JP7266267B2 - Fe/cu媒介ケトン合成 - Google Patents
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Description
スキーム1A
スキーム2
スキーム3
スキーム4
特定の官能基および化学用語の定義は、以下により詳細に記載される。化学元素は、元素周期表、CASバージョン、Handbook of Chemistry and Physics、第75版、中表紙に従って同定され、特定の官能基は、それにおいて記載されるように、一般的に定義される。加えて、有機化学の一般的原則、ならびに特定の官能部分および反応性は、Organic Chemistry、Thomas Sorrell、University Science Books、Sausalito、1999年;SmithおよびMarch、March’s Advanced Organic Chemistry、第5版、John Wiley & Sons, Inc.、New York、2001年;Larock、Comprehensive Organic Transformations、VCH Publishers, Inc.、New York、1989年;ならびにCarruthers、Some Modern Methods of Organic Synthesis、第3版、Cambridge University Press、Cambridge、1987年において記載される。
あるいは、炭素原子上の2個のジェミナルな水素は、基=O、=S、=NN(Rbb)2、=NNRbbC(=O)Raa、=NNRbbC(=O)ORaa、=NNRbbS(=O)2Raa、=NRbb、または=NORccで置き換えられ;
Raaの各々の場合は、独立して、C1~10アルキル、C1~10パーハロアルキル、C2~10アルケニル、C2~10アルキニル、ヘテロC1~10アルキル、ヘテロC2~10アルケニル、ヘテロC2~10アルキニル、C3~10カルボシクリル、3~14員のヘテロシクリル、C6~14アリール、および5~14員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは2個のRaa基は、連結されて、3~14員のヘテロシクリルまたは5~14員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRdd基で置換され;
Rbbの各々の場合は、独立して、水素、-OH、-ORaa、-N(Rcc)2、-CN、-C(=O)Raa、-C(=O)N(Rcc)2、-CO2Raa、-SO2Raa、-C(=NRcc)ORaa、-C(=NRcc)N(Rcc)2、-SO2N(Rcc)2、-SO2Rcc、-SO2ORcc、-SORaa、-C(=S)N(Rcc)2、-C(=O)SRcc、-C(=S)SRcc、-P(=O)(Raa)2、-P(=O)(ORcc)2、-P(=O)(N(Rcc)2)2、C1~10アルキル、C1~10パーハロアルキル、C2~10アルケニル、C2~10アルキニル、ヘテロC1~10アルキル、ヘテロC2~10アルケニル、ヘテロC2~10アルキニル、C3~10カルボシクリル、3~14員のヘテロシクリル、C6~14アリール、および5~14員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは2個のRbb基は、連結されて、3~14員のヘテロシクリルまたは5~14員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRdd基で置換され;ここで、X-は、対イオンであり;
Rccのの各々の場合は、独立して、水素、C1~10アルキル、C1~10パーハロアルキル、C2~10アルケニル、C2~10アルキニル、ヘテロC1~10アルキル、ヘテロC2~10アルケニル、ヘテロC2~10アルキニル、C3~10カルボシクリル、3~14員のヘテロシクリル、C6~14アリール、および5~14員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは2個のRcc基は、連結されて、3~14員のヘテロシクリルまたは5~14員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRdd基で置換され;
Rddの各々の場合は、独立して、ハロゲン、-CN、-NO2、-N3、-SO2H、-SO3H、-OH、-ORee、-ON(Rff)2、-N(Rff)2、-N(Rff)3 +X-、-N(ORee)Rff、-SH、-SRee、-SSRee、-C(=O)Ree、-CO2H、-CO2Ree、-OC(=O)Ree、-OCO2Ree、-C(=O)N(Rff)2、-OC(=O)N(Rff)2、-NRffC(=O)Ree、-NRffCO2Ree、-NRffC(=O)N(Rff)2、-C(=NRff)ORee、-OC(=NRff)Ree、-OC(=NRff)ORee、-C(=NRff)N(Rff)2、-OC(=NRff)N(Rff)2、-NRffC(=NRff)N(Rff)2、-NRffSO2Ree、-SO2N(Rff)2、-SO2Ree、-SO2ORee、-OSO2Ree、-S(=O)Ree、-Si(Ree)3、-OSi(Ree)3、-C(=S)N(Rff)2、-C(=O)SRee、-C(=S)SRee、-SC(=S)SRee、-P(=O)(ORee)2、-P(=O)(Ree)2、-OP(=O)(Ree)2、-OP(=O)(ORee)2、C1~6アルキル、C1~6パーハロアルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニル、ヘテロC1~6アルキル、ヘテロC2~6アルケニル、ヘテロC2~6アルキニル、C3~10カルボシクリル、3~10員のヘテロシクリル、C6~10アリール、5~10員のヘテロアリールから選択され、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRgg基で置換されているか、または2個のジェミナルなRdd置換基は、連結されて=Oまたは=Sを形成してもよく;ここで、X-は、対イオンであり;
Reeの各々の場合は、独立して、C1~6アルキル、C1~6パーハロアルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニル、ヘテロC1~6アルキル、ヘテロC2~6アルケニル、ヘテロC2~6アルキニル、C3~10カルボシクリル、C6~10アリール、3~10員のヘテロシクリル、および3~10員のヘテロアリールから選択され、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRgg基で置換され;
Rffの各々の場合は、独立して、水素、C1~6アルキル、C1~6パーハロアルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニル、ヘテロC1~6アルキル、ヘテロC2~6アルケニル、ヘテロC2~6アルキニル、C3~10カルボシクリル、3~10員のヘテロシクリル、C6~10アリールおよび5~10員のヘテロアリールから選択されるか、あるいは2個のRff基は、連結されて、3~10員のヘテロシクリルまたは5~10員のヘテロアリール環を形成し、ここで、各々のアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールは、独立して、0、1、2、3、4または5個のRgg基で置換され;ならびに
Rggの各々の場合は、独立して、ハロゲン、-CN、-NO2、-N3、-SO2H、-SO3H、-OH、-OC1~6アルキル、-ON(C1~6アルキル)2、-N(C1~6アルキル)2、-N(C1~6アルキル)3 +X-、-NH(C1~6アルキル)2 +X-、-NH2(C1~6アルキル)+X-、-NH3 +X-、-N(OC1~6アルキル)(C1~6アルキル)、-N(OH)(C1~6アルキル)、-NH(OH)、-SH、-SC1~6アルキル、-SS(C1~6アルキル)、-C(=O)(C1~6アルキル)、-CO2H、-CO2(C1~6アルキル)、-OC(=O)(C1~6アルキル)、-OCO2(C1~6アルキル)、-C(=O)NH2、-C(=O)N(C1~6アルキル)2、-OC(=O)NH(C1~6アルキル)、-NHC(=O)(C1~6アルキル)、-N(C1~6アルキル)C(=O)(C1~6アルキル)、-NHCO2(C1~6アルキル)、-NHC(=O)N(C1~6アルキル)2、-NHC(=O)NH(C1~6アルキル)、-NHC(=O)NH2、-C(=NH)O(C1~6アルキル)、-OC(=NH)(C1~6アルキル)、-OC(=NH)OC1~6アルキル、-C(=NH)N(C1~6アルキル)2、-C(=NH)NH(C1~6アルキル)、-C(=NH)NH2、-OC(=NH)N(C1~6アルキル)2、-OC(=NH)NH(C1~6アルキル)、-OC(=NH)NH2、-NHC(=NH)N(C1~6アルキル)2、-NHC(=NH)NH2、-NHSO2(C1~6アルキル)、-SO2N(C1~6アルキル)2、-SO2NH(C1~6アルキル)、-SO2NH2、-SO2(C1~6アルキル)、-SO2O(C1~6アルキル)、-OSO2(C1~6アルキル)、-SO(C1~6アルキル)、-Si(C1~6アルキル)3、-OSi(C1~6アルキル)3、-C(=S)N(C1~6アルキル)2、C(=S)NH(C1~6アルキル)、C(=S)NH2、-C(=O)S(C1~6アルキル)、-C(=S)SC1~6アルキル、-SC(=S)SC1~6アルキル、-P(=O)(OC1~6アルキル)2、-P(=O)(C1~6アルキル)2、-OP(=O)(C1~6アルキル)2、-OP(=O)(OC1~6アルキル)2、C1~6アルキル、C1~6パーハロアルキル、C2~6アルケニル、C2~6アルキニル、ヘテロC1~6アルキル、ヘテロC2~6アルケニル、ヘテロC2~6アルキニル、C3~10カルボシクリル、C6~10アリール、3~10員のヘテロシクリル、5~10員のヘテロアリールであるか;または2個のジェミナルなRgg置換基は、連結されて=Oまたは=Sを形成してもよく;ここで、X-は、対イオンである。
本明細書において提供されるのは、ケトン含有有機分子を調製するための方法である。方法は、新規の鉄/銅媒介(「Fe/Cu媒介」)カップリング反応に基づく。ある態様において、既存のケト化方法に対する本明細書において記載されるFe/Cu媒介カップリングの利点は、Fe/Cu媒介方法が、ビニルハライドの存在下におけるアルキルハライドの選択的カップリングを可能にするという点である。Fe/Cu媒介カップリング反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログの調製において、特にハリコンドリンおよびそのアナログへの途中の中間体の調製において、用いることができる。本発明はまた、ハリコンドリンの合成において有用な中間体の調製のための方法を提供する。別の側面において、本発明は、本明細書において提供されるカップリング方法において有用な化合物、試薬、リガンド、触媒、およびキット、ならびにハリコンドリンおよびそのアナログの調製において有用な化合物(すなわち、中間体)を提供する。
本明細書において提供されるのは、スキーム1Aにおいて概略されるとおり、Fe/Cu媒介カップリング反応を用いてケトンを調製するための方法である。本明細書において記載されるとおり、ケト化反応は、鉄および銅の存在下において、例えば鉄錯体および銅塩の存在下において、行われる。ケト化反応は、分子間または分子内におけるものであってよい(すなわち、スキーム1Aにおいて、RAおよびRBは、任意にリンカーにより連結される)。
スキーム1A
X1は、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり;
RAは、任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RBは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり;
任意に、ここで、RAおよびRBは、リンカーを介して一緒に連結され、ここで、リンカーは、任意に置換されていてもよいアルキレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキレン、任意に置換されていてもよいアルケニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルケニレン、任意に置換されていてもよいアルキニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキニレン、任意に置換されていてもよいアリーレン、任意に置換されていてもよいヘテロアリーレン、任意に置換されていてもよいカルボシクリレン、任意に置換されていてもよいヘテロシクリレン、任意に置換されていてもよいアシレン(acylene)、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される。
式(B)の化合物は、式(B-1):
式(C)の化合物は、式(C-1):
式中:
X1は、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり;ならびに、
RA1、RA2、RB1、およびRB2の各々の場合は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり;任意にここで、RA1とRB1とは、リンカーを介して一緒に連結される。
式中:
X1は、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり;
RA2およびRB2は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり;ならびに
本明細書において提供されるFe/Cu媒介ケト化反応は、ハリコンドリンおよびそのアナログへの途上の中間体などの錯体分子の合成に適用することができる。例えば、スキーム2は、式(I-13)の化合物は、式(I-12)の化合物の式(I-10)の化合物とのFe/Cu媒介カップリングを介して調製することができることを示す。スキーム2において、式(I-13)の化合物は、ハリコンドリン(例えばハリコンドリンA、B、C)およびそのアナログの合成において有用な中間体である。
スキーム2
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP1、RP2、RP3、RP4、およびRP5は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
スキーム3
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP4、RP5、およびRP6は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;任意にここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
スキーム4
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり;
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
R5は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
R8は、アルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
X3は、ハロゲンであり;
R8は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;ならびに
各々のRP9は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基;任意にここで、2個のRP9基は、介在原子により一緒に連結される。
また本明細書において提供されるのは、ハリコンドリン(例えばハリコンドリンA、B、C)、およびそのアナログの合成において有用な中間体である化合物である。例えば、本明細書において提供されるのは、式(I-13):
X3は、ハロゲンまたは脱離基であり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP1、RP2、RP3、RP4、およびRP5は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP1、RP2、RP3、RP4、およびRP5は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンまたは脱離基であり;
R2は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP4は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。
X3は、ハロゲンまたは脱離基であり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP4、RP5、およびRP6は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;任意にここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
X2は、ハロゲン、脱離基、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RP5およびRP6は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;任意にここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールである。
本明細書において定義されるとおり、X1は、ハロゲンまたは脱離基である。ある態様において、X1は、ハロゲンである。ある態様において、X1は、-Cl(すなわち塩素)である。ある態様において、X1は、-Br(すなわち臭素)である。ある態様において、X1は、-I(すなわちヨウ化物)である。ある態様において、X1は、-F(すなわちフッ素)である。ある態様において、X1は、脱離基である。
ある態様において、RSは、
本明細書において定義されるとおり、Rは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルである。ある態様において、Rは、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、Rは、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである。ある態様において、Rは、未置換C1~6アルキルである。ある態様において、Rは、任意に置換されていてもよいC1~3アルキルである。ある態様において、Rは、未置換C1~3アルキルである。ある態様において、Rは、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、イソ-ブチル、sec-ブチル、およびtert-ブチルからなる群より選択される。ある態様において、Rは、メチルである。ある態様において、Rは、任意に置換されていてもよいアリールである。ある態様において、Rは、任意に置換されていてもよいフェニルである。ある態様において、Rは、フェニル(-Ph)である。
本明細書において定義されるとおり、RP1は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である。ある態様において、RP1は、水素である。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいアルキルである。ある態様において、ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである。ある態様において、RP1は、未置換C1~6アルキルである。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいC1~3アルキルである。ある態様において、RP1は、未置換C1~3アルキルである。ある態様において、RP1は、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、イソ-ブチル、sec-ブチル、およびtert-ブチルからなる群より選択される。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいアシルである。ある態様において、RP1は、酸素保護基である。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいアリルである。ある態様において、RP1は、アリルである。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいシリルである。ある態様において、RP1は、トリアルキルシリルである。ある態様において、RP1は、トリエチルシリル(-SiEt3;「TES」)である。ある態様において、RP1は、トリメチルシリル(-SiMe3;「TMS」)である。ある態様において、RP1は、tert-ブチルジメチルシリル(-Sit-BuMe2;「TBS」)である。ある態様において、RP1は、tert-ブチルジフェニルシリル(-Sit-BuPh2;「TBDPS」)である。ある態様において、RP1は、任意に置換されていてもよいベンジル保護基である。ある態様において、RP1は、ベンジル(-CH2Ph;「Bn」)である。ある態様において、RP1は、メトキシベンジル保護基である。ある態様において、RP1は、パラ-メトキシベンジル:
ある態様において、2個のRP9は、介在原子により一緒に連結されて、
ある態様において、2個のRP9は、介在原子により一緒に連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する。ある態様において、2個のRP9は、一緒に連結されて、
Fe/Cu媒介ケト化反応
還元性カップリングの実現可能性の研究のために、図1Aにおいて示される基質を第一に選択した。任意に選択された条件[2a(5当量)、1a(1当量)、MnPc(10mol%)、CuCN(1当量)、LiCl(3当量)、THF(C=0.2M)、rt、6時間]下における第一の試みにより、35%単離収率において3種を得た。以下を含むカップリング条件を最適化した:(1)ラジカル開始剤およびローディング(試験されたラジカル開始剤の相対的反応性は、ざっと以下の順序であった:Fe(TMHD)3>Fe(DBM)3>CoPc>Fe(acac)3~ZnPc>MnPc~FePc)、(2)銅源(いくつかのCu(I)塩を試験した:CuCl、CuBr、CuI、CuCNおよびCuTcは、それぞれ、62%、20%、58%、12%および10%の収率をもたらした;また、Cu(II)塩によるCu(I)塩の置き換えを試験した:CuCl2およびCuBr2は、2aを、それぞれ76%および32%で生じた)、(3)LiCl効果(LiCl、LiBr、およびLiIを試験した)、(4)1a:2aのモル比(1a:2a=1.0:1.5、1.0:2.0、1.0:3.0のモル比を試験した)、(5)還元性金属(MnおよびZn粉末を試験した)、(6)溶媒および濃度(C=0.2M、0.3Mおよび0.4Mを用いて濃度効果を試験したが、有意差は見出されなかった。したがって、C=0.4を研究のために選択した)、ならびに(7)添加物。この研究を通して、例として、[1a(1.0当量)、2a(3.0当量)、Fe(TMHD)3(10mol%;図1Bにおける4)、CuCl2(1.0当量)、Mn(2当量)、LiCl(3当量)、DME(C0.4M)、0℃、15時間]の条件が、(1a+2a)-カップリングのために有効であることが見出された(76%単離収率)。図2における方法Aを参照。
NMRスペクトルは、Varian Inova 600MHz、500MHzまたは400MHz分光器において記録した。化学シフトは、百万分率(ppm)において報告する。1H NMRスペクトル(CDCl3およびC6D6)について、残留溶媒ピークを内部参照として(CDCl3においては7.26ppm;C6D6においては7.16ppm)、一方、中心溶媒ピークを13C NMRスペクトルのための参照として(CDCl3においては77.0ppm;C6D6においては128.0ppm)用いた。報告されるスペクトルデータにおいて、以下の略語を用いた:s=一重線、d=二重線、t=三重線、q=四重線、m=多重線、dd=二重線、td=三重二重線(triplet doublet)、qd=四十二重線(quartet doublet)。Agilent 6210 Time-of-Flight LC/MCマシンにおいて、高分解能質量スペクトル(HRMS)を得、m/zの単位において報告した。旋光度は、20℃で、Perkin-Elmer 241偏光計を用いて測定した。IRスペクトルは、Bruker Alpha FT-IR分光器において記録した。分析的および半調製的薄層クロマトグラフィー(TLC)は、層厚がそれぞれ0.25および1.00mmの、E. MerckプレコートTLCプレート、シリカゲル60 F254、を用いて行った。TLCプレートは、p-アニスアルデヒドまたはホスホモリブデン酸染料による染色により可視化した。E. Merck Kieselgel 60(230~400メッシュ)シリカゲル上で、フラッシュクロマトグラフィー分離を行った。全ての湿度感受性反応は、不活性な大気下において行った。
ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン(98%、Strem Chemimcals)、1,2-ビス[ビス[3,5-ジ(t-ブチル)フェニル]ホスフィノ]ベンゼン(97%+、Wako Pure Chemicals)、臭化鉄(II)(FeBr2、~10メッシュ、99.999%、Sigma-Aldrich)、エチル4-クロロ-4-オキソブチレート(97%、Alfa Aesar)、塩化リチウム(≧99%、Sigma-Aldrich)、マンガン(≧99.9%、Sigma-Aldrich)、塩化銅(II)(CuCl2、99%、Sigma-Aldrich)、ヨウ化銅(I)(CuI、≧99.5%、Sigma-Aldrich)、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(IV)二塩化物(Cp2ZrCl2、≧98%、Sigma-Aldrich)、2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート(95%、Oakwood Chemical)、1,2-1,2-ジメトキシエタン(DME、99.5%、阻害剤フリー、Sigma-Aldrich)は、示されるとおりに購入し、さらなる精製なしで用いた。他のものは、商業用等級であり、供給されたままで用いた。
鉄(III)トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)(Fe(TMHD)3) 4の合成
テフロンコートされた卵型の磁性スタラーバー(2.5cm)および還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した500mLの二口フラスコに、エタノール(100mL)中の塩化鉄(III)六水和物(10g、36.9mmol)の溶液を加え、その後、水(100mL)、2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート(20.04g、110.1mmol)および酢酸ナトリウム(15.0g、110.1mmol)を加えた。反応フラスコを、60℃まで3時間かけて加熱し、この時点において、橙色の沈殿が形成された。反応混合物を室温まで冷却し、100mLの水を、反応混合物に導入した。橙色の固体を濾過し、200mLのエタノールで洗浄した。生じた橙色の固体(19.3g)を、12時間かけて高圧化において乾燥させた。再結晶化:上で得られた橙色の固体(19.3g)を、60℃まで加熱しながら300mLの酢酸エチル中で溶解した。酢酸エチル溶液を、濾紙を通して濾過し、生じた濾過物(酢酸エチル)を、減圧下において濃縮し、純粋な結晶性の橙色の固体4(18.3g)を82%の収率において生じた。
磁性スタラーバーおよび還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した200mLの二口フラスコに、エタノール(70mL)中の無水臭化鉄(II)(1.5g、6.95mmol)および1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン(3.41g、7.65mmol)の溶液を加えた。反応フラスコを、80℃まで18時間かけて加熱し、この時点において、淡褐色の沈殿が形成された。反応混合物を、室温まで冷却した。褐色固体を濾過し、100mLのエタノールで乾燥させた。生じた黄色がかった褐色固体5a(3.54g、77%)を、高圧化において12時間かけて乾燥させた。
例えば、Takaya, H.; Nakajima, S.; Nakagawa, N.; Isozaki, K.; Iwamoto, T.; Imayoshi, R.; Gower, N. J.; Adak, L.; Hatakeyama, T.; Honma, T.; Takagaki, M.; Sunada, Y.; Nagashima, H.; Hashizume, D.; Takahashi, O.; Nakamura, M. Bull. Chem. Soc. Jpn. 2015, 88, 410 - 418を参照。磁性スタラーバーおよび還流濃縮器を備えた、オーヴン乾燥した200mLの二口フラスコに、エタノール(70mL)中の無水臭化鉄(II)(1.5g、6.95mmol)および1,2-ビス(ビス(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスフィノ)ベンゼン(6.84g、7.65mmol)の溶液を加えた。反応フラスコを、80℃まで18時間かけて加熱し、この時点において、淡褐色の沈殿が形成された。反応混合物を、室温まで冷却した。褐色固体を濾過し、50mLの熱いエタノールで乾燥させた。生じた淡褐色固体5b(5.01g、65%)を、高圧化において、12時間かけて乾燥させた。
化合物1d、1mは、文献の手順に従って調製した。例えば、Lee, J. H.; Kishi, Y. J. Am. Chem. Soc. 2016, 138, 7178 - 7186; Thornton, A. R.; Martin, V. I.; Blakey, A. B. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 2434 - 2435を参照。
0℃のCH2Cl2(10mL)中のアルコール(1.0当量)の撹拌溶液に、塩化シリル(1.1当量)およびイミダゾール(1.5当量)を添加した。反応混合物を室温にし、出発材料が消費されるまで撹拌した。反応混合物を、飽和NaHCO3(10mL)の添加によりクエンチした。CH2Cl2(3×10mL)で水層を抽出し、有機抽出物を、H2O(2×10mL)および鹹水で洗浄した。洗浄した有機層をNa2SO4上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、純粋な生成物を得た。
0℃のCH2Cl2(10mL)中のアルコール(1.0当量)の撹拌溶液に、PPh3(1.1当量)、イミダゾール(1.2当量)およびヨウ素(1.1当量)を添加した。反応混合物を、TLCプレート上の出発材料がなくなるまで、室温で撹拌した。水性ハイポ(hypo)溶液(10mL)の添加により反応をクエンチし、30分間撹拌した。有機層を分離し、水相をCH2Cl2(2×10mL)で抽出した。組み合わせた有機物を乾燥させ、濃縮して、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、純粋なアルキルヨウ化物を得た。
化合物1a
方法A
1,2-ジメトキシエタン(C 0.4M)中のアルキルヨウ化物1a~q(1.0当量)、酸塩化物2a(3.0当量)に、マンガン(2.0当量)、塩化銅(II)(1.0当量)、塩化リチウム(3.0当量)および鉄(III)トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート) 4(10mol%)を添加した。反応混合物を、0℃まで冷却し、15時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシル(florosil)を添加し、30分間にわたり0℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル(10mL)で洗浄し、濾過物を無水Na2SO4上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン3a~qを生じた。
1,2-ジメトキシエタン(C 0.4M)中のアルキルヨウ化物1a~q(1.2当量)、酸塩化物2a(1.0当量)に、マンガン(2.0当量)、塩化銅(II)(1.0当量)、塩化リチウム(3.0当量)およびFeBr2(dppb)5a(5mol%)を添加した。反応混合物を、0℃まで冷却し、15時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、30分間にわたり0℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル(10mL)で洗浄し、濾過物を無水Na2SO4上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、塩基性アルミナカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン3a~qを生じた。
1,2-ジメトキシエタン(C 0.4M)中のアルキルヨウ化物1a~q(1.0当量)、酸塩化物2a(1.2当量)に、マンガン(2.0当量)、塩化銅(II)(1.0当量)、塩化リチウム(3.0当量)およびFeBr2(dppb)5a(5mol%)を添加した。反応混合物を、0℃まで冷却し、15時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、30分間にわたり0℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル(10mL)で洗浄し、濾過物を無水Na2SO4上で乾燥させ、濾過し、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン3a~qを生じた。
1,2-ジメトキシエタン(C 0.4M)中のアルキルヨウ化物1a~q(1.0当量)、チオエステル2b(1.2当量)に、マンガン(2.0当量)、ヨウ化銅(I)(1.0当量)、塩化リチウム(3.0当量)、Cp2ZrCl2(1.0当量)およびFeBr2(dppb)5a(5mol%)を添加した。反応混合物を、0℃まで冷却し、15時間にわたり同じ温度で激しく撹拌した。反応の完了後、フロロシルを添加し、30分間にわたり0℃で撹拌し、Celiteのパッドを通して濾過し、酢酸エチル(10mL)で洗浄し、濾過物を無水Na2SO4上で乾燥させ、ロータリー・エバポレーター下において濃縮した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを通しての精製により、所望されるケトン3a~qを生じた。
請求の範囲において、「a」、「an」、および「the」などの冠詞は、逆であることが示されるか、文脈から別段に明らかでない限りにおいて、1つまたは1つより多いことを意味し得る。群の1つ以上のメンバーの間に「or」を含む請求項または記載は、逆であることが示されるか、文脈から別段に明らかでない限りにおいて、当該群のメンバーのうちの1つ、1つより多く、または全てが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する場合に、満たされると考えられる。本発明は、当該群のうちの正確に1つのメンバーが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する態様を含む。本発明は、当該群のメンバーのうちの1つより多くまたは全てが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、それにおいて使用されるか、またはこれらに別段に関連する態様を含む。
Claims (45)
- 式(II-3):
式中:
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンであり;
X2は、ハロゲン、または-SRSであり;
R S は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり、
R5は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
R8は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
前記方法。 - 式(C):
式中:
X1は、ハロゲンであり;
X2は、ハロゲンまたは-SRSであり;
RSは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり;
RAは、任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
RBは、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアルケニル、任意に置換されていてもよいアルキニル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、または任意に置換されていてもよいヘテロシクリルであり;
またはここで、RAおよびRBは、リンカーを介して一緒に連結され、ここで、リンカーは、任意に置換されていてもよいアルキレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキレン、任意に置換されていてもよいアルケニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルケニレン、任意に置換されていてもよいアルキニレン、任意に置換されていてもよいヘテロアルキニレン、任意に置換されていてもよいアリーレン、任意に置換されていてもよいヘテロアリーレン、任意に置換されていてもよいカルボシクリレン、任意に置換されていてもよいヘテロシクリレン、任意に置換されていてもよいアシレン、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、
前記方法。 - 式(I-13):
式中:
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンであり;
X2は、ハロゲン、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
R S は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり、
RP1、RP2、RP3、RP4、およびRP5は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
前記方法。 - 式(I-11):
式中:
X1およびX3は、各々独立して、ハロゲンであり;
X2は、ハロゲン、または-SRSであり;
R1およびR2は、各々独立して、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
R S は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり、
RP4、RP5、およびRP6は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;またはここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
前記方法。 - カップリングのステップが、銅および鉄の存在下において行われる、請求項1、2、5および6のいずれか一項に記載の方法。
- 鉄源が、鉄(II)または鉄(III)であり;および/または
鉄源が、鉄錯体である、請求項7に記載の方法。 - 銅源が、銅(I)または銅(II)であり;および/または
銅源が、銅塩である、請求項7または8に記載の方法。 - カップリングのステップが、ジルコニウム錯体の存在下において行われる、請求項1、2、および5~9のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップは、リチウム塩の存在下において行われる、請求項1、2、および5~10のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、還元性金属の存在下において行われる、請求項1、2、および5~11のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、および還元性金属の存在下において行われる、請求項1、2、および5~12のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、鉄錯体、銅塩、リチウム塩、ジルコニウム錯体、および還元性金属の存在下において行われる、請求項1、2、および5~13のいずれか一項に記載の方法。
- X1が、-Iである、請求項1、および4~14のいずれか一項に記載の方法。
- X2が、ハロゲンである、請求項1および4~15のいずれか一項に記載の方法。
- X3が、-Iまたは-Brである、請求項1および5~16のいずれか一項に記載の方法。
- R5が、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである、請求項1および7~17のいずれか一項に記載の方法。
- R8が、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである、請求項1および7~18のいずれか一項に記載の方法。
- 式(I-12):
X2は、ハロゲン、または-SRSであり;
R 1 は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり;ならびに
R S は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり、
RP1、RP2、RP3 、およびRP5は、各々独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
の化合物またはその塩。 - 請求項1に記載の方法であって、式(II-3):
式中:
X3は、ハロゲンであり;
R8は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、任意に置換されていてもよいヘテロアリール、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;ならびに
各々のRP9は、独立して、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり;またはここで、2個のRP9基は、介在原子により一緒に連結され、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
前記方法。 - 反応が、酸の存在下において行われる、請求項21または22に記載の方法。
- 反応が、オルトギ酸エステルの存在下において行われる、請求項21~23のいずれか一項に記載の方法。
- X3が、ハロゲンである、
請求項21および23~25のいずれか一項に記載の方法。 - R5が、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである、請求項21および23~26のいずれか一項に記載の方法。
- R8が、任意に置換されていてもよいC1~6アルキルである、請求項21および23~27のいずれか一項に記載の方法。
- 2個のRP9が、介在原子により一緒になって、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、請求項21および23~28のいずれか一項に記載の方法。
- 式(I-10):
X1およびX3は各々独立してハロゲンであり、
R2は、任意に置換されていてもよいアルキルであり、および
RP4は、水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基である、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトト、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
の化合物またはその塩。 - 式(I―11):
R1およびR2は、各々独立して水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり、および
RP4、RP5、およびRP6は、各々独立して水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり、またはここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
の化合物またはその塩。 - 式(I―9):
R1 は、水素、ハロゲン、または任意に置換されていてもよいアルキルであり、および
R S は、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいカルボシクリル、任意に置換されていてもよいアリール、任意に置換されていてもよいヘテロシクリル、または任意に置換されていてもよいヘテロアリールであり、
RP5、およびRP6は、各々独立して水素、任意に置換されていてもよいアルキル、任意に置換されていてもよいアシル、または酸素保護基であり、またはここで、2個のRP6は、介在原子により連結されて、任意に置換されていてもよいヘテロシクリルを形成する、
ここで、酸素保護基は、各々独立して、メチル、メトキシルメチル(MOM)、メチルチオメチル(MTM)、t-ブチルチオメチル、(フェニルジメチルシリル)メトキシメチル(SMOM)、ベンジルオキシメチル(BOM)、p-メトキシベンジルオキシメチル(PMBM)、(4-メトキシフェノキシ)メチル(p-AOM)、グアイアコールメチル(GUM)、t-ブトキシメチル、4-ペンテニルオキシメチル(POM)、シロキシメチル、2-メトキシエトキシメチル(MEM)、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエトキシ)メチル、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMOR)、テトラヒドロピラニル(THP)、3-ブロモテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、1-メトキシシクロヘキシル、4-メトキシテトラヒドロピラニル(MTHP)、4-メトキシテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテトラヒドロチオピラニルS,S-ジオキシド、1-[(2-クロロ-4-メチル)フェニル]-4-メトキシピペリジン-4-イル(CTMP)、1,4-ジオキサン-2-イル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフラニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリメチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、1-エトキシエチル、1-(2-クロロエトキシ)エチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2-フロロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-トリメチルシリルエチル、2-(フェニルセレニル)エチル、t-ブチル、アリル、p-クロロフェニル、p-メトキシフェニル、2,4-ジニトロフェニル、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、o-ニトロベンジル、p-ニトロベンジル、p-ハロベンジル、2,6-ジクロロベンジル、p-シアノベンジル、p-フェニルベンジル、2-ピコリル、4-ピコリル、3-メチル-2-ピコリルN-オキシド、ジフェニルメチル、p,p’-ジニトロベンズヒドリル、5-ジベンゾスベリル、トリフェニルメチル、α-ナフチルジフェニルメチル、p-メトキシフェニルジフェニルメチル、ジ(p-メトキシフェニル)フェニルメチル、トリ(p-メトキシフェニル)メチル、4-(4’-ブロモフェナシルオキシフェニル)ジフェニルメチル、4,4’,4’’-トリス(4,5-ジクロロフタルイミドフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(レブリノイルオキシフェニル)メチル、4,4’,4’’-トリス(ベンゾイルオキシフェニル)メチル、3-(イミダゾール-1-イル)ビス(4’,4’’-ジメトキシフェニル)メチル、1,1-ビス(4-メトキシフェニル)-1’-ピレニルメチル、9-アントリル、9-(9-フェニル)キサンテニル、9-(9-フェニル-10-オキソ)アントリル、1,3-ベンゾジチオラン-2-イル、ベンゾイソチアゾリルS,S-ジオキシド、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TES)、トリイソプロピルシリル(TIPS)、ジメチルイソプロピルシリル(IPDMS)、ジエチルイソプロピルシリル(DEIPS)、ジメチルテキシルシリル、t-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、t-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、トリベンジルシリル、トリ-p-キシリルシリル、トリフェニルシリル、ジフェニルメチルシリル(DPMS)、t-ブチルメトキシフェニルシリル(TBMPS)、ギ酸、ギ酸ベンゾイル、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メトキシ酢酸、トリフェニルメトキシ酢酸、フェノキシ酢酸、p-クロロフェノキシ酢酸、3-フェニルプロピオナート、4-オキソペンタノエート(レブリン酸)、4,4-(エチレンジチオ)ペンタノエート(レブリノイルジチオアセタール)、ピバロ酸、アダマント酸、クロトン酸、4-メトキシクロトン酸、安息香酸、p-フェニル安息香酸、2,4,6-トリメチル安息香酸(メシト酸)、メチルカルボネート、9-フルオレニルメチルカルボネート(Fmoc)、エチルカルボネート、2,2,2-トリクロロエチルカルボネート(Troc)、2-(トリメチルシリル)エチルカルボネート(TMSEC)、2-(フェニルスルホニル)エチルカルボネート(Psec)、2-(トリフェニルホスホニオ)エチルカルボネート(Peoc)、イソブチルカルボネート、ビニルカルボネート、アリルカルボネート、t-ブチルカルボネート(BOCまたはBoc)、p-ニトロフェニルカルボネート、ベンジルカルボネート、p-メトキシベンジルカルボネート、3,4-ジメトキシベンジルカルボネート、o-ニトロベンジルカルボネート、p-ニトロベンジルカルボネート、S-ベンジルチオカルボネート、4-エトキシ-1-ナフチルカルボネート、メチルジチオカルボネート、2-ヨードベンゾエート、4-アジドブチレート、4-ニトロ-4-メチルペンタン酸、o-(ジブロモメチル)ベンゾエート、2-ホルミルベンゼンスルホナート、2-(メチルチオメトキシ)エチル、4-(メチルチオメトキシ)ブチレート、2-(メチルチオメトキシメチル)ベンゾエート、2,6-ジクロロ-4-メチルフェノキシアセテート、2,6-ジクロロ-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノキシアセテート、2,4-ビス(1,1-ジメチルプロピル)フェノキシアセテート、クロロジフェニルアセテート、イソブチレート、モノスクシノエート(monosuccinoate)、(E)-2-メチル-2-ブテノエート、o-(メトキシアシル)ベンゾエート、α-ナフトエート、硝酸、アルキルN,N,N’,N’-テトラメチルホスホロジアミデート、アルキルN-フェニルカルバメート、ホウ酸、ジメチルホスフィノチオイル、アルキル2,4-ジニトロフェニルスルフェナート、硫酸、メタンスルホナート(メシレート)、ベンジルスルホナート、およびトシレート(Ts)からなる群から選択される、
の化合物またはその塩。 - カップリングのステップが、Fe(TMHD)3、Mn金属、CuCl2、およびLiClの存在において行われる、請求項1、2、4~9、11~13、および15~19のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、FeBr2(dppb)、Mn金属、CuCl2、およびLiClの存在において行われる、請求項1、2、4~9、11~13、および15~19、のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、FeBr2(dppb)、Mn金属、CuI、LiCl、およびZrCp2Cl2の存在において行われる、請求項1、2、および4~19のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、FeBr2(SciOPP)、Mn金属、CuCl2、およびLiClの存在において行われる、請求項1、2、4~9、11~13、および15~19のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、FeBr2(SciOPP)、Mn金属、CuI、およびLiCl、およびZrCp2Cl2の存在において行われる、請求項1、2、および4~19のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、ジメトキシエタン(DME)において行われる、請求項1、2、4~19、および33~37のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、0℃から室温にて(境界を含む)行われる、請求項1、2、4~19、および33~38のいずれか一項に記載の方法。
- カップリングのステップが、0℃にて行われる、請求項39に記載の方法。
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