JP2018155700A - 物理量計測装置及び物理量計測装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】物理量検出部の検出精度を適正に保つことができる物理量計測装置を提供する。【解決手段】エアフロメータ１４はハウジング２１及び流量検出部２２を有しており、ハウジング２１は流路形成部２４を有している。流路形成部２４は、奥行き方向Ｚに延びる通過流路３１と、通過流路３１から分岐した計測流路３２とを有しており、計測流路３２に流量検出部２２が設けられている。ハウジング２１は、ハウジング本体４１と、ハウジング本体４１を覆う覆い膜４２と、覆い膜４２を保護する保護膜４３とを有している。ハウジング２１においては、ハウジング本体４１が覆い膜４２で覆われた覆い領域Ｓ１と、覆い膜４２で覆われていない露出領域Ｓ２とで２分割されている。覆い領域Ｓ１においては、覆い膜４２の表面に沿って多数のプラス電荷が並んでいることで、ハウジング２１の表面がプラス電荷を帯びている。【選択図】図３

Description

この明細書による開示は、物理量計測装置及び物理量計測装置の製造方法に関する。

流体の物理量を計測する物理量計測装置として、例えば特許文献１には、内燃機関に吸入される吸入空気の流量を計測する物理量計測装置が開示されている。この物理量計測装置は、流体が通過する湾曲通路と、この湾曲通路に設けられた流量計測素子とを有している。上記特許文献１では、流体と共にダスト等の異物が湾曲通路に進入して流量計測素子に衝突した場合、この異物の大きさや速度によっては流量計測素子が破損することがある、としている。この対策として、湾曲通路の内壁面を粗面としており、これにより、湾曲通路に進入した異物については、この粗面に衝突して進行方向が変わることで速度が低下し、これに伴って運動エネルギが低減される。このように、上記特許文献１では、仮にこの異物が流量計測素子に衝突したとしても流量計測素子の破損が抑制される、としている。

特許第４５５３８９８号公報

しかしながら、異物が湾曲通路に進入した場合、この異物と流量計測素子等の物理量検出部との間に電気的な引力が発生すると、異物が物理量検出部に付着しやすくなり、その結果、物理量の検出精度が低下することが懸念される。このため、例えば上記特許文献１のように、湾曲通路にて異物の速度を低下させると、異物の衝突による物理量検出部の破損を抑制できても、却って異物が物理量検出部に付着しやすくなると考えられる。

本開示は、上記問題を鑑みてなされたもので、その目的は、物理量検出部の検出精度を適正に保つことができる物理量計測装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、開示された第１の態様は、
流体の物理量を計測する物理量計測装置（１４，６０，８０）であって、
流体が流れるバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
バイパス流路において流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
を備え、
ハウジングは、
誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）の少なくとも一部を覆う覆い膜（４２）と、
を有しており、
ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、ハウジングの表面がプラス電荷を帯びている、物理量計測装置である。

物理量計測装置の周囲を流れる流体に、プラスに帯電しやすい砂等の異物が混じっている場合、物理量計測装置のハウジングと異物との接触に伴って、異物がプラスに帯電しやすく、ハウジングがマイナスに帯電しやすいと考えられる。ハウジングがマイナスに帯電した場合、物理量計測装置において電荷が移動することで、物理量検出部がマイナスに帯電しやすくなる。ここで、既にプラスに帯電した砂等の異物が流体と共にバイパス流路に進入し、この異物が物理量検出部に近付いた場合、この異物と物理量検出部との間に電気的な引力が発生して、異物が物理量検出部に付着しやすくなってしまう。

これに対して、第１の態様によれば、ハウジングの表面がプラス電荷を帯びているため、プラスに帯電した異物がハウジングに接近したとしても、電気的な反発力が発生することでこの異物はハウジングに付着しにくくなっている。この場合、ハウジングと異物との接触が発生しにくくなっており、ハウジングや物理量検出部がマイナスに帯電することが抑制される。このため、仮に、プラスに帯電した異物がバイパス流路に進入して物理量検出部に近付いたとしても、この異物と物理量検出部との間に電気的な引力が発生せず、この異物が物理量検出部に付着しにくくなっている。したがって、物理量検出部の検出精度を適正に保つことができる。

第２の態様は、
流体を取り込むバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
バイパス流路において流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
を備え、
ハウジングは、
誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）に重ねられた覆い膜（４２）と、
を有しており、
ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、ハウジングの表面がプラス電荷を帯びている、物理量計測装置（１４，６０，８０）を製造する製造方法であって、
覆い膜を形成するための塗布剤（Ｑ１）をハウジング本体の表面に塗布し、
塗布剤を塗布した状態のハウジング本体を洗浄し、
ハウジング本体を洗浄した後、ハウジング本体の表面に塗布された状態の塗布剤を乾燥させる、物理量計測装置の製造方法である。

第２の態様によれば、上記第１の態様と同様の効果を奏することができる。しかも、第２の態様によれば、塗布剤をハウジング本体の表面に塗布した後に、その状態のハウジング本体を洗浄するため、ハウジング本体に付着した余分な塗布剤を除去できる。このため、覆い膜が厚くなり過ぎることや覆い膜の厚みが不均一になることを抑制できる。

ここで、覆い膜が厚くなり過ぎた部分については、プラスに帯電した異物がハウジングに接近した場合に、ハウジングがその異物に対する反発力を適正に発揮できないことが懸念される。例えば、ハウジング本体にてプラス電荷が並んだ構成では、覆い膜が厚くなり過ぎることでハウジング本体のプラス電荷とプラスに帯電した異物との距離が大きくなり過ぎて、反発力が適正に発揮されないことが懸念される。また、覆い膜にてプラス電荷が並んだ構成では、複数のプラス電荷が覆い膜の厚み方向に重なるように固まることで、プラス電荷が均一に配置されずにプラス電荷が存在しない領域が生じ、プラス電荷が存在しない領域では反発力が適正に発揮されないことが懸念される。

これに対して、第２の態様によれば、上述したように、洗浄が行われることで余分な塗布剤が除去されることで、覆い膜の厚みが均一化されるため、ハウジングとプラスに帯電した異物との間で反発力を適正に発揮させることができる。これにより、ハウジング本体に覆い膜が付与されているにもかかわらずハウジング本体がマイナスに帯電する、ということを抑制できる。

なお、特許請求の範囲およびこの項に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものにすぎず、発明の技術的範囲を限定するものではない。

第１実施形態における燃焼システムの構成を説明するための模式図。 吸気管に取り付けられた状態のエアフロメータの正面図。 図２のIII−III線断面図。 センサS/Aの構成を示す正面図。 覆い膜について説明するための模式図。 エアクリーナの構成を示す図。 ハウジング本体に覆い膜を付与する手順を示す図。 第２実施形態におけるハウジング本体に覆い膜を付与する手順を示す図。 第３実施形態における塗布工程について説明するための図。 塗布工程について説明するための図。 塗布工程について説明するための図。 第４実施形態における吸気管に取り付けられた状態のエアフロメータの正面図。 図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線断面図。 第５実施形態におけるエアフロメータの内部構造を示す図。 変形例２における覆い膜について説明するための模式図。 変形例３における覆い膜について説明するための模式図。

以下、本開示の複数の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、各実施形態において対応する構成要素には同一の符号を付すことにより、重複する説明を省略する場合がある。各実施形態において構成の一部分のみを説明している場合、当該構成の他の部分については、先行して説明した他の実施例の構成を適用することができる。また、各実施形態の説明において明示している構成の組み合わせばかりではなく、特に組み合わせに支障が生じなければ、明示していなくても複数の実施形態の構成同士を部分的に組み合わせることができる。そして、複数の実施形態及び変形例に記述された構成同士の明示されていない組み合わせも、以下の説明によって開示されているものとする。

（第１実施形態）
図１に示す燃焼システム１０は、ディーゼルエンジン等の内燃機関１１、吸気通路１２、排気通路１３及びエアフロメータ１４を有しており、例えば車両に搭載されている。エアフロメータ１４は、吸気通路１２に設けられており、内燃機関１１に供給される吸入空気の流量や温度、湿度といった物理量を計測する機能を有している。エアフロメータ１４は、流体としての吸入空気を計測対象とした物理量計測装置に相当する。吸入空気は、内燃機関１１の燃焼室１１ａに供給される気体である。

燃焼システム１０は、図示しないＥＣＵ（Engine Control Unit）を有している。ＥＣＵは、プロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ及びフラッシュメモリ等の記憶媒体、並びに入出力部を含むマイクロコンピュータと、電源回路等と、によって構成された演算処理回路である。ＥＣＵには、エアフロメータ１４から出力されるセンサ信号や、多数の車載センサから出力されるセンサ信号などが入力される。ＥＣＵは、エアフロメータ１４による計測結果を用いて、スロットルバルブ１５の開度や、インジェクタ１６の燃料噴射量などのエンジン制御を行う。ＥＣＵは、内燃機関１１の運転制御を行う制御装置であり、燃焼システム１０をエンジン制御システムと称することもできる。

エアフロメータ１４は、燃焼システム１０に含まれる多数の計測部の１つである。内燃機関１１の吸気系及び排気系には、計測部として、エアフロメータ１４に加えて、例えば、吸気温度センサ１７や空燃比センサ１８等が設けられている。エアフロメータ１４は、吸気通路１２においてエアクリーナ１９の下流側であって吸気温度センサ１７の上流側に配置されている。この場合、吸気通路１２においてエアフロメータ１４にとっては、エアクリーナ１９側が上流側であり、燃焼室１１ａ側が下流側になる。

図２、図３に示すエアフロメータ１４は、吸気通路１２を形成する吸気管１２ａに着脱可能に取り付けられている。エアフロメータ１４は、吸気管１２ａの筒壁を貫通するよう形成されたセンサ挿入孔１２ｂに挿し込まれており、少なくとも一部を吸気通路１２内に位置させている。吸気管１２ａは、センサ挿入孔１２ｂから外周側に向けて延びたフランジ部１２ｃを有している。フランジ部１２ｃは、センサ挿入孔１２ｂの周縁部に沿って延びており、例えば円環状になっている。フランジ部１２ｃの先端面は、フランジ部１２ｃの中心線に直交する方向に延びている。この場合、フランジ部１２ｃの先端面は、吸気通路１２の長手方向、すなわち吸気通路１２において吸入空気が流れる方向に延びている。

エアフロメータ１４は、ハウジング２１及び流量検出部２２を有している。ハウジング２１は、例えば樹脂材料等により形成されている。エアフロメータ１４においては、ハウジング２１が吸気管１２ａに取り付けられていることで、流量検出部２２が、吸気通路１２を流れる吸入空気と接触可能な状態になる。ハウジング２１は、流路形成部２４、嵌合部２５、Ｏリング２６、フランジ部２７及びコネクタ部２８を有している。

流路形成部２４は流路３１，３２を形成している。流路３１，３２は、流路形成部２４の内部空間により形成されており、吸気通路１２を流れる吸入空気の一部をハウジング２１の内部に導入する。通過流路３１は、流路形成部２４を貫通しており、通過流路３１の上流側端部を流入口３３ａと称し、下流側端部を流出口３３ｂと称する。計測流路３２は、通過流路３１の中間部分から分岐した分岐流路であり、湾曲した部分を有していることで流路形成部２４の内部を周回している。ただし、計測流路３２は、１周はしておらず、計測流路３２の上流端部寄りの部分と下流端部寄りの部分とが流路形成部２４の幅方向には重複していない。また、通過流路３１と計測流路３２とについても、流路形成部２４の幅方向には重複していない。通過流路３１及び計測流路３２が流体の流れるバイパス流路に相当する。

計測流路３２の下流側端部は、通過流路３１の下流側端部と同様に開放されており、この下流側端部を計測出口３３ｃと称する。計測流路３２は、下流端部に向けて分岐していることで計測出口３３ｃを２つ有しており、これら計測出口３３ｃは、流路形成部２４の幅方向において互いに離間した位置に横並びに配置されている。上述したように、通過流路３１と計測流路３２とが流路形成部２４の幅方向には重複していないことに起因して、各計測出口３３ｃと流出口３３ｂとも、流路形成部２４の幅方向には互いに重複していない。なお、吸気通路１２を主通路と称し、通過流路３１及び計測流路３２をまとめて副通路と称することもできる。

嵌合部２５は、センサ挿入孔１２ｂにＯリング２６を介して内嵌される部位である。Ｏリング２６は、吸気通路１２と吸気管１２ａの外部とをシールする部材である。Ｏリング２６は、嵌合部２５に外嵌されており、フランジ部１２ｃの内周側に入り込んだ状態出嵌合部２５とセンサ挿入孔１２ｂとの間に介在している。フランジ部２７は、嵌合部２５を挟んで流路形成部２４とは反対側に配置されており、センサ挿入孔１２ｂを吸気管１２ａの外周側から覆っている。また、フランジ部２７は、吸気管１２ａのフランジ部１２ｃの先端部に引っ掛かることで、ハウジング２１が吸気通路１２内に入り込み過ぎることを規制する。フランジ部２７は、流路形成部２４側を向いたフランジ面２７ａを有している。このフランジ面２７ａは、フランジ部１２ｃの先端面に平行に延びており、フランジ部１２ｃの先端面に重ねられている。

コネクタ部２８は、複数の端子を囲う部位である。コネクタ部２８には、プラグ部が挿入される。プラグ部は、ＥＣＵ等の機関制御装置に直接的又は間接的に電気接続された接続線の端部に設けられており、コネクタ部２８と嵌合する。

流量検出部２２は、例えば発熱抵抗体を用いた熱式の流量センサである。流量検出部２２は、計測流路３２の中間位置に配置されている。ハウジング２１が吸気管１２ａに取り付けられることで、流量検出部２２には、計測流路３２を流通する吸入空気が供給される。流量検出部２２は、コネクタ部２８に設けられた複数の端子と電気的に接続されている。流量検出部２２は、吸気流量に対応したセンサ信号であって、計測流路３２を流れる空気の流速に対応したセンサ信号を、流量信号として機関制御装置に対して出力する。流量検出部２２は、計測流路３２を流れる吸入空気の流量を検出することで、吸気通路１２を流れる吸入空気の流量を検出することになる。なお、流量検出部２２は、吸入空気の流量を物理量として検出する物理量検出部に相当する。また、流量検出部２２は、熱式の流量センサに限定されず、可動フラップ式の流量センサやカルマン渦式の流量センサ等であってもよい。

エアフロメータ１４は、流量検出部２２の他にも、温度を検出する温度検出部や、湿度を検出する湿度検出部を有している。温度検出部や湿度検出部は、ハウジング２１の外周側に設けられており、吸気通路１２を流れる吸入空気の温度や湿度に応じたセンサ信号を温度信号や湿度信号として出力する。例えば、エアフロメータ１４は、ハウジング２１の外周側においてこれら検出部を支持する支持体を有しており、この支持体がハウジング２１に固定されている。

エアフロメータ１４については、２つの計測出口３３ｃが並ぶ方向を幅方向Ｘと称し、流路形成部２４とフランジ部２７とが並ぶ方向を高さ方向Ｙと称し、流入口３３ａと流出口３３ｂとが並ぶ方向を奥行き方向Ｚと称する。これら幅方向Ｘ、高さ方向Ｙ及び奥行き方向Ｚは互いに直交しており、フランジ部２７のフランジ面２７ａが幅方向Ｘ及び奥行き方向Ｚの両方に平行に延びている。エアフロメータ１４が、吸気管１２ａに取り付けられた状態では、流入口３３ａが吸気通路１２の上流側を向き、流出口３３ｂ及び計測出口３３ｃが下流側を向いている。この場合、吸気通路１２において吸入空気が流れる方向が奥行き方向Ｚになり、流入口３３ａからの流入空気の流入向きが奥行き方向Ｚと同じになりやすいと考えられる。エアフロメータ１４においては、流入口３３ａから流入した吸入空気が、通過流路３１や計測流路３２を通過することで流出口３３ｂ及び各計測出口３３ｃのそれぞれから流出する。

通過流路３１と計測流路３２との境界である流路境界部３４においては、通過流路３１の中間部分が高さ方向Ｙにおいてフランジ部２７側に向けて開放されている。流路境界部３４においては、通過流路３１の中間部分と計測流路３２の上流側端部とが接続されており、計測流路３２の上流側端部を計測入口と称することもできる。計測流路３２は、流路境界部３４と計測出口３３ｃとの間において奥行き方向Ｚに延びた部分を有しており、この部分を、吸気通路１２とは逆向きに吸入空気が流れる逆流路部３２ａと称する。本実施形態では、この逆流路部３２ａに流量検出部２２が設けられている。

エアフロメータ１４は、チップ式の流量検出部２２を含んで構成されたセンササブアッセンブリを有しており、このセンササブアッセンブリをセンサS/A３６と称する。この場合、センサS/A３６をセンサ部と称することもでき、エアフロメータ１４をチップ式の流量計測装置と称することもできる。

図４に示すように、センサS/A３６は、流量検出部２２に加えて、ケース体３７及び封止部３９を有しており、これら部品がユニット化されたものである。ケース体３７は、合成樹脂材料がモールド成型されることで形成されたモールド樹脂であり、流量検出部２２を露出させた状態で支持している。ケース体３７において、流量検出部２２を支持している部分を検出支持部３８と称すると、この検出支持部３８はケース体３７の端部から側方に突出した突出部になっている。センサS/A３６においては、流量検出部２２がボンディングワイヤとリードフレームを介して回路チップに電気的に接続されており、封止部３９は、ボンディングワイヤやリードフレームを封止するポッティング樹脂を有している。

図３に示すように、センサS/A３６は、ハウジング２１において、検出支持部３８を計測流路３２に露出させた状態で、通過流路３１及び計測流路３２よりもフランジ部２７側の部分に埋め込まれている。これにより、流量検出部２２が、計測流路３２を流れる吸入空気に触れるようになっている。

図５に示すように、ハウジング２１は、ハウジング本体４１と、ハウジング本体４１を覆う覆い膜４２と、覆い膜４２を保護する保護膜４３とを有している。ハウジング本体４１は、合成樹脂材料等により形成された誘電体である。ハウジング本体４１は、その外周面である外側面４１ａと、流路３１，３２を形成する流路面４１ｂとを有している。外側面４１ａは、ハウジング本体４１が有する外周面の全体である一方で、流路面４１ｂは、ハウジング本体４１が有する内周面の一部である。例えば、コネクタ部２８は、プラグ部が挿入される挿入孔を有しているが、この挿入孔の内側面は、ハウジング本体４１の内周面に含まれる一方で、流路面４１ｂには含まれない。このため、流路形成部２４だけが流路面４１ｂを有していることになる。なお、外側面４１ａについては、流路形成部２４、嵌合部２５、フランジ部２７及びコネクタ部２８のそれぞれが有している。また、ハウジング本体４１の表面には、外側面４１ａとしての外周面と内周面との両方が含まれる。

覆い膜４２は、ハウジング本体４１の表面に重ねられた状態でハウジング本体４１の一部を覆った被膜である。本実施形態の覆い膜４２は、ハウジング本体４１の外側面４１ａ及び流路面４１ｂに重ねられていることで、これら外側面４１ａ及び流路面４１ｂのそれぞれの一部を覆っている。覆い膜４２は、シリコン等の合成樹脂材料により形成されており、ハウジング本体４１に比べてマイナスに帯電しにくくなっている。

ハウジング２１は、ハウジング本体４１が覆い膜４２により覆われた覆い領域Ｓ１と、ハウジング本体４１が覆い膜４２に覆われていない露出領域Ｓ２とを有しており、これら領域Ｐａ，Ｐｂの境界部を覆い境界部Ｂと称する。覆い領域Ｓ１と露出領域Ｓ２とは、ハウジング２１の表面領域を、高さ方向Ｙにおいてフランジ部２７側である基端側と、フランジ部２７とは反対側である先端側とに２分割している。この場合、覆い領域Ｓ１と露出領域Ｓ２は、所定方向としての高さ方向Ｙに並んでいる。なお、露出領域Ｓ２を非覆い領域と称することもできる。覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１は、例えば数百μｍ以下になっている。

保護膜４３は、覆い膜４２の表面に重ねられていることで、覆い膜４２の全体を覆っている。本実施形態の保護膜４３は、覆い領域Ｓ１の全体に設けられている一方で、露出領域Ｓ２には設けられていない。保護膜４３は、シリコン等の合成樹脂材料により形成されており、絶縁体になっている。覆い領域Ｓ１においては、保護膜４３がハウジング２１の表面を形成しており、露出領域Ｓ２においては、保護膜４３ではなくハウジング本体４１がハウジング２１の表面を形成している。保護膜４３の厚み寸法Ｄ２は、覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１より小さくなっている。例えば、保護膜４３の厚み寸法Ｄ２は、覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１のほぼ１／２になっている。

ハウジング２１においては、ハウジング本体４１の外側と内側とで覆い境界部Ｂが同じ位置に配置されている。図３に示すように、覆い境界部Ｂは、高さ方向Ｙにおいて流路形成部２４の中間位置に配置されており、この高さ方向Ｙに直交する方向に延びている。ハウジング本体４１では、外側面４１ａ及び流路面４１ｂのいずれにおいても、覆い膜４２が、高さ方向Ｙにおいて覆い境界部Ｂからフランジ部２７とは反対側に向けて延びており、覆い境界部Ｂよりも先端側部分の全体が覆い膜４２により覆われている。

覆い境界部Ｂは、流量検出部２２及び検出支持部３８よりもハウジング２１の先端側に配置されている。この場合、流量検出部２２及び検出支持部３８は、覆い領域Ｓ１ではなく露出領域Ｓ２に含まれており、流量検出部２２及び検出支持部３８に覆い膜４２が付与されていない。流量検出部２２は、計測流路３２の逆流路部３２ａにおいて、フランジ部２７側の天井面３２ｂとフランジ部２７とは反対側の床面３２ｃとの間に配置されており、覆い境界部Ｂは、流量検出部２２と床面３２ｃとの間に配置されている。また、高さ方向Ｙにおいて、覆い境界部Ｂと流量検出部２２及び検出支持部３８とは上下に離間している。なお、ハウジング２１においては、流路形成部２４、嵌合部２５、フランジ部２７及びコネクタ部２８も覆い領域Ｓ１に含まれておらず、露出領域Ｓ２に含まれている。

図５に示すように、覆い領域Ｓ１においては、覆い膜４２の表面に沿って多数のプラス電荷４５が並んでいることで、ハウジング２１の表面がプラス電荷４５を帯びている。本実施形態では、覆い膜４２がプラスに帯電した状態が保たれていることで、ハウジング本体４１の外側面４１ａや流路面４１ｂの表面に沿って多数のマイナス電荷４６が並んでいる。この場合、ハウジング２１は、プラスやマイナスには帯電しておらず、全体として分極したような状態になっている。ただし、覆い膜４２がプラスに帯電している分、ハウジング本体４１はマイナスに帯電していることになる。なお、ハウジング２１は、全体としてプラスやマイナスに帯電していてもよい。

吸気通路１２において、プラスに帯電した異物であるプラス異物Ｆｐがエアフロメータ１４に接近した場合、このプラス異物Ｆｐとハウジング２１表面のプラス電荷４５との間で電気的な反発力が発生することになる。このため、プラス異物Ｆｐはハウジング２１に付着しにくい。例えば、吸気通路１２において、プラス異物Ｆｐが幅方向Ｘにおいてハウジング２１の側方位置に到達した場合、このプラス異物Ｆｐは、ハウジング本体４１の外側面４１ａに吸引されることなく、そのままハウジング２１よりも下流側に進みやすい。また、プラス異物Ｆｐが通過流路３１に進入した場合、このプラス異物Ｆｐは、ハウジング本体４１の流路面４１ｂに吸引されることなく、そのまま通過流路３１の流出口３３ｂや計測流路３２の計測出口３３ｃから放出されやすい。

吸入空気と共に吸気通路１２に取り込まれる異物としては、砂や砂塵、ゴミ等のダストが想定される。プラスに帯電しやすい砂等の異物は、吸気通路１２に進入するよりも前のタイミングで既にプラス異物Ｆｐになっていることが想定される。仮に、吸気通路１２に進入するよりも前のタイミングでプラス異物Ｆｐになっていなくても、吸気通路１２に進入した後にエアクリーナ１９を通過することでプラス異物Ｆｐになることも想定される。

図６に示すように、エアクリーナ１９はエアフィルタ１９ａを有している。エアフィルタ１９ａは、吸入空気に混じった異物を取り除く網目等を有しており、例えばポリエチレン等の合成樹脂材料により形成されている。ここで、エアフィルタ１９ａが、マイナスに帯電しやすいポリエチレン等の材料により形成されたエアクリーナ１９では、プラスに帯電しやすい砂等の異物がエアフィルタ１９ａに到達することやすり抜けることで、異物がプラスに帯電する可能性が高い。例えば、図６に示すように、まだプラスに帯電していない異物Ｆがエアフィルタ１９ａに到達した場合、エアフィルタ１９ａを通過することでプラス異物Ｆｐになる可能性が高い。既にプラスに帯電しているプラス異物Ｆｐについては、更にプラスに帯電することになる。

例えば、ハウジング２１が覆い膜４２を有していない構成では、ハウジング２１に接近又は接触した異物が、プラスに帯電しやすい異物であれば、この異物がプラスに帯電するとともに、ハウジング２１がマイナスに帯電する可能性が高い。仮に、プラスに帯電しやすい異物が既にプラス異物Ｆｐになっていても、このプラス異物Ｆｐがハウジング２１に接近することで、ハウジング２１が更にマイナスに帯電しやすくなる。そして、プラスに帯電しやすい異物の接近や接触が繰り返されることで、ハウジング２１に帯電したマイナス電荷が増えていき、このマイナス電荷がある程度増えてくると、マイナス電荷がハウジング２１からセンサS/A３６に拡散することが想定される。この場合、センサS/A３６においては、モールド樹脂であるケース体３７がマイナス電荷により帯電し、やがて、流量検出部２２もマイナスに帯電すると考えられる。

上述したように、吸気通路１２において、プラス異物Ｆｐがエアフロメータ１４に到達した場合、このプラス異物Ｆｐは、マイナスに帯電しているハウジング２１に付着しやすいと考えられる。また、流量検出部２２がマイナスに帯電している場合に、プラス異物Ｆｐが計測流路３２に進入すると、このプラス異物Ｆｐは、流量検出部２２に付着しやすいと考えられる。例えば、プラス異物Ｆｐが流量検出部２２に衝突しない向きで進んでいたのに、プラス異物Ｆｐと流量検出部２２との間で電気的な引力が発生したためにプラス異物Ｆｐの進行方向が変化して、プラス異物Ｆｐが流量検出部２２に付着する、という状況が想定される。このように、流量検出部２２に異物が付着すると、異物の付着に起因して流量検出部２２の検出精度が低下することが懸念される。

これに対して、本実施形態では、ハウジング２１が覆い膜４２を有しているため、プラスに帯電しやすい異物によりハウジング２１がマイナスに帯電するということが生じにくくなる。このため、ハウジング２１がマイナスに帯電することに伴って流量検出部２２までマイナスに帯電して、流量検出部２２にプラス異物Ｆｐが付着しやすくなる、ということを抑制できる。

次に、エアフロメータ１４の製造方法として、ハウジング本体４１に覆い膜４２を付与する手順について、図７を参照しつつ説明する。

図７において、（ａ）に示すエアフロメータ１４は、覆い膜４２及び保護膜４３をハウジング本体４１に付与する工程を残して、他の工程は完了した状態である。この状態のエアフロメータ１４は、ハウジング本体４１に流量検出部２２が取り付けられた状態になっている。

そして、（ｂ）に示すように、覆い膜４２をハウジング本体４１に塗布する塗布工程を行う。この工程では、覆い膜４２を塗布するための液状の塗布剤Ｑ１を第１容器Ｖ１に溜めておき、この塗布剤Ｑ１にハウジング本体４１を浸すことでディッピングを行う。塗布剤Ｑ１にハウジング本体４１を浸している時間は、例えば３０秒などあらかじめ定められた所定時間である。この所定時間は、塗布剤Ｑ１の温度や成分、各成分の割合、ハウジング本体４１の形状などに応じて増減させてもよい。また、ハウジング本体４１について覆い境界部Ｂの予定位置を設定しておき、覆い境界部Ｂに塗布剤Ｑ１の液面が一致するように、ハウジング本体４１を塗布剤Ｑ１に沈める。

塗布剤Ｑ１には、シリコン成分、アルコール成分、フッ素樹脂成分及び荷電化処理成分が含まれている。塗布剤Ｑ１での含有量は、荷電化処理成分が最も多く、次にアルコール成分が多く、最も少ないのがフッ素樹脂成分である。シリコン成分及びフッ素樹脂成分は、覆い膜４２の表面を滑らかにする機能を有している。アルコール成分は、塗布剤Ｑ１を希釈する機能を有している。塗布剤Ｑ１の希釈度合いを調整することで、覆い膜４２の厚み寸法を増減させることが可能になる。

荷電化処理成分は、所定の液体をプラスに帯電させる成分であり、この荷電化処理成分が含まれた液体を荷電化処理水と称する。塗布剤Ｑ１に荷電化処理水が含まれていることで、塗布剤Ｑ１はプラス電荷を有しており、塗布剤Ｑ１がディッピングによりハウジング本体４１に塗布されることで、ハウジング本体４１の表面に沿ってプラス電荷４５が多数並ぶことになる。

塗布工程が終了した後は、（ｃ）に示すように、ハウジング本体４１を洗浄する洗浄工程を行う。この工程では、水等の洗浄剤Ｑ２を第２容器Ｖ２に溜めておき、この洗浄剤Ｑ２にハウジング本体４１を浸す。洗浄剤Ｑ２にハウジング本体４１を浸している時間は、例えば３０秒などあらかじめ定められた所定時間である。この所定時間は、塗布剤Ｑ１によるディッピングの時間と同様に、洗浄剤Ｑ２の温度や成分、各成分の割合、ハウジング本体４１の形状などに応じて増減させてもよく、ディッピングの時間と同じ長さの時間としてもよい。

この洗浄工程を行うことで、ハウジング本体４１に付着した余分な塗布剤Ｑ１を除去することや、ハウジング本体４１に塗布した塗布剤Ｑ１の厚み寸法を均一化することができる。また、洗浄剤Ｑ２を溜めておく第２容器Ｖ２として、塗布剤Ｑ１を溜めておく第１容器Ｖ１とは異なる容器を用いることで、塗布工程の後、ハウジング本体４１に塗布した塗布剤Ｑ１が乾燥しないように速やかに洗浄工程を行うことができる。

また、ハウジング本体４１について塗布剤Ｑ１の塗布範囲と同じ範囲を洗浄剤Ｑ２に浸すように、ハウジング本体４１を洗浄剤Ｑ２に沈める。なお、流量検出部２２及び検出支持部３８を洗浄剤Ｑ２に浸さない範囲であれば、塗布剤Ｑ１にハウジング本体４１を沈めたよりも深くまで、洗浄剤Ｑ２にハウジング本体４１を沈めてもよい。この場合、塗布剤Ｑ１が塗布された領域の上端部分についても、洗浄剤Ｑ２で塗布剤Ｑ１を適正に除去することができる。

洗浄工程が終了した後は、（ｄ）に示すように、塗布剤Ｑ１及び洗浄剤Ｑ２を乾燥させる乾燥工程を行う。この工程では、ハウジング本体４１を常温環境におき、例えば２４時間など所定時間だけ、例えばハウジング本体４１を吊り下げ具に吊り下げた状態で自然乾燥させる。この乾燥工程が終了すると、ハウジング本体４１に覆い膜４２を付与する作業が終了し、エアフロメータ１４が完成したことになる。

ハウジング本体４１に覆い膜４２を付与した後、保護膜４３を覆い膜４２に重ねて付与する作業として、覆い膜４２の付与作業と同様に、塗布工程、洗浄工程、乾燥工程を行う。塗布工程では、ハウジング本体４１を覆い膜４２と共に、保護膜４３を塗布するための塗布剤に浸すことでディッピングを行う。ここでは、覆い膜４２の上端部を覆い境界部Ｂとして、この覆い境界部Ｂに塗布剤の液面が一致するように、ハウジング本体４１を塗布剤に沈める。保護膜４３の塗布剤には、シリコン成分、アルコール成分、フッ素樹脂成分が含まれている。シリコン成分及びフッ素樹脂成分は、保護膜４３の表面を滑らかにする機能を有している。このため、保護膜４３に異物が接触しても、この異物と保護膜４３との間に摩擦が生じることや、この異物が保護膜４３に付着することなどが抑制される。すなわち、異物による保護膜４３の汚損が抑制される。

ここまで説明した本実施形態によれば、ハウジング２１の覆い膜４２において多数のプラス電荷４５が並んでいる。このため、プラス異物Ｆｐがハウジング２１に接近しても、電気的な反発力が発生することでこのプラス異物Ｆｐがハウジング２１に接触しにくくなっている。この場合、プラス異物Ｆｐとハウジング２１との摩擦に伴ってハウジング２１がマイナスに帯電する、ということが生じにくくなっており、その結果、流量検出部２２がマイナスに帯電する、ということが生じにくい。したがって、流量検出部２２にプラス異物Ｆｐが付着して流量検出部２２の検出精度が低下することや、プラス異物Ｆｐの付着により流量検出部２２の汚損が発生することなどを抑制できる。

本実施形態によれば、覆い膜４２が保護膜４３により保護されているため、例えばプラスに帯電していない異物がハウジング２１に衝突したとしても、この異物により覆い膜４２が破損したり剥がれ落ちたりするということを抑制できる。しかも、エアフロメータ１４の製造時において、保護膜４３を生成するための塗布剤にシリコン成分やフッ素樹脂成分が含まれているため、保護膜４３の表面が滑らかになりやすい。この場合、仮に異物が保護膜４３の表面に衝突しても、これら保護膜４３と異物との間で摩擦が生じにくいため、異物の衝突に伴って保護膜４３が剥がれ落ちることや、異物が保護膜４３に付着することを抑制できる。また、保護膜４３にシリコン成分やフッ素樹脂成分が含まれていることで、撥水効果を保護膜４３に付与することや、塩害対策を保護膜４３に施すことができる。

本実施形態によれば、覆い膜４２がハウジング本体４１の流路面４１ｂを覆っているため、電気的な引力によってプラス異物Ｆｐが流路面４１ｂに付着するということが生じにくくなっている。この場合、流路面４１ｂに多くのプラス異物Ｆｐが付着して塊になり、その塊が流路面４１ｂから剥がれて計測流路３２を進み、流量検出部２２に衝突することで流量検出部２２が破損したり流量の検出精度が低下したりする、ということを抑制できる。

本実施形態によれば、覆い膜４２が部分的ではあってもハウジング本体４１の外側面４１ａを覆っているため、プラス異物Ｆｐがハウジング２１の表面に接触しても、ハウジング２１がマイナスに帯電することを抑制できる。ここで、吸気通路１２では、吸入空気の流れが速いことに起因して、プラス異物Ｆｐ等の異物がハウジング２１に衝突しやすいと考えられる。これに対して、プラス異物Ｆｐがハウジング２１に衝突しても、覆い膜４２の存在によってハウジング２１やハウジング本体４１がマイナスに帯電しにくくなっている。このため、ハウジング本体４１の外側面４１ａに覆い膜４２を付与することは、流量検出部２２の汚損を抑制する上で好ましい。

本実施形態によれば、ハウジング２１の表面領域が覆い領域Ｓ１と露出領域Ｓ２とに２分割されている。このため、エアフロメータ１４の製造時において、ディッピングという作業負担が比較的小さい方法を採用しても、ハウジング本体４１に覆い膜４２を付与することができる。この場合、作業負担が大きくなり過ぎない範囲で、ハウジング２１のできるだけ広い範囲に覆い膜４２を付与することができる。しかも、流量検出部２２が露出領域Ｓ２に含まれているため、流量検出部２２が覆い膜４２にて覆われたことに起因して流量検出部２２の出力特性に影響が出ることや検出精度が低下することなどを抑制できる。

本実施形態によれば、覆い膜４２がハウジング本体４１に比べてマイナスに帯電しにくくなっているため、プラスに帯電しやすい異物が覆い膜４２に接近又は接触しても、覆い膜４２がマイナスに帯電し且つ異物がプラスに帯電する、ということを抑制できる。このため、ハウジング２１がマイナスに帯電して、それに伴って流量検出部２２もマイナスに帯電する、ということに対して抑止力を発揮できる。

本実施形態によれば、エアフロメータ１４の製造時において、塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１に塗布した後、その状態のハウジング本体４１を洗浄するため、ハウジング本体４１に付着した余分な塗布剤Ｑ１を除去することができる。このため、覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１が大きくなり過ぎることや不均一になることを抑制できる。

ここで、覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１が大きくなり過ぎた部分については、この厚み寸法Ｄ１がプラス電荷４５の直径に比べて過剰に大きいことに起因して、プラス電荷４５が覆い膜４２の厚み方向に複数重なるように固まりやすくなると考えられる。この場合、覆い膜４２の全体においてプラス電荷４５が均等に配置されず、プラス電荷４５が存在しない領域が生じる可能性が高くなり、この領域ではプラス異物Ｆｐに対する反発力が適正に生じないことが懸念される。このため、覆い膜４２の存在を無視してハウジング本体４１がプラス異物Ｆｐによりマイナスに帯電することや、覆い膜４２にプラス異物Ｆｐが付着することが考えられる。これに対して、本実施形態によれば、覆い膜４２の付与作業に洗浄工程が含まれているため、覆い膜４２の薄膜化が均一に行われ、プラス電荷４５が覆い膜４２の厚み方向に重複せずにハウジング本体４１の表面に沿って均一に配置されやすくなる。これにより、ハウジング本体４１に覆い膜４２が付与されたにもかかわらず、覆い膜４２にプラス異物Ｆｐが付着したり、ハウジング本体４１がマイナスに帯電したりする、ということを抑制できる。

本実施形態によれば、保護膜４３の厚み寸法Ｄ２が覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１より小さくなっているため、プラス異物Ｆｐが保護膜４３に接近した場合にそのプラス異物Ｆｐと覆い膜４２との離間距離を極力小さくすることができる。このため、プラス異物Ｆｐが保護膜４３に接触するよりも前のタイミングで、そのプラス異物Ｆｐと覆い膜４２との間で反発力を発生させることができる。これにより、プラス異物Ｆｐが保護膜４３に付着することや、プラス異物Ｆｐの接触に伴って保護膜４３が破損することなどを抑制できる。

本実施形態によれば、覆い膜４２の付与作業において洗浄工程では、塗布剤Ｑ１が塗布された状態のハウジング本体４１が洗浄剤Ｑ２に浸される。このため、ハウジング本体４１の外側面４１ａや流路面４１ｂにおいて、平坦面にて余分な塗布剤Ｑ１を除去することはもちろんのこと、凹凸が形成された部分についても余分な塗布剤Ｑ１を適正に除去することができる。例えば、余分な塗布剤Ｑ１を拭き取って除去する方法では、ハウジング本体４１の凹凸部分について塗布剤Ｑ１の拭き残しが生じることや、塗布剤Ｑ１を拭き取り過ぎることが懸念される。

本実施形態によれば、流量検出部２２が取り付けられた状態のハウジング本体４１を対象として塗布工程が行われる。この場合、エアフロメータ１４の製造ラインにおいて、塗布工程を行う作業エリアを製造ラインの最後尾に配置すればよい。このため、従来の製造ラインについて、塗布工程を行う作業エリアを導入する場合でも、比較的小規模な改修で済ませることが可能になる。このため、覆い膜４２を有するエアフロメータ１４を製造する際のコスト増加を抑制できる。

本実施形態によれば、センサS/A３６を有するチップ式のエアフロメータ１４について、ハウジング本体４１に覆い膜４２が付与されている。このチップ式においては、流量検出部２２がセンサS/A３６に含まれており、このセンサS/A３６は、ヒータ部が小さく省電力化が可能な一方で、熱容量が小さいため、流量検出部２２に少しでも異物が付着すると流量検出部２２の検出特性が変化しやすい。このため、流量検出部２２がマイナスに帯電しないように、ハウジング本体４１に覆い膜４２を付与することは、流量検出部２２の検出特性が意図せずに変化することを抑制する上で好ましい。

（第２実施形態）
上記第１実施形態では、塗布剤Ｑ１の塗布工程において、流量検出部２２を取り付けた状態のハウジング本体４１を塗布剤Ｑ１に浸していたが、第２実施形態では、流量検出部２２を取り付ける前の段階でハウジング本体４１を塗布剤Ｑ１に浸す。

第２実施形態では、ハウジング本体４１が一対の本体部材５１を有している。これら本体部材５１は、互いに組み合わされることで流路形成部２４を形成する部品であり、これら本体部材５１の境界部は幅方向Ｘに直交している。一方の本体部材５１は、幅方向Ｘにおいてハウジング本体４１の一方側の外側面４１ａを形成する部材であり、他方の本体部材５１は、他方側の外側面４１ａを形成する部材である。この場合、一対の本体部材５１にて流路形成部２４を２分割していることになる。一方の本体部材５１は、ハウジング本体４１において嵌合部２５、フランジ部２７及びコネクタ部２８に一体的に形成されている。

図８において、（ａ）には、１次成型により形成された１次成型体５２を示す。１次成型体５２は、一方の本体部材５１、嵌合部２５及び下地部５３を有しており、下地部５３は、後の２次成形の溶着部となる部位である。下地部５３は、嵌合部２５から本体部材５１とは反対側に向けて延びており、フランジ部２７やコネクタ部２８の下地になる部分である。このように、１次成型体５２においては、まだフランジ部２７及びコネクタ部２８が形成されておらず、下地部５３が形成されるに留まっている。また、（ａ）の１次成型体５２には、ハウジング本体４１に流量検出部２２が取り付けられていない。

その後、（ｂ）に示すように、塗布工程として、１次成型体５２の本体部材５１を塗布剤Ｑ１に浸すことでディッピングを行う。この工程では、本体部材５１の全体を塗布剤Ｑ１に浸す。その後、（ｃ）に示すように、洗浄工程にて本体部材５１の全体を洗浄剤Ｑ２に浸し、（ｄ）に示すように、乾燥工程にて塗布剤Ｑ１及び洗浄剤Ｑ２を乾燥させる。塗布剤Ｑ１及び洗浄剤Ｑ２が乾燥した後、（ｅ）に示すように、１次成型体５２に流量検出部２２を取り付ける取付工程を行う。この場合、流量検出部２２は、覆い膜４２に覆われておらず、露出領域Ｓ２に含まれていることになる。

そして、（ｆ）に示すように、１次成型体５２に対して２次成型を行うことで２次成型体５４を作成する。２次成型では、１次成型体５２の下地部５３に対してフランジ部２７及びコネクタ部２８を取り付ける。このため、２次成型体５４は、一方の本体部材５１及び嵌合部２５に加えて、フランジ部２７及びコネクタ部２８を有している。また、２次成型を行うことで、ハウジング本体４１に対してセンサS/A３６を固定する。

一対の本体部材５１のうち、２次成型体５４に含まれていない方の本体部材５１についても、２次成型体５４と同様に、塗布工程、洗浄工程及び乾燥工程を行う。塗布工程及び洗浄工程においては、２次成型体５４の本体部材５１と同様に、２次成型体５４に含まれていない方の本体部材５１の全体を塗布剤Ｑ１及び洗浄剤Ｑ２に浸す。そして、この本体部材５１が乾燥した後、この本体部材５１を２次成型体５４の本体部材５１に取り付け、これら本体部材５１を接合する。これにより、エアフロメータ１４が完成することになる。

本実施形態では、塗布工程において、本体部材５１の全体が塗布剤Ｑ１に浸される際に、嵌合部２５の先端側部分も塗布剤Ｑ１に浸されている。このため、覆い境界部Ｂが流路形成部２４ではなく嵌合部２５に設けられており、嵌合部２５の一部が覆い領域Ｓ１に含まれている。本実施形態でも、上記第１実施形態と同様に覆い境界部Ｂは高さ方向Ｙに直交しており、高さ方向Ｙにおいて嵌合部２５の中間位置に配置されている。ここで、嵌合部２５において覆い領域Ｓ１に含まれた部分は、エアフロメータ１４が吸気管１２ａに取り付けられた状態で、吸気通路１２に露出する部分である。このため、エアフロメータ１４のハウジング本体４１において、吸気通路１２において吸入空気に触れる部分の全体に、覆い膜４２が付与されていることになる。

ここまで説明した本実施形態によれば、ハウジング本体４１について、流量検出部２２を取り付ける前の段階で塗布工程、洗浄工程及び乾燥工程を行っている。このため、流量検出部２２に覆い膜４２及び保護膜４３を付着させない構成を実現しつつ、ハウジング本体４１において流量検出部２２よりも基端側に覆い膜４２及び保護膜４３を付与することができる。したがって、完成したエアフロメータ１４が吸気管１２ａに取り付けられた状態で、ハウジング２１において吸入空気に触れる全ての部分の表面がプラス電荷４５を帯びた構成を実現できる。

本実施形態によれば、一対の本体部材５１を組み立てる前の状態でハウジング本体４１に対して塗布工程、洗浄工程及び乾燥工程が行われるため、これら工程を行った後にハウジング本体４１に流量検出部２２を容易に取り付けることができる。

（第３実施形態）
上記第１実施形態では、塗布剤Ｑ１の塗布工程において、塗布剤Ｑ１にハウジング本体４１を浸していたが、第３実施形態では、塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１に向けて噴射する。本実施形態では、上記第１実施形態と同様に、覆い膜４２及び保護膜４３をハウジング本体４１に付与する工程を残して、他の工程は完了した状態にある。塗布工程においては、図９〜図１１に示すように、スプレー缶等の噴射具Ｗを用いて塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１に向けて噴射することで、塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１に塗布する。なお、噴射具Ｗで塗布剤Ｑ１を噴射する方法は、ハウジング本体４１に覆い境界部Ｂを形成しなくてもよい場合に適用することが好ましい。

洗浄工程においては、布等で余分な塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１から拭き取ってもよく、噴射具Ｗとは異なる噴射具を用いて洗浄剤Ｑ２をハウジング本体４１に吹き付けることで余分な塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１から除去してもよい。

例えば、図９に示すように、塗布工程において、噴射具Ｗにより塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１の外側面４１ａに向けて噴射し、特に流路形成部２４に塗布剤Ｑ１を塗布する。ここでは、流入口３３ａや流出口３３ｂ、計測出口３３ｃから通過流路３１や計測流路３２の内部に向けて塗布剤Ｑ１を噴射することで、流路面４１ｂに塗布剤Ｑ１を塗布してもよい。また、流入口３３ａや流出口３３ｂ、計測出口３３ｃをマスキングテープ等で覆うことで、通過流路３１や計測流路３２の内部に塗布剤Ｑ１が進入しないようにしてもよい。これにより、流路面４１ｂに塗布剤Ｑ１が塗布されないようにすることができる。この場合、覆い境界部Ｂが流入口３３ａ，流出口３３ｂ，計測出口３３ｃに存在し、流路面４１ｂ及び流量検出部２２が露出領域Ｓ２に含まれることになる。

また、図１０に示すように、塗布工程において、噴射具Ｗにより塗布剤Ｑ１をハウジング本体４１の外側面４１ａの全体に向けて噴射してもよい。この場合、外側面４１ａの全体が覆い領域Ｓ１に含まれることになる。ここでは、ハウジング本体４１において、エアフロメータ１４が吸気管１２ａに取り付けられた状態において、吸気通路１２の内部に入り込む部分及び入り込まない部分の両方について塗布剤Ｑ１を塗布する。ここで、ハウジング本体４１の表面の面積に対して、覆い膜４２で覆われた面積の割合が大きいほど、ハウジング２１がマイナスに帯電しにくくなり、ひいては、流量検出部２２がマイナスに帯電しにくくなる。このため、ハウジング本体４１の外側面４１ａの全体が覆い膜４２で覆われた構成では、流量検出部２２にプラス異物Ｆｐが付着して流量検出部２２の検出精度が低下する、ということをより確実に抑制できる。

本実施形態では、上記第２実施形態のように、一対の本体部材５１を組み付ける前の段階で塗布工程、洗浄工程及び乾燥工程を行い、塗布工程において噴射具Ｗを用いてもよい。例えば、図１１に示すように、ハウジング本体４１については、一対の本体部材５１のうち一方が取り付けられていない一方で、流量検出部２２が取り付けられた状態になっており、この段階で塗布剤Ｑ１を本体部材５１及び流量検出部２２の両方に向けて噴射する。この場合、ハウジング本体４１及び流量検出部２２への塗布剤Ｑ１の塗布をまとめて行うことができる。流量検出部２２が覆い膜４２にて覆われた構成では、流量検出部２２に接近したプラス異物Ｆｐと覆い膜４２のプラス電荷４５との間で反発力が発生するため、プラス異物Ｆｐによる流量検出部２２の汚損をより確実に抑制できる。

なお、流量検出部２２については、塗布剤Ｑ１が付着しても検出特性が変化したり検出精度が低下したりしないことを試験等であらかじめ確認した後に、塗布剤Ｑ１を塗布することが好ましい。検出特性が変化する場合や検出精度が低下する場合は、上記第２実施形態のように、流量検出部２２をハウジング本体４１に取り付ける前の段階でハウジング本体４１に対して塗布剤Ｑ１を噴射して塗布することが好ましい。

（第４実施形態）
上記第１実施形態では、エアフロメータ１４がチップ式であったが、第４実施形態では、エアフロメータがボビン式である。本実施形態では、エアフロメータ６０について図１２、図１３を参照しつつ説明する。

図１２、図１３に示すエアフロメータ６０は、上記第１実施形態のエアフロメータ１４と同様に、ハウジング６１及び流量検出部６２を有している。ハウジング６１は、これも上記第１実施形態のハウジング２１と同様に、流路形成部６４、嵌合部６５、Ｏリング６６、フランジ部６７及びコネクタ部６８を有している。なお、流量検出部６２が物理量検出部に相当する。

ハウジング６１の流路形成部６４はバイパス流路７１を形成しており、バイパス流路７１は、上流端部であるバイパス入口７２と、下流端部であるバイパス出口７３とを有している。バイパス流路７１は、バイパス入口７２から基端側に向けて延びた上流路部７１ａと、バイパス出口７３から基端側に向けて延びた下流路部７１ｂとを有しており、これら流路部７１ａ，７１ｂは、いずれも高さ方向Ｙに延びている。流量検出部６２は、発熱素子６２ａ及び感温素子６２ｂを有しており、ハウジング６１から延びるボビン支持部７４により支持されている。流量検出部６２は、上流路部７１ａに設けられており、感温素子６２ｂが発熱素子６２ａよりもバイパス入口７２に近い位置に配置されている。

本実施形態のエアフロメータ６０においても、上記第１実施形態のエアフロメータ１４と同様に、ハウジング６１は、ハウジング本体６１ａ、覆い膜４２及び保護膜４３を有している。そして、ハウジング６１は、覆い膜４２及び保護膜４３の有無によって覆い領域Ｓ１及び露出領域Ｓ２に２分割されている。覆い境界部Ｂも、上記第１実施形態と同様に、流量検出部６２よりも先端側に配置されており、流量検出部６２は露出領域Ｓ２に含まれている。すなわち、発熱素子６２ａ及び感温素子６２ｂに覆い膜４２や保護膜４３が付与されていない。ボビン式のエアフロメータ６０では、発熱素子６２ａや感温素子６２ｂが覆い膜４２で覆われると検出精度が低下しやすいと考えられるため、流量検出部６２が覆い領域Ｓ１に含まれていないことが好ましい。

エアフロメータ６０の製造時においては、上記第１実施形態と同様に、塗布工程においてハウジング本体６１ａを塗布剤Ｑ１（図示略）に浸すことで、ハウジング本体６１ａに塗布剤Ｑ１を塗布する。なお、上記第３実施形態のように、塗布剤Ｑ１を噴射することでハウジング本体６１ａに塗布してもよい。

（第５実施形態）
上記第１実施形態では、エアフロメータ１４が通過流路３１及び計測流路３２を有していたが、第５実施形態では、エアフロメータが通過流路及び計測流路に加えてサブ流路を有している。

図１４に示すエアフロメータ８０は、上記第１実施形態のエアフロメータ１４と同様に、ハウジング８１及び流量検出部８２を有している。また、上記第１実施形態と同様に、ハウジング８１は、流路形成部８４、嵌合部８５、Ｏリング８６、フランジ部８７及びコネクタ部８８を有し、流路形成部８４は、通過流路９１及び計測流路９２を有している。流量検出部８２は、流量基板８２ａに実装されており、流量基板８２ａは、流量検出部８２が搭載された部分及び流量検出部８２が計測流路９２に露出した状態でハウジング８１に設けられている。

本実施形態の流路形成部８４は、通過流路９１及び計測流路９２に加えて、サブ流路９５を有している。サブ流路９５は、通過流路９１と同様に奥行き方向Ｚに延びており、高さ方向Ｙにおいて計測流路９２とフランジ部８７との間に配置されている。サブ流路９５においては、上流端部であるサブ入口９５ａが通過流路９１の流入口９１ａよりもフランジ部８７側に配置されており、下流端部であるサブ出口９５ｂが通過流路９１の流出口９１ｂよりもフランジ部８７側に配置されている。

サブ流路９５には、センサ基板９６が設けられており、このセンサ基板９６には、湿度検出部９７及び圧力検出部９８が実装されている。湿度検出部９７は、サブ流路９５を流れる吸入空気の湿度を検出し、圧力検出部９８は、サブ流路９５を流れる吸入空気の圧力を検出する。なお、通過流路９１、計測流路９２及びサブ流路９５がバイパス流路に相当し、流量検出部８２、湿度検出部９７及び圧力検出部９８が物理量検出部に相当する。

本実施形態のエアフロメータ８０でも、上記第１実施形態のエアフロメータ１４と同様に、ハウジング８１は、ハウジング本体８１ａ、覆い膜４２及び保護膜４３を有している。そして、ハウジング８１は、覆い膜４２及び保護膜４３の有無によって覆い領域Ｓ１及び露出領域Ｓ２に２分割されている。覆い境界部Ｂも、上記第１実施形態と同様に、流量検出部８２よりも先端側に配置されており、流量検出部８２は露出領域Ｓ２に含まれている。本実施形態では、湿度検出部９７及び圧力検出部９８も露出領域Ｓ２に含まれている。このため、流量検出部８２、湿度検出部９７及び圧力検出部９８のいずれについても、覆い膜４２により覆われることで検出精度が低下するということを回避できる。

エアフロメータ８０の製造時においては、上記第１実施形態と同様に、塗布工程においてハウジング本体８１ａを塗布剤Ｑ１（図示略）に浸すことで、ハウジング本体８１ａに塗布剤Ｑ１を塗布する。また、上記第３実施形態のように、塗布剤Ｑ１を噴射することでハウジング本体８１ａに塗布してもよい。

（他の実施形態）
以上、本開示による複数の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態及び組み合わせに適用することができる。

変形例１として、上記各実施形態において、保護膜４３の厚み寸法Ｄ２が覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１より小さくなっていたが、これら厚み寸法Ｄ１，Ｄ２は同じになっていてもよく、厚み寸法Ｄ２が厚み寸法Ｄ１より大きくなっていてもよい。いずれの構成でも、保護膜４３の厚み寸法Ｄ２が大きくなり過ぎていなければ、覆い膜４２のプラス電荷４５とプラス異物Ｆｐとの間に反発力が生じやすい。

変形例２として、上記各実施形態では、ハウジング２１が覆い膜４２及び保護膜４３の両方を有していたが、図１５に示すように、ハウジング２１は保護膜４３を有していなくてもよい。この構成でも、覆い膜４２のプラス電荷４５とプラス異物Ｆｐとの間に反発力が生じやすい。また、覆い膜４２を形成するための塗布剤Ｑ１にシリコン成分やフッ素樹脂成分が含まれていることで、覆い膜４２の表面が滑らかになっている。このため、仮に覆い膜４２に異物が接触しても、この異物と覆い膜４２との間に摩擦が生じることや、この異物が覆い膜４２に付着することなどが抑制される。すなわち、異物による覆い膜４２の汚損が抑制される。また、覆い膜４２にシリコン成分やフッ素樹脂成分が含まれていることで、撥水効果を覆い膜４２に付与することや、塩害対策を覆い膜４２に施すことができる。

変形例３として、上記各実施形態では、覆い膜４２がプラス電荷４５を有していたが、図１６に示すように、ハウジング本体４１がプラス電荷４５を有していてもよい。この構成では、ハウジング本体４１の表面である外側面４１ａや流路面４１ｂに沿ってプラス電荷４５が並んでいる。この場合、覆い膜４２が設けられてない構成に比べて、ハウジング本体４１がマイナスに帯電しにくくなっている。この構成でも、覆い膜４２の厚み寸法Ｄ１や保護膜４３の厚み寸法Ｄ２が大き過ぎなければ、これらプラス電荷４５とプラス異物Ｆｐとの間で反発力が生じやすく、プラス異物Ｆｐが保護膜４３に付着することを抑制できる。

変形例４として、上記第１，４，５実施形態では、流量検出部２２，６２，８２が露出領域Ｓ２に含まれていたが、これら流量検出部２２，６２，８２は覆い領域Ｓ１に含まれていてもよい。例えば、ハウジング本体４１，６１ａ，８１ａの全体を塗布剤Ｑ１に浸すことで、これらハウジング本体４１，６１ａ，８１ａの全体を覆い領域Ｓ１とする。また、例えば、上記第５実施形態において、計測流路９２とサブ流路９５との間に覆い境界部Ｂが配置された構成とする。この構成では、流量検出部８２が覆い領域Ｓ１に含まれている一方で、湿度検出部９７及び圧力検出部９８は露出領域Ｓ２に含まれている。この場合、ハウジング本体８１ａを塗布剤Ｑ１に浸すことで覆い膜４２を形成すると、流量検出部８２は覆い膜４２で覆われる一方で、湿度検出部９７及び圧力検出部９８は覆い膜４２で覆われない。

また、上記第５実施形態において、サブ流路９５よりも基端側に覆い境界部Ｂが配置された構成とする。この構成では、流量検出部８２に加えて湿度検出部９７及び圧力検出部９８も覆い領域Ｓ１に含まれており、塗布工程においてハウジング本体８１ａを塗布剤Ｑ１に浸すことで、これら検出部８２，９７，９８のいずれについても覆い膜４２で覆うことができる。この場合、流量検出部８２、湿度検出部９７及び圧力検出部９８のいずれについても、覆い膜４２のプラス電荷４５によりプラス異物Ｆｐによる汚損をより確実に抑制できる。

変形例５として、上記１，２，４，５実施形態では、覆い境界部Ｂが高さ方向Ｙに直交していたが、覆い境界部Ｂは高さ方向Ｙに直交していなくてもよい。例えば、覆い境界部Ｂが高さ方向Ｙに延びていてもよく、覆い境界部Ｂが奥行き方向Ｚに傾斜していてもよい。また、覆い境界部Ｂが複数あってもよい。例えば、高さ方向Ｙにおいて、流量検出部よりも先端側及び基端側の両方に覆い境界部Ｂが配置された構成とする。この構成では、流量検出部が覆い領域Ｓ１に含まれ、この覆い領域Ｓ１の先端側及び基端側の両方に露出領域Ｓ２が配置されている。

変形例６として、上記１，２，４，５実施形態では、ハウジング本体において、外側面と流路面とで覆い境界部Ｂが同じ位置に配置されていたが、覆い境界部Ｂは、ハウジング本体の外側面と流路面とで異なる位置に配置されていてもよい。例えば、ハウジング本体の外側面には覆い境界部Ｂが存在する一方で、流路面には覆い境界部Ｂが存在しない構成とする。例えば上記第１実施形態において、ハウジング本体４１の外側面４１ａが部分的に覆い膜４２により覆われている一方で、流路面４１ｂはその全体が覆い膜４２により覆われた構成とする。

変形例７として、上記各実施形態について、計測流路において流量検出部の上流側だけに覆い膜が形成されていてもよく、下流側だけに覆い膜が形成されていてもよい。例えば、上記第１実施形態において、流路面４１ｂにおいて、通過流路３１を形成する部分の全体が覆い膜４２により覆われ、計測流路３２を形成する部分については、流量検出部２２よりも上流側が覆い膜４２により覆われた構成とする。この構成では、通過流路３１及び計測流路３２において、流量検出部２２よりも上流側においてプラス異物Ｆｐが流路面４１ｂに付着しにくくなっている。このため、流路面４１ｂにプラス異物Ｆｐが堆積してできた塊が剥がれて流量検出部２２に衝突するということを抑制できる。また、流路面４１ｂにおいて、計測流路３２を形成する部分のうち流量検出部２２よりも下流側が覆い膜４２により覆われた構成としてもよい。

変形例８として、上記各実施形態では、覆い境界部Ｂに覆い膜４２及び保護膜４３の各端部が含まれていたが、保護膜４３は、覆い境界部Ｂに含まれていなくてもよい。例えば、保護膜４３が、覆い境界部Ｂの位置に関係なく覆い領域Ｓ１及び露出領域Ｓ２の両方においてハウジング本体４１を覆った構成とする。また、保護膜４３が、覆い膜４２の一部を覆った構成とする。いずれの構成でも、保護膜４３により覆い膜４２の少なくとも一部を保護することができる。

変形例９として、上記各実施形態では、物理量検出部として流量検出部が計測流路に設けられていたが、計測流路に設けられる物理量検出部は、湿度検出部や温度検出部、圧力検出部であってもよい。

変形例１０として、上記各実施形態では、計測流路が周回した形状になっていたが、計測流路は、周回せずに奥行き方向Ｚに延びた形状でもよい。また、変形例１１として、上記各実施形態において、エアフロメータが通過流路及び計測流路のうち計測流路だけを有していてもよい。この場合、計測流路の上端部が流入口になる。

変形例１１として、センサS/A３６において流量検出部２２だけに覆い膜４２が付与されていてもよい。また、センサS/A３６において流量検出部２２を除いた部分に覆い膜４２が付与されていてもよい。この構成としては、センサS/A３６において検出支持部３８の少なくとも一部だけに覆い膜４２が付与された構成や、封止部３９の少なくとも一部だけに覆い膜４２が付与された構成が挙げられる。また、検出支持部３８及び封止部３９だけに覆い膜４２が付与された構成や、ケース体３７において検出支持部３８を除いた部分の少なくとも一部に覆い膜４２が付与された構成も挙げられる。

１４…物理量計測装置としてのエアフロメータ、２１…ハウジング、２２…物理量検出部としての流量検出部、３１…バイパス流路としての通過流路、３２…バイパス流路としての計測流路、４１…ハウジング本体、４１ａ…表面を構成する外側面、４１ｂ…表面を構成する流路面、４２…覆い膜、４３…保護膜、４５…プラス電荷、６０…物理量計測装置としてのエアフロメータ、６１…ハウジング、６１ａ…ハウジング本体、６２…物理量検出部としての流量検出部、８０…物理量計測装置としてのエアフロメータ、８１…ハウジング、８１ａ…ハウジング本体、８２…物理量検出部としての流量検出部、９１…バイパス流路としての通過流路、９２…バイパス流路としての計測流路、９５…バイパス流路としてのサブ流路、９７…物理量検出部としての湿度検出部、９８…物理量検出部としての圧力検出部、Ｑ１…塗布剤、Ｑ２…洗浄剤、Ｓ１…覆い領域、Ｓ２…露出領域、Ｙ…所定方向としての高さ方向。

Claims (9)

1. 流体の物理量を計測する物理量計測装置（１４，６０，８０）であって、
   前記流体が流れるバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
   前記バイパス流路において前記流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
   を備え、
   前記ハウジングは、
   誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
   前記ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）の少なくとも一部を覆う覆い膜（４２）と、
   を有しており、
   前記ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は前記覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、前記ハウジングの前記表面が前記プラス電荷を帯びている、物理量計測装置。
2. 前記ハウジングは、
   前記ハウジング本体の表面が前記覆い膜により覆われた覆い領域（Ｓ１）と、
   前記ハウジング本体の表面が前記覆い膜により覆われていない露出領域（Ｓ２）と、
   を有しており、
   前記覆い領域と前記露出領域とは、前記ハウジングを所定方向（Ｙ）に並んで配置されており、
   前記物理量検出部は前記露出領域に含まれている、請求項１に記載の物理量計測装置。
3. 前記ハウジング本体の表面には、前記バイパス流路を形成する流路面（４１ｂ）が含まれており、
   前記覆い膜は、前記流路面の少なくとも一部を覆っている、請求項１又は２に記載の物理量計測装置。
4. 前記覆い膜は、前記ハウジング本体の外側面（４１ａ）の少なくとも一部を覆っている、請求項１〜３のいずれか１つに記載の物理量計測装置。
5. 前記ハウジングは、
   前記覆い膜の表面の少なくとも一部を覆うことで、前記覆い膜を保護する保護膜（４３）を有している、請求項１〜４のいずれか１つに記載の物理量計測装置。
6. 流体を取り込むバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
   前記バイパス流路において前記流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
   を備え、
   前記ハウジングは、
   誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
   前記ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）の少なくとも一部を覆う覆い膜（４２）と、
   を有しており、
   前記ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は前記覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、前記ハウジングの前記表面が前記プラス電荷を帯びている、物理量計測装置（１４，６０，８０）を製造する製造方法であって、
   前記覆い膜を形成するための塗布剤（Ｑ１）を前記ハウジング本体の前記表面に塗布し、
   前記塗布剤を塗布した状態の前記ハウジング本体を洗浄し、
   前記ハウジング本体を洗浄した後、前記ハウジング本体の表面に塗布された状態の前記塗布剤を乾燥させる、物理量計測装置の製造方法。
7. 前記ハウジング本体を前記塗布剤に浸すことで、前記ハウジングの前記表面に前記塗布剤を塗布し、
   前記塗布剤を塗布した状態の前記ハウジング本体を洗浄剤（Ｑ２）に浸すことで、当該ハウジング本体を洗浄する、請求項６に記載の物理量計測装置の製造方法。
8. 前記物理量検出部を前記ハウジング本体に取り付けた後に、前記塗布剤を前記ハウジング本体の前記表面に塗布する、請求項７に記載の物理量計測装置の製造方法。
9. 前記ハウジング本体に対して前記塗布剤を噴射することで、前記ハウジングの前記表面に前記塗布剤を塗布する、請求項６〜８のいずれか１つに記載の物理量計測装置の製造方法。

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