JP2018515323A - ロールツーロール膜製造のための装置及び方法 - Google Patents

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Abstract

膜基材の処理のためのロールツーロールプロセス及び装置が開示される。装置及びプロセスは、1以上の処理溶液を使用して膜基材を順方向に処理し、次いで他の処理溶液を使用して膜基材を逆方向に処理する。順方向及び逆方向に使用される処理溶液は、好ましくは、処理シーケンスが両方の方向において同じになるように選択される。このようにして、膜基材は、順方向及び逆方向の反復処理によって反応時間を蓄積することができる。【選択図】図1

Description

本開示は、連続的なロールツーロールプロセス及びシステムに関する。
以下の節は、それらの節で考察される内容が先行技術又は当業者の知識の一部であることを認めるものではない。
イオン交換膜又は親水性膜などの膜の製造は、バッチプロセスを使用する場合に性能にばらつきを生じる可能性がある。例えば、ポリアクリロニトリルポリマー膜は、バッチ酸浸漬プロセスによって親水性に官能化される。得られた親水性膜を使用して、油を水から分離することができる。しかし、ポリアクリルアミドポリマー膜を酸で処理するバッチ浸漬プロセスを使用すると、バッチ間の望ましくない性能変動が生じる。
バッチプロセスを使用して製造された膜より性能変動が少ない膜を製造することが望ましい。
序文
以下の序文は、読者に本明細書を紹介するが、特許請求される発明を限定又は定義しないことを目的とする。下文に又はこの文書の他の部分に記載される装置要素又は方法ステップの組合せ又は下位の組合せに、1以上の発明があることがある。発明者らは、本明細書に開示される1以上のどんな発明に対するその権利も、単に特許請求の範囲においてそのような他の1以上の発明を記載しないことによって、放棄又は否定するものではない。
バッチプロセスを使用すると、バッチ間の望ましくない性能変動が生じる可能性があるので、このようなバッチプロセスを連続的なロールツーロールプロセスに置き換えることが望ましい。所与の反応溶液中で長い反応時間を必要とする連続的なロールツーロールプロセスは、所望の反応時間を設けるために、より小さな反応ゾーンでのより遅い線移動速度(フィート/分)又はより大きな反応ゾーンでのより速い線移動速度を使用することができる。しかし、線移動速度の低下は、ロールツーロールプロセスにおける他のステップの反応時間にも影響を及ぼし得る。より大きな反応ゾーンは、より大きな物理的フットプリントを必要とすることがある。
一般に、本開示は、複数の処理溶液における膜基材の連続的なロールツーロール処理のための方法及びシステムを提供し、1以上の処理溶液中の合計反応時間は、2つのロール間で膜基材を複数回巻き掛けることによって蓄積される。2つのロール間で膜基材を複数回巻き掛けることにより、膜基材を処理溶液で複数回処理することができる。例えば、膜基材を順方向に処理し、次いで逆方向に処理すると、1回の通過の反応時間の2倍の合計反応時間となる。別の例では、膜基材を順方向に処理し、膜を第1のロールに巻き戻し、膜基材を順方向に再び処理すると、1回の通過の反応時間の2倍の合計反応時間となる。膜基材は、プロセスの他のステップに影響を及ぼす線速度で移動することなく、また反応ゾーンのサイズの増加を必要とすることなく、反応時間を蓄積することができる。方法及びシステムは、好ましくは、イオン交換膜のような多孔質膜又は多孔質膜ラミネートを処理するために使用することができる。
欧州特許出願公開1705281号明細書
本開示による装置は、第1のロールと、第2のロールとを有する。第1のロールと第2のロールの両方は各々、巻き取り及び巻き戻すことができる。このようにして、膜基材は、第1のロールから第2のロールに巻き出されるか又は第2のロールから第1のロールに巻き出されてもよい。便宜上、本開示では、膜基材を第1のロールから第2のロールに巻き出して1以上の処理溶液で処理することは、「順処理」又は「順方向処理」と呼ばれ、膜基材を第2のロールから第1のロールに巻き出して1以上の処理溶液で処理することは、「逆処理」又は「逆方向処理」と呼ばれる。
特定の例では、膜基材は、2つのロール間で移送されるときに、複数の処理溶液の少なくとも1つで処理される。膜基材が一方のロールから他方のロールに巻き掛けられると、膜基材の処理方向を逆転させてもよく、次いで膜基材は元のロールに再度巻き掛けられつつ複数の処理溶液の少なくとも1つで処理されてもよい。或いは、膜基材が一方のロールから他方のロールに巻き掛けられると、処理された膜基材は、処理することなく元のロールに再度巻き掛けられてもよい。
膜基材は、複数の処理溶液のサブセットでのみ処理される順方向に処理することができる。膜基材はまた、複数の処理溶液の異なるサブセットでのみ処理される逆方向に処理することができる。膜基材はまた、複数の処理溶液のさらに別のサブセットで両方向に処理することができる。このようにして、膜基材は、逆方向に処理される場合より順方向に処理される場合、異なる処理溶液又は異なる順の処理溶液で処理され得る。
処理溶液のサブセットは、他のサブセットからの処理溶液を含むことができることを理解されたい。例えば、1つのサブセットは、処理溶液A、B、C及びDで構成することができ、異なるサブセットは、処理溶液C、D、E及びFで構成することができ、さらに別の異なるサブセットは、処理溶液Bで構成することができる。このような例では、これらは、複数の処理溶液A、B、C、D、E及びFのサブセットがすべて異なる。
本開示による例示的な方法では、膜基材を順処理する場合、方法は、膜基材を処理溶液の第1のサブセットで処理することを含み、膜基材を処理溶液の第2のサブセットで処理することを含まない。膜基材を逆処理する場合、方法は、膜基材を処理溶液の第2のサブセットで処理することを含み、膜基材を処理溶液の第1のサブセットで処理することを含まない。例示的な方法はまた、順処理及び逆処理する場合、膜基材を処理溶液の第3のサブセットで処理することを含む。処理溶液のシーケンスは、好ましくは、膜基材が処理されるたびに1以上の処理溶液中で膜基材が反応時間を蓄積することができるように、逆方向であると考えられる場合と順方向であると考えられる場合は同じである。
本開示による別の例示的な方法では、膜基材は、最初に、処理溶液の第1のサブセット及び処理溶液の第2のサブセットで順処理によって処理される。膜基材は、処理溶液の第2のサブセットの所望の合計反応時間をもたらすのに十分な時間、処理溶液の第2のサブセットでの反復逆処理及び/又は順処理によって処理される。その後、膜基材は、処理溶液の少なくとも第3のサブセットで、順処理又は逆処理によって処理することができる。
本開示による装置のさらなる例では、装置は、第1のロールと、第2のロールとを含み、膜基材は、第1と第2のロールの両方で巻き取り及び巻き戻すことができる。膜基材は、順方向、逆方向又は膜基材を順方向及び逆方向の両方で処理する際にので、1以上の処理溶液で処理可能である。
本開示による方法のさらなる例では、方法は、膜基材を第1のロールから第2のロールに巻き戻しながら膜基材を処理溶液で処理することによって、膜基材を順方向に処理するステップと、処理された膜基材を第2のロールから第1のロールに再度巻き取るステップと、処理された膜基材を第1のロールから第2のロールに巻き戻しながら処理された膜基材を処理溶液で処理することによって、処理された膜基材を順方向に処理するステップとを含む。
本開示の実施形態を、添付の図を参照して、単なる例として以下に説明する。
本開示による装置の一例の一構成を示す図である。 図1に示す装置の別の構成を示す図である。 本開示による装置の別の例の一構成を示す図である。 図3に示す装置の別の構成を示す図である。
図1は、ロールツーロール処理装置10を示している。装置10は、浸漬処理装置の一例である。装置10は、第1のロール12と、第2のロール14とを含む。膜基材16は、第1のロールから第2のロールに巻き取られ、処理溶液20A〜Fに浸漬可能なローラ18A〜Fの周りを通過する。
ローラ18A〜Fは、処理配置と非処理配置との間で移動可能であるが、各ローラは、独立して移動可能であり、図1及び図2に示す構成は、装置10の唯一の可能な構成ではないことが理解されよう。
一例では、図1に示すように、ローラ18A,18C,及び18Dは、膜基材16を処理溶液20A,20C及び20Dに曝す処理配置に配置される。ローラ18B,18E及び18Fは、処理溶液20B,20E及び20Fによって処理されずに膜基材を処理することができる非処理配置に配置される。
膜基材が図1に示す構成を使用して順方向で処理されると、それによって膜基材を処理溶液20A,20C及び20Dに曝し、膜基材は、図2に示すように、膜基材を第2のローラ14から第1のローラ12に巻き戻すことによって逆方向に処理される。このようにして、膜基材は、処理溶液20E,20C及び20Bの順に曝される。図2に示す構成では、ローラ18Fは、非処理配置のままである。
いくつかの例では、処理溶液20A及び20Eは、同じ化学組成を有し、処理溶液20B及び20Dは、同じ化学組成を有する。このような状況では、膜基材16は、図1と図2の両方で同じ処理溶液のシーケンスで処理される。例えば、処理溶液20A及び20Eがエタノール溶液である場合、処理溶液20B及び20Dが塩基性溶液である場合及び処理溶液20Cが酸性溶液である場合、膜基材は、図1の順処理方向と図2の逆処理方向の両方で、エタノール、酸、次いで塩基の順で処理される。
膜基材16は、膜基材が処理溶液20Cに接触している距離を膜基材の線速度(フィート/分)で割り、膜基材が順方向又は逆方向のいずれかで処理される回数をかけることにより計算された合計時間の間、処理溶液20Cで処理される。
1つの具体的な例では、膜基材16は、表1に示すプロトコルを使用して処理され、溶液20A及び20Eは、同じ化学組成を有し、溶液20B及び20Dは、同じ化学組成を有する。
表1のプロトコルを使用して、膜基材16を処理溶液20Cで5回処理する。2フィート/分の線速度及び120フィートの反応距離で、膜基材16は、合計120/2*5=300分、すなわち5時間処理される。1回の通過のロールツーロールプロセスのみを使用して同じ300分の反応時間を達成するためには、距離が120フィートに保たれていれば、膜基材を0.4フィート/分の線速度で処理する必要があり又は線速度が2フィート/分に保たれていれば、距離を600フィートに増やす必要がある。
装置10は、追加のローラと、処理溶液とを有することができる。例えば、装置は、ローラと、ローラ/処理溶液18E/20Eとローラ/処理溶液18F/20Fとの間の処理溶液とを含むことができる。この追加の処理溶液は、多孔質膜を所望のpHにするための緩衝溶液であってもよい。
例示的なプロセスでは、0.01ミクロンの孔を有し、約20,000〜50,000ダルトンの分子量をカットオフしたポリアクリロニトリル膜を酸で処理し、親水性膜を生成する。ポリアクリロニトリル膜は、表1に示すプロトコルを使用して処理され、ここで、処理溶液20Aは、溶媒交換溶液であり、処理溶液20Bは、塩基性溶液であり、処理溶液20Cは、酸性溶液であり、処理溶液20Dは、塩基性溶液であり、処理溶液20Eは、溶媒交換溶液であり、処理溶液20Fは、湿潤溶液である。
エタノール溶液のような溶媒交換溶液は、水をエタノールと交換することによって膜から水を除去する。湿潤溶液、例えば水中の約20%のグリセロールの溶液は、膜形態の安定性を維持しながら多孔質膜を乾燥させることができる。
2フィート/分の線速度で、120フィートの反応距離及び5つの処理方向を提供する反応槽において、ポリアクリロニトリル膜を合計5時間酸で処理し、各酸処理の後に塩基性溶液ですすぎ、最後の酸処理の後に湿潤溶液中ですすぐ。
酸浴槽は、例えば41℃までの温度に加熱することができる。酸浴槽を加熱すると反応速度が増加し、例えば膜の線速度を増加させたり、反応距離を短くしたり又は膜を処理する回数を減らしたりすることによって、合計反応時間を短縮することができる。温度を21℃から31℃に上昇させると反応速度が倍増し、線速度を2フィート/分から4フィート/分に増加させることができ、それによって単位時間当たりに発生される親水性膜の量が倍増する。温度を31℃から41℃に上昇させると反応速度が再び倍増し、線速度を8フィート/分に増加させることができ、単位時間当たりに発生される親水性膜の量が再び倍増する。
任意の処理ステップの線速度は、他の処理ステップの線速度とは独立して異なっていてもよい。処理ステップの線速度を変更することにより、その処理ステップで使用される処理溶液の反応時間が変化する。例えば、方法は、膜基材を処理溶液の第1のサブセットで処理するための第1の線速度での第1の処理ステップを含むことができる。次いで、膜基材は、膜基材を処理溶液の第2のサブセットで処理するための第2の線速度での第2の処理ステップで処理することができる。第2の線速度は、処理溶液の第2のサブセットにおける膜基材の反応時間を増加させることが望ましい場合、第1の線速度と比較して低下させることができる。
装置10は、図1及び図2に示したものとは別の構成で使用することができる。例えば、例示的な方法では、ローラ18A及び18Cは、最初に膜基材16を処理溶液20A及び20Cに曝す処理配置に配置される。膜16が順方向に処理されると、ローラ構成は変更され、膜基材16を処理溶液20Cに曝す。膜16を処理溶液20Cに所望の合計反応時間曝すための1以上の順方向及び/又は逆方向の処理の後、ローラ構成は変更され、膜基材16を1以上の他の処理溶液に曝す。
このような方法の例示的なプロトコルを、表2に示す。このプロトコルでは、膜16は、処理溶液20Cに5回曝され、処理溶液20Cへの最後の曝露の後に処理溶液20D及び20Fに曝される。このような例示的なプロトコルでは、処理溶液20B及び20Eは、省略してもよい。
このようなプロトコルを使用して、処理溶液20Aがエタノール溶液であり、処理溶液20Cが酸性溶液であり、処理溶液20Dが塩基性溶液であり、処理溶液20Fがグリコール溶液である場合、膜は最初にエタノールで処理されて水を膜から除去し、次いで酸で5回処理される。次に、酸性膜は塩基性溶液で処理することによって中和し、次いでグリコール溶液で処理される。プロトコルは、膜を塩基性溶液とグリコール溶液との間の緩衝溶液で処理することを含むことができる。
プロトコルが逆処理方向に移動する膜で終了する方法となる場合、装置はローラ18Dの代わりにローラ18Bを含むことができ、ローラ18Fはローラ18Bの後に配置され得る。このようにして、膜16は、最後の逆処理ステップにおいて、処理溶液20C,20B及び20Fにこの順で曝され得る。
図3及び図4は、膜基材を処理するための代替の装置110の2つの構成を示している。装置110の構成要素は、装置10に関して上述した構成要素と同じであり、したがって、同様の参照番号を有し、詳細には説明しない。装置10とは対照的に、装置110は、可動処理浴槽120A〜Fを含み、固定ローラ118A〜Fも含む。図3は、処理配置における処理浴槽120A,120C及び120D、並びに非処理配置における処理浴槽120B,120E及び120Fを示している。図4は、処理配置における処理浴槽120B,120C及び120E、並びに非処理配置における処理浴槽120A,120D及び120Fを示している。装置110は、表1及び表2に示すプロトコルに従って膜基材を処理することができる。
上に示したように、処理のシーケンスは、逆方向であると考えられる場合と順方向であると考えられる場合は同じとすることができる。例えば、膜基材をA,B,C次いでDの順に溶液で順処理方向に処理し、A,B,C次いでDの同じ順に溶液で逆処理方向に処理してもよい。膜基材が第1のロールと第2のロールとの間で移送されているので、溶液は次の順で物理的に設定することができる:[第1のロール]−A’,B’,C’,D’,D”,C”,B”,A”−[第2のロール]、ここで、「プライム」は順処理方向で使用される処理溶液のサブセットを示し、「ダブルプライム」は逆処理方向で使用される処理溶液のサブセットを示す。プライム又はダブルプライムのない処理溶液は、順処理方向と逆処理方向の両方で共有される。処理溶液の重複を避けるために、順処理と逆処理の両方で処理溶液を共有することが有益である。
上記に鑑みて、膜基材を処理するために使用される処理溶液の化学組成は、処理方向に関係なく同じであってもよいことを理解されたい。すなわち、順方向の処理は、膜を同じ溶液で処理すること又は逆方向に処理するときに使用される同じ化学組成の別個の溶液で処理することを含むことができる。例えば、処理溶液A’及びA”は、同じ化学組成を有する。
順処理方向と逆処理方向の両方において処理溶液A,B,C次いでDで膜基材を処理するために、他の順を使用してもよい。例えば:[第1のロール]−A’,D”,B’,C,B”,D’,A”−[第2のロール];[第1のロール]−A’,D”,C”,B,C’,D’,A”−[第2のロール];[第1のロール]−D”,C”,B”,A,B’,C’,D’−[第2のロール];又は[第1のロール]−D”,C”,A’,B,C’,D’,A”−[第2のロール]のすべてが、順方向と逆方向の両方にA,B,C次いでDの順に処理溶液で処理された膜基材となる。
本開示による装置は、膜基材を処理溶液で処理するための当技術分野で公知の任意の方法、技術又は構成要素を使用することができる。1以上の処理溶液による処理なしで膜基材を処理するために、様々な方法、技術又は構成要素を使用することができる。
膜基材を処理するために使用されるロールツーロールプロセスに依存して、1以上の処理溶液によって処理することなく膜基材を処理することは、膜基材を1以上の処理溶液から分離することによって又は1以上の処理溶液を膜基材に適用しないことによって達成され得る。膜基材は、処理溶液から分離してもよいし又は膜基材を処理配置から非処理配置に変更することによって処理溶液を適用しなくもよい。
例えば、装置は、処理溶液を含む1以上の浸漬処理浴槽を含むことができる。このような装置では、ローラに接触する膜基材が処理溶液に曝されるように、ローラを処理溶液に少なくとも部分的に浸漬することができる。非処理配置は、ローラに接触する膜基材が処理溶液に曝されないように、処理溶液から完全に除去されるローラを含むことができる。膜基材は、図1及び図2に示すように、処理配置と非処理配置との間で独立して移動可能なローラを使用して処理溶液から分離されてもよい。或いは、膜基材は、図3及び図4に示すように、処理配置と非処理配置との間で独立して移動可能な処理浴槽を使用して処理溶液から分離されてもよい。
別の代替案では、膜基材は、対応する保持槽内に排出可能な処理溶液を使用して処理溶液から分離されてもよい。そのような代替案では、処理溶液が処理浴槽に含まれる場合、膜基材は処理配置にある。処理溶液が保持槽に排出される場合、膜基材は非処理配置にある。
さらに別の代替案では、装置は、処理溶液を膜基材に適用する1以上のコーティングローラを含むことができる。このような装置では、非処理配置は、膜基材から分離されるコーティングローラ、処理溶液から分離されるコーティングローラ、コーティングローラから又は処理溶液から分離されるピックアップローラ、コーティングローラから又はピックアップローラから実質的にすべての処理溶液を除去する計量ブレード又はそれらの任意の組合せを含んでもよい。
さらに別の代替案では、装置は、処理溶液を膜基材に適用するスプレー処理を含むことができる。このような装置では、非処理配置は、オフにされる噴霧器を含んでもよい。
本開示による装置は、膜が処理溶液の1つで処理された後に膜を乾燥させるための1以上の乾燥機をさらに含むことができる。例えば、装置は、膜がエタノールで処理された後に膜を乾燥させるための乾燥機を含むことができる。このような乾燥機は、膜が例えば酸性溶液で処理される前に、実質的にすべてのエタノールを除去することができる。膜が次の処理溶液で処理される前に処理溶液を除去することは、次の処理溶液の効果を高めることができるか又は次の処理溶液で使用される化学物質の量を低減することができる。
代替的に又は追加的に、装置は、膜が湿潤溶液で処理された後に膜を乾燥させるための乾燥機を含んでもよい。このような乾燥機は、膜が例えば保存又はフィルタアセンブリのために巻き取られる前に、実質的にすべての湿潤剤を除去することができる。乾燥した多孔質膜は、湿潤多孔質膜より長期間劣化することなく保存することができる。
装置に使用することができる乾燥機は、その幅に沿った膜の進入に適応するようなサイズ及び形状であり、開位置と閉位置との間で移動可能なアンダースカートと、乾燥位置と非乾燥位置との間で移動可能なローラとを含む。乾燥位置では、ローラは膜を乾燥機の長さ内に位置させ、アンダースカートは閉位置にあり、乾燥器によって乾燥されると膜が通過するトンネルを形成する。非乾燥位置では、膜は乾燥機の外側にある。
装置に使用することができる代替の乾燥機は、その幅に沿った膜の進入に適応するようなサイズ及び形状である。膜は乾燥機を通って移動し、膜を乾燥させる場合は乾燥機をオンにし、膜を乾燥させる必要がない場合は乾燥機をオフにする。
前述の説明において、説明のために、実施形態の完全な理解を提供するために多数の詳細が記載される。しかし、これらの具体的な詳細が必要ではないことは当業者には明らかであろう。したがって、記載された内容は、記載される実施形態の適用の単なる実例であって、上記の教示を鑑みて多数の修正及び変形が可能である。
上記の説明は例示的な実施形態を提供するので、特定の実施形態に対して当業者が修正及び変形をもたらすことができることは理解されるであろう。したがって、特許請求の範囲は、本明細書に記載される特定の実施形態に制限されるものでないが、全体として本明細書に一致した方法で解釈されるべきである。

Claims (21)

  1. 第1の処理溶液、第2の処理溶液及び第3の処理溶液による膜基材の連続的なロールツーロール処理のための装置であって、
    第1のロール及び第2のロールであって、膜基材を順方向及び逆方向に処理するために第1のロールと第2のロールの両方で膜基材を巻き取りかつ巻き戻すことができる第1のロール及び第2のロールと、
    膜基材を逆方向ではなく順方向に処理する際に膜基材を処理するための第1の処理溶液と、
    膜基材を順方向ではなく逆方向に処理する際に膜基材を処理するための第2の処理溶液と、
    膜基材を順方向及び逆方向の両方で処理する際に膜基材を処理するための第3の処理溶液と
    を備える装置。
  2. 第1の処理溶液及び第2の処理溶液に関連するローラをさらに備え、ローラの各々が、処理配置と非処理配置との間で独立して切り替え可能である、請求項1に記載の装置。
  3. 第1及び第2の処理溶液を保持するための処理浴槽をさらに備え、処理浴槽の各々が、処理配置と非処理配置との間で独立して移動可能である、請求項1に記載の装置。
  4. 第1及び第2の処理溶液を保持するための処理浴槽と、処理浴槽と流体連通する保持槽とをさらに備え、処理浴槽の処理溶液の各々が、保持槽に独立して排出可能である、請求項1に記載の装置。
  5. 膜基材を逆方向ではなく順方向に処理する際に膜基材を処理するための複数の処理溶液と、膜基材を順方向ではなく逆方向に処理する際に膜基材を処理するための複数の処理溶液とを備える、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。
  6. 膜基材が膜基材を順方向及び逆方向の両方で処理する際に、処理溶液が、膜基材が同じ処理溶液のシーケンスで処理可能であるようなシーケンスで配置される、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の装置。
  7. 複数の処理溶液による膜基材の連続的なロールツーロール処理のための装置であって、当該装置が、
    第1のロール及び第2のロールであって、膜基材は、第1のロールと第2のロールの両方で巻き取り及び巻き戻すことができる第1のロール及び第2のロールと、
    順方向又は逆方向に処理される膜基材を独立して処理するための処理構成と非処理構成との間で各々変更可能な複数の処理溶液と
    を備えており、
    膜基材は、複数の処理溶液の第1のサブセットが処理構成にあり、複数の処理溶液の第2のサブセットが非処理構成にある場合、複数の処理溶液の第1のサブセットで処理可能であり、複数の処理溶液の第2のサブセットで処理することができず、
    膜基材は、複数の処理溶液の第2のサブセットが処理構成にあり、複数の処理溶液の第1のサブセットが非処理構成にある場合、複数の処理溶液の第2のサブセットで処理可能であり、複数の処理溶液の第1のサブセットで処理することができず、
    膜基材は、複数の処理溶液の第3のサブセットが処理構成にある場合、複数の処理溶液の第3のサブセットで処理可能である、装置。
  8. 複数の処理溶液の第1及び第2のサブセットに関連するローラをさらに備え、ローラの各々が、処理配置と非処理配置との間で独立して切り替え可能である、請求項7に記載の装置。
  9. 複数の処理溶液を保持するための処理浴槽をさらに備え、処理浴槽の各々が、処理配置と非処理配置との間で独立して移動可能である、請求項7に記載の装置。
  10. 複数の処理溶液を保持するための処理浴槽と、処理浴槽と流体連通する保持槽とをさらに備え、処理浴槽の処理溶液の各々が、保持槽に独立して排出可能である、請求項7に記載の装置。
  11. 膜基材が膜基材を順方向及び逆方向の両方で処理する際に、複数の処理溶液が、膜基材が同じ処理溶液のシーケンスで処理可能であるようなシーケンスで配置される、請求項7乃至10のいずれか1項に記載の装置。
  12. ロールツーロールプロセスにおいて複数の処理溶液で膜基材を処理する方法であって、
    膜基材を複数の処理溶液の第1のサブセットで処理し、膜基材を複数の処理溶液の第2のサブセットで処理しないことによって膜基材を順方向に処理するステップと、
    膜基材を複数の処理溶液の第2のサブセットで処理し、膜基材を複数の処理溶液の第1のサブセットで処理しないことによって膜基材を逆方向に処理するステップと、
    膜基材を複数の処理溶液の第3のサブセットで処理することによって膜基材を順方向及び逆方向に処理するステップと
    を含む方法。
  13. 複数の処理溶液の第1のサブセットを処理配置から非処理配置に切り替えるステップと、複数の処理溶液の第2のサブセットを非処理配置から処理配置に切り替えるステップとをさらに含む、請求項12に記載の方法。
  14. 処理配置と非処理配置との間で複数の処理溶液の第1のサブセットに関連するローラを移動させるステップと、処理配置と非処理配置との間で複数の処理溶液の第2のサブセットに関連するローラを移動させるステップとをさらに含む、請求項12に記載の方法。
  15. 処理配置と非処理配置との間で複数の処理溶液の第1のサブセットを含む処理浴槽を移動させるステップと、処理配置と非処理配置との間で複数の処理溶液の第2のサブセットを含む処理浴槽を移動させるステップとを含む、請求項12に記載の方法。
  16. 処理浴槽と対応する保持槽との間で複数の処理溶液の第1のサブセットを移送するステップと、処理浴槽と対応する保持槽との間で複数の処理溶液の第2のサブセットを移送するステップとを含む、請求項12に記載の方法。
  17. 膜基材が、第1のシーケンスで複数の処理溶液の第1のサブセットに曝され、膜基材が、第2のシーケンスで複数の処理溶液の第2のサブセットに曝され、第1のシーケンスと第2のシーケンスが、同じである、請求項12乃至16のいずれか1項に記載の方法。
  18. 当該方法が、膜基材を複数の処理溶液の第1及び第3のサブセットで処理することによって膜基材を順方向に処理することを含む、請求項12乃至17のいずれか1項に記載の方法。
  19. 当該方法が、膜基材を複数の処理溶液の第2及び第3のサブセットで処理することによって膜基材を逆方向に処理することを含む、請求項12乃至18のいずれか1項に記載の方法。
  20. 1以上の処理溶液による膜基材の連続的なロールツーロール処理のための装置であって、
    第1のロール及び第2のロールであって、膜基材は、第1のロールと第2のロールの両方で巻き取り及び巻き戻すことができる第1のロール及び第2のロールと、
    順方向に、逆方向に又は順方向及び逆方向の両方に処理される膜基材を処理するための1以上の処理溶液と
    を備える装置。
  21. ロールツーロールプロセスにおいて処理溶液で膜基材を処理する方法であって、
    膜基材を第1のロールから第2のロールに巻き戻しながら膜基材を処理溶液で処理することによって、膜基材を順方向に処理するステップと、
    処理された膜基材を第2のロールから第1のロールに再度巻き取るステップと、
    処理された膜基材を第1のロールから第2のロールに巻き戻しながら処理された膜基材を処理溶液で処理することによって、処理された膜基材を順方向に処理するステップと
    を含む方法。
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