JP2018166156A - 軟磁性粉末、圧粉磁心、磁性素子および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】成形性および粒子間の絶縁性に優れる軟磁性粉末、かかる軟磁性粉末を含む圧粉磁心および磁性素子、ならびに、この磁性素子を備える電子機器を提供すること。【解決手段】Fe−Al−M系合金(Mは、CrおよびTiの少なくとも一方)を含む金属粒子と、前記金属粒子の表面に設けられ、主材料としてアルミナを含む表面層と、を有することを特徴とする軟磁性粉末。また、前記表面層は、アルミナより低い含有率で前記Mの酸化物を含むことが好ましい。また、Feを主成分として含み、Alの含有率が0.5質量%以上8質量%以下であり、Mの含有率が0.5質量%以上13質量%以下であることが好ましい。【選択図】図1
Description
本発明は、軟磁性粉末、圧粉磁心、磁性素子および電子機器に関するものである。
近年、ノート型パソコンのようなモバイル機器の小型化・軽量化が進んでいるが、小型化と高性能化との両立を図るためには、スイッチング電源の高周波数化が必要となる。現在、スイッチング電源の駆動周波数は数100kHz以上にまで高周波数化が進んでいるが、それに伴って、モバイル機器に内蔵されたチョークコイルやインダクター等の磁性素子についても高周波数化への対応が必要となる。
例えば、特許文献1には、Fe−Si−M系軟磁性合金(ただし、MはFeより酸化し易い金属元素である。)からなる複数の金属粒子と、金属粒子の表面に形成された酸化被膜と、を備え、隣接する金属粒子表面に形成された酸化被膜を介しての結合部および酸化被膜が存在しない部分における金属粒子同士の結合部を有する粒子成形体からなる磁性材料が開示されている。特許文献1では、このような磁性材料を用いることにより、絶縁抵抗の向上と透磁率の向上とを両立させることを試みている。絶縁抵抗の向上により、渦電流損失の低減が図られるため、高周波数下における磁心の鉄損を抑えることができる。また、透磁率の向上により、磁心の小型化を図ることができる。
しかしながら、特許文献1に記載の磁性金属粒子は、圧粉成形して粒子成形体を製造するとき、成形性に問題を抱えている。すなわち、成形型に対する磁性金属粒子の流動性が低いため、充填率が低くなり、その結果、透磁率を十分に高めることが難しい。
本発明の目的は、成形性および粒子間の絶縁性に優れる軟磁性粉末、かかる軟磁性粉末を含む圧粉磁心および磁性素子、ならびに、この磁性素子を備える電子機器を提供することにある。
上記目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の軟磁性粉末は、Fe−Al−M系合金(Mは、CrおよびTiの少なくとも一方)を含む金属粒子と、
前記金属粒子の表面に設けられ、主材料としてアルミナを含む表面層と、
を有することを特徴とする。
これにより、成形性および粒子間の絶縁性に優れる軟磁性粉末が得られる。
本発明の軟磁性粉末は、Fe−Al−M系合金(Mは、CrおよびTiの少なくとも一方)を含む金属粒子と、
前記金属粒子の表面に設けられ、主材料としてアルミナを含む表面層と、
を有することを特徴とする。
これにより、成形性および粒子間の絶縁性に優れる軟磁性粉末が得られる。
本発明の軟磁性粉末では、前記表面層は、アルミナより低い含有率で前記Mの酸化物を含むことが好ましい。
これにより、主にアルミナに由来する絶縁性を十分に確保しつつ、酸化クロムや酸化チタンが添加されることによって、表面層におけるアルミナの安定化を図ることができる。
本発明の軟磁性粉末では、Feを主成分として含み、
Alの含有率が0.5質量%以上8質量%以下であり、
Mの含有率が0.5質量%以上13質量%以下であることが好ましい。
Alの含有率が0.5質量%以上8質量%以下であり、
Mの含有率が0.5質量%以上13質量%以下であることが好ましい。
これにより、磁性に富み、機械的特性が良好な軟磁性粉末が得られる。また、軟磁性粉末における透磁率の向上と体積抵抗率の向上の良好なバランスを図ることができる。さらに、表面層におけるアルミナの十分な安定化が図られる。
本発明の軟磁性粉末では、Mの含有率に対するAlの含有率の割合は、質量比で0.5以上6以下であることが好ましい。
これにより、金属粒子と表面層との間の密着性と、表面層におけるアルミナの安定化と、の両立を図ることができる。
本発明の圧粉磁心は、本発明の軟磁性粉末を含むことを特徴とする。
これにより、軟磁性粉末に由来する高い粒子間絶縁性と、充填性の高さに由来する高い透磁率と、を有する圧粉磁心が得られる。
これにより、軟磁性粉末に由来する高い粒子間絶縁性と、充填性の高さに由来する高い透磁率と、を有する圧粉磁心が得られる。
本発明の磁性素子は、本発明の圧粉磁心を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い磁性素子が得られる。
これにより、信頼性の高い磁性素子が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の磁性素子を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性が高い電子機器が得られる。
これにより、信頼性が高い電子機器が得られる。
以下、本発明の軟磁性粉末、圧粉磁心、磁性素子および電子機器について、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
[軟磁性粉末]
本実施形態に係る軟磁性粉末は、軟磁性を示す金属粉末である。かかる軟磁性粉末は、軟磁性を利用したいかなる用途にも適用可能であるが、例えば、所定の形状に成形されることで、圧粉磁心を製造するのに用いられる。
本実施形態に係る軟磁性粉末は、軟磁性を示す金属粉末である。かかる軟磁性粉末は、軟磁性を利用したいかなる用途にも適用可能であるが、例えば、所定の形状に成形されることで、圧粉磁心を製造するのに用いられる。
図1は、本発明の軟磁性粉末の実施形態のうち1つの粒子を示す断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜のため、軟磁性粉末のうち1つの粒子のことを「軟磁性粒子」といい、軟磁性粉末は複数の軟磁性粒子の集合体を含むものをいう。
図1に示す軟磁性粒子1は、Fe−Al−M系合金(Mは、CrおよびTiの少なくとも一方)を含む金属粒子2と、金属粒子2の表面に設けられ、主材料としてアルミナを含む表面層3と、を有する。
このような軟磁性粒子1は、金属粒子2の合金組成と表面層3が設けられることによって、成形性および粒子間の絶縁性に優れたものとなる。このため、高い充填率で軟磁性粉末が充填されるとともに、その場合でも軟磁性粒子1同士の間の高い絶縁性が確保されるため、結果的には鉄損が小さく、かつ、透磁率が高い圧粉磁心を得ることができる。
以下、軟磁性粒子1の組成について詳述する。
−Fe−
Feは、軟磁性粒子1の基本的な磁気特性や機械的特性に大きな影響を与える。Feは、磁性に富み、機械的特性が良好であることから、Fe−Al−M系合金の主成分であることが好ましい。
−Fe−
Feは、軟磁性粒子1の基本的な磁気特性や機械的特性に大きな影響を与える。Feは、磁性に富み、機械的特性が良好であることから、Fe−Al−M系合金の主成分であることが好ましい。
なお、主成分とは、Fe−Al−M系合金を構成する元素のうち、質量比における含有率が最も高い元素のことをいう。また、Fe−Al−M系合金におけるFeの含有率は、好ましくは50質量%以上とされる。
−Al−
Alは、Feとともに合金または金属間化合物を形成することにより、軟磁性粒子1の透磁率を高めることに寄与する。また、金属粒子2の体積抵抗率を高めることができるので、軟磁性粒子1に発生する誘導電流の低減に寄与し、圧粉磁心における鉄損の低減を図ることができる。
Alは、Feとともに合金または金属間化合物を形成することにより、軟磁性粒子1の透磁率を高めることに寄与する。また、金属粒子2の体積抵抗率を高めることができるので、軟磁性粒子1に発生する誘導電流の低減に寄与し、圧粉磁心における鉄損の低減を図ることができる。
さらに、Alが添加されることにより、主材料としてアルミナを含む表面層3との密着性を高めることができる。これにより、金属粒子2と表面層3との間で剥離等が生じ難くなり、信頼性の高い圧粉磁心が得られる。
Alの含有率は、0.5質量%以上8質量%以下であるのが好ましく、1質量%以上6質量%以下であるのがより好ましく、1.5質量%以上5.5質量%以下であるのがさらに好ましい。これにより、軟磁性粒子1における透磁率と向上と体積抵抗率の向上の良好なバランスを図ることができる。
なお、Alの含有率が前記下限値を下回ると、Fe−Al−M系合金の組成によっては、軟磁性粒子1の透磁率の向上を図ることが難しくなったり、金属粒子2と表面層3との間で剥離等が生じて、例えば軟磁性粒子1同士の間における絶縁抵抗が低下したりするおそれがある。一方、Alの含有率が前記上限値を上回ると、Fe−Al−M系合金の組成によっては、Alが過剰になるため、軟磁性粒子1の透磁率が低下したり、金属粒子2の靭性といった機械的特性が低下したりするおそれがある。
−M−
Mは、CrおよびTiの少なくとも一方を指している。したがって、Mは、Crであってもよく、Tiであってもよく、CrとTiの双方であってもよい。
Mは、CrおよびTiの少なくとも一方を指している。したがって、Mは、Crであってもよく、Tiであってもよく、CrとTiの双方であってもよい。
金属粒子2中にCrが添加されることにより、表面層3においてアルミナが支配的に存在し易くなる。すなわち、Crの添加が表面層3におけるアルミナの安定化に寄与すると考えられる。このため、アルミナが主材料として含まれ、かつ、十分な厚さを有し、絶縁性の高い表面層3を維持することができる。その結果、軟磁性粒子1同士の間における絶縁抵抗が高くなり、軟磁性粒子1同士の間における誘導電流が抑制され、鉄損が特に小さい圧粉磁心を実現することができる。また、軟磁性粒子1の流動性が高くなり、成形性が良好になるので、透磁率や飽和磁束密度等の磁気特性に優れた圧粉磁心を実現することができる。
一方、金属粒子2中にTiが添加されることにより、上述したCrと同様の作用が得られる。すなわち、Tiの添加が表面層3におけるアルミナの安定化に寄与し、鉄損が特に小さい圧粉磁心を実現することができる。
Mの含有率は、0.5質量%以上13質量%以下であるのが好ましく、0.7質量%以上10質量%以下であるのがより好ましく、0.8質量%以上5質量%以下であるのがさらに好ましい。これにより、表面層3におけるアルミナの十分な安定化が図られる。
なお、Mの含有率が前記下限値を下回ると、Fe−Al−M系合金の組成によっては、表面層3においてアルミナの安定化を図ることができず、表面層3の絶縁性が低下したり、軟磁性粒子1の流動性(成形性)が低下したり、金属粒子2の酸化による磁気特性の低下を招いたりするおそれがある。一方、Mの含有率が前記上限値を上回ると、Fe−Al−M系合金の組成によっては、軟磁性粒子1の透磁率の向上を図ることが難しくなったり、表面層3においてMの酸化物が支配的になって十分な絶縁性が得られなかったり、金属粒子2の靭性といった機械的特性が低下したりするおそれがある。
なお、Mの含有率とは、MがCrである場合にはCrの含有率のことを指し、MがTiである場合にはTiの含有率のことを指し、MがCrとTiの双方である場合にはCrの含有率とTiの含有率の合計のことを指す。
また、MがCrとTiの双方である場合、双方の比率は特に限定されないものの、Crの含有率はTiの含有率より大きいことが好ましい。これにより、表面層3におけるアルミナの安定化といった効果がより顕著になる。この場合、Crの含有率はTiの含有率の101質量%以上500質量%以下であるのが好ましく、150質量%以上400質量%以下であるのがより好ましい。これにより、軟磁性粒子1の透磁率への影響を最小限に抑えつつ、表面層3におけるアルミナの安定化を図ることができる。また、併せて、金属粒子2の体積抵抗率を高めることができ、かかる観点からも軟磁性粒子1に発生する誘導電流の低減を図ることができる。
また、軟磁性粒子1において、Mの含有率に対するAlの含有率の割合は、質量比で0.5以上6以下であるのが好ましく、1以上5以下であるのがより好ましく、1.2以上4.5以下であるのがさらに好ましい。Mの含有率に対するAlの含有率の割合を前記範囲内に設定することにより、Alによる作用とMによる作用の良好なバランスを図ることができる。すなわち、金属粒子2と表面層3との間の密着性と、表面層3におけるアルミナの安定化と、の両立を図ることができる。
以上をまとめると、軟磁性粒子1は、Feを主成分として含み、Alの含有率が0.5質量%以上8質量%以下であり、Mの含有率が0.5質量%以上13質量%以下であることが好ましい。これにより、軟磁性粒子1は、磁性に富み、機械的特性が良好なものとなる。また、軟磁性粒子1における透磁率と向上と体積抵抗率の向上の良好なバランスを図ることができる。さらに、表面層3におけるアルミナの十分な安定化が図られる。
−その他の元素−
軟磁性粒子1は、その他の元素を含んでいてもよい。
軟磁性粒子1は、その他の元素を含んでいてもよい。
その他の元素としては、例えば、P(リン)、S(硫黄)、Si(ケイ素)、Mn(マンガン)等が挙げられる。これらの元素は、例えば金属粒子2の硬度を高める。このため、軟磁性粒子1は変形し難いものとなり、圧粉成形される際に表面層3の損傷等を生じさせ難いものとなる。
また、これらの元素は、Fe−Al−M系合金の融点を下げることに寄与する。このため、Fe−Al−M系合金の原料を溶融する際、溶融金属の粘性を下げることができ、例えばアトマイズ法等の粉末化法によって軟磁性粒子1が製造されるときには、異形状が少なく粒径の揃った軟磁性粒子1を効率よく製造することができる。かかる観点からも、表面層3の損傷等を生じさせ難い軟磁性粒子1が得られる。
PおよびSの含有率は、それぞれ、好ましくは0.01質量%以上0.5質量%以下程度とされ、より好ましくは0.05質量%以上0.3質量%以下程度とされる。これにより、軟磁性粒子1の脆性が増大してしまうのを避けつつ、硬度を高めることができる。また、軟磁性粒子1の磁気特性を損なうことなく、Fe−Al−M系合金の融点を十分に下げることができ、異形状が少なくかつ粒径の揃った軟磁性粒子1を製造し易くなる。
また、Siの含有率は、好ましくは0.1質量%以上2質量%以下程度とされ、より好ましくは0.3質量%以上1.5質量%以下程度とされる。これにより、軟磁性粒子1の透磁率をより高めることができる。
また、Mnの含有率は、好ましくは0.1質量%以上2質量%以下程度とされ、より好ましくは0.3質量%以上1.5質量%以下程度とされる。これにより、軟磁性粒子1の硬度をより高めることができる。また、Sを比較的多く含んでいる場合には、軟磁性粒子1の高温脆性が増大する場合があるが、Mnを前記範囲内の割合で含有していることにより、MnS(硫化マンガン)が生成し、この高温脆性を抑制することができる。したがって、SとMnとを併用することにより、軟磁性粒子1の破壊・欠損を生じさせ難くなり、長期にわたって特に安定した軟磁性粒子1が得られる。
なお、軟磁性粒子1は、その酸素含有率が質量比で100ppm以上10000ppm以下であるのが好ましく、500ppm以上8500ppm以下であるのがより好ましく、1000ppm6000ppm以下であるのがさらに好ましい。酸素含有率を前記範囲内に収めることにより、軟磁性粒子1は、成形性と透磁率とを両立し得るものとなる。すなわち、酸素含有率が前記下限値を下回る場合には、軟磁性粒子1の粒径によっては、表面層3の厚さが十分ではないと認められる。このため、軟磁性粒子1同士の間における絶縁性が十分ではなく、圧粉磁心における鉄損が増加するおそれがある。一方、酸素含有率が前記上限値を上回る場合には、軟磁性粒子1の粒径によっては、表面層3の厚さが厚過ぎると認められる。このため、金属粒子2の比率が低下し、圧粉磁心における磁気特性が低下するおそれがある。
また、軟磁性粒子1は、上述した発明の効果を損なわない範囲で、上述した元素以外のいかなる元素を不純物として含んでいてもよい。軟磁性粒子1における不純物の混入量は、各元素で0.1質量%以下であるのが好ましく、0.05質量%以下であるのがより好ましい。また、不純物合計でも、0.5質量%以下であるのが好ましい。この範囲内であれば、不可避的または意図的であっても、不純物の混入が悪影響を及ぼし難い。
なお、軟磁性粒子1の組成は、例えば、JIS G 1257(2000)に規定された鉄及び鋼−原子吸光分析法、JIS G 1258(2007)に規定された鉄及び鋼−ICP発光分光分析法、JIS G 1253(2002)に規定された鉄及び鋼−スパーク放電発光分光分析法、JIS G 1256(1997)に規定された鉄及び鋼−蛍光X線分析法、JIS G 1211〜G 1237に規定された重量・滴定・吸光光度法等により特定することができる。具体的には、例えばSPECTRO社製固体発光分光分析装置(スパーク放電発光分光分析装置、モデル:SPECTROLAB、タイプ:LAVMB08A)や、(株)リガク製ICP装置(CIROS120型)が挙げられる。
また、C(炭素)およびS(硫黄)の特定に際しては、特に、JIS G 1211(2011)に規定された酸素気流燃焼(高周波誘導加熱炉燃焼)−赤外線吸収法も用いられる。具体的には、LECO社製炭素・硫黄分析装置、CS−200が挙げられる。
さらに、N(窒素)およびO(酸素)の特定に際しては、特に、JIS G 1228(2006)に規定された鉄および鋼の窒素定量方法、JIS Z 2613(2006)に規定された金属材料の酸素定量方法も用いられる。具体的には、LECO社製酸素・窒素分析装置、TC−300/EF−300またはLECO社製酸素窒素水素分析装置、ONH−836が挙げられる。また、検体の量は0.1gとする。
(金属粒子)
次に、金属粒子2について説明する。
次に、金属粒子2について説明する。
金属粒子2は、軟磁性粒子1において表面層3よりも内側に位置し、軟磁性粒子1の機械的特性や磁気特性に支配的影響を及ぼす。
金属粒子2は、前述したFe−Al−M系合金を含んでおり、原料から粉末化法を経て製造される。粉末化法としては、例えば、アトマイズ法、粉砕法等が挙げられる。
このうち、アトマイズ法により製造された金属粒子2が好ましく用いられる。アトマイズ法は、溶融金属を、冷却媒(液体やガス等)に衝突させることにより粉末化する方法である。溶融金属は、噴霧されたり、冷却媒と衝突することにより、微細な液滴となるとともに、この液滴が冷却媒と接触することにより急速に冷却され固化する。この際、液滴は自然落下しつつ冷却されるため、自らの表面張力によって形状が球形化される。これにより、球形に近い形状をなし、かつ、異形状の粒子が少なくなるので、粒径の揃った金属粒子2が得られる。
なお、アトマイズ法としては、例えば、水アトマイズ法、高速回転水流アトマイズ法、ガスアトマイズ法、真空溶解ガスアトマイズ法、ガス−水アトマイズ法、超音波アトマイズ法等が挙げられる。
このうち、アトマイズ法としては、水アトマイズ法または高速回転水流アトマイズ法を用いるのが好ましく用いられる。これらのアトマイズ法によれば、冷却媒として比重の大きい媒体(例えば、水等)を用いるため、溶融金属をより微細に分断することができる。これにより、より粒径の揃った金属粒子2が得られる。
(表面層)
次に、表面層3について説明する。
次に、表面層3について説明する。
表面層3は、軟磁性粒子1において金属粒子2の表面に設けられている。
表面層3は、主材料としてアルミナを含む被膜である。表面層3は、金属粒子2の表面の少なくとも一部に位置していればよく、必ずしも金属粒子2の表面全体を覆っていなくてもよい。
表面層3は、主材料としてアルミナを含む被膜である。表面層3は、金属粒子2の表面の少なくとも一部に位置していればよく、必ずしも金属粒子2の表面全体を覆っていなくてもよい。
アルミナは、酸化アルミニウムであればよく、例えばAl2O3、AlO2、AlOが挙げられ、これらのうちの1種または2種以上が混在したものである。
また、表面層3は、アルミナ以外の酸化物を含んでいてもよい。かかる酸化物としては、例えば、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上が混在したものである。このうち、酸化鉄としては、例えば、Fe3O4、Fe2O3、FeO等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上が混在したものである。
表面層3におけるアルミナは、主材料、すなわち最も含有率の高い成分である。表面層3におけるアルミナの含有率は、40質量%以上であるのが好ましく、50質量%以上99質量%以下であるのがより好ましく、70質量%以上95質量%以下であるのがさらに好ましい。これにより、表面層3には、アルミナに由来する高い絶縁性が付与される。このため、軟磁性粒子1同士の間で流れる誘導電流を抑制することができる。また、表面層3を薄くしても、あるいは高温下でも絶縁性を確保することができるので、圧粉磁心の磁気特性を高めることができる。
さらに、表面層3が設けられることにより、軟磁性粒子1の表面に対してガラス材料等を含む絶縁膜を成膜するとき、その絶縁膜と軟磁性粒子1との密着性をより高めることができる。これにより、粒子間の絶縁性に優れた圧粉磁心が得られる。
また、表面層3は、アルミナより低い含有率でMの酸化物、すなわち酸化クロムおよび酸化チタンの少なくとも一方を含むのが好ましい。これにより、主にアルミナに由来する絶縁性を十分に確保しつつ、酸化クロムや酸化チタンが添加されることによって、表面層3におけるアルミナの安定化を図ることができる。
なお、アルミナより低い含有率のMの酸化物とは、質量比において酸化クロムの含有率と酸化チタンの含有率の合計がアルミナの含有率よりも低いことをいう。
表面層3におけるMの酸化物の含有率は、アルミナの0.1質量%以上40質量%以下であるのが好ましく、1質量%以上30質量%以下であるのがより好ましい。これにより、アルミナに由来する高い絶縁性と、Mの酸化物によるアルミナの安定化と、のバランスが図られ、長期にわたって絶縁性が良好な軟磁性粒子1が得られる。また、かかる軟磁性粒子1は、耐熱性という観点からも有用である。
なお、Mの酸化物の含有率が前記下限値を下回ると、表面層3の組成によっては表面層3におけるアルミナの安定化が低下し、例えば高温で加熱されたときに表面層3の絶縁性が低下するおそれがある。一方、Mの酸化物の含有率が前記上限値を上回ると、相対的にアルミナの含有率が低下するため、表面層3の組成によっては表面層3の絶縁性が低下するおそれがある。
このような表面層3におけるアルミナ、酸化クロム、酸化チタンおよび酸化鉄の含有率は、例えば表面層3に対して二次イオン質量分析法を適用することにより求めることができる。このとき、酸化物の算出にあたっては、仮想的にAlの全量がAl2O3、Crの全量がCr2O3、Tiの全量がTiO2、Feの全量がFe3O4になっているものとみなして算出するようにしてもよい。また、軟磁性粒子1の大きさによっては、表面層3の断面を観察し、元素マッピングによる面積率に基づいて質量含有率を算出するようにしてもよい。
表面層3の厚さは、特に限定されないが、1nm以上3μm以下であるのが好ましく、3nm以上1μm以下であるのがより好ましく、5nm以上500nm以下であるのがさらに好ましい。表面層3の厚さが前記範囲内であれば、軟磁性粒子1は、成形性と透磁率とを両立し得るものとなる。
なお、表面層3の厚さは、例えばイオンスパッタリング等によって表面層3を除去し、それに要した時間に基づいて算出することができる。
(軟磁性粉末の特性)
上述したような軟磁性粉末の平均粒径は、1μm以上40μm以下であるのが好ましく、3μm以上30μm以下であるのがより好ましい。このような平均粒径の軟磁性粉末を用いることにより、渦電流が流れる経路を短くすることができるので、軟磁性粉末内において発生する渦電流損失を十分に抑制可能な圧粉磁心を製造することができる。また、平均粒径が適度に小さいので、圧粉したときの充填性を高めることができる。その結果、圧粉磁心の充填密度を高め、圧粉磁心の飽和磁束密度や透磁率を高めることができる。
上述したような軟磁性粉末の平均粒径は、1μm以上40μm以下であるのが好ましく、3μm以上30μm以下であるのがより好ましい。このような平均粒径の軟磁性粉末を用いることにより、渦電流が流れる経路を短くすることができるので、軟磁性粉末内において発生する渦電流損失を十分に抑制可能な圧粉磁心を製造することができる。また、平均粒径が適度に小さいので、圧粉したときの充填性を高めることができる。その結果、圧粉磁心の充填密度を高め、圧粉磁心の飽和磁束密度や透磁率を高めることができる。
なお、軟磁性粉末の平均粒径が前記下限値を下回ると、軟磁性粉末が細かくなり過ぎるため、軟磁性粉末の充填性が低下し易くなるおそれがある。これにより、圧粉磁心(圧粉体の一例)の成形密度が低下するため、軟磁性粉末の材料組成や機械的特性によっては、圧粉磁心の飽和磁束密度や透磁率が低下するおそれがある。一方、軟磁性粉末の平均粒径が前記上限値を上回ると、軟磁性粉末の材料組成や機械的特性によっては、軟磁性粉末の粒子内において発生する渦電流損失を十分に抑制することができず、圧粉磁心の鉄損が増加するおそれがある。
なお、軟磁性粉末の平均粒径は、レーザー回折法により取得された質量基準の粒度分布において、小径側から累積50%となるときの粒径として求められる。
また、軟磁性粉末の保磁力は、特に限定されないが、1[Oe]以上30[Oe]以下(79.6[A/m]以上2387[A/m]以下)であるのが好ましく、1[Oe]以上20[Oe]以下(79.6[A/m]以上1592[A/m]以下)であるのがより好ましい。このように保磁力が小さい軟磁性粉末を用いることにより、高周波数下であってもヒステリシス損失を十分に抑制可能な圧粉磁心を製造することができる。
なお、軟磁性粉末の保磁力は、磁化測定装置(例えば、株式会社玉川製作所製、TM−VSM1230−MHHL等)により測定することができる。
また、軟磁性粉末は、所定のサイズの圧粉体としたときの絶縁抵抗値(圧粉された状態における絶縁抵抗値)が1[MΩ]以上であるのが好ましく、5[MΩ]以上であるのがより好ましく、10[MΩ]以上であるのがさらに好ましい。このような絶縁抵抗値は、絶縁材料を用いることなく実現されたものであるため、軟磁性粉末の粒子間の絶縁性そのものに基づくものである。したがって、このような絶縁抵抗値を実現する軟磁性粉末を用いれば、軟磁性粉末の粒子間が十分に絶縁されるので、絶縁材料の使用量を削減することができ、その分、圧粉磁心等における軟磁性粉末の比率を最大化することができる。その結果、高い磁気特性と低損失とを高度に両立させた圧粉磁心を実現することができる。
すなわち、低損失化という観点からすれば絶縁抵抗値は高いほど好ましいが、絶縁抵抗値が表面層3の厚さに依存することを考慮すれば、10000[MΩ]以下という上限値が設定されていてもよい。これにより、十分な低損失化を図りつつ、圧粉磁心の磁気特性についても必要な値を確保することができる。
なお、上記の絶縁抵抗値は、以下のようにして測定された値である。
まず、測定対象の軟磁性粉末1gをアルミナ製の円筒に充填する。そして、円筒の上下に真ちゅう製の電極を配置する。
まず、測定対象の軟磁性粉末1gをアルミナ製の円筒に充填する。そして、円筒の上下に真ちゅう製の電極を配置する。
次いで、デジタルフォースゲージを用いて上下の電極間を20kgの荷重で加圧しつつ、デジタルマルチメーターを用いて上下の電極間の電気抵抗を測定する。
[軟磁性粉末の製造方法]
次に、本発明の軟磁性粉末を製造する方法について説明する。
まず、前述したような方法で製造された金属粉末を用意する。
次に、金属粉末に対して熱処理を施す。
次に、本発明の軟磁性粉末を製造する方法について説明する。
まず、前述したような方法で製造された金属粉末を用意する。
次に、金属粉末に対して熱処理を施す。
熱処理の温度は、特に限定されないが、500℃以上1300℃以下であるのが好ましく、600℃以上1200℃以下であるのがより好ましく、700℃以上1100℃以下であるのがさらに好ましい。また、熱処理の時間は、前記温度で維持する時間を30分以上20時間以下とするのが好ましく、1時間以上10時間以下とするのがより好ましく、2時間以上6時間以下とするのがさらに好ましい。
また、熱処理の雰囲気は、特に限定されないが、窒素、アルゴンのような不活性ガス雰囲気、水素、アンモニア分解ガスのような還元性ガス雰囲気、減圧雰囲気であるのが好ましい。
このような条件で熱処理を行うことにより、金属粉末の粒子表面に表面層3を形成することができる。また、所定の温度条件でかつ非酸化性雰囲気で加熱されることにより、Mが効果的に作用し、表面層3をアルミナが占めるようになる。すなわち、Mやその酸化物の作用によって、金属粉末に存在していた酸化鉄がアルミナ(酸化アルミニウム)に変化する現象が生じる。これにより、全体の酸素含有率を大幅に高めることなく、絶縁性に優れた軟磁性粒子1を効率よく製造することができる。
また、このような熱処理が施された結果、軟磁性粉末は、優れた流動性を有するものとなる。
具体的には、本実施形態に係る軟磁性粉末について、JIS Z 2502:2012に規定の金属粉の流動性試験方法により流動度[秒]を測定すると、12秒以上25秒以下であるのが好ましく、15秒以上23秒以下であるのがより好ましい。このような流動性を有する軟磁性粉末は、成形されたとき、良好な充填性を示すものとなる。このため、軟磁性粉末の充填率が高い圧粉磁心が得られる。かかる圧粉磁心は、軟磁性粉末の充填率が高いため、軟磁性粉末に由来する磁気特性に優れたものとなる。
なお、このようにして得られた軟磁性粉末に対し、必要に応じて分級を行ってもよい。分級の方法としては、例えば、ふるい分け分級、慣性分級、遠心分級、風力分級のような乾式分級、沈降分級のような湿式分級等が挙げられる。
また、本実施形態に係る軟磁性粉末について、BET法で比表面積を測定すると、0.32m2/g以上0.58m2/g以下であるのが好ましく、0.40m2/g以上0.52m2/g以下であるのがより好ましい。このような比表面積を有する軟磁性粉末は、成形されたとき、良好な充填性を示すものとなる。このため、軟磁性粉末の充填率が高い圧粉磁心が得られる。かかる圧粉磁心は、軟磁性粉末の充填率が高いため、軟磁性粉末に由来する磁気特性に優れたものとなる。
なお、BET法による比表面積は、株式会社マウンテック社製のBET式比表面積測定装置HM1201−010を用いて行われる。また、検体の量は5gとする。
[圧粉磁心および磁性素子]
次に、本実施形態に係る圧粉磁心および本実施形態に係る磁性素子について説明する。
次に、本実施形態に係る圧粉磁心および本実施形態に係る磁性素子について説明する。
本実施形態に係る磁性素子は、チョークコイル、インダクター、ノイズフィルター、リアクトル、トランス、モーター、アクチュエーター、電磁弁、発電機のように、磁心を備えた各種磁性素子に適用可能である。また、本実施形態に係る圧粉磁心は、これらの磁性素子が備える磁心に適用可能である。
以下、磁性素子の一例として、2種類のチョークコイルを代表に説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の磁性素子の第1実施形態を適用したチョークコイルについて説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の磁性素子の第1実施形態を適用したチョークコイルについて説明する。
図2は、本発明の磁性素子の第1実施形態を適用したチョークコイルを示す模式図(平面図)である。
図2に示すチョークコイル10は、リング状(トロイダル形状)の圧粉磁心11と、この圧粉磁心11に巻き回された導線12と、を有する。このようなチョークコイル10は、一般に、トロイダルコイルと称される。
圧粉磁心11は、前述した実施形態に係る軟磁性粉末と結合材(バインダー)と有機溶媒とを混合し、得られた混合物を成形型に供給するとともに、加圧・成形して得られたものである。すなわち、圧粉磁心11は、前述した実施形態に係る軟磁性粉末を含む。このため、圧粉磁心は充填率の高いものとなり、軟磁性粉末に由来する高い粒子間絶縁性と、充填性の高さに由来する高い透磁率と、を有する圧粉磁心11が得られる。
また、前述したように、磁性素子の一例であるチョークコイル10は、圧粉磁心11を備えている。これにより、チョークコイル10は、透磁率が高く鉄損の小さい、信頼性の高いものとなる。その結果、チョークコイル10を電子機器等に搭載するとき、電子機器等の信頼性および性能の向上に寄与する。
なお、必要に応じて、軟磁性粉末の各粒子表面に絶縁膜を成膜するようにしてもよい。この絶縁膜の構成材料としては、例えば、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸亜鉛、リン酸マンガン、リン酸カドミウムのようなリン酸塩、ケイ酸ナトリウムのようなケイ酸塩(水ガラス)等の無機材料等が挙げられる。また、後述する結合材の構成材料として列挙した有機材料から適宜選択されたものであってもよい。
一方、軟磁性粉末(表面層3)の絶縁性が高い場合には、このような絶縁膜の成膜を省略しても、粒子間の絶縁性を確保し易くなる。このため、絶縁膜が省略された分、圧粉磁心における軟磁性粉末の充填率が高くなり、より磁気特性に優れた圧粉磁心が得られる。
圧粉磁心11の作製に用いられる結合材の構成材料としては、例えば、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等の有機材料、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸亜鉛、リン酸マンガン、リン酸カドミウムのようなリン酸塩、ケイ酸ナトリウムのようなケイ酸塩(水ガラス)等の無機材料等が挙げられるが、特に、熱硬化性ポリイミドまたはエポキシ系樹脂が好ましい。これらの樹脂材料は、加熱されることによって容易に硬化するとともに、耐熱性に優れたものである。したがって、圧粉磁心11の製造容易性および耐熱性を高めることができる。
また、軟磁性粉末に対する結合材の割合は、作製する圧粉磁心11の目的とする飽和磁束密度や機械的特性、許容される渦電流損失等に応じて若干異なるが、0.5質量%以上5質量%以下程度であるのが好ましく、1質量%以上3質量%以下程度であるのがより好ましい。これにより、軟磁性粉末の各粒子同士を十分に結着させつつ、飽和磁束密度や透磁率といった磁気特性に優れた圧粉磁心11を得ることができる。
また、有機溶媒としては、結合材を溶解し得るものであれば特に限定されないが、例えば、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、クロロホルム、酢酸エチル等の各種溶媒が挙げられる。
なお、前記混合物中には、必要に応じて、任意の目的で各種添加剤を添加するようにしてもよい。
一方、導線12の構成材料としては、導電性の高い材料が挙げられ、例えば、Cu、Al、Ag、Au、Ni等を含む金属材料が挙げられる。
なお、導線12の表面には、絶縁性を有する表面層が設けられていてもよい。これにより、圧粉磁心11と導線12との短絡をより確実に防止することができる。かかる表面層の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料等が挙げられる。
また、圧粉磁心11の形状は、図2に示すリング状に限定されず、例えばリングの一部が欠損した形状であってもよく、棒状であってもよい。
また、圧粉磁心11には、必要に応じて、前述した実施形態に係る軟磁性粉末以外の軟磁性粉末を含んでいてもよい。
<第2実施形態>
次に、本発明の磁性素子の第2実施形態を適用したチョークコイルについて説明する。
次に、本発明の磁性素子の第2実施形態を適用したチョークコイルについて説明する。
図3は、本発明の磁性素子の第2実施形態を適用したチョークコイルを示す模式図(透過斜視図)である。
以下、第2実施形態に係るチョークコイルについて説明するが、以下の説明では、前記第1実施形態に係るチョークコイルとの相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本実施形態に係るチョークコイル20は、図3に示すように、コイル状に成形された導線22を、圧粉磁心21の内部に埋設してなるものである。すなわち、チョークコイル20は、導線22を圧粉磁心21でモールドしてなる。
このような形態のチョークコイル20は、比較的小型のものが容易に得られる。そして、このような小型のチョークコイル20を製造するにあたって、飽和磁束密度および透磁率が大きく、かつ、損失の小さい圧粉磁心21を用いることにより、小型であるにもかかわらず、大電流に対応可能な低損失・低発熱のチョークコイル20が得られる。
また、導線22が圧粉磁心21の内部に埋設されているため、導線22と圧粉磁心21との間に隙間が生じ難い。このため、圧粉磁心21の磁歪による振動を抑制し、この振動に伴う騒音の発生を抑制することもできる。
また、圧粉磁心21には、必要に応じて、前述した実施形態に係る軟磁性粉末以外の軟磁性粉末を含んでいてもよい。
[電子機器]
次いで、前述した実施形態に係る磁性素子を備える電子機器(本実施形態に係る電子機器)について、図4〜図6に基づき、詳細に説明する。
次いで、前述した実施形態に係る磁性素子を備える電子機器(本実施形態に係る電子機器)について、図4〜図6に基づき、詳細に説明する。
図4は、実施形態に係る磁性素子を備える電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部100を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には、例えばスイッチング電源用のチョークコイルやインダクター、モーター等の磁性素子1000が内蔵されている。
図5は、実施形態に係る磁性素子を備える電子機器を適用したスマートフォンの構成を示す平面図である。この図において、スマートフォン1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部100が配置されている。このようなスマートフォン1200には、例えばインダクター、ノイズフィルター、モーター等の磁性素子1000が内蔵されている。
図6は、実施形態に係る磁性素子を備える電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部100が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて撮像した画像を表示する構成になっており、表示部100は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部100に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。このようなディジタルスチルカメラ1300にも、例えばインダクター、ノイズフィルター等の磁性素子1000が内蔵されている。
なお、実施形態に係る磁性素子を備える電子機器は、図4のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図5のスマートフォン、図6のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、携帯電話、タブレット端末、時計、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、移動体制御機器類(例えば、自動車駆動用制御機器等)、フライトシミュレーター等に適用することができる。
このような電子機器は、前述したように、実施形態に係る磁性素子を備えている。これにより、高性能化および低消費電力化が図られ、信頼性の高い電子機器を実現することができる。
以上、本発明の軟磁性粉末、圧粉磁心、磁性素子および電子機器について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、前記実施形態では、本発明の軟磁性粉末の用途例として圧粉磁心を挙げて説明したが、用途例はこれに限定されず、例えば磁性流体、磁気遮蔽シート、磁気ヘッド等の磁性素子であってもよい。
また、圧粉磁心や磁性素子の形状も、図示したものに限定されず、いかなる形状であってもよい。
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.軟磁性粉末の製造
(サンプルNo.1)
[1]まず、アトマイズ法により製造されたFe−Al−Cr系合金粉末を用意した。なお、合金粉末の組成は表1に示す通りである。
1.軟磁性粉末の製造
(サンプルNo.1)
[1]まず、アトマイズ法により製造されたFe−Al−Cr系合金粉末を用意した。なお、合金粉末の組成は表1に示す通りである。
[2]次に、用意した合金粉末に対して熱処理を施した。これにより、軟磁性粉末を得た。なお、熱処理の条件は表1に示す通りである。
(サンプルNo.2〜33)
合金粉末の組成および熱処理の条件を表1、2に示すようにした以外は、サンプルNo.1の場合と同様にして軟磁性粉末を得た。
合金粉末の組成および熱処理の条件を表1、2に示すようにした以外は、サンプルNo.1の場合と同様にして軟磁性粉末を得た。
なお、表1、2では、本発明に相当するサンプルNo.の軟磁性粉末について「実施例」と記載し、本発明に相当しないサンプルNo.の軟磁性粉末について「比較例」と記載している。
また、各サンプルNo.の軟磁性粉末の平均粒径は、5μm以上25μm以下であった。
2.軟磁性粉末の評価
2.1 表面層の主材料の特定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、表面層の主材料を特定した。なお、この特定には、二次イオン質量分析法を用い、アルミナ、酸化クロム、酸化チタンおよび酸化鉄を定量化し、最も質量含有率が高い酸化物を求めた。
特定結果を表1、2に示す。
2.1 表面層の主材料の特定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、表面層の主材料を特定した。なお、この特定には、二次イオン質量分析法を用い、アルミナ、酸化クロム、酸化チタンおよび酸化鉄を定量化し、最も質量含有率が高い酸化物を求めた。
特定結果を表1、2に示す。
2.2 酸素含有率および窒素含有率の測定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、酸素含有率および窒素含有率を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、酸素含有率および窒素含有率を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
2.3 絶縁抵抗値の測定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、絶縁抵抗値を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、絶縁抵抗値を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
2.4 透磁率の測定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、以下の測定条件に基づいて透磁率(比透磁率)を測定した。なお、この透磁率とは、閉磁路磁心コイルの自己インダクタンスから求められる比透磁率(実効透磁率)のことである。
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、以下の測定条件に基づいて透磁率(比透磁率)を測定した。なお、この透磁率とは、閉磁路磁心コイルの自己インダクタンスから求められる比透磁率(実効透磁率)のことである。
<透磁率(比透磁率)の測定条件>
・測定装置 :インピーダンスアナライザー(HEWLETT PACKARD 4194A)
・測定周波数 :100kHz
・巻線の巻き数:7回
・巻線の線径 :0.8mm
測定結果を表1、2に示す。
・測定装置 :インピーダンスアナライザー(HEWLETT PACKARD 4194A)
・測定周波数 :100kHz
・巻線の巻き数:7回
・巻線の線径 :0.8mm
測定結果を表1、2に示す。
2.5 比表面積の測定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、BET比表面積を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、BET比表面積を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
2.6 流動性の測定
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、JIS Z 2502:2012に規定の金属粉の流動性試験方法により流動度[秒]を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
各サンプルNo.の軟磁性粉末について、JIS Z 2502:2012に規定の金属粉の流動性試験方法により流動度[秒]を測定した。
測定結果を表1、2に示す。
表1、2から明らかなように、各実施例の軟磁性粉末は、透磁率が高く、かつ、絶縁抵抗値も高いことが認められた。また、各実施例の軟磁性粉末は、流動性も高いことが認められた。
以上のことから、本発明によれば、圧粉されたときに透磁率が高く、かつ鉄損が小さい圧粉磁心を製造可能な軟磁性粉末が得られることが明らかとなった。
1…軟磁性粒子、2…金属粒子、3…表面層、10…チョークコイル、11…圧粉磁心、12…導線、20…チョークコイル、21…圧粉磁心、22…導線、100…表示部、1000…磁性素子、1100…パーソナルコンピューター、1102…キーボード、1104…本体部、1106…表示ユニット、1200…スマートフォン、1202…操作ボタン、1204…受話口、1206…送話口、1300…ディジタルスチルカメラ、1302…ケース、1304…受光ユニット、1306…シャッターボタン、1308…メモリー、1312…ビデオ信号出力端子、1314…入出力端子、1430…テレビモニター、1440…パーソナルコンピューター
Claims (7)
- Fe−Al−M系合金(Mは、CrおよびTiの少なくとも一方)を含む金属粒子と、
前記金属粒子の表面に設けられ、主材料としてアルミナを含む表面層と、
を有することを特徴とする軟磁性粉末。 - 前記表面層は、アルミナより低い含有率で前記Mの酸化物を含む請求項1に記載の軟磁性粉末。
- Feを主成分として含み、
Alの含有率が0.5質量%以上8質量%以下であり、
Mの含有率が0.5質量%以上13質量%以下である請求項1または2に記載の軟磁性粉末。 - Mの含有率に対するAlの含有率の割合は、質量比で0.5以上6以下である請求項3に記載の軟磁性粉末。
- 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の軟磁性粉末を含むことを特徴とする圧粉磁心。
- 請求項5に記載の圧粉磁心を備えることを特徴とする磁性素子。
- 請求項6に記載の磁性素子を備えることを特徴とする電子機器。
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