JP2018202449A - レーザー加工方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザー加工により、導電処理不良が生じにくい穴を形成する。
【解決手段】ガラス板3,4を含む液晶パネル1にパルスレーザー2を照射することで、液晶パネル1に穴11を形成するレーザー加工方法であって、穴11の形成過程において、液晶パネル1の端面を通じて穴11の形成位置をカメラ12で撮影しながら、穴11の壁面における溶融飛散物Yからなる付着物Xの量を制御する。
【選択図】図1
【解決手段】ガラス板3,4を含む液晶パネル1にパルスレーザー2を照射することで、液晶パネル1に穴11を形成するレーザー加工方法であって、穴11の形成過程において、液晶パネル1の端面を通じて穴11の形成位置をカメラ12で撮影しながら、穴11の壁面における溶融飛散物Yからなる付着物Xの量を制御する。
【選択図】図1
Description
本発明は、ガラス板を含む加工基板に穴を形成するレーザー加工方法に関する。
液晶パネルは、BM(ブラックマトリクス)、RGB、フォトスペーサー、透明電極がパターン形成されたカラーフィルター基板と、薄板トランジスタや透明電極がパターン形成されたアレイ基板との相互に対向する二枚のガラス板を備えた電子デバイスである。二枚のガラス板の間には、これらのガラス板の周縁部に沿って樹脂(例えば、紫外線硬化樹脂等)からなるシール部材が介在しており、シール部材で囲まれたスペースには、液晶が封入されている(特許文献1を参照)。
液晶パネルの各層間の導電又は配線の形態として、ガラス板を含む基板の厚み方向を電気的に接続するスルーホール(ビアホールと称される場合もある)が用いられる場合がある。スルーホールとしては、ガラス板を含む基板の厚み方向に穴を形成し、穴にメッキを施したり、穴を導電性ペーストで充填したりする等、穴に導電性材料を導入する形態が利用される。
ところで、スルーホール用の穴は、ドリル加工やパンチ加工等によって形成される場合もあるが、スルーホールの微細化(小径化)等に伴って、レーザー加工によって形成される場合が多くなっている。
レーザー加工の場合、スルーホール用の穴は、ガラス板を含む加工基板に対してパルスレーザーを照射し、その熱によって照射部を溶融除去することで形成される。
しかしながら、レーザー加工によってスルーホール用の穴を形成すると、穴の壁面に対する導電性材料の固定力が弱くなる等の理由により、穴の導電処理不良が生じることがある。
本発明は、レーザー加工により、導電処理不良が生じにくい穴を形成することを課題とする。
本願発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、導電処理不良が、穴の壁面における溶融飛散物からなる付着物を原因として生じ得ることを知見するに至った。詳細には、レーザー加工を行うと、穴の内部で溶融物が飛び散って溶融飛散物(気化したものも含む)が形成され、この溶融飛散物が冷却固化して穴の壁面に付着して付着物を形成する。この付着物の量が多い場合に、付着物が導電処理に悪影響を与え、導電処理不良が生じやすい。
本願発明は、このような知見に基づいて創案されたものである。すなわち、ガラス板を含む加工基板にパルスレーザーを照射することで、加工基板に穴を形成するレーザー加工方法であって、穴の壁面における溶融飛散物からなる付着物の量を制御しながら穴を形成することを特徴とする。このような構成によれば、穴を形成する過程で、穴の壁面における溶融飛散物からなる付着物の量が制御されるため、導電処理不良が生じにくい穴を形成することができる。ここで、「ガラス板を含む加工基板」には、単層のガラス板からなる基板も含まれるものとする。
上記の構成において、加工基板の端面の側方にカメラを配置し、カメラで加工基板の端面を通じて穴の形成位置を撮影しながら、基板に穴を形成することが好ましい。このようにすれば、穴の形成位置を側方(端面方向)からカメラで観察することができるので、穴の壁面における溶融飛散物及び/又は付着部の状態をモニタリングすることができる。溶融飛散物は、付着部の原因となるものであり、その量が多くなれば付着物の量も多くなる傾向にある。従って、穴の壁面における溶融飛散物及び/又は付着部の状態のモニタリング結果に基づいて、付着物の量を制御しやすくなる。
上記の構成において、穴の形成位置が、加工基板の端面から10mm以内の領域内にあることが好ましい。このようにすれば、穴の形成位置が加工基板の端面に近接するので、カメラで穴の状態を鮮明に撮影しやすくなる。従って、溶融飛散物及び/又は付着物の状態をモニタリングしやすくなる。
上記の構成において、カメラで撮影する際に、パルスレーザーを照射した際に生じるプラズマ発光を光源に含むことが好ましい。プラズマ発光は穴の内部でも生じるため、穴の内部に光源を配置した状態となる。従って、ハロゲンランプ等の通常の光源を配置することができない穴の内部が明るく照らされ、溶融飛散物及び/又は付着物の状態をモニタリングしやすくなる。
上記の構成において、加工基板が、ガラス板のパルスレーザーの出射面側に樹脂層を有していてもよい。このようにすれば、溶融飛散物に樹脂が含まれるため、ガラス板との屈折率や透過率の違いにより、溶融飛散物及び/又は付着物の状態をモニタリングしやすくなる。
上記の構成において、一つの穴の形成位置において、パルスレーザーを第一パルスエネルギーで照射した後、パルスレーザーを第一パルスエネルギーよりも大きい第二パルスエネルギーで照射することが好ましい。このようにすれば、溶融飛散物の量が減少し、付着物の量も減少する。
上記の構成において、一つの穴の形成位置において、パルスレーザーを所定のパルス間隔で繰り返し照射する照射状態と、パルス間隔よりも長い時間間隔の間、パルスレーザーを照射しない未照射状態とを、交互に繰り返すことが好ましい。このようにすれば、溶融飛散物の量が減少し、付着物の量も減少する。
一つの穴の形成位置において照射状態と未照射状態を繰り返す場合において、複数の穴の形成位置があるときは、パルスレーザーを、照射位置を移動させながらそれぞれの穴の形成位置に順に繰り返し照射することが好ましい。このようにすれば、一つの穴の形成位置を照射状態で維持している間に、他の穴の形成位置を未照射状態で維持することができる。すなわち、任意の一つの穴の形成位置を見れば、照射状態と未照射状態とが繰り返されることになるが、その穴の形成位置を未照射状態としている間も、他の穴の形成位置を照射状態として加工を進めることができるので加工効率がよい。
本願発明は、ガラス板を含む加工基板にパルスレーザーを照射することで、加工基板に穴を形成するレーザー加工方法であって、加工基板の端面の側方にカメラを配置し、カメラで加工基板の端面を通じて穴の形成位置をカメラで撮影しながら、加工基板に穴を形成することを特徴とする。
上記の構成において、カメラで撮影する際に、パルスレーザーを照射した際に生じるプラズマ発光を光源に含むことが好ましい。
以上のような本発明によれば、レーザー加工により、導電処理不良が生じにくい穴を形成することができる。
以下、本発明の実施形態に係るレーザー加工方法について、図面を参照しながら説明する。
(第一実施形態)
図1〜図4に示すように、第一実施形態に係るレーザー加工方法は、電子デバイスとしての液晶パネル1に対してパルスレーザー2を照射することにより、スルーホール用の穴を形成する方法である。
図1〜図4に示すように、第一実施形態に係るレーザー加工方法は、電子デバイスとしての液晶パネル1に対してパルスレーザー2を照射することにより、スルーホール用の穴を形成する方法である。
液晶パネル1は、第一ガラス板3と、第一ガラス板3に対向して配置された第二ガラス板4と、両板3,4の間に介在させた介在部材としてのシール部材(樹脂層)5と、第二ガラス板4上に形成された金属配線(金属層)6とを備えている。
第一ガラス板3と第二ガラス板4との各々は、矩形の形状を有すると共に、厚みが1μm〜1mmとされている。また、両板3,4の間に形成される隙間(セルギャップ)は0.5μm〜100μmとされている。第一ガラス板3は、BM、RGB、フォトスペーサー、透明電極(いずれも図示省略)がパターン形成されたカラーフィルター基板である。一方、第二ガラス板4は、薄膜トランジスタや透明電極(いずれも図示省略)がパターン形成されたアレイ基板である。
シール部材5は、第一ガラス板3と第二ガラス板4とを貼り合せると共に、両板3,4の周縁部に沿って配置されている。シール部材5により囲まれたスペースには、液晶7が封入されている。このシール部材5を構成する樹脂は、例えば紫外線硬化樹脂である。金属配線6は、駆動回路(図示省略)に駆動用の信号を送るための配線である。この金属配線6を構成する金属は、例えばアルミニウムであり、バリアメタルとしては、例えばモリブデンが採用される。
本レーザー加工方法では、上記の液晶パネル1に対して第一ガラス板3側からパルスレーザー2を照射する。この際、パルスレーザー2の光軸2aは、液晶パネル1の厚み方向と平行とする。また、パルスレーザー2の焦点位置は、液晶パネル1の内部(例えば、第二ガラス板4の内部)としている。なお、パルスレーザー2の光軸2aは、第一ガラス板3及び第二ガラス板4の厚み方向に対して傾斜していてもよい。また、パルスレーザー2の焦点位置は、第一ガラス板3の表面(後述の入射面3a)や第一ガラス板3の内部に固定してもよいし、レーザー加工中に液晶パネル1の厚み方向に移動させてもよい。
パルスレーザー2としては、ガスレーザー(例えば、CO2レーザー、COレーザー)や固体レーザー、ファイバーレーザー等を使用することができる。
パルスレーザー2の波長は、200nm〜12μmであることが好ましい。パルス幅は、100fs〜100nsであることが好ましい。繰り返し周波数は、100Hz〜10MHzであることが好ましい。パルスエネルギーは、100nJ〜50mJであることが好ましい。パルスレーザー2の偏光は、直線偏光、楕円偏光、アジマス偏光、ラジアル偏光等であってもよいが、本実施形態では直線偏光である。パルスレーザー2のショット数は、例えば、1ショット〜3000ショットであるが、特に限定されるものではない。
図1に示すように、まず、液晶パネル1に対して照射したパルスレーザー2によって、第一ガラス板3に部分穴8が形成される。第一ガラス板3の部分穴8は、パルスレーザー2の入射面3a側から出射面3b(シール部材5との界面)側に移行するに連れて穴径が小さくなる。なお、第一ガラス板3に形成された部分穴8は、第一ガラス板3中で穴径が略一定となってもよいし、第一ガラス板3の入射面3a側から出射面3b側に移行するに連れて穴径が大きくなってもよい。
次に、図2に示すように、液晶パネル1に対して照射したパルスレーザー2によって、シール部材5までレーザー加工(穴あけ加工)が進行すると、シール部材5に部分穴9が形成される。シール部材5の部分穴9は、第一ガラス板3の部分穴8と連続する。シール部材5の部分穴9は、パルスレーザー2の入射面5a(第一ガラス板3との界面)側から出射面5b(第二ガラス板4との界面)側に移行するに連れて穴径が小さくなる。シール部材5の部分穴9の入射面5aにおける穴径は、第一ガラス板3の部分穴8の出射面3bにおける穴径よりも大きくなる。これは、樹脂からなるシール部材5がガラスよりも溶融しやすく、パルスレーザー2による熱の影響をより長く受ける入射面5a側で溶融量が多くなったためと考えられる。なお、シール部材5の部分穴9は、レーザーの入射面5a側から出射面5b側に移行するに連れて穴径が大きくなってもよい。この場合、シール部材5の部分穴9の入射面5aにおける穴径は、第一ガラス板3の部分穴8の出射面3bにおける穴径と実質的に同じになることが多い。
更に、図3に示すように、液晶パネル1に対して照射したパルスレーザー2によって、第二ガラス板4までレーザー加工が進行すると、第二ガラス板4に部分穴10が形成される。第二ガラス板4の部分穴10は、シール部材5の部分穴9と連続する。第二ガラス板4の部分穴10は、パルスレーザー2の入射面4a(シール部材5との界面)側から出射面4b側に移行するに連れて穴径が小さくなる。第二ガラス板4の部分穴10の入射面4aにおける穴径は、シール部材5の部分穴9の出射面5bにおける穴径と実質的に同じになることが多い。なお、第二ガラス板4の部分穴10は、第二ガラス板4中で穴径が略一定であってもよい。この場合も、第二ガラス板4の部分穴10の入射面4aにおける穴径は、シール部材5の部分穴9の出射面5bにおける穴径と実質的に同じになることが多い。
パルスレーザー2の照射は、図4に示すように、部分穴8〜10を備えた穴11が、第一ガラス板3、シール部材5、及び金属配線6を貫通し、且つ、その穴底11aが第二ガラス板4の厚み内に形成されるまで継続する。このとき、第二ガラス板4に形成される部分穴10の深さD2が、第二ガラス板4の厚みに対して50%以下とすることが好ましい。これにより、スルーホール用の穴11が形成された液晶パネル1が得られる。ここで、第一ガラス板3とシール部材5の界面や、第二ガラス板4とシール部材5との界面には、穴11の内周面に沿って部分的に剥離部が形成されていてもよい。
本レーザー加工方法では、図1〜図4に示すように、スルーホール用の穴11、すなわち、部分穴8,9,10を形成する過程で、穴壁面における付着物Xの量を制御しながら穴11を形成する。付着物Xは、パルスレーザー2の熱によって生じた溶融飛散物Yが穴壁面に付着して固化したものである。なお、図2〜図4では、付着物X及び溶融飛散物Yの図示を省略している。
付着物Xの量を減少させるためには、主に二つの方法がある。第一の方法は、溶融飛散物Yの量を減少させることである。第二の方法は、穴11の形成途中に、溶融飛散物Yを第一ガラス板3の入射面3a側の開口端から外部に効率よく抜くことである。
本レーザー加工方法では、図1〜図4に示すように、液晶パネル1の端面の側方に一又は複数のカメラ12を配置している。このカメラ12によって、第一ガラス板3の端面3c、シール部材5の端面5c及び第二ガラス板4の端面4cを通じて穴11の形成位置を撮影しながら、穴11を形成する。これにより、穴11の形成過程における溶融飛散物Yや付着物Xの状態をモニタリングすることができる。その結果、例えば、溶融飛散物Yの量が多い場合や溶融飛散物Yの抜けが悪い場合に、パルスレーザー2の照射条件を調整するなどし、付着物Xの量を制御する。
液晶パネル1は、第一ガラス板3の出射面3b側には、樹脂からなるシール部材5が形成されているため、シール部材5までレーザー加工が進行すると(図2の状態)、第一ガラス板3の部分穴8内の溶融飛散物Yには、シール部材5から発生した樹脂が含まれた状態となる。従って、溶融飛散物Yと部分穴8の壁面との間に屈折率差や透過率差が生じ、部分穴8における溶融飛散物Yや付着物Xをモニタリングしやすいという利点がある。このような利点は、樹脂に限らず、ガラスと異なる屈折率等を有する異種材料の層を形成した場合には同様に享受し得る。
カメラ12としては、例えば、Vision Research社製の高速度カメラ(ハイスピードカメラ)を利用することができる。
穴11のうち第一ガラス板3の部分穴8が、スルーホールの導電特性上、特に重要な部分となる。従って、カメラ12による撮影範囲は、第一ガラス板3の部分穴8の形成位置を含んでいればよい。そのため、例えば、カメラ12を第一ガラス板3の端面3cの側方に配置し、第一ガラス板3の端面3cを通じて部分穴8の形成位置、又は部分穴8の形成位置とその近傍のみを撮影するようにしてもよい。
カメラ12の撮影時に用いる光源としては、パルスレーザー2を照射した際に、穴の内部で生じるプラズマ発光を利用することが好ましい。なお、液晶パネル1の外部に、例えば、ハロゲンランプ、水銀灯やLED等の光源を別途配置してもよい。また、別途配置する光源を利用せずに、穴の内部で生じるプラズマ発光のみをカメラ12の光源として利用してもよい。
穴11の形成位置は、液晶パネル1の端面(例えば、第一ガラス板3の端面3c)から10mm以内の領域内にあることが好ましく、10μm〜1mmの領域内にあることがより好ましい。このようにすれば、穴11の形成位置が液晶パネル1の端面に近接し、カメラ12によるモニタリング精度が向上する。
溶融飛散物Yの移動速度は、1mm/s〜500mm/sとすることが好ましい。このようにすれば、カメラ12によって溶融飛散物Yを正確に撮影することができる。溶融飛散物Yの移動速度は、パルスレーザー2の照射条件(例えば、パルスエネルギーや繰り返し周波数等)によって調整することができる。
以上のようなレーザー加工方法によれば、穴11の壁面における溶融飛散物Yからなる付着物Xの量が制御される。そのため、穴11にメッキを施したり、穴11を導電性ペーストで充填したりする等、穴11に導電性材料を導入する導電処理の際に、付着物Xによる導電処理不良が生じにくくなる。
また、図4に示すように、本レーザー加工方法によって、穴底11a側に大径部となる部分穴9を有する穴11を形成すれば、穴11内に導電性材料を導入した際に、穴11の壁面に導電性材料が引っ掛かりやすくなり、両者を強固に固定することができる。従って、導電処理不良が生じにくくなる。
更に、図5に示すように、穴11の壁面のうち、第一ガラス板3の部分穴8の壁面には、付着物Xによって周期的な凹凸(縞模様)が形成される場合がある。このような周期的な凹凸構造により、穴11の壁面に導電性材料が引っ掛かりやすくなり、両者を強固に固定することができる。従って、穴11の壁面に付着物Xがある場合であっても、ある程度は導電処理不良を生じにくくすることができる。周期的な凹凸構造は、穴11内におけるパルスレーザー2の干渉によって生じるものと考えられる。ここで、周期的な凹凸構造の隣接する凸部の間隔は、第一ガラス板3の入射面3a側で狭く、第一ガラス板3の出射面3b側で広くなる傾向にある。例えば、パルスレーザー2の入射面3a側(第一ガラス板3の厚み方向の上半分)では、隣接する凸部の間隔は0.1μm〜5μmとなり、パルスレーザー2の出射面3b側(第一ガラス板3の厚み方向の下半分)では、隣接する凸部の間隔は0.5μm〜20μmとなる。
なお、穴11を複数形成する場合、本レーザー加工方法において、例えば、バースト加工やサイクル加工を利用することができる。
バースト加工は、一つの穴11の加工が終了するまで、パルスレーザー2の走査手段としてのガルバノミラー(図示省略)を停止させ、その穴11の形成位置に対してパルスレーザー2を所定のパルス間隔で複数ショット連続照射する方法である。バースト加工の場合、ガルバノミラーは、一つの穴の加工が終了した段階で、次の穴の加工を開始するために移動する。
サイクル加工は、パルスレーザー2を1ショット照射するとガルバノミラーが移動し、次の穴11の形成位置にパルスレーザー2を1ショット照射するという態様で、パルスレーザー2を全ての穴11の形成位置に1ショットずつ照射する工程を1サイクルとして、全ての穴11の加工が終了するまで、このサイクルを繰り返す方法である。
(第二実施形態)
第二実施形態に係るレーザー加工方法が、第一実施形態に係るレーザー加工方法と相違する点は、パルスレーザー2の照射条件である。以下では、相違する構成であるパルスレーザー2の照射条件を中心に説明し、共通する構成については詳しい説明は省略する。なお、第二実施形態では、カメラ12を配置してもよいし、配置しなくてもよい。
第二実施形態に係るレーザー加工方法が、第一実施形態に係るレーザー加工方法と相違する点は、パルスレーザー2の照射条件である。以下では、相違する構成であるパルスレーザー2の照射条件を中心に説明し、共通する構成については詳しい説明は省略する。なお、第二実施形態では、カメラ12を配置してもよいし、配置しなくてもよい。
本レーザー加工方法では、図6に示すように、一つの穴11の形成位置において、パルスレーザー2を第一パルスエネルギーP1で1又は複数ショット照射した後、パルスレーザー2を第一パルスエネルギーP1よりも大きい第二パルスエネルギーP2で1又は複数ショット照射する。なお、図6では、第一パルスエネルギーP1と第二パルスエネルギーP2のそれぞれで複数ショット照射する場合を例示している。このようにすれば、穴加工当初は比較的小さい径の穴を作製することができ、溶融飛散物Yの量が減少し、付着物Xの量も減少する。従って、付着物Xの量を制御することができる。
第一パルスエネルギーP1は、1μJ〜1mJであることが好ましく、第二パルスエネルギーP2は、100μJ〜10mJであることが好ましい。P2/P1は、1〜20であることが好ましい。ここで、パルスエネルギーP1,P2は、図中のハッチングを付した部分の面積である。
第一パルスエネルギーP1と第二パルスエネルギーP2との切り換えタイミングは、例えば、第一ガラス板3に形成される部分穴8の深さD1(図1を参照)が、第一ガラス板3の厚みに対して50%以上(好ましくは、80%〜100%の範囲)になったときとすることが好ましく、シール部材5に到達した前後(シール部材5の入射面5aを基準として±10μm)で切り換えることが好ましい。
(第三実施形態)
第三実施形態に係るレーザー加工方法が、第一実施形態に係るレーザー加工方法と相違する点は、パルスレーザー2の照射条件である。以下では、相違する構成であるパルスレーザー2の照射条件を中心に説明し、共通する構成については詳しい説明は省略する。なお、第三実施形態では、カメラ12を配置してもよいし、配置しなくてもよい。
第三実施形態に係るレーザー加工方法が、第一実施形態に係るレーザー加工方法と相違する点は、パルスレーザー2の照射条件である。以下では、相違する構成であるパルスレーザー2の照射条件を中心に説明し、共通する構成については詳しい説明は省略する。なお、第三実施形態では、カメラ12を配置してもよいし、配置しなくてもよい。
本レーザー加工方法では、図7に示すように、一つの穴11の形成位置において、パルスレーザー2を所定のパルス間隔T1で繰り返し照射する照射状態S1と、照射状態S1のパルス間隔T1よりも長い時間間隔T2の間、パルスレーザー2を照射しない未照射状態S2とを交互に繰り返す。このようにすれば、溶融飛散物Yの量が減少し、溶融飛散物Yが第一ガラス板3の入射面3a側の開口端から外部に効率よく抜けるため、付着物Xの量も減少する。従って、付着物Xの量を制御することができる。
照射状態S1のパルス間隔T1は、10ms以下であることが好ましく、1μs〜1msであることがより好ましい。また、未照射状態S2の時間間隔T2は、1ms以上であることが好ましく、10ms〜5sであることがより好ましい。
ここで、複数の穴11を形成する場合、各穴11の形成位置における照射状態S1と未照射状態S2との繰り返し操作は、上記のバースト加工とサイクル加工とを組み合わせることによって効率よく実現することができる。すなわち、完全に一つの穴11が形成されない程度に、パルスレーザー2を数ショット照射した時点でガラスバノミラーを移動し、そのサイクルを繰り返す。このようにすれば、1サイクルにおいて、各穴の形成位置に対して数ショットずつパルスレーザー2が照射されると共に、任意の一つの穴の形成位置が照射状態S1とされている間、他の穴の形成位置は未照射状態S2となる。従って、未照射状態S2を形成しつつも、全体としてはレーザー加工を進めることができるので、加工効率がよい。なお、サイクル毎にパルスレーザー2のパルスエネルギーの大きさを変更してもよい。この場合、パルスレーザー2のパルスエネルギーは、前サイクルよりも後サイクルが大きくなるようにすることが好ましい。また、上述のバースト加工を所定のショット数行った後に(例えば、部分穴8の深さD1がシール部材5に到達した前後)、照射状態S1と未照射状態S2とを繰り返す操作を行ってもよい。この場合についても、所定のショット数レーザー照射を行うバースト加工時のパルスレーザー2のパルスエネルギーに比べて、照射状態S1と未照射状態S2とを繰り返す操作中のパルスレーザー2のパルスエネルギーを大きくすることが好ましい。
(1)加工基板
加工基板として、第一ガラス板3の厚みが200μm、シール部材5の厚みが60μm、第二ガラス板4の厚みが500μmの液晶パネル1を用意した。なお、本実施例では、液晶パネル1を、液晶パネルを模擬したサンプルとしている。
(2)パルスレーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは145μJとした。パルスレーザー2を集光するレンズ(図示省略)として、焦点距離30mmのレンズを使用した。パルスレーザー2の焦点位置は、液晶パネル1の表面(第一ガラス板3の入射面3a)から600μmの深さの位置に設定した。すなわち、焦点位置は第二ガラス板4の内部とした。この条件で、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、パルスレーザー2を1000ショット連続照射した。なお、レンズの焦点距離に比べて液晶パネル1の厚みが小さいため、焦点位置を液晶パネル1の表面などの他の位置に変えても同様の結果を得ることができると考えられる(後述する実施例2及び3においても同様)。
(3)レーザー加工の結果
実施例1に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を、電子顕微鏡により観察した(実施例2、実施例3についても同様)結果を図8(a)に示す。シール部材5の成分が、第一ガラス板3の穴内部に付着していない部分が散見される。
加工基板として、第一ガラス板3の厚みが200μm、シール部材5の厚みが60μm、第二ガラス板4の厚みが500μmの液晶パネル1を用意した。なお、本実施例では、液晶パネル1を、液晶パネルを模擬したサンプルとしている。
(2)パルスレーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは145μJとした。パルスレーザー2を集光するレンズ(図示省略)として、焦点距離30mmのレンズを使用した。パルスレーザー2の焦点位置は、液晶パネル1の表面(第一ガラス板3の入射面3a)から600μmの深さの位置に設定した。すなわち、焦点位置は第二ガラス板4の内部とした。この条件で、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、パルスレーザー2を1000ショット連続照射した。なお、レンズの焦点距離に比べて液晶パネル1の厚みが小さいため、焦点位置を液晶パネル1の表面などの他の位置に変えても同様の結果を得ることができると考えられる(後述する実施例2及び3においても同様)。
(3)レーザー加工の結果
実施例1に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を、電子顕微鏡により観察した(実施例2、実施例3についても同様)結果を図8(a)に示す。シール部材5の成分が、第一ガラス板3の穴内部に付着していない部分が散見される。
(1)加工基板
加工基板は、実施例1と同様とする。
(2)レーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは25μJ(第一パルスエネルギー)及び145μJ(第二パルスエネルギー)とした。パルスレーザー2の焦点位置は液晶パネル1の表面から600μmの深さの位置に設定した。この条件で、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、第一パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した後、同じ穴の形成位置に対して、第二パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した。
(3)レーザー加工の結果
実施例2に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を図8(b)に示す。第一ガラス板3の穴内部において、特に上部のシール部材付着量が低減した。
加工基板は、実施例1と同様とする。
(2)レーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは25μJ(第一パルスエネルギー)及び145μJ(第二パルスエネルギー)とした。パルスレーザー2の焦点位置は液晶パネル1の表面から600μmの深さの位置に設定した。この条件で、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、第一パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した後、同じ穴の形成位置に対して、第二パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した。
(3)レーザー加工の結果
実施例2に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を図8(b)に示す。第一ガラス板3の穴内部において、特に上部のシール部材付着量が低減した。
(1)加工基板
加工基板は、実施例1と同様とする。
(2)レーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは25μJ(第一パルスエネルギー)及び145μJ(第二パルスエネルギー)とした。パルスレーザー2の焦点位置は液晶パネル1の表面から600μmの深さの位置に設定した。この条件で、まず、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、第一パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した。次に、同じ穴11の形成位置に対して、第二パルスエネルギーのパルスレーザー2を20ショット連続照射した後に、0.5s間未照射状態を維持するというサイクルを40回繰り返した(20ショット照射→0.5s間未照射→20ショット照射→0.5s間未照射→…)。
(3)レーザー加工の結果
実施例3に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を図8(c)に示す。第一ガラス板3の穴内部において、上部・下部のシール部材付着量が低減した。また、これらの結果は金属顕微鏡による観察によっても確認されている。
加工基板は、実施例1と同様とする。
(2)レーザーの照射条件
パルスレーザー2として、Nd:YVO4レーザーの第4高調波(波長266nm)を使用した。パルス幅は8ns、繰り返し周波数は5kHz、パルスエネルギーは25μJ(第一パルスエネルギー)及び145μJ(第二パルスエネルギー)とした。パルスレーザー2の焦点位置は液晶パネル1の表面から600μmの深さの位置に設定した。この条件で、まず、液晶パネル1の一つの穴の形成位置に対して、第一パルスエネルギーのパルスレーザー2を650ショット連続照射した。次に、同じ穴11の形成位置に対して、第二パルスエネルギーのパルスレーザー2を20ショット連続照射した後に、0.5s間未照射状態を維持するというサイクルを40回繰り返した(20ショット照射→0.5s間未照射→20ショット照射→0.5s間未照射→…)。
(3)レーザー加工の結果
実施例3に係るレーザー加工方法によって形成された穴11(部分穴8〜10)の断面を図8(c)に示す。第一ガラス板3の穴内部において、上部・下部のシール部材付着量が低減した。また、これらの結果は金属顕微鏡による観察によっても確認されている。
なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
上記の実施形態では、加工基板が液晶パネルである場合を説明したが、これに限定されるものではない。有機ELパネルやタッチパネル、太陽電池パネル等の他の電子デバイスを加工基板としてもよい。また、単層のガラス板を加工基板としてもよく、シート状ではなくロール状であってもよい。さらに、本技術はマイクロ流路デバイスなどへも応用可能である。
上記の実施形態では、レーザー加工方法によって形成する穴が、スルーホール用の穴(配線又は導通用の穴)である場合を説明したが、これに限定されない。例えば、部品の位置決めや取り付け用の穴であってもよい。
上記の実施形態では、レーザー加工方法によって形成する穴が、加工基板の内部に穴底を有する場合を説明したが、レーザー加工方法によって形成する穴は、加工基板の厚み方向に貫通した貫通孔であってもよい。
上記の実施形態では、レーザーのビーム形状を円形としたが、その他、多角形、リング形のものを用いてもよい。
上記の実施形態では、付着物の量を制御するために、加工基板の端面の側方にカメラを配置し、そのカメラによって加工基板の端面を介して穴の形成位置を撮影する場合を説明したが、カメラの配置目的はこれに限定されない。例えば、形成途中の穴の径や形状をモニタリングする等の目的でカメラを配置してもよい。
1 液晶パネル
2 パルスレーザー
2a 光軸
3 第一ガラス板
4 第二ガラス板
5 シール部材
6 金属配線
7 液晶
8〜10 部分穴
11 スルーホール用の穴
12 カメラ
P1 第一パルスエネルギー
P2 第二パルスエネルギー
S1 照射状態
S2 未照射状態
T1 パルス間隔
T2 時間間隔
X 付着物
Y 溶融飛散物
2 パルスレーザー
2a 光軸
3 第一ガラス板
4 第二ガラス板
5 シール部材
6 金属配線
7 液晶
8〜10 部分穴
11 スルーホール用の穴
12 カメラ
P1 第一パルスエネルギー
P2 第二パルスエネルギー
S1 照射状態
S2 未照射状態
T1 パルス間隔
T2 時間間隔
X 付着物
Y 溶融飛散物
Claims (10)
- ガラス板を含む加工基板にパルスレーザーを照射することで、前記加工基板に穴を形成するレーザー加工方法であって、
前記穴の壁面における溶融飛散物からなる付着物の量を制御しながら前記穴を形成することを特徴とするレーザー加工方法。 - 前記加工基板の端面の側方にカメラを配置し、前記カメラで前記加工基板の前記端面を通じて前記穴の形成位置を撮影しながら、前記加工基板に前記穴を形成することを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工方法。
- 前記穴の形成位置が、前記加工基板の前記端面から10mm以内の領域内にあることを特徴とする請求項2に記載のレーザー加工方法。
- 前記カメラで撮影する際に、前記パルスレーザーを照射した際に生じるプラズマ発光を光源に含むことを特徴とする請求項2又は3に記載のレーザー加工方法。
- 前記加工基板が、前記ガラス板の前記パルスレーザーの出射面側に樹脂層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザー加工方法。
- 一つの前記穴の形成位置において、前記パルスレーザーを第一パルスエネルギーで照射した後、前記パルスレーザーを前記第一パルスエネルギーよりも大きい第二パルスエネルギーで照射することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザー加工方法。
- 一つの前記穴の形成位置において、前記パルスレーザーを所定のパルス間隔で繰り返し照射する照射状態と、前記パルス間隔よりも長い時間間隔の間、前記パルスレーザーを照射しない未照射状態とを、交互に繰り返すことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザー加工方法。
- 複数の前記穴の形成位置を有すると共に、前記パルスレーザーを、照射位置を移動させながらそれぞれの前記穴の形成位置に順に繰り返し照射することを特徴とする請求項7に記載のレーザー加工方法。
- ガラス板を含む加工基板にパルスレーザーを照射することで、前記加工基板に穴を形成するレーザー加工方法であって、
前記加工基板の端面の側方にカメラを配置し、前記カメラで前記加工基板の前記端面を通じて前記穴の形成位置をカメラで撮影しながら、前記加工基板に前記穴を形成することを特徴とするレーザー加工方法。 - 前記カメラで撮影する際に、前記パルスレーザーを照射した際に生じるプラズマ発光を光源に含むことを特徴とする請求項9に記載のレーザー加工方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017110074A JP2018202449A (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | レーザー加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2017110074A JP2018202449A (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | レーザー加工方法 |
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JP2018202449A true JP2018202449A (ja) | 2018-12-27 |
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ID=64955972
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JP2017110074A Pending JP2018202449A (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | レーザー加工方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2018202449A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021011410A (ja) * | 2019-07-08 | 2021-02-04 | ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法及レーザ加工装置 |
WO2021064255A1 (en) * | 2019-10-03 | 2021-04-08 | Orvinum Ag | Apparatus for creating a hole in a glass container |
-
2017
- 2017-06-02 JP JP2017110074A patent/JP2018202449A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021011410A (ja) * | 2019-07-08 | 2021-02-04 | ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法及レーザ加工装置 |
JP7251904B2 (ja) | 2019-07-08 | 2023-04-04 | ビアメカニクス株式会社 | レーザ加工方法及レーザ加工装置 |
TWI821580B (zh) * | 2019-07-08 | 2023-11-11 | 日商維亞機械股份有限公司 | 雷射加工方法以及雷射加工裝置 |
WO2021064255A1 (en) * | 2019-10-03 | 2021-04-08 | Orvinum Ag | Apparatus for creating a hole in a glass container |
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