JP2018524625A - 結像光学系の測定方法及び測定配列 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
12 レチクル
14 ウエハ
16 ビーム経路
E1〜E6 ミラー
M1,M2,M2’,M3 光学モジュール
20 波面測定装置
22 結像光学系
24 測定照射
26 ピンホール
28 せん断格子
30 検出器
32 撮像面
40 測定配列
42 適応モジュール
44 ビーム経路
46 CGH
48 回折構造パターン
50 結像光学配列
52,54 反射型CGH
56 入力側適応モジュール
58 出力側適応モジュール
60,62 透過型CGH
64,66 複素符号化CGH
68 第2ピンホール
70 重ね合わせられた回折構造体
72 測定照射
74 適応モジュール
76 回折構造パターン
78 隙間
80 較正ユニット
82 回折構造パターン
84 適応モジュール
86 回折構造パターン
88 適応モジュール
90 回折構造パターン
92 較正配列
100 測定装置
102 第1光学面
104 第2光学面
106 基板
108 干渉計
110 フィゾー素子
112 照明照射
114 参照波
116 試験照射
117 測定照射
118 光学軸
120 波形成素子
122 第1回折構造体
124 第2回折構造体
126 CGH
128 第1測定波
130 第2測定波
132 第1補助波
134 第1補助測定構造体
136 第2補助波
138 第2補助測定構造体
140 第1光学面の点
142 第2光学面の点
144 第1部分
146 第2部分
148 第2波形成素子
150 回折構造体
152 CGH
154 第1光学素子
156 第2光学素子
158 評価装置
Claims (27)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学ユニットを測定する測定配列であって、
‐測定照射によって結像光学系の波面収差を測定するように構成された波面測定装置と、
-少なくとも1つの適応モジュールであって、被測定光学ユニットと前記少なくとも1つの適応モジュールとの組み合わせが結像光学配列を形成するように構成された、前記測定照射の波面を操作する少なくとも1つの適応モジュールと
を備える測定配列。 - 請求項1に記載の測定配列において、前記光学ユニットは、マイクロリソグラフィ投影露光装置における複数の光学素子を含む結像光学系に割り当てられ、前記光学ユニットは、前記結像光学系の前記光学素子の内の1つ、前記結像光学系の前記光学素子の部分配列、又は前記結像光学系によって形成される測定配列。
- 請求項2に記載の測定配列において、前記光学ユニットは前記結像光学系の前記光学素子の部分配列によって形成され、前記光学素子の前記部分配列は前記結像光学系の少なくとも1つの部分と、少なくとも1つの光学素子に関連する隙間が存在する分だけ異なる測定配列。
- 請求項1〜3の何れか一項に記載の測定配列において、前記適応モジュールは前記被測定光学ユニットの背面焦点距離を短くするように構成される測定配列。
- 請求項1〜4の何れか一項に記載の測定配列において、前記被測定光学ユニットの光学機能を有する較正ユニットを更に備え、該較正ユニットは前記光学ユニットを測定する前に前記少なくとも1つの適応モジュールを較正するように構成され、較正は、前記少なくとも1つの適応モジュール及び前記較正ユニットを含む配置の波面収差を決定することによって実行される測定配列。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載の測定配列において、前記少なくとも1つの適応モジュールは、前記測定照射のビーム経路において、前記被測定光学ユニットの上流に配置された、前記測定照射を操作する入力側適応モジュールと、前記測定照射の前記ビーム経路において、前記被測定光学ユニットの下流に配置された、前記測定照射を操作する出力側適応モジュールとを備える測定配列。
- 請求項1〜6の何れか一項に記載の測定配列において、前記少なくとも1つの適応モジュールは反射型又は透過型の1つ又は複数の回折構造パターンを有する測定配列。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の測定配列において、前記少なくとも1つの適応モジュールは、前記測定照射のビーム経路において重ね合わせられた、又は連続して配置された、少なくとも2つの回折構造パターンを含む測定配列。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学ユニットを測定する方法であって、
‐少なくとも1つの適応モジュールを被測定光学ユニットに、前記被測定光学ユニットと前記少なくとも1つの適応モジュールとの組み合わせが結像光学配列を形成するように配置するステップと、
-前記組み合わせによって形成される前記結像光学配列の波面収差を測定するステップとを含む方法。 - 請求項9に記載の方法において、前記被測定光学ユニットは、波長λの平面又は球面の入力波が照射されると出力波を生成し、該出力波の波面は少なくとも1つの点において理想の球状波から少なくともλだけずれる非結像光学系として構成される方法。
- 物体面から像面へパターンを結像する複数の光学素子を含む、マイクロリソグラフィ投影露光装置の結像光学系の波面収差を測定する方法であって、前記光学素子の種々の部分配列のそれぞれの波面収差が別個に測定される方法。
- 請求項11に記載の方法において、前記光学素子の前記部分配列の内の1つは前記結像光学系の少なくとも1つの部分と、少なくとも1つの光学素子に関する隙間が存在する分だけ異なる方法。
- 請求項11又は12に記載の方法において、前記結像光学系には少なくとも2つの前記光学素子をそれぞれ備える複数の光学モジュールが設けられ、種々の部分配列のそれぞれの波面収差の別個の測定は、個々の前記光学モジュールのそれぞれの波面収差の別個の測定によって行われる方法。
- 請求項11〜13の何れか一項に記載の方法において、前記部分配列の内の1つの測定は、測定される前記部分配列と前記少なくとも1つの適応モジュールとの組み合わせが結像光学配列を形成するように、測定される前記部分配列及び前記少なくとも1つの適応モジュールを波面測定装置の測定照射のビーム経路に配置するステップと、更に、前記波面測定装置によって前記結像光学配列の波面収差を決定するステップとを含む方法。
- 請求項14に記載の方法において、前記少なくとも1つの適応モジュールを配置するステップは、前記測定照射を操作する入力側適応モジュールを測定される前記部分配列の上流に配置するステップと、前記測定照射を操作する出力側適応モジュールを測定される前記部分配列の下流に配置するステップとを含む方法。
- 請求項14又は15に記載の方法において、前記測定照射の波面を操作する少なくとも1つの回折構造パターンを前記少なくとも1つの適応モジュールで使用する方法。
- 請求項16に記載の方法において、前記測定照射の波面を操作する前記回折構造パターンは反射型である方法。
- 請求項16又は17に記載の方法において、前記測定照射を操作するために、前記少なくとも1つの適応モジュールにおいて、前記測定照射のビーム経路に連続して配置される少なくとも2つの回折構造パターンを使用する方法。
- 請求項16〜18の何れか一項に記載の方法において、前記測定照射を操作するために、前記少なくとも1つの適応モジュールにおいて、前記ビーム経路に重ね合わせて配置された少なくとも2つの回折構造パターンを使用する方法。
- 干渉法によってマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学面の形状を測定する測定装置であって、
‐相互に隣接して配置される少なくとも2つの非連続光学面に適合される波面を有する測定照射を生成する回折構造体を有する複合的な波形成素子を備え、前記測定装置は、少なくとも1つの剛体自由度に対して、前記光学面の相互の相対位置を測定するように構成され、前記測定装置は更に
‐前記光学面と相互作用した後、干渉法によって前記測定照射を測定する干渉計と、
‐決定された相対位置を考慮して、前記干渉計による測定結果から、前記光学面のそれぞれの形状を決定する評価装置とを備える測定装置。 - 請求項20に記載の測定装置において、前記光学面と直角の方向の、前記光学面の相互の相対位置を測定するように構成される測定装置。
- 請求項20又は21に記載の測定装置において、前記波形成素子は、前記光学面の内の1つにそれぞれ集束される補助波を生成する回折補助測定構造体を有する測定装置。
- 請求項20〜22の何れか一項に記載の測定装置において、複数の波形成素子、又は前記光学面の内の少なくとも1つの一部分をそれぞれ測定する複数の回折構造体を有する1つの波形成素子を有する測定装置。
- 干渉法によってマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学面の形状を測定する方法であって、
‐回折構造体を有する複合的な波形成素子によって生成される、前記光学面に適合された波面を有する測定照射のビーム経路に、少なくとも2つの非連続光学面を配置するステップと、
-少なくとも1つの剛性自由度に対して、前記光学面の相互の相対位置を決定するステップと、
-決定された前記相対位置を考慮して、前記測定照射により、干渉法によって前記光学面のそれぞれの形状を同時に測定するステップとを含む方法。 - 請求項24に記載の方法において、前記光学面の相互の相対位置は、前記波形成素子の補助測定構造体によって前記測定照射から生成される補助波によって測定される方法。
- 請求項24又は25に記載の方法において、前記光学面の内の少なくとも1つのそれぞれの部分を、種々の波形成素子又は波形成素子の種々の回折構造体によって連続して測定し、続いて部分的な測定を組み合わせて前記光学面の全体的な測定を形成する方法。
- 請求項24〜26の何れか一項に記載の方法において、前記非連続光学面を共通の基板に配置する方法。
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