JP2019021676A - 有機el素子、有機el表示パネル、および、有機el表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、いわゆるトップエミッション型の有機EL表示パネルにおいては、基板側の電極を、可視光を反射する光反射性電極とし、対向側の電極を、透光性電極とすることで、光取り出し効率を高めている。
透光性の材料を用いて形成された電極(以下、「透光性電極」という)では、低抵抗と高透過率の両立が求められる。そのため、上記の金属酸化物のほか、金属薄膜の使用が検討されている。透光性電極では、さらに、より効率よく光を透過させ、また、抵抗率等の特性を一定化させるために、膜質の均一性が求められる。そのため、蒸着やスパッタリング法等での形成が行われる。
有機EL表示パネルの透光性電極には、可視光の高い透過率と低い電気抵抗が必要とされる。光取り出し効率の向上には、透光性電極の可視光透過率が高いことが好ましい。その一方で、有機EL表示パネルが大型化すると、パネルに沿った向きの電極の電気抵抗(以下、「シート抵抗」と呼ぶ)に起因する電圧降下によって素子ごとの駆動電圧にバラつきが生じうるため、電極のシート抵抗は低いことが好ましい。そこで、透光性電極のシート抵抗を低減するための方法として、導電性の高い銀(Ag)の薄膜を透光性電極として用いることが検討されている。
しかしながら、銀の薄膜を透光性電極として用いるためには、その膜厚を10nm〜20nm程度とする必要がある。銀薄膜層の膜厚が10nm未満になると、層状に形成したとしてもそのシート抵抗値が、ITO、IZOを使用した場合よりも大きくなるので、10nm以上であることが望ましく、また、同様に銀薄膜層の膜厚の上限値が20nmを超えると、層状に形成したとしても可視光に対する透光性が、ITO、IZOを使用した場合よりも劣化するので、20nm以下であることが望ましいからである。
図3は、例えば、スパッタリング法で銀を積層する際におけるアイランド化現象の発生原理を模式的に示す図であり、図の左から右に向かってアイランドが成長する過程を示している。
(2)吸着して表面を移動している原子が、他の原子と衝突して二体粒子となり、さらに複数個の結合体であるクラスタを形成する。
(3)クラスタには、基板に入射して表面を移動する原子の出入りがあり、分散消失する場合と、拡大成長する場合がある。拡大成長すると臨界核を形成する。
このようなアイランド現象は、特に、膜厚が50nm以下の銀薄膜を作成しようとする場合に発生する。
したがって、薄膜の表面はアイランドによる凸部と、アイランド間部分の凹部を多数有することとなり、膜厚の局所的なバラつきが生じる。そのため、可視光の透過率、反射率ともに低下が発生し、シート抵抗の不均質化が生じる。
<開示の態様>
本開示の一態様に係る有機EL素子は、基板の上方に、第1電極、発光層、下地層、光透過性の第2電極の順に積層されてなる有機EL素子であって、前記下地層は、光透過性および導電性を有すると共に、その第2電極が積層された面の表面粗さRaが、0.3nm以上2.7nm以下であり、前記第2電極が、銀または銀を主成分とする銀薄膜層である。
ここで、前記銀薄膜層の膜厚は、10nm以上20nm以下であることが望ましい。
また、前記下地層は、有機層であるとしてもよい。
また、前記第2電極は、陰極であって、前記下地層は、電子注入層または電子輸送層であるとしてもよい。
ここで、前記第1電極の前記発光層側の面と、前記下地層と前記第2電極との界面とに囲まれる領域が、前記両面を反射面とする光共振器を構成しているとしてもよい。
これにより、光共振器によってさらに光取り出し効率を向上させることができる。
また、本開示の一態様に係る有機EL表示パネルは、本開示のいずれかの態様に係る有機EL素子を備える、としてもよい。
<第1実施の形態>
1.有機EL表示パネルの概略構成
図1は、第1実施の形態に係る有機EL表示パネル100の概略構成を示す一部拡大断面図である。有機EL表示パネル100は、基板11上にマトリクス状に配置された複数の有機EL素子1を有する。1つの有機EL素子は、1つのサブ画素(サブピクセル)に相当し、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の何れかの発光色に対応している。そして、R,G,Bそれぞれに対応する3つのサブ画素(サブピクセル)により1つの画素(ピクセル)が構成される。即ち、1つの画素は、R色に対応した有機EL素子1(R)、G色に対応した有機EL素子1(G)、およびB色に対応した有機EL素子1(B)の3つの有機EL素子1から成る。有機EL表示パネル100は、同図上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型のカラーディスプレイパネルである。
有機EL表示パネル100は、基板11、層間絶縁層12、下部電極13、正孔注入層14、隔壁層15、正孔輸送層16、発光層17(17(R),17(G),17(B))、電子輸送層18、上部電極19、および封止層20を備える。
続いて、有機EL表示パネル100の各部構成について説明する。
(1) 基板
基板11は、絶縁材料である基材111と、TFT(Thin Film Transistor)層112とを含む。TFT層112には、サブ画素毎に駆動回路(不図示)が形成されている。基材111が形成される材料としては、例えば、ガラスが用いられる。ガラス材料としては、具体的には例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英等のガラスなどが挙げられる。
層間絶縁層12は、基板11上に形成されている。層間絶縁層12は、樹脂材料からなり、TFT層112の上面の段差を平坦化するためのものである。層間絶縁層12が形成される樹脂材料としては、例えば、ポジ型の感光性材料が用いられる。また、このような感光性材料としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
第1電極としての下部電極13は、導電材料からなり、層間絶縁層12上にサブ画素毎に形成される。下部電極13は、陽極であって、バリアメタル層13aおよびバリアメタル層13a上に積層された下部電極層13bから成る。バリアメタル層13aは、例えば、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)等の遷移金属元素を含有する金属あるいは合金からなる。本実施の形態においては、バリアメタル層13aは、タングステンから成る。
この断面図には現れていないが、層間絶縁層12には、コンタクトホールがサブ画素毎に形成されている。当該コンタクトホールにはTFT接続配線が埋め込まれており、下部電極13は、TFT接続配線を介して、TFT層112に形成された駆動回路と電気的に接続されている。
正孔注入層14は、下部電極13から発光層17への正孔の注入を促進させる機能を有する。正孔注入層14は、例えば、金属酸化物から成り、下部電極13上に配置される。正孔注入層14の形成は、例えば、スパッタリング法により行われる。
正孔注入層14の形成材料である金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン(WOx)、酸化モリブデン(MoOx)や、銀(Ag)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)等の酸化物を用いることができる。
隔壁層15は、正孔注入層14の上面の一部の領域を露出させ、その周辺の領域を被覆した状態で正孔注入層14上に形成されている。正孔注入層14の上面において隔壁層15で被覆されていない領域(以下、「開口部」という。)は、サブピクセルに対応している。即ち、隔壁層15は、サブピクセル毎に設けられた開口部15aを有する。
(6) 正孔輸送層
正孔輸送層16は、正孔注入層14から注入された正孔を発光層17へ輸送する機能を有し、正孔を正孔注入層14から発光層17へと効率よく輸送するため、正孔移動度の高い有機材料で形成されている。
また、正孔輸送層16はトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンゼン誘導体を用いて形成されてもよい。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物等を用いてもよい。この場合、正孔輸送層16は、真空蒸着法により形成される。
発光層17は、有機発光材料を含み、下部電極13の上方に位置する開口部15a内に形成されている。発光層17は、正孔と電子の再結合によりR、G、Bの各色の光を出射する機能を有する。
本実施の形態に係る有機EL表示パネル100においては、発光層17は、有機発光材料を含むインクがインクジェットにより開口部15a内に塗布されて形成される。
電子輸送層18は、複数の画素に共通して発光層17および隔壁層15上に設けられており、上部電極19から注入された電子を発光層17へと輸送する機能を有する。電子輸送層18は、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などを用い形成されている。
(9) 上部電極(陰極)
第2の電極としての上部電極19は、電子輸送層18上に複数の画素に共通して設けられており、陰極である。上部電極19は、銀をターゲットにしたスパッタリング法により成膜される。上部電極19は、厚さ10nm〜20nmの銀薄膜で形成されている。上部電極19が光透過性を有する厚みで形成されることにより、発光層17で発生した光を、上部電極19側から取り出すことができる。
上部電極19の上には、封止層20が設けられている。封止層20は、基板11の反対側から不純物(水,酸素)が上部電極19,電子輸送層18,発光層17等へと侵入するのを防ぎ、不純物によるこれらの層の劣化を抑制する機能を有する。
本実施の形態に係る有機EL表示パネル100はトップエミッション型の表示パネルであるため、封止層20の材料としては、例えばSiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)等の光透過性材料が用いられる。
なお、図1には図示されていないが、封止層20の上にカラーフィルタや上部基板を載置し、接合してもよい。上部基板を設けることにより、上部電極19,電子輸送層18,発光層17等に対する不純物からのさらなる保護を図ることができる。
2.電子輸送層18の表面粗さRaと上部電極19の銀薄膜の均質性との関係
前述の本開示の一態様に至った経緯で説明したように、銀薄膜を形成する際にアイランド現象が生じるのは、下地層の表面に吸着された銀原子の移動量が大きいためであると考えられる。
そのため、上部電極19の下地層となる電子輸送層(ETL)18の表面粗さRa(nm)を変化させて、その表面に形成された上部電極19のシート抵抗値(Ω/□)を測定する実験を行った。上述のようにアイランド現象が発生すれば、シート抵抗値が大きくなるので、このシート抵抗値を測定することによりアイランド現象の発生の程度を知ることができる。
下地層としての電子輸送層18の成膜は、真空蒸着法を用いて行われた。基板温度は25℃と一定のまま、成膜速度を変化させることにより、電子輸送層18の表面粗さRaを変化させた。
ここで、表面粗さRaとは、JISB0601:2001で定義される算術平均粗さであり、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さLだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線を y=f(x) で表したときに、次の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう(図4のテーブルでは便宜上、ナノメートル(nm)で表記している。)。なお、Raは原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)にて測定可能である。
図4のテーブルから次のことが分かる。
(2)電子輸送層の表面粗さが大きくなるにつれて、銀の核成長が抑制され連続膜になりやすくなりシート抵抗値が小さくなる。
(3)電子輸送層の表面粗さが大きくなると、銀が連続膜になり、銀薄膜の表面粗さRaが小さくなる。しかし、電子輸送層の表面粗さRaが所定の値(図4の実験結果では、Ra=0.8)を超えて大きくなると次第に上部電極の表面粗さも大きくなっている。
電子輸送層の表面粗さRaが0.2nmのときには、アイランドが形成されているため、上部電極としての銀薄膜のシート抵抗値が10.3Ω/□と大きな値となり、また、銀薄膜の表面粗さRaも3.9nmと大きくなって、膜質が不均一で実製品には使用できないので、判定としては「×」(不良)とされる。
ところが、電子輸送層の表面粗さRaが3.3nmまで大きくなると銀薄膜のシート抵抗値は下がるが、表面粗さRaが、3.7nmと増大してしまう。
このように上部電極の表面粗さRaが大きくなると透光性が劣化すると共に、厚みの大きな箇所に、電界が集中して、過電流が発生し、ダークスポットなどが発生するおそれがあるため、判定としては「×」(不良)とされる。
図5、図6は、サンプルにおける上部電極19の表面を撮像した電子顕微鏡写真を示す。
図5は、比較例として下地層である電子輸送層の表面粗さRaを0.2nmとして上部電極を形成したときの写真である。この場合、上部電極には、アイランド303が形成され、アイランドとアイランドの間にボイド(空隙)304が発生している。
図4は、上部電極19である銀薄膜層の膜厚が15nmのときの実験結果であったが、発明者は確認のため、銀薄膜層の膜厚が10nmの場合と20nmの場合についても実験を行った。
銀薄膜層の膜厚以外の実験条件は、図4の場合と同じである。
(実験結果の評価)
電子輸送層の表面粗さRaが0.2nmのときには、アイランドが形成されているため、上部電極としての銀薄膜のシート抵抗値が13.6Ω/□と大きな値となり、また、銀薄膜の表面粗さRaも4.5nmと大きくなって、膜質が不均一で実製品には使用できないので、判定としては「×」(不良)とされる。
ところが、電子輸送層の表面粗さRaが3.3nmまで大きくなると銀薄膜のシート抵抗値は下がるが、表面粗さRaが、3.5nmと増大してしまう。
このように上部電極の表面粗さRaが大きくなると透光性が劣化すると共に、厚みの大きな箇所に、電界が集中して、過電流が発生し、ダークスポットなどが発生するおそれがあるため、判定としては「×」(不良)とされる。
図8は、銀薄膜層の膜厚が20nmのときの実験の結果を示すテーブルである。
銀薄膜層の膜厚以外の実験条件は、図4、図7の場合と同じである。
電子輸送層の表面粗さRaが0.2nmのときには、アイランドが形成されているため、上部電極としての銀薄膜のシート抵抗値が9.3Ω/□と大きな値となり、また、銀薄膜の表面粗さRaも3.5nmと大きくなって、膜質が不均一で実製品には使用できないので、判定としては「×」(不良)とされる。
ところが、電子輸送層の表面粗さRaが3.3nmまで大きくなると銀薄膜のシート抵抗値は下がるが、表面粗さRaが、3.9nmと増大してしまう。
このように上部電極の表面粗さRaが大きくなるとやはり透光性が劣化すると共に、厚みの大きな箇所に、電界が集中して、過電流が発生し、ダークスポットなどが発生するおそれがあるため、判定としては「×」(不良)とされる。
(まとめ)
以上説明したように、下地層である電子輸送層の表面粗さRaが、0.3nm以上2.7nm以下である場合には(この条件を、以下「表面粗さ条件」という。)、それに積層された銀による上部電極の膜厚が10nm〜20nmの範囲において、シート抵抗値が小さく、膜質が均一であり、透光性電極としての陰極の膜質を安定化させることができる。
次に、有機EL表示パネル100の製造方法の一例を、図9〜図12を用いて説明する。なお、図9〜図11は、有機EL表示パネル100の製造過程を模式的に示す部分断面図であり、図12は、有機EL表示パネル100の製造過程を示す概略工程図である。
先ず、図9(a)に示すように、基材111上にTFT層112を形成して、基板11を形成する(図12のステップS1)。
さらに続いて、図9(d)に示すように、バリアメタル材料層131上に下部電極レイヤー132を形成する。下部電極レイヤー132は、光反射性の導電材料を用いてスパッタリング法により層間絶縁層12上に一様に形成する(図12のステップS4)。
本実施の形態においては、図9(d)に示すように、下部電極レイヤー132およびバリアメタル材料層131により下部電極材料層130が構成される。
そして、図9(f)に示すように、下部電極材料層130および正孔注入材料層140をエッチングによりパターニングして、サブピクセルごとに区画された複数の下部電極13および正孔注入層14を形成する(図12のステップS6)。
続いて、図10(a)に示すように、正孔注入層14および層間絶縁層12上に、隔壁層15の材料である隔壁層用樹脂を塗布し、隔壁材料層150を形成する。隔壁層用樹脂には、例えば、ポジ型の感光性材料であるフェノール樹脂が用いられる。隔壁材料層150は、隔壁層用樹脂であるフェノール樹脂を溶媒(例えば、乳酸エチルとGBLの混合溶媒)に溶解させた溶液を正孔注入層14上および層間絶縁層12上にスピンコート法などを用いて一様に塗布することにより形成される。
また、隔壁層15の形成工程においては、さらに、隔壁層15の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施すこととしてもよい。これは、開口部15aに塗布するインク(溶液)に対する隔壁層15の接触角を調節する目的で、もしくは、表面に撥水性を付与する目的で行われる。
そして、図10(d)に示すように、発光層17の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド401のノズル4030から吐出して開口部15a内の正孔輸送層16上に塗布し、焼成(乾燥)を行って発光層17を形成する(図12のステップS10)。
この際、電子輸送層18の表面粗さRaが、例えば、0.5nmになるようにその成膜速度が1.0Å/Sに制御される(図4のテーブル参照)。
続いて、図11(c)に示すように、上部電極19上に、SiNを材料にスパッタリング法,CVD(Chemical Vapor Deposition)法等により成膜し、封止層20を形成する(図12のステップS13)。
以上の工程を経ることにより有機EL表示パネル100が完成する。このように、本実施の形態に係る有機EL表示パネル100においては、上部電極19の下地層としての電子輸送層18の表面粗さRaを、上部電極19にアイランド現象が生じないような一定の範囲内に設定することを特徴としている。
図13は、有機EL表示パネル100を備えた有機EL表示装置1000の構成を示す模式ブロック図である。図13に示すように、有機EL表示装置1000は、有機EL表示パネル100と、これに接続された駆動制御部200とを含む構成である。駆動制御部200は、4つの駆動回路210〜240と、制御回路250とから構成されている。
<第2実施の形態>
上記第1実施の形態では、上部電極19の下地層としての電子輸送層18の表面粗さRaを所定の範囲内に調整することにより、下地層に吸着した銀原子の移動量を抑制して上部電極19形成時のアイランド現象の発生を抑制するようにしたが、本願発明者は、別の方法によっても銀原子の移動量を抑制できることを見出した。
図14は、このときの実験結果を示すテーブルである。
なお、ここでの表面自由エネルギーの測定方法は、表面自由エネルギー接触角測定法による。この接触角測定法は、一般の測定方法として用いられるものであり、例えばD.H. KAELBLE,JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE Vol.18.PP.1869−1889(1974)に記載されているものが挙げられる。
具体的な測定方法は以下のように定義される。
γL=γL d+γL p
γS=γS d+γS p
γL(1+cosθ)=2(γS d γL d)1/2+2(γS p γL p)1/2
γL d :液体の表面自由エネルギーの分散成分
γL p :液体の表面自由エネルギーの極性成分
γS d :固体の表面自由エネルギーの分散成分
γS p :固体の表面自由エネルギーの極性成分
γL :液体の表面自由エネルギー
γS :固体の表面自由エネルギー
θ :接触角
表面自由エネルギーの成分(γL、γL d、γL p)が既知の液体(例えば水、ホルムアミド)を用いて接触角θを測定し、上記の式からγS dとγS pを導出することでγSが求められる。なお、接触角θの測定には、協和界面科学株式会社製の自動接触角計DM−501を用いた。
(1)UVオゾン処理時間を長くするにつれて、電子輸送層の表面自由エネルギーが大きくなる。
(2)電子輸送層の表面自由エネルギーが大きくなるにつれて、銀の核成長が抑制され連続膜になりやすくなりシート抵抗が小さくなる。
(4)電子輸送層の表面自由エネルギーが大きくなりすぎると、銀薄膜形成前に電子輸送層に異物が付着しやすくなる。
(実験結果の評価)
具体的に、UVオゾン処理を全く行わない場合(0秒)には、電子輸送層の表面自由エネルギーは、25mJ/m2であり、このときの異物の付着は見られなかったものの、上部電極のシート抵抗値は、10.3Ω/□、表面粗さRaは3.9nmと共に大きくなり、アイランドが形成されていると判定されるので、「×」(不良)と評価される。
ところが、UVオゾン処理時間を10秒にすると、表面自由エネルギーが150mJ/m2にもなり、上部電極のシート抵抗値、表面粗さRaともに許容範囲内となったが、電子輸送層の表面に異物の付着が発見された。あまりにも表面自由エネルギーが大きすぎると雰囲気中の微小な異物までも吸着して、その後の上部電極19の形成に支障を来すので、判定結果は「×」(不良)と評価される。
因みに、電子輸送層の成膜速度が、0.2Å/Sで基板温度が25℃のとき、図4の表面粗さRaの実験では、評価が「×」だったので、この第2の実施の形態で求めた表面自由エネルギーの最適範囲は、電子輸送層の表面粗さRaとは別個に決定されたパラメータと解することができる。
図15は、銀薄膜層の膜厚が10nmのときの実験結果を示すテーブルである。
銀薄膜層の膜厚以外の実験条件は、図14の場合と同じである。
UVオゾン処理を全く行わない場合(0秒)には、電子輸送層の表面自由エネルギーは、25mJ/m2であり、このときの異物の付着は見られなかったものの、上部電極のシート抵抗値は、13.6Ω/□、表面粗さRaは4.5nmと共に大きくなり、アイランドが形成されていると判定されるので、「×」(不良)と評価される。
ところが、UVオゾン処理時間を10秒にすると、表面自由エネルギーが150mJ/m2にもなり、上部電極のシート抵抗値、表面粗さRaともに許容範囲内となったが、図14の場合と同様、電子輸送層の表面に異物の付着が発見された。あまりにも表面自由エネルギーが大きすぎると雰囲気中の微小な異物までも吸着して、その後の上部電極19の形成に支障を来すので、判定結果は「×」(不良)と評価される。
銀薄膜層の膜厚以外の実験条件は、図14、図15の場合と同じである。
(実験結果の評価)
UVオゾン処理を全く行わない場合(0秒)には、電子輸送層の表面自由エネルギーは、25mJ/m2であり、このときの異物の付着は見られなかったものの、上部電極のシート抵抗値は、9.3Ω/□、表面粗さRaは3.5nmと共に大きくなり、アイランドが形成されていると判定されるので、「×」(不良)と評価される。
ところが、UVオゾン処理時間を10秒にすると、表面自由エネルギーが150mJ/m2にもなり、上部電極のシート抵抗値、表面粗さRaともに許容範囲内となったが、やはり、電子輸送層の表面に異物の付着が発見され、判定結果は「×」(不良)と評価される。
上記実験結果より、上部電極19の膜厚が10nm〜20nmの範囲において、下地層としての電子輸送層の表面自由エネルギーが、33mJ/m2〜97mJ/m2(この条件を、以下「表面自由エネルギー条件」という。)であれば、銀原子の移動量を抑制力が生じてアイランドの形成が制限され、銀の連続膜を形成することができ、しかも異物の付着を排除することができ、均質な上部電極を形成することができることが分かる。
他の構成については、第1実施の形態と全て同じであるので説明を省略する。
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は、上述の実施の形態に限定されないのは勿論であり、以下のような変形例が考えられる。
1.表面粗さRaの他の制御方法
上記第1実施の形態では、電子輸送層18の表面粗さRaが表面粗さ条件を満たすため、その成膜速度を制御するようにしたが、成膜速度は一定のままで、基板の温度を調整することによっても表面粗さRaを調整することができる。
同テーブルに示すように成膜速度を1.5Å/Sのまま一定にし、基板温度を25℃から300℃まで変化させたところ、次のことが分かった。
(1)電子輸送層の成膜時に基板温度が高くなるにつれて電子輸送層の表面粗さRaが小さくなる。
(3)電子輸送層の表面粗さRaが小さくなり銀薄膜が島状になると銀薄膜の表面粗さが大きくなる。
図17の実験結果では、基板温度が300℃のとき電子輸送層の表面粗さRaが0.2nmとなり、このときの銀薄膜のシート抵抗値、表面粗さRa共に大きく、判定が「×」(不良)となった。基板温度25℃、80℃、150℃では、上部電極19のシート抵抗値、表面粗さRaともに許容範囲内となり、「○」(良好)と判定された。
上記実施の形態では、電子注入層を形成していなかったが、図18に示すように電子輸送層18と上部電極19の間に、電子注入層21を介在させても構わない。
この電子注入層21は、電子輸送層18上に複数の画素に共通して設けられており、上部電極19から発光層17への電子の注入を促進させる機能を有する。
この場合には上部電極19に対して電子注入層21が下地層になるので、電子注入層21の表面(上部電極19が積層される側の面)が、上記表面粗さ条件もしくは表面自由エネルギー条件を満たすように形成される。
図19のEL素子の模式的な部分拡大断面図に示すように、電子輸送層18と上部電極19の間に、複数の画素に共通する透光性導電層22を介在させるようにしてもよい。
この透光性導電層22は、下部電極13の上面と、上部電極19の下面とをそれぞれ反射面とする、光共振器構造を形成するために設けられる。したがって、透光性導電層22は、可視光の透過率が高く、かつ、屈折率が銀薄膜である上部電極19の屈折率とは異なる金属酸化物であることが好ましく、例えば、ITOやIZOを用いることができる。
図19には、発光層17から出射される光の主な経路を示している。経路C1は、発光層17から上部電極19側に出射された光が、反射されることなく上部電極19を透過する経路である。経路C2は、発光層17から下部電極13側に出射された光が、下部電極13で反射され、発光層17と上部電極19を透過する経路である。経路C3は、発光層17から上部電極19側に出射された光が、上部電極19で反射され、さらに下部電極13で反射され、発光層17と上部電極19を透過する経路である。そして、これら経路C1〜C3のそれぞれの経路により出射された光の間で干渉が生じる。経路C2と経路C3との光学距離の差は、図19に示す光学膜厚L2に対応する。また、経路C1と経路C3の光学距離の差は、図19に示す光学膜厚L3に対応する。透光性導電層22は、光学膜厚L2および光学膜厚L3を、光共振器構造を形成するための所望の値に設定するための膜厚を有する。
4.上記実施の形態では、上部電極19を銀単体で成膜したが、銀を主成分として他の金属(例えば銅)を含む銀合金で成膜しても構わない。この場合でも上記表面粗さ条件または表面自由エネルギー条件下において、銀を主成分とする限り、図4や図14などで示したのと同様な判定結果を得られるからである。
5.上記実施の形態では、下部電極13と上部電極19との間に、正孔注入層14、正孔輸送層16、発光層17、電子輸送層18が存在する構成であったが、本発明はこれに限らない。例えば、正孔注入層14、正孔輸送層16、電子輸送層18を用いずに、下部電極13と上部電極19との間に発光層17および上部電極19の下地層のみが存在する構成でもよい。
なお、下地層における光透過性は、可視光が50%以上透過するのが望ましく、
また下地層における導電性は、シート抵抗値が10Ω/□以下であることが望ましい。
6.上記実施の形態においては、本開示に係る有機EL表示パネルは、有機の発光材料を用いていたが、これに限らず、無機の発光材料を用いた有機EL表示パネルでもよい。
7.以上、本開示に係る有機EL表示パネルおよび有機EL表示装置について、実施の形態および変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態および変形例に限定されるものではない。上記実施の形態および変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で実施の形態および変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
11 基板
12 層間絶縁層
13 下部電極
14 正孔注入層
15 隔壁層
16 正孔輸送層
17 発光層
18 電子輸送層
19 上部電極
20 封止層
21 電子注入層
22 透光性導電層
100 有機EL表示パネル
Claims (11)
- 基板の上方に、第1電極、発光層、下地層、光透過性の第2電極の順に積層されてなる有機EL素子であって、
前記下地層は、光透過性および導電性を有すると共に、その第2電極が積層された面の表面粗さRaが、0.3nm以上2.7nm以下であり、
前記第2電極が、銀または銀を主成分とする銀薄膜層である
ことを特徴とする有機EL素子。 - 基板の上方に、第1電極、発光層、下地層、光透過性の第2電極の順に積層されてなる有機EL素子であって、
前記下地層は、光透過性および導電性を有すると共に、その第2電極が積層された面の表面自由エネルギーが、33mJ/m2以上97mJ/m2以下であり、
前記第2電極が、銀または銀を主成分とする銀薄膜層である
ことを特徴とする有機EL素子。 - 前記銀薄膜層の膜厚は、10nm以上20nm以下である
請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記下地層は、有機層である
請求項1から3までのいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記第2電極は、陰極であって、前記下地層は、電子注入層または電子輸送層である
請求項1から3までのいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記下地層の材料は、ITOまたはIZOのいずれかから選択される
請求項1から3までのいずれかに記載の有機EL素子。 - 前記第1電極の前記発光層側の面と、前記下地層と前記第2電極との界面とに囲まれる領域が、前記両面を反射面とする光共振器を構成している
請求項6に記載の有機EL素子。 - 請求項1から7までのいずれか1項に記載の有機EL素子を備える有機EL表示パネル。
- 基板の上方に、第1電極、発光層、下地層、光透過性の第2電極をこの順に積層する有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記下地層は、光透過性、導電性を有する材料で形成され、その第2電極が積層される面の表面粗さRaが、0.3nm以上2.7nm以下であり、
前記第2電極は、
銀または銀を主成分とする銀薄膜層によって形成される
ことを特徴とする有機EL表示パネルの製造方法。 - 基板の上方に、第1電極、発光層、下地層、光透過性の第2電極をこの順に積層する有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記下地層は、光透過性、導電性を有する材料で形成され、その第2電極が積層される面の表面自由エネルギーが、33mJ/m2以上97mJ/m2以下であり、
前記第2電極は、
銀また銀を主成分とする銀薄膜層によって形成される
ことを特徴とする有機EL表示パネルの製造方法。 - 前記銀薄膜層の膜厚は、10nm以上20nm以下である
請求項9または10に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022215928A1 (ko) * | 2021-04-08 | 2022-10-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04285167A (ja) * | 1991-03-15 | 1992-10-09 | Limes:Kk | 連続薄膜の形成方法 |
WO2013145667A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | ソニー株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
US20130285021A1 (en) * | 2010-08-16 | 2013-10-31 | University Of Washington Through Its Center For Commercialization | Solution-processable electron-transport materials and related organic optoelectronic devices |
WO2014030666A1 (ja) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、電子デバイス、および透明電極の製造方法 |
JP2014140048A (ja) * | 2008-10-10 | 2014-07-31 | Canon Inc | 有機el表示装置 |
JP2016535918A (ja) * | 2013-10-04 | 2016-11-17 | クヮンジュ・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー | 光透過度が優れる電極、光透過度が優れる電極の製造方法及び光透過度が優れる電極を含む電子素子 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100051973A1 (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | Seiko Epson Corporation | Light-emitting device, electronic equipment, and process of producing light-emitting device |
JP2010114428A (ja) | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Canon Inc | 有機el表示装置 |
JP2011009017A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Panasonic Corp | 有機elディスプレイパネル |
KR101643009B1 (ko) * | 2009-12-22 | 2016-07-27 | 가부시키가이샤 제이올레드 | 표시 장치와 그 제조 방법 |
JP5677433B2 (ja) * | 2010-08-06 | 2015-02-25 | パナソニック株式会社 | 有機el素子、表示装置および発光装置 |
CN103140951A (zh) * | 2010-11-15 | 2013-06-05 | 松下电器产业株式会社 | 有机el元件、显示面板以及显示装置 |
JP5720816B2 (ja) | 2011-06-24 | 2015-05-20 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電性膜 |
JP5488849B2 (ja) | 2011-06-24 | 2014-05-14 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット |
JP2013214359A (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布膜形成方法、及び、有機el素子 |
CN104782230B (zh) | 2012-11-16 | 2016-11-16 | 柯尼卡美能达株式会社 | 透光性电极及电子器件 |
JP2015138765A (ja) | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 日本放送協会 | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法、表示装置 |
JP2016091841A (ja) | 2014-11-06 | 2016-05-23 | 株式会社Joled | 有機発光デバイスと有機表示装置 |
-
2017
- 2017-07-12 JP JP2017136370A patent/JP6748611B2/ja active Active
-
2018
- 2018-07-09 US US16/030,389 patent/US10454070B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04285167A (ja) * | 1991-03-15 | 1992-10-09 | Limes:Kk | 連続薄膜の形成方法 |
JP2014140048A (ja) * | 2008-10-10 | 2014-07-31 | Canon Inc | 有機el表示装置 |
US20130285021A1 (en) * | 2010-08-16 | 2013-10-31 | University Of Washington Through Its Center For Commercialization | Solution-processable electron-transport materials and related organic optoelectronic devices |
WO2013145667A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | ソニー株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
WO2014030666A1 (ja) * | 2012-08-24 | 2014-02-27 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、電子デバイス、および透明電極の製造方法 |
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