JP2018515225A - 波紋型高周波アブレーションカテーテル及びその機器 - Google Patents

Abstract

長尺状の接続カテーテル（１０）を有し、接続カテーテル（１０）の前端には電極支持体が設けられ、接続カテーテル（１０）の後端には制御ハンドル（２０）が設けられている、波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、電極支持体は１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極（２）が分布し、電極支持体と接続カテーテル（１０）とにおける何れかの管腔内には、摺動可能な支持密着調節ワイヤ（６）が設けられ、支持密着調節ワイヤ（６）は、制御ハンドルから離間する軟性部（６１）と、制御ハンドルに接近する剛性部（６２）とに分けられている波紋型高周波アブレーションカテーテル及びその機器である。支持密着調節ワイヤ（６）を前方へ移動させたり後退させることで、他の機器を介さないという前提で、カテーテル波紋部の形態を変更し、高周波アブレーションカテーテルがガイドカテーテル／シースに入り込んだ場合の難易度を明らかに低下することができる。なお、波紋型電極支持体が対象管腔を移動することが極めて大幅に便利になり、操作が容易になり、かつ構造が簡易である。

Description

本発明は、波紋型高周波アブレーションカテーテルに関し、同時に上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器に関し、医療介入器具の技術分野に属する。

高周波アブレーションシステムでは、高周波アブレーションカテーテルは、人体の血管に介入して高周波エネルギーの放出を行う重要な素子である。そのうち、高周波電極が高周波アブレーションカテーテル前端の支持体に取り付けられている。支持体は、高周波電極を支持し、高周波の開始前に拡張して密着し、高周波が終了した後に収縮して後方に後退する。高周波アブレーション手術は、直接人体の血管に介入して行われたものであるので、支持体の伸縮寸法は、人体の血管の直径に適応すべきである。

人体における血管の直径は、アブレーション部位によって異なっている。同時に、異なる人体の血管の直径も人によって異なっている。例えば、腎動脈の直径は約２〜１２ｍｍで、大きく異なっている。従来技術では、高周波アブレーションカテーテルの電極端の伸縮寸法は一般的に一定であり、異なる人体の血管の直径寸法による要求に適応できず、異なる直径の人体の血管をカバーしにくい。よって、異なる患者に対して高周波アブレーション手術を行うときに、通常、仕様や型番が異なる高周波アブレーションカテーテルを交換してアブレーションを行う必要がある。それにしても、ある場合に、手術時に高周波電極が同時に密着できないという問題も発生し、手術の効果に影響をしている。

高周波アブレーションカテーテルの構造は、電極及び電極支持体の形状によって、例えばバルーン型、穿刺針型、螺旋型及びフラップ状構造等、複数種類に分けられている。従来の各種類の高周波アブレーションカテーテルのいずれであれば、異なる直径の血管に対する適応性には限界がある。

本発明が解決しようとする主な技術課題は、波紋型高周波アブレーションカテーテルを提供することにある。

本発明が解決する別の技術課題は、上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器を提供することにある。

上記発明の目的を達成するために、本発明は以下の技術案を用いた。

長尺状の接続カテーテルを有し、
前記接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、前記接続カテーテルの後端には制御ハンドルが設けられている、波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、
前記電極支持体は１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極が分布し、
前記電極支持体と前記接続カテーテルとにおける何れかの管腔内には、摺動可能な支持密着調節ワイヤが設けられ、前記支持密着調節ワイヤは、制御ハンドルから離間する軟性部と、制御ハンドルに接近する剛性部とに分けられ、
前記支持密着調節ワイヤの先端は、前記電極支持体の前端外に規制され、前記電極支持体の前端に対して摺動可能であり、
前記支持密着調節ワイヤの末端は、前記制御ハンドルに設けられた制御部品に固定されたり、外付けの制御部品に固定されており、前記制御部品は、前記支持密着調節ワイヤの前後移動を制御するためのものであり、
前記支持密着調節ワイヤの剛性部が前記電極支持体内にある場合、前記電極支持体と前記剛性部とが重なり合っている部位が略直線状になり、
前記支持密着調節ワイヤの軟性部が前記電極支持体内にある場合、前記電極支持体と前記軟性部とが重なり合っている部位が波紋状になっている波紋型高周波アブレーションカテーテル。

好ましくは、前記軟性部は、前記剛性部よりも直径又は剛度が小さい細いワイヤによって作製され、前記軟性部と前記剛性部は、一体成形されたり、直径の異なる２本の細いワイヤによって組み付けられてなる。

或いは、好ましくは、前記軟性部は、ばね構造又はホース構造を用いている。

或いは、好ましくは、前記支持密着調節ワイヤの軟性部と剛性部は、同一の剛性材によって作製され、前段が溝、孔を加工して軟性部になっており、
或いは、前記支持密着調節ワイヤの軟性部と剛性部は、同一の軟性材によって作製され、後段がアウタスリーブを組み付けて剛性部になっている。

好ましくは、前記波紋の形状は、複数線分の直線によって構成される折線からなり、或いは、複数線分の曲線からなり、或いは、曲線と直線とからなっている。

好ましくは、前記電極は、前記波紋の山／谷に設けられている。

好ましくは、前記支持密着調節ワイヤの先端には、カメラ及び／又はフレキシブルガイドワイヤが設けられている。

好ましくは、前記電極支持体内に設けられた定型ワイヤをさらに含む。

好ましくは、密着調節ワイヤがさらに設けられ、
前記密着調節ワイヤの後段は、前記接続カテーテルにおける何れかの管腔内に摺動可能に設けられ、その後端が前記制御ハンドルに設けれた制御部品に接続されたり、外付けの制御部品に接続され、
前記密着調節ワイヤの前段は、前記電極支持体外に取り付けた後、前記波紋に設けられた１つ又は複数の孔を経由し、或いは、複数の波紋を迂回した後に、その前端が電極支持体内に戻って固定されている。

或いは、好ましくは、密着調節ワイヤがさらに設けられ、
前記密着調節ワイヤは、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなり、複数本のワイヤは、それぞれ前記電極支持体における１つ又は一部の波紋を調節するためのものであり、一部の波紋が２つ及び２つ以上の複数の波紋を含み、各ワイヤの前端がそれぞれ対応する波紋又は波紋部の一端に固定され、他端が波紋／波紋部を迂回した後、電極支持体内と接続カテーテル内とにおける管腔を経由した後、前記制御ハンドルに設けられている対応する制御部品又は外付けの制御部品に固定されている。

上記の高周波アブレーションカテーテルと、前記高周波アブレーションカテーテルに接続された高周波アブレーションホストとを含む高周波アブレーション機器。

本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテルは、支持密着調節ワイヤの構造を改良することにより、他の機器を介さないという前提で、カテーテル波紋部の直径を変更する。一方、支持密着調節ワイヤの剛性部を電極支持体と重ね合わせるように制御することにより、波紋部の直径が小さくなり、長さが大きくなり、略直線状になってもよく、ガイドカテーテル／シースに適応している。他方、支持密着調節ワイヤを軟性部と電極支持体との重合まで後退させるときに、電極支持体は波紋状に復元してもよい。上記波紋型高周波アブレーションカテーテルは、支持密着調節ワイヤにおいて異なる部位（軟性部又は剛性部又は一部の剛性部及び一部の軟性部）を電極支持体と重ね合わせるように制御することで、電極支持体の形態を変更し、高周波アブレーションカテーテルがガイドカテーテル／シースに入り込んだ場合の難易度を明らかに低下し、波紋型電極支持体が対象管腔を移動することが極めて大幅に便利になり、操作が容易になり、かつ構造が簡易である。

図１Ａは、波紋型高周波アブレーションカテーテルの構造模式図である。 図１Ｂは、図１Ａに示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図２は、図１Ａに示される所示高周波アブレーションカテーテルにおける電極支持体の断面模式図である。 図３は、支持密着調節ワイヤの剛性部が電極支持体と重なり合ってる場合の波紋型高周波アブレーションカテーテルのＤ−Ｄ断面模式図である。 図４は、図３に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルのＩ部の部分的な拡大模式図である。 図５Ａは、ボタン制御部品でワイヤを前方へ移動させて支持密着調節ワイヤの剛性部が電極支持体と重なり合っている場合の制御ハンドルの状態模式図である。 図５Ｂは、ボタン制御部品でワイヤを後方へ移動させて支持密着調節ワイヤの軟性部が電極支持体と重なっている場合の制御ハンドルの状態模式図である。 図６は、本発明から提供される第１支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図７は、本発明から提供される第２支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図８は、本発明から提供される第３支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図９Ａは、第２実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図９Ｂは、第２実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図１０Ａは、第３実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図１０Ｂは、第３実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図１１Ａは、第４実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図１１Ｂは、第４実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図１２Ａは、第５実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図１２Ｂは、第５実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図１３Ａは、第５実施例において密着調節ワイヤの作用による収縮後の波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図１３Ｂは、第５実施例において密着調節ワイヤの作用による収縮後の波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。 図１４は、第５実施例に示される高周波アブレーションカテーテルにおける電極支持体の断面模式図である。 図１５は、第５実施例に示される高周波アブレーションカテーテルにおいて支持密着調節ワイヤ剛性部が電極支持体と重なり合っている場合の波紋型高周波アブレーションカテーテルのＦ−Ｆ断面模式図である。 図１６は、図１５に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルのII部の部分的な拡大模式図である。 図１７は、第５実施例に示される高周波アブレーションカテーテルにおける制御ハンドルの構造模式図である。 図１８は、第５実施例において密着調節ワイヤが定型ワイヤに固定されている場合の構造模式図である。 図１９Ａは、第５実施例において分岐部を有する３種類の支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図１９Ｂは、第５実施例において分岐部を有する３種類の支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図１９Ｃは、第５実施例において分岐部を有する３種類の支持密着調節ワイヤの構造模式図である。 図２０は、第６実施例における第１波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図２１は、第６実施例における第２波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図２２は、図２１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの内部構造模式図である。 図２３は、図２１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの第２密着調節ワイヤの構造模式図である。 図２４は、図２１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの第３密着調節ワイヤの構造模式図である。 図２５は、第７実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。 図２６は、図２５に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの密着調節ワイヤの構造模式図である。 図２７は、第８実施例に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。

以下、図面及び具体的な実施例に基づいて、本発明の技術内容をより詳細に説明する。

（第１実施例）
図１Ａ乃至図５Ｂから分かるように、本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテルは、長尺状の接続カテーテル１０を含み、接続カテーテル１０の前端には波紋型電極支持体が設けられ（図１Ａ参照）、接続カテーテル１０の後端には制御ハンドル２０が設けられている（図５Ａ及び５Ｂ参照）。実際の作製中、電極支持体は、接続カテーテル１０と一体に作製されてもよく、電極支持体は、接続カテーテル１０の前端が波紋状に定型される部分である。電極支持体も、独立して作製されてから、接続カテーテル１０と一体に接続されてもよい。

図１Ａに示されるように、波紋型電極支持体は、アウタチューブ１と、アウタチューブ１に設けられている１つ又は複数の電極２とを含む。アウタチューブ１は、１つ又は複数の波紋からなる波紋状に定型されている。波紋の形状は、複数線分の直線によって構成される折線であってもよく、例えば、三角波であってもよい。波紋の形状も複数線分の曲線からなる正弦波、円弧波等であってもよい。波紋の形状も曲線と直線とからなってもよく、例えば、R角を有する台形波である。また、波紋の形状も他の凸凹構造を有する形状であってもよい。なお、同一の電極支持体では、複数の波紋の形状およびサイズが同じであってもよく、異なってもよい。以下、具体的な実施例に基づいて、詳細に説明する。波紋型電極支持体の複数の波紋は、異なる平面に位置してもよく、同一の平面に位置してもよい。第１実施例では、波紋の全てが同一の平面に位置している。複数の電極２がそれぞれ各波紋に分布している。その中、電極２が波紋の山又は谷に設けられていることが好ましい。電極２は、アウタチューブ１の外周に嵌設されているブロック状電極又はリング状電極であってもよい。電極２の外面は、アウタチューブ１の外面と揃って、或いはアウタチューブ１の外面よりもやや高くなってもよい。電極２の外面もアウタチューブ１の外面よりも低くなってもよい。

図１Ｂに示される側面模式図から分かるように、第１実施例では、波紋型電極支持体における各波紋は、同一の平面に位置し、複数の電極２は、それぞれ各山及び谷に設けられている。以下の他の実施例では、波紋型電極支持体の複数の波紋も、異なる平面に分布してもよい。各波紋が同じ角度で相互に交差している場合、複数の電極２が電極支持体の側投影面に円周方向に沿って均一に分布し、即ち、対象管腔の外周には略円周に分布してもよい。勿論、各波紋の相互の交差角度が一致していない場合に、複数の電極２が電極支持体の側投影面に円周方向に沿って不均一に分布してもよい。そして、電極支持体が長い場合に、電極支持体の長尺方向において複数の波紋が一定の規則又はランダムに繰り返されてもよいため、複数の電極２を、電極支持体の側投影面に重なるものとしてもよい。

図２、図３及び図４に示された内部断面図から分かるように、電極支持体のアウタチューブ１は、単体の管腔又は複数の管腔であってもよい。アウタチューブ１は、高分子材料又は金属材料を用いて作製し、例えばステンレス鋼又は記憶合金等の材料を用いて作製してもよい。アウタチューブ１は、直管材、棒材を用いて加工してなってもよく、予め波紋状に作製した特殊形状のものを使用してもよい。図２に示されるように、アウタチューブ１が複数の管腔を使用する場合、電極支持体のアウタチューブ１内おいて中心管腔に加え、複数の管腔が設けられてもよい。そのうち、一部の管腔のそれぞれには、高周波ケーブル３と熱電対の素線４が１組設けられている。各組の高周波ケーブル３及び熱電対の素線４の先端が個別電極２内に設けられている。そのうち、高周波ケーブル３の先端は、電極２と緊密に固定され、例えば溶接、導電ペースト接着等のプロセスで接続されるようになっている。２本の熱電対の素線４の先端は、溶接され、熱電対の素線の先端の絶縁層５によって覆われてから、高周波ケーブル３及び電極２と絶縁で設けられている。

図２に示されるように、この実施例において、アウタチューブ１における何れかの管腔には、定型ワイヤ７が設けられている。定型ワイヤ７は、電極支持体の波紋状を支持するように電極支持体の変形領域部に固定されている。勿論、電極支持体が直接波紋状に定型されているため、定型ワイヤ７が省略されてもよい。例えば、記憶合金又は高分子材料でアウタチューブを作製する場合、アウタチューブが直接定型されてもよく、定型ワイヤ７を設けることが省略される。

図２に示されるように、電極支持体及び接続カテーテル１０内には、支持密着調節ワイヤ６を収納するための管腔がそれぞれ設けられている。電極支持体及び接続カテーテルの対応する管腔内には支持密着調節ワイヤ６が設けられている。支持密着調節ワイヤ６は、電極支持体及び接続カテーテルの対応する管腔内において前後を摺動可能である。支持密着調節ワイヤ６を収納するための管腔は、電極支持体及び接続カテーテルの中心管腔であってもよく、中心周囲に分布している複数の管腔のうちの一つであってもよい。図３に示されるように、支持密着調節ワイヤ６の先端は、電極支持体の前端外に規制され、電極支持体の前端に対して摺動可能である。支持密着調節ワイヤ６の先端には、カメラ６３が設けられている。支持密着調節ワイヤ６の末端は、接続カテーテル１０の中心管腔又は他の管腔を通過し、支持密着調節ワイヤ６の前後移動を制御するための制御ハンドル２０に固定されている。

図５Ａ及び図５Ｂに示されるように、制御ハンドル２０にはボタン制御部品２２が設けられている。支持密着調節ワイヤ６の末端は、ボタン制御部品２２に固定されている。ボタン移動部品２２の制御ハンドル２０における位置を変更することによって、支持密着調節ワイヤ６は前後移動するように制御されている。

本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテルは、支持密着調節ワイヤ６の構造を改良することにより、ガイドカテーテル／シースを介さないという前提で、略直線状になるように、電極支持体の直径の変化を図り、ガイドカテーテル／シース及び対象管腔に挿入しやすくなると同時に、対象管腔に到達した後に、支持密着調節ワイヤ６を後方に引くことにより、電極支持体を波紋状に復元させてもよい。具体的に、図６に示されるように、この高周波アブレーションカテーテルでは、支持密着調節ワイヤ６は、制御ハンドル２０から離間する軟性部６１（先端に接近する）と制御ハンドル２０に接近する剛性部６２（末端に接近する）との両方を有する。軟性部６１の長さは、電極支持体のアウタチューブ１の長さ以上であることが好適である。勿論、特別な場合に、軟性部６１の長さも電極支持体のアウタチューブ１の長さよりも小さくなってもよい。制御ハンドル２０で支持密着調節ワイヤ６と電極支持体との重合領域を変更することにより、電極支持体の波紋部の直径が変更されてもよい。

図５Ａ及び図３に示されるように、支持密着調節ワイヤ６を前方へ押すことで、その剛性部６２を電極支持体内に位置させて軟性部６１を電極支持体の前端から露出させるように支持密着調節ワイヤ６を前方へ移動させる場合、電極支持体の波紋状は、支持密着調節ワイヤ６の剛性部６２の作用によって、直径が小さくなり、長さが大きくなり、略直線状になっている。好適な場合に、電極支持体は、図３に示されるような直線状を呈してもよい。図５Ｂに示されるように、支持密着調節ワイヤ６を後方に引くことで、その軟性部６１が電極支持体に入り込むように支持密着調節ワイヤ６を後退させる場合、電極支持体は、電極支持体内に剛性部６２がなくなり軟性部６１だけがある時（図１Ａ参照）まで、軟性部６１の入り込みに従って徐々に曲がっている。電極支持体は、波紋状に復元している。勿論、軟性部６１の一部領域を電極支持体の前段と重ね合わせ、剛性部６２の一部領域を電極支持体の後段と重ね合わせてもよい。この場合、電極支持体の前段と軟性部との重合領域は、波紋状に復元され、後段と剛性部との重合領域は、依然として略直線状になっている。設計によって、複数の波紋が異なる直径を有するようになっている。その後、支持密着調節ワイヤ６の剛性部６２と波紋型電極支持体との重合領域を制御することにより、波紋型電極支持体は、直径の異なる血管で密着を実現することができる。つまり、この高周波アブレーションカテーテルでは、その剛性部６２を電極支持体のアウターチューブ１と重ね合わせるように支持密着調節ワイヤ６の前方への移動を制御することで、ガイドカテーテル／シース又は対象管腔に適宜に入り込むように電極支持体の波紋部の直径を小さくすることができる。同時に、電極支持体が対象管腔内に到達すると、支持密着調節ワイヤ６を後方に引いて、その軟性部６２を電極支持体のアウターチューブ１と重ね合わせることで、電極支持体は波紋状に復元し、密着を実現することができる。ボタン制御部品２２の制御ハンドル２０における位置については、図５Ａ及び図５Ｂに示されるように、ボタン移動部品２２が左側の位置に移動する時に、軟性部６１は露出し、剛性部６２は電極支持体のアウターチューブ１と重なり合っている。ボタン移動部品２２が右側の位置に移動する時に、支持密着調節ワイヤ６の軟性部６１は電極支持体のアウターチューブ１と重なり合っている。

電極支持体が自然に拡張して密着された後に、さらに支持密着調節ワイヤ６を引くことで、電極２を管壁に緊密に接触させて電極２の密着状態を改良するように、電極２の密着状況を微調節できる。上記高周波アブレーションカテーテルは、支持密着調節ワイヤ６が電極支持体内に設けられ、支持密着調節ワイヤ６の軟性部６１が電極支持体のアウターチューブと重なり合ってから、再び支持密着調節ワイヤ６を引き、支持密着調節ワイヤ６の可動幅が小さくなるので、電極支持体の形状だけを微調節することに用いられている。高周波アブレーションカテーテルを選択する時に、波紋部の直径が対象管腔の直径よりも大きくなり又は近くなる高周波アブレーションカテーテルを選択することが提案されている。このように、電極支持体が対象管腔において自動的に展開して波紋状に復元する中、血管壁の作用によって、緊密な密着が可能になる。上記高周波アブレーションカテーテルは、直径が波紋部の最初の直径以下となる対象管腔に対して良好な密着効果を有する。

また、本発明から、支持密着調節ワイヤ６と密着調節ワイヤ８が同時に設けられた高周波アブレーションカテーテルが提供されている。そのうち、密着調節ワイヤ８は、後段が接続カテーテル１０における何れかの管腔内に摺動可能に設けられ、かつその後端が制御ハンドル２０に挿入した後に、制御ハンドル２０に設けられた制御部品と接続され、或いは、その後端が制御ハンドル２０を通過した後に外付けの制御部品と接続されている。密着調節ワイヤ８の前段は、電極支持体外に突き抜けた後に、波紋に設けられた一つ又は複数の孔を経由したり、複数の波紋を迂回した後に、その前端が電極支持体内に戻って固定されている。密着調節ワイヤ８を後方に引いて、直径の異なる血管に適するように波紋部の直径を大きい範囲内に変更することができる。この場合、電極支持体の波紋状の最初の直径は、対象管腔の直径よりも小さくなってもよい。支持密着調節ワイヤ６と密着調節ワイヤ８が同時に設けられた高周波アブレーションカテーテルの具体的な構成は、第５実施例乃至第７実施例を参照してもよい。そのうち、密着調節ワイヤ８は、別途に設ける細いワイヤであってもよい。密着調節ワイヤ８も、支持密着調節ワイヤ６から分岐された細いワイヤの分岐部であってもよい。密着調節ワイヤ８が設けられているという内容については、以下、具体的な実施例に基づいて詳述する。ここにて、取りあえず展開して述べない。

以下、図６乃至図８に基づいて、本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおいて使用可能な支持密着調節ワイヤ６の具体的な構成を詳細に説明する。

支持密着調節ワイヤ６は、制御ハンドル２０から離間する軟性部６１（先端に接近する）と制御ハンドル２０に接近する剛性部６２（靠近末端）との両方を有する。支持密着調節ワイヤ６は、高分子材又は金属材で作製されてもよく、ワイヤ材又は管材であってもよい。そのうち、図６に示されるように、支持密着調節ワイヤ６の軟性部６１は、細いワイヤで螺旋状に作製されてもよい。剛性部６２は、直径が相対的に大きく又は高い剛度を有するワイヤ材で作製されてもよい。図７に示されるように、支持密着調節ワイヤ６の軟性部６１および剛性部６２は、同じ種類のワイヤ材において異なる直径によって、軟性や剛性に関する要求を満たすことができる。支持密着調節ワイヤ６も、前段が軟性となって後段が剛性となるという要求を満たすように、剛度の異なる材料で組付けられてなってもよい。図８に示されるように、支持密着調節ワイヤ６も剛性材を１本採用し、前段を溝、孔等への加工によって軟性部６１とすることができる。或いは、支持密着調節ワイヤ６も軟性材を１本採用し、後段を組付アウタスリーブを組み付けることによって剛性部６２とすることができる。勿論、支持密着調節ワイヤ６の軟性部及び剛性部も、例えばチューブ又はばねで軟性部６１を作製するような他の実現形態を有してもよい。

図６〜８に示されるように、支持密着調節ワイヤ６の先端には、対象管腔の内部を即時撮像するカメラ６３が設けられてもよい。同時に、支持密着調節ワイヤ６の前端には、フレキシブルガイドワイヤがさらに設けられてもよい。フレキシブルガイドワイヤは、図７に示されるストレートヘッド型フレキシブルガイドワイヤ６４であってもよく、図８に示されるエルボ型フレキシブルガイドワイヤ６５であってもよい。これにより、この高周波アブレーションカテーテルは、ガイドカテーテル／シースを省略し、直接血管に入ることが可能となる。手術の操作は簡素化された。

（第２実施例乃至第４実施例）
図９Ａ及び図９Ｂに示される第２実施例では、２つずつの円弧波が、１つの平面に位置しているため、複数の波紋は、その側面投影面に図９Ｂに示される発散状を呈している。複数の電極２は、それぞれ各波紋に分布してもよく、そのうち、電極２を波紋の山／谷に設けることが好適である。図９Ｂに示される側面模式図から分かるように、この実施例では、波紋型電極支持体における各波紋は、その側面投影面に互いに交差するように分布し、複数の電極２は、それぞれ各山（又は谷と称される）に設けられている。各波紋が同じ角度で互いに交差している場合、複数の電極２は、電極支持体の側投影面に円周方向に沿って均一に分布し、即ち、対象管腔の外周に略円周に分布してもよい。勿論、各波紋の相互交差角度が一致していない場合、複数の電極２は、電極支持体の側投影面に円周方向に沿って不均一に分布してもよい。そして、電極支持体が長い場合、電極支持体の長さ方向の複数の波紋も一定の規則又はランダムに繰り返されてもよいため、複数の電極２は、電極支持体の側投影面に重なってもよい。

図１０Ａ及び図１０Ｂに示される第３実施例では、波紋型電極支持体は、複数の円弧波からなっているが、複数の波紋の全てが異なる平面に位置している。複数の電極が、それぞれ個別の円弧波の山に位置しているため、複数の電極の側投影面が対象管腔の円周方向に分布するようになっている。この場合、アブレーションが一回完成された後，カテーテルを直接移動させて対象管腔の他の部位に対してアブレーションを行うことができる。

図１１Ａ及び図１１Ｂに示される第４実施例では、波紋型電極支持体の複数の波紋の全てが異なる平面に位置している。なお、複数の波紋は、略螺旋型のように分布している。複数の電極がそれぞれ個別の波紋の山に位置しているため、複数の電極は、対象管腔の円周方向に分布するようになっている。この実施例では、複数の波紋は、一周又は複数周の螺旋型のように分布してもよい。

上記４つの実施例をまとめて分かるように、波紋型電極支持体における複数の波紋の形状は、複数線分の直線からなる三角波であってもよく、或いは、複数線分の円弧からなる円弧波（図９Ａ及び１０Ａ参照）、正弦波（図１Ａ参照）であってもよく、或いは、直線と曲線とからなる台形波又は他の未図示の波紋における何れか１つであってもよい。複数の波紋は、同一の平面に分布してもよく、異なる平面に分布してもよく、ひいては、複数の波紋も、略螺旋型に取り巻いてもよいため、電極は、円周方向に分布するようになっている。複数の波紋が同一の平面に分布しているのに対して、複数の波紋が異なる平面に分布している場合、実際のアブレーション手術では、波紋型電極支持体は、対象管腔において任意の方向に密着することができる。また、上記図示した実施例では、同一の電極支持体で波紋状を構成する複数の波紋の形状が同じである。勿論、波紋状を構成する複数の波紋の形状及びサイズも異なってもよく、各波紋の形態、間隔、山の位置、谷の位置等がそれぞれ異なってもよい。サイズの異なる波紋で波紋型電極支持体を構成するときに、密着状態を調節する場合、一部領域の波紋のサイズを調節することで一部電極の密着状態を調節することができると同時に、他の領域の形態は調節しなくてもよい。このように異なる波紋からなる波紋型電極支持体の密着調節方式は、その異なる領域を電極支持体と重ね合わせるように支持密着調節ワイヤ６を引くことによって実現されてもよく、密着調節ワイヤ８を引くことによって実現されてもよい。詳細は、下記第８実施例から提供される複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ８の構成及び密着調節方式についての案内を参照してもよい。

上記をまとめ、上記波紋型高周波アブレーションカテーテル内には軟性部と剛性部を有する支持密着調節ワイヤが設けられていることにより、ガイドカテーテル／シースを介さないという前提で、シース／対象管腔に入り込みやすくするように、電極支持体の直径の変化を実現することができる。なお、対象管腔に入り込んだ後、電極支持体の一部又は全部の領域を選択的に波紋状に復元することができる。

（第５実施例）
図１２Ａ乃至図１７から分かるように、この実施例から提供される高周波アブレーションカテーテルでは、電極支持体のアウタチューブ１と接続カテーテル１０内には密着調節ワイヤ８を収納する管腔がさらに設けられている。密着調節ワイヤ８の後段は、接続カテーテルにおける何れかの管腔内に摺動可能に設けられてもよく、かつその後端８０が制御ハンドル２０外に設けられた制御部品２３に接続されている（図１７参照）。密着調節ワイヤ８は、接続カテーテルの管腔内を前後に摺動可能である。密着調節ワイヤ８を収納するための管腔は、中心管腔であってもよく、中心管腔の周辺に分布している複数の偏心管腔のうちの一つであってもよい。図１２Ａに示されるように、密着調節ワイヤ８の前段は、電極支持体の後端に近い孔から電極支持体外に突き抜け、異なる波紋に設けられた複数の孔を経由し、最後に、その前端が電極支持体の前端に接近する孔から電極支持体内に戻って固定されている。密着調節ワイヤ６は、異なる波紋に設けられた孔を摺動可能である。

密着調節ワイヤ８の前端は、固定位置が異なってもよく、電極支持体の前端に固定されてもよく、支持密着調節ワイヤ６の前端に固定されてもよく、さらに、定型ワイヤ７に固定されてもよく、或いは、電極支持体２及び接続カテーテル内の対応する管腔を経由した後，密着調節ワイヤ８の後端８０とともに制御部品２３に固定されたり、制御ハンドル２０のケースに固定されてもよい。

具体的に、図１５に示される構造において、密着調節ワイヤ８の前端は、電極支持体前端に近い孔１１から電極支持体２内に戻った後に、電極支持体及び接続カテーテル内の管腔を経由して、密着調節ワイヤ８の後端とともに接続カテーテルの後端に戻り、制御ハンドル２０のケース又は制御部品２２に設けられている。つまり、密着調節ワイヤ８の前端と後端が図１７に示されるような同一の制御部品２３に固定され、或いは、密着調節ワイヤ８の前端と後端は、その一端が制御ハンドル２０のケースに固定され、他端が制御部品２３に固定されてもよい。制御部品２３を引いて、それに従って密着調節ワイヤ８を後方に移動させることにより、電極支持体の直径は大きな範囲で変更されてもよい。

勿論、密着調節ワイヤ８の前端は、電極支持体の前端に簡易に固定されたり、支持密着調節ワイヤ６の前端又は支持密着調節ワイヤ６の電極支持体内に位置している何れかの部位に固定されたり、定型ワイヤ７における何れかの部位に固定され、或いは、密着調節ワイヤ８の前端は電極支持体の管腔に固定されてもよく、その前端に対して固定させる機能があっていればよい。密着調節ワイヤ８を後方に引くときに、密着調節ワイヤ８の作用によって、電極支持体は収縮変形を発生し、その波紋の直径が大きくなり、複数の波紋の軸方向の間隔が収縮するようになっている。密着調節ワイヤ８の前端が支持密着調節ワイヤ６又は定型ワイヤ７に固定されたときに、密着調節ワイヤ８と支持密着調節ワイヤ６／定型ワイヤ７は、同一の材質で作製してもよい。この場合、密着調節ワイヤ８は、支持密着調節ワイヤ６／定型ワイヤ７から後方へ分岐された細いワイヤであると捉えられてもよい。

例えば、図１８に示される構造では、密着調節ワイヤ８の前端は定型ワイヤ７の前端に固定されている。この場合、定型ワイヤ７と密着調節ワイヤ８は、同じ種類の細いワイヤで作製してもよい。密着調節ワイヤ８と定型ワイヤ７はそれぞれ、それら前端から後方へ分岐された２本の細いワイヤ分岐部であり、定型ワイヤ７に対応する分岐部が電極支持体における何れかの管腔に固定され、密着調節ワイヤ８に対応する分岐部の後段が電極支持体及び／又は接続カテーテルの管腔を摺動可能である。密着調節ワイヤ８と定型ワイヤ７が異なる材質で作製する （例えば定型ワイヤ７が管材を、密着調節ワイヤ８が細いワイヤを使用する） ときに、密着調節ワイヤ８の前端／前段と、定型ワイヤ７とは、溶接、かしめ、接着等の方式で組み付けられてもよい。

図１９Ａ乃至図１９Ｃに示される３種類の構造では、密着調節ワイヤ８の前端は支持密着調節ワイヤ６に固定され、図１９Ａに示されるように支持密着調節ワイヤ６の前端に固定されてもよく、図１９Ｂ及び１９Ｃに示されるように軟性部６１に固定されてもよい。支持密着調節ワイヤ６と密着調節ワイヤ８は、同じ種類の細いワイヤで作製してもよい。密着調節ワイヤ８と支持密着調節ワイヤ６はそれぞれ、それらの前端から後方へ分岐された２本の細いワイヤ分岐部であり、支持密着調節ワイヤ６に対応する分岐部と密着調節ワイヤ８に対応する分岐部はそれぞれ、電極支持体において異なる管腔に設けられてもよく、密着調節ワイヤ８に対応する分岐部の後段が突き抜けて電極支持体外を迂回して接続カテーテル内に戻った後、接続カテーテル内の管腔を通過し、接続カテーテルの後端に戻って対応する制御部品２３に固定されている。支持密着調節ワイヤ６に対応する分岐部と密着調節ワイヤ８に対応する分岐部は、電極支持体の同一の管腔内に設けられてもよい。密着調節ワイヤ８と支持密着調節ワイヤ６が異なる材質で作製されるときに、例えば、図１９Ｃに示されるように、支持密着調節ワイヤ６の軟性部６１がばねを使用し、密着調節ワイヤ８が細いワイヤを使用するときに、密着調節ワイヤ８の前端／前段と、支持密着調節ワイヤ６とは、溶接、かしめ、接着等の方式で組み付けられてもよい。

図１７から分かるように、この実施例では、制御ハンドル２０にはボタン制御部品２２が設けられ、制御ハンドル２０外には、密着調節ワイヤ８に接続するための制御部品２３が設けられている。支持密着調節ワイヤ６の末端６０が接続カテーテルを突き抜けた後、制御ハンドル２０に入り込み、ボタン制御部品２２に固定されている。密着調節ワイヤ８の末端８０が接続カテーテルを突き抜けた後、制御ハンドル２０に入り込み、制御ハンドル２０を通過した後、外付けの制御部品２３に固定されている。勿論、支持密着調節ワイヤ６に接続された制御部品２２も、外付けのように制御ハンドル２０外に設けられてもよく、支持密着調節ワイヤ６の後端が制御ハンドル２０を通過した後、外付けの制御部品２２に接続されている。同様に、制御部品２３も制御ハンドル２０に設けられてもよく、密着調節ワイヤ８が制御ハンドル２０に挿入してからそれと接続されている。

図１２Ａ乃至図１３Ｂには、密着調節ワイヤ８を有する波紋型高周波アブレーションカテーテルが直径の異なる対象管腔に入り込んだ場合の使用状態模式図が示されている。仮に、波紋状電極支持体がΦＢの最初の直径を有し、波紋部の長さがＡであるものとする。密着調節ワイヤ８を緩めることにより、密着調節ワイヤ８が緩んだ。この場合、支持密着調節ワイヤ６を前方へ移動させることで、カテーテル前端の波紋部は、長さが延長し、略直線状になり、対象管腔に入りこんでもよい。図１２Ａに示されるように、波紋型電極支持体がシースから細い血管内に入いり込んだ（仮に対象管腔の直径ΦＣが波紋状の最初直径ΦＢ以下である）ときに、支持密着調節ワイヤ６を後方に引くことで、その軟性部６１が電極支持体内に入り込み、電極支持体の波紋が自動的にほぼ対象管腔の直径ΦＣまで拡張している。複数の電極２は、電極支持体の自然拡張の作用によって、管壁に接触している。この場合、電極支持体の波紋部の長さが（Ａ-１）まで延長し、密着調節ワイヤ８をピンと張って電極２の密着状態を改良することができる。図１３Ａに示されるように、波紋型電極支持体がシース内から太い血管内に入いり込んだときに、仮に、対象管腔の直径が波紋状の最初直径ΦＢ以上であれば、電極支持体が自然に拡張した後、電極２が良好に密着することができない。この場合、密着調節ワイヤ８を後方に引くことで、電極支持体の波紋状の直径が対象管腔の直径ΦＤと等しくなり、又はそれよりやや大きくなるように増加してもよい（図１３Ｂ参照）。複数の電極２は、密着調節ワイヤ８の作用によって、管壁と緊密に接触している。この場合、電極支持体の波紋部の長さが（Ａ-２）まで縮小し、電極支持体に分布している複数の電極同士の軸方向の間隔が小さくなる。高周波が終了した後に、密着調節ワイヤ８を緩めることにより、電極支持体が緩んだ。その後、支持密着調節ワイヤ６を前方へ移動させることで、その剛性部６２が電極支持体内に入り込んだ。電極支持体が略直線状になっている。電極支持体がシースに入りやすくなるため、対象管腔で高周波アブレーションカテーテルを回転するように移動させたり、高周波アブレーションカテーテルを対象管腔から外部へ移動させることができる。

（第６実施例）
図２０及び図２１は、第６実施例における高周波アブレーションカテーテルの２種類の構造模式図である。この実施例では、密着調節ワイヤ８は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられている。その設置位置は、電極支持体のトップであってもよく、電極支持体の中心位置とトップ位置との間の任意の位置であってもよい。

図２０に示される構造では、密着調節ワイヤ８は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられている。密着調節ワイヤ６の前段は、電極支持体の後端に近い孔から突き抜けた後、複数の波紋を迂回してから、電極支持体の前端に近い孔から、電極支持体の前端に入った後、固定されている。

図２１に示される構造では、密着調節ワイヤ８は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられている。なお、密着調節ワイヤ８の前段は、電極支持体の後端に近い孔から突き抜けた後、波紋に設けられた孔を経由してから、電極支持体の前端に近い孔から電極支持体前端に入り込んだ後、固定されている。

図２１に示される高周波アブレーションカテーテルでは、電極支持体は、２つの波紋を有し、かつ密着調節ワイヤ８は偏心して設けられている。そのうち、密着調節ワイヤ８は、１本のワイヤを採用してもよく、２本のワイヤを採用してもよい。

図２２に示される構造では、密着調節ワイヤ８は、１本のワイヤであり、その後段が接続カテーテル内の管腔から制御ハンドル２０に戻って、その後端が制御ハンドル２０に設けられた制御部品又は外付けの制御部品に固定され、その中央部が電極支持体の後端に近い孔１２から突き抜けた後、それぞれ ２つの波紋間の中央に設けられた山における孔１３及び孔１４に２か所で固定され、その前端が電極支持体の前端に近い孔１１から電極支持体内に入り込み、電極支持体及び接続カテーテル内の管腔を経由して接続カテーテルの後端に戻って、その後端とともに同一の制御部品に固定されたり、後端とともに別々に各々の制御部品に設けられている。このような構造では、密着調節ワイヤ８の前端及び後端は、共に接続カテーテル内の管腔を通過し、かつその前端及び後端はそれぞれ、各々に対応する制御部品（対応制御部品と略称）に固定されている。２つの対応制御部品は、共に制御ハンドル２０に設けられたり、制御ハンドル２０外に設けられてもよく、或いは、２つの対応制御部品も、一方が制御ハンドル２０に設けられ、他方が制御ハンドル２０外に設けられてもよい。２つの対応制御部品のそれぞれで密着調節ワイヤ８の前段及び後段を制御することにより、２つの波紋の収縮度合が別々に調節されてもよい。そして、密着調節ワイヤ８の前端及び後端も共に同一の制御部品に固定されてもよい。同一の制御部品によって、２つの波紋の収縮度合が同時に制御されている。

図２３及び図２４に示されるように、図２１に示される構造では、密着調節ワイヤ８も２つの波紋をそれぞれ調節する２本のワイヤ８Ａ、８Ｂからなってもよい。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋の一端に固定され、他端は対応する波紋を迂回した後、波紋の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、制御ハンドルに設けられた対応制御部品又は外付けの対応制御部品に固定されている。

図２３では、細いワイヤ８Ａの前端は、２つの波紋間に設けられた孔１３に固定され、後端は左側の波紋を迂回した後、電極支持体の前端に近い孔１１を経由して電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。細いワイヤ８Ｂの前端は、２つの波紋間に設けられた別の孔１４に固定され、後端は右側の波紋を迂回した後、電極支持体の後端に近い孔１２を経由して電極支持体内に戻って、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。図２４では、細いワイヤ８Ｂの設置が図２３の設置と同じである。細いワイヤ８Ａの前端は電極支持体の前端に近い孔１１に固定され、後端は左側の波紋を迂回した後、２つの波紋間に設けられた孔１３を経由して電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。細いワイヤ８Ａ、８Ｂにそれぞれ固定された２つの対応制御部品は共に制御ハンドル２０に設けられたり、制御ハンドル２０外に設けられてもよい。密着調節ワイヤ８Ａ、８Ｂは、それぞれ２つの波紋の収縮度合を制御するためのものである。２つの対応制御部品で密着調節ワイヤ８Ａ、８Ｂをそれぞれ制御することで、２つの波紋の収縮度合を別々に調節することができる。また、細いワイヤ８Ａと細いワイヤ８Ｂとの対応制御部品も同一の制御部品であってもよい。

（第７実施例）
図２５及び図２６に示される第７実施例では、密着調節ワイヤ８は、それぞれ１つの波紋及び一部の波紋（即ち、１つの波紋部）を調節するための２本のワイヤ８Ａ’、８Ｂ’である。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端は対応する波紋／波紋部を迂回した後、波紋／波紋部の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。図２６に示されるように、細いワイヤ８Ａ’、８Ｂ’の前端は共に電極支持体の前端に近い孔１１に固定され、２本の細いワイヤの後端８０は、それぞれ２つの波紋間に設けられた孔１３と電極支持体後端に近い孔１２を経由して電極支持体内に戻り、最後に対応制御部品に固定されている。細いワイヤ８Ａ’は、電極支持体の前端に近い個別波紋の収縮度合を制御し、細いワイヤ８Ｂ’は、波紋部全体を制御する。図示しない実施例では、波紋部全体は、２つの波紋を含み、即ち、細いワイヤ８Ｂ’は、２つの波紋の収縮度合を制御する。細いワイヤ８Ｂ’に応じて調節される波紋部は、細いワイヤ８Ａ’に応じて調節される個別波紋を含む。当該実施例では、２本のワイヤの後端にそれぞれ接続する対応制御部品は、同一の制御部品であってもよい。

第６実施例及び第７実施例から分かるように、電極支持体が２つ以上の波紋を有するときに、密着調節ワイヤ８は、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなってもよい。複数本のワイヤは、それぞれ電極支持体における１つ又は一部の波紋を調節する。一部の波紋には２つ又は２つ以上の複数の波紋が含まれている。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端は対応する波紋／波紋部を迂回した後、波紋／波紋部の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して対応制御部品に固定されている。１本のワイヤが個別の波紋を調節するときに、その前端は、この波紋の一端に固定され、後端は、この波紋の他端に設けられた孔から電極支持体内に挿入している。１本のワイヤが、何れかの一部の波紋を調節するときに、その前端は、この一部の波紋の一端に固定され、後端は、この一部の波紋の他端の孔から電極支持体内に挿入している。上記複数本のワイヤによりそれぞれ制御される複数の一部の波紋同士が重なってもよい。図２３及び図２４に示される構造は、密着調節ワイヤが２本のワイヤを有し、２本のワイヤがそれぞれ調節電極支持体における２つの波紋を調節するための構造例である。図２５及び図２６に示される第７実施例の構造は、密着調節ワイヤ８がそれぞれ電極支持体における１つの波紋及び一部の波紋を調節する２本のワイヤを有する構造例である。

複数の制御部品を使用して電極支持体において異なる波紋部をそれぞれ制御するときに、この高周波アブレーションカテーテルが対象位置に入った後、必要に応じて、電極支持体の対応波紋部を分段拡張してもよく、即ち、高周波が必要な波紋部の直径だけを変更し、電極支持体において異なる波紋部の直径を調節する場合の柔軟性を大きくし、高周波アブレーションカテーテル密着調節の難易度を低下することができる。

また、上記複数本のワイヤの後端は、同一の制御部品に固定されてもよい。同一の制御部品によって、上記複数本のワイヤが共に制御されている。

（第８実施例）
図２７に示されるように、本実施例から提供される高周波アブレーションカテーテルの電極支持体は、複数のサイズの異なる波紋からなっている。そのうち、波紋の全てのサイズが共に異なってもよく、一部の波紋が同一のサイズを採用し、その他の波紋が別のサイズを採用してもよい。

複数の波紋は、電極支持体の前端から後端へ順次逓増するサイズで設けられてもよい。支持密着調節ワイヤ６を引くことで、軟性部６１の一部領域と電極支持体の前段との重合を制御することができる。剛性部６２の一部領域が電極支持体の後段と重なり合っている。この場合、電極支持体の前段領域が波紋状に復元し、後段領域が依然として略直線になっているため、電極支持体は、直径の異なる血管内で密着されている。例えば、アブレーションされる対象場所の直径が小いときに、この場合、支持密着調節ワイヤ６を引くことで、軟性部６１の一部領域と電極支持体の前段とを重ね合わせ、剛性部６２の一部領域と電極支持体の後段とを重ね合わせることができる。密着調節ワイヤ８を引くことで、電極の密着を良好にすることができる。この場合、直径の小さい対象管腔をアブレーションすることができる。アブレーションされる対象場所の直径が大きいときに、支持密着調節ワイヤ６を引くことで、軟性部６１と電極支持体全体とを重ね合わせ、剛性部６２を接続カテーテル内に後退させることができる。この場合、密着調節ワイヤ８を引くことで、電極密着状態を改良することができる。この場合、直径の大きい対象管腔をアブレーションすることができる。

この高周波アブレーションカテーテルには複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ８が設けられているときに、異なるワイヤは、それぞれ電極支持体の異なる部分を制御し、異なるワイヤを引くことで、波紋部に対応する領域の波紋のサイズを変更し、電極支持体の部分的な密着を実現することができる。複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ８の具体的な設置方式は、第６実施例及び第７実施例を参照してもよい。ここで、再び重複しない。

複数の波紋が電極支持体の前端から後端に順次逓増するサイズで設けられているときに、この電極支持体を使用する高周波アブレーションカテーテルは、対象管腔の直径がますます小さくなる状況に適用してもよい。例えば、この高周波アブレーションカテーテルを使用して直径の大きな血管から直径の小さい分岐された血管に入りこんでアブレーションを行ってもよい。この場合、小径の波紋部に対応する複数本のワイヤを制御することで、小径の波紋部を良好に密着させ、小径の波紋部で分岐された小さい血管に対してアブレーションを行うことができる。或いは、複数本のワイヤを制御することで、大径の波紋部と小径の波紋部を同時に密着させ、大きな血管と小さな血管に対してアブレーションを同時に行ったり、前後にアブレーションを行う。

同様に、電極支持体を構成する複数の波紋も、電極支持体の前端から後端へ順次逓減するサイズで設けられてもよい。複数の波紋が電極支持体の前端から後端へ順次逓減するサイズで設けられた場合と同様に、支持密着調節ワイヤ６において異なる領域を電極支持体と重ね合わせるように制御することで、電極支持体における波紋部の直径を変更し、高周波アブレーションカテーテルによる異なる直径の血管内のアブレーションを実現することができる。この高周波アブレーションカテーテルには複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ８が同時に設けられているときに、異なるワイヤは、それぞれ電極支持体において異なる部分を制御し、異なるワイヤを引くことで、波紋部に対応する領域の波紋サイズを変更し、電極支持体の部分的な密着を実現することができる。複数の波紋が電極支持体の前端から後端へ順次逓減するサイズで設けられているときに、この電極支持体を使用した高周波アブレーションカテーテルは、対象管腔の直径がますます大きくなる状況に適用してもよい。例えば、「尿道システムによる腎盂領域の交感神経除去アブレーション術」に適用し、高周波アブレーションカテーテルは、尿道を経由して膀胱に入り込み、さらに輸卵管に入り込み、腎盂領域に到達し、この場合、密着調節ワイヤを調節することで、大径の波紋部と腎盂領域を良好に密着させ、小径の波紋部と輸卵管を良好に密着させ、輸卵管及び腎盂領域近傍の交感神経に対してアブレーションを同時に行う。

上記をまとめ、波紋型高周波アブレーションカテーテルには軟性部及び剛性部を有する支持密着調節ワイヤが設けられ、密着調節ワイヤを前方へ移動させることで、その剛性部を電極支持体と重ね合わせ、直線状になるように電極支持体の形態を変更し、高周波アブレーションカテーテルがシース又は対象管腔に入り込みやすくなる。なお、高周波アブレーションカテーテルが対象管腔に入り込んだ後、密着調節ワイヤを後方へ引いてその軟性部を電極支持体と重ね合わせることで、電極支持体は波紋状に復元し、密着を実現した。より良い密着効果を奏して直径の異なる血管に適応できるために、波紋型高周波アブレーションカテーテルには密着調節ワイヤがさらに設けられてもよい。密着調節ワイヤを後方へ引くことで、電極支持体の波紋状の直径を変更することができる。なお、上記密着調節ワイヤも複数本のワイヤの構造を採用し、高周波アブレーションカテーテルにおいて異なる波紋部の各々の制御を実現し、直径調節の難易度を簡素化することができる。

実際の臨床治療にあたって、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテル及び高周波アブレーション機器は、異なる部位、複数種類の異なる直径の血管又は気管の神経アブレーションに適用し、例えば、腎動脈内の神経アブレーションによる難治性高血圧患者の治療に適用し、腹腔動脈内の神経アブレーションによる糖尿病患者の治療に適用し、さらに、気管／気管支の交感神経分岐のアブレーションによる哮喘患者の治療に適用し、十二指腸の交感神経分岐のアブレーションによる十二指腸の潰瘍患者の治療に適用し、或いは、腎盂、肺動脈などにおける他の血管又は気管内の神経アブレーションに用いられてもよい。説明すると、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテルは、臨床治療にあたって上記列挙された適用に限られず、他の部位の神経アブレーションに用いられてもよい。

以上、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテルについて説明した。本発明は、上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器を同時に提供している。この高周波アブレーション機器は、上記波紋型高周波アブレーションカテーテルを含む他、上記高周波アブレーションカテーテルに接続した高周波アブレーションホストをさらに含む。そのうち、電極支持体における支持密着調節ワイヤ及び密着調節ワイヤは、接続カテーテルを通過した後に制御ハンドルに対応的に接続し、制御ハンドルで密着調節ワイヤを引くことで、電極支持体を異なる直径の対象管腔に良く密着するように電極支持体の形状を変更することができる。なお、電極支持体における高周波ケーブル、熱電対の素線はそれぞれ、接続カテーテルを通過して高周波アブレーションホストにおいて対応する回路に接続し、高周波アブレーションホストの複数の電極への高周波制御及び温度のモニタリングを実現した。制御ハンドルの設置及び高周波アブレーションホストの設置は、開示された本出願人の先行特許出願を参照してもよいので、ここでその具体的な構造について詳細に述べない。

以上、本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテル及びその機器を詳細に説明した。当業者にとって、本発明の実質的な精神を逸脱しないという前提でなされた如何なる自明な変更は、本発明の請求の範囲に属するものとする。

Claims (22)

1. 長尺状の接続カテーテルを有し、
   前記接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、前記接続カテーテルの後端には制御ハンドルが設けられている、波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、
   前記電極支持体は１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極が分布し、
   前記電極支持体と前記接続カテーテルとにおける何れかの管腔内には、摺動可能な支持密着調節ワイヤが設けられ、前記支持密着調節ワイヤは、制御ハンドルから離間する軟性部と、制御ハンドルに接近する剛性部とに分けられ、
   前記支持密着調節ワイヤの先端は、前記電極支持体の前端外に規制され、前記電極支持体の前端に対して摺動可能であり、
   前記支持密着調節ワイヤの末端は、前記制御ハンドルに設けられた制御部品に固定されたり、外付けの制御部品に固定されており、前記制御部品は、前記支持密着調節ワイヤの前後移動を制御するためのものであり、
   前記支持密着調節ワイヤの剛性部が前記電極支持体内にある場合、前記電極支持体と前記剛性部が重なり合っている部位が略直線状になり、
   前記支持密着調節ワイヤの軟性部が前記電極支持体内にある場合、前記電極支持体と前記軟性部とが重なり合っている部位が波紋状になっていることを特徴とする波紋型高周波アブレーションカテーテル。
2. 前記軟性部は、前記剛性部よりも直径又は剛度が小さい細いワイヤによって作製され、前記軟性部と前記剛性部は、一体成形されたり、直径の異なる２本の細いワイヤによって組み付けられてなることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
3. 前記軟性部は、ばね構造又はホース構造を用いていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
4. 前記支持密着調節ワイヤの軟性部と剛性部は、同一の剛性材によって作製され、前段が溝、孔を加工して軟性部になっており、
   或いは、前記支持密着調節ワイヤの軟性部と剛性部は、同一の軟性材によって作製され、後段がアウタスリーブを組み付けて剛性部になっていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
5. 前記波紋の形状は、複数線分の直線によって構成される折線からなり、或いは、複数線分の曲線からなり、或いは、曲線と直線とからなっていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
6. 前記電極支持体を構成する複数の波紋は、形状とサイズが異なっていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
7. 前記電極支持体を構成する複数の波紋は、電極支持体の前端から後端に向かって順次逓増するサイズで設けられ、或いは、前記電極支持体を構成する複数の波紋は、電極支持体の前端から後端に向かって順次逓減するサイズで設けられていることを特徴とする請求項６に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
8. 前記電極は、前記波紋の山／谷に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
9. 前記支持密着調節ワイヤの先端には、カメラ及び／又はフレキシブルガイドワイヤが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
10. 前記電極支持体内に設けられた定型ワイヤをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
11. 密着調節ワイヤがさらに設けられ、
    前記密着調節ワイヤの後段は、前記接続カテーテルにおける何れかの管腔内に摺動可能に設けられ、その後端が前記制御ハンドルに設けれた制御部品に接続されたり、外付けの制御部品に接続され、
    前記密着調節ワイヤの前段は、前記電極支持体を突き抜けた後、前記波紋に設けられた１つ又は複数の孔を経由し、或いは、複数の波紋を迂回した後に、その前端が電極支持体内に戻って固定されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
12. 前記密着調節ワイヤの前端は、電極支持体内に戻った後、前記電極支持体と前記接続カテーテル内における管腔を経由して接続カテーテルの後端に戻り、前記制御ハンドルに固定されたり、前記制御部品に固定されていることを特徴とする請求項１１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
13. 前記密着調節ワイヤの前端は、前記電極支持体の前端に固定されていることを特徴とする請求項１１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
14. 前記密着調節ワイヤの前端は、前記支持密着調節ワイヤに固定され、
    或いは、前記密着調節ワイヤは、前記支持密着調節ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤであることを特徴とする請求項１１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
15. 前記電極支持体内に設けられている定型ワイヤをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
16. 前記密着調節ワイヤの前端は、前記定型ワイヤに固定され、
    或いは、前記密着調節ワイヤは、前記定型ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤであることを特徴とする請求項１５に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
17. 前記密着調節ワイヤは、前記電極支持体に対して偏心して設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
18. 密着調節ワイヤがさらに設けられ、
    前記密着調節ワイヤは、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなり、複数本のワイヤは、それぞれ前記電極支持体における１つ又は一部の波紋を調整するためのものであり、一部の波紋が２つ及び２つ以上の複数の波紋を含み、各ワイヤの前端がそれぞれ対応する波紋又は波紋部の一端に固定され、他端が波紋／波紋部を迂回した後、電極支持体内と接続カテーテル内とにおける管腔を経由した後、前記制御ハンドルに設けられている対応する制御部品又は外付けの制御部品に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
19. 前記複数本のワイヤに対応する制御部品は、同一の制御部品であることを特徴とする請求項１８に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
20. 前記複数本のワイヤによりそれぞれ制御された複数部分の波紋同士が重なっていることを特徴とする請求項１８に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
21. 前記電極支持体は、アウタチューブを含み、前記アウタチューブの外周には電極が嵌設され、前記アウタチューブ内には１つ又は複数の管腔が設けられ、一部の管腔のそれぞれには、熱電対の素線と高周波ケーブルが１組設けられ、
    各々の前記電極内には、高周波ケーブルと熱電対の素線が１組設けられ，前記高周波ケーブルは、前記電極に接続され、前記熱電対の素線は前記電極と絶縁で設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
22. 請求項１から請求項２１の何れか一項に記載の高周波アブレーションカテーテルと、前記高周波アブレーションカテーテルに接続された高周波アブレーションホストとを含むことを特徴とする高周波アブレーション機器。

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