JP2018520081A - バードセーフグレージング - Google Patents

Abstract

窓または他のグレージングとの鳥の衝突は、複数のストライプを含むパターン化された配置において基材上に堆積されたＵＶ反射コーティングを有する少なくとも１つの基材を含むグレージングで最小限に抑えるまたは防止され、複数のストライプの各々は、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを有する。ハードな縁で形成された同様のストライプの配置と比較すると、ソフトな縁を有するこのようなストライプの配置は、あまり目立たず、そのため見た目により美しく、その一方で鳥の衝突に対して効果的な抑止力を提供する。本グレージングはまた、積層グレージングまたは断熱グレージングユニットの一部としても利用され得る。グレージングを製造する方法もまた、提供される。【選択図】図２

Description

本発明は、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングに関する。本発明は、そのようなグレージングを製造する方法にさらに関する。

窓への衝突が原因の鳥の死は、生息地破壊に至る鳥類の死亡率に対する最も大きな恐れの１つを表す。ガラスの反射する及び透明な特性が原因で、ガラスは、鳥への障壁として気付かれない。鳥は、例えば、空、他の建物、草木、及び開放空間であってもそれらの反射が、偽物であるということを認識しない。その結果、鳥が、ガラスに飛び込んでしまう。典型的に、ガラスは、例えば窓等の建物内のグレージングであり、同様にガラスバルコニー、ガラス張りのドア等でもあり得る。

何百万もの鳥が、毎年建物のガラスに衝突して死んでいる。その中でも鳴き鳥が、最もガラスとの衝突の危険性があり、ハチドリ、キツツキ、カワセミ、渉禽類、及び猛禽類を含む、およそ３００種が、衝突の犠牲となっていると報告されている。建築様式に使用されるガラスの量の全体的な増加に加えて、ガラス技術及び製造の向上が総ガラス張りのカーテンウオールを有する建物の建築を可能にするため、これらの数は増加するであろう。

バードストライクの減少は、多数の方法で達成され得る。一般的なアプローチは、鳥にガラスの存在を警告する視覚信号を作製することを含む。既知の技術は、フリッティングの使用、すなわちガラス上へのセラミック線または点の配置、スクリーン、格子細工、あるいは網の使用を含む。しかしながら最近、ガラス上に紫外線（ＵＶ）パターンを使用すると、鳥がガラスの存在を検知する助けとなり得ることが示されている。

多くの鳥類は、４色型色覚的であり、各々が特徴的な最大吸収ピークを有する４つの種類の錐体細胞を有する。いくつかの鳥類において、最短の波長に対応する錐体細胞の最大吸収ピークが、ＵＶ範囲に延出し、それらをＵＶ感受性とさせる。このように、多くの鳥が、人間にはほとんど不可視の範囲、特に３００〜４００ｎｍの範囲において、ＵＶスペクトルを見ることが可能である。

鳥の衝突を防止するためのＵＶ反射コーティングガラスが、登録商標Ｏｒｎｉｌｕｘ Ｍｉｋａｄｏ（登録商標）の下で既知である。ガラスは、鳥にとって可視であるが人間の目には実質的に不可視のＵＶパターンのコーティングを有する。しかしながら、ＵＶ反射コーティングのみに頼ることはこのようなグレージングにとって不都合であり、効果的な鳥の抑止力となるためには、ＵＶパターンがはっきりとしたコントラストを有する必要があると考えられる。

そのため、ＷＯ２０１４／１８８１９６Ａ１において、バードセーフグレージングが記載され、これによるとガラス基材は、Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ（商標）がコーティングされたガラス製品などの反射防止コーティングを備え、ストライプ状のＴｉＯ_２コーティングが、ガラス基材と接触するマスクを通るＴｉＯ_２堆積によってその上に重ねて製造された。反射ＴｉＯ_２は、ＵＶ反射の強化を提供するだけでなく、ストライプ位置で反射防止コーティングの反射防止効果を抑制した。このことが、ＵＶパターンの二重の強化を提供した。その結果、鳥は、縁が鋭くコントラストのあるストライプパターンを容易に目撃し、グレージングに鳥が衝突するリスクが、最小限に抑えられた。

しかしながら、優先的にＵＶ光を反射するＴｉＯ_２ストライプを使用することの不都合な点は、それらもまた可視光を反射及び吸収するのだが、これが少ないことである。図１は、ＷＯ２０１４／１８８１９６Ａ１の実施形態に従うグレージング１を示す。グレージングは、第１の表面８及び第２の表面１０を有する基材４を含む含む。反射防止コーティング１２は、第１の表面８上に直接提供され、ＵＶ反射コーティング１４は、複数のストライプ１４を含むパターン化された配置において、反射防止コーティング１２の上に提供される。ストライプ１４は、基材と接触するマスクを利用するコーティングプロセスによって形成され、その結果鋭角１５を有する実質的に長方形の形状のストライプ１４をもたらす。これは、ストライプが実質的に透明とはいえ、人間により認識され得ることを意味する。

鳥の窓との衝突を最小限に抑えるまたは防止するための改良されたグレージングを提供し、その一方でグレージング上のパターンの人間の視覚への影響を削減することが、本発明の目的である。

本発明の態様に従って、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングが提供され、グレージングは、複数のストライプを含むパターン化された配置において基材上に堆積されたＵＶ反射コーティングを有する少なくとも１つの基材を含み、複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で、好ましくは幅１ｍｍ毎に６ｎｍ以下で、より好ましくは幅１ｍｍ毎に３ｎｍ以下で変化する厚さを有し、さらにより好ましくは、複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１．５ｎｍ以下で変化する厚さを有する。点ｎにおいて、厚さはｍｍ幅毎に変化する＝（点ｎにおける厚さマイナス点ｎ−１における厚さ）／（点ｎにおける位置マイナス点ｎ−１における位置）。この方法で、各ストライプは、「ハード」よりはむしろ「ソフト」となり、あるいは近くで見るとき人間にとって認識されにくいパターン化された配置を与え、一方で鳥の衝突を最小限に抑えるまたは防止するグレージングの効果を保持する鋭角を備える。本発明は、先行技術において認識されなかった問題、つまり鳥のグレージングとの衝突が多くの鳥類について、草木または空などの環境の反射と結び付けられるというグレージングにおける問題を解決し、したがって、鳥の衝突を最小限に抑えるためのグレージングが、そのような反射に関する鳥の習性に従って最適化されるはずである。発明者は、草木の反射を含む効果的なテスト方法を選択した。

本発明の別の態様に従って、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングを製造する方法があり、本方法は、表面を有する少なくとも１つの基材を提供することと、基材の表面から離間するマスクを提供することと、を含み、マスクが、パターン化された配置の開口部を備え、パターン化された配置が、複数のストライプを含み、基材の表面上にパターン化された配置でＵＶ反射コーティングを堆積させるために基材の表面にマスクの開口部を通してコーティング材料を導き、パターン化された配置が、複数のストライプを含む。

本発明に従う方法に従って、マスクは、ＵＶ反射コーティングが、互いにリンクされず、または接触しない、すなわちストライプが相互接続しないように、基材から間隔を空け、コーティング材料のソースに対して位置付けられ得る。しかしながら、マスクもまた、ＵＶ反射コーティングの厚さがストライプ間でゼロに落ちない、すなわちストライプが相互接続するように、基材から間隔を空け、コーティング材料のソースに対して位置付けられ得る。各ストライプにおける最大のコーティングの厚さと、少なくとも１０ｎｍのストライプ間の最小のコーティングの厚さとの間に差がある限り、両方の配置は、本明細書で使用されるように「複数のストライプ」を画定すると見なされる。

好ましくは、反射防止コーティングは、ＵＶ反射コーティングに隣接して提供される。好ましくは、反射防止コーティングは、基材に隣接して提供される。

好ましくは、ストライプは、基材の縦軸に平行に配置される。好ましくは、ストライプは、互いから等距離で離間される。

好ましくは、パターン化された配置は、規則性パターンである。好ましくは、パターン化された配置は、少なくとも１つの対称線を有する。好ましくは、対称線は、グレージングの縦軸に垂直である。好ましくは、パターン化された配置は、繰り返しパターンを含む。

好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、直下表面の少なくとも２０％を覆う。最も好ましくは、このコーティングが、直下表面の少なくとも２５％を覆う。

好ましい配置において、複数の１ｃｍ〜１０ｃｍ範囲の幅の広いＵＶ反射ストライプが、反射防止コーティングの上に堆積され、ストライプ幅は、半値全幅で画定される、つまりストライプ幅は、厚さがその最大の厚さを有するため落ちた厚さの最大点の一方の点から、最大の厚さを有するために落ちた厚さの最大点の他方の点までの幅である。ストライプは、１ｃｍ〜１０ｃｍの範囲のピッチで間隔を空けられる、つまり１つのストライプの出発点と隣接するストライプの出発点との間の間隔が、１ｃｍ〜１０ｃｍの範囲である。有利には、配置は可視範囲全体にわたってコントラストが強化されるが、ＵＶ範囲において最適化されたコントラストである。つまり、パターン化されたＵＶ反射コーティングと組み合わせた反射防止コーティングは、パターンの１つの領域において鳥に可視のＵＶ反射光が強化され、一方で鳥の視覚においてはっきり見えるコントラストを最大化するために、他の領域において広帯域反射（鳥に可視なＵＶを含む）を最小限に抑える。この効果は、鳥にとって目立つパターンを生み出し、例えばこれらのコーティングを有してガラス張りされた建物によって、鳥が致命的な衝突を避けることを可能とする。

好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、基材の外装表面上に堆積される。この表面は、グレージングの「表面番号１」としてしばしば言及される。

ガラスの反射は、適切な薄膜干渉コーティング−「反射防止コーティング」によって縮小され得る。広範なスペクトル応答のために、このようなコーティングは概して以下の３つのカテゴリーに入る：
１）多孔性シリカなどの多孔性低率材料の単層コーティング−つまりガラスと空気との間に中間有効屈折率を与え、インターフェースでの反射を削減する、
２）中／高／低の３層の屈折率の組み合わせ。このような組み合わせの例は、ガラス／４６ｎｍ ＺｎＳｎＯ_ｘ／９３ｎｍ ＴｉＯ_２／７５ｎｍ ＳｉＯ_２である、
３）「Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ」がコーティングされたガラス（公称、ガラス／１２ｎｍ ＳｎＯ_ｘ／２５ｎｍ ＳｉＯ_２／１１０ｎｍ ＳｎＯ_ｘ／９０ｎｍ ＳｉＯ_２）などの、高／低／高／低の４層の屈折率の組み合わせ。

これら全てのカテゴリーは、本発明の目的のために等しく有効であると見なされ、他の変動も、同様の原則に基づく。

好ましくは、反射防止コーティングは、複数の層を含む。好ましくは、前記層は、酸化スズ（ＳｎＯ_２）を含む第１の層を含む。好ましくは、第１の層、最も好ましくは、ＳｎＯ_２は、実質的に５ｎｍ〜１００ｎｍの、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの、好ましくは１０ｎｍ〜２０ｎｍの、最も好ましくは実質的に１２ｎｍの幾何学的厚さを有する。

好ましくは、第２の層は、好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を含み提供され、好ましくは、ＳｉＯ_２は、実質的に５ｎｍ〜１００ｎｍの、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの、好ましくは１５ｎｍ〜３０ｎｍの、最も好ましくは実質的に２５ｎｍの幾何学的厚さを有する。最も好ましくは、第２の層は、第１の層の上に堆積される。

好ましくは、第３の層は、好ましくはフッ素をドープした酸化スズ（Ｆ：ＳｎＯ_２）を含み提供され、好ましくは、Ｆ：ＳｎＯ_２は、実質的に５ｎｍ〜２００ｎｍの、好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍの、好ましくは１００ｎｍ〜１２０ｎｍの、最も好ましくは実質的に１１０ｎｍの幾何学的厚さを有する。最も好ましくは、第３の層は、第２の層の上に堆積される。

好ましくは、第４の層は、好ましくはＳｉＯ_２を含み提供される。好ましくは、ＳｉＯ_２は、実質的に５ｎｍ〜２００ｎｍの、好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍの、好ましくは８０ｎｍ〜１００ｎｍの、最も好ましくは実質的に９０ｎｍの幾何学的厚さを有する。最も好ましくは、第４の層は、第３の層の上に堆積される。このような前記第１から第４のそれぞれの層を含む反射防止コーティングは、Ｏｐｔｉｖｉｅｗコーティングとして言及される。

好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）を含む。好ましくは、このコーティングは、実質的に１０〜１００ｎｍの、より好ましくは約１０〜５０ｎｍ厚の、及び最も好ましくは実質的に３５ｎｍの幾何学的厚さを有する。ＵＶ反射コーティングの厚さに対する本明細書の参照は、ストライプの最大のコーティングの厚さと、ストライプと隣接するストライプ間の最小のコーティングの厚さとの間の差に言及する。

好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、酸化チタン（ＴｉＯ_２）の単一層と成り得る。コーティングは、マグネトロンスパッタリング、ＡＰＣＶＤ、ＬＰＣＶＤ、ＰＥＣＶＤ、ソルゲル、蒸発、電気メッキ／酸化、原子層堆積、パルスレーザー堆積、他の薄膜堆積技術、または様々な印刷技術によって、堆積され得る。より好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、ＡＰＣＶＤまたはマグネトロンスパッタリングによって、及び最も好ましくはマグネトロンスパッタリングによって堆積される。

最も好ましい配置において、グレージングは、連続配置：基材、好ましくはガラス、１２ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ_２、ＳｎＯ_２の上に堆積された２５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ_２、ＳｉＯ_２の上に堆積された１１０ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ_２：Ｆ、ＳｎＯ_２：Ｆ上に堆積された９０ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ_２、３５ｎｍの幾何学的厚さを有するＴｉＯ_２を含むＵＶ反射コーティングを有する複数のコーティング層を含む。

好ましくは、少なくとも１つの基材は、ガラス、好ましくはフロートガラスまたはロールがけされたガラスのプライである。好ましくはガラスの基材または各ガラスの基材は、好ましくは２〜２０ｍｍ、最も好ましくは実質的に４ｍｍの幾何学的厚さの、一枚の極上のクリアガラス（（ＩｌｌｕｍｉｎａｎｔＡで測定して８５％超の可視光透過度を有するガラス）である。基材は、例えば、０．０１５％ｗ／ｗより下の鉄含量を有する低鉄のフロートガラスとなり得る。基材または各基材は、８５％以下の可視光透過率を有する色付きガラスのプライとなり得る。

本発明は、建物におけるグレージングとなる基材に限定するものではない。例えば、基材は、ドア、バルコニー、三角小間となり得る。基材は、ポリマー材料から製造され得る。

好ましくは、基材は、表面番号１及び表面番号２を含む。表面番号１は、使用の際に取り付けられるとき、建物の外装に面する基材の表面である。

好ましくは、反射コーティングが、基材の表面番号１及び／または表面番号２上に提供される。最も好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、好ましくは反射コーティングが、表面番号１上に提供されるとき、反射防止コーティングの少なくとも一部の上に提供される。反射防止コーティングは、前記反射防止コーティングの上に直接堆積されたＵＶ反射コーティングを有して表面番号２上にあり得る。最も好ましくは、反射防止コーティングが、表面番号１上に提供され、ＵＶ反射コーティングの複数のストライプが、反射防止コーティングの上に直接提供される。好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、グレージングの外装表面上に提供される。反射防止コーティングは、基材の表面番号２上に提供され得、ＵＶ反射コーティングは、基材の表面番号１上に提供され得る。

好ましくは、グレージングは、さらにコーティング、好ましくは太陽光制御コーティング、好ましくは低Ｅコーティングを含む。

本発明のさらなる態様に従って、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングが提供され、グレージングは、少なくとも１つの基材、反射防止コーティング、及びＵＶ反射コーティングを含み、反射防止コーティングは、ＵＶ反射コーティングが提供される基材とは異なる表面上に提供される。

さらなる態様において、本発明は、第１のグレージング材料のシートと、第１のグレージング材料のシートと離間した関係において保持された第２のグレージング材料のシートと、反射防止コーティングと、少なくとも１つのＵＶ反射コーティングとを含み、ＵＶ反射コーティングは、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを有する複数のストライプを含むパターン化された配置において提供され、反射防止コーティングは、ＵＶ反射コーティングと第１の及び／または第２のグレージング材料のシートとの間にある、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するための断熱グレージングユニットを提供する。

その全体が本明細書の参照によって組み込まれる、ＷＯ２０１４／１８８１９６Ａ１において記載されるように、様々な断熱グレージングユニット構成が、本発明に従う使用に好適である。

好ましくは、第１のグレージング材料のシートは、第１の表面（表面番号１）及び対向する第２の表面（表面番号２）を有し、第１のグレージング材料のシートの第２の表面が、空間に面する。第２のグレージング材料のシートは、第３の表面（表面番号３）及び対向する第４の表面（表面番号４）を有し、第２のグレージング材料のシートの第３の表面が、空間に面する。使用の際、表面番号１は、建物の外装に面する。

好ましくは、反射防止コーティングは、ユニットの第１の表面上に提供される。好ましくは、第２の反射防止コーティングは、ユニット上、好ましくは第２の表面上に提供される。最も好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、第１の表面及び／または第２の表面上の反射防止コーティングの上に提供される。第２の反射防止コーティングは、ユニットの第４の表面上に提供され得る。

さらなる態様において、本発明は、第１のグレージング材料のシートと、第２のグレージング材料のシートと、反射防止コーティングと、ＵＶ反射コーティングとを含み、反射防止コーティングが、ＵＶ反射コーティングが提供されるものとは別の第１の及び／または第２のシートの表面上に提供されることを特徴とする、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するための断熱グレージングユニットを提供する。

好ましくは、さらなる反射防止コーティングが、表面番号１及び／または表面番号２及び／または表面番号３及び／または表面番号４上に提供される。好ましくはさらなるＵＶ反射コーティングが、表面番号１及び／または表面番号２及び／または表面番号３及び／または表面番号４上に提供される。

さらなる態様において、本発明は、第１のグレージング材料のシートと、第２のグレージング材料のシートと、第３のグレージング材料のシートと、少なくとも１つの反射防止コーティングと、少なくとも１つのＵＶ反射コーティングとを含み、前記反射防止コーティングが、ＵＶ反射コーティングと、第１の及び／または第２のグレージング材料のシート、ならびに／または第３のグレージング材料のシートとの間にあることを特徴とする、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するための断熱グレージングユニットを提供する。

好ましくは、第１のグレージング材料のシートは、第１の表面（表面番号１）及び対向する第２の表面（表面番号２）を有し、第２のグレージング材料のシートは、第３の表面（表面番号３）及び対向する第４の表面（表面番号４）を有し、第３のグレージング材料のシートは、第５の表面（表面番号５）及び対向する第６の表面（表面番号６）を有する。建物のグレージング中で使用の際、表面番号１は、建物の外装に面し、表面番号６は、建物の内装に面する。

好ましくは、反射防止コーティングが、表面番号１上に提供される。反射防止コーティングまたはさらなる反射防止コーティングが、表面番号２及び／または表面番号３及び／または表面番号４及び／または表面番号５及び／または表面番号６上に提供され得る。最も好ましくは、ＵＶ反射防止コーティングが、表面番号１上に、好ましくは反射防止コーティング上に直接堆積されて、提供される。ＵＶ反射コーティングまたはさらなるＵＶ反射コーティングが、表面番号２及び／または表面番号３及び／または表面番号４及び／または表面番号５及び／または表面番号６上に提供され得る。

好ましくは、少なくとも１つの太陽光制御コーティングまたは低Ｅコーティングが、表面番号２及び／または表面番号３及び／または表面番号４及び／または表面番号５及び／または表面番号６上に提供される。

本発明の方法に従って、少なくとも１つの基材が、表面を有して提供され、パターン化された配置の開口部を含むマスクが、基材の表面から離間し、パターン化された配置が複数のストライプを含み、コーティング材料が、基材の表面上にパターン化された配置でＵＶ反射コーティングを堆積させるために基材の表面にマスクの開口部を通して導かれ、パターン化された配置が、複数のストライプを含む。

好ましくは、ＵＶ反射コーティングは、スパッタリングプロセスを使用して、好ましくはマグネトロンスパッタリングプロセスによって、及びより好ましくはチタニアの反応マグネトロンスパッタリングによって堆積される。

少なくとも１つの反射防止コーティングが、ＵＶ反射コーティングを堆積させる前に基材の表面上に堆積される実施形態において、そのような堆積は、好ましくは化学気相堆積プロセスを使用して実行される。

本明細書に記載された全ての特徴は、任意の組み合わせにおいて、上記の態様のうちのいずれか１つと組み合わせられ得る。

本発明のある特定の実施形態が、添付の図面を参照して、実施例のみの方法によって、説明され得るであろう、図面中：

先行技術のグレージングの概略断面図を示す。 本発明の実施形態に従うグレージングの概略断面図を示す。 図２のグレージングの一部の概略断面図を示す。 本発明に従うグレージングの平面図を示す。 本発明の代替的な実施形態に従うグレージングの概略断面図を示す。 本発明に従うグレージングの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明に従う断熱グレージングユニットの実施形態の概略断面図を示す。 本発明の実施形態に従う三層ガラスユニットの概略断面図を示す。 本発明の実施形態に従う積層グレージングの概略断面図を示す。 本発明の方法の実施形態において使用するための装置の概略図を示す。 実施例１の幅の広いストライプパターンに関して、最大厚さ間の正規化した厚さ及びＢＵＶＡＭ１をそれぞれａ）３５ｎｍ ＴｉＯ_２及びｂ）４０ｎｍ ＴｉＯ_２で示すグラフである。 実施例１の幅の広いストライプパターンに関して、最大厚さ間の正規化した厚さ及びＢＵＶＡＭ１をそれぞれａ）３５ｎｍ ＴｉＯ_２及びｂ）４０ｎｍ ＴｉＯ_２で示すグラフである。 幅の狭いストライプパターンに関して、最大厚さ間の３５ｎｍ ＴｉＯ_２の正規化した厚さを示すグラフである。 本発明の方法の実施形態において使用される化学気相堆積塗装機の概略、下面図を示す。

図２は、本発明の実施形態に従うグレージング２を示す。グレージングは、第１の表面８及び第２の表面１０を有する基材４を含む。示された実施形態において、基材は、４ｍｍのフロートガラスのシートである。第１の表面８は、使用の際に取り付けられるとき、建物の外装に面するグレージングの表面であり、しばしばグレージングの「表面番号１」として言及される。任意の反射防止コーティング１２は、第１の表面８に直接提供され、生成物「Ａ」を形成し、ＵＶ反射コーティング１４は、複数のストライプ１４を含むパターン化された配置で反射防止コーティング１２の上に提供される。

本発明の実施形態の各々において、複数のストライプの各々は、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下、好ましくは１ｍｍ毎に６ｎｍ以下、より好ましくは１ｍｍ毎に３ｎｍ以下で変化する厚さを有し、及びさらにより好ましくは、複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１．５ｎｍ以下で変化する厚さを有する。

好ましい実施例として、反射防止コーティング１２は、フロート炉のフロートバス領域において既知の化学気相堆積プロセスを使用して、基材４に堆積され得る。コーティング１２は、図３で示されるように複数の層を含み、ある特定の実施例が：およそ１２ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ_２の第１の層１６、第１の層１６上に堆積されたおよそ２５ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ_２の第２の層１８、第２の層１８上に堆積されたおよそ１１０ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｎＯ_２：Ｆの第３の層２０、及び第３の層２０上に堆積されたおよそ９０ｎｍの幾何学的厚さを有するＳｉＯ_２の第４の層２２を含む。このようなコーティングは、これよりまたＯｐｔｉｖｉｅｗコーティングとして言及される。

さらに、特定の実施形態において、ＵＶ反射コーティング１４は、およそ３１ｎｍの幾何学的厚さを有する酸化チタンを含む。図４に示されるように、コーティング１４は、反射防止コーティング１２の上に直接ストライプ状のパターンで堆積された。堆積は、以下で詳細が記載される反応マグネトロンスパッターコーティングによるものであった。

図５は、ＵＶ反射コーティング１４´がストライプ間でゼロに落ちない、すなわちストライプが相互接続されるように、マスクが基材から間隔を空け、コーティング材料のソースに対して位置付けられた代替的な実施形態を示す。各ストライプで最大のコーティングの厚さとストライプ間の最小のコーティングの厚さとの間の差「ｄ」が少なくとも１０ｎｍであると、この実施形態のパターン化された配置はまた、鳥の窓との衝突を最小限に抑えまたは防止し、一方でグレージング上のパターンの人間の視覚への影響を削減するグレージングを提供する。

図６は、単層ガラス構造体を有する本発明の実施形態を示し、ここでＵＶ反射コーティング１４が、ガラス基材４の表面番号１上に直接堆積され、反射防止コーティング１２が、基材の表面番号２上に堆積される。

図７は、外部表面（表面番号１）上にＴｉＯ_２コーティングを有する２層ガラス構造体１００を有する本発明の実施形態を示す。反射防止コーティング１２は、表面１０（表面番号２）上に堆積される。

図８は、本発明の代替的な実施形態を示し、二層ガラスユニット２００が、グレージングの表面番号１上に反射防止コーティング１２、及びユニットの空間４０（表面番号２）に面する表面１０上にＵＶ反射コーティング１４を有する。表面番号１上に反射防止コーティングを有するよりも、外側のプライとしてクリアなガラスを一枚有することのほうがより良くなり得るということが見出されている。スパッタされたコーティングがユニットの内部に入れられるため損傷しにくいことから、二重のグレージングオプションにとっては有利な配置となり得る。

図９は、第１のプライの表面番号１上に反射防止コーティング１２及び表面番号２上に第２の反射防止コーティング１１２を備える二層ガラスユニット３００を有する、本発明のさらなる代替的な実施形態を示す。ＵＶ反射コーティング１４は、ストライプ状の配置で表面番号２上のコーティング１１２上に堆積される。

図１０は、表面番号１上に反射防止コーティング１２、表面番号２上に第２の反射防止コーティング１１２、及び表面番号１上のコーティング１２の上に堆積されたＵＶ反射コーティング１４を有する二層ガラスユニット４００を有する、本発明のさらなる実施形態を示す。

図１１は、表面番号１上に反射防止コーティング１２及びユニットの表面番号４（３０）上に第２の反射防止コーティング１１２を有する二層ガラスユニット５００を有する、本発明のさらなる実施形態を示す。ＵＶ反射コーティング１４は、表面番号４上のコーティング１１２の上に堆積される。このことは、コーティングされたガラス板の裏にコーティングを加えるよりも、２つの反射防止コーティングを有するグレージングのためにより単純な構成となり得る。さらに、反射防止コーティングを直接コーティングすることは、裏面損傷の問題が最小となることを確実とし、反射防止効果を局所的に破壊する。

図１２は、二層ガラスユニット６００が、表面番号１上に反射防止コーティング１２及び表面番号４上に第２の反射防止コーティング１１２を有する、本発明のさらなる代替的な実施形態を示す。ＵＶ反射コーティング１４は、表面番号３として既知の第２のプライの内部表面３２上に堆積される。

図１３は、三層ガラスユニット７００の実施形態を示す。ユニット７００は、第１のグレージング材料のシート４、第２のグレージング材料のシート１０４、及び第３のグレージング材料のシート２０４を含む。反射防止コーティング１２、１１２、２１２、３１２、及び４１２は、図において示されるようにシートの表面番号１、番号３、番号４、番号５、及び番号６上に提供される。ＵＶ反射コーティング１４は、ストライプ状の配置で、反射防止コーティング１２の上に提供される。太陽光制御コーティング５０が、表面番号２に提供される。低Ｅコーティングが、表面番号２、及び／または表面番号５、及び／または表面番号６上に加えて堆積され得る。

図１４は、本発明に従う積層グレージング７５０の実施形態を示す。２つの基材４（または透明なグレージング材料のシート）が、プラスチックの中間層７５２、通常ポリビニルブチラールまたはｐｖｂのプライによって従来の様式で共に結合される。反射防止コーティング１２は、表面番号１上に提供され、ＵＶ反射コーティング１４が、表面番号１上のコーティング１２の上に堆積される。反射防止コーティング及びＵＶ反射コーティングは、積層グレージングの他方の表面上に提供され得る。太陽光制御コーティングまたは低Ｅコーティングなどの他のコーティングは、積層グレージングの他方の表面に提供され得る。加えて、積層グレージングは、上記で記載された断熱グレージングユニットのうちのいずれかに組み込まれ得る。本発明に従う積層グレージングは、プラスチックの中間層が、表面番号３からのＵＶ反射を吸収し、それによってコントラスト比が増加するであろうという点で有利となり得る。

本発明を実行するために発明者によって目下熟考された最良のモードを構成する以下の実施例が、さらなる説明及び本発明の開示のためだけに表され、これは本発明を限定するものとは解釈されない。

１．マグネトロンスパッタリング
全ての実施例のうちの１つにおいて、バードセーフストライプ状ＴｉＯ_２コーティングを、ＴｉＯ_２堆積のマスキングによってＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ（商標）基材上に生成する。基材は、そのため、公称１２ｎｍのＳｎＯｘ／２５ｎｍのＳｉＯ２／１１０ｎｍのＳｎＯｘ／９０ｎｍのＳｉＯ２のコーティングスタックを有する４ｍｍのクリアなガラスであり、各層をＣＶＤによって堆積させる。残りの実施例において、基材は、コーティングされていない、４ｍｍのクリアガラスである。

モデリング作業は、最適な鳥−可視−ＵＶ応答が、３５ｎｍのＴｉＯ_２をＯｐｔｉｖｉｅｗ（商標）コーティングの上に堆積させることによって得られることを示した。反射ＴｉＯ_２は、ＵＶ反応の強化を提供するだけでなく、ストライプ配置におけるＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ（商標）の反射防止効果もまた取り除く。このことは、ＵＶパターンに二重の強化を与える。

なお、ＵＶ強度（または「ＢＵＶＡＭ１」）は、鳥のＵＶ−錐体視力を表す、ガウス曲線を空気質量１（ＡＭ１）太陽エネルギーカーブに畳み込むことによって、計算された鳥の−可視ＵＶエネルギーの比較基準である。ガウスカーブを、ＦＷＨＭにおいておよそ±２５ｎｍの幅で３７０ｎｍ上に集める。ＢＵＶＡＭ１カーブは、統合したＢＵＶＡＭ１カーブを与えるためにコーティング用の測定／予想スペクトルに抗して統合される。ＢＵＶＡＭ１カーブは、ＣＯＤＥ光学モデリングソフトウエア内でモデル分光曲線に抗する統合のためのデータソースとして使用され得る。これは、異なる構成の実施形態用に統合された鳥ＵＶ数値を生成するため、及びこれらの構成を性能及び色に関して最適化するために使用され得る。本明細書で使用されるように、コントラスト比＝（最も厚いポイントにおけるＵＶ強度／最も薄いポイントにおけるＵＶ強度）である。

ＴｉＯ_２のＵＶ反射コーティングを、図１５で概略的に示されるように、基材８０２とスパッタリングターゲット８０４との間で位置付けられた、マスク８００を通して反応マグネトロンスパッタリングによって堆積させる。ソースからの材料フラックスの余弦配分を有する視線の特質を有するスパッタリングプロセスを原因として、マスクの下で厚さの段階的な漸減をもたらす。本明細書に使用されるように、余弦配分という用語は、垂直にシフトした余弦カーブと同様の形状での配分を意味し、各最大値が、マスク中で縦長スロットの中央線上のコーティングの厚さに対応し、各最小値が、隣接する縦長スロット間の中点でのコーティングの厚さに対応する。配分は、余弦からずれることがあり得る、つまり最大の幅と最小の幅が異なり得る。マスクを基材の近くへ移動させるまたは基材から遠くへ移動させることで、それぞれ縁を鋭くまたはより緩やかにする。実施例全てにおいて、マスク８００は、基材８０２の表面から２０ｍｍの間隔を空け、及びマスク８００は、スパッタリングターゲットから１７０ｍｍの間隔を空けた。

マスク８００は、互いに関して均一に間隔を空けた複数の縦長スロット８０６を備える。ある実施例に関して、スロット８０６は、各スロット８０６間が７５ｍｍで、各々２５ｍｍ空間の幅を有し、一方で他の実施例において、スロット８０６は、各スロット８０６間が９０ｍｍで、各々１０ｍｍ空間の幅を有する。前者は、本明細書において、「幅の広いストライプ」として言及され、後者は、「幅の狭いストライプ」として言及され得る。

マスク８００は、効果的なマスキングを提供するために、スパッタリングターゲット８０４のサイズよりも大きな幅を有する。マスクを、マスクが基材から分離し、ターゲットが調整されることを可能としたねじ付きスタッドを使用してコーティングプラント体にボルトでとめる。ガラス基材８０２を、スロット８０６の長さの方向でマスク８０２の真下に移送するため、ストライプにパターン化された配置でスパッタされたコーティング８０８を堆積させる。

生成された酸化チタンコーティングは、様々な圧力、及びＡｒ：Ｏ_２比の条件の下で作製され、Ａｒ／Ｏ_２で反応的にスパッタされた金属Ｔｉターゲット、または純ＡｒまたはＡｒ／Ｏ_２混合でスパッタされた導電性酸化ターゲットから作製された。この実施例に関して、酸化チタンコーティングは、プラズマ発光モニター制御下でＡｒ／Ｏ_２雰囲気においてスパッタされた純Ｔｉ金属ターゲットから堆積された。コーティングは、デュアル平面状マグネトロンカソードを装備したＶｏｎ Ａｒｄｅｎｎｅ ＧＣ１２０スパッタコーティングプラントを使用して堆積された。プロセス条件を以下に記す：２５ｋＷ １００ｋＨｚ Ｍｆ、速度４４１ｍｍ／分（４パス）、Ａｒ２５０ｓｃｃｍ、３０％ＰＥＭ Ｔｉ発光のための設定、Ｏ２フロー制御（およそ６０ｓｃｃｍを与える）。

ａ）実施例１
コーティングされたストライプのターゲットの厚さは３５ｎｍだが、実施例１に実際に堆積された厚さを、Ｏｐｔｉｖｉｅｗ（商標）コーティングと同時にコーティングされたクリアフロートガラス基材上の単層の光学モデリングによって計算し、厚みポイントで４０ｎｍ厚である。コーティングの厚さは、マスキング及び堆積プロセスの「ソフトエッジ」特質が原因で、位置によって変化する。

この厚さの変動の特質を判断するために、他のコーティンング動作を設定中に実行し、厚さの物理的な測定を可能とするために溝がコーティングにわたって残るようにする。溝を、コーティング前にガラスに微細なインク線を適用することによって作製する。コーティング後、インクを溶剤で取り除きコーティングもそれとともに取る。これによりコーティングの厚さを、Ｄｅｋｔａｋ ＸＴスタイラス表面形状測定装置を使用して規則的な間隔で測定可能とする。コーティングの厚さを、設計の厚さ及び結果として生じるＢＵＶＡＭ１強度で予測されたコーティングの厚さの変動を示すために、３５ｎｍに正規化する（図１６ａを参照）。最大４０ｎｍのコーティングの変動は、図１６ｂに示される。

下記の表１及び２は、厚さの変化を示し、図１６ａ及び１６ｂにそれぞれ対応する。

表１から、厚さ３５ｎｍのストライプに対して、厚さの最大変化は、水平位置または幅において１ｍｍの変化につき１．２１ｎｍであり、一方で表２から、厚さ４０ｎｍのストライプに対して、厚さの最大変化は、水平位置または幅において１ｍｍの変化につき１．３８ｎｍであることが見られ得る。この実施例を離れて見ると、ストライプにパターン化された配置は、人間にとって可視であるが、ハードな縁を有する同様のストライプの配置と比較するとき、近づくと広がりのある縁がはるかに目立たない（すなわちより見た目に美しい）。これは、特に建物の「内部」からの透過性における場合である。

マスク−基材分離に関して、コーティングは、ストライプの最大値の間では連続性を維持しているが、その厚さは非常にはっきりと変調していたことが見られた。また、これがＢＵＶＡＭ１における関連付けられた変調をもたらし、設計の厚さから５ｎｍオフすることが、ほとんど変動をもたらさないということも観測された。最小ＢＵＶＡＭ１値が、３５及び４０ｎｍに対してそれぞれ、３．８及び４．１であるとき、膜が連続してとどまるという事実は、最適なコントラスト比が達成されなかったことを意味する。しかしながら、上にＴｉＯ_２のない（理想的な状態）Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｏｐｔｉｖｉｅｗ（商標）コーティングのＢＵＶＡＭ１は、２．２である。これは、ＢＵＶＡＭ１コントラスト比が、６．３から３．７に（３５ｎｍに対して）、または３．２に（４０ｎｍに対して）最適に縮小されたことを意味する。これだけでも非常に大きなコントラスト比であるが、マスクを基材に近づけて移動させること、またはマスクのスロットを狭くすること、それによって堆積されたＴｉＯ_２の最小の厚さを削減することによって、より改良され得ることが予想される。

連続コーティング、及びＵＶ強度（ＢＵＶＡＭ１）でターゲットから５ｎｍであることの効果、ならびにコントラスト比が、以下の表３に示される。

トンネル試験を、ＯＮＲ１９１４０：２０１０ Ａｕｓｔｒｉａｎ Ｓｔａｎｄａｒｄｓ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ発行の「Ｂｉｒｄ−ｓａｆｅ ｇｌａｓｓ：ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ」［２０１０］の方法の修正版である試験方法に従って実行し、修正した試験は、２０１２年２月付けで出版された出版物「Ｖｏｇｅｌａｎｐｒａｌｌ ａｎ Ｇｌａｓｆｌａｃｈｅｎ，Ｐｒｕｆｂｅｒｉｃｈｔ Ｏｒｎｉｌｕｘ Ｍｉｋａｄｏ」のセクション２．３．３「Ｆｅｎｓｔｅｒ Ｖｅｒｓｕｃｈ」１１ページにおいて記載される。この出版物は、ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｂｏｇｅｌｇｌａｓ．ｉｎｆｏ／ｐｕｂｌｉｃ／ｖｏｇｅｌａｎｐｒａｌｌ−ｏｒｎｉｌｕｘ−ｍｉｋａｄｏ＿２０１２．ｐｄｆからダウンロードされた。修正は、試験試料及び参照試料を各々飛行軸に対して３５度で取り付け、間接的な反射光強度が２５Ｗ／ｍ２未満となるように試料の後ろに密閉室を提供することによって、反射を考慮している。試験に従って、クリアでコーティングされていないガラスの参照グレージングは、２７．７％の比率でバードストライクが起こるという結果となった。本発明に従うバードセーフグレージングは、２７％未満、好ましくは２０％未満、及び最も好ましくは１０％未満にバードストライクの比率を削減することを提供する。

トンネル試験は、ストライプが垂直に延在するように配向されたこの実施例のコーティングされた基材が、わずか６．０％のバードストライクという結果を出し、効果的な鳥への抑止力となることを示した。

そのため、基材から離れるようにして位置付けられるコーティングソースと基材との間に配置されたシャドウマスクを使用することで、堆積されたコーティングが緩やかにマスクの縁の直下に延出することが十分に可能であり、ストライプの縁は、鋭く画定されるというよりもソフトで広がりがあるということがこの実施例によって示された。この実施例を離れて見ると、ストライプにパターン化された配置は、人間にとって可視であるが、近づくと広がりのある縁は、パターンがはるかに目立たないことを意味する。これは、特に建物の「内部」からの透過性における場合である。同時に、ストライプにパターン化された配置は、バードストライクに対して効果的な抑止力を提供する。

ｂ）実施例２〜６及びＣ７
これらの実施例を、上記で実施例１に関して記載されたものと同様の方法によって調製するが、以下に例外を記す。実施例２〜４は全て、垂直に配向された狭いストライプを備える。つまり、各マスクのスロット８０６は、各スロット８０６間が９０ｍｍで、各々１０ｍｍ空間の幅を有する。実施例５は、水平に配向された、狭いストライプを備える。実施例６は、コーティングされていないクリアなガラス基材上に、垂直に配向された狭いストライプを備える。比較用実施例Ｃ７は、垂直に配向された狭いストライプ及びより小さなコントラスト比を備える。

公称チタニア厚さ最大３５ｎｍ及び最小０ｎｍを有する狭いストライプの実施例は、図１６ｃで示されたものと同様の厚さプロファイルを有する。他の狭いストライプの実施例の厚さプロファイルは、公称厚さの比を使用する既知の曲線当てはめの技術によって予測され得る。

これらの実施例各々に関して、ソフトエッジは、ハードエッジを有する同様のストライプの配置と比較するとき、人間にとってはるかに目立たない（そのためより見た目に美しい）。

実施例２〜６及びＣ７の特性ならびにトンネル試験の結果が、以下の表４で示される。

実施例５が、実施例３と比較して、バードストライクの抑止に効果があることから、水平に配向されたストライプは、同じ幅及びコントラスト比の垂直に配向されたストライプほどの効果がないことが見られ得る。実施例４は、別様に同様のパターンに対してより低いコントラスト比では効果が減少したことを示し、よって比較用実施例Ｃ７は、与えられたパターンに関して、非常に低いコントラスト比がバードストライクの割合には効果がないという結果となるであろうということを示す。

２．化学気相堆積
この実施例において、基材は、３．２ｍｍの厚さを有するガラスであり、２５ｎｍの厚さを有するシリカ層を備える。酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）及びＴｉＣｌ_４を、前駆材料として使用し、この反応で、基材上のＴｉＯ_２コーティングをもたらす。

ＴｉＯ_２コーティングを堆積させるために使用された化学気相堆積塗装機９００の概略、下面図が、図１７に示される。塗装機９００の底面９０２は、スロットの形態で中央前躯体ノズル９０４を含み、そこからガス状の前躯材料が塗装機９００を出て、ガラス基材の表面上に当たり、その上でコーティングが堆積するように反応する。上流排気ノズル９０６及び下流排気ノズル９０８が、未反応の前駆材料を取り除くために提供され、ガラス基材の移動方向が、矢印で示されている。

塗装機９００の前躯体ノズル９０４は、１０インチ幅であり、各々を前躯体ノズル９０４の最も近い縁から１．５インチに位置付ける、一組の３インチブロック９１０によって２つの固定位置でブロックする。そのため、３つの前躯体スロットを、前躯体ノズル９０４において画定する：２つのブロック９１０間で１つの１インチ幅スロット、及び前躯体ノズル９０４の各端部で１．５インチ幅のスロット。ブロック９１０の底部の近くでの前躯材料の広がりを防止するために、ハニカム構造を有する格子状のパックを、塗装機ノズル９０４内に画定された３つのスロットの各々において位置付ける。塗装機９００の底面９０２を、ガラス基材の上表面の６ｍｍ上に位置付ける。

所望の厚さ（１５ｎｍ〜５０ｎｍ）ならびに所望の均一性を得るために、化学薬品の合計流量、ならびにＥｔＯＡｃのＴｉＣｌ_４に対する比は、様々である。表５に堆積条件をまとめる。

これらの実施例は、所望のストライプにパターン化された配置を有するＴｉＯ_２コーティングが、化学気相堆積プロセスによってガラス基材上に形成され得ることを示す。これらの実施例の目視検査は、本明細書に記載されるソフトエッジ、すなわち幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを含む全てのストライプが、ハードエッジを有して形成された同様のストライプの配置と比較するとき、はるかに目立たない（そのためより見た目に美しい）ということを明らかとする。

本明細書において開示された全ての特徴（いずれの添付請求項、要約書、及び図面を含む）、及び／または開示されたいずれの方法またはプロセスの全てのステップは、そのような特徴及び／またはステップのうちの少なくともいくつかが相互排他的となる組み合わせを除いて、いずれの組み合わせにおいても組み合わせられ得る。

本明細書において開示された各特徴（いずれの添付請求項、要約書、及び図面を含む）は、別段の明示のない限り、同じ、同等の、または同様の目的を果たす代替的な特徴によって置き換えられ得る。そのため、別段の明示のない限り、開示された各特徴は、全体的な一連の等価物または同様の特徴のうちの一実施例に過ぎない。

本発明は、前述の実施形態（複数可）の詳細に制限を加えることはない。本発明は、本明細書において開示された特徴（いずれの添付請求項、要約書、及び図面を含む）のいずれの新規のもの、またはいずれの新規の組み合わせに、または開示されたいずれの方法またはプロセスのステップのいずれの新規のもの、またはいずれの新規の組み合わせに延在する。

Claims (30)

1. 鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングであって、前記グレージングが、ＵＶ反射コーティングを有する少なくとも１つの基材を含み、前記ＵＶ反射コーティングが、複数のストライプを含むパターン化された配置で前記基材上に堆積されており、前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを有する、グレージング。
2. 前記ストライプが、互いから等距離で離間している、請求項１に記載のグレージング。
3. 前記ＵＶ反射コーティングと前記基材との間に反射防止コーティングをさらに含む、請求項１に記載のグレージング。
4. 前記反射コーティングの複数の実質的に２．５ｃｍ幅のＵＶ反射ストライプが提供され、各前記ストライプが、実質的に７．５ｃｍの反射防止コーティングストライプによって分離されている、請求項３に記載のグレージング。
5. 前記反射防止コーティングが、前記基材に隣接して提供されている、請求項３に記載のグレージング。
6. 前記ＵＶ反射コーティングが、前記基材の外装表面上に堆積されている、請求項１に記載のグレージング。
7. 前記ＵＶ反射コーティングが、前記反射防止コーティング上に直接堆積されている、請求項３に記載のグレージング。
8. 前記ＵＶ反射コーティングが、実質的に１０〜５０ｎｍの厚さの幾何学的厚さを有する二酸化チタンを含む、請求項１に記載のグレージング。
9. 前記反射防止コーティングが、ＳｎＯ_ｘ及び／またはＳｉＯ_２を含む、請求項３に記載のグレージング。
10. 前記反射防止コーティングが、複数の層を含み、前記層が、酸化スズを含む第１の層、酸化ケイ素を含む第２の層、フッ素をドープした酸化スズを含む第３の層、及び酸化ケイ素を含む第４の層を含む、請求項３に記載のグレージング。
11. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に６ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１に記載のグレージング。
12. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に３ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１に記載のグレージング。
13. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１．５ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１に記載のグレージング。
14. ＢＵＶＡＭ１方法によって測定された、各ストライプの最も厚い部分における前記ＵＶ反射コーティングのＵＶ強度が、１〜１５の範囲内にある、請求項１に記載のグレージング。
15. 各ストライプのコントラスト比が、２より大きく、好ましくは２〜７であり、及びより好ましくは４〜７である、請求項１に記載のグレージング。
16. 前記ＵＶ反射コーティングがまた、可視光を反射及び吸収する、請求項１に記載のグレージング。
17. プラスチック中間層のプライによって透明なグレージング材料のシートに結合された、請求項１に記載のグレージングを含む積層グレージングであって、好ましくは前記ＵＶ反射コーティングが、前記積層グレージングの表面番号１上に配置されている、積層グレージング。
18. 第１のグレージング材料のシートと、前記第１のグレージング材料のシートと離間した関係において保持された第２のグレージング材料のシートと、反射防止コーティングと、少なくとも１つのＵＶ反射コーティングとを含む、鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するための断熱グレージングユニットであって、前記ＵＶ反射コーティングが、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを有する複数のストライプを含むパターン化された配置において提供され、前記反射防止コーティングが、前記ＵＶ反射コーティングと前記第１のグレージング材料のシート及び／または第２のグレージング材料のシートのいずれかとの間にある、断熱グレージングユニット。
19. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に６ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１８に記載の断熱グレージングユニット。
20. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に３ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１８に記載の断熱グレージングユニット。
21. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１．５ｎｍ以下で変化する厚さを有する、請求項１８に記載の断熱グレージングユニット。
22. 鳥の窓または他のグレージングとの衝突を最小限に抑えるまたは防止するためのグレージングを製造する方法であって、
    表面を有する少なくとも１つの基材を提供することと、
    前記基材の前記表面から離間したマスクを提供することであって、前記マスクが、パターン化された配置の開口部を備え、前記パターン化された配置が、複数のストライプを含む、提供することと、
    前記基材の前記表面上にパターン化された配置でＵＶ反射コーティングを堆積させるように、コーティング材料を前記マスクの前記開口部を通して前記基材の前記表面に導くことであって、前記パターン化された配置が、複数のストライプを含む、導くことと、を含む、方法。
23. 前記ＵＶ反射コーティングを堆積させる前に前記基材の前記表面に少なくとも１つの反射防止コーティングを堆積させることをさらに含む、請求項２２に記載の方法。
24. 前記ＵＶ反射コーティングが、スパッタリングプロセスを使用して堆積される、請求項２２に記載の方法。
25. 前記ＵＶ反射コーティングが、マグネトロンスパッタリングプロセスを使用して堆積される、請求項２２に記載の方法。
26. 前記ＵＶ反射コーティングが、化学気相堆積プロセスを使用して堆積される、請求項２２に記載の方法。
27. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１０ｎｍ以下で変化する厚さを有するように堆積される、請求項２２に記載の方法。
28. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に６ｎｍ以下で変化する厚さを有するように堆積される、請求項２２に記載の方法。
29. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に３ｎｍ以下で変化する厚さを有するように堆積される、請求項２２に記載の方法。
30. 前記複数のストライプの各々が、幅１ｍｍ毎に１．５ｎｍ以下で変化する厚さを有するように堆積される、請求項２２に記載の方法。