JP2019012842A - 積層インダクタ - Google Patents
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 30
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 6
- 229910016347 CuSn Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical class [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
Description
本発明の積層インダクタは積層体と積層体の外面に位置する外部電極とを備える。積層体は、好ましくは非磁性層からなる絶縁部と、絶縁部に挟まれるように位置する導体からなるコイル部と、を有する。外部電極はコイル部の端部と電気的に結合している。外部電極はAgを主成分とする第一電極層と、積層体からみて第一電極層の外側に位置するCuを主成分とする第二電極層と、を有する。第二電極層は4μm以上の厚さをもち、第一電極層と第二電極層との厚みの合計は5μm以上であり、好ましくは10μm以下である。積層インダクタは、好ましくは積層方向に垂直な断面は方形状を呈し、前記方形状の長辺は好ましくは0.6mm以下であり、短辺は好ましくは0.3mm以下である。
このようにして、実施例、比較例の積層インダクタを得た。
比較例1:第一電極層(Ag層、1.1μm)、第二電極層(Ni層、3.9μm)、厚み比率(0.28)
比較例2:第一電極層(Ag層、1.1μm)、第二電極層(Ni層、5.8μm)、厚み比率(0.19)
比較例3:第一電極層(Ag層、5.0μm)、第二電極層(Cu層、3.0μm)、厚み比率(1.67)
実施例1:第一電極層(Ag層、1.0μm)、第二電極層(Cu層、4.0μm)、厚み比率(0.25)
実施例2:第一電極層(Ag層、2.0μm)、第二電極層(Cu層、5.0μm)、厚み比率(0.40)
実施例3:第一電極層(Ag層、2.0μm)、第二電極層(Cu層、8.0μm)、厚み比率(0.25)
実施例4:第一電極層(Ag層、4.0μm)、第二電極層(Cu層、7.0μm)、厚み比率(0.57)
実施例5:第一電極層(AgPd合金層、2.0μm)、第二電極層(Cu層、5.0μm)、厚み比率(0.40)
実施例6:第一電極層(Ag層、0.9μm)、第二電極層(Cu+CuSn合金層、9.0μm)、厚み比率(0.10)
実施例7:第一電極層(Ag層、1.1μm)、第二電極層(Cu層、4.0μm)、厚み比率(0.28)
実施例8:第一電極層(Ag層、3.0μm)、第二電極層(Cu層、4.0μm)、厚み比率(0.75)
実施例9:第一電極層(Ag層、1.1μm)、第二電極層(Cu層、4.0μm)、厚み比率(0.28)
実施例10:第一電極層(Ag層、2.5μm)、第二電極層(Cu層、4.0μm)、厚み比率(0.63)
比較例1:R値(262.1mΩ)、Q値(54.2)、半田良否(○)
比較例2:R値(261.0mΩ)、Q値(55.1)、半田良否(○)
比較例3:R値(190.4mΩ)、Q値(68.0)、半田良否(×)
実施例1:R値(212.2mΩ)、Q値(77.9)、半田良否(○)
実施例2:R値(195.2mΩ)、Q値(78.1)、半田良否(○)
実施例3:R値(186.8mΩ)、Q値(74.3)、半田良否(○)
実施例4:R値(183.1mΩ)、Q値(66.8)、半田良否(○)
実施例5:R値(201.2mΩ)、Q値(75.1)、半田良否(○)
実施例6:R値(208.1mΩ)、Q値(72.6)、半田良否(○)
実施例7:R値(205.3mΩ)、Q値(78.5)、半田良否(○)
実施例8:R値(203.7mΩ)、Q値(74.3)、半田良否(○)
実施例9:R値(378.7mΩ)、Q値(38.8)、半田良否(○)
実施例10:R値(369.1mΩ)、Q値(30.0)、半田良否(○)
10:外部電極
11:第一電極層
12:第二電極層
13:第三電極層
A21〜A29:絶縁体層
B21〜B26:導体パターン
C21〜C25:ビアホール導体
Claims (3)
- 絶縁体層からなる絶縁部と、前記絶縁部に挟まれるように位置する導体からなるコイル部と、を有する略直方体状の積層体、ならびに、前記コイル部の端部と電気的に結合し前記積層体の外面に位置する外部電極を備え、前記外部電極はAgを主成分とする第一電極層と、前記積層体からみて前記第一電極層の外側に位置するCuを主成分とする4μm以上の厚さをもつ第二電極層と、を有し、第一電極層と第二電極層との厚みの合計が5μm以上であり、前記外部電極が前記積層体の前記外面の2面以上にまたがって形成されている、積層インダクタ。
- 第一電極層と第二電極層との厚みの合計が10μm以下である請求項1に記載の積層インダクタ。
- 積層方向に垂直な断面が0.6mm以下の長辺および0.3mm以下の短辺をもつ方形状を呈する請求項1又は2に記載の積層インダクタ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013074885 | 2013-03-29 | ||
JP2013074885 | 2013-03-29 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014052854A Division JP6407540B2 (ja) | 2013-03-29 | 2014-03-15 | 積層インダクタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019012842A true JP2019012842A (ja) | 2019-01-24 |
JP6525392B2 JP6525392B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=65226988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018175314A Active JP6525392B2 (ja) | 2013-03-29 | 2018-09-19 | 積層インダクタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6525392B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006024712A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Tdk Corp | 表面実装型電子部品 |
JP2012079870A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Tdk Corp | 電子部品 |
-
2018
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006024712A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Tdk Corp | 表面実装型電子部品 |
JP2012079870A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Tdk Corp | 電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6525392B2 (ja) | 2019-06-05 |
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