JP2018512263A - 別個の基板iiをテクスチャリングするための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
−ラッカの所定の粘度およびインプリントの所定の速度において、十分に高速な空気の除去を実現する、機能領域におけるテクスチャの形状、
−インプリントの所定の速度および機能領域におけるテクスチャの所定の形状において、ラッカが十分に高速に開口部へと流れるようにするために、十分に低くなければならないラッカの粘度、
−機能領域におけるテクスチャの所定の形状およびラッカの所定の粘度において、ラッカが機能領域の開口部を満たすには十分な時間があるようにするために、十分に低くなければならないインプリント速度。
1)チャネルを備えていない機能領域におけるテクスチャと同じトラックピッチ、形状およびサイズを有している、マイクロチャネルまたはナノチャネルを備えている導入領域テクスチャ。この場合、外観は、確保されたより大きい部分のためのものである。1つの例では、機能領域507における反転された角錐アレイテクスチャが、同一のピッチ、角度および高さを備えている、導入領域601における、正反対の反転されていない角錐アレイテクスチャと組み合わされる。別の例は、型上の機能領域内の反転されたレンズ構造と同じトラックピッチ、レンズ高さおよびレンズ曲率を備えている、導入領域601における2Dレンズ状部材の使用である。
Claims (16)
- 別個の基板、例えばディスプレイ、ライティングパネルまたはソーラーパネルをテクスチャリングまたはパターニングするための少なくとも1つのローラを用いるロール・ツー・プレートプロセスであって、
インプリントラッカを連続的な層の形態で供給するステップと、
後側および前側を有している型を用いてインプリントラッカをテクスチャリングするステップであって、前記後側は、前記少なくとも1つのローラと摩擦接触しており、かつ前記前側は、インプリントされたラッカを得るために、開口部および隆起部によって形成されており、したがってインプリントテクスチャ内に容積を生じさせる機能領域を含んでいるインプリントテクスチャを示す、ステップと、
それに続くオプションとしての、テクスチャリングまたはパターニングされて凝固された層を得るために、前記インプリントされたラッカを硬化させるステップと、
を有している、ロール・ツー・プレートプロセスにおいて、
前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域と、前記導入領域に続く、前記導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている前記機能領域と、を含んでいるインプリントテクスチャを用いて実施する、
ことを特徴とする、ロール・ツー・プレートプロセス。 - 前記硬化を、熱的に実施する、かつ/または、UV光の適用によって実施することを特徴とする、
請求項1記載のプロセス。 - 前記型上の前記導入領域は、複数のチャネルを含んでいるテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項1または2記載のプロセス。 - 前記チャネルは、ブロック、バー、柱、レンズ状部材、格子、規則的な角錐、円錐および/またはレンズの形状であることを特徴とする、
請求項3記載のプロセス。 - 前記チャネルは、特定の様式で、例えばロゴ、テキスト、図形、バーコード、基準などとして配置されていることを特徴とする、
請求項4記載のプロセス。 - 前記導入領域は、1ミクロン未満のインプリントテクスチャ高さ変化を有している浅いテクスチャを有していることを特徴とする、
請求項1または2記載のプロセス。 - 前記導入領域は、平坦な表面であることを特徴とする、
請求項1または2記載のプロセス。 - 前記導入領域は、0.1mmから50mmまでの、有利には1mmから20mmまでの長さを有していることを特徴とする、
請求項1から7までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記導入領域は、前記機能領域と同じ幅を有していることを特徴とする、
請求項1から8までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記テクスチャリングまたは前記パターニングを、外面として、前記導入領域を備えたインプリントテクスチャを有しているスタンプを用いて、特にフレキシブルなスタンプを用いて実施することを特徴とする、
請求項1から9までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記スタンプは、ローラによって回転されるか、または、ガイドされることを特徴とする、
請求項1から10までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記導入領域は、チャネルを備えていない前記機能領域におけるテクスチャと同じトラックピッチ、形状およびサイズを有している、マイクロチャネルまたはナノチャネルを備えたテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項1から11までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記インプリントテクスチャは、インプリントプロセスが開始される前記機能領域の1つの辺においてガスを逃がすことができるテクスチャを備えた導入領域を含んでおり、
前記機能領域の1つまたは複数の別の辺は、前記導入領域のテクスチャと同じ見栄えのテクスチャを示すことを特徴とする、
請求項1から12までのいずれか1項記載のプロセス。 - 前記導入領域は、1ミクロン未満のインプリントテクスチャ高さ変化を有している浅いテクスチャ表面を示し、
インプリントテクスチャ高さ変化は、インプリントテクスチャ開口部と隆起部との間の高さに関する距離であることを特徴とする、
請求項1から13までのいずれか1項記載のプロセス。 - 少なくとも1つのローラを用いて別個の基板をロール・ツー・プレートでテクスチャリングまたはパターニングするためのフレキシブルなスタンプであって、
前記フレキシブルなスタンプは、少なくとも1つのローラによって搬送することができる程度にフレキシブルであり、かつ前記フレキシブルなスタンプは、外面としてインプリントテクスチャを含んでおり、前記インプリントテクスチャは、機能領域を含んでおり、前記機能領域は、開口部および隆起部によって形成されており、したがって前記インプリントテクスチャ内に容積が生じている、フレキシブルなスタンプにおいて、
前記インプリントテクスチャは、ガスを逃がすことができるテクスチャを備えている導入領域と、前記導入領域に続く、前記導入領域のテクスチャとは異なるテクスチャを備えている機能領域と、を含んでいることを特徴とする、
フレキシブルなスタンプ。 - 前記フレキシブルなスタンプは、0.1ギガパスカル(GPa)から10ギガパスカル(GPa)までのヤング率を示すことを特徴とする、
請求項15記載のフレキシブルなスタンプ。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019051507A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | キヤノン株式会社 | 平坦化プロセスおよび装置 |
US11656453B2 (en) | 2015-09-23 | 2023-05-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018027069A1 (en) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Roll-to-roll programmable film imprint lithography |
KR102448904B1 (ko) * | 2017-07-31 | 2022-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
US11204550B2 (en) * | 2018-01-26 | 2021-12-21 | Morphotonics Holding B.V. | Process and equipment for texturing discrete substrates |
EP3693714A1 (en) | 2019-02-11 | 2020-08-12 | Fresh Strips B.V. | Optical sensor based on shape memory between scattering and transparent modes |
EP4058845A1 (en) | 2019-11-12 | 2022-09-21 | Morphotonics Holding B.V. | Apparatus for a roll-to-plate imprinting process comprising a plate carrier with compensating material |
EP4189483A1 (en) * | 2020-07-31 | 2023-06-07 | Morphotonics Holding B.V. | Apparatus and process for replicating a texture |
CN113189840A (zh) * | 2021-04-16 | 2021-07-30 | 深圳先进技术研究院 | 微纳结构制作方法及微纳结构制作装置 |
WO2023069739A1 (en) * | 2021-10-22 | 2023-04-27 | Worcester Polytechnic Institute | Microchannel printing |
TW202332568A (zh) | 2021-11-15 | 2023-08-16 | 荷蘭商摩富塔尼克斯控股公司 | 壓印方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005525592A (ja) * | 2002-05-13 | 2005-08-25 | ゼットビーディー ディスプレイズ リミテッド | エンボス加工方法及び装置 |
JP2009536591A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 厚さが変化するテンプレート |
JP2011518060A (ja) * | 2008-04-18 | 2011-06-23 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | 不規則表面のウェッジインプリントパターニング |
JP2012146660A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Moser Baer India Ltd | フレキシブルスタンプを用いて剛性基板上にテクスチャーをインプリントする方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080114681A (ko) * | 2006-04-03 | 2008-12-31 | 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 | 리소그래피 임프린팅 시스템 |
TW200819546A (en) | 2006-10-30 | 2008-05-01 | Jinn P Chu | In-air micro and nanoimprint of bulk metallic glasses and a method for making the same |
JP4840668B2 (ja) | 2007-11-30 | 2011-12-21 | 綜研化学株式会社 | 熱インプリント用モールドおよびこのモールドを用いた光学素子の製造方法 |
CN101852986A (zh) * | 2009-03-30 | 2010-10-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 压印模具 |
KR101910974B1 (ko) * | 2011-12-13 | 2018-10-24 | 삼성전자주식회사 | 임프린팅 스탬프 및 이를 이용한 나노 임프린트 방법 |
BR112016010214A2 (pt) * | 2013-11-06 | 2017-08-08 | 3M Innovative Properties Co | ?estampas de impressão por microcontato com características funcionais? |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005525592A (ja) * | 2002-05-13 | 2005-08-25 | ゼットビーディー ディスプレイズ リミテッド | エンボス加工方法及び装置 |
JP2009536591A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 厚さが変化するテンプレート |
JP2011518060A (ja) * | 2008-04-18 | 2011-06-23 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | 不規則表面のウェッジインプリントパターニング |
JP2012146660A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Moser Baer India Ltd | フレキシブルスタンプを用いて剛性基板上にテクスチャーをインプリントする方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11656453B2 (en) | 2015-09-23 | 2023-05-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
JP2019051507A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | キヤノン株式会社 | 平坦化プロセスおよび装置 |
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