JP2018510486A - 青色発光層共通式画素配列方式及び有機el装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記有機EL装置は、前記正孔注入層に隣接して設けられた光学補償層をさらに含み、前記光学補償層の基板における投影は、前記黄色発光層の基板における投影の範囲内にあり、かつ黄色発光層の投影の一部が前記光学補償層の投影に被覆され、
前記光学補償層は、並設された黄色光学補償層と赤色光学補償層を含み、前記黄色光学補償層の厚さが前記赤色光学補償層の厚さより小さい。
式(2)において、R1−R6は同一でも異なってもよく、それぞれ独立してH、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアン基、ニトロ基、又は20個以下の炭素原子を有するカルボニル基を含むグループ、エステルカルボニル基を含むグループ、アルキレン基、アルケニル基、アルコキシ基、30個以下の炭素原子を有するチルシリル基を含むグループ、アリール基を含むグループ、複素環基を含むグループ、又はアミノ基を含むグループ又はその誘導体から選択される。
前記有機EL装置は、前記第1の電極層の下方に設けられたカラーフィルタをさらに含み、前記カラーフィルタの基板における投影は、前記黄色発光層の基板における投影と互いに重なり、前記カラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタ及び黄色フィルタを含む。
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層と第2の導電層を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、第2の導電層に厚さが30〜60nmの赤色光学補償層と厚さが10〜30nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔注入層、正孔輸送層及び青色発光層を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、青色発光層の上方に前記青色発光層の一部を被覆する電子阻止層と、黄色発光層を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、黄色発光層に電子輸送層、電子注入層、第2の電極層及び光学結合層を蒸着するステップS5とを含む。
オープンマスクを用いて、正孔注入層と正孔輸送層を順に蒸着し、低精度マスクを用いて、正孔輸送層の一部を被覆する黄色発光層と、正孔阻止層を順に蒸着するステップS3、
オープンマスクを用いて、正孔阻止層の上方に前記青色発光層を順に蒸着するステップS4、
オープンマスクを用いて、青色発光層に電子輸送層、電子注入層、第2の電極層及び光学結合層を蒸着するステップS5である。
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層、第2の導電層及び正孔注入層を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、正孔注入層に厚さが30〜70nmの赤色光学補償層と厚さが15〜45nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔輸送層と青色発光層を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、青色発光層の上方に、前記青色発光層の一部を被覆する電子阻止層と、黄色発光層を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、黄色発光層に電子輸送層、電子注入層、第2の電極層及び光学結合層を蒸着するステップS5とを含む。
オープンマスクを用いて、正孔注入層と正孔輸送層を順に蒸着して、低精度マスクを用いて、正孔輸送層の一部を被覆する黄色発光層と、正孔阻止層を順に蒸着するステップS3、
オープンマスクを用いて、正孔阻止層の上方に前記青色発光層を順に蒸着するステップS4、
オープンマスクを用いて、青色発光層に電子輸送層、電子注入層、第2の電極層及び光学結合層を蒸着するステップS5である。
前記有機EL装置は、前記正孔注入層5に隣接して設けられた光学補償層をさらに含み、本実施例における光学補償層は、前記第2の導電層2と前記正孔注入層5との間に位置し、前記光学補償層は、並設されたITO黄色光学補償層21とITO赤色光学補償層22を含み、前記ITO黄色光学補償層21の厚さが前記ITO赤色光学補償層22の厚さより小さい。
オープンマスクを用いて基板に第1の導電層1と第2の導電層2を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、第2の導電層2に厚さが30〜60nmの赤色光学補償層と厚さが10〜30nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて正孔注入層5、正孔輸送層6及び青色発光層7を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、青色発光層7の上方に、前記青色発光層7の一部を被覆する電子阻止層8と、黄色発光層9を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、黄色発光層9に電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12及び光学結合層13を蒸着するステップS5とを含む。
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層1と第2の導電層2を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、第2の導電層2に厚さが30〜60nmの赤色光学補償層と厚さが10〜30nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔注入層5と正孔輸送層6を順に蒸着し、低精度マスクを用いて、正孔輸送層6の一部を被覆する黄色発光層9と、正孔阻止層14を順に蒸着するステップS3と、
オープンマスクを用いて、正孔阻止層14の上方に前記青色発光層7を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、青色発光層7に電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12及び光学結合層13を蒸着するステップS5とを含む。
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層1、第2の導電層2及び正孔注入層5を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、正孔注入層5に厚さが30〜70nmの赤色光学補償層と厚さが15〜45nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔輸送層6と青色発光層7を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、青色発光層7の上方に、前記青色発光層7の一部を被覆する電子阻止層8と、黄色発光層9を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、黄色発光層9に電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12及び光学結合層13を蒸着するステップS5とを含む。
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層1、第2の導電層2及び正孔注入層5を順に蒸着するステップS1と、
精密マスクを用いて、正孔注入層5に厚さが30〜70nmの赤色光学補償層と厚さが15〜45nmの黄色光学補償層をスパッタリングするステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔注入層5と正孔輸送層6を順に蒸着し、低精度マスクを用いて、正孔輸送層6の一部を被覆する黄色発光層9と、正孔阻止層14を順に蒸着するステップS3と、
オープンマスクを用いて、正孔阻止層14の上方に前記青色発光層7を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、青色発光層7に電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12及び光学結合層13を蒸着するステップS5とを含む。
基板にCFをコーティングし、フォトリソグラフィでパターン化して赤色光、黄色光、緑色光のCFを形成するステップS1と、
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層1と第2の導電層2を順に蒸着するステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔注入層5、正孔輸送層6及び青色発光層7を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、青色発光層7の上方に、前記青色発光層7の一部を被覆する電子阻止層8と、黄色発光層9を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、黄色発光層9に電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12を蒸着するステップS5とを含む。
基板にCFをコーティングし、フォトリソグラフィでパターン化して赤色フィルタ、緑色フィルタ、黄色フィルタを形成するステップS1と、
オープンマスクを用いて、基板に第1の導電層1と第2の導電層2を順に蒸着するステップS2と、
オープンマスクを用いて、正孔注入層5、正孔輸送層6を順に蒸着するステップS3と、
低精度マスクを用いて、正孔輸送層6の上方に、前記黄色発光層9を被覆する黄色発光層9と、正孔阻止層14を順に蒸着するステップS4と、
オープンマスクを用いて、正孔阻止層14に青色発光層7、電子輸送層10、電子注入層11、第2の電極層12を蒸着するステップS5とを含む。
本発明の主な科学物質の構造式を以下のとおり説明する。
Claims (15)
- m行、n列の第1の画素部を含み、前記第1の画素部が青色サブ画素であり、mが0以外の自然数であり、nが2以上の自然数である青色発光層共通式画素配列方式であって、
隣接した前記第1の画素部同士の間に2列の第2の画素部が設けられ、各第2の画素部は、並設された赤色サブ画素、緑色サブ画素及び黄色サブ画素を含むことを特徴とする青色発光層共通式画素配列方式。 - 前記第2の画素部において、前記赤色サブ画素、前記緑色サブ画素及び前記黄色サブ画素の行方向における投影は、全部又は一部が重なることを特徴とする請求項1に記載の青色発光層共通式画素配列方式。
- 前記第2の画素部において、前記赤色サブ画素、前記緑色光ブ画素及び前記黄色サブ画素の青色サブ画素における投影は重ならないことを特徴とする請求項2に記載の青色発光層共通式画素配列方式。
- 隣接した2行の第2の画素部は、鏡像配列を呈することを特徴とする請求項3に記載の青色発光層共通式画素配列方式。
- 基板、前記基板に順に形成された第1の電極層、複数の発光部層及び第2の電極層(12)を含み、前記発光部層は、前記第1の電極層(1)に順に設けられた正孔注入層(5)、正孔輸送層(6)、発光層、電子輸送層(10)及び電子注入層(11)を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の画素配列方式を有する有機EL装置であって、
前記発光層は、積層して設けられた青色発光層(7)、黄色発光層(9)及び両者の間に設けられた阻止層を含み、前記青色発光層(7)は、前記正孔輸送層(6)又は電子輸送層(10)と物理的に接触し、前記黄色発光層(9)の前記基板における投影は、前記青色発光層(7)の前記基板における投影の範囲内にあり、かつ前記青色発光層(7)の投影の一部が前記黄色発光層(9)の投影に被覆され、
前記有機EL装置は、前記正孔注入層(5)に隣接して設けられた光学補償層をさらに含み、前記光学補償層の基板における投影は、前記黄色発光層(9)の前記基板における投影の範囲内にあり、かつ前記黄色発光層(9)の投影の一部が前記光学補償層の投影に被覆され、
前記光学補償層は、並設された黄色光学補償層と赤色光学補償層を含み、前記黄色光学補償層の厚さが前記赤色光学補償層の厚さより小さいことを特徴とする有機EL装置。 - 前記青色発光層(7)は前記正孔輸送層(6)を被覆し、前記阻止層は前記青色発光層(7)の一部を被覆し、前記黄色発光層(9)は前記阻止層を被覆し、前記阻止層は電子阻止層(8)であることを特徴とする請求項5に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記黄色発光層(9)は前記正孔輸送層(6)の一部を被覆し、前記阻止層は前記黄色発光層(9)を被覆し、前記青色発光層(7)の一部は前記阻止層を被覆し、前記阻止層は正孔阻止層(14)であることを特徴とする請求項5に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記光学補償層は、前記第1の電極層と前記正孔注入層(5)との間に位置し、前記第1の電極層の一部を被覆し、かつその基板における投影が前記黄色発光層(9)の基板における投影の範囲内にあることを特徴とする請求項6または7に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記第1の電極層は、積層して設けられた第1の導電層(1)と第2の導電層(2)を含み、前記光学補償層と前記第2の導電層(2)は同じ材料で製造されることを特徴とする請求項8に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記光学補償層は、前記正孔注入層(5)と前記正孔輸送層(6)との間に位置し、前記正孔注入層(5)の一部を被覆し、かつその基板における投影が前記黄色発光層(9)の基板における投影の範囲内にあることを特徴とする請求項6または7に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記光学補償層と前記正孔注入層(5)は同じ材料で製造されることを特徴とする請求項10に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記青色発光層(7)と阻止層の厚さの合計は20〜50nmであり、前記黄色光学補償層の厚さは10〜30nmであり、前記赤色光学補償層の厚さは30〜60nmであることを特徴とする請求項5〜11のいずれか一項に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 基板、前記基板に順に形成された第1の電極層、複数の発光部層及び第2の電極層(12)を含み、前記発光部層は、前記第1の電極層(1)に順に設けられた正孔注入層(5)、正孔輸送層(6)、発光層、電子輸送層(10)及び電子注入層(11)を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置であって、
前記発光層は、積層して設けられた青色発光層(7)、黄色発光層(9)及び両者の間に設けられた阻止層を含み、前記青色発光層(7)は、前記正孔輸送層(6)又は電子輸送層(10)と物理的に接触し、前記黄色発光層(9)の基板における投影は、前記青色発光層(7)の基板における投影の範囲内にあり、かつ青色発光層(7)の投影の一部が前記黄色発光層(9)の投影に被覆され、
前記有機EL装置は、前記第1の電極層の下方に設けられたカラーフィルタをさらに含み、前記カラーフィルタの基板における投影は、前記黄色発光層(9)の基板における投影と互いに重なり、前記カラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタ及び黄色フィルタを含むことを特徴とする有機EL装置。 - 前記青色発光層(7)は前記正孔輸送層(6)を被覆し、前記阻止層は前記青色発光層(7)の一部を被覆し、前記黄色発光層(9)は前記阻止層を被覆し、前記阻止層は電子阻止層(8)であることを特徴とする請求項13に記載の青色発光層共通式画素配列方式を有する有機EL装置。
- 前記黄色発光層(9)は前記正孔輸送層(6)の一部を被覆し、前記阻止層は前記黄色発光層(9)を被覆し、前記青色発光層(7)の一部は前記阻止層を被覆し、前記阻止層は正孔阻止層(14)であることを特徴とする請求項13に記載の共通青色発光層を有する有機EL装置。
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