JP2018522122A - 改質充填剤粒子およびそれを含むシリコーン組成物 - Google Patents
改質充填剤粒子およびそれを含むシリコーン組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018522122A JP2018522122A JP2018502664A JP2018502664A JP2018522122A JP 2018522122 A JP2018522122 A JP 2018522122A JP 2018502664 A JP2018502664 A JP 2018502664A JP 2018502664 A JP2018502664 A JP 2018502664A JP 2018522122 A JP2018522122 A JP 2018522122A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- polyorganosiloxane
- groups
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 191
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 10
- 239000000945 filler Substances 0.000 title description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 47
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 6
- -1 R 9 -C (O) -O- Chemical class 0.000 claims description 112
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 74
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 64
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 50
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims description 45
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 41
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 38
- RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N eugenol Chemical compound COC1=CC(CC=C)=CC=C1O RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- QHGSGZLLHBKSAH-UHFFFAOYSA-N hydridosilicon Chemical compound [SiH] QHGSGZLLHBKSAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 26
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 25
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 25
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 25
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 23
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N Chavibetol Natural products COC1=CC=C(CC=C)C=C1O NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000005770 Eugenol Substances 0.000 claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N Pseudoeugenol Natural products COC1=CC(C(C)=C)=CC=C1O UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229960002217 eugenol Drugs 0.000 claims description 14
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 claims description 14
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 13
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 11
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 10
- RNYFPCBPUJIHRR-WCZCRHMRSA-N norbornenylethyl-poss® Chemical group C1([C@@H]2C[C@@H](C=C2)C1)CC[Si](O1)(O2)O[Si](O3)(C4CCCC4)O[Si](O4)(C5CCCC5)O[Si]1(C1CCCC1)O[Si](O1)(C5CCCC5)O[Si]2(C2CCCC2)O[Si]3(C2CCCC2)O[Si]41C1CCCC1 RNYFPCBPUJIHRR-WCZCRHMRSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 2-(propoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCOCC1CO1 CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- KBSDLBVPAHQCRY-UHFFFAOYSA-N 307496-19-1 Chemical group C1CC=CCC1CC[Si](O1)(O2)O[Si](O3)(C4CCCC4)O[Si](O4)(C5CCCC5)O[Si]1(C1CCCC1)O[Si](O1)(C5CCCC5)O[Si]2(C2CCCC2)O[Si]3(C2CCCC2)O[Si]41C1CCCC1 KBSDLBVPAHQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 8
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 8
- WQADWIOXOXRPLN-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiane Chemical compound C1CSCSC1 WQADWIOXOXRPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 7
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 101100079984 Caenorhabditis elegans nhr-9 gene Proteins 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N ac1n8rtr Chemical group C1CC2OC2CC1CC[Si](O1)(O2)O[Si](O3)(C4CCCC4)O[Si](O4)(C5CCCC5)O[Si]1(C1CCCC1)O[Si](O1)(C5CCCC5)O[Si]2(C2CCCC2)O[Si]3(C2CCCC2)O[Si]41C1CCCC1 HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- LORRLQMLLQLPSJ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-Trithiane, Natural products C1SCSCS1 LORRLQMLLQLPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IMLSAISZLJGWPP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dithiolane Chemical compound C1CSCS1 IMLSAISZLJGWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 2
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 claims description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- FYBYQXQHBHTWLP-UHFFFAOYSA-N bis(silyloxysilyloxy)silane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] FYBYQXQHBHTWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 6
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N hydroxy(diphenyl)silicon Chemical group C=1C=CC=CC=1[Si](O)C1=CC=CC=C1 NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 3
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- XCRBXWCUXJNEFX-UHFFFAOYSA-N peroxybenzoic acid Chemical class OOC(=O)C1=CC=CC=C1 XCRBXWCUXJNEFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N (1S,4R)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound CC=C1C[C@@H]2C[C@@H]1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-tris(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1(C=C)C=C NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQADWIOXOXRPLN-AZXPZELESA-N 1,3-dithiane Chemical group C1CS[13CH2]SC1 WQADWIOXOXRPLN-AZXPZELESA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-phenyl-1-(2-propan-2-ylphenyl)ethanone Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- CARNFEUGBMWTON-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoxyethoxy)prop-1-ene Chemical compound C=CCOCCOCC=C CARNFEUGBMWTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-ynoxyprop-1-yne Chemical compound C#CCOCC#C HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHBQLFWTMLRYKN-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(CC=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 GHBQLFWTMLRYKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical class CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001602 bicycloalkyls Chemical group 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001634 bornane-2,3-dione derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N compound Z Chemical compound N1=C2C(=O)NC(N)=NC2=NC=C1C(=O)[C@H]1OP(O)(=O)OC[C@H]1O ONCCWDRMOZMNSM-FBCQKBJTSA-N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OCCN(C)C)C1=CC=CC=C1 ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002100 high-refractive-index polymer Polymers 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003863 metallic catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- UNNBXSCQSDJONV-UHFFFAOYSA-N n-[dibenzamido(methyl)silyl]benzamide Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)N[Si](NC(=O)C=1C=CC=CC=1)(C)NC(=O)C1=CC=CC=C1 UNNBXSCQSDJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000005029 thianthrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/02—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0016—Plasticisers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/01—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/70—Siloxanes defined by use of the MDTQ nomenclature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2383/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2383/04—Polysiloxanes
- C08J2383/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
【選択図】なし
Description
本出願は、2015年7月20日に出願された米国仮特許出願第62/194,545号「改質充填剤粒子およびそれを含むシリコーン組成物」の優先権を主張し、その開示は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本主題は、ポリオルガノシロキサンナノ結晶金属酸化物または水酸化物の組成物、およびこれらの粒子を分散または結晶化させる方法を提供する。分散され、任意にて表面改質されてもよい粒子を有する硬化性組成物は、良好な光透過率で高い屈折率を示す。この組成物は、光学デバイスまたは光ガイドなどの様々な用途での使用に適している。本発明につながる研究は、「助成契約」第263382号の下、EU第7次フレームワーク計画(FP7-NMP-2010-LARGE-4)からの資金提供を受けている。
高屈折率を有するポリオルガノシロキサンポリマーまたはコポリマーは、例えば、コンタクトレンズ、眼内レンズ、LEDレンズなどを含む様々な光学用途にますます使用されている。このようなポリマーはまた、限定されるものではないが、半導体照明(発光ダイオード、有機発光ダイオード、レーザーダイオード)、導波路(平面と「ファイバー」の幾何学的形状の両方)、光コンピューティング、光記憶媒体、反射防止コーティング、コンフォーマルコーティング、光学レンズ、マイクロレンズ、自動車のトップコート、塗料配合物、ヘアケア製品、勾配屈折率光学部品、動的勾配屈折率成分などの、高い透過率および高い屈折率を必要とする他の光学用途への道を見出している。
本主題は、ナノ結晶性金属酸化物または水酸化物(A)およびポリオルガノシロキサン(B)の組成物、これらの粒子を分散または結晶化させるプロセスを提供する。本発明は、広範囲の波長において高い屈折率および良好な光透過性を示す、表面改質されてもよい分散したナノ結晶質の粒子を有する硬化性組成物を開示する。組成物を硬化させうるプロセスもまた開示されている。組成物は、光学デバイス、レンズまたは光ガイドのような様々な用途の製造に有用である。一態様では、本発明の組成物は、バインダーとして、および充填剤の分散を安定化させ、光の透過率を調整することができる分散助剤として非対称に置換されたポリオルガノシロキサンを使用する。
本発明は、本発明は、金属酸化物/水酸化物粒子(A)、1以上のポリオルガノシロキサン(B)、(B1)および(B2)は、式(I)
の単位を有する1以上の置換ポリオルガノシロキサンからなる群から選択され、
ここでRは、R1、および、R2、R3、R4、Lからなる群から選択され、そして
R1は、任意にてClまたはFで置換されてもよい1価のC1−C22−アルキルからなる群から選択され、そして
R2は、C2−C22−アルケニルから選択される1価の非置換または置換のアルケニル基からなる群から選択され、そしてC6−C22−シクロアルケニル、C7−C22−ビシクロアルケニル、C6−C22−アルケニルアリールアルキルから選択されるR22を含み、任意にてR1により置換されてもよく、炭化水素基の炭素原子を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、O原子、N原子によって中断されることがありえ、そして
R3は、式(I)のMR3を形成する−L−R4基であり、ここで
R4は、R1、R2、R22、水素、および1価の置換または非置換のC4−C30−炭化水素単位であって、任意にてNR9−、O、SまたはP原子で中断され、R1、OH、Cl、F、OR9−で置換されてもよく、C1−C22−アルキル、ポリ(F)−アルキレンオキシドR9末端からなり、
(R1X)xR1 3−xSi−、x=1−3、X=C1−C8−アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、および、
カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えばR9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、ここでR9=水素、C1−C8アルキル、C2−C8−アルケニル、me3Si−
および、アミン、ホスフィンの酸性塩、または好ましくは、第4級の−N+R9 3または−P+R9 3基を有する塩、
および、R22、C6−C22−シクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C7−C22−ビシクロアルキル、C6−C22−アリール、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、C8−C22−多環式アリール、C7−C22−アルキルアリール、C7−C22−アリールアルキル、C8−C22−アリールアルキレン−アリールアルキル、基R2、R22のエポキシドからなる群から選択されるR42を含み、および、
R6 xR1 3−xSi−、ここで、x=1−3、
R6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、エポキシC3−C12−エポキシアルキル、C6−C12−シクロアルキル、エポキシC7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−チオシクロアルキル、C5−C12ヘテロ−N,−O,−S−アリール、
からなる群から選択され、
Lの単結合または炭素結合を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、ここで
Lは、単結合、2価または3価の基であり、C1−C12−アルキレン基からなる群から選択され、O、−または−NR9−C(O)−、および/または−NR9−、ウレタン−OC(O)NR9−、ウレア−NR9HC(O)NR9−、部分で中断され、そして1以上のOH基で置換されることがありえ、炭素結合を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、
2個を超える不飽和基を有するケイ素を含まない不飽和C6−C30−炭化水素、R7がSi(SiH)に結合した水素であるさらなる基R7を有するポリオルガノシロキサン(B2)からなる(B)の群から選択されるC6−C30−エポキシ基を有する炭化水素の群からさらに選択される任意選択の1以上の架橋剤(C)、
ラジカル開始剤、ヒドロシリル化触媒、縮合触媒、光活性化カチオン重合用触媒の群から選択される任意選択の硬化触媒(D)を含む組成物であって、
少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換され、1.43を超える屈折率nD 20を有するシロキシ単位を5モル%より多く含むことを特徴とする組成物を開示する。
[MaDbTcQdLe]f (II)
ここで
a=0−6、
b=0−2000、
c=0−50、
d=0−1、
e=0−6、
f=1−200、d=1またはQが存在する場合、
ここでa+c+d>0、そしてせん断速度D=10sec−1で、25℃の粘度が200,000mPa.sより下である。
M−DR1 u−DR2 v−DR3 w−M* (IIIa)
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4* (IIIb)
m=1−7、
p=1−9、
ここで
u=0−500、
v=0−50、好ましくは0−20、
w=0−500、好ましくは1−100
[M0.4−4Q]1−200 (IIIc)
[M0.4−4D1−10Q]1−200 (IIId)
M2−10D0−500T1−10 (IIIe)
ここでMおよびM*は、MR1、MR2、MR3からなる群から選択され、
MR1=R1 3SiO1/2
MR2=R1 xR2 3−xSiO1/2
MR3=R1 xR3 3−xSiO1/2
x=0−2
Tは、TR1、TR2、TR3から選択され、
TR1=R1SiO3/2
TR2=R2SiO3/2
TR3=R3SiO3/2
Dは、DR1、DR2、DR3から選択され
DR1=R1 2SiO
DR2=R1 yR2 2−ySiO
DR3=R1 yR3 2−ySiO
y=0−1、
少なくとも1つのポリオルガノシロキサン(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を5モル%より多く含むことを特徴とする。
R=R2、R3、R4、R7
Ph=フェニル;
から出発する前駆体を使用しており、
−L−R3の例としては下記式によって示されることができ、
R8は、R10からR14の群から選択され、例えば、
R10、R14は水素またはR1であり、R11、R12、R13は、−OR9、形成基から選択され、
R6me2Si−、ここでR6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、任意にてR1、OH、Cl、およびシリルエーテル基R1 3Si−O−で置換されてもよく、
および、非置換または置換のオキシフェニル部分からなり、ここで基
はR10からR14で置換されており、
ここで基R11からR13の少なくとも1つは、OH基であり、Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合している。
y=u、v、w、
MR7=R1 xR7 3−xSiO1/2 me3SiO1/2、Hme2SiO1/2
x=2または3
指数u、v、wは、上で定義した通りであり、
t=0−100
R=R2、R3、およびR4であり、
M−DR1 u−DR3 w−DR2 v−DR7 t−M
DR7=HMeSiO
R3は−L−R4である。
であり、ここでa、b、cは、独立して0から20であり、一実施形態では0であり、別の実施形態では1から20であり、そしてa+b+cは、0から20であり、一実施形態では0であり、別の実施形態では1から20であり、またはR62は、
である。
から選択されることができ、そしてZBは以下の基から選択される:
R3は基−L−R4であり、
ここでR4は、基R42、すなわちより高い光学密度を有する基R4を含み、これは、基R22、C6−C22−シクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C7−C22−ビシクロアルキル、C6−C22−アリール、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、C8−C22−多環式アリール、C7−C22−アルキルアリール、C7−C22−アリールアルキル、C8−C22−アリールアルキレン−アリールアルキル、基R2、R22のエポキシド、および
R6 xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、
R6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、エポキシC3−C12−エポキシアルキル、C6−C12−シクロアルキル、エポキシC7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−チオシクロアルキル、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、
からなる群から選択され、
Lの単結合または炭素結合を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合される。
R2およびR22のエポキシド、例えば、C6−C22−エポキシアルキル、C6−C22−エポキシシクロアルキル、C4−C12−ジオキソラン、C5−C12−チオフェン、C3−C12−1,3−−ジチオラン、C3−C12−1,3,5−トリチアン、C4−C2−1,3−ジチアン、C5−C12−テトラヒドロ−2H−チオピランであり、
基−L−R4または−L−R4の他の例は、
である。
1,3−ジチアン、1,3−ジチオラン、1,3,5−トリチアン、またはクミルフェノールエーテル、ビスフェノールエーテル誘導体である。
である。
である。
M−DR1 u−DR3 w−DR2 v−M
DR1=me2SiO
DR2=ビニルmeSiO
DR3=w1=Ph2SiO ph=フェニル、および
w2: (ph3−Si−C2H4)meSiO
u=2
w=w1+w2、すなわち、w1=2、w2=3.6
v=4.2
R3=Ph=フェニル、またはR3=−(CH2)2−SiPh3、SiPh3
t=5.5
u=2
w=w1+w2 w1=2、w2=3.5
Ph=フェニル
R3=−C2H4−Siph3
u=2
w=w1+w2 w1=2、w2=4
Ph=フェニル
R3=クミルフェノール
MR2−DR1 u−DR2 v−DR3 w−MR2
[M0.4−4Q]1−200、
[M0.4−4D1−10Q]1−200、
M2−10D0−500T1−10、および
M2−10D0−500T1−10、ここで
MおよびM*単位は、MR1、MR2、MR3からなる群から選択され、
D単位は、DR1、DR2、DR3から選択され、
T単位は、TR1、TR2、TR3から選択され、
ここでR1=メチル、3,3,3−トリフルオロプロピル
u=0−200
v=0−20
w=1−200、そして
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4*
R2は、ビニル、アリル、ヘキセニル、オクテニル、R22から選択され、R22は、シクロヘキセニルエチル、リモニル、ノルボルネニル、ノルボルネンエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピルから選択され、
R3=−L−R4、ここで
Lは単結合、2価のC1−C8−アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、そして1以上のOH基で置換されることがありえ、
R4は、以下の群から選択され、R1、R2、R22、水素、
(R1X)xR1 3−xSi−、x=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えば、R9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、ここでR9 は、水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、me3Si−であり、
および、アミン、ホスフィンの酸性塩、または好ましくは第4級−N+R3または−P+R3基を有する塩、およびR42から選択されるR44、
シクロヘキシル、ノルボルニル、フェニル、フェニルプロピル、フェニルエチル、置換ヒドロキシフェニル、オイゲノール、クミルフェノールエーテル、ビスフェノールエーテル、ナフチル、C5−C12−チオフェン、C8−C12−インドール、C12−C22−カルバゾール、C4−C12−ジオキソラン、C5−C12−チオフェン、C3−C12−1,3−ジチオラン、C3−C12−1,3,5−トリチアン、C4−C2−1,3−ジチアン、C5−C12−テトラヒドロ−2H−チオピラン、C6−C12−エポキシアルキル、C6−C22−エポキシシクロアルキルであって、任意にて、R1、OH、Cl、F、−NR9−、−O− −S−原子で置換または中断され、−OR9で置換されてもよく、
および、
R6 xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、
R6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、エポキシC3−C12−エポキシアルキル、C6−C12−シクロアルキル、エポキシC7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−チオシクロアルキル、C5−C12−ヘテロN,O,S−アリール、Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む。
R1=メチル、3,3,3−トリフルオロプロピル
u=0−100
v=0−10
w=1−100、そして
R2は、ビニル、アリル、ヘキセニル、オクテニル、R22から選択され、R22は、シクロヘキセニルエチル、リモニル、ノルボルネニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピルから選択され、
R3=−L−R4、
そしてLは上記定義通りであり、
R4は、以下の群から選択され、(R1X)xR1 3−xSi−、ここで、x=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えば、R9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、第4級−N+R9 3、
および、
R42=シクロヘキシルエチル、ノルボルニル、ノルボルニルエチル、フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテル、グリシジルプロピルエーテル、エポキシリモニル、エポキシシクロヘキサンエチル、エポキシノルボルニル、1,3−ジチオラン、1,3,5−トリチアン、1,3−ジチアン、チオフェニルテトラヒドロ−2H−チオピラニル、カルバゾール、インドール、トリスフェニルシリル、および、
R6me2Si−、ここでR6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、任意にて、R1、OH、Cl、およびシリルエーテル基R1 3Si−O−で置換されてもよく、
および、非置換または置換オキシフェニル部分、ここで基
はR10からR14で置換され、
ここでR10、R14は、水素またはR1であり、および
R11、R12、R13は、−OR9から選択され、
ここで基R11からR13の少なくとも1つは、OH基であり、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合しており、
ここで少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む。
M−DR1 u−DR2 v−DR3 w−M* (IIIa)
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4* (IIIb)
R、R*は異なることができ、そして上記で定義したR1、R2、R22、R3、R4、R42からなる群から選択され、
ここで、末端基R4およびR4*は、上で定義されたR4およびR42から選択されるが、互いに異なり、
p=1または4または9
R1=メチル、
R3=−L−R4
ここでLはL1およびL2から選択され、2価のC1−C8アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
R2は、ビニル、ヘキセニル、オクテニル、R22からなる群から選択され、R22=リモニル、シクロヘキセニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピル、
R4は、(R1X)xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、
基R42から選択され、これは以下からなり、R22、フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテル、ノルボルニル、グリシジルプロピルエーテル、シクロヘキセンオキシドエチル、リモニルオキシド、ノルボルニルオキシド、1,3−ジチアンジメチルシリル、トリスフェニルシリル、R6me2Si−、ここでR6=フェニルエチル、フェニルプロピル、オイゲノール、リモニル、エポキシリモニル、グリシジルプロピルエーテル、エポキシシクロヘキシルエチル、ノルボルネニルエチル、エポキシノルボルネニルエチル、カルバゾール、インドール、および非置換または置換オキシフェニル部分であり、ここで基
は、R10からR14で置換され、
R10、R14は、水素またはR1であり、そしてR11、R12、R13は−OR9から選択され、
ここでR11からR13の少なくとも2つは、OH基であり、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、ここで、少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む。
a1)第1の化合物Z*−L−[SiR2O]p−SiR2−L−Z*と
式Z**−L−[SiR2O]p−SiR2−L−Z**の2モルのα,ω−末端ポリオルガノシランとの反応
Z*は、SiH−シランまたはシロキサン、アルケニル、C1−アルキルまたはBr−アルキル、エポキシ、アミン、−NCOから選択され、
Z**は、任意にて触媒の存在下で互いに相補的に反応し得るZ*から選択され、ここでp=1または4または9、R、L=L1、L2またはL*で、上記定義通りであり
ここで、ステップa1)のZ*およびZ**は、単位−L3−を形成し、
Z**−L[SiR2O]p−SiR2−L3−[SiR2O]p−SiR2−L3−[SiR2O]p−SiR2L−Z**、
ここでZ**は、R2、R22、R4、R4*、R42、R42*である。
ここで、基R4またはR42を提供する第1の不飽和化合物、および基R4*またはR42*を提供する異なる第2の不飽和化合物は、アルファ,オメガ−ジハイドロジェンジシロキサン、−ペンタシロキサンまたは−デカシロキサンに加えられる。
R1 *=メチル、フェニル、3,3,3−トリフルオロプロピル
Rは、R1=メチル、R4=フェニル、スチリル、フェニルプロピルなどから選択され、
p=1または4または9。
(R1O)xR1 3−xSi−CH2CH2−SiR2−O−[D]p−1−SiR2−H
の所望の第1の反応性基R4、すなわちアルコキシシリル基を有する第2の化合物を、少なくとも1つの不飽和基を含む第2の化合物と反応させて、所望の最終的な非対称ポリオルガノシロキサンを得る。第2の付加反応に適した基の例としては、この列挙に限定されるものではないが、ビス−オレフィン化合物、1,5−ヘキサジエン、ノルボルナジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、リモネン、エキソ−ジシクロペンタジエン、エチレングリコールジアリルエーテル、プロピレングリコールジアリルエーテル、ジビニル−テトラメチルジシロキサン、ジビニルベンゼン、ジアリルフェニルエーテル、トリスフェニルビニルシラン、N−ビニルカルバゾールなど; アセチレン−オレフィン、例えば、プロパルギルアルコール−ウンデシレン酸エステル、アセチレン−ビス−オレフィンなど;1,4−ブチンジオール−ビス(ウンデシレン酸)エステル、ビス−アセチレン系、例えばビス−プロパルギルエーテルが挙げられる。
R1=メチル、フェニル、
Rは、R1=メチル、R4=フェニル、スチリル、フェニルプロピルなどから選択される
p=1または4または9、
ここで、SiH基を有する基R4を提供する第1および第2の化合物が、そのα,ω−ジアルケニル ジ−、ペンタシロキサンまたはデカシロキサンに段階的に加えられ、2つの異なる末端基R4、R42をそれぞれ有するジ− オルガノペンタシロキサンまたはオルガノデカシロキサンを得る。
(R1O)xR1 3−xSi−CH2CH2−SiR2−O−[D]p−1−SiR2−L−CH=CH2
このような前駆物質部分は、シロキサンブロックの数を増やすために、もう1つのジまたはオルガノペンタシロキサンであってもよい。
(R1O)xR1 3−xSi−CH2CH2−SiR2−O−[D]p−1−SiR2−L−CH=CH2
の前駆体は、例えば、ヒドロシリル化触媒の存在下で、さらに付加的に1つのSiH基および第2の反応性基R4、例えばエポキシ基を有するL*−R4を含むシランまたはシロキサン化合物と反応され、R42、例えば式(IVe)とされうる。
シロキサンブロックは、2個、5個または10個のいずれかのシロキシ単位を有する。ペンタシロキサン単位を有するポリオルガノシロキサンは、本発明の組成物に特に適している。
ここでR3、R3*は、−L−R4または−L−R4*であり、そして基R4およびR4*は、R4およびR42から選択され、互いに異なり、そしてこれによりポリオルガノシロキサン(B)は、下記構造式の群から選択される。
R1=メチル、
R4およびR4*は上記定義通りであり、
p=1、4または9、好ましくは4
L1およびL2は、上記定義通りの基Lから選択され
ここでL1およびL2は、2価のC1−C8−アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
(B)は、R22およびR42から選択される基で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含むことを特徴とする。
ここでRおよびR*はR1およびR4から選択され、それによりRおよびR*は異なることができ、
R、R*=メチル、3,3,3−フルオオロプロピル、R4、R42、
p=1または4または9
n=0−6
R2は、ビニル、ヘキセニル、R22からなる群から選択され、R22=リモニル、シクロヘキセニルエチル、ノルボルネニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピル
R3=−L−R4
ここでLはL1およびL2から選択され、2価のC1−C8−アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
R4は、(R1X)xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、および、
基R42、これは以下からなり、フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテル、R22、これは以下からなり、ノルボルニル、グリシジルプロピルエーテル、シクロヘキセンオキシドエチル、リモニルオキシド、ノルボルニルオキシド、1,3−ジチアンジメチルシリル、トリスフェニルシリル、から選択され、
R6me2Si−、ここでR6=フェニルエチル、フェニルプロピル、オイゲノール、リモニル、エポキシリモニル(epoxyliomonyl)、グリシジルプロピルエーテル エポキシシクロヘキシルエチル、ノルボルネニルエチル、エポキシノルボルネニルエチル、カルバゾール、インドール、
非置換または置換オキシフェニル部分であり、基
は、R10からR14で置換され、
R10、R14は、水素またはR1であり、そして
R11、R12、R13は−O−R9から選択され、
ここでR11からR13の少なくとも2つはOH基である、であり、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、ここで、少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む。
(a)バインダーマトリックスおよび/または分散ポリマーとして使用される末端シロキシ基で非対称に置換されたポリオルガノシロキサン(B)を含む少なくとも1つの硬化性または非硬化性ポリオルガノシロキサン(B)、ならびに
(b)本発明の金属酸化物粒子(A)
含むシリコーン組成物を提供する。
z=u、v、またはw
u=0−100、好ましくは0−10
w=0−100、好ましくは2−10
t=0−60、好ましくは1−10、式(VIIb)では少なくとも2つのSiH
R3=L−R4であって上記定義通り、R4は、好ましくは、フェニル、フェニルプロピル、オイゲノール、スチリル(フェニルエチル)、トリスフェニルシリルエチル、リモニル、ノルボルニルエチル、エポキシリモニル、グリシジルオキシプロピル、エポキシシクロヘキシルエチルである。
実施例で使用される1つの具体例は、M−D2−DPh 2DVi 2Mでありえ、
u=0−500、好ましくは0−200
w=0−400、好ましくは2−150
v=0−20、好ましくは1−5、
ここでR3は上記定義通りであり、好ましくは、フェニル、フェニルプロピル、オイゲノール、スチリル(フェニルエチル)、トリスフェニルシリルエチル、リモニル、ノルボルニルエチル、エポキシリモニル、エポキシシクロヘキシルエチルである。
R=R1またはR3
p=1、4または9
L2=単結合、またはC1−C22−アルキル、C7−C12−アルキルアリーレン、C7−C12−アルキルアリールアリレン
R4は上記定義通りである。
L、R4は上記定義通りであり、R4およびR4*は、Rから選択され、そして異なり、
Rは、R1およびR3から選択され、
p=1または4または9
m=1−7。
a)二官能性または多官能性シラン(R1X)xR1 3−xSi−R、または基(R1X)xR1 3−xSi−を有するシロキサン、ここでX、R1、Rは上記定義通りであり、
b)ケイ素原子を有するまたは有さない二官能性または多官能性エポキシド、
c)ケイ素原子を有するまたは有さない二官能性または多官能性アミン、
d)ケイ素原子を有するまたは有しない二官能性または多官能性カルボン酸、および
e)任意にて、ケイ素原子を有するまたは有しない2以上の不飽和基を有するアルケンまたはアルキン、例えば、トリビニルシクロヘキサン、2価または多価不飽和置換基を有するエステルまたはエーテル、
からなる群から選択される。
R15 bSi(OR1)4−b 例えば、アルキルアルコキシシラン
R15 bSi(OCOR1)4−b 例えば、アルキルアセトキシシラン
R15 bSi(NR1 2)4−b 例えば、アルキル−アルキルアミノシラン
R15 bSi(ON=R1 2)4−b 例えば、アルキル−アルキルオキシモシラン
R15 bSi(NHCOR1 2)4−b 例えば、アルキル−アルキルアミド、またはアルキル−アリールアミドシラン
b=0−2、好ましくは0または1、
からなる群から選択され、
R15基は、C1−C10アルキル、アルコキシアルキル、C2−C8アルケニルまたはフェニルである。
本発明の組成物は、任意にて触媒(D)を含む。
R16 2I+MXn −、R16 3S+MXn −、R16 3Se+MXn −、R16 4P+MXn −、R16 4N+MXn −、ここで、R16で表される異なるラジカルは、任意にて置換されていてもよい炭素数2−20の芳香族炭素環式ラジカルを含むC1−C30脂肪族炭化水素から選択される同一または異なる有機ラジカルでありえる。
a)任意にて溶媒における、非晶質金属酸化物/水酸化物粒子の分散体を提供すること、
b)分散体をポリオルガノシロキサン(B)と混合すること、
c)混合物を450℃まで加熱すること、
d)任意にて必要であれば溶媒(E)を蒸発させること、および
e)任意にてそれをさらなるシロキサンポリマー(B)と混合すること
のステップを含む本発明による結晶性成分(A)の製造のプロセスを含む。
i)溶媒中の成分(A)の結晶性金属酸化物/水酸化物粒子の分散体を提供すること、
ii)(A)をポリオルガノシロキサン(B)と混合すること、
iii)任意にて混合物を加熱すること、
iv)任意にてそれをさらなるシロキサンポリマー(C)および触媒(D)と混合した後に、必要であれば溶剤(E)を蒸発させること、
のステップを含む。
エポキシ基R3またはR6を含む対称または非対称に置換された成分(B)から選択されるエポキシ官能化ポリジメチルシロキサンの成分(B)100重量部、
(D)成分としてのペンタフルオロホスフェートのオニウム塩1−5重量部、
増感剤0.5−1重量部
を含む。
結晶構造を含む200nm未満の粒径の金属酸化物/水酸化物の成分(A)1−350重量部、
10モル%より多いphe2SiO単位を有するビニル末端ポリジフェニルジメチルシロキサンの成分(B)100重量部、
基R4およびR4*を含む非対称に置換された成分(B)0−20重量部
10モル%より多くのphe2SiO単位を有するSiHポリジメチルシロキサン(B2)1から5重量部、
成分(A)から(C)に関して2−500ppmのPtを提供する成分(D)としての有機金属Pt−化合物、を含む。
結晶構造を含む200nm未満の粒径の金属酸化物/水酸化物の成分(A)1−350重量部、
R22および−L−R42からなる群から選択される光学密度基Rを含む非対称に置換された成分(B)100重量部、
ここで5モル%を超えるシロキシ単位が置換基R22および−L−R42を有し、
SiHポリジメチルシロキサン(B2)1−5重量部、
成分(A)から(C)に関して2−500ppmのPtを提供する成分(D)としての有機金属Pt−化合物、を含む。
本発明の組成物にて試験されたナノサイズの金属酸化物/水酸化物粒子は、WO2012/058271によるアルコキシジルコン酸塩の水熱反応で合成されたPixelligent Inc.によって供給されるSH−6と呼ばれるジルコニウム酸化物/水酸化物分散体であった。SH−6酸化物は、長さが7−10nmのジルコニア粒子の50重量%固形分をトルエン中に分散させて含み、それにより、固体は>85重量%の酸化ジルコニウムを含む。
この非対称ポリオルガノシロキサン(B)は、ジルコニウム酸化物/水酸化物を有する組成物の次の実施例に適用される分散助剤または表面改質剤としての使用のために合成された。1つの反応性末端基を有する非対称ポリオルガノシロキサンが調製され、これはここではトリメトキシシリル基である。非対称シロキサン分子の前駆体は、n−C4H9−Sime2−O−[me2SiO]8−Sime2−H(Gelest Inc.のMCR-H07)であった。それは、Karstedt触媒により供給された10ppmのPtの存在下、80℃、N2 atmでビニルトリメトキシシランと反応させた。得られた生成物の生成は、1Hおよび29Si−NMRによって確認され、定量的収率で形成されることが明らかとなる。生成物は珪藻土層(セライト)で濾過され、さらなる実験のためにそのまま使用される。
ポリオルガノシロキサン(B)を、25℃で200mPa.sの粘度、屈折率nD 20=1.39を有する通常の市販のビニル末端ポリジメチルシロキサンで置き換えた比較例2を繰り返す。この組成物は、不透明の非透過性混合物であり、溶媒の除去後に相分離を示し始めた。
比較例2のビニル末端ポリジメチルジフェニルシロキサン(B)’Phe1’を、nD 20=1.499のビニル末端ポリジメチルジフェニルシロキサン(B)M−D2−DPh 2−DVi 2−M(’Phe2’)で置き換えた、比較例2による別の混合物を調整した。この混合物において、ジルコニア分散体SH−6の濃度を、ジルコニアの固形分について計算して50および60重量%まで増加させた。この混合物は、光度計キュベット(10mm)内で均質な透明な外観を示している。それにもかかわらず、まだ青みがかったわずかな程度の曇りがある。屈折率は、ジルコニウム酸化物/水酸化物固体について60重量%でnD 20=1.569、50重量%でnD 20=1.588であると測定された。この実施例は、ジルコニウム酸化物/水酸化物固体を分散させて透明な組成物を得ることができることを示しており、ここで全組成物の屈折率は、光学密度基を含むポリオルガノシロキサン(B)25mol%のフェニルシロキシ単位(=2/8)の屈折率を上回っている。
低屈折率のポリオルガノシロキサンおよびSH−6のジルコニア粒子の組成物中の技術水準による加工助剤の例としての3つの追加のアルコキシシランの評価を、本例および表1に示す。比較例4のポリオルガノシロキサン(B)を、低屈折率1.39の1つのポリオルガノシロキサンで置き換え、比較例4のジルコニア粒子SH−6の分散体をそれに添加した組成物を調製した。さらに、可能な分散助剤として作用する能力を評価するために、3つの異なるアルコキシシランが使用されている。
ポリオルガノシロキサン(B)M−D2DPh 2−DVi 2−Mを25℃で200mPa.sの粘度を有するポリジメチルシロキサンジオールに置き換えた比較例4を繰り返した。
第1の混合物において、実施例1の非対称ポリオルガノシロキサン(B)0.65gを13.02gのジルコニア分散体SH−6(トルエン中50重量%=6.5g固体)に添加し、(B)のトリアルコキシシリル基とジルコニア酸化物/水酸化物粒子の表面への反応性基との可能な反応に影響を及ぼすために60−70℃まで1時間加熱する。得られた分散体は透明な外観を有する。
8.1
第1部(K1)組成物は、式M−D2DPh 2−DVi 2−M(Phe2)の対称ポリオルガノシロキサン(B)および実施例1の非対称ポリオルガノシロキサン(B)で改質されたジルコニア粒子SH−6(A)から形成される。
*(K3)部は、M−D2DPh 2−DVi 2−M中に0.04重量%のPtを含み、配合物中に10ppmのPt濃度で付与されたPt Karstedt Mvi 2錯体。
R22を有する光学密度シロキシ基の濃度は25モル%(=2/8)である。
別のセットの反応性組成物(部K1として)および(K2)は、粘度を測定するため、実施例8.1にしたがって混合された。
)2 85℃および85%相対湿度に168時間
9.1
トルエン中の50重量%SH−6分散体として50gのZrO2固形分を含む分散体を、不活性ガス雰囲気下で、5gの非対称に置換された式(me3SiO)2C2H4−Sime2−O−[D]3−Sime2−(CH2)3−O−C3H5Oのエポキシ−およびトリメトキシシリル末端ポリオルガノシロキサン(B)と混合して、55−60℃で2時間撹拌した。顕著な曇りのない透明な組成物が得られた。
実施例9.1で得られた分散体を、式OC3H5O−(CH2)3Sime2−O−[D]3−Sime2−(CH2)3−O−C3H5Oの末端エポキシ置換基を有する5gの対称的に置換されたポリオルガノシロキサン(B)とさらに混合した。
顕著な曇りがない透明な組成物を得ることができた。
次いで実施例9.1および9.2の組成物の各々を、UV光硬化性エポキシ組成物を調製するため、10gの触媒成分(D)ビス(ドデシルフェニル)イドニウムヘキサフルオロアンチモネート(47重量%)の溶液、増感剤C12−C14−アルキルグリシジルエーテル中の2−イソプロピルチオキサントン(2.4%)および4−イソプロピルチオキサントン(0.6%)と混合した。
)** 633nmでのnD 20
)* 829nmでのnD 20溶液をガラス板上で1500rpm、30秒間スピンコーティングして、ガラス板上に5×5×0.7cm(長さ×幅×厚さ)のフィルムを作製した。
屈折率測定は、633nmおよび829nmでMetriconモデル2010/Mを用いたエリプソメトリーによって行った。より詳細な情報:
1521078511925_41
)2 実施例8.2に定義の非対称成分(B)
)3 実施例8.2に定義の対称成分(B)
)4 実施例8.3に定義の成分(D)
Claims (29)
- 金属酸化物/水酸化物粒子(A)、式(1)
の単位を有する1以上の置換ポリオルガノシロキサンからなる群から選択される1以上のポリオルガノシロキサン(B)、(B1)および(B2)、
ここでRは、R1、R2、R3、R4、Lからなる群から選択され、そして
R1は、任意にてClまたはFで置換されていてもよい、1価のC1−C22−アルキルからなる群から選択され、そして
R2は、C2−C22−アルケニルから選択される1価の非置換または置換アルケニルからなる群から選択され、そしてC6−C22−シクロアルケニル、C7−C22−ビシクロアルケニル、C6−C22−アルケニルアリールアルキルから選択されるR22を含み、任意にてR1で置換されてもよく、炭化水素基の炭素原子を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合し、O、N原子によって中断されてもよく、そして
R3は、式(I)のMR3を形成する基−L−R4であり、ここで
R4は、R1、R2、R22、水素および1価の置換または非置換C4−C30−炭化水素単位であって、任意にて−NR9−、O、−S−またはP原子によって中断され、R1、OH、Cl、F、CN、−OR9、で置換されてもよいものからなる群、
C1−C22−アルキル、ポリ(C2−C4)−アルキレンオキシドOH、OR9、OC(O)R9またはR9末端、(R1X)xR1 3−xSi−、x=1−3、X=C1−C8−アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノからなる群、および、
カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えばR9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、ここでR9=水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、Me3Si−、
および、アミン、ホスフィンの酸性塩、または好ましくは第4級−N+R9 3または−P+R9 3基を有する塩、
および、R22、C6−C22−シクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C7−C22−ビシクロアルキル、C6−C22−アリール、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、C8−C22−多環式アリール、C7−C22−アルキルアリール、C7−C22−アリールアルキル、C8−C22−アリールアルキレン−アリールアルキル、基R2、R22のエポキシドからなる群から選択されるR42を含み、および、
R6 xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、
R6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、エポキシC3−C12−エポキシアルキル、C6−C12−シクロアルキル、エポキシC7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−チオシクロアルキル、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリール、
から選択され、
Lの単結合または炭素結合を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、ここで
Lは、単結合、2価または3価の基であって、C1−C12−アルキレン基からなる群から選択され、−O−、−または−NR9 −C(O)−、および/または−NR9−、ウレタン−OC(O)NR9−、ウレア−NR9HC(O)NR9− 部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、炭素結合を介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、
2より多い不飽和基を有するケイ素を含まない不飽和C6−C30−炭化水素、R7がSi(SiH)に結合した水素であるさらなる基R7を有するポリオルガノシロキサン(B2)からなる(B)の群から選択されるエポキシ基を有するC6−C30−炭化水素の群からさらに選択される、任意選択の1以上の架橋剤(C)
ラジカル開始剤、ヒドロシリル化触媒、縮合触媒、光活性化カチオン重合用触媒の群から選択される、任意選択の1以上の硬化触媒(D)、
を含む組成物であって、
少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換され、そして25℃で1.43を超える屈折率nD 20を有するシロキシ単位を5モル%より多く含むことを特徴とする、組成物。 - 単位M、D、TおよびQを含むポリオルガノシロキサン(B)は、実験式(II)の構造を有し、
[MaDbTcQdLe]f (II)
ここで
a=0−6、
b=0−2000、
c=0−50、
d=0または1
e=0−6
f=1−200、d=1またはQが存在する場合、
ここでa+c+d>0、そして25℃での粘度は、D=10sec−1でのせん断速度で200000mPa.s未満である、請求項1に記載の組成物。 - 式(I)または(II)のポリオルガノシロキサン(B)は、式(IIIa)から(IIIe)の対称および非対称に置換されたポリオルガノシロキサン(B)からなるポリオルガノシロキサン(B)の群から選択され、
M−DR1 u−DR2 v−DR3 w−M* (IIIa)
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4* (IIIb)
m=1−7
p=1−9、
ここで
u=0−500
v=0−50
w=0−500
[M0.4−4Q]1−200 (IIIc)
[M0.4−4D1−10Q]1−200 (IIId)
M2−10D0−500T1−10 (IIIe)
ここでMおよびM*は、MR1、MR2、MR3の群から選択され、
MR1=R1 3SiO1/2
MR2=R1 xR2 3−xSiO1/2
MR3=R1 xR3 3−xSiO1/2
x=0−2、
Tは、TR1、TR2、TR3から選択され、
TR1=R1SiO3/2
TR2=R2SiO3/2
TR3=R3SiO3/2
Dは、DR1、DR2、DR3から選択され、
DR1=R1 2SiO
DR2=R1 yR2 2−ySiO
DR3=R1 yR3 2−ySiO
y=0−1、
少なくとも1つのポリオルガノシロキサン(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を5モル%より多く含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の組成物。 - ポリオルガノシロキサン(B)の少なくとも1つは、式MR2−DR1 u−DR2 v−DR3 w−MR2の群から選択され、
[M0.4−4Q]1−200、
[M0.4−4D1−10Q]1−200、
M2−10D0−500T1−10、および
M2−10D0−500T1−10、ここで
MおよびM*単位は、MR1、MR2、MR3からなる群から選択され、
D単位は、DR1、DR2、DR3から選択され、
T単位は、TR1、TR2、TR3から選択され、前記定義通りであり、
ここでR1=メチル、3,3,3−トリフルオロプロピル
u=0−200
v=0−20
w=1−200、そして
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4*
R2は、ビニル、アリル、ヘキセニル、オクテニル、R22から選択され、R22は、シクロヘキセニルエチル、リモニル、ノルボルネニル、ノルボルネンエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピルから選択され、
R3=−L−R4、ここで
Lは単結合、2価のC1−C8−アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
R4は、R1、R2、R22、水素からなる群、
(R1X)xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えば、R9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、ここでR9=水素、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、me3Si−、
および、アミン、ホスフィンの酸性塩、または好ましくは第4級−N+R3または−P+R3基を有する塩、および、R42から選択されるR4、
シクロヘキシル、ノルボルニル、フェニル、フェニルプロピル、フェニルエチル、置換ヒドロキシフェニル、オイゲノール、クミルフェノールエーテル、ビスフェノールエーテル、ナフチル、C5−C12−チオフェン、C8−C12−インドール、C12−C22−カルバゾール、C4−C12−ジオキソラン、C5−C12−チオフェン、C3−C12−1,3−ジチオラン、C3−C12−1,3,5−トリチアン、C4−C2−1,3−ジチアン、C5−C12−テトラヒドロ−2H−チオピラン、C6−C12−エポキシアルキル、C6−C22−エポキシシクロアルキルであって、任意にて−NR9−、O、−S−またはP原子で中断され、R1、OH、Cl、F、−OR)で置換されてもよく、
および、
R6 xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、
R6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、エポキシC3−C12−エポキシアルキル、C6−C12−シクロアルキル、エポキシC7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−チオシクロアルキル、C5−C12−ヘテロN,O,S−アリール、
から選択され、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合され、ここで少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。 - ポリオルガノシロキサン(B)の少なくとも1つは、式MR3−DR1 u−DR2 v−DR3 w−MR3の群から選択され、
ここでR1=メチル、3,3,3−トリフルオロプロピル
u=0−100
v=0−10
w=1−100、そして
R2は、ビニル、アリル、ヘキセニル、オクテニル、R22から選択され、R22は、シクロヘキセニルエチル、リモニル、ノルボルネニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピルから選択され、
R3=−L−R4、
そしてLは前記定義通りであり、
R4は、(R1X)xR1 3−xSi−の群、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、カルボン酸のエステル、SまたはP酸に由来するイオン性基、例えば、R9−C(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−O−、(R9−O)2−P(O)−、(R9−O)2−P−O−、−NHR9−CH2−COOH、−NHR9−CH2−O−S(O)2(OH)、−S−S(O)2(OH)2、第4級−N+R9 3、
および、
R42=シクロヘキシルエチル、ノルボルニル、ノルボルニルエチル、フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテル、グリシジルプロピルエーテル、エポキシリモニル、エポキシシクロヘキサンエチル、エポキシノルボルニル、1,3−ジチオラン、1,3,5−トリチアン、1,3−ジチアン、チオフェニル、テトラヒドロ−2H−チオピラニル、カルバゾール、インドール、トリスフェニルシリル、および、
R6me2Si−、ここでR6=C6−C10−アリール、C7−C12−アリールアルキル、C6−C12−シクロアルキル、C7−C16−ビシクロアルキル、C6−C12−シクロチオアルキル、C5−C12−ヘテロ−N,−O,−S−アリールであって、任意にてR1、OH、Cl、およびシリルエーテル基R1 3Si−O−で置換されてもよく、
および、非置換または置換オキシフェニル部分、ここで基
はR10からR14で置換され、
ここでR10、R14は、水素またはR1であり、および、
R11、R12、R13は、−O−R9から選択され、
ここで基R11からR13の少なくとも1つは、OH基である、
から選択され、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合し、
ここで、少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。 - 少なくとも1つのポリオルガノシロキサン(B)は、式(IIIa)、(IIIb)および(IVa)の群から選択される構造を有し、
M−DR1 u−DR2 v−DR3 w−M* (IIIa)
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4* (IIIb)
R、R*は異なることができ、前記定義のR1、R2、R22、R3、R4、R42からなる群から選択され、
ここで、末端基R4およびR4*は、前記定義のR4およびR42から選択されるが、互いに異なり、
p=0または4または9
R1=メチル、
R3=−L−R4
ここでLはL1およびL2から選択され、2価のC1−C8アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
R2は、ビニル、ヘキセニル、オクテニル、R22からなる群から選択され、R22=リモニル、シクロヘキセニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピル、
R4は、(R1X)xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、
および、
R22、フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテル、ノルボルニル、グリシジルプロピルエーテル、シクロヘキセンオキシドエチル、リモニルオキシド、ノルボルニルオキシド、1,3−ジチアンジメチルシリル、トリスフェニルシリルからなる基R42から選択され、
R6me2Si−、ここでR6=フェニルエチル、フェニルプロピル、オイゲノール、リモニル、エポキシリモニル、グリシジルプロピルエーテル、エポキシシクロヘキシルエチル、ノルボルネニルエチル、エポキシノルボルネニルエチル、カルバゾール、インドール、および、
非置換または置換オキシフェニル部分、ここで基
はR10からR14で置換され、
ここでR10、R14は、水素またはR1であり、および、
R11、R12、R13は、−OR9から選択され、
ここで基R11からR13の少なくとも2つはOH基である、
から選択され、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合し、ここで少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。 - ポリオルガノシロキサン(B)は、式MR3−DR1 u−DR3 w−MR3*から選択され、
ここでR3、R3*は、−L−R4または−L−R4*であり、そしてR4およびR42から選択される基R4およびR4*は互いに異なり、そしてここでポリオルガノシロキサン(B)は、下記構造式の群から選択され、
R1=メチル、
R4およびR4*は請求項6で定義された通りであり、
L1およびL2は、前記定義通りの基Lから選択され、
ここでL1およびL2は、2価のC1−C8−アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
(B)は、R22およびR42から選択される基で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含むことを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の組成物。 - 式(Va)から(Vd)による少なくとも1つのポリオルガノシロキサン(B)は、式(VIa)から(VIe)の構造のポリオルガノシロキサンから選択され、
ここでRおよびR*は、R1およびR4から選択され、そしてRおよびR*は、異なることができ、
R、R*=メチル、3,3,3−フルオオロプロピル、R4、R42、
p=1または4または9
n=0−6
R2は、ビニル、ヘキセニル、R22からなる群から選択され、R22=リモニル、シクロヘキセニルエチル、ノルボルネニルエチル、ビニルフェニルエチル、C2−C8−アルケニルフェニルエーテル、C2−C8−アルケニルビフェニルエーテル、アリルオキシフェニルオキシプロピル
R3=−L−R4
ここでLはL1およびL2から選択され、2価のC1−C8アルキレン基であって、1以上のO、−またはN、−C(O)−および/または−NR9−部分で中断され、1以上のOH基で置換されることがありえ、
R4は、(R1X)xR1 3−xSi−、ここでx=1−3、X=C1−C8アルコキシ、C1−C8−アルキルカルボキシ、C1−C8−アルキルアミノ、および、
フェニル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル、オイゲノール、ビスフェノールエーテル、クミルフェノールエーテルからなる基R42、ノルボルニル、グリシジルプロピルエーテル、シクロヘキセンオキシドエチル、リモニルオキシド、ノルボルニルオキシド、1,3−ジチアンジメチルシリル、トリスフェニルシリルからなるR22から選択され、
R6me2Si−、ここでR6=フェニルエチル、フェニルプロピル、オイゲノール、リモニル、エポキシリモニル、グリシジルプロピルエーテル、エポキシシクロヘキシルエチル、ノルボルネニルエチル、エポキシノルボルネニルエチル、カルバゾール、インドール、
非置換または置換オキシフェニル部分、ここで基
はR10からR14で置換され、
ここでR10、R14は、水素またはR1であり、および
R11、R12、R13は、−OR9から選択され、
ここで基R11からR13の少なくとも2つは、OH基である、
であり、
Lを介してシロキシ単位のケイ素原子に結合しており、ここで少なくとも1つの成分(B)は、R22およびR42で置換されたシロキシ単位を10モル%より多く含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の組成物。 - 組成物は少なくとも2つのポリオルガノシロキサン(B)を含み、ここで1つは、請求項5に記載のポリオルガノシロキサン(B)の末端シロキシ単位で2つの異なる基R3およびR3*、それぞれ−L−R4および−L−R4*を含む、非対称に置換されたポリオルガノシロキサン(B)である、請求項1から8のいずれか一項に記載の組成物。
- ポリオルガノシロキサン(B)の少なくとも1つは、式(IIIb)
R4−{−L[SiR2O]p−SiR2}m−L−R4*
L、R4は請求項1から9にて前に定義した通りであり、
Rは、R1およびR3から選択され、
p=1または4
m=1−7
の群から選択される、請求項1から9のいずれか一項に記載の組成物。 - 組成物は、成分(B1)または(B2)の反応性基に対する反応性基を有するシランおよびシロキサンからなる群から選択される架橋剤(C)をさらに含み、ここで架橋剤成分(C)のこれら反応性置換基は、SiH、アルケニル、アルコキシ、アミノ、カルボキシ、エポキシおよびチオール基からなる群から選択される、請求項1から10のいずれか一項に記載の組成物。
- 組成物は、さらなる基R7を有する第3のポリオルガノシロキサン(B2)を少なくとも含み、ここでR7はSiH基における水素である、請求項11に記載の組成物。
- 少なくとも1つのポリオルガノシロキサン(B)は、光学密度基R22またはR42で置換されたシロキシ基を20モル%より多く含む、請求項1から12のいずれか一項に記載の組成物。
- ポリオルガノシロキサン(B)は、25℃、せん断速度D=10s−1で10−200000mPa.sの範囲の粘度を有する、請求項1から12のいずれか一項に記載の組成物。
- 組成物は、ケイ素原子を有さない炭化水素の群から選択される架橋剤(C)をさらに含む、請求項1から14のいずれか一項に記載の組成物。
- 触媒(D)は、無機または有機過酸化物、アゾ化合物、有機金属化合物を含むヒドロシリル化触媒、ここで金属はPt、Ru、Rh、Co、Ni、Feから選択されるもの、および、有機金属または金属を含まない縮合触媒、ここで金属は、Sn、Ti、Zr、Zn、Bi、Ce、Mn、Mo、V、Y、Ybから選択されるもの、および、アミン、ホスフェート、ホスホネートから選択される非金属触媒、および、カチオン重合用触媒、例えば、光活性化可能なヨードニウム、スルホニウム塩、ここでアニオンは、V族元素、例えば、ペンタフルオロホスフェート、ペンタフルオロアルセネート、およびペンタフルオロアンチモネートから選択されるものから選択される、請求項1から15のいずれか一項に記載の組成物。
- 金属酸化物/水酸化物成分(A)における金属は、Ti、Zr、Hf、Sn、Ce、Al、As、In、Zn、Ge、Sb、Cr、Cd、W、MoおよびNbからなる群から選択される、請求項1から16のいずれか一項に記載の組成物。
- 金属酸化物/水酸化物成分(A)は、XRD反射を示す結晶構造、および200nm未満の範囲の長さの粒子を有する、請求項1から17のいずれか一項に記載の組成物。
- 成分(A)から(E)を含む組成物は、25℃、せん断速度D=10sec−1で、100−50000000mPa.sの範囲の粘度を有する、請求項1から18のいずれか一項に記載の組成物。
- 請求項1から19のいずれか一項に記載の結晶性成分(A)の製造のためのプロセスであって、
a)任意にて溶媒における、非晶質金属酸化物/水酸化物粒子の分散体を提供すること、
b)分散体をポリオルガノシロキサン(B)と混合すること、
c)混合物を450℃まで加熱すること、
d)任意にて必要であれば溶媒(E)を蒸発させること、および
e)任意にてそれをさらなるシロキサンポリマー(B)と混合すること
のステップを含むプロセス。 - 請求項1から19のいずれか一項に記載の硬化性組成物の製造のためのプロセスであって、
i)溶媒中の成分(A)の結晶性金属酸化物/水酸化物粒子の分散体を提供すること、
ii)(A)をポリオルガノシロキサン(B)と混合すること、
iii)任意にて混合物を加熱すること、
iv)任意にてそれをさらにシロキサンポリマー(C)および触媒(D)と混合した後に、必要であれば溶剤(E)を蒸発させること、
のステップを含むプロセス。 - 成分(B)に関して、約0.001−95重量%の量の金属酸化物/水酸化物粒子(A)を含む、請求項1から21のいずれか一項に記載の組成物。
- 結晶構造を含む200nm未満の粒径の金属酸化物/水酸化物の成分(A)350重量部、
エポキシ基R3またはR6を含む対称または非対称に置換された成分(B)から選択されるエポキシ官能化ポリジメチルシロキサンの成分(B)100重量部、
(D)成分としてのペンタフルオロホスフェートのオニウム塩1−5重量部、
増感剤0.5−1重量部
からなる組成物。 - 結晶構造を含む200nm未満の粒径の金属酸化物/水酸化物の成分(A)1−350重量部、
10モル%より多いphe2SiO単位を有するビニル末端ポリジフェニルジメチルシロキサンの成分(B)100重量部、
基R4およびR4*を含む非対称に置換された成分(B)0−20重量部、
10モル%より多くのphe2SiO単位を有するSiHポリジメチルシロキサン(B2)1−5重量部、
成分(A)から(C)に関して1−500ppmのPtを提供する成分(D)としての有機金属Pt−化合物、
からなる組成物。 - 結晶構造を含む200nm未満の粒径の金属酸化物/水酸化物の成分(A)1−350重量部、
R22および−L−R42からなる群から選択される光学密度基Rを含む非対称に置換された成分(B)100重量部、
ここで5モル%より多いシロキシ単位は置換基R22および−L−R42を有し、
SiHポリジメチルシロキサン(B2)1−5重量部、
成分(A)から(C)に関して1−500ppmのPtを提供する成分(D)としての有機金属Pt−化合物、
からなる組成物。 - 請求項1から25のいずれか一項に記載のシリコーン組成物を硬化するためのプロセスであって、ここで請求項1の成分は、熱または光活性化可能なラジカル開始剤または増感剤、熱または光活性化可能なヒドロシリル化触媒、縮合触媒からなる群から選択される少なくとも1つの触媒とさらに混合され、そして光、電磁波照射、熱、酸素または湿気が与えられる硬化プロセスに付される、プロセス。
- 請求項1から25のいずれか一項による硬化組成物であって、ここでポリオルガノシロキサン(B)の反応性基および成分(C)は、反応性基R2、R22、R4、R42またはR7の熱もしくは光活性化または水もしくは酸素の拡散によって架橋され、ここでこれらの反応性基は、アルケニル、SiH、アルコキシ、SiOH、アミノ、カルボキシ、エポキシおよびチオール基からなる群から選択される、硬化組成物。
- 約1.43以上の屈折率nD 20を有するポリオルガノシロキサン(B)を少なくとも1つ含む請求項1から25のいずれか一項による組成物からなる、流体、フィルム、キャストまたはディスペンスされたコート、押出または成形プロセスにより形成されてなる成形品。
- 2mmの厚さで約85%を超える300−2000nmの間の波長の光透過率を有する、キャスト、ディスペンスされたコート、フィルム、押出しまたは成形プロセスによる成形品としての、請求項28に記載の硬化組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562194545P | 2015-07-20 | 2015-07-20 | |
US62/194,545 | 2015-07-20 | ||
PCT/EP2016/001267 WO2017012715A1 (en) | 2015-07-20 | 2016-07-20 | Modified filler particles and silicone compositions comprising the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018522122A true JP2018522122A (ja) | 2018-08-09 |
JP6903047B2 JP6903047B2 (ja) | 2021-07-14 |
Family
ID=56682078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018502664A Active JP6903047B2 (ja) | 2015-07-20 | 2016-07-20 | 改質充填剤粒子およびそれを含むシリコーン組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11015024B2 (ja) |
EP (1) | EP3325557A1 (ja) |
JP (1) | JP6903047B2 (ja) |
KR (1) | KR20180050300A (ja) |
CN (1) | CN108026372B (ja) |
WO (1) | WO2017012715A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173871A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-08-06 | Nitto Denko Corp | シリコーン樹脂組成物 |
JP2010007057A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toray Ind Inc | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
JP2010037457A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Nitto Denko Corp | 無機微粒子を含有するシリコーン樹脂組成物 |
JP2010144135A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nitto Denko Corp | シリコーン樹脂組成物 |
US7834083B2 (en) * | 2006-10-11 | 2010-11-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Nanocomposite composition comprising transparent nanoparticles |
JP2014062198A (ja) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物、それを用いてなる半導体封止材および光半導体装置 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3211795A (en) | 1961-10-09 | 1965-10-12 | Jefferson Chem Co Inc | Preparation of mercapto-propanols |
US3159662A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Addition reaction |
US3159601A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
NL131800C (ja) | 1965-05-17 | |||
US3527659A (en) | 1966-06-13 | 1970-09-08 | Dow Corning | Dimethylpolysiloxanes and copolymers containing sio2 units as release agent |
US3814730A (en) | 1970-08-06 | 1974-06-04 | Gen Electric | Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes |
US3715334A (en) | 1970-11-27 | 1973-02-06 | Gen Electric | Platinum-vinylsiloxanes |
US3775452A (en) | 1971-04-28 | 1973-11-27 | Gen Electric | Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes |
US3819745A (en) | 1972-03-27 | 1974-06-25 | Dow Corning | Coatings giving controlled release |
US4279717A (en) | 1979-08-03 | 1981-07-21 | General Electric Company | Ultraviolet curable epoxy silicone coating compositions |
US4421904A (en) | 1979-08-03 | 1983-12-20 | General Electric Company | Ultraviolet curable silicone coating compositions |
US4576999A (en) | 1982-05-06 | 1986-03-18 | General Electric Company | Ultraviolet radiation-curable silicone release compositions with epoxy and/or acrylic functionality |
US4451634A (en) | 1983-01-12 | 1984-05-29 | General Electric Company | Silicone elastomer compositions suitable for ultraviolet ray curing |
US4530879A (en) | 1983-03-04 | 1985-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation activated addition reaction |
US4558147A (en) | 1983-08-26 | 1985-12-10 | General Electric Company | Ultraviolet radiation-curable silicone release compositions |
US4510094A (en) | 1983-12-06 | 1985-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Platinum complex |
FR2571732B1 (fr) | 1984-10-15 | 1987-01-09 | Rhone Poulenc Spec Chim | Composition organopolysiloxanique de revetement utilisable notamment pour le traitement antiadherent et son procede d'application |
US4977198A (en) | 1988-03-21 | 1990-12-11 | General Electric Company | UV curable epoxy functional silicones |
US4882201A (en) | 1988-03-21 | 1989-11-21 | General Electric Company | Non-toxic aryl onium salts, UV curable coating compositions and food packaging use |
FR2724660B1 (fr) | 1994-09-16 | 1997-01-31 | Rhone Poulenc Chimie | Amorceurs de reticulation, par voie cationique, de polymeres a groupements organofonctionnels, compositions a base de polyorganosiloxanes reticulables et contenant ces amorceurs et application desdites compositions en antiadherence |
FR2727119B1 (fr) * | 1994-11-18 | 1997-01-03 | Rhone Poulenc Chimie | Polyorganosiloxanes fonctionnalises et l'un de leurs procedes de preparation |
US5866261A (en) | 1996-12-20 | 1999-02-02 | Rhodia Inc. | Release composition |
JP3976367B2 (ja) * | 1997-03-13 | 2007-09-19 | 日東電工株式会社 | 半導体封止用樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
JP4278725B2 (ja) | 1997-11-28 | 2009-06-17 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | α,ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンの製造方法 |
US20030199603A1 (en) | 2002-04-04 | 2003-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Cured compositions transparent to ultraviolet radiation |
US20070004871A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Qiwei Lu | Curable composition and method |
US8029904B2 (en) * | 2006-12-01 | 2011-10-04 | Rohm And Haas Company | Aryl (thio)ether aryl polysiloxane composition and methods for making and using same |
KR101521643B1 (ko) * | 2007-11-21 | 2015-05-19 | 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 인크. | 유기실리콘 조성물들 및 그 제조 방법 |
EP2075277A3 (en) * | 2007-12-25 | 2012-11-07 | Nitto Denko Corporation | Silicone resin composition |
US8329290B2 (en) * | 2008-12-22 | 2012-12-11 | Nitto Denko Corporation | Silicone resin composition |
JP6178725B2 (ja) | 2010-04-23 | 2017-08-09 | ピクセリジェント・テクノロジーズ,エルエルシー | ナノ結晶の合成、キャップ形成および分散 |
US8920675B2 (en) | 2010-10-27 | 2014-12-30 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
JP6105896B2 (ja) * | 2012-04-23 | 2017-03-29 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 液状アリール基含有ポリオルガノシロキサン |
CN104583278B (zh) | 2012-05-14 | 2018-04-10 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 高折射率材料 |
EP2970593B1 (en) | 2013-03-14 | 2018-10-31 | Momentive Performance Materials Inc. | High refractive index siloxanes |
-
2016
- 2016-07-20 EP EP16750379.6A patent/EP3325557A1/en active Pending
- 2016-07-20 WO PCT/EP2016/001267 patent/WO2017012715A1/en active Application Filing
- 2016-07-20 KR KR1020187005027A patent/KR20180050300A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-07-20 CN CN201680054553.2A patent/CN108026372B/zh active Active
- 2016-07-20 US US15/745,449 patent/US11015024B2/en active Active
- 2016-07-20 JP JP2018502664A patent/JP6903047B2/ja active Active
-
2021
- 2021-05-24 US US17/328,279 patent/US11814484B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7834083B2 (en) * | 2006-10-11 | 2010-11-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Nanocomposite composition comprising transparent nanoparticles |
JP2009173871A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-08-06 | Nitto Denko Corp | シリコーン樹脂組成物 |
JP2010007057A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toray Ind Inc | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
JP2010037457A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Nitto Denko Corp | 無機微粒子を含有するシリコーン樹脂組成物 |
JP2010144135A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nitto Denko Corp | シリコーン樹脂組成物 |
JP2014062198A (ja) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物、それを用いてなる半導体封止材および光半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108026372A (zh) | 2018-05-11 |
US20220002492A1 (en) | 2022-01-06 |
CN108026372B (zh) | 2022-03-15 |
JP6903047B2 (ja) | 2021-07-14 |
US11814484B2 (en) | 2023-11-14 |
KR20180050300A (ko) | 2018-05-14 |
US20180208718A1 (en) | 2018-07-26 |
WO2017012715A1 (en) | 2017-01-26 |
EP3325557A1 (en) | 2018-05-30 |
US11015024B2 (en) | 2021-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111278927B (zh) | 可固化聚有机硅氧烷组合物、通过固化所述组合物获得的固化体以及包含其的电子装置 | |
JP5025438B2 (ja) | アリール(チオ)エーテルアリールポリシロキサン組成物およびその製造方法および使用方法 | |
US8273842B2 (en) | Process for production of cyclic polyorganosiloxane, curing agent, curable composition, and cured product of the curable composition | |
JP5336161B2 (ja) | 金属酸化物微粒子含有硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び光拡散材 | |
WO2012111765A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びこれを用いた色変換材料 | |
KR102335293B1 (ko) | 수지-선형 유기실록산 블록 공중합체의 조성물 | |
US20170306150A1 (en) | Sulfur-Containing Polyorganosiloxane Compositions And Related Aspects | |
US10988598B2 (en) | High refractive index solvent free silicone nanocomposites | |
JP2008115302A (ja) | シリコーン系重合体粒子を含有する光学材料用シリコーン系組成物 | |
JP2005314692A (ja) | 光重合性樹脂組成物およびその硬化物 | |
KR20210084531A (ko) | 자외선 경화성 오가노폴리실록산 조성물 및 그 용도 | |
US20210277237A1 (en) | Curable silicone composition | |
WO2021167053A1 (ja) | 無溶剤型の光硬化性液状組成物、その硬化物、それを含む光学充填剤、およびその硬化物からなる層を含む表示装置 | |
KR101474283B1 (ko) | 수소 올리고실록산 수지 및 이의 제조 방법 | |
JP2009108288A (ja) | 透明耐熱樹脂用組成物、透明耐熱樹脂、及び透明耐熱樹脂の製造方法 | |
US20190203088A1 (en) | Adhesion-Imparting Agent and Curable Resin Composition | |
Briesenick et al. | High-refractive-index polysiloxanes containing naphthyl and phenanthrenyl groups and their thermally cross-linked resins | |
WO2015194159A1 (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
US11814484B2 (en) | Modified filler particles and silicone compositions comprising the same | |
JP6027841B2 (ja) | 複合金属酸化物含有硬化性樹脂組成物 | |
CN104812807A (zh) | 含光二聚化官能团的有机聚硅氧烷、活化能辐射可固化有机聚硅氧烷组合物及其固化产物 | |
JP2012131935A (ja) | オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物 | |
JP2023532443A (ja) | ポリシロキサンを製造するための前駆体、ポリシロキサン、ポリシロキサン樹脂、ポリシロキサンの製造方法、ポリシロキサン樹脂の製造方法およびオプトエレクトロニクス部品 | |
JP5807427B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化膜、ポリシロキサンおよび光半導体装置 | |
CN116075542A (zh) | 可固化有机硅组合物及其固化产物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190717 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210525 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6903047 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |