JP2018157052A - ウエーハの加工方法及び樹脂 - Google Patents
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Abstract
Description
波長 :1064nm
繰り返し周波数 :100kHz
平均出力 :1.0W
加工送り速度 :100mm/秒
6:保持手段
8:移動手段
10:ウエーハ
12:分割予定ライン
14:BAWデバイス
20:制御手段
24:レーザー光線照射手段
24a:集光器
241:レーザー発振器
242:ダイクロイックミラー
243:反射ミラー
244:集光レンズ
245:ボイスコイルモータ
25:高さ計測手段
251:発光手段
252:第1のビームスプリッター
253:バンドパスフィルター
254:第2のビームスプリッター
256:受光素子
258:マスク
259:スリット
260:受光素子
26:撮像手段
40:X方向移動手段
41:Y方向移動手段
100:スピンコーター
110:ノズル
120:保持手段
130:樹脂
130’:樹脂被膜
Claims (9)
- ウエーハに対して透過性を有する波長の加工用レーザー光線の集光点をウエーハの分割予定ラインの内部に位置付けて照射し、分割予定ラインの内部に改質層を形成するウエーハの加工方法であって、
該加工用レーザー光線を照射するウエーハの面に加工用レーザー光線を透過する樹脂を被覆して樹脂の膜を形成する樹脂被覆工程と、
該分割予定ラインに対応する領域に計測用光を照射して戻り光を検出して高さを計測し記憶する高さ計測工程と、
該高さ計測工程で記憶された高さ情報に基づいて加工用レーザー光線の集光点を分割予定ラインの内部に位置付けて適正な位置に改質層を形成する改質層形成工程と、
を少なくとも含み、
該樹脂被覆工程において該ウエーハに被覆される樹脂は、該樹脂の表面で該計測用光を反射すると共に該樹脂の内部に進入した該計測用光を吸収し、さらに、該加工用レーザー光線を透過する樹脂が用いられるウエーハの加工方法。 - 該加工用のレーザー光線の波長は、近赤外線であり、
該計測用光の波長は可視光線であり、
該樹脂は、PVA又はPVPの液状樹脂に可視光線を吸収すると共に反射する色素が含有している請求項1に記載のウエーハの加工方法。 - 該加工用レーザー光線の波長は、1064nm〜1400nmであり、
該計測用光の波長は、650nm〜750nmであり、
該樹脂は、PVA又はPVPの液状樹脂にシアニン系色素を含有して構成され、600nm〜850nmの波長を吸収するともに反射する請求項2に記載のウエーハの加工方法。 - 該シアニン系色素は、重量比で0.5%〜1.0%含まれる請求項3に記載のウエーハの加工方法。
- 該樹脂被覆工程において、樹脂の厚みは3μm〜10μmである請求項1に記載のウエーハの加工方法。
- 加工用レーザー光線を透過する樹脂であって、該樹脂の表面で計測用光を反射すると共に該樹脂の内部に進入した該計測用光を吸収する請求項1に記載のウエーハ加工方法に使用される樹脂。
- 該加工用レーザー光線の波長は近赤外線であり、
該計測用光の波長は可視光線であり、
該樹脂は、PVA又はPVPの液状樹脂に可視光線を吸収すると共に反射する色素が含有している請求項6に記載の樹脂。 - 該加工用レーザー光線の波長は1064nm〜1400nmであり、
該計測用光の波長は、650nm〜750nmであり、
該樹脂は、PVA又はPVPの液状樹脂にシアニン色素を含有して構成され、
少なくとも600nm〜850nmの波長の光を吸収すると共に反射する請求項7に記載の樹脂。 - 該シアニン系の色素は、重量比で0.5%〜1.0%含まれる請求項8に記載の樹脂。
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JP2001244310A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-09-07 | Nikon Corp | 計測方法、計測装置及び基板 |
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JP2015225909A (ja) * | 2014-05-27 | 2015-12-14 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
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- 2017-03-17 JP JP2017052218A patent/JP6914681B2/ja active Active
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