JP2018143966A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】スプレーコート法で成膜された塗布膜上の斑点状突起の発生を抑制することができる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜対象部材20を載置する載置台と、前記載置台上に載置された前記成膜対象部材20上に微粒子化された塗布粒子を円錐形状に噴霧する噴霧部1と、前記載置台と前記噴霧部1との間に設けられ、前記噴霧部1から円錐形状に噴霧された前記塗布粒子の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽する遮蔽部10と、前記遮蔽部10を前記噴霧部1により支持する支持部材10cと、前記噴霧部1を前記載置台の載置面に沿った主走査方向および副走査方向へ所定の速度で走査する走査部と、を備える。【選択図】図1
Description
本発明は、成膜装置に関する。
MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)は、回路等を基板上に微細加工技術によって集積化したデバイスである。このようなMEMSは、エッチングプロセスを含む技術によって作製される。従来、エッチングプロセスに際してフォトレジスト膜などを基板上に成膜する場合、スピンコート法を用いられている。ところが、凹凸のある立体構造を持つ基板では、従来のスピンコート法では均一な膜厚をもって成膜できない、という問題がある。
そこで、スピンコート法にかわる成膜方法として、噴霧部から成膜材料を噴霧することにより基板(成膜対象部材)の表面上に膜を形成するスプレーコート法を用いた成膜装置が知られている。
特許文献1には、スプレーコーティングにおいて均一な薄膜を形成する目的で、ミスト発生室には、塗布液を微粒化する微粒子発生ノズルと、ノズルから発生された微粒子の塗布パターンを決定する絞り用のスリット状のエアブローノズルと、ミスト発生室の内壁面に微粒子が付着するのを防止するスリット状のエアブローノズルと、を備え、発生した塗布液ミストを吐出させる吐出部を具備することが開示されている。
ところが、立体構造を持つ成膜対象部材の表面にスプレーコーティングによって成膜する場合には、スプレーコーティングによる塗布膜表面に斑点状の突起が発生する、という問題がある。
より詳細には、スプレーコーティングによる塗布エリアの中心では、スプレーガンをスキャンさせた直後に液滴が流動して連続した膜になるが、塗布エリアの中心から離れたところに着弾した液滴は流動するものの膜にならずに斑点になって乾燥する。この塗布エリア中心から離れたところに着弾する液滴のうちノズルから噴霧される液滴にわずかに存在する大粒径の液滴は、既に乾燥した塗布膜の上に着弾すると、斑点状の突起となって塗布膜上に乾燥して残留してしまう。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、スプレーコート法で成膜された塗布膜上の斑点状突起の発生を抑制することができる成膜装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、成膜対象部材を載置する載置台と、前記載置台上に載置された前記成膜対象部材上に微粒子化された塗布粒子を円錐形状に噴霧する噴霧部と、前記載置台と前記噴霧部との間に設けられ、前記噴霧部から円錐形状に噴霧された前記塗布粒子の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽する遮蔽部と、前記遮蔽部を前記噴霧部により支持する支持部材と、前記噴霧部を前記載置台の載置面に沿った主走査方向および副走査方向へ所定の速度で走査する走査部と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、スプレーコート法で成膜された塗布膜上の斑点状突起の発生を抑制することができる、という効果を奏する。
以下に添付図面を参照して、成膜装置の実施形態を詳細に説明する。
(第1の実施形態)
ここで、図1は第1の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の概略構成を示す斜視図、図2はスプレーコート成膜装置100の概略構成を示す模式図、図3はスプレーコート成膜装置100を構成するスプレーガン1の概略構成を示す模式図、図4はスプレーガン1の先端部の概略構成を示す断面図である。なお、本実施形態では、ワーク(成膜対象部材)であるシリコンウエハの表面にフォトレジスト膜を成膜する場合を例に挙げて説明するが、これに限らず、立体構造をもつ成膜対象部材の表面に成膜するものであれば、広く適用可能である。
ここで、図1は第1の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の概略構成を示す斜視図、図2はスプレーコート成膜装置100の概略構成を示す模式図、図3はスプレーコート成膜装置100を構成するスプレーガン1の概略構成を示す模式図、図4はスプレーガン1の先端部の概略構成を示す断面図である。なお、本実施形態では、ワーク(成膜対象部材)であるシリコンウエハの表面にフォトレジスト膜を成膜する場合を例に挙げて説明するが、これに限らず、立体構造をもつ成膜対象部材の表面に成膜するものであれば、広く適用可能である。
図1および図2に示すように、スプレーコート成膜装置100において、シリコンウエハであるワーク(成膜対象部材)20は、加工ブース11内において、載置台である加工テーブル12上に載置されて支持される。加工テーブル12の上方には、噴霧部としてのスプレーガン1が設置されている。
図3に示すように、スプレーガン1には、塗工液供給部2の塗工液タンク2Bから、成膜材料であるフォトレジスト材とシンナーの混合液からなる塗工液2Aがポンプ2Cによって供給される。また、スプレーガン1には、霧化エア供給部3の霧化エアタンク3Bから、圧縮空気である霧化エア3Aがポンプ3Cによって供給される。
なお、スプレーガン1に供給される液体はフォトレジスト材に限るものではなく、塗料や絶縁性液、導電性液、機能性塗布液などいかなる材料のものでもよい。
図4に示すように、スプレーガン1は、塗工液供給部2から供給される塗工液2Aを、塗工液流路7を介して塗工液ノズル5から排出するとともに、その塗工液ノズル5の外周面を取り囲んで塗工液ノズル5の外周面とエアキャップ6との間に形成されるエア流路9から霧化エア3Aを排出する。これにより、霧化エア3Aによって塗工液2Aが微粒子化されたスプレーミスト(塗布粒子)4が、スプレーガン1からワーク20上に噴霧される。スプレーミスト4は、図1に示すように、円錐形状にスプレーガン1からワーク20上に噴霧される。加工ブース11には、スプレーガン1から噴霧された余分のスプレーミスト4を排除するため、クリーンエア供給口や排気口が設けられている。
スプレーコート成膜装置100は、スプレーミスト4がワーク20の表面に一様に塗布されるように、XY走査部15を備えている。XY走査部15は、スプレーガン1を加工テーブル12の載置面すなわちワーク20の被成膜面に沿った主走査方向および副走査方向へ所定の一定の速度で走査する。
また、ワーク20が載置される加工テーブル12は、相対回転手段としてのテーブル回転機構13により、加工テーブル12の載置面すなわちワーク20の被成膜面の法線方向に略平行な回転軸回りに回転可能に構成されている。
また、ワーク20に付着した塗工液2A中の液体成分(シンナー)を蒸発させて乾燥させる時間を短縮するために、必要に応じて、ワーク20を加熱する加熱手段を設けてもよい。この加熱手段としては、ワーク20が載置される加工テーブル12を加熱するヒータを用いることができる。
ここで、図5は加工テーブル12上にセットされたワーク20を示す斜視図である。図5に示すように、加工テーブル12上には、ワーク20のオリエンテーションフラット(Orientation Flat)20aが加工テーブル12上に設けられているマーク14に近接するように、ワーク20がセットされ、固定される。このとき、オリエンテーションフラット20aのラインがX軸方向に平行となるように、加工テーブル12上にワーク20がセットされ、固定される。加工テーブル12上にワーク20を固定する手段は、吸引による吸着手段、静電吸着手段など、どのような手段であってもよい。また、ワーク20も、シリコンウエハに限らず、ガラスや化合物半導体などの他の物質からなる基板であってもよく、また、基板形状も円形に限らず、液晶ディスプレイのように方形基板でもよい。
図1に示すように、スプレーコート成膜装置100は、スプレーガン1を所定の一定速度でX軸方向へ所定距離だけ走査(主走査)しながら、霧化エア3Aによって塗工液2Aが微粒子化されたスプレーミスト4を加工テーブル12上のワーク20に噴霧する。その後、スプレーコート成膜装置100は、スプレーガン1をY軸方向(副走査方向)へ所定距離Pだけ移動(副走査)させる。次に、スプレーコート成膜装置100は、スプレーガン1を所定の一定速度でX軸方向へ逆向きに所定距離だけ走査(主走査)しながら、霧化エア3Aによって塗工液2Aが微粒子化されたスプレーミスト4を加工テーブル12上のワーク20に噴霧する。このとき、スプレーコート成膜装置100は、先に噴霧した箇所に対して部分的に重複するように、スプレーミスト4の噴霧を行う。スプレーコート成膜装置100は、上述のような主走査と副走査を繰り返すことで、主走査方向に沿って往復直線移動を行い、ワーク20上に塗工液2Aを付着させ、ワーク20の表面に一様にレジスト膜を成膜する。
加えて、スプレーコート成膜装置100は、スプレーガン1と加工テーブル12上にセットされたワーク20との間に、遮蔽部10を備えている。
遮蔽部10は、対向する平行な辺を持つ二つの遮蔽部材10a,10bを備えている。スプレーガン1は、遮蔽部材10a,10bの対向する平行な辺と主走査方向(X軸方向)とが平行になるように、遮蔽部10に取り付けられる支持部材10cを備えている。遮蔽部材10a,10bは、支持部材10cによってスプレーガン1に支持される。
支持部材10cは、遮蔽部材10a,10bをそれぞれ保持する一対のアーム部10d,10eと、一対のアーム部10d,10eを両端に接続する支軸10fと、を備えている。
また、遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bは、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽するように配置される。図1に示すように、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4により塗布されるワーク20上の領域xは、遮蔽部材10a,10bによりスプレーミスト4が妨げられた部分を除いた領域になる。
ここで、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の遮蔽部10による遮蔽量の規定について説明する。
図6は、ワーク20上におけるスプレーミスト4の塗布例を部分的に示す図である。図6に示す例は、スプレーガン1をワーク20上において1回だけスキャン(図面上を右から左に移動させながら塗布)させた場合における塗布面の一部を示すものである。図6に示すように、塗布面は、塗布中心線(スキャンの中心)からしばらく平坦な膜(図6において膜a)になった後、凸凹を有する膜(図6において膜b)となる。なお、スプレーガン1による塗布の平坦さは、塗布移動速度、噴霧量、噴霧速度、内容物の粒度や粘度といった様々なパラメータが関与することになる。
ここで、図7は図6に示す塗布例の膜厚分布を示す図である。図7に示すように、スプレーガン1の塗布による薄膜の膜厚は、塗布中心から膜厚が正規分布するのではない。図7に示すように、スプレーガン1の塗布による薄膜の膜厚は、塗布中心からしばらくスキャン中心とほぼ同一の一定の膜厚が続き、そこから崖が生じる台形に近い形の分布となる。これは、スプレーガン1の塗布による薄膜の場合、塗布後においてスプレーミスト4がワーク20上において乾燥する前にワーク20上を移動し、平均化するためであると考えられる。
そこで、図7に示されるように、スプレーガン1の塗布による薄膜の膜厚に崖が生じる位置に遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bによる遮蔽ラインを設けることで、平坦な膜を形成することが可能となる。
しかしながら、上述した崖は、上記のように様々なパラメータが関与するために規定することが難しい。そこで、本実施形態においては、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の中心(塗布中心)のレジスト膜の膜厚から膜厚が5%低下する位置が、遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bによって遮蔽する位置として規定される。
このように本実施形態によれば、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト(塗布粒子)4の分布が一様な領域のみを使用して噴霧塗布することで塗布表面を均一にすることができ、スプレーコート法で成膜された塗布膜上の斑点状突起の発生を抑制することができる、という効果を奏する。
なお、本実施形態においては、遮蔽部10を構成する遮蔽部材10a,10bのうち、副走査方向(Y軸方向)の移動方向上流側の遮蔽部材10bのみ設置し、移動方向下流側の遮蔽部材10aを取り除いた形態でも、同様の作用を発揮することができる。
また、遮蔽部10を構成する支持部材10cの支軸10fは、一対のアーム部10d,10e(遮蔽部材10a,10b)の間隔を可変とすることができる機構を設けていても良い。さらに、遮蔽部10を構成する支持部材10cの一対のアーム部10d,10eは、遮蔽部材10a,10bと、ワーク20(加工テーブル12)との距離を可変とすることができる機構を設けていても良い。
例えば、スプレーガン1に供給される圧縮空気である霧化エア3Aの圧力が変化すると、スプレーミスト4の噴霧角(スプレーガン1から射出したスプレーミスト4の広がり角度)が変化する。このような場合に、支軸10fが遮蔽部材10aと遮蔽部材10bとの間隔を調整したり、一対のアーム部10d,10eが遮蔽部材10a,10bとワーク20との距離を調整したりすることで、遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bによってスプレーミスト4を遮蔽する位置を最適な位置に調整することができ、噴霧パターン(スプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内にある噴霧構造)の塗布エリア中心から離れた外周領域の液滴を塗布面に着弾しないように調整することができる。
(第2の実施形態)
次に第2の実施形態について説明する。第2の実施形態のスプレーコート成膜装置100は、遮蔽部の構造が第1の実施形態と異なっている。以下、第2の実施形態の説明では、第1の実施形態と同一部分の説明については省略し、第1の実施形態と異なる箇所について説明する。
次に第2の実施形態について説明する。第2の実施形態のスプレーコート成膜装置100は、遮蔽部の構造が第1の実施形態と異なっている。以下、第2の実施形態の説明では、第1の実施形態と同一部分の説明については省略し、第1の実施形態と異なる箇所について説明する。
ここで、図8は第2の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の概略構成を示す斜視図である。図8に示すように、第2の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の遮蔽部30は、第1実施形態の遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bに代えて、遮蔽部材30aをスプレーガン1とワーク20(加工テーブル12)との間に備えている。
なお、図8に示すように、遮蔽部30は、第1の実施形態と同様に、スプレーガン1に取り付けられる支持部材10cを備えている。遮蔽部材30aは、支持部材10cによって支持される。すなわち、支持部材10cは、遮蔽部材30aを挟み込んで保持する一対のアーム部10d,10eと、一対のアーム部10d,10eを両端に接続する支軸10fと、を備えている。
図8に示すように、遮蔽部30の遮蔽部材30aは、円形形状の貫通孔30bを有している。遮蔽部30の遮蔽部材30aは、貫通孔30bの中心がスプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の中心と一致するように設置されている。より詳細には、遮蔽部30の遮蔽部材30aは、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽するように配置される。図8に示すように、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4により塗布されるワーク20上の領域yは、遮蔽部材30aによりスプレーミスト4が妨げられた部分を除いた領域になる。
そして、第1の実施形態で説明したように、本実施形態においても、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の中心(塗布中心)のレジスト膜の膜厚から膜厚が5%低下する位置が、遮蔽部30の遮蔽部材30aによって遮蔽する位置として規定される。
なお、遮蔽部30の遮蔽部材30aは、円形形状の貫通孔30bを有するものとしたが、これに限るものではない。例えば、遮蔽部30の遮蔽部材30aは、楕円形形状や方形形状など、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽できる形状であればよい。
また、図9に示すように、遮蔽部30の遮蔽部材30aは、副走査方向(Y軸方向)の移動方向上流側のみを円形形状の貫通孔30bでスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽し、移動方向下流側をスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域を遮蔽しない形状とした貫通孔30bであっても、同様の作用を発揮することができる。
さらに、一対のアーム部10d,10eが遮蔽部材30aとワーク20との距離を可変とすることで、遮蔽部10の遮蔽部材30aによってスプレーミスト4を遮蔽する位置を最適な位置に調整することができ、噴霧パターン(スプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内にある噴霧構造)の塗布エリア中心から離れた外周領域の液滴を塗布面に着弾しないように調整することができる。
このように本実施形態によれば、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト(塗布粒子)4の分布が一様な領域のみを使用して噴霧塗布することで塗布表面を均一にすることができ、スプレーコート法で成膜された塗布膜上の斑点状突起の発生を抑制することができる、という効果を奏する。
(第3の実施形態)
次に第3の実施形態について説明する。第3の実施形態のスプレーコート成膜装置100は、遮蔽部の形状が第1の実施形態および第2の実施形態と異なっている。以下、第3の実施形態の説明では、第1の実施形態および第2の実施形態と同一部分の説明については省略し、第1の実施形態および第2の実施形態と異なる箇所について説明する。
次に第3の実施形態について説明する。第3の実施形態のスプレーコート成膜装置100は、遮蔽部の形状が第1の実施形態および第2の実施形態と異なっている。以下、第3の実施形態の説明では、第1の実施形態および第2の実施形態と同一部分の説明については省略し、第1の実施形態および第2の実施形態と異なる箇所について説明する。
ここで、図10は第3の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の遮蔽部10を示す断面図である。図10に示すように、第3の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100においては、第1の実施形態で説明した遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bは、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽する領域の端部の少なくとも一部がスプレーガン1方向に傾斜する角度を持って屈曲している傾斜部10gを備えている。
これにより、本実施形態によれば、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4により遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bの上面に付着する塗布物が堆積してワーク20上に液ダレすることを防止することができる。
図11は、第3の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の遮蔽部10の変形例を示す断面図である。図11に示すように、遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bは、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域の一部を遮蔽する領域の端部の少なくとも一部がスプレーガン1方向に傾斜する角度を持って屈曲している傾斜部10gを備えている。加えて、図11に示すように、遮蔽部材10a,10bは、凹部10hを備えている。そして、遮蔽部材10a,10bに設けられた傾斜部10gは、凹部10hに近接している。
これにより、スプレーガン1から噴霧されて遮蔽された遮蔽部材10a,10bの上面に付着する塗布粒子(スプレーミスト4)が傾斜部10gの傾斜を流れてきて凹部10hに流入することとなり、ワーク20上に液ダレすることを防止できる。
図12は、第3の実施形態にかかるスプレーコート成膜装置100の遮蔽部10の変形例を示す断面図である。図12に示すように、遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bは、スプレーガン1から噴霧されたスプレーミスト4の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域の一部を遮蔽する領域の端部の少なくとも一部がスプレーガン1方向に傾斜する角度を持って屈曲している傾斜部10gを備えている。加えて、図12に示すように、遮蔽部材10a,10bは、開口部にファンなどを取り付けた排気機構10iを備えている。そして、遮蔽部材10a,10bに設けられた傾斜部10gは、排気機構10iに近接している。
さらに、図12に示すように、遮蔽部材10bは、周縁部に立設される側壁10kおよび側壁10kの上部に設けられる上面壁10mを備えている。側壁10kおよび上面壁10mは、遮蔽部材10bにより遮られたスプレーミスト4の飛散を防止するものである。
これにより、スプレーガン1から噴霧されて遮蔽された遮蔽部材10a,10bの上面に付着する塗布粒子(スプレーミスト4)が傾斜部10gの傾斜を流れてきて排気機構10iにより装置外部に排気されることとなり、遮蔽部材10a,遮蔽部材10bにより遮られたスプレーミスト4の一部の粒子が、空間を漂ってスプレーコート成膜装置100やワーク20に付着することを防止することができる。さらに、遮蔽部材10a,10bの上面に付着する塗工液の量を減らすことができ、ワーク20上への液ダレを更に確実に防止することができる。
なお、図10ないし図12においては、第1の実施形態で説明した遮蔽部10の遮蔽部材10a,10bを例に説明したが、これに限るものではなく、第2の実施形態で説明した遮蔽部30の遮蔽部材30aに対して適用可能であることは言うまでもない。
1 噴霧部
10 遮蔽部
10a,10b 遮蔽部材
10c 支持部材
10d,10e アーム部
10f 支軸
10g 傾斜部
10h 凹部
10i 排気機構
10k 側壁
10m 上面壁
12 載置台
15 走査部
20 成膜対象部材
30 遮蔽部
30a 遮蔽部材
30b 貫通孔
100 成膜装置
10 遮蔽部
10a,10b 遮蔽部材
10c 支持部材
10d,10e アーム部
10f 支軸
10g 傾斜部
10h 凹部
10i 排気機構
10k 側壁
10m 上面壁
12 載置台
15 走査部
20 成膜対象部材
30 遮蔽部
30a 遮蔽部材
30b 貫通孔
100 成膜装置
Claims (10)
- 成膜対象部材を載置する載置台と、
前記載置台上に載置された前記成膜対象部材上に微粒子化された塗布粒子を円錐形状に噴霧する噴霧部と、
前記載置台と前記噴霧部との間に設けられ、前記噴霧部から円錐形状に噴霧された前記塗布粒子の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部を前記噴霧部により支持する支持部材と、
前記噴霧部を前記載置台の載置面に沿った主走査方向および副走査方向へ所定の速度で走査する走査部と、
を備えることを特徴とする成膜装置。 - 前記遮蔽部は、前記噴霧部から噴霧された前記塗布粒子の塗布中心の膜厚から膜厚が5%低下する位置を遮蔽位置とする、
ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部は、前記走査部による主走査方向と平行であって対向する辺を持つ二つの遮蔽部材を備えている、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部は、円形形状の貫通孔を有する遮蔽部材を備えており、当該貫通孔の中心は前記噴霧部から噴霧された前記塗布粒子の中心と一致する、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の成膜装置。 - 前記支持部材は、前記遮蔽部材を保持する一対のアーム部を備え、
前記一対のアーム部は、前記遮蔽部材と前記載置台との距離を可変とする、
ことを特徴とする請求項3または4に記載の成膜装置。 - 前記支持部材は、前記一対のアーム部を両端に接続する支軸を備え、
前記支軸は、前記一対のアーム部の間隔を可変とする、
ことを特徴とする請求項5に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部材は、前記噴霧部から噴霧された前記塗布粒子の噴霧方向に対して直交する断面内における外周領域の少なくとも一部を含んだ領域を遮蔽する領域の端部の少なくとも一部が前記噴霧部方向に傾斜する角度を持って屈曲している傾斜部を備えている、
ことを特徴とする請求項3または4に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部材は、前記傾斜部に近接して設けられ、前記傾斜部の傾斜を流れてきた前記塗布粒子を流入させる凹部を備えている、
ことを特徴とする請求項7に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部材は、前記傾斜部に近接して設けられ、前記傾斜部の傾斜を流れてきた前記塗布粒子を外部に排気する排気機構を備えている、
ことを特徴とする請求項7に記載の成膜装置。 - 前記遮蔽部材は、周縁部に立設される側壁および当該側壁の上部に設けられる上面壁を備えている、
ことを特徴とする請求項9に記載の成膜装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110369194A (zh) * | 2019-06-24 | 2019-10-25 | 安徽省舒城华竹实业有限公司 | 一种竹木制品生产用高效喷漆装置及工艺 |
CN113019766A (zh) * | 2021-02-25 | 2021-06-25 | 东莞市智睿机械科技有限公司 | 一种可控精细喷胶轨迹的喷枪机构及运作方法 |
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2017
- 2017-03-06 JP JP2017042198A patent/JP2018143966A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110369194A (zh) * | 2019-06-24 | 2019-10-25 | 安徽省舒城华竹实业有限公司 | 一种竹木制品生产用高效喷漆装置及工艺 |
CN113019766A (zh) * | 2021-02-25 | 2021-06-25 | 东莞市智睿机械科技有限公司 | 一种可控精细喷胶轨迹的喷枪机构及运作方法 |
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