JP2018198249A - Wiring board - Google Patents

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哲郎 横田
Tetsuo Yokota
哲郎 横田
吉田 美隆
Yoshitaka Yoshida
美隆 吉田
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Abstract

To provide a wiring board on whose side face an electrode can be relatively easily arranged.SOLUTION: There is provided a wiring board having a first substrate and a second substrate, therein the first substrate includes: a plurality of first insulating layers overlapped in a thickness direction; and a plurality of first wiring parts arranged in the plurality of first insulating layers, and the second substrate includes: at least one second insulating layer; and at least one second wiring part arranged in at least one second insulating layer, and the second substrate is arranged such that at least a part of a side face of the first substrate is covered with a plate substrate, and the first substrate includes a conduction part provided on the side face on which the second substrate is arranged in the first substrate, and the second wiring part includes an electrode part provided on the second substrate, and electrically connected to the conduction part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、配線基板に関する。   The present disclosure relates to a wiring board.

半導体素子等の電子部品を実装するための配線基板において、電子部品が配線基板の側面に配置されることがある。例えば、特許文献1には、基板の上面から側面にかけて被着された絶縁層に電子部品の接続用の電極を設けた配線基板が開示されている。   In a wiring board for mounting an electronic component such as a semiconductor element, the electronic component may be disposed on a side surface of the wiring board. For example, Patent Document 1 discloses a wiring board in which an electrode for connecting an electronic component is provided on an insulating layer deposited from the top surface to the side surface of the substrate.

特開2011−199239号公報JP 2011-199239 A

電子部品の形状やその用途によっては、側面に配置される電子部品の接続用の電極と、配線基板が有する配線部とを配線パターンを介して導通させる必要がある。しかし、配線基板の側面への印刷等により形成できる配線パターンの精度には限界があり、設計の自由度が制限される。   Depending on the shape of the electronic component and its application, it is necessary to connect the electrode for connecting the electronic component arranged on the side surface and the wiring portion of the wiring board through the wiring pattern. However, there is a limit to the accuracy of the wiring pattern that can be formed by printing on the side surface of the wiring substrate, and the degree of freedom in design is limited.

本開示の一局面は、電極を側面に比較的容易に配置できる配線基板を提供することを目的とする。   An object of one aspect of the present disclosure is to provide a wiring board in which electrodes can be disposed on a side surface relatively easily.

本開示の一態様は、第1基板と、第2基板と、を備える配線基板である。第1基板は、厚み方向に重ねられた複数の第1絶縁層、及び複数の第1絶縁層に配置された複数の第1配線部を有する。第2基板は、少なくとも1つの第2絶縁層、及び少なくとも1つの第2絶縁層に配置された少なくとも1つの第2配線部を有する。また、第2基板は、板面により第1基板の側面の少なくとも一部を覆うように配置される。第1基板は、第1基板における第2基板が配置される側面に設けられた導通部を有する。第2配線部は、第2基板に設けられ、導通部と電気的に接続された電極部を含む。   One embodiment of the present disclosure is a wiring board including a first substrate and a second substrate. The first substrate has a plurality of first insulating layers stacked in the thickness direction and a plurality of first wiring portions arranged in the plurality of first insulating layers. The second substrate has at least one second insulating layer and at least one second wiring portion disposed on the at least one second insulating layer. Further, the second substrate is disposed so as to cover at least a part of the side surface of the first substrate with the plate surface. The first substrate has a conduction portion provided on a side surface of the first substrate on which the second substrate is disposed. The second wiring part includes an electrode part provided on the second substrate and electrically connected to the conduction part.

このような構成によれば、第1基板の側面に、電子部品等が接続される電極部を含む第2配線部が形成された第2基板が被覆されることで、第1基板の第1配線部と導通させながら電極部を配線基板の側面に配置することができる。また、配線基板の側面に配線パターンを直接形成した場合と比べて、第2配線部、ひいては電極部の設計自由度を高めることができる。   According to such a configuration, the first substrate of the first substrate is covered by covering the side surface of the first substrate with the second substrate on which the second wiring portion including the electrode portion to which the electronic component or the like is connected is formed. The electrode portion can be disposed on the side surface of the wiring board while being electrically connected to the wiring portion. In addition, the degree of freedom in designing the second wiring part, and hence the electrode part, can be increased as compared with the case where the wiring pattern is directly formed on the side surface of the wiring board.

本開示の一態様では、導通部は、第1絶縁層を厚み方向に貫通するビア導体であってもよい。このような構成によれば、導通部の形成が容易に行えると共に、第2導通部との導通面積を確保して電気的な接続の信頼性を高めることができる。   In one aspect of the present disclosure, the conductive portion may be a via conductor that penetrates the first insulating layer in the thickness direction. According to such a configuration, the conduction portion can be easily formed, and the conduction area with the second conduction portion can be secured to increase the reliability of electrical connection.

本開示の一態様では、第2基板は、厚み方向に重ねられた複数の第2絶縁層と、複数の第2絶縁層に配置された複数の第2配線部とを有してもよい。このような構成によれば、より複雑な配線パターンを第2基板に形成できるので、電極部の取り回しにおける設計自由度がより高められる。   In one aspect of the present disclosure, the second substrate may include a plurality of second insulating layers stacked in the thickness direction and a plurality of second wiring portions arranged in the plurality of second insulating layers. According to such a configuration, since a more complicated wiring pattern can be formed on the second substrate, the degree of freedom in designing the electrode portion can be further increased.

本開示の一態様では、第2基板は、第1基板の側面の少なくとも一部に加え、第1基板の板面の少なくとも一部も覆うように配置されてもよい。このような構成によれば、第2基板の面積が大きくなるので、第2基板における配線パターンの設計自由度がより高められる。そのため、インピーダンスの調整等が容易になる。   In one aspect of the present disclosure, the second substrate may be arranged to cover at least a part of the plate surface of the first substrate in addition to at least a part of the side surface of the first substrate. According to such a configuration, since the area of the second substrate is increased, the degree of freedom in designing the wiring pattern on the second substrate is further increased. As a result, impedance adjustment and the like are facilitated.

実施形態の配線基板の模式的な斜視図である。It is a typical perspective view of the wiring board of an embodiment. 図1のII−II線での模式的な断面図である。It is typical sectional drawing in the II-II line | wire of FIG. 図1の配線基板の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the wiring board of FIG. 図1の配線基板の製造工程を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing process of the wiring board of FIG. 図1とは異なる実施形態の配線基板の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the wiring board of embodiment different from FIG. 図1及び図5とは異なる実施形態の配線基板の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the wiring board of embodiment different from FIG.1 and FIG.5. 図6の配線基板の製造工程を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing process of the wiring board of FIG.

以下、本開示が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.配線基板]
図1及び図2に示す配線基板1は、第1基板2と、第2基板3とを備える。
Hereinafter, embodiments to which the present disclosure is applied will be described with reference to the drawings.
[1. First Embodiment]
[1-1. Wiring board]
A wiring substrate 1 shown in FIGS. 1 and 2 includes a first substrate 2 and a second substrate 3.

配線基板1は、電子部品が実装可能に構成されている。配線基板1に実装される電子部品としては、半導体素子、水晶振動子、水晶発振器、圧電振動子、表面弾性波フィルタ等の素子、各種センサ、微小電気機械システム(MEMS)、集積回路(IC)などが挙げられる。   The wiring board 1 is configured to be able to mount electronic components. Electronic components mounted on the wiring board 1 include semiconductor elements, crystal oscillators, crystal oscillators, piezoelectric oscillators, surface acoustic wave filters and other elements, various sensors, micro electromechanical systems (MEMS), and integrated circuits (ICs). Etc.

<第1基板>
第1基板2は、対向する2つの板面と、厚み方向と平行な側面とを有するシート状の部材である。第1基板2は、側面の一部(図2では左側面)が第2基板3によって覆われている。
<First substrate>
The first substrate 2 is a sheet-like member having two opposing plate surfaces and a side surface parallel to the thickness direction. The first substrate 2 is partially covered with the second substrate 3 (the left side surface in FIG. 2).

また、第1基板2は、厚み方向に重ねられた複数の第1絶縁層21と、複数の第1絶縁層21に配置された複数の第1配線部22と、複数の第1絶縁層21を厚み方向に貫通する複数の第1ビア導体23と、第1導通部24とを有する。   The first substrate 2 includes a plurality of first insulating layers 21 stacked in the thickness direction, a plurality of first wiring portions 22 disposed on the plurality of first insulating layers 21, and a plurality of first insulating layers 21. And a plurality of first via conductors 23 penetrating in the thickness direction, and a first conductive portion 24.

複数の第1絶縁層21は、それぞれセラミック製の基材である。第1絶縁層21を構成するセラミックとしては、例えばアルミナ、ベリリア、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、ガラス等が挙げられる。これらのセラミックは単体で、又は2種以上組み合わせて使用することができる。   Each of the plurality of first insulating layers 21 is a ceramic base material. Examples of the ceramic constituting the first insulating layer 21 include alumina, beryllia, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, and glass. These ceramics can be used alone or in combination of two or more.

複数の第1配線部22は、複数の第1絶縁層21の板面にそれぞれ配置された導電性の部材である。つまり、複数の第1配線部22は、厚み方向に離間して配置された複数の導電層として設けられている。また、複数の第1配線部22は、外部端子と接続される電極(図示せず)を含む。   The plurality of first wiring portions 22 are conductive members that are respectively disposed on the plate surfaces of the plurality of first insulating layers 21. That is, the plurality of first wiring portions 22 are provided as a plurality of conductive layers that are spaced apart in the thickness direction. The plurality of first wiring portions 22 include electrodes (not shown) connected to external terminals.

本実施形態では、複数の第1配線部22は、複数の第1絶縁層21の間と、最表層(図2における最も上側の層及び最も下側の層)を構成する第1絶縁層21の表出面(つまり、第1基板2の板面)に設けられている。なお、複数の第1配線部22は、必ずしも全ての第1絶縁層21に配置されなくてもよい。   In the present embodiment, the plurality of first wiring parts 22 are formed between the plurality of first insulating layers 21 and the first insulating layer 21 constituting the outermost layer (the uppermost layer and the lowermost layer in FIG. 2). Are provided on the exposed surface (that is, the plate surface of the first substrate 2). Note that the plurality of first wiring portions 22 do not necessarily have to be disposed on all the first insulating layers 21.

第1導通部24は、第1基板2における第2基板3が配置される側面に設けられている。つまり、第1導通部24は、第2基板3が配置されていない状態で、第1基板2の側面から表出する。   The first conduction portion 24 is provided on the side surface of the first substrate 2 where the second substrate 3 is disposed. That is, the first conductive portion 24 is exposed from the side surface of the first substrate 2 in a state where the second substrate 3 is not disposed.

第1導通部24は、1つの第1絶縁層21を厚み方向に貫通するスルーホールが導電材料で充填されたビア導体の一部で構成される導体、いわゆるハーフビアである。つまり、第1導通部24は、第1基板2の側面において、第1基板2の厚み方向に延伸したパッド状の部位である。第1導通部24は、複数の第1配線部22のうち少なくとも1つの配線部と接続されている。   The first conduction portion 24 is a so-called half via formed by a part of a via conductor in which a through hole penetrating one first insulating layer 21 in the thickness direction is filled with a conductive material. That is, the first conductive portion 24 is a pad-like portion that extends in the thickness direction of the first substrate 2 on the side surface of the first substrate 2. The first conduction part 24 is connected to at least one wiring part among the plurality of first wiring parts 22.

複数の第1ビア導体23は、1つの第1絶縁層21の表面に設けられた第1配線部22と、この第1絶縁層21の裏面に設けられた第1配線部22とを第1絶縁層21の厚み方向に連結し導通する。   The plurality of first via conductors 23 includes a first wiring part 22 provided on the surface of one first insulating layer 21 and a first wiring part 22 provided on the back surface of the first insulating layer 21. The insulating layer 21 is connected in the thickness direction to conduct.

第1配線部22、第1ビア導体23及び第1導通部24は、主成分として金属を含む。この金属としては、例えばタングステン(W)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、銅(Cu)、銀(Ag)、これらの合金等が挙げられる。なお、「主成分」とは、最も多く含まれる成分を意味し、例えば80質量%以上含まれる成分を意味する。   The 1st wiring part 22, the 1st via conductor 23, and the 1st conduction | electrical_connection part 24 contain a metal as a main component. Examples of the metal include tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), copper (Cu), silver (Ag), and alloys thereof. The “main component” means the most contained component, for example, a component contained in 80% by mass or more.

<第2基板>
第2基板3は、対向する2つの板面を有するシート状の部材である。第2基板3は、一方の板面(以下、「第1板面」ともいう。)により、第1基板2の側面の一部を第1基板2の厚み方向全体に亘って覆っている。
<Second substrate>
The second substrate 3 is a sheet-like member having two opposing plate surfaces. The second substrate 3 covers a part of the side surface of the first substrate 2 over the entire thickness direction of the first substrate 2 by one plate surface (hereinafter also referred to as “first plate surface”).

第2基板3は、1つの第2絶縁層31と、第2絶縁層31の表面及び裏面に配置された2つの第2配線部32と、第2絶縁層31を厚み方向に貫通する1つの第2ビア導体33とを有する。   The second substrate 3 includes one second insulating layer 31, two second wiring portions 32 disposed on the front and back surfaces of the second insulating layer 31, and one second penetrating the second insulating layer 31 in the thickness direction. And a second via conductor 33.

第2絶縁層31は、第1基板2の第1絶縁層21と同様のセラミック製の基材である。第2絶縁層31の表面は、第2基板3の第1板面と反対側の第2板面を構成し、第2絶縁層31の裏面は、第2基板3の第1板面を構成する。   The second insulating layer 31 is a ceramic substrate similar to the first insulating layer 21 of the first substrate 2. The surface of the second insulating layer 31 constitutes a second plate surface opposite to the first plate surface of the second substrate 3, and the back surface of the second insulating layer 31 constitutes the first plate surface of the second substrate 3. To do.

2つの第2配線部32のうち、第2板面(つまり第2絶縁層31の表面)に設けられた配線部は、電極部34を含む。電極部34は、電子部品を接続するためのパッド状の電極である。   Of the two second wiring parts 32, the wiring part provided on the second plate surface (that is, the surface of the second insulating layer 31) includes an electrode part 34. The electrode part 34 is a pad-like electrode for connecting an electronic component.

また、2つの第2配線部32のうち、第1板面(つまり第2絶縁層31の裏面)に設けられた配線部は、第2導通部35を含む。第2導通部35は、第1導通部24と電気的に接続されるパッド状の電極である。   Of the two second wiring portions 32, the wiring portion provided on the first plate surface (that is, the back surface of the second insulating layer 31) includes a second conduction portion 35. The second conduction part 35 is a pad-like electrode that is electrically connected to the first conduction part 24.

2つの第2配線部32は、第2ビア導体33によって電気的に接続されている。したがって、電極部34は、第2ビア導体33及び第2導通部35を介して、第1導通部24と電気的に接続されている。そのため、電極部34は、第1基板2の複数の第1配線部22とも導通されている。なお、第2配線部32及び第2ビア導体33の材質は、第1基板2の第1配線部22及び第1ビア導体23と同様である。   The two second wiring portions 32 are electrically connected by the second via conductor 33. Therefore, the electrode part 34 is electrically connected to the first conduction part 24 via the second via conductor 33 and the second conduction part 35. Therefore, the electrode part 34 is electrically connected to the plurality of first wiring parts 22 of the first substrate 2. The material of the second wiring part 32 and the second via conductor 33 is the same as that of the first wiring part 22 and the first via conductor 23 of the first substrate 2.

[1−2.配線基板の製造方法]
次に、配線基板1の製造方法について説明する。
配線基板1の製造方法は、図3に示すように、基板形成工程S10と、着圧工程S20と、焼成工程S30とを備える。
[1-2. Wiring board manufacturing method]
Next, a method for manufacturing the wiring board 1 will be described.
As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the wiring board 1 includes a substrate forming step S10, a pressure applying step S20, and a firing step S30.

<基板形成工程>
本工程では、絶縁層及び配線部が焼成されていない未焼結の第1基板2及び第2基板3を形成する。
<Substrate formation process>
In this step, the unsintered first substrate 2 and second substrate 3 in which the insulating layer and the wiring portion are not baked are formed.

本工程では、最初に未焼結セラミックをセラミック基板状に成形する。具体的には、まず、セラミック粉末、有機バインダ、溶剤、及び可塑剤等の添加剤を混合して、スラリーを得る。次に、このスラリーを周知の方法によりシート状に成形することで、基板状の未焼結セラミック(いわゆるセラミックグリーンシート)が得られる。   In this step, first, an unsintered ceramic is formed into a ceramic substrate. Specifically, first, ceramic powder, an organic binder, a solvent, and additives such as a plasticizer are mixed to obtain a slurry. Next, this slurry is formed into a sheet by a known method, whereby a substrate-like unsintered ceramic (so-called ceramic green sheet) is obtained.

得られたセラミックグリーンシートに対し、ビア導体を形成する貫通孔を設ける。その後、ビア導体となる第1未焼結導体を充填する。この第1未焼結導体は、ビア導体の構成材料に溶剤等を加えてペーストにしたものである。第1未焼結導体の複数の孔への充填方法としては、周知のペースト印刷方法が使用できる。   A through hole for forming a via conductor is provided in the obtained ceramic green sheet. Then, the 1st unsintered conductor used as a via conductor is filled. The first unsintered conductor is a paste made by adding a solvent or the like to the constituent material of the via conductor. As a method of filling the plurality of holes of the first unsintered conductor, a known paste printing method can be used.

第1未焼結導体の充填後、セラミックグリーンシートの両面又は片面に対し、配線部となる第2未焼結導体をそれぞれ配置する。具体的な手順としては、例えば第1未焼結導体の充填で用いたペーストを、スクリーン印刷によってセラミックグリーンシートに印刷することで第2未焼結導体層を形成する。   After the filling of the first unsintered conductor, the second unsintered conductor serving as the wiring portion is disposed on both sides or one side of the ceramic green sheet. As a specific procedure, for example, the second green conductor layer is formed by printing the paste used for filling the first green conductor on the ceramic green sheet by screen printing.

第2未焼結導体層を形成したセラミックグリーンシートを切断し、必要に応じて複数のセラミックグリーンシートを重ね合わせることで、未焼結の第1基板2及び未焼結の第2基板3が得られる。   By cutting the ceramic green sheet on which the second unsintered conductor layer is formed and stacking a plurality of ceramic green sheets as necessary, the unsintered first substrate 2 and the unsintered second substrate 3 are obtained. can get.

なお、未焼結の第1基板2の形成過程において、貫通孔に充填した第1未焼結導体を貫通孔の軸と平行な面で切断することで、ハーフビアである第1導通部24となる未焼結導体が形成される。   In the process of forming the unsintered first substrate 2, the first conductive portion 24, which is a half via, is cut by cutting the first unsintered conductor filled in the through hole along a plane parallel to the axis of the through hole. An unsintered conductor is formed.

<着圧工程>
本工程では、図4に示すように、未焼結の第1基板2の側面に対し、未焼結の第2基板3を着圧する。未焼結の第2基板3は、第1板面が未焼結の第1基板2の側面を覆う向きで着圧される。また、未焼結の第2基板3は、第2導通部35が第1導通部24と当接する位置に配置される。
<Pressing process>
In this step, as shown in FIG. 4, the unsintered second substrate 3 is pressed against the side surface of the unsintered first substrate 2. The unsintered second substrate 3 is pressed so that the first plate surface covers the side surface of the unsintered first substrate 2. Further, the unsintered second substrate 3 is disposed at a position where the second conductive portion 35 contacts the first conductive portion 24.

<焼成工程>
本工程では、着圧した未焼結の第1基板2及び未焼結の第2基板3を焼成する。この焼成は、セラミックグリーンシートが焼結する温度に加熱することで行われる。これにより、セラミックグリーンシートが焼結され、セラミック製の絶縁層が形成される。また、未焼結導体が焼結し、電気的に接続されたビア導体及び配線部が形成される。さらに、焼成により第1基板2の側面と第2基板3の第1板面とが強固に接合される。
<Baking process>
In this step, the pressed unsintered first substrate 2 and unsintered second substrate 3 are fired. This firing is performed by heating to a temperature at which the ceramic green sheet is sintered. Thereby, the ceramic green sheet is sintered and an insulating layer made of ceramic is formed. In addition, the unsintered conductor is sintered, and the electrically connected via conductor and wiring portion are formed. Furthermore, the side surface of the first substrate 2 and the first plate surface of the second substrate 3 are firmly bonded by firing.

[1−3.効果]
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1a)第1基板2の側面に、電子部品等が接続される電極部34を含む第2配線部32が形成された第2基板3が被覆されていることで、第1基板2の第1配線部22と導通させながら電極部34を配線基板1の側面に配置することができる。また、第2基板3を設けることで、配線基板の側面に配線パターンを直接形成した場合と比べて、第2配線部32、ひいては電極部34の設計自由度を高めることができる。
[1-3. effect]
According to the embodiment detailed above, the following effects can be obtained.
(1a) The second substrate 3 on which the second wiring part 32 including the electrode part 34 to which an electronic component or the like is connected is coated on the side surface of the first substrate 2, thereby The electrode portion 34 can be disposed on the side surface of the wiring substrate 1 while being electrically connected to the one wiring portion 22. In addition, by providing the second substrate 3, the degree of freedom in designing the second wiring portion 32, and hence the electrode portion 34, can be increased as compared with the case where the wiring pattern is directly formed on the side surface of the wiring substrate.

(1b)第1導通部24がハーフビアであることで、第1導通部24の形成が容易に行えると共に、第2導通部35との導通面積を確保して電気的な接続の信頼性を高めることができる。   (1b) Since the first conduction portion 24 is a half via, the first conduction portion 24 can be easily formed, and the conduction area with the second conduction portion 35 is secured to increase the reliability of electrical connection. be able to.

[2.第2実施形態]
[2−1.配線基板]
図5に示す配線基板101は、第1基板2と、第2基板103とを備える。第1基板2は、図2の配線基板1の第1基板2と同じであるため、同一の符号を付して説明を省略する。
[2. Second Embodiment]
[2-1. Wiring board]
A wiring substrate 101 shown in FIG. 5 includes a first substrate 2 and a second substrate 103. Since the first substrate 2 is the same as the first substrate 2 of the wiring substrate 1 in FIG. 2, the same reference numerals are given and description thereof is omitted.

<第2基板>
第2基板103は、厚み方向に重ねられた複数の第2絶縁層31と、複数の第2絶縁層31に配置された複数の第2配線部32と、複数の第2絶縁層31を厚み方向に貫通する複数の第2ビア導体33とを有する。
<Second substrate>
The second substrate 103 has a plurality of second insulating layers 31 stacked in the thickness direction, a plurality of second wiring portions 32 arranged in the plurality of second insulating layers 31, and a plurality of second insulating layers 31. And a plurality of second via conductors 33 penetrating in the direction.

第2基板103は、図2の配線基板1の第2基板3における第2板面側にさらに第2絶縁層31を設けたものである。複数の第2配線部32のうち、第2基板103の第2板面に設けられた配線部は、電極部34を含む。また、複数の第2配線部32のうち、第2基板103の第1板面に設けられた配線部は、第2導通部35を含む。   The second substrate 103 is obtained by further providing a second insulating layer 31 on the second plate surface side of the second substrate 3 of the wiring substrate 1 of FIG. Of the plurality of second wiring parts 32, the wiring part provided on the second plate surface of the second substrate 103 includes an electrode part 34. Further, among the plurality of second wiring parts 32, the wiring part provided on the first plate surface of the second substrate 103 includes a second conduction part 35.

電極部34と第2導通部35とは、複数の第2ビア導体33と、複数の第2絶縁層31の間に配置された第2配線部32とによって導通されている。また、第2導通部35は、第1基板2の第1導通部24と導通している。   The electrode part 34 and the second conduction part 35 are electrically connected by the plurality of second via conductors 33 and the second wiring part 32 disposed between the plurality of second insulating layers 31. Further, the second conduction part 35 is electrically connected to the first conduction part 24 of the first substrate 2.

[2−2.効果]
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(2a)第2基板103が多層構造を有することで、より複雑な配線パターンを第2基板103に形成できる。そのため、接続用の電極部34の取り回しにおける設計自由度がより高められる。
[2-2. effect]
According to the embodiment detailed above, the following effects can be obtained.
(2a) Since the second substrate 103 has a multilayer structure, a more complicated wiring pattern can be formed on the second substrate 103. For this reason, the degree of freedom in design in handling the connecting electrode portion 34 is further increased.

[3.第3実施形態]
[3−1.配線基板]
図6に示す配線基板201は、第1基板202と、第2基板203とを備える。
[3. Third Embodiment]
[3-1. Wiring board]
A wiring substrate 201 shown in FIG. 6 includes a first substrate 202 and a second substrate 203.

<第1基板>
第1基板202は、厚み方向に重ねられた複数の第1絶縁層21,221と、複数の第1絶縁層21に配置された複数の第1配線部22と、複数の第1絶縁層21を厚み方向に貫通する複数の第1ビア導体23と、第1導通部24とを有する。
<First substrate>
The first substrate 202 includes a plurality of first insulating layers 21 and 221 stacked in the thickness direction, a plurality of first wiring portions 22 arranged in the plurality of first insulating layers 21, and a plurality of first insulating layers 21. And a plurality of first via conductors 23 penetrating in the thickness direction, and a first conductive portion 24.

第1基板202は、裏面側の最表層として、他の第1絶縁層21よりも板面方向に突出するように延伸している第1絶縁層221を有する点を除いて、図2の第1基板2と同じ構成である。ただし、第1基板202は、側面のうち、対向する2つの部分(図6では、左側面及び右側面)と、一方の板面とが第2基板203によって被覆されている。   2 except that the first substrate 202 has a first insulating layer 221 extending as a top surface layer on the back surface side so as to protrude in the plate surface direction from the other first insulating layers 21. The configuration is the same as that of one substrate 2. However, the first substrate 202 is covered with the second substrate 203 on two opposing portions (the left side surface and the right side surface in FIG. 6) of the side surfaces and one plate surface.

<第2基板>
第2基板203は、厚み方向に重ねられた複数の第2絶縁層231と、複数の第2絶縁層231に配置された複数の第2配線部32と、複数の第2絶縁層231を厚み方向に貫通する複数の第2ビア導体33とを有する。
<Second substrate>
The second substrate 203 includes a plurality of second insulating layers 231 stacked in the thickness direction, a plurality of second wiring portions 32 disposed in the plurality of second insulating layers 231, and a plurality of second insulating layers 231 having a thickness. And a plurality of second via conductors 33 penetrating in the direction.

第2基板203は、第1基板202の側面と、第1基板202の板面とを覆うように配置されている。具体的には、第2基板203は、第1基板202の側面の第1部分と、第1基板202の板面と、第1基板202の側面のうち、板面と連続し、かつ第1部分と対向する第2部分とに跨るように配置されている。なお、第2基板203の一方の端部は、第1絶縁層221の板面に当接している。   The second substrate 203 is disposed so as to cover the side surface of the first substrate 202 and the plate surface of the first substrate 202. Specifically, the second substrate 203 is continuous with the plate surface among the first portion on the side surface of the first substrate 202, the plate surface of the first substrate 202, and the side surface of the first substrate 202, and the first substrate 202. It arrange | positions so that the 2nd part facing a part may be straddled. Note that one end of the second substrate 203 is in contact with the plate surface of the first insulating layer 221.

第2基板203の複数の第2配線部32のうち、第1基板202とは反対側の第2板面に設けられた配線部は、電極部34を含む。また、複数の第2配線部32のうち、第1基板202と当接する第1板面に設けられた配線部は、第2導通部35を含む。   Of the plurality of second wiring portions 32 of the second substrate 203, the wiring portion provided on the second plate surface opposite to the first substrate 202 includes an electrode portion 34. Further, among the plurality of second wiring parts 32, the wiring part provided on the first plate surface in contact with the first substrate 202 includes the second conduction part 35.

なお、第2板面に設けられた第2配線部32は、図6に示すように、第1基板202の側面と対向する位置から、第1基板202の板面と対向する位置まで延伸していてもよい。また、複数の第2配線部32の間に配置された第2配線部32が第1基板202の側面と対向する位置から、第1基板202の板面と対向する位置まで延伸していてもよい。   As shown in FIG. 6, the second wiring portion 32 provided on the second plate surface extends from a position facing the side surface of the first substrate 202 to a position facing the plate surface of the first substrate 202. It may be. Further, even if the second wiring portion 32 disposed between the plurality of second wiring portions 32 extends from a position facing the side surface of the first substrate 202 to a position facing the plate surface of the first substrate 202. Good.

[3−2.配線基板の製造方法]
配線基板201の製造方法は、図3に示す配線基板1の製造方法と同様である。以下では、配線基板201の製造方法における着圧工程S20について詳説する。
[3-2. Wiring board manufacturing method]
The manufacturing method of the wiring board 201 is the same as the manufacturing method of the wiring board 1 shown in FIG. Hereinafter, the pressing step S20 in the method for manufacturing the wiring board 201 will be described in detail.

図7に示すように、着圧工程S20では、未焼結の第1基板202の板面側から、第1基板202の厚み方向に、未焼結の第2基板203を着圧する。未焼結の第2基板203は、第1板面が未焼結の第1基板202の側面及び板面を覆うように、第1基板202の外形に沿って曲げられる。また、未焼結の第2基板203は、第2導通部35が第1導通部24と当接する位置に配置される。   As shown in FIG. 7, in the pressing step S <b> 20, the unsintered second substrate 203 is pressed in the thickness direction of the first substrate 202 from the plate surface side of the unsintered first substrate 202. The unsintered second substrate 203 is bent along the outer shape of the first substrate 202 so that the first plate surface covers the side surface and the plate surface of the unsintered first substrate 202. In addition, the unsintered second substrate 203 is disposed at a position where the second conductive portion 35 contacts the first conductive portion 24.

[3−3.効果]
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(3a)第2基板203の面積が大きくなるので、第2基板203における配線パターンの設計自由度がより高められる。そのため、配線基板201のインピーダンスの調整等が容易になる。
[3-3. effect]
According to the embodiment detailed above, the following effects can be obtained.
(3a) Since the area of the second substrate 203 is increased, the degree of freedom in designing the wiring pattern on the second substrate 203 is further increased. Therefore, the adjustment of the impedance of the wiring board 201 is facilitated.

[4.他の実施形態]
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
[4. Other Embodiments]
As mentioned above, although embodiment of this indication was described, it cannot be overemphasized that this indication can take various forms, without being limited to the above-mentioned embodiment.

(4a)上記実施形態の配線基板1,101,201において、第1導通部24は、ハーフビアに限定されない。したがって、第1導通部24は、ビア導体以外のパッド電極等であってもよい。   (4a) In the wiring boards 1, 101, and 201 of the above embodiment, the first conduction part 24 is not limited to a half via. Therefore, the first conductive portion 24 may be a pad electrode other than the via conductor.

(4b)上記実施形態の配線基板1,101,201において、第2基板3,103,203は、電極部34が第1導通部24と電気的に接続できれば、第2導通部35、つまり第1板面に設けられる第2配線部32を有さなくてもよい。例えば、第1板面を構成する(つまり第1基板2,202と当接する)第2絶縁層31を貫通する第2ビア導体33を第1導通部24と直接接続してもよい。   (4b) In the wiring boards 1, 101, and 201 of the above embodiment, the second substrates 3, 103, and 203 have the second conductive part 35, i. The second wiring portion 32 provided on one plate surface may not be provided. For example, the second via conductor 33 that penetrates the second insulating layer 31 that constitutes the first plate surface (that is, abuts against the first substrate 2, 202) may be directly connected to the first conduction portion 24.

(4c)上記実施形態の配線基板1,101,201において、第1絶縁層21及び第2絶縁層31,231の材質はセラミックに限定されない。例えば、第1絶縁層21及び第2絶縁層31,231は樹脂製であってもよい。   (4c) In the wiring substrates 1, 101, and 201 of the above embodiment, the material of the first insulating layer 21 and the second insulating layers 31 and 231 is not limited to ceramic. For example, the first insulating layer 21 and the second insulating layers 31 and 231 may be made of resin.

(4d)上記実施形態の配線基板1,101,201において、電極部34には必ずしも電子部品が実装されなくてもよい。例えば、電極部34に外部端子が接続され、第1配線部22が含む電極に電子部品が実装されてもよい。   (4d) In the wiring boards 1, 101, and 201 of the above-described embodiment, electronic parts are not necessarily mounted on the electrode part 34. For example, an external terminal may be connected to the electrode part 34 and an electronic component may be mounted on the electrode included in the first wiring part 22.

(4e)上記実施形態の配線基板の製造方法において、ビア導体及び配線部をメッキを用いて形成してもよい。また、焼結した第1基板及び第2基板を用いて着圧を行ってもよい。   (4e) In the method for manufacturing a wiring board according to the above-described embodiment, the via conductor and the wiring portion may be formed using plating. Moreover, you may press-fit using the sintered 1st board | substrate and 2nd board | substrate.

(4f)上記実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素として分散させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に統合したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。   (4f) The functions of one component in the above embodiment may be distributed as a plurality of components, or the functions of a plurality of components may be integrated into one component. Moreover, you may abbreviate | omit a part of structure of the said embodiment. In addition, at least a part of the configuration of the above embodiment may be added to or replaced with the configuration of the other embodiment. In addition, all the aspects included in the technical idea specified from the wording described in the claims are embodiments of the present disclosure.

1…配線基板、2…第1基板、3…第2基板、21…第1絶縁層、22…第1配線部、
23…第1ビア導体、24…第1導通部、31…第2絶縁層、32…第2配線部、
33…第2ビア導体、34…電極部、35…第2導通部、101…配線基板、
103…第2基板、201…配線基板、202…第1基板、203…第2基板、
221…第1絶縁層、231…第2絶縁層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wiring board, 2 ... 1st board | substrate, 3 ... 2nd board | substrate, 21 ... 1st insulating layer, 22 ... 1st wiring part,
23 ... 1st via conductor, 24 ... 1st conduction | electrical_connection part, 31 ... 2nd insulating layer, 32 ... 2nd wiring part,
33 ... 2nd via conductor, 34 ... Electrode part, 35 ... 2nd conduction | electrical_connection part, 101 ... Wiring board,
103 ... 2nd board | substrate, 201 ... Wiring board, 202 ... 1st board | substrate, 203 ... 2nd board | substrate,
221: first insulating layer, 231: second insulating layer.

Claims (4)

厚み方向に重ねられた複数の第1絶縁層、及び前記複数の第1絶縁層に配置された複数の第1配線部を有する第1基板と、
少なくとも1つの第2絶縁層、及び前記少なくとも1つの第2絶縁層に配置された少なくとも1つの第2配線部を有する第2基板と、
を備え、
前記第2基板は、板面により前記第1基板の側面の少なくとも一部を覆うように配置され、
前記第1基板は、前記第1基板における前記第2基板が配置される前記側面に設けられた導通部を有し、
前記第2配線部は、前記第2基板に設けられ、前記導通部と電気的に接続された電極部を含む、配線基板。
A first substrate having a plurality of first insulating layers stacked in a thickness direction, and a plurality of first wiring portions disposed in the plurality of first insulating layers;
A second substrate having at least one second insulating layer and at least one second wiring portion disposed in the at least one second insulating layer;
With
The second substrate is disposed so as to cover at least a part of the side surface of the first substrate with a plate surface;
The first substrate has a conduction portion provided on the side surface of the first substrate on which the second substrate is disposed.
The second wiring part is a wiring board including an electrode part provided on the second substrate and electrically connected to the conduction part.
前記導通部は、前記第1絶縁層を厚み方向に貫通するビア導体である、請求項1に記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the conductive portion is a via conductor that penetrates the first insulating layer in a thickness direction. 前記第2基板は、厚み方向に重ねられた複数の前記第2絶縁層と、前記複数の第2絶縁層に配置された複数の前記第2配線部とを有する、請求項1又は請求項2に記載の配線基板。   The said 2nd board | substrate has the said some 2nd insulating layer accumulated in the thickness direction, and the said some 2nd wiring part arrange | positioned at these 2nd insulating layers. Wiring board as described in. 前記第2基板は、前記第1基板の前記側面の少なくとも一部に加え、前記第1基板の板面の少なくとも一部も覆うように配置される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の配線基板。   4. The device according to claim 1, wherein the second substrate is disposed so as to cover at least a part of a plate surface of the first substrate in addition to at least a part of the side surface of the first substrate. The wiring board according to item.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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