JP2018521227A - コーティング装置 - Google Patents

Abstract

ボトルなどの三次元ガラス物品における、特に化学気相成長によるコーティングの成膜のための装置が記載される。装置は、ガラス容器の連続製造プロセスのためのプラントへの組込みに適する。
【選択図】図４

Description

本発明は、ガラス物品、特にボトル及びジャーなどのガラス容器における、連続製造プロセス中のコーティングの成膜のための方法及び装置に関する。

ガラス容器にコーティングを成膜することが望ましいか、または好都合である状況が数多くある。例えば、ガラスボトルの製造中、プロセスのいわゆる「ホットエンド」で、すなわち、鋳造されたばかりのボトルに著しい量の熱がまだ保持されているときに、酸化スズのコーティングがしばしばボトルに付与される。このコーティングは、いくつかの目的に役立つ。

コーティングは、続くプロセス工程中の「スカフィング」（すなわち、不利な美的影響を有する、目に見える表面損傷）の程度を減らす。コーティングは、さらなる潤滑のためにプロセスの「コールドエンド」で成膜される、その後のポリマーコーティングへの良好な接着ももたらす。コーティングは、ボトルの強度も改善する。

ガラス物品にコーティングを成膜する課題に対し、過去に幾つかのアプローチが採用されている。

ＷＯ２００６／００９８７２では、直接噴射式の化学気相成長（ＣＶＤ)による成膜について記載されており、この方法では、ＣＶＤプリカーサーを、イオン液体を含む溶媒に溶かし、次いでこれを、向流のキャリアガスの流れを有する圧縮された気化器に注入する。キャリアガスは溶媒からプリカーサーを分離し、それを気相で成膜チャンバーへと輸送し、そこでコーティングが従来のＣＶＤ法によって形成される。

つい最近では、ＷＯ２０１３／１６３００５にコーティング装置が記載されており、その装置では、成膜される化合物（金属酸化物）が空気流に注入され、その空気流は、コーティングされる物品に向けられる。

ＣＶＤ法による、平坦なガラスでのコーティングの成膜は周知である。好都合には、これはフロートガラスの製造プロセス中に行われ、このプロセスからの残留熱がプリカーサーの反応を補助し、プリカーサーは、フロートガラスプロセス中に作製される熱いガラスリボンの表面にもたらされる。フロートガラスにおいてこの方式で行われるＣＶＤは、大気圧で行われる（ＡＰＣＶＤ）。

プリカーサーはその反応場所に別々にもたらされてもよく、すなわち、各プリカーサーは自身の専用の導管でガラス表面にもたらされ、ガラス表面の近傍に達したときにのみ他のプリカーサーと混合するが、反応場所に送達される前にプリカーサーと混合する「予備混合」系には、ある特定の利点がある（装置の相対的な単純さに関して）。

ボトルなどの物品用のいくつかのコーティング装置が存在し、その装置は、側壁及び頂部を有するコーティングトンネル部を備え、トンネル部は、トンネル部を通ってボトルを輸送するコンベヤーベルト上に好都合に位置している。

トンネル部の側壁は、開口部、典型的には溝、またはノズルを備え、それらを通ってコーティング材料が典型的にはキャリアガス中で送達される。排気開口部も典型的に備えられる。

ボトルがトンネル部を通って輸送されているとき、ボトルは溝を通過し、コーティング材料はボトルの表面に送達される。

一部の例においては、製造者は、物品の特定領域のコーティングを避けることを選択する。例えば、ビールまたは炭酸飲料用のボトルにコーティングを塗工する場合、一部のコーティングは液体が注がれたときに望ましくない泡立ちを生じさせる表面粗さまたは核形成点をもたらすことがあるので、製造者はボトルの注ぎ口のコーティングを避けることを選択することがある。

ＥＰ０５１９５９７には、上記で言及した種類のガラスコーティング装置及び方法が記載されている。この事例においては、ボトルの頂部領域（特に注ぎ口）のコーティングを防ぐため、非乱流の供給空気がコーティング材料流を横切って下方に向けられている。

ＷＯ０２０６６３８９には、ガス混合物中のコーティング材料を供給及び排気するための溝が設けられたコーティングトンネル部を備える、ボトルコーティング装置が記載されている。この事例においては、加工中に隣接物と接触する区域に対応する、ボトルの帯状部のみがコーティングされるように、溝が水平に間隔を空けて位置している。

この特許では、溶融状態から鋳造後のボトルの残留熱によって成膜が補助される第１のコーティング（例えば、酸化スズ）（いわゆる「ホットエンド」コーティング）と、ボトルがかなり冷却されている製造プロセスのある時点で塗工される第２のコーティング（例えば、ポリマースプレーコーティング）（「コールドエンド」コーティング）と、を塗工することによるボトルの複式コーティングも記載されている。

上記の種類の連続プロセスコーターにおいて生じる１つの問題は、注入開口部及び流路の配置が、キャリアガス流における高程度の渦度及び剪断を引き起こすことである。ひいてはこのことが平坦でないコーティングを生じさせるが、その理由は、不安定な噴射物はボトルなどの物品上を短時間で跳ねるように動くことがあり、またあるときには１つの区域に向いたままであるからである。

さらに、ボトルなどの三次元の対象物では、対象物からコーティング溝（及び排気孔）までの距離が、対象物の高さに沿って一定ではない。例えば、ボトルの本体部表面は、より細い首部の表面よりも溝に近い。これにより、ＷＯ０２０６６３８９などの装置によって作製した場合に平坦でないコーティングが生じる。

最後に、この種類の装置では、周囲空気が端部を通ってトンネル部に入ることが可能となり、この空気は、コーティングプロセスに影響を及ぼし得るある特定のレベルの汚染物質、例えば湿気を含有する。湿気は、前述のようなボトルの頂部領域をパージするのに用いられる仕上げガス流によっても、トンネル部の内部に導入されることがある。

これらの従来技術のコーティング装置は、コーティングの均一性、表面テクスチャーなどが重要でなくてもよい多くの目的に役立つが、厚さ、均一性、表面テクスチャー、及び他の品質に対するより高い制御が必要とされる新しいコーティングの用途が頻繁に生じている。

本出願人らの同時係属出願ＰＣＴ／ＧＢ２０１４／０５３４０６には、上記で強調した問題点の多くに対処しているコーティング装置が記載されている。しかしながら、効率、廃棄される反応物質、及びコーティング品質に関してさらに改善されたコーティング装置が未だ望まれている。

本発明によれば、三次元ガラス物品をコーティングするための装置は、
頂部、第１の側壁、及び第２の側壁を有するトンネル部であり、物品がトンネル部に入る上流側端部から物品がトンネル部を出る下流側端部までコンベヤーベルトが物品を輸送するようにコンベヤーベルトに配置するのに好適な、トンネル部を備え、
ガス噴射物を送達するように少なくとも１つの側壁に配置された直線配列のノズルであって、噴射物は、トンネル部を通って運ばれる物品の経路を横断する、直線配列のノズル；
側壁に配置された少なくとも１つの排気開口部であって、直線配列のノズルよりも下流側端部の近くに位置している、排気開口部；及び
排気開口部に負の圧力を印加する手段
を特徴とする。

好ましい実施形態は、トンネル部の互いに実質的に対向している各側壁に１配列があるように配置された、一対の配列の注入ノズルを備える。より好ましい実施形態は、トンネル部の互いに実質的に対向している各側壁に１つの開口部があるように配置された、一対の排気開口部を備える。

好ましくは、一対の配列の注入ノズルと一対の排気開口部との間の距離は、５００から１０００ｍｍの間である。

さらに好ましい実施形態は、排気開口部の有効サイズを変化させるよう動かすことのできるダンパープレートを備える。

さらに好ましい実施形態は、載せられているガラス物品から放射されている熱を直線配列のノズルに向けるよう配置された、少なくとも１つの反射プレートを備える。

別の好ましい実施形態においては、排気開口部は、壁及びバフルプレートを含む実質的に垂直な導管によって画定されており、バフルプレートは、トンネル部から延び、下流側端部から離れて導管の壁へと延びている。

別の好ましい実施形態においては、トンネル部の断面積は、排気開口部の断面積よりも１．５から２．５倍大きい。

別の好ましい実施形態においては、トンネル部を通って流れる空気の運動エネルギー密度比は、ノズルを出るガスの運動エネルギー密度比よりも０．１から３倍大きい。

別の好ましい実施形態においては、ノズルを出るガスの速度が、トンネル部を通って運ばれる物品の全体的な方向と実質的に平行な成分を含むように、少なくとも１つの配列のノズルが配置されている。

別の好ましい実施形態は、トンネル部の端部から第１の距離に位置する少なくとも１つの配列のノズルと、トンネル部の端部から第２の距離に位置する少なくとも１つの配列のノズルと、を備える。

別の好ましい実施形態は、少なくとも１つの配列のノズルを加熱する手段を備える。少なくとも１つの配列のノズルを加熱する手段は、配列が位置する筐体と、筐体の内部を加熱する手段と、を備えてもよい。筐体の内部を加熱する前記手段は、電気加熱素子を備えてもよい。

本発明はこれより、添付の図を参照しながら、非限定的な例によって説明する。
図１ａは、本発明の第１の好ましい実施形態を示す図である。 図１ｂは、本発明の第１の好ましい実施形態を示す図である。 図１ｃは、本発明の第１の好ましい実施形態を示す図である。 図１ｄは、本発明の第１の好ましい実施形態を示す図である。 図２は、本発明の第１の好ましい実施形態を示す図である。 図３は、本発明に従ってコーティングしたボトルにおいてコーティング厚を測定した位置を示す図である。 図４は、本発明の第２の好ましい実施形態を示す平面図である。 図５は、本発明のさらに好ましい特徴を示す、さらなる平面図である。

図１ａ〜１ｄを参照すると、本発明によるガラス物品をコーティングするための装置は、トンネル部１４を画定している頂部１２及び側壁１３を有するフード１１を備え、コーティングされる物品は、トンネル部１４を通ってコンベヤーベルト（示さず）によって運ばれる。

少なくとも１対の直線配列の注入ノズル１５が設けられており、対のうちの１配列１５は、各側壁１３に位置する。好ましくは、対の各々は、物品の経路に沿って実質的に同じ距離に位置する（すなわち、互いに実質的に対向して位置する）。（この実施形態においては１対のノズル配列が示されているが、一部の化学物質では単一配列が適切であることに注意されたい。）

物品の経路に沿ってさらに行くと、少なくとも１対の排気開口部１６が設けられており、こちらもまた、対のうちの１つが各側壁１３にあり、好ましくは互いに実質的に対向している。

稼働時、成膜されるコーティングの化学プリカーサーは、注入ノズル１５によってトンネル部の内部に向けられ、ガラス物品と実質的に同じ方向（図２及び４の２３）で、トンネル部に沿って移動する。注入ノズル１５と排気開口部１６のこの配置により、フードを移動中、物品はＣＶＤ反応物質へより効果的に曝露される。ＣＶＤ反応物質ガスとボトルがトンネル部を同じ方向で移動するとき、曝露は向上する。注入ノズル１５と排気開口部１６の間の推奨される最小距離は、実施される特定の化学反応に応じて変化し、５００ｍｍ〜１０００ｍｍの範囲である。

排気開口部１６の有効長は、ダンパー１９の高さを調節することによって変化させてもよい。ダンパー１９は、排気開口部を形成している溝の一部分を遮断するよう配置されたプレートを備える。

ＣＶＤ反応物質は、フードに入る前の気体の凝結を防ぐために、加熱された送達ライン（示さず）によってノズル１５へと送達してもよい。一部の状況においては、ノズルにおける液体形成が起こることがあり、本明細書に記載されているフードは、ノズルの加熱をもたらすために、載せられている物品からの熱放射をノズルに向けるよう配置された反射プレート２０を備える。

図２を参照すると、排気配置が平面図で示されている。壁２１ａ〜２１ｄは、バフルプレート２２と共に実質的に箱形断面の導管を画定しており、バフルプレート２２は、壁２１ｄと共に溝型開口部１６を画定している。壁２１ａは、トンネル部の内側と一致し、壁２１ｄは、トンネル部を通過するガス及び物品の全体的な方向２３を考慮すると最上流側にある。したがって、バフルプレート２２は、トンネル部の内側から延びるように配置されて、バフルプレート２２と最上流側にある壁２１ｄとの間の溝１６を画定している。負の圧力は、換気扇（示さず）によって導管の頂部に印加される。

本発明者らは、フードから排気ガスを引き出すことにおいてこの配置が特に有効であることを見出した。この配置は排気ガス及び任意の余剰反応物質を引き出すだけでなく、矢印２４によって示されているように周囲空気もトンネル部の出口から引く。矢印２４の方向でトンネル部に入るこの空気は、排気ガスまたは余剰反応物質に対するバリアをもたらし、さもなければ余剰反応物質は装置から周囲環境に漏れる可能性がある。

溝１６の全面積は、均一な流れを確実にするため、壁２１ａ〜２１ｄ及び２２によって画定されている導管の断面積と比較して小さくあるべきである。しかしながら、面積が小さくなると、有効な排出のためにはより強い吸引を導管に印加する必要があり、最終的な設計の選択は、これらの相反する２つの要因間の折り合いを意味する。溝の面積に対するトンネル部の断面積の比が１．５〜２．５であると、首尾良く作動することがわかっている（面積比１．６では、溝の頂部及び底部における流れの速度を比較したときに約１０％の流れの速度の変動を示す）。

ノズル１５を出るＣＶＤ反応物質の線速度は、効果的なコーティングの達成における重要な要因である。

物品は、既知の速度（典型的には０．３ｍ／ｓ〜１．５ｍ／ｓ、または毎分約９０〜７００物品）でコーティングフードに入る。物品の動きは、トンネルを通る電車の動作と同様にして、ガスの流れを、コーターを通るように引く。このガスの流れは、２つの排気開口部１６からの吸引によっても駆動されている。物品における均一なコーティングを得るため、コーティングプリカーサーの噴射物を、一実施形態においてはフードを通って移動中の物品２３の方向とは垂直に、流路に吹き付けることが好ましい。噴射物は、コーティングガスの濃縮された噴煙が物品の動きの中心線上に向けられるように、充分な運動量を有しなければならない。高度に濃縮されたコーティングガスの噴煙が、コーティングフード１１のいずれかの壁１３へと代わりに向けられた場合、プロセスは非効率的となる。

噴射速度の選択は、流体の流れのモデリングによって最適に特定されるが、およその目安は流体の「運動エネルギー比」を考慮することによって見出すことができる。コーティングフードに沿って移動しているガスの流れは、近似的に、Ｋ_空気＝空気の密度×コーターの幅×ボトルの速度^２［単位 Ｊ／ｍ^２］によって与えられる運動エネルギー密度を有する。コーティングプリカーサーの射出された噴射物は、近似的に、Ｋ_噴射物＝コーティングプリカーサーの密度×ノズルの幅×噴射物の速度^２［単位 Ｊ／ｍ^２］の運動エネルギーを有する。

運動エネルギー密度比Ｒ＝Ｋ_空気／Ｋ_噴射物が、Ｒ＝０．５であることが好ましいが、良好なコーティングは０．１＜Ｒ＜３で見られている。注入噴射物が、この比により与えられるものよりも速い場合、すなわち、比Ｒが小さすぎる場合には、噴射物は容器の経路を通過する傾向があり、コーティングフードの対向する壁で無駄になる。注入噴射物が、この比により与えられるものよりも遅い場合、噴射物は充分遠くまで投入されず、プリカーサーは注入ノズルに隣接している壁で無駄になる。同様に、コーターのフードをより幅広く作製する必要がある場合には、噴射速度を増加させて噴射物を充分遠くに投入する必要があり、故に噴射速度は、目標の運動エネルギー比を維持するように増加させられるものと推定される。

この起点から、注入噴射物の速度をコーティング試行中に調節して、所与の化学及びボトル速度で可能な最も厚く最も均等に分配されたコーティングを得る。１つの特定のコーター寸法及びボトル速度では、コンベヤーの速さ０．５ｍ／ｓにて注入噴射８ｍ／ｓが適切であると見出された。

以下のデータを作成するのに用いる用途では、コーティングチャンバーは幅１６５ｍｍ、高さ２８５ｍｍ、及び長さ１０００ｍｍであった。コーティングチャンバーの寸法は、ガラス物品が入口で衝突せずに通って移動するのに過不足のない空間を与えるように選択する。チャンバーが小さすぎる場合には、コンベヤー上のガラス容器の位置合わせ不良により、コーティングフードの入口との衝突が生じ得る。

ガラス物品の外形とほぼ同じ形状のマスク（示さず）を、コーティングフードの入口に装着する。このマスクは、ボトルによってコーティングフードに引き込まれる空気を制限し、故に反応チャンバー内により高濃度のコーティングプリカーサーを与える。マスクは、コンベヤー上のガラス容器の衝突を生じさせることなく、フードの始点に入る空気をできる限り多く遮断するように設計する。

注入ノズルは、入口の少なくとも１００ｍｍ下流、好ましくは３００ｍｍ下流に位置する。ノズルが入口に近い場合には、時に逆流するコーティング噴煙中の傍流により、コーティングガスがフード入口から逃げる。コーティングフードの長さは、化学反応が完了する充分な時間及び距離を有するように、選択する。

ガラスボトルのコーティングでは、一実施形態においては、注入ノズルの高さは、一例の用途では全体で高さ１８０ｍｍのガラス容器のヒール部及び肩部にのみコーティングガスが向けられるように、選択する。経験的に、気化したプリカーサーとキャリアガスの流量、毎分１００標準リットルが、商業的に実行可能であると教示されている。この注入流量から、また目標の注入噴射速度及び全体のコーティング高さを用いて、注入ノズル幅は１ｍｍ幅と計算された。より薄いノズルは、妨げるものとなる傾向が高くなるので望ましくない。より幅の広いノズルは、必要な注入速度を達成するためにより多くのキャリアガスを用いることを必要とし、これにより、コーティングプリカーサーが希釈されることになるので、コーティング効率が減少する。より多くのコーティングプリカーサーの流れを与える余裕があり得るのであれば、目標の注入速度を維持するためにより幅の広いノズルが選択されるであろう。

一実施形態においては、１対の対向する垂直の注入ノズルを用いるが、その理由は、このことが、コーティング噴煙をコーティングフードの中心線に位置づけることを補助するからである。一部の用途では、フードの片側のみのノズルを用いることが、充分良好なコーティング均一性を与えることもある。

コーティングフード端部の２つの排気口は、コーターの端部からの漏れを単に防ぐように指定される。排気溝における負の圧力は、流体シミュレーションによって決定される。本明細書の場合では、排気口は、幅１２ｍｍの流れ制限部を有し、これは排気口の全高（２８５ｍｍ）に延びる。１２ｍｍの流れ制限部の後部での少なくとも１００Ｐａの吸引が、フード端部からのガス漏れを防ぐのに必要であることが見出された。

空気がコンベヤーベルトの下からコーティングフード内に引き込まれることが確実にあり得ないよう、注意しなければならない。コンベヤーベルト端部とコーティングフード端部の間に、適切な封止を行うことが必要である。

図１ａ〜１ｄ、図２に記載したコーターを用いて、シリカ及び二酸化チタン（チタニア）コーティングを有する一連のボトルを作製した。

チタン（ＩＶ）イソプロポキシド（ＴＴＩＰ）はチタン源として働き、ジ‐ｔ‐ブトキシジアセトキシシラン（ＤＢＤＡＳ）はケイ素のため働いた。これらは当技術分野で公知の種類のエバポレーターによってコーティングフードへ送達された。これは、加熱した金属管を本質的に備え、その管内で、反応物質をキャリアガス流に投入する。

以下のパラメーター範囲を用いて、シリカコーティングの成膜に成功した。
ＤＢＤＡＳ送達量：１５〜２０ｃｃ／分
エバポレーター温度：２００℃
エバポレーターのキャリアガス：窒素、２５ｓｌｍ
希釈ガス（キャリアガス流に添加）：窒素、４０ｓｌｍ
排出圧力（排気開口部１６に印加）−１００Ｐａ

以下のパラメーター範囲を用いて、チタニアコーティングの成膜に成功した。
ＴＴＩＰ送達量：１５〜３２ｃｃ／分
エバポレーター温度：１６５〜２００℃
エバポレーターのキャリアガス：窒素、２５及び３０ｓｌｍ
希釈ガス（キャリアガス流に添加）：窒素、４０及び７０ｓｌｍ
排出圧力−１００Ｐａ

２つのサンプルボトルをコーティング測定用に選択した。これらは以下を用いてコーティングした。
ＴＴＩＰ送達量：３５ｃｃ／分
エバポレーター温度：１８０℃
エバポレーターのキャリアガス：窒素、３０ｓｌｍ
希釈ガス（キャリアガス流に添加）：窒素、７０ｓｌｍ
排出圧力−１００Ｐａ

まずシリカでコーティングし、次いでＵＶ保護コーティング、例えばＴｉＯ_２またはＦｅ_２Ｏ_３でコーティングしたガラス物品においては、シリカは、ガラスから浸出するナトリウムイオンによる損傷からＵＶ保護コーティングを保護する。

図３を参照すると、コーティング厚は、ボトルのヒール部２４、本体部２５、及び肩部２６で測定した。２つのサンプルで測定した厚さは表３に示しており、各位置（高さ）での４つの値は、ボトルの周囲で取得した４つの測定値を表す。

厚さはＣＴＵ（コーティング厚単位）で示されており、ＣＴＵは、ガラス業界で周知でしばしば用いられる、コーティング厚を規定するための光学的な単位である。この単位は、入射光の反射の測定に基づく。

図４を参照すると、代替の実施形態においては、注入ノズル１５は、トンネル部１１を通過する物品及びガスの全体的な方向２３に対して非垂直に配置されていて、ノズルを出るガス（コーティングプリカーサー及び任意のキャリアガス）の速度（矢印２６によって全体的に示されている）は、方向２３に平行な成分を含む。

わかり易く言えば、ノズル１５は、ある程度「下流側」に向いている。この配置は、反応物質またはキャリアガスがノズル１５を出るときに上流側に吹かれ、一部の場合においてはトンネル部の上流側端部を出る尤度を減らす。（この説明においては、「上流側」及び「下流側」という用語は、トンネル部１１を通過する物品及びガスの方向２３を参照している。トンネル部の上流側端部２４は、物品が入る端部であり、下流側端部２５は、物品が出る端部である。）

図５を参照すると、本発明のさらなる実施形態は、側壁１３における第１の直線配列のノズル１５と、第１の配列のノズルの下流側（すなわち、下流側端部のより近く）に位置するさらなる配列のノズル１５ｂとを備えてもよい。さらなる配列のノズル１５ｂは、第１の配列のノズルと同じ側壁１３に位置していてもよく、第１の配列１５と対向する側壁１３に位置していてもよく、または、図５に示されているように、ノズルは対で配置されていて、１対のうちの各配列１５または１５ｂが、その対の他方の配列と対向する側壁に、トンネル部の端部から実質的に類似の距離で位置していてもよい。

トンネル部の端部から異なる距離に位置している少なくとも２つの配列のノズルを用いることにより、コーティングの２工程の成膜が可能となる。例えば、同じコーティングプリカーサーをノズル１５及び１５ｂに与えて、所与の材料のより厚いコーティングをもたらしてもよく、または異なるコーティングプリカーサーをノズル１５及び１５ｂに与えて、異なる材料の２層（または多層）をもたらしてもよい。

本発明による装置は、ノズル配列１５を加熱する手段も備えてもよい。一実施形態においては、そのような手段は筐体２７を備え、筐体２７において、ノズルは、筐体２７を加熱し筐体２７の内部温度を制御するための加熱素子２８と共に配置されている。筐体の温度は、コーティングプリカーサーの予備反応を防ぐよう充分低いが、ノズル１５における望ましくない凝結または他の析出を防ぐよう充分高いものとすべきである。

加熱素子２８は、電動（抵抗）加熱素子、例えばテープ型またはプレート型として一般に認識されているものを備え得る。

筐体２７は、コーティングされる物品によって放射されている熱がノズル１５の加熱に寄与し得るように、トンネル部に開放であってもよい。前述のように、反射プレート２０は、この加熱効果を向上させる役割を果たすことができる。

明確にするため、任意選択による加熱手段２７、２８、及びさらなる任意選択による反射体２０は、１つのノズル配列１５に対してのみ示されているが、これらの特徴は、単独で、または本発明による装置に組み込まれるいずれかもしくは全てのノズル配列１５と組み合わせて使用し得ることが、当業者の読者には明らかであろう。

さらに、図５では、ある特定のさらに好ましい特徴が、トンネル部を通って運ばれる物品の全体的な方向に対し実質的に垂直の速度を有するプリカーサーを送達するよう配置されたノズル１５、１５ｂと一緒に示されている。しかしながら、これらの特徴は、ノズル１５、１５ｂと一緒に使用することもでき、そのノズル１５、１５ｂのうちの少なくとも一部は、トンネル部を通って運ばれる物品の全体的な方向に対し実質的に平行な成分を有する速度を有するプリカーサーを送達するよう配置されている。

Claims (14)

1. 頂部、第１の側壁、及び第２の側壁を有するトンネル部であり、物品が前記トンネル部に入る上流側端部から物品が前記トンネル部を出る下流側端部までコンベヤーベルトが前記物品を輸送するように前記コンベヤーベルトに配置するのに好適な、トンネル部
   を備える、三次元ガラス物品をコーティングするための装置において、
   ガス噴射物を送達するように少なくとも１つの側壁に配置された直線配列のノズルであって、噴射物は、前記トンネル部を通って運ばれる物品の経路を横断する、直線配列のノズル；
   側壁に配置された少なくとも１つの排気開口部であって、前記直線配列のノズルよりも下流側端部の近くに位置している、排気開口部；及び
   前記排気開口部に負の圧力を印加する手段
   を特徴とする、装置。
2. 前記トンネル部の互いに実質的に対向している各側壁に１配列があるように配置された、一対の配列の注入ノズルを備える、請求項１に記載の装置。
3. 前記トンネル部の互いに実質的に対向している各側壁に１つの開口部があるように配置された、一対の排気開口部を備える、請求項２に記載の装置。
4. 前記一対の配列の注入ノズルと前記一対の排気開口部との間の距離が、５００から１０００ｍｍの間である、請求項３に記載の装置。
5. 排気開口部の有効サイズを変化させるよう動かすことのできるダンパープレートをさらに備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
6. 載せられている前記ガラス物品から放射されている熱を直線配列のノズルに向けるよう配置された、少なくとも１つの反射プレートをさらに備える、請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
7. 前記排気開口部が、壁及びバフルプレートを含む実質的に垂直な導管によって画定されており、前記バフルプレートは、前記トンネル部から延び、前記下流側端部から離れて前記導管の壁へと延びている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
8. 前記トンネル部の断面積が、排気開口部の断面積よりも１．５から２．５倍大きい、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
9. 前記トンネル部を通って流れる空気の運動エネルギー密度比が、ノズルを出るガスの運動エネルギー密度比よりも０．１から３倍大きい、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
10. 前記ノズルを出るガスの速度が、前記トンネル部を通って運ばれる物品の全体的な方向と実質的に平行な成分を含むように、少なくとも１つの配列のノズルが配置されている、請求項１〜９のいずれか１項に記載の装置。
11. 前記トンネル部の端部から第１の距離に位置する少なくとも１つの配列のノズルと、前記トンネル部の端部から第２の距離に位置する少なくとも１つの配列のノズルと、を備える、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の装置。
12. 少なくとも１つの配列のノズルを加熱する手段をさらに備える、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の装置。
13. 少なくとも１つの配列のノズルを加熱する前記手段が、前記配列が位置する筐体と、前記筐体の内部を加熱する手段と、を備える、請求項１２に記載の装置。
14. 前記筐体の内部を加熱する前記手段が、電気加熱素子を備える、請求項１３に記載の装置。

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