、ＣｕＣｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行われる、請求項４１に記載の方法。
  44. カップリングのステップが、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、ジルコニウム錯体、および還元性金属の存在下において行われる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
  45. カップリングのステップが、ＦｅＢｒ２（ＳｃｉＯＰＰ）、ＣｕＩ、ＺｒＣｐ２Ｃｌ２、ＬｉＣｌ、およびＭｎ金属の存在下において行われる、請求項４４に記載の方法。
  46. カップリングのステップが、溶媒中で行われる、請求項１〜４５のいずれか一項に記載の方法。
  47. 溶媒が、極性溶媒である、請求項４６に記載の方法。
  48. 溶媒が、エーテル性溶媒である、請求項４６に記載の方法。
  49. 溶媒が、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）である、請求項４６〜４８のいずれか一項に記載の方法。
  50. カップリングのステップが、室温においてまたは室温未満で行われる、請求項１〜４９のいずれか一項に記載の方法。
  51. カップリングのステップが、室温未満で行われる、請求項５０に記載の方法。
  52. 反応が、約０℃で行われる、請求項５１に記載の方法。
  53. Ｘ１が、ハロゲンである、請求項１〜５２のいずれか一項に記載の方法。
  54. Ｘ１が、−Ｉである、請求項５３に記載の方法。
  55. Ｘ２が、ハロゲンである、請求項１〜５４のいずれか一項に記載の方法。
  56. Ｘ２が、−Ｃｌである、請求項１〜５４のいずれか一項に記載の方法。
  57. Ｘ２が、−ＳＲＳである、請求項１〜５４のいずれか一項に記載の方法。
  58. ＲＳが、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである、請求項５７に記載の方法。
  59. ＲＳが、任意に置換されていてもよいピリジルである、請求項５８に記載の方法。
  60. ＲＳが、任意に置換されていてもよい２−ピリジルである、請求項５９に記載の方法。
  61. ＲＳが、式：
    のものである、請求項５７〜６０のいずれか一項に記載の方法。
  62. Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項４〜６１のいずれか一項に記載の方法。
  63. Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである、請求項６２に記載の方法。
  64. Ｒ１が、メチルである、請求項６３に記載の方法。
  65. Ｒ２が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項４〜６４のいずれか一項に記載の方法。
  66. Ｒ２が、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである、請求項６５に記載の方法。
  67. Ｒ２が、メチルである、請求項６６に記載の方法。
  68. ＲＰ１が、酸素保護基である、請求項４〜６７のいずれか一項に記載の方法。
  69. ＲＰ１が、ＴＢＳ保護基である、請求項６８に記載の方法。
  70. ＲＰ２が、酸素保護基である、請求項４〜６９のいずれか一項に記載の方法。
  71. ＲＰ２が、ＴＥＳ保護基である、請求項７０に記載の方法。
  72. ＲＰ３が、酸素保護基である、請求項４〜７１のいずれか一項に記載の方法。
  73. ＲＰ３が、ＴＥＳ保護基である、請求項７２に記載の方法。
  74. ＲＰ４が、酸素保護基である、請求項４〜７３のいずれか一項に記載の方法。
  75. ＲＰ４が、ＴＢＳ保護基である、請求項７４に記載の方法。
  76. ＲＰ５が、酸素保護基である、請求項４〜７５のいずれか一項に記載の方法。
  77. ＲＰ５が、ＴＥＳ保護基である、請求項７６に記載の方法。
  78. ＲＰ６の各々の場合が、酸素保護基である、請求項５〜７７のいずれか一項に記載の方法。
  79. ＲＰ６の各々の場合が、介在原子により一緒に連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、請求項５〜７８のいずれか一項に記載の方法。
  80. ２個のＲＰ６は、一緒に連結されて：
    を形成する、請求項７９に記載の方法。
  81. Ｘ３が、ハロゲンである、請求項４〜７９のいずれか一項に記載の方法。
  82. Ｘ３が、−Ｉである、請求項８１に記載の方法。
  83. Ｒ５が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項６〜８２のいずれか一項に記載の方法。
  84. Ｒ５が、未置換Ｃ１〜３アルキルである、請求項６〜８３のいずれか一項に記載の方法、
  85. Ｒ５が、メチルである、請求項６〜８３のいずれか一項に記載の方法。
  86. Ｒ８が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項６〜８５のいずれか一項に記載の方法。
  87. Ｒ８が、未置換Ｃ１〜３アルキルである、請求項６〜８５のいずれか一項に記載の方法。
  88. Ｒ８が、メチルまたはエチルである、請求項６〜８５のいずれか一項に記載の方法。
  89. Ｒ８が、メチルである、請求項６〜８５のいずれか一項に記載の方法。
  90. 式（Ｉ−１３）：
    式中：
    Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
    の化合物またはその塩。
  91. 式（Ｉ−１２）：
    式中：
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４、およびＲＰ５は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
    の化合物またはその塩。
  92. 式（Ｉ−１２−Ｓ）：
    式中：
    ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである、
    のものである、請求項９１に記載の化合物またはその塩。
  93. 式（Ｉ−１０）：
    式中：
    Ｘ１およびＸ３は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｒ２は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ４は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
    の化合物またはその塩。
  94. 式（Ｉ−１１）：
    式中：
    Ｘ３は、ハロゲンまたは脱離基であり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ４、ＲＰ５、およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
    の化合物またはその塩。
  95. 式（Ｉ−９）：
    式中：
    Ｘ２は、ハロゲン、脱離基、または−ＳＲＳであり；
    Ｒ１およびＲ２は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり；ならびに
    ＲＰ５およびＲＰ６は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ６は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
    の化合物またはその塩。
  96. 式（Ｉ−９−Ｓ）：
    のもの、またはその塩である、請求項９５に記載の化合物であって、式中：
    ＲＳは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである、
    前記化合物。
  97. Ｘ１が、ハロゲンである、請求項９３に記載の化合物。
  98. Ｘ１が、−Ｉである、請求項９７に記載の化合物。
  99. Ｘ２が、ハロゲンである、請求項９１または９５に記載の化合物。
  100. Ｘ２が、−Ｃｌである、請求項９９に記載の化合物。
  101. Ｘ２が、−ＳＲＳである、請求項９１または９５に記載の化合物。
  102. ＲＳが、任意に置換されていてもよいヘテロアリールである、請求項９２、９６または１０１に記載の化合物。
  103. ＲＳが、任意に置換されていてもよいピリジルである、請求項１０２に記載の化合物。
  104. ＲＳが、任意に置換されていてもよい２−ピリジルである、請求項１０２に記載の化合物。
  105. ＲＳが、式：
    のものである、請求項１０２に記載の化合物。
  106. Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項９０〜９２および９４〜９６のいずれか一項に記載の化合物。
  107. Ｒ１が、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである、請求項１０６に記載の化合物。
  108. Ｒ１が、メチルである、請求項１０７に記載の化合物。
  109. Ｒ２が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項９０、９３および９４のいずれか一項に記載の化合物。
  110. Ｒ２が、任意に置換されていてもよいＣ１〜３アルキルである、請求項１０９に記載の化合物。
  111. Ｒ２が、メチルである、請求項１１０に記載の化合物。
  112. ＲＰ１が、酸素保護基である、請求項９０〜９２のいずれか一項に記載の化合物。
  113. ＲＰ１が、ＴＢＳ保護基である、請求項１１２に記載の化合物。
  114. ＲＰ２が、酸素保護基である、請求項９０〜９２のいずれか一項に記載の化合物。
  115. ＲＰ２が、ＴＥＳ保護基である、請求項１１４に記載の化合物。
  116. ＲＰ３が、酸素保護基である、請求項９０〜９２のいずれか一項に記載の化合物。
  117. ＲＰ３が、ＴＥＳ保護基である、請求項１１６に記載の化合物。
  118. ＲＰ４が、酸素保護基である、請求項９０または９３に記載の化合物。
  119. ＲＰ４が、ＴＢＳ保護基である、請求項１１８に記載の化合物。
  120. ＲＰ５が、酸素保護基である、請求項９０〜９２および９５のいずれか一項に記載の化合物。
  121. ＲＰ５が、ＴＥＳ保護基である、請求項１２０に記載の化合物。
  122. ＲＰ６の各々の場合が、酸素保護基である、請求項９４〜９６のいずれか一項に記載の化合物。
  123. ＲＰ６の各々の場合が、介在原子により一緒に連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、請求項９４〜９６のいずれか一項に記載の化合物。
  124. ２個のＲＰ６が、一緒に連結されて、
    を形成する、請求項１２３に記載の化合物。
  125. Ｘ３が、ハロゲンである、請求項９０、９３または９４に記載の化合物。
  126. Ｘ３が、−Ｉである、請求項１２５に記載の化合物。
  127. 式：
    を有する化合物またはその塩。
  128. 式：
    を有する化合物またはその塩。
  129. 請求項６に記載の方法であって、式（ＩＩ−３）：
    の化合物またはその塩を、式ＲＰ９ＯＨの試薬の存在下において反応させて、式（ＩＩＩ−１）：
    化合物またはその塩を得ることをさらに含み；
    式中：
    Ｘ３は、ハロゲンであり；
    Ｒ８は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；ならびに
    各々のＲＰ９は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり；任意にここで、２個のＲＰ９基は、介在原子により一緒に連結される、
    前記方法。
  130. 式（ＩＩ−３）の化合物が、
    またはその塩であり；
    式ＲＰ９ＯＨの試薬が、
    またはその塩であり；および
    式（ＩＩＩ−１）の化合物が、
    またはその塩である、請求項１２９に記載の方法。
  131. 反応が、酸の存在下において行われる、請求項１２９または１３０に記載の方法。
  132. 酸が、スルホン酸である、請求項１３１に記載の方法。
  133. 酸が、ｐ−トルエンスルホン酸である、請求項１３２に記載の方法。
  134. 酸が、触媒的な量において存在する、請求項１３２〜１３４のいずれか一項に記載の方法。
  135. 反応が、オルトギ酸エステルの存在下において行われる、請求項１２９〜１３４のいずれか一項に記載の方法。
  136. 反応が、トリメチルオルトギ酸エステルの存在下において行われる、請求項１３５に記載の方法。
  137. オルトギ酸エステルが、１当量より多い量で存在する、請求項１３５または１３６に記載の方法。
  138. 式ＲＰ９ＯＨの試薬が、
    である、請求項１２９〜１３７のいずれか一項に記載の方法。
  139. 反応が、溶媒中で行われる、請求項１２９〜１３７のいずれか一項に記載の方法。
  140. 溶媒が、ＭｅＣＮである、請求項１３９に記載の方法。
  141. 反応が、０℃付近で行われる、請求項１２９〜１４０のいずれか一項に記載の方法。
  142. Ｘ３が、ハロゲンである、請求項１２９〜１４１のいずれか一項に記載の方法。
  143. Ｘ３が、−Ｉである、請求項１４２に記載の方法。
  144. Ｒ５が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項１２９〜１４３のいずれか一項に記載の方法。
  145. Ｒ５が、未置換Ｃ１〜３アルキルである、請求項１２９〜１４３のいずれか一項に記載の方法。
  146. Ｒ５が、メチルである、請求項１２９〜１４３のいずれか一項に記載の方法。
  147. Ｒ８が、任意に置換されていてもよいＣ１〜６アルキルである、請求項１２９〜１４６のいずれか一項に記載の方法。
  148. Ｒ８が、未置換Ｃ１〜３アルキルである、請求項１２９〜１４６のいずれか一項に記載の方法。
  149. Ｒ８が、メチルまたはエチルである、請求項１２９〜１４６のいずれか一項に記載の方法。
  150. Ｒ８が、メチルである、請求項１２９〜１４６のいずれか一項に記載の方法。
  151. ２個のＲＰ９が、介在原子により一緒になって、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、請求項１２９〜１５０のいずれか一項に記載の方法。
  152. ２個のＲＰ９が、介在原子により一緒になって、
    を形成する、請求項１２９〜１５０のいずれか一項に記載の方法。
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