JP2019003714A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁変換特性及び磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体と、非磁性支持体上に、ε−Ｆｅ２Ｏ３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含有する強磁性粉末、及び結合剤を含む磁性層とを有し、最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓで測定して得られる磁界−磁化曲線より求めた、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界をＨｃ’とし、磁界−磁化曲線において、磁化がゼロになる磁界の値をＨｃとした場合、Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６以上１．０以下であり、かつ、Ｈｃ’が下記式（ＩＩ）を満たす、磁気記録媒体。ｄ２Ｍ／ｄＨ２式（Ｉ）１１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。【選択図】なし

Description

本開示は、磁気記録媒体に関する。

イプシロン型酸化鉄（ε−Ｆｅ_２Ｏ_３）は、フェライト磁石の３倍の保磁力を有することから、磁性材料として注目が集まっている。これに関連して、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３（Ｆｅサイトの一部が他の金属元素で置換された化合物を含む）を含む磁性材料の磁気特性を向上させるための試みがなされている。
例えば、ε−Ｆｅ₂Ｏ₃結晶（Ｆｅサイトの一部が金属元素Ｍで置換されたものを含む）を主相とする鉄酸化物の粒子からなり、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により測定される粒子径において、平均粒子径が１０ｎｍ〜２００ｎｍ、かつ、粒子径１０ｎｍ未満の粒子の個数割合が２５％以下である磁性粉末が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
また、例えば、所定の磁気特性を有する平均粒子径が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であるε−Ｆｅ₂Ｏ₃のＦｅサイトの一部を他の金属元素で置換した鉄系酸化物磁性粒子粉が開示されている（例えば、特許文献２参照）。

特許第５１３０５３４号公報 特許第５９６６０６４号公報

特許文献１の磁性材料は保磁力が高いこと、及び特許文献２の磁性材料は保磁力分布が狭いことが開示されている。しかしながら、磁気記録媒体を作製する場合には、磁性材料の磁気特性が良好であることのみならず、例えば走行耐久性などの観点から磁性層の膜強度が良好であることなどの物理的特性も重要である。これに関して、本発明者の検討によれば、特許文献１及び特許文献２の磁性材料を磁性層に含む磁気記録媒体は、磁性層の膜強度が不十分であることが判明した。

上記に鑑み、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、電磁変換特性及び磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を提供することである。

上記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 非磁性支持体と、非磁性支持体上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含有する強磁性粉末、及び結合剤を含む磁性層とを有し、最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓで測定して得られる磁界−磁化曲線より求めた、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界をＨｃ’とし、磁界−磁化曲線において、磁化がゼロになる磁界の値をＨｃとした場合、Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６以上１．０以下であり、かつ、Ｈｃ’が下記式（ＩＩ）を満たす、磁気記録媒体。
ｄ^２Ｍ／ｄＨ^２ 式（Ｉ）
１１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
＜２＞ 結合剤が、架橋構造を有する結合剤である、＜１＞に記載の磁気記録媒体。
＜３＞ Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６５以上１．０以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の磁気記録媒体。
＜４＞ Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．７１以上１．０以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
＜５＞ 結合剤の含有量が、強磁性粉末１００質量部に対し、５質量部〜３０質量部である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
＜６＞ 磁性層において、強磁性粉末の質量に対する、不揮発成分の質量の質量比が、０．１５〜１．８である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
＜７＞ 磁性層の厚みが、１０ｎｍ〜３５０ｎｍである、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
＜８＞ 式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の磁気記録媒体。
＜９＞ 式（１）で表される化合物が、Ｇａを含み、Ｇａ原子の原子組成百分率が、Ｆｅ原子に対し５原子％〜５０原子％である、＜８＞に記載の磁気記録媒体。

本開示によれば、電磁変換特性及び磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を提供することができる。

本開示において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において「溶媒」とは、水、有機溶剤、及び水と有機溶剤との混合溶媒を包含する意味で用いられる。

＜磁気記録媒体＞
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、非磁性支持体上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含有する強磁性粉末、及び結合剤を含む磁性層とを有し、最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓで測定して得られる磁界−磁化曲線より求めた、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界をＨｃ’とし、磁界−磁化曲線において、磁化がゼロになる磁界の値をＨｃとした場合、Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６以上１．０以下であり、かつ、Ｈｃ’が下記式（ＩＩ）を満たす。
ｄ^２Ｍ／ｄＨ^２ 式（Ｉ）
１１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。

従来、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３（Ｆｅサイトの一部が他の金属元素で置換された化合物を含む）を含む磁性材料の磁気特性を向上させるための試みがなされてきた。しかしながら、磁気記録媒体を作製する場合には、磁性材料の磁気特性が良好であることのみならず、例えば走行耐久性などの観点から、磁性層の膜強度などの物理的特性が優れていることも重要である。これに関して、特許文献１及び特許文献２に記載されているε−Ｆｅ_２Ｏ_３を磁性層に含む磁気記録媒体は、磁性層の膜強度が十分でないことが判明している。
これに対し、本開示においては、以下に詳細を述べるＨｃ／Ｈｃ’が０．６以上１．０以下であることにより、電磁変換特性及び磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体が提供される。
その詳細は不明であるものの、以下のように推察される。すなわち、本開示の磁気記録媒体においては、Ｈｃ／Ｈｃ’が０．６以上１．０以下であることにより、磁気記録媒体の磁性層中の超常磁性成分が少なくなり、磁気記録媒体の電磁変換特性が向上すると考えられる。
そのような超常磁性成分としては、１０ｎｍ未満（例えば５ｎｍ以下）の一次粒径を有することにより著しく磁気特性が低下した、極微細な強磁性粉末粒子が考えられる。このような極微細な強磁性粉末粒子は、一次粒径が大きい強磁性粉末粒子に比較して、単位体積当たりの表面積が大きい。それゆえ、磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’が０．６未満である場合、磁性層にこのような極微細粒子が大量に存在することにより、磁性層に膜を形成するために十分な量の結合剤が、大きな表面積を有する強磁性粉末に対して確保できなくなり、磁気記録媒体の磁性層における膜強度が低下すると考えられる。しかしながら、本開示では、磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’が０．６以上１．０以下であることにより、磁気記録媒体の磁性層に極微細な強磁性粉末粒子などの超常磁性成分が少なくなり、磁性層に膜を形成するために十分な量の結合剤が強磁性粉末に対して確保され、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体が形成されると考えられる。

本開示においては、磁界−磁化曲線から得られる下記物性を制御することにより、電磁変換特性及び磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を提供できることが判明した。
具体的には、磁気記録媒体において、最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓで測定して得られる磁界−磁化曲線より求めた、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界をＨｃ’とし、磁界−磁化曲線において、磁化がゼロになる磁界の値をＨｃとした場合、Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６以上１．０以下であり、かつ、Ｈｃ’が下記式（ＩＩ）を満たす。
ｄ^２Ｍ／ｄＨ^２ 式（Ｉ）
１１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）
本開示においては、上記Ｈｃ’に対するＨｃの値を「Ｈｃ／Ｈｃ’」と称する場合がある。

（Ｈｃ／Ｈｃ’）
本開示におけるＨｃ／Ｈｃ’の求め方について具体的に説明する。
磁気記録媒体について、玉川製作所製の振動試料型磁束計（ＴＭ−ＴＲＶＳＭ５０５０−ＳＭＳＬ型）を用いて、最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓにて、印加した磁界に対する磁化の強度を測定する。測定結果より、磁界（Ｈ）−磁化（Ｍ）曲線を得る。

得られた磁界（Ｈ）−磁化（Ｍ）曲線に基づいて、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界を算出し、これをＨｃ’と定義する。Ｈｃ’は下記式（ＩＩ）を満たす。
ｄ^２Ｍ／ｄＨ^２ 式（Ｉ）
１１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）
式（Ｉ）の値がゼロになる磁界の値（Ｈｃ’）は、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで微分した値（ｄＭ／ｄＨ）が最大となるときの磁界の値に等しい。
また、得られた磁界（Ｈ）−磁化（Ｍ）曲線において、磁化Ｍがゼロになる磁界Ｈの値をＨｃと定義する。Ｈｃは、測定対象である磁性粉の保磁力を表す値である。
ここで得られた式（Ｉ）の値がゼロになる磁界の値（Ｈｃ’）に対する、磁化がゼロになる磁界の値（Ｈｃ）の比（Ｈｃ／Ｈｃ’）を求める。
Ｈｃ／Ｈｃ’は、超常磁性成分の影響を受けた場合の磁化反転磁場と、超常磁性成分の影響を受けていない場合の磁化反転磁場との比を表しており、間接的に超常磁性成分量を示すパラメータである。Ｈｃ／Ｈｃ’の値が高いほど超常磁性成分は少なくなり、Ｈｃ／Ｈｃ’の値が低いほど超常磁性成分は多くなる。なお、Ｈｃ／Ｈｃ’の理論的上限値は、１．０である。

本開示の磁気記録媒体において、Ｈｃ／Ｈｃ’は、０．６以上１．０以下であり、好ましくは０．６５以上１．０以下であり、より好ましくは０．７１以上１．０以下であり、更に好ましくは０．９０以上１．０以下である。磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’が、０．６以上１．０以下、好ましくは０．６５以上１．０以下であることにより、磁気記録媒体の電磁変換特性及び磁性層の膜強度が良好となる。また、磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’が０．７１以上１．０以下であることにより、磁気記録媒体の磁性層における膜強度が特に優れる。更に、磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’が０．９０以上１．０以下であることにより、磁気記録媒体の電磁変換特性が特に優れる。また、Ｈｃ／Ｈｃ’の理論的上限値は、１．０である。好ましくは、磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’は、０．９５以下である。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するためには、例えば以下の手順を採用できるが、以下の手順に限定されない。
１００質量部の金属原料、及び０質量部〜５０質量部の水溶性高分子化合物Ａを、２００質量部以上の水に溶解させ、アルカリ水溶液Ａを添加して撹拌した後、酸性水溶液を添加して撹拌して生じた沈殿物を遠心分離で回収し、水で沈殿物を洗浄して乾燥させる。これにより得られた粉末に水を加えて分散させた分散液を２℃〜８０℃に昇温し、撹拌しながらアルカリ水溶液Ｂを滴下した後、焼成時にマトリックスと作用する金属アルコキシドを加え、撹拌する。この溶液に沈降剤として、塩類（例えば、硫酸アンモニウム）を加え、沈殿した粉体を遠心分離で採取し、水で洗浄した後、乾燥させることで、イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体化合物の粉体（前駆体粉体）を得る。得られた前駆体粉体を、焼成炉内に装填し、９００℃〜１２００℃で１時間〜３０時間熱処理し、熱処理粉体を得る。この熱処理粉体を液温２０℃〜９０℃の０．５モル／Ｌ〜１０モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に入れ、２時間〜８０時間撹拌する。これにより生じた沈殿物を遠心分離で採取し、純粋で洗浄を行って、強磁性粉末Ａを得る。
好ましくは、上記手順により得られた強磁性粉末Ａは、更に、０．５質量％〜２５質量％の水溶性高分子化合物Ｂの存在下で水溶液に分散させ、この分散液を１０００００ｍ／ｓ^２〜３００００００ｍ／ｓ^２）の遠心力で５分〜１２０分遠心処理して得られた沈殿物を洗浄し、乾燥させて、強磁性粉末Ｂとすることができる。
上記強磁性粉末Ａ又は強磁性粉末Ｂを用いて磁気記録媒体を作製できる。磁気記録媒体は、例えば後述する磁気記録媒体の製造方法に従って作製することができる。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、金属原料は、所望のイプシロン型酸化鉄系化合物の金属組成に基づき、金属の種類及び金属の組成比を適宜設定できる。金属組成については、後述の「イプシロン型酸化鉄系化合物」の項の記載を参照できる。
金属原料は、水溶性の金属塩（水和物を含む）であればよく、例えば硝酸塩、又は硫酸塩などが好ましい。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、水溶性高分子化合物Ａは、金属原料の分散剤として機能し、前駆体粉体の大きさや分散性を好ましく制御することができる。これにより、磁気記録媒体とした場合のＨｃ／Ｈｃ’が良化する（０．６以上となる）と考えられる。水溶性高分子化合物Ａとしては、例えばポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）若しくはポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、又はＰＶＰとＰＶＡとの組み合わせが好ましい。水溶性高分子化合物Ａは、金属原料１００質量部に対し、１質量部〜２０質量部が好ましく、５質量部〜１５質量部であることがより好ましい。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、金属アルコキシドは、金属原子に直接結合したアルコキシ基を有し、かつ縮重合し得る化合物であれば、特に制限されない。好ましくは、金属アルコキシドは、金属原子に２個以上のアルコキシ基が直接結合している基を有する化合物である。

金属アルコキシドにおける金属原子には、金属に分類される元素の原子、半金属に分類される元素の原子（例えば、ケイ素及びホウ素）、及び非金属に分類される元素の原子であってもアルコキシ基が結合した場合に金属様性質を示す原子（例えば、リン）が含まれる。金属原子としては、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ホウ素（Ｂ）、リン（Ｐ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ガリウム（Ｇａ）、アンチモン（Ｓｂ）、スズ（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、バナジウム（Ｖ）等が挙げられる。

好ましくは、金属アルコキシドは、ケイ素を含む金属アルコキシドである。
ケイ素を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラプロポキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどが挙げられ、テトラエトキシシランが好ましい。

チタンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタンが挙げられる。
ジルコニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウムが挙げられる。

アルミニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムが挙げられる。
ホウ素を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリプロポキシボラン、トリイソプロポキシボラン、トリブトキシボラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシボランが挙げられる。

リンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシホスフィン、トリエトキシホスフィンが挙げられる。
亜鉛を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜鉛が挙げられる。
マグネシウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウムが挙げられる。
ゲルマニウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−プロポキシゲルマニウムが挙げられる。

ガリウムを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシガリウム、トリ−ｎ−ブトキシガリウムが挙げられる。
アンチモンを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシアンチモン、トリ−ｎ−ブトキシアンチモンが挙げられる。
スズを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシスズ、テトラ−ｎ−プロポキシスズが挙げられる。
タンタルを含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタルが挙げられる。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、アルカリ水溶液Ａ及びアルカリ水溶液Ｂとしては、ｐＨが７超１４以下の水溶液であることが好ましく、アンモニア水溶液であることがより好ましく、１０質量％〜３０質量％のアンモニア水溶液であることがより好ましい。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、酸性水溶液としては、ｐＨが１以上７未満の水溶液であることが好ましく、クエン酸水溶液であることが好ましく、１質量％〜２０質量％のクエン酸水溶液であることがより好ましい。

磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、水溶性高分子化合物Ｂは、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）若しくはポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、又はＰＶＡとＰＶＰとの組み合わせが好ましく、強磁性粉末Ａを水溶性高分子化合物Ｂに分散させることにより、溶媒に対する分散性が良好となる。
磁気記録媒体におけるＨｃ／Ｈｃ’を０．６以上１．０以下に調整するための手順において、強磁性粉末Ａの分散液を遠心処理する条件は、１９６１３３０ｍ／ｓ^２の遠心力で、２０分〜３０分であることが好ましい。１９６１３３０ｍ／ｓ^２の遠心力で、２０分〜３０分遠心分離することにより、沈殿物に含まれる極微細な強磁性粉末粒子（例えば５ｎｍ以下の一次粒径）が少なくなり、磁気記録媒体を作製した場合の磁性層における膜強度がより良好となる。

磁気記録媒体において、磁性層は、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に有することができ、非磁性支持体の一方の面上に有することが好ましい。磁気記録媒体は、目的に応じてその他の層を有してもよい。磁気記録媒体が有しうるその他の層としては、非磁性層、バックコート層などが挙げられる。その他の層については後述する。

［非磁性支持体］
本開示の磁気記録媒体は、非磁性支持体を有する。非磁性支持体とは、磁性を有しない支持体を指す。以下、非磁性支持体を、単に「支持体」と称することがある。
ここで、「非磁性」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、又は、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることをいい、好ましくは、残留磁束密度と保磁力を持たないことを意味する。

非磁性支持体は、磁性を有しない材料、例えば、磁性材料を含まない樹脂材料、磁性を有しない無機材料等の材料により形成された基材を挙げることができる。非磁性支持体を形成する材料は、磁気記録媒体に必要な成形性などの物性、形成された非磁性支持体の耐久性等の要求を満たす材料から適宜選択して用いることができる。
非磁性支持体は、磁気記録媒体の使用形態に応じて選択される。例えば、磁気記録媒体が磁気テープ、フレキシブルディスク等の場合、非磁性支持体としては、可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができる。磁気記録媒体がハードディスク等の場合、非磁性支持体としては、ディスク状であり、フレキシブルディスク用の支持体よりも硬質な樹脂成形体、無機材料成形体、金属材料成形体などを用いることができる。

非磁性支持体を形成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアラミドを含む芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、ポリイミド、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリベンゾオキサゾール等の樹脂材料が挙げられる。既述の樹脂材料から適宜選択して非磁性支持体を形成することができる。
なかでも、強度と耐久性とが良好であり、加工が容易であるとの観点から、ポリエステル、アミド系樹脂等が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、及びポリアミドがより好ましい。

樹脂材料を磁気テープ等の非磁性支持体に用いる場合には、樹脂材料をフィルム状に成形する。樹脂材料をフィルム状に成形する方法は、公知の方法を用いることができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、一軸延伸、二軸延伸などの延伸フィルムでもよい。例えば、ポリエステルを用いる場合には、寸法安定性を向上させるため、二軸延伸したポリエステルフィルムを用いることができる。
また、目的に応じて２層以上の積層構造を有するフィルムを用いることもできる。即ち、例えば、特開平３−２２４１２７号公報に示されるように、磁性層を形成する面と、磁性層を有しない面との表面粗さを変えるため等の目的で異なる２層のフィルムを積層した非磁性支持体等を用いることもできる。

磁気記録媒体がハードディスクの場合には、既述の樹脂材料をディスク状に成形した樹脂成形体、ガラスなどの無機材料又はアルミニウムなどの金属材料をディスク状に成形した無機材料成形体を、非磁性支持体として用いることができる。

例えば、非磁性支持体の面上に備えられる磁性層との密着性を向上させる等の目的で、非磁性支持体には、必要に応じて、予めコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等の表面処理を行ってもよい。また、磁性層への異物混入を抑制するため、非磁性支持体に防塵処理などの表面処理を行なってもよい。
既述の各表面処理は公知の方法により実施することができる。

非磁性支持体の厚みは、特に限定されず、磁気記録媒体の用途に応じて適宜設定できる。非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．０μｍ〜８０．０μｍである。例えば、磁気記録媒体が磁気テープである場合、非磁性支持体の厚みは、３．０μｍ〜６．５μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜６．０μｍであることがより好ましく、４．０μｍ〜５．５μｍであることが更に好ましい。

非磁性支持体、及び以下に説明する磁気記録媒体の各層の厚みは、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行い、断面観察において厚み方向の１箇所の厚みとして、又は無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所（例えば２箇所）において求められた厚みの算術平均として、求めることができる。

［磁性層］
磁性層は、磁気記録に寄与する層である。磁性層は、磁性体としての強磁性粉末、及び膜形成成分である結合剤を含み、更に目的に応じて添加剤を含んでもよい。磁性層は、硬化剤と反応して形成された、架橋構造を有する結合剤を含むことが好ましい。磁性層が、架橋構造を有する結合剤を含むことにより、磁性層の膜強度は向上する。

（強磁性粉末）
強磁性粉末は、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含有する粉末である。

式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。ａは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ａ＜１．８が好ましく、０．１＜ａ＜１．２であることがより好ましい。

式（１）におけるＡは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることが好ましい。式（１）で表される化合物において、Ａが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることにより、磁気特性を好ましく制御することができる。

式（１）で表される化合物が、Ｇａを含む場合、Ｇａ原子の原子組成百分率は、Ｆｅ原子に対し１原子％〜５０原子％であることが好ましく、Ｆｅ原子に対し５原子％〜５０原子％であることがより好ましい。Ｇａ原子が上記原子組成百分率で含まれることにより、飽和磁化や保磁力の調整ができる。

強磁性粉末の粒子の形状は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察することにより、確認することができる。また、その結晶構造は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）パターンを解析することにより確認することができる。

式（１）で表される化合物の例としては、下記の式（２）で表される化合物、下記の式（３）で表される化合物、下記の式（４）で表される化合物、下記の式（５）で表される化合物、及び下記の式（６）で表される化合物が挙げられる。

式（２）中、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚは、０＜ｚ＜２を満たす。ｚは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ＜１．８が好ましく、０．１＜ｚ＜１．２であることがより好ましい。

式（２）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.25Ｆｅ_1.75Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.5Ｆｅ_1.50Ｏ_３などが挙げられる。

式（３）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たす。ｘは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ＜０．５であることが好ましい。ｙは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ＜０．５であることが好ましい。

式（３）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.9Ｏ_３、ε−Ｃｏ_0.07Ｔｉ_0.07Ｆｅ_1.86Ｏ_３などが挙げられる。

式（４）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。ｘは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｘ＜０．５であることが好ましい。ｚは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ＜１．０であることが好ましい。

式（４）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.25Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３などが挙げられる。

式（５）中、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。ｙは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｙ＜０．５であることが好ましい。ｚは、磁気特性とε相の安定形成の観点から、０＜ｚ＜１．２であることが好ましい。

式（５）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.3Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.65Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.25Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３などが挙げられる。

式（６）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＮｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜１を満たし、ｙは、０＜ｙ＜１を満たし、ｚは、０＜ｚ＜１を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜２である。各々、磁気特性とε相の安定形成の観点から、ｘは、０＜ｘ＜１．５であることが好ましく、０＜ｘ＜１．０がより好ましく、ｙは、０＜ｙ＜０．５であることが好ましく、０＜ｙ＜０．３がより好ましく、ｚは、０＜ｚ＜０．５であることが好ましく、０＜ｚ＜０．３がより好ましい。

式（６）で表される化合物の具体例としては、ε−Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.3Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.6Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.2Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.7Ｏ_３、ε−Ｇａ_0.5Ｃｏ_0.01Ｔｉ_0.01Ｆｅ_1.48Ｏ_３などが挙げられる。

なお、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び上記式（１）〜式（６）で表されるイプシロン型酸化鉄系化合物は、総称して、以下では「特定イプシロン型酸化鉄系化合物」ということがある。

特定イプシロン型酸化鉄系化合物が、イプシロン型の結晶構造を有していることは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）パターンを解析することにより確認することができる。

（強磁性粉末に含まれ得る他の化合物）
強磁性粉末には、必要に応じて、他の化合物を含んでもよい。
他の化合物としては、例えば、α−Ｆｅ_２Ｏ_３、β−Ｆｅ_２Ｏ_３及びγ−Ｆｅ_２Ｏ_３から選ばれる少なくとも１種の酸化鉄が挙げられる。
また、他の化合物としては、Ｆｅ_３Ｏ_４、ＦｅＯなどが含まれていてもよい。
なお、他の化合物の含有量は、特定イプシロン型酸化鉄系化合物の含有量１００質量部に対し、２０質量部以下であることが好ましい。

強磁性粉末の平均一次粒径は、好ましくは、２ｎｍ〜６０ｎｍであり、さらに好ましくは、３ｎｍ〜３０ｎｍであり、５ｎｍ〜２５ｎｍが最も好ましい。
強磁性粉末の平均一次粒径は、以下の手順で測定できる。
強磁性粉末の一次粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて測定できる。ＴＥＭとしては、例えば（株）日立ハイテクノロジーズ社製の透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。
強磁性粉末の一次粒径は、強磁性粉末を、ＴＥＭを用いて撮影倍率５００００倍〜８００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして、強磁性粉末の粒子の写真を得て、得られた写真から任意の粒子を選び、デジタイザーで粒子の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相当径）として算出される値として算出できる。円面積相当径の算出における画像解析には、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いることができる。なお、一次粒径とは、凝集のない独立した粒子の粒径をいう。
また、複数（例えば５００個）の粒子の一次粒径についての算術平均値を「平均一次粒径」とする。

平均一次粒径を測定するための強磁性粉末の試料粒子は、原料粉末であっても、磁性層から採取した試料粉末であってもよい。
磁性層からの試料粉末の採取は、例えば以下の方法によって行うことができる。
１．磁性層表面にヤマト科学製プラズマリアクターで１分間〜２分間表面処理を施し、磁性層表面の有機物成分（結合剤成分等）を灰化して取り除く。
２．シクロヘキサノン又はアセトンなどの有機溶剤を浸したろ紙を金属棒のエッジ部に貼り付け、その上で上記１．の処理後の磁性層表面をこすり、磁性層成分を磁気記録媒体からろ紙へ転写し剥離する。
３．上記２．で剥離した成分をシクロヘキサノン又はアセトンなどの有機溶媒の中に振るい落とし（ろ紙ごと溶媒の中に入れ超音波分散機で振るい落とす）、有機溶媒を乾燥させ剥離成分を取り出す。
４．上記３．でかき落とした成分を十分洗浄したガラス試験管に入れ、その中にｎ−ブチルアミンを磁性層成分の２０ｍｌ程度加えてガラス試験管を封緘する。（ｎ−ブチルアミンは、灰化せず残留した結合剤を分解できる量加える。）
５．ガラス試験管を１７０℃で２０時間以上加熱し、結合剤及び硬化剤成分を分解する。
６．上記５．の分解後の沈殿物を純水で十分に洗浄後乾燥させ、粉末を取り出す。
以上の工程により、磁性層から試料粉末を採取して、平均一次粒径の測定に用いることができる。

（イプシロン型酸化鉄系化合物の組成）
イプシロン型酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により確認する。具体的には、イプシロン型酸化鉄系化合物を含有する強磁性粉末試料１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得る。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過する。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置を用いて行う。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求める。

（結合剤）
結合剤は、既述の強磁性粉末を含む磁性層を形成するために有用な膜形成性樹脂から選ばれる。
結合剤に用いられる樹脂は、目的とする強度、耐久性などの諸物性を満たす樹脂層を形成しうる限り、特に制限はない。公知の膜形成性樹脂から目的に応じて適宜選択して、結合剤として用いることができる。

結合剤に用いる樹脂は、単独重合体（ホモポリマー）であってもよく、共重合体（コポリマー）であってもよい。結合剤に用いる樹脂は、公知の電子線硬化型樹脂であってよい。
結合剤に用いうる樹脂としては、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、メタクリレート等を（共）重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選択した樹脂が挙げられる。結合剤に用いる樹脂は、既述の樹脂を単独で用いてもよく、複数用いてもよい。これらの中で好ましいものは、ポリウレタン、アクリル樹脂、セルロース樹脂及び塩化ビニル樹脂である。

結合剤としての樹脂は、磁性層に含まれる強磁性粉末の分散性をより向上させるため、粉体表面に吸着し得る官能基、例えば、極性基を分子内に有することが好ましい。結合剤としての樹脂が有し得る好ましい官能基としては、例えば、−ＳＯ_３Ｍ、−ＳＯ_４Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）_２、−ＯＰＯ（ＯＭ）_２、−ＣＯＯＭ、＝ＮＳＯ_３Ｍ、＝ＮＲＳＯ_３Ｍ、−ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｘ⁻などが挙げられる。ここで、Ｍは水素原子またはＮａ、Ｋ等のアルカリ金属原子を表す。Ｒはアルキレン基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはヒドロキシアルキル基を表す。ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子を表す。
結合剤としての樹脂が上記官能基を有する場合、樹脂中の官能基の含有量は０．０１ｍｅｑ／ｇ以上２．０ｍｅｑ／ｇ以下が好ましく、０．３ｍｅｑ／ｇ以上１．２ｍｅｑ／ｇ以下がさらに好ましい。樹脂における官能基の含有量が上記範囲内にあることで、磁性層における強磁性粉体等の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上するため好ましい。

これらのなかでも、結合剤に用いる樹脂としては、−ＳＯ_３Ｎａ基を含むポリウレタンがより好ましい。ポリウレタンが−ＳＯ_３Ｎａ基を含む場合、−ＳＯ_３Ｎａ基は、ポリウレタンに対し、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜１．０ｍｅｑ／ｇで含まれることが好ましい。
結合剤は、市販の樹脂を適宜使用できる。

結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下とすることができる。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー株式会社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー株式会社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
試料濃度：０．５質量％
サンプル注入量：１０μｌ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
検出器：ＲＩ検出器

磁性層における結合剤（架橋構造を有する結合剤を含む）の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、例えば、１質量部〜５０質量部の範囲とすることができ、３質量部〜４０質量部の範囲とすることが好ましく、５質量部〜３０質量部の範囲とすることがより好ましい。磁性層における結合剤の含有量が上記範囲であることにより、本開示の磁気記録媒体の磁性層における強磁性粉末と結合剤の量とが適切な範囲となり、磁性層に強固な膜が形成されて、磁気記録媒体の磁性層における膜強度が向上する。

（他の添加剤）
磁性層は、既述の強磁性粉体及び結合剤に加え、磁性層の効果を損なわない範囲にて、目的に応じて種々の添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、研磨剤、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。また、添加剤としては、必要に応じて、無機フィラーとしてのコロイド粒子を用いることができる。
添加剤は、所望の性質に応じて、市販品を適宜使用できる。

−研磨剤−
磁性層は、研磨剤を含むことができる。磁性層が研磨剤を含むことで、磁気記録媒体の使用中にヘッドに付着する付着物を除去することができる。
研磨剤としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、窒化ホウ素等の、主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用されることが好ましい。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
研磨剤には既述の主成分である金属化合物粒子以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果に変わりはない。
また、研磨剤は、上記粒子を表面処理した材料を使用してもよい。
研磨剤は、市販品を適宜使用できる。
具体的には、研磨剤の市販品としては、住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ３０、ＨＩＴ５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００；レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ；不二見研磨剤社製ＷＡ１００００；上村工業社製ＵＢ２０；日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１；戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０；イビデン社製ベータランダムウルトラファイン；昭和鉱業社製Ｂ−３；等が挙げられる。

これら研磨剤の粒子サイズは０．０１μｍ〜２μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
特に磁気記録媒体の電磁変換特性を高めるためには、研磨剤は粒度分布が狭い方が好ましい。また走行耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることも可能である。研磨剤のタップ密度は０．３ｇ／ｍｌ〜２ｇ／ｍｌであることが好ましく、含水率は０．１％〜５％であることが好ましく、ｐＨは２〜１１であることが好ましく、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_ＢＥＴ）は１ｍ²／ｇ〜３０ｍ²／ｇであることが好ましい。
研磨剤の形状は針状、球状、立方体状のいずれでもよいが、形状の一部に角を有する粒子が、研磨性が高く好ましい。

磁性層が研磨剤を含む場合の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜１０質量部の範囲であることが好ましい。

−潤滑剤−
磁性層は、潤滑剤を含むことができる。
磁性層が潤滑剤を含むことで、例えば、磁気記録媒体の走行耐久性を向上させることができる。
潤滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、及びフッ素系潤滑剤などが使用できる。
潤滑剤は、市販品を適宜使用してもよい。

潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_nまたはこれらの共重合体等である。

また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００〜５０００とすることで、揮発を抑え、また潤滑性の低下を抑えることができる。 このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、例えば、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。

極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。

磁性層が潤滑剤を含む場合、潤滑剤は、１種単独で使用してよく、又は２種以上を使用してもよい。
磁性層が潤滑剤を含む場合の潤滑剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、０．１質量部〜５質量部の範囲であることが好ましい。

−非磁性フィラー−
磁性層は、非磁性フィラーを含むことができる。非磁性フィラーは、分散性及び表面粗さの観点から、コロイド粒子であることが好ましい。
コロイド粒子としては、入手容易性の点から無機コロイド粒子が好ましく、無機酸化物コロイド粒子がより好ましい。無機酸化物コロイド粒子としては、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／ＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂／Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃／ＴｉＯ₂、ＴｉＯ₂／ＣｅＯ₂／ＳｉＯ₂などの複合無機酸化物コロイド粒子を挙げることもできる。好ましいものとしては、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃などの無機酸化物コロイド粒子を挙げることができ、単分散のコロイド粒子の入手容易性の点から、シリカコロイド粒子（コロイダルシリカ）が特に好ましい。

磁性層が非磁性フィラーを含む場合、非磁性フィラーは、１種単独であってもよく、２種以上であってよい。
非磁性フィラーは、市販品を適宜使用できる。
磁性層が非磁性フィラーを含む場合の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜１０質量部の範囲であることが好ましい。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ〜３５０ｎｍであり、磁気記録媒体における電磁変換特性及び磁性層の膜強度の良化の観点から、より好ましくは１５ｎｍ〜２００ｎｍであり、更に好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍである。
磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する二層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。重層磁性層について、磁性層の厚みとは、複数の磁性層の合計厚みをいう。

磁性層において、強磁性粉末の質量に対する、不揮発成分の質量の質量比（不揮発成分／強磁性粉末）は、０．１５〜１．８が好ましく、０．３〜１．８がより好ましく、０．６〜１．０が更に好ましい。不揮発成分／強磁性粉末は、０．１５〜１．８であることにより、磁性層の膜強度に優れる。また、不揮発成分／強磁性粉末が、０．３〜１．８であることにより磁性層の膜強度がより優れ、不揮発成分／強磁性粉末が、０．６〜１．０であることにより磁性層の膜強度が特に優れる。
ここで、磁性層における「不揮発成分」とは、磁性層形成用組成物を乾燥させた後に揮発しない成分から、強磁性粉末を除いた成分をいう。ここで、「磁性層形成用組成物」には、強磁性粉末、結合剤、及び溶媒が含まれ、必要に応じて添加剤が更に含まれる。それゆえ、磁性層における「不揮発成分」は、磁性層に含まれる結合剤及び添加剤である。

以下、磁気記録媒体における任意の層である非磁性層及びバックコート層について説明する。

［非磁性層］
非磁性層は、磁性層の薄層化等に寄与する層である。非磁性層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含む層であることが好ましく、更に目的に応じて添加剤を含んでよい。

非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができる。非磁性層には、磁性を有しない層、及び、不純物として又は意図的に少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層が包含される。
ここで「非磁性」とは、既述の「非磁性支持体」にて説明した通りである。

（非磁性粉末）
非磁性粉末は、フィラーとして機能する、磁性を有しない粉末である。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。非磁性粉末は、１種単独で使用でき、又は２種以上を組み合わせて使用することもできる。非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。

具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましいものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状等のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、４０ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性層における非磁性粉末の含有率（充填率）は、好ましくは５０質量％〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０質量％〜９０質量％の範囲である。

非磁性層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項において説明した「結合剤」及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

非磁性層の厚みは、０．０５μｍ〜３．０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜２．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜１．５μｍであることが更に好ましい。

［バックコート層］
バックコート層は、経時安定性、走行安定性等に寄与する層である。バックコート層は、フィラーとしての非磁性粉末及び膜形成成分である結合剤を含有する層であることが好ましく、目的に応じて、更に添加剤を含んでよい。

バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。

バックコート層における「非磁性粉末」、は、「非磁性層」の項で説明した「非磁性粉末」と同義であり、好ましい態様も同様である。また、バックコート層における「結合剤」及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍであることがより好ましい。

＜磁気記録媒体の製造方法＞
本開示の磁気記録媒体の製造方法には特に制限はなく、公知の製造方法を適用することができる。
磁気記録媒体の製造方法としては、例えば、磁性層形成用組成物を調製する工程（工程（Ａ））、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（工程（Ｂ））、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（工程（Ｃ））、及び磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（工程（Ｄ））を含む製造方法が挙げられる。
なお、磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、さらに、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダ処理する工程、非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程等を含むことができる。
個々の工程は、それぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。

［工程（Ａ）］
磁性粉の製造方法は、磁性層形成用組成物を調製する工程（工程（Ａ））を含むことが好ましい。
工程（Ａ）は、強磁性粉末、結合剤、及び必要に応じて添加剤を、溶媒に添加すること及び分散することを含む。

本開示の強磁性粉末、結合剤、非磁性粉末、添加剤など全ての原料は、工程（Ａ）におけるいずれの時期に添加してもかまわない。
個々の原料は、同時に添加してよく、又は２回以上に分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤は、分散工程で添加した後、分散後の粘度調整のために更に添加することができる。

磁性層形成用組成物の原料の分散には、例えばバッチ式縦型サンドミル、横型ビーズミルなどの公知の分散装置を用いることができる。分散ビーズとしては、例えばガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、及びスチールビーズなどを用いることができる。分散ビーズの粒径（ビーズ径）及び充填率は、最適化して用いることができる。
また、磁性層形成用組成物の原料の分散は、例えば公知の超音波装置を用いて行うこともできる。
また、分散前に、磁性層形成用組成物の原料の少なくとも一部を、例えばオープンニーダを用いて混練することもできる。

磁性層形成用組成物の原料は、それぞれの原料ごとに溶液を調製した後に、混合してもよい。例えば、強磁性粉末を含む磁性液、及び研磨剤を含む研磨液をそれぞれ調製した後に、混合して、分散することができる。

（磁性層形成用組成物）
磁性層形成用組成物は、強磁性粉末、結合剤、及び溶媒を含み、必要に応じて硬化剤及び添加剤を含んでもよい。
磁性層形成用組成物を調製するための「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」は、「磁性層」の項で説明した「強磁性粉末」、「結合剤」、及び「添加剤」と同義であり、好ましい態様も同様である。

磁性層形成用組成物における強磁性粉末の含有量は、磁性層形成用組成物の全質量に対し、５質量％〜５０質量％が好ましく、１０質量％〜３０質量％がより好ましい。
磁性層形成用組成物における結合剤の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対し、１質量部〜３０質量部の範囲が好ましく、２質量部〜２０質量部の範囲とすることがより好ましい。

−溶媒−
溶媒は、強磁性粉末及び結合剤、必要に応じて添加剤を分散させるための媒体である。
溶媒は、１種のみであってよく、又は２種以上の混合溶媒であってもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール系化合物、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル系化合物、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素系化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。好ましい有機溶媒は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらを任意の割合で含む混合溶媒を挙げることができる。

分散性を向上させるためには、ある程度極性が強い溶媒が好ましく、溶媒全質量に対し、誘電率が１５以上の溶媒が５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

−硬化剤−
磁性層形成用組成物は、硬化剤を含むことができる。
磁性層形成用組成物が硬化剤を含むことで、磁性層を形成する際に、磁性層に含まれる結合剤と硬化剤が反応して、架橋構造を有する結合剤が形成され、磁性層の膜強度がより向上する。
硬化剤としては、イソシアネート系化合物が好ましい。イソシアネート系化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート系化合物が挙げられ、これらのイソシアネート系化合物とポリアルコールとの生成物、及びイソシアネート系化合物の縮合によって生成した２官能以上のポリイソシアネートを使用することができる。

架橋構造を有する結合剤の存在は、磁性層形成用組成物に使用した溶媒を含浸させ、ワイプでふき取り、そのワイプを目視で観察し、付着しないことを確認することで行う。また、ふき取ったワイプを、上記溶媒中で４０℃〜８０℃に加熱した後、ワイプを除き、残液をFT-IR、ガスクロマトグラフィー、ゲルパーミッションクロマトグラフィー測定を行い、添加した結合剤に由来する成分が検出されないことからも確認できる。

硬化剤は、市販品を適宜使用することができる。市販されているイソシアネート系化合物の商品名としては、例えば、日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標）Ｌ、コロネート（登録商標）ＨＬ、コロネート（登録商標）２０３０、コロネート（登録商標）２０３１、コロネート（登録商標）３０４１、ミリオネート（登録商標）ＭＲ、ミリオネート（登録商標）ＭＴＬ、武田薬品社製タケネート（登録商標）Ｄ−１０２、タケネート（登録商標）Ｄ−１１０Ｎ、タケネート（登録商標）Ｄ−２００、タケネート（登録商標）Ｄ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等が挙げられる。

磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合、硬化剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を使用してもよい。
磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合の硬化剤の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部添加してよく、磁性層の強度向上の観点から、好ましくは０．５質量部〜１５質量部、さらに好ましくは、１質量部〜１０質量部添加することができる。
磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合の硬化剤の含有量は、結合剤１００．０質量部に対して、１質量部〜５０質量部添加してよく、磁性層の強度向上の観点から、好ましくは４質量部〜４０質量部、さらに好ましくは６質量部〜３０質量部添加することができる。
なお、硬化剤は、必要に応じて、他の層の形成時に、他の層の膜強度を形成させる目的で、他の層の形成用組成物に含有させることができる。

［工程（Ｂ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、組成物調製工程の後に、非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を付与して磁性層形成用組成物層を形成する工程（工程（Ｂ））を含むことが好ましい。
工程（Ｂ）は、例えば、走行下にある非磁性支持体上に磁性層形成用組成物を所定の膜厚となるように塗布することにより行うことができる。磁性層の好ましい膜厚は、「磁性層」の項に記載した通りである。

磁性層形成用組成物を非磁性支持体の面上に塗布する塗布方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等の公知の方法を利用できる。塗布方法については、例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

［工程（Ｃ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、組成物層形成工程の後に、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（工程（Ｃ））を含むことが好ましい。

形成された磁性層形成用組成物層は、非磁性支持体が磁気テープ等のフィルム上である場合、磁性層形成用組成物に含まれる強磁性粉末に対し、コバルト磁石又はソレノイドなどを用いて磁場配向処理することができる。非磁性支持体がハードディスク用の支持体である場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加することなどによる、公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。また、異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。
磁場配向処理は、形成された磁性層形成用組成物層が乾燥する前に行うことが好ましい。

磁場配向処理は、磁場強度０．１Ｔ〜１０Ｔの磁場を、形成した磁性層形成用組成物層の面に対し垂直方向に印加する垂直配向処理によって行うことができる。

［工程（Ｄ）］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、磁場配向処理を行なう工程（Ｃ）の後に、磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して磁性層を形成する工程（工程（Ｄ））を含むことが好ましい。

磁性層形成用組成物層の乾燥においては、乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することにより、磁性層形成用組成物層の乾燥を制御することができる。例えば、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また、磁場を印加する前に、組成物を適度に予備乾燥することができる。

［カレンダ処理工程］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程（Ａ）、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）及び工程（Ｄ）を経て、非磁性支持体上に磁性層を形成した後、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダ処理する工程を実施することが好ましい。

磁性層を有する非磁性支持体は、巻き取りロールでいったん巻き取られた後、この巻き取りロールから巻き出されて、カレンダ処理に供することができる。カレンダ処理によって、表面平滑性が向上するとともに、乾燥時の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅し、磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。カレンダ処理は、磁性層の表面の平滑性に応じて、カレンダ処理条件を変化させながら行うことが好ましい。

カレンダ処理には、例えばスーパーカレンダロールなどを利用することができる。
カレンダロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することができる。また金属ロールで処理することもできる。

カレンダ処理条件としては、カレンダロールの温度を、例えば６０℃〜１２０℃の範囲、好ましくは８０℃〜１００℃の範囲とすることができ、圧力は、例えば１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８ｋＮ／ｍ〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲とすることができる。

［非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、非磁性層及びバックコート層等の任意の層を形成する工程を含むことができる。
非磁性層及びバックコート層は、それぞれの層を形成するための組成物を調製した後、磁性層の形成における工程（Ｂ）、工程（Ｃ）、及び工程（Ｄ）と同様の工程を行なって形成することができる。
なお、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載したように、非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができ、バックコート層は、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側の面に設けることができる。

非磁性層の形成用組成物、及びバックコート層の形成用組成物は、「非磁性層」及び「バックコート層」の項に記載した成分及び含有量で調製することができる。

以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

［実施例１］
純水９２ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．２ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．２ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１８７ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１５１ｍｇ、ポリビニルピロリドン(ＰＶＰ)１．１ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、２５℃の条件下で、２５質量％アンモニア水溶液Ａ３．７ｇを添加し、そのまま２時間撹拌した。これにクエン酸０．８ｇを水９．２ｇに溶かした溶液を加え、１時間撹拌した。沈殿した粉を遠心分離で採集し、純水で洗浄したのち、８０℃で乾燥させた。続いて、得られた粉に純水８００ｇを加えて再度粉を水分散させた。これを５０℃に昇温し、撹拌しながら２５質量％アンモニア水溶液Ｂを３９ｇ滴下した。そのまま１時間撹拌した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１３．４ｍＬを滴下し、２４時間撹拌した。これに硫酸アンモニウム５１ｇを加え、沈殿した粉を遠心分離で採集し、純水で洗浄し、８０℃で乾燥させることで、イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体となる粉末を得た。
得られた前駆体の粉末を、炉内に装填し、大気雰囲気化、１０２８℃で４時間の熱処理を施し、熱処理粉とした。これを、４モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温７０℃のもとで２４時間撹拌することにより、熱処理粉からケイ素酸化物を除去した。この粉を遠心分離処理により採集し、純水で洗浄を行って、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３相があるイプシロン型酸化鉄系化合物（ε−Ｇａ_0.24Ｃｏ_0.05Ｔｉ_0.05Ｆｅ_1.66Ｏ_３）を含む強磁性粉末を得た。
上記イプシロン型酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認した。具体的には、上記強磁性粉末１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍｌを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得た。次いで、得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過した。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置（製品名：ＩＣＰＳ−８１００、（株）島津製作所）を用いて行った。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求めた。
また、上記イプシロン型酸化鉄系化合物が、イプシロン型の結晶構造を有していることは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）により確認した。なお、ＸＲＤは、Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ社製）を用いて解析した。
また、後述する方法で算出した強磁性粉末の平均一次粒径は、１３．３ｎｍであった。

（平均一次粒径）
イプシロン型酸化鉄系化合物の粉末を、（株）日立ハイテクノロジーズ社製の透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いて撮影倍率８００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして、イプシロン型酸化鉄系化合物の写真を得た。
得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相径）を算出することで「一次粒径」を求めた。一次粒径の測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。一次粒径とは、凝集のない独立した粒子の粒径をいう。
また、複数（例えば５００個）の粒子の一次粒径の算術平均を「平均一次粒径」とする。

（磁気記録媒体（磁気テープ）の作製）
（１）磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性粉末（実施例１で作製したイプシロン型酸化鉄系化合物の粉末）：１００．０部
ＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（結合剤）：１４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．４ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：１５０．０部
メチルエチルケトン：１５０．０部
（研磨剤液）
−研磨剤液Ａ−
アルミナ研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）:３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：０．３部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
−研磨剤液Ｂ−
ダイヤモンド研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）:１．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂:０．１部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：０．２部
メチルエチルケトン：１．４部
（その他成分）
ステアリン酸：２．０部
ブチルステアレート：６．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標）３０４１；硬化剤）：２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン：２００．０部
メチルエチルケトン：２００．０部

（２）非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末 α−酸化鉄：１００．０部
平均粒子サイズ：１０ｎｍ
平均針状比：１．９
ＢＥＴ比表面積：７５ｍ²／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２５．０部
ＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ₃Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部

（３）バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末 α−酸化鉄：８０．０部
平均粒子サイズ：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ²／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２０．０部
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ブチルステアレート：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部

（４）磁気テープの作製
上記磁性液の処方に記載された成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して、磁性液を作製した。分散ビーズとしては、粒径０．５ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。上記研磨剤液の処方に記載された成分を、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ，３００Ｗ）で２４時間分散し、研磨剤液を作製した。これらの分散液を他の成分（シリカゾル、その他成分及び仕上げ添加溶媒）と混合後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で３０分処理を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い、磁性層形成用組成物を作製した。
非磁性層形成用組成物については、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて、２４時間分散した。分散ビーズとしては、粒径０．１ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い、非磁性層形成用組成物を作製した。

バックコート層形成用組成物は、潤滑剤（ステアリン酸及びブチルステアレート）とポリイソシアネート、シクロヘキサノン２００．０部を除いた各成分をオープンニーダにより混練及び希釈した後、横型ビーズミル分散機により、粒径１ｍｍΦのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、残りの成分を分散液に添加し、ディゾルバーで攪拌した。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を作製した。

その後、厚み５μｍのポリエチレンナフタレート製非磁性支持体に、乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、その上に乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように磁性層形成用組成物を塗布した。
この磁性層形成用組成物が未乾状態にあるうちに、磁場強度０．６Ｔの磁場を、塗布面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、乾燥させることにより、磁性層を形成した。その後、上記非磁性支持体の反対面に、乾燥後の厚みが０．４μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで、速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１００℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後、磁性層、非磁性層及びバックコート層を有する非磁性支持体を１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気テープを得た。
なお、磁性層には、架橋構造を有するＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂を含むことを確認した。磁性層における架橋構造を有しているかは、メチルエチルケトンを磁気テープの磁性層表面に０．０５ｍｌ滴下後、磁性層表面をワイプでふき取り、磁性層の成分がワイプに付着しないことを目視で確認することにより行った。

［実施例２］
アンモニア水溶液Ａ添加時の温度を２５℃から４℃に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。

［実施例３］
アンモニア水溶液Ａ添加時の温度を２５℃から４０℃に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。

［実施例４］
アンモニア水溶液Ａ添加時の温度を２５℃から６０℃に変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気テープを作製した。

［実施例５］
実施例１で得た強磁性粉末１ｇを、５質量％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）水溶液３２ｇに加えた。これに径１００μｍのジルコニア（Ｚｒ）ビーズを加え、振盪器によって室温で６時間振盪することで、強磁性粉末をＰＶＡ水溶液中に分散させた。
この分散液を、遠心分離機を用いて、１９６１３３０ｍ／ｓ^２（２０００００Ｇ）の遠心力で４５分処理した。沈降した沈殿物を、純水で洗浄、８０℃で乾燥させ、実施例５の強磁性粉末として得た。
実施例５の強磁性粉末を用いて、実施例１と同様の手順により、磁気テープを作製した。

［実施例６］
遠心分離の条件を１９６１３３０ｍ／ｓ^２の遠心力で３０分に変更した以外は、実施例５と同様にして、磁気テープを作製した。

［実施例７］
遠心分離の条件を１９６１３３０ｍ／ｓ^２の遠心力で２０分に変更した以外は、実施例５と同様にして、磁気テープを作製した。

［実施例８］
磁性層における、強磁性粉末と、それ以外の乾燥後に揮発しない成分（不揮発成分）との質量比（不揮発成分／強磁性粉末）が０．３であったところを０．１５となるようＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂量を変更した以外は、実施例３と同様にして、実施例８の磁気テープを得た。

［実施例９］
磁性層における、強磁性粉末と、それ以外の乾燥後に揮発しない成分（不揮発成分）との質量比（不揮発成分／強磁性粉末）が０．３であったところを０．６となるようＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂量を変更した以外は、実施例３と同様にして、実施例９の磁気テープを得た。

［実施例１０］
磁性層における、強磁性粉末と、それ以外の乾燥後に揮発しない成分（不揮発成分）との質量比（不揮発成分／強磁性粉末）が０．３であったところを１．０となるようＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂量を変更した以外は、実施例３と同様にして、実施例１０の磁気テープを得た。

［実施例１１］
磁性層における、強磁性粉末と、それ以外の乾燥後に揮発しない成分（不揮発成分）との質量比（不揮発成分／強磁性粉末）が０．３であったところを１．８となるようＳＯ₃Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂量を変更した以外は、実施例３と同様にして、実施例１１の磁気テープを得た。

［実施例１２］
実施例３において、磁性層の膜厚が７０ｎｍであったところを４０ｎｍに変更した以外は実施例３と同様にして、実施例１２の磁気テープを得た。

［実施例１３］
実施例３において、磁性層の膜厚が７０ｎｍであったところを１５０ｎｍに変更した以外は実施例３と同様にして、実施例１３の磁気テープを得た。

［実施例１４］
実施例３において、磁性層の膜厚が７０ｎｍであったところを３００ｎｍに変更した以外は実施例３と同様にして、実施例１４の磁気テープを得た。

［比較例１］
純水９０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．２ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．２ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１８７ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１４２ｍｇを溶解させた溶液を、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、４０℃の条件下で、２５％アンモニア水溶液４．０ｇを添加し、そのまま２時間撹拌した。これにクエン酸４７８ｍｇを水４．５ｇに溶解した溶液を加え、続けて１０％アンモニア水溶液を６．２ｇ添加し、１時間撹拌した。得られた溶液を、限外濾過膜（分画分子量５００００）で、ろ液の電気伝導率が５０ｍＳ／ｍ以下になるまで限外濾過した。
得られた液体に、全容量が１２０ｍＬになるように水を加えた後、３０℃で撹拌しながら、２５％アンモニアを６．７ｇ加えた。これにＴＥＯＳを１５．８ｍＬ添加し、そのまま２４時間撹拌し続けた。その後、純水４．５ｍＬに硫酸アンモニウム２．９ｇを溶かした溶液を添加した。沈殿した粉を遠心分離で採集し、純水で洗浄したのち、８０℃で乾燥させることで、イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体となる粉末を得た。
イプシロン型酸化鉄系化合物の前駆体となる粉末から強磁性粉末を得る手順、強磁性粉末の平均一次粒径の測定、及び磁気テープを作製する手順は実施例１と同様にして、比較例１の磁気テープを得た。

［比較例２］
特許５１３０５３４号公報に記載の実施例に基づき、強磁性粉末を作製した。
〔手順１〕
ミセル溶液Ｉとミセル溶液IIの２種類のミセル溶液を調整した。
・ミセル溶液Ｉの作製
テフロン（登録商標）製のフラスコに、純水６ｍＬ、ｎ−オクタン１８.３ｍＬ及び１−ブタノール３.７ｍＬを入れた。そこに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物を０.００２４モル、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）ｎ水和物（和光純薬工業株式会社製の純度９９.９％でｎ＝７〜９のものを使用し、使用に当たっては事前に定量分析を行ってｎを特定してから仕込み量を計算した）を０.０００６モル添加し、室温で良く撹拌しながら溶解させた。さらに、界面活性剤としての臭化セチルトリメチルアンモニウムを、純水／界面活性剤のモル比が３０となる量で添加し、撹拌により溶解させ、ミセル溶液Ｉを得た。このときの仕込み組成は、ＧａとＦｅのモル比をＧａ：Ｆｅ＝ｘ：（２−ｘ）と表すときｘ＝０.４０である。

・ミセル溶液ＩＩの作製
２５％アンモニア水２ｍＬを純水４ｍＬに混ぜて撹拌し、その液に、さらにｎ―オクタン１８.３ｍＬと１−ブタノール３.７ｍＬを加えてよく撹拌した。その溶液に、界面活性剤として臭化セチルトリメチルアンモニウムを、（純水＋アンモニア中の水分）／界面活性剤のモル比が３０となるような量で添加し、溶解させ、ミセル溶液ＩＩを得た。

〔手順２〕
ミセル溶液Ｉをよく撹拌しながら、ミセルＩ溶液に対してミセル溶液ＩＩを滴下した。滴下終了後、混合液を３０分間撹拌し続けた。

〔手順３〕
手順２で得られた混合液を撹拌しながら、当該混合液にテトラエトキシシラン６.１ｍＬを加えた。約１日そのまま、撹拌し続けた。

〔手順４〕
手順３で得られた溶液を遠心分離機にセットして遠心分離処理した。この処理で得られた沈殿物を回収した。回収された沈殿物をクロロホルムとメタノールの混合溶液を用いて複数回洗浄した。

〔手順５〕
手順４で得られた沈殿物を乾燥した後、大気雰囲気の炉内で１１００℃で４時間の熱処理を施した。

〔手順６−１〕
手順５で得られた熱処理粉を、メノウ製乳鉢により解砕した後、１０モル／ＬのＮａＯＨ水溶液１Ｌ（リットル）中に入れ、液温７０℃で２４時間撹拌し、粒子表面に存在するシリカの除去処理を行った。次いで、ろ過し、十分に水洗した。

〔手順６−２〕
水洗された粉末を純水１Ｌ中に入れて分散させ、室温で撹拌しながらｐＨをモニターして希硝酸を少量ずつ添加していき、ｐＨ２.５〜３.０に調整し、撹拌を１時間実施し、乾燥後の粉末を強磁性粉末として得た。乾燥後の粉末について、実施例１と同様の手順により、平均一次粒径を測定した。
強磁性粉末から磁気テープを作製する手順は、実施例１と同様にして、比較例２の磁気テープを得た。

［比較例３］
特許５９６６０６４号公報に記載の実施例に基づき、強磁性粉末を作製した。
４０Ｌ反応槽にて、純水３１３６９ｇに、純度９９.５％硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物２９１０ｇ、Ｇａ濃度１０.３質量％の硝酸Ｇａ（ＩＩＩ）溶液７８６ｇ、純度９７％硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物６６ｇ、Ｔｉ濃度１５.２質量％の硫酸チタン（ＩＶ）６９ｇを大気雰囲気中、４０℃の条件下で、撹拌羽根により機械的に撹拌しながら溶解した。この仕込み溶液中の金属イオンのモル比は、Ｆｅ：Ｇａ：Ｃｏ：Ｔｉ＝１.６４：０.２７：０.０５：０.０５であった。なお、試薬名の後の括弧内の数字は、金属元素の価数を表している。

大気雰囲気中、４０℃で、撹拌羽根により機械的に撹拌しながら、２２質量％のアンモニア溶液を１５９６ｇ添加し、２時間撹拌を続けた。添加初期は茶色で濁った液であったが、２時間後には透明感のある茶色の反応液となり、そのｐＨは１.７３であった。
次にクエン酸濃度１０質量％のクエン酸溶液１６８４ｇを、４０℃の条件下で、１時間かけて連続添加した後、１０質量％のアンモニア溶液を２０００ｇ一挙添加し、ｐＨを８.５にした後、温度４０℃の条件下、１時間撹拌しながら保持し、中間生成物である前駆体の置換元素を含むオキシ水酸化鉄の結晶を生成した（手順１）。なお、本実施例における３価の鉄イオン量に対するクエン酸のモル比は０.１２である。

手順１で得られたスラリーを回収し、限外ろ過膜、ＵＦ分画分子量５０,０００の膜にて、濾液の電気伝導率が５０ｍＳ／ｍ以下になるまで洗浄した。また、洗浄スラリーの導電率は１００ｍＳ／ｍであった。（手順２）。

５Ｌ反応槽に、手順２で得られた洗浄スラリー液３１６３ｇ（ε−Ｆｅ₂Ｏ₃(一部置換体) ６０ｇ含有）を分取し、液量が４０００ｍＬになるように純水を加えた後、大気中、３０℃で、撹拌しながら、アンモニアについてはε−Ｆｅ₂Ｏ₃に対して０.８質量％、テトラエトキシシランについてはε−Ｆｅ₂Ｏ₃に対して７.０質量％添加した。２２質量％のアンモニア溶液２１２.５ｇを添加した後、スラリー液にテトラエトキシシラン４２９ｇを３５分で添加する。約１日そのまま撹拌し続け、加水分解により生成したシラノール誘導体で被覆した。その後、純水３００ｇに硫酸アンモニウム２０３ｇを溶解した溶液を添加し、得られた溶液を洗浄・固液分離し、ケーキとして回収した（手順３）。

手順３で得られた沈殿物（ゲル状ＳｉＯ₂コートされた前駆体）を乾燥した後、その乾燥粉に対し、大気雰囲気の炉内で、１０６６℃以上１０７９℃以下で４時間の熱処理を施し、シリコン酸化物で被覆された鉄系酸化物磁性粒子粉を得た。なお、シラノール誘導体は、大気雰囲気で熱処理した際に、酸化物に変化する（手順４）。

手順４で得られた熱処理粉を２０質量％ＮａＯＨ水溶液中で約７０℃、２４時間撹拌し、粒子表面の珪素酸化物の除去処理を行った。次いで、限外ろ過膜、ＵＦ分画分子量５０,０００の膜にて、洗浄スラリーの導電率が１.５ｍＳ／ｍ以下まで洗浄し、乾燥させ、強磁性粉末を得、実施例１と同様の手順により、強磁性粉末の平均一次粒径を測定した。
得られた鉄系酸化物磁性粒子粉の化学組成は、仕込み時の組成とほぼ同一であった。ＸＲＤ測定の結果は図示しないが、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３を一部含む結晶構造を示した。
得られた強磁性粉末から磁気テープを作製する手順は、実施例１と同様にして、比較例３の磁気テープを得た。

Ｈｃ／Ｈｃ’は、既述の方法により、求めた。

（走行耐久性）
各磁気テープを、リニアテスターで速度３ｍ／ｓｅｃで走行させ、磁性層の膜強度を走行耐久性で評価した。
１００ｍ長のテープを１０００パス走行させた後に、磁気テープの末端から２０ｍ、４０ｍ、６０ｍ、及び８０ｍの場所における磁性層表面の削れの程度を光学顕微鏡（株式会社Ｎｉｋｏｎ製、ＥｃｌｉｐｓｅＬＶ１５０）で観察した。削れの程度は上記４か所を下記観点で評価し、点数を付けた。
−評価−
Ａ： 摺動痕は観察されなかった。
Ｂ： 弱い摺動痕はあるものの、磁性層表面の削れには至っていない。
Ｃ： 磁性層表面が削れているが、実用上問題なし
Ｄ： 磁性層表面が削れ、磁性層表面が剥離又は磁性層が欠落した箇所が多数あり、実用上問題あり。
Ｅ： 磁性層表面全面が削り取られており、実用上問題あり

（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−ｎｏｉｓｅ ｒａｔｉｏ））
作製した各磁気テープに対して、下記条件で磁気信号をテープ長手方向に記録し、磁気抵抗効果型（ＭＲ；Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドで再生した。再生信号をシバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と、０〜６００ｋｆｃｉ範囲で積分したノイズとの比をＳＮＲとし、磁気テープの電磁変換特性をＳＮＲで評価した。
−記録再生条件−
記録：記録トラック幅５μｍ
記録ギャップ０．１７μｍ
ヘッド飽和磁束密度Ｂｓ１．８Ｔ
再生：再生トラック幅０．４μｍ
シールド間距離（ｓｈ−ｓｈ距離）０．０８μｍ
記録波長：３００ｋｆｃｉ
−評価−
５： ノイズがほぼなく、シグナルが良好でエラーも見られず、実用上問題なし。
４： ノイズが小さく、シグナルが良好で、実用上問題なし。
３： ノイズが見られるが、シグナルが良好なため、実用上問題なし。
２： ノイズが大きく、シグナルが不明瞭で、実用上問題あり。
１： ノイズとシグナルの区別ができないか記録できておらず、実用上問題あり。

実施例１〜１４の結果から、Ｈｃ／Ｈｃ’が、０．６以上１．０以下である場合に、磁気記録媒体のＳＮＲ及び磁性層における走行耐久性は良好であることが示された。
これに対し、Ｈｃ／Ｈｃ’が０．６未満である比較例１〜３においては、磁気記録媒体のＳＮＲ及び磁性層における走行耐久性が不良であることが示された。

本開示の磁気記録媒体は、走行耐久性に優れる磁気テープ等に好ましく利用できる。

Claims (9)

1. 非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に、ε−Ｆｅ_２Ｏ_３及び下記の式（１）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種のイプシロン型酸化鉄系化合物を含有する強磁性粉末、及び結合剤を含む磁性層とを有し、
   最大印加磁界３５９ｋＡ／ｍ、温度２９６Ｋ、磁界掃引速度１．９９４ｋＡ／ｍ／ｓで測定して得られる磁界−磁化曲線より求めた、磁化Ｍを、印加した磁界Ｈで２階微分した下記式（Ｉ）の値がゼロになる磁界をＨｃ’とし、前記磁界−磁化曲線において、磁化がゼロになる磁界の値をＨｃとした場合、Ｈｃ’に対するＨｃの値が０．６以上１．０以下であり、かつ、Ｈｃ’が下記式（ＩＩ）を満たす、磁気記録媒体。
   ｄ^２Ｍ／ｄＨ^２ 式（Ｉ）
   １１９ｋＡ／ｍ＜Ｈｃ’＜２３８０ｋＡ／ｍ 式（ＩＩ）
   
   式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０＜ａ＜２を満たす。
2. 前記結合剤が、架橋構造を有する結合剤である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記Ｈｃ’に対する前記Ｈｃの値が０．６５以上１．０以下である、請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 前記Ｈｃ’に対する前記Ｈｃの値が０．７１以上１．０以下である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
5. 前記結合剤の含有量が、前記強磁性粉末１００質量部に対し、５質量部〜３０質量部である、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
6. 前記磁性層において、前記強磁性粉末の質量に対する、不揮発成分の質量の質量比が、０．１５〜１．８である、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
7. 前記磁性層の厚みが、１０ｎｍ〜３５０ｎｍである、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
8. 前記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素である、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
9. 前記式（１）で表される化合物が、Ｇａを含み、Ｇａ原子の原子組成百分率が、Ｆｅ原子に対し５原子％〜５０原子％である、請求項８に記載の磁気記録媒体。