JP2018134846A - Resin supply device, resin supply method and resin molding apparatus - Google Patents

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JP2018134846A JP2017032726A JP2017032726A JP2018134846A JP 2018134846 A JP2018134846 A JP 2018134846A JP 2017032726 A JP2017032726 A JP 2017032726A JP 2017032726 A JP2017032726 A JP 2017032726A JP 2018134846 A JP2018134846 A JP 2018134846A
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正樹 川口
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique capable of preventing troubles such as air trapping in a resin.SOLUTION: A resin supply device (10) includes: a chamber lid (31) and a chamber body (32) constituting a chamber (30); a seal ring (33) provided at an opening edge (32a) of the chamber body (32) to seal between the chamber lid (31) and the chamber body (32); and a load receiver (37) provided on the chamber body (32) along the seal ring (33) and receiving a load between the chamber lid (31) and chamber body (32).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、樹脂供給技術および樹脂成形技術に関する。   The present invention relates to a resin supply technique and a resin molding technique.

特開2012−126075号公報(以下「特許文献1」という)には、液状樹脂供給装置が記載されている。この液状樹脂供給装置は、シリンジに充填された液状樹脂をチューブノズルからワークに吐出して供給するものである。   Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-126075 (hereinafter referred to as “Patent Document 1”) describes a liquid resin supply apparatus. This liquid resin supply apparatus discharges and supplies liquid resin with which the syringe was filled to a workpiece | work from a tube nozzle.

特開2012−126075号公報JP 2012-126075 A

被供給物(例えば、ワークやフィルム)に対して樹脂成形を行うにあたり、特許文献1に記載の液状樹脂供給装置を用いて被供給物上に液状樹脂を供給することができる。しかしながら、例えば被供給物として複数のチップ部品(チップ状の電子部品)が実装された基板であるワークに液状樹脂を供給すると、複数のチップ部品を覆う液状樹脂がしずく状の塊となる場合がある。この場合、基板と液状樹脂との間にエアが残ってしまい、結果として成形品には未充填が発生しやすくなる問題がある。更に、ワークとして基板上にフリップチップ接続されたチップ部品では、いわゆるアンダーフィルが適切に行われないおそれがある。   When resin molding is performed on an object to be supplied (for example, a workpiece or a film), the liquid resin can be supplied onto the object to be supplied using the liquid resin supply device described in Patent Document 1. However, for example, when a liquid resin is supplied to a workpiece that is a substrate on which a plurality of chip components (chip-shaped electronic components) are mounted as an article to be supplied, the liquid resin that covers the plurality of chip components may form a drop-like lump. is there. In this case, there is a problem that air remains between the substrate and the liquid resin, and as a result, the molded product is likely to be unfilled. Furthermore, there is a possibility that so-called underfill is not properly performed on a chip component flip-chip connected on a substrate as a workpiece.

本発明の一目的は、樹脂内におけるエアの抱え込みなどの不具合を防止することのできる技術を提供することにある。本発明の一目的および他の目的ならびに新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかとなる。   An object of the present invention is to provide a technique capable of preventing problems such as air entrapment in a resin. One and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

本発明の一解決手段に係る樹脂供給装置は、真空状態としたチャンバ内で液状の樹脂を被供給物に供給する樹脂供給装置であって、前記チャンバを構成するチャンバ蓋およびチャンバ本体と、前記チャンバ本体の開口縁に設けられ、前記チャンバ蓋と前記チャンバ本体との間をシールするシールリングと、前記シールリングに沿って前記チャンバ本体に設けられ、前記チャンバ蓋と前記チャンバ本体との間で加重を受ける加重受けと、を備えることを特徴とする。これによれば、エアが除去された真空状態において樹脂を供給することができる。また、加重受けによってシールリングの潰れすぎを防止し、シール性を確保してチャンバを真空状態とすることができる。   A resin supply apparatus according to one solution of the present invention is a resin supply apparatus that supplies a liquid resin to an object to be supplied in a vacuumed chamber, wherein the chamber lid and the chamber main body constituting the chamber, A seal ring which is provided at an opening edge of the chamber body and seals between the chamber lid and the chamber body; and is provided in the chamber body along the seal ring, between the chamber lid and the chamber body. And a weighted receiver for receiving the weight. According to this, resin can be supplied in the vacuum state from which air was removed. In addition, the weight ring can prevent the seal ring from being crushed and ensure the sealing performance to make the chamber in a vacuum state.

前記樹脂供給装置において、前記チャンバが開いた状態では、前記チャンバ本体から前記チャンバ蓋へ向かう高さにおいて前記加重受けより前記シールリングが高いことがより好ましい。これによれば、チャンバを閉じた際にシール性を確保し、チャンバを真空状態とすることができる。   In the resin supply device, it is more preferable that the seal ring is higher than the load receiver in a height from the chamber main body to the chamber lid when the chamber is open. According to this, when the chamber is closed, a sealing property can be ensured and the chamber can be brought into a vacuum state.

前記樹脂供給装置において、前記チャンバが閉じた状態で前記チャンバ本体に対して前記チャンバ蓋を移動させる蓋駆動部を更に備えることがより好ましい。これによれば、真空状態においてチャンバ蓋を移動させることができる。   More preferably, the resin supply device further includes a lid driving unit that moves the chamber lid with respect to the chamber body in a state where the chamber is closed. According to this, the chamber lid can be moved in a vacuum state.

前記樹脂供給装置において、前記加重受けは、ボールローラが複数設けられている構成であることがより好ましい。これによれば、真空状態においてチャンバ蓋を容易に移動させることができる。   In the resin supply apparatus, it is more preferable that the weighted receiver has a configuration in which a plurality of ball rollers are provided. According to this, the chamber lid can be easily moved in a vacuum state.

前記樹脂供給装置において、前記チャンバ内に設けられ、前記被供給物がセットされる重量計を更に備えることがより好ましい。これによれば、被供給物に供給される樹脂量をリアルタイムで計測することができる。   More preferably, the resin supply device further includes a weigh scale provided in the chamber and on which the supply object is set. According to this, the amount of resin supplied to the supply object can be measured in real time.

前記樹脂供給装置において、前記チャンバ内に設けられ、前記被供給物がセットされるセット台と、前記セット台を回転させる台駆動部と、を更に備えることがより好ましい。これによれば、樹脂供給側(チャンバ蓋)の移動範囲を小さくしてチャンバの容量を小さくすることができるので、短時間で所定圧の真空状態とすることができ、あるいは例えば吸引力の高い真空ポンプを用いずに製造コストを低減することができる。   More preferably, the resin supply apparatus further includes a set table provided in the chamber and on which the material to be supplied is set, and a table driving unit that rotates the set table. According to this, since the moving range of the resin supply side (chamber lid) can be reduced and the capacity of the chamber can be reduced, a vacuum state of a predetermined pressure can be achieved in a short time or, for example, a high suction force Manufacturing costs can be reduced without using a vacuum pump.

前記樹脂供給装置において、前記チャンバ外に設けられ、前記チャンバ本体を貫通するピンを介して前記被供給物がセットされる重量計を更に備えることが好ましい。これによれば、チャンバ内に重量計を設けることなく、被供給物に供給される樹脂量を計測することができる。   In the resin supply apparatus, it is preferable that the resin supply apparatus further includes a weighing scale that is provided outside the chamber and in which the supply object is set via a pin that penetrates the chamber main body. According to this, it is possible to measure the amount of resin supplied to the supply object without providing a weigh scale in the chamber.

本発明の一実施形態に係る樹脂成形装置は、前記樹脂供給装置と、キャビティを有し、前記キャビティ内で前記樹脂を熱硬化させる金型と、を備えることを特徴とする。これによれば、未充填などの成形不良を防止することができる。   A resin molding apparatus according to an embodiment of the present invention includes the resin supply apparatus, and a mold having a cavity and thermally curing the resin in the cavity. According to this, molding defects such as unfilling can be prevented.

本発明の一実施形態に係る樹脂供給方法は、狭隘部を有する被供給物に液状の樹脂を供給する樹脂供給方法であって、(a)チャンバ内に前記被供給物をセットする工程と、(b)前記(a)工程の後、前記チャンバ内を減圧する工程と、(c)前記(b)工程の後、前記狭隘部に掛かるように前記樹脂を供給する工程と、(d)前記(c)工程の後、前記チャンバ内を加圧する工程と、を含むことを特徴とする。これによれば、減圧された狭隘部に加圧された樹脂を注入することができる。   A resin supply method according to an embodiment of the present invention is a resin supply method for supplying a liquid resin to a supply having a narrow portion, and (a) a step of setting the supply in a chamber; (B) After the step (a), the step of decompressing the inside of the chamber; (c) After the step (b), supplying the resin so as to hang over the narrow portion; and (d) the step (C) After the step, the step of pressurizing the inside of the chamber is included. According to this, the pressurized resin can be injected into the narrowed portion that has been decompressed.

前記樹脂供給方法において、前記(b)工程では、前記チャンバを真空状態とし、前記(d)工程では、前記チャンバを大気開放することがより好ましい。これによれば、狭隘部へ樹脂をより注入することができる。   In the resin supply method, it is more preferable that the chamber is in a vacuum state in the step (b), and the chamber is opened to the atmosphere in the step (d). According to this, resin can be more inject | poured into a narrow part.

前記樹脂供給方法において、チップ部品がフリップチップ接続されたキャリアを前記被供給物とし、前記狭隘部を前記キャリアと前記チップ部品との間とすることがより好ましい。これによれば、アンダーフィルを容易に行うことができる。   In the resin supply method, it is more preferable that a carrier to which a chip component is flip-chip connected is the supply target, and the narrow portion is between the carrier and the chip component. According to this, underfill can be easily performed.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次のとおりである。本発明の解決手段によれば、樹脂内におけるエアの抱え込みなどの不具合を防止することができる。   Of the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows. According to the solution means of the present invention, problems such as air entrapment in the resin can be prevented.

本発明の一実施形態に係る樹脂供給装置を説明するための図であり、被供給物がチャンバに供給される状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin supply apparatus which concerns on one Embodiment of this invention, and shows the state by which a to-be-supplied material is supplied to a chamber. 図1に続く動作に係る樹脂供給装置を説明するための図であり、チャンバが閉じられた状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin supply apparatus which concerns on the operation | movement following FIG. 1, and shows the state by which the chamber was closed. 図2に続く動作に係る樹脂供給装置を説明するための図であり、樹脂を供給している状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin supply apparatus which concerns on the operation | movement following FIG. 2, and shows the state which is supplying resin. 円板形状の被供給物への樹脂の塗布パターンを説明するための図であり、図4Aは渦巻き、図4Bは格子の状態を示す。It is a figure for demonstrating the application | coating pattern of the resin to a disk-shaped to-be-supplied material, FIG. 4A shows a spiral, FIG. 4B shows the state of a grating | lattice. パネル形状の被供給物への樹脂の塗布パターンを説明するための図であり、図5Aはセンタードット、図5Bは多点、図5Cは大きい渦巻き、図5Dは小さい渦巻き、図5Eは角渦巻き、図5Fは格子、図5Gは放射線の状態を示す。It is a figure for demonstrating the application | coating pattern of the resin to a panel-shaped to-be-supplied object, FIG. 5A is a center dot, FIG. 5B is many points, FIG. 5C is a big spiral, FIG. 5D is a small spiral, FIG. 5F shows a lattice, and FIG. 5G shows the state of radiation. 被供給物の要部(チップ部品)への樹脂の塗布パターンを説明するための図であり、図6Aはチップ部品の全周塗布、図6Bは隣接するチップ部品間を覆わずに塗布、図6Cは隣接するチップ部品間を覆って塗布する状態を示す。FIG. 6A is a diagram for explaining a resin application pattern to a main part (chip component) of an object to be supplied. FIG. 6A is an entire periphery application of a chip component, and FIG. 6B is an application without covering between adjacent chip components. 6C shows a state of coating between adjacent chip parts. 本発明の他の実施形態に係る樹脂供給装置を説明するための図であり、重量計測する状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin supply apparatus which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state which measures weight. 図7に続く動作に係る樹脂供給装置を説明するための図であり、樹脂を塗布する状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin supply apparatus which concerns on the operation | movement following FIG. 7, and shows the state which apply | coats resin. 本発明の一実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、図9Aは被供給物に樹脂が供給された状態、図9Bは成形金型に被供給物がセットされた状態、図9Cは成形金型内が減圧されている状態、図9Dは被供給物がクランプされている状態、図9Eはキャビティ内で樹脂が熱硬化されている状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method which concerns on one Embodiment of this invention, FIG. 9A is the state in which resin was supplied to the to-be-supplied object, FIG. 9B is the state in which the to-be-supplied object was set to the molding die, FIG. 9C shows a state in which the inside of the molding die is decompressed, FIG. 9D shows a state in which the material to be supplied is clamped, and FIG. 9E shows a state in which the resin is thermally cured in the cavity. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、図10Aは被供給物に樹脂が供給された状態、図10Bは被供給物においてアンダーフィルがされた状態、図10Cは成形金型に被供給物がセットされた状態、図10Dは成形金型内が減圧されている状態、図10Eはキャビティ内で樹脂が熱硬化されている状態を示す。FIG. 10A is a view for explaining a resin molding method according to another embodiment of the present invention, FIG. 10A is a state in which resin is supplied to the supply object, FIG. 10B is a state in which underfill is applied to the supply object, and FIG. 10C shows a state where an object to be supplied is set in the molding die, FIG. 10D shows a state where the pressure inside the molding die is reduced, and FIG. 10E shows a state where the resin is thermally cured in the cavity. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、樹脂が供給される前の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state of the to-be-supplied object before resin is supplied. 図11に続く樹脂成形方法を説明するための図であり、渦巻き状に樹脂が供給された後の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin shaping | molding method following FIG. 11, and shows the state of the to-be-supplied object after resin was supplied spirally. 図12に続く樹脂成形方法を説明するための図であり、樹脂が圧縮されている被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method following FIG. 12, and shows the state of the to-be-supplied object by which resin is compressed. 図13に続く樹脂成形方法を説明するための図であり、樹脂が成形された被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method following FIG. 13, and shows the state of the to-be-supplied material by which resin was shape | molded. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、渦巻き状の一部を細くして樹脂が供給された後の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state of the to-be-supplied object after thinning a part of spiral shape and resin was supplied. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、途切れさせながら渦巻き状に樹脂が供給された後の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin shaping | molding method which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state of the to-be-supplied object after resin was supplied to the spiral shape, making it interrupt. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、途切れさせながら直線状に樹脂が供給された後の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state of the to-be-supplied object after resin was supplied to linear form, making it interrupt. 本発明の他の実施形態に係る樹脂成形方法を説明するための図であり、チップ部品間に多点で樹脂が供給された後の被供給物の状態を示す。It is a figure for demonstrating the resin molding method which concerns on other embodiment of this invention, and shows the state of the to-be-supplied object after resin is supplied by multiple points between chip components. 本発明の一実施形態に係る樹脂成形装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the resin molding apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.

以下の本発明における実施形態では、必要な場合に複数のセクションなどに分けて説明するが、原則、それらはお互いに無関係ではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細などの関係にある。このため、全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、構成要素の数(個数、数値、量、範囲などを含む)については、特に明示した場合や原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。また、構成要素などの形状に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合などを除き、実質的にその形状などに近似または類似するものなどを含むものとする。   In the following embodiments of the present invention, the description will be divided into a plurality of sections when necessary. However, in principle, they are not irrelevant to each other, and one of them is related to some or all of the other modifications, details, etc. It is in. For this reason, the same code | symbol is attached | subjected to the member which has the same function in all the figures, and the repeated description is abbreviate | omitted. In addition, the number of components (including the number, numerical value, quantity, range, etc.) is limited to that specific number unless otherwise specified or in principle limited to a specific number in principle. It may be more than a specific number or less. In addition, when referring to the shape of a component, etc., it shall include substantially the same or similar to the shape, etc., unless explicitly stated or in principle otherwise considered otherwise .

(実施形態1)
本発明の実施形態に係る樹脂供給装置10(ライティングディスペンサ)について、主として図1〜図3を参照して説明する。図1〜図3は樹脂供給動作に係る樹脂供給装置10を説明するための図である。この樹脂供給装置10は、供給部20(吐出部)およびチャンバ30を備え、真空状態としたチャンバ30内で供給部20からの液状の樹脂RをワークW(被供給物)に供給(塗布)するものである。本実施形態では、樹脂供給装置10が三次元(XYZ)直交座標系にあるものとして説明し、図1などに示す上下方向(鉛直方向)がZ軸と平行な方向に対応し、横方向(水平方向)がX軸およびY軸と平行な方向となる。
(Embodiment 1)
A resin supply apparatus 10 (writing dispenser) according to an embodiment of the present invention will be described mainly with reference to FIGS. 1-3 is a figure for demonstrating the resin supply apparatus 10 which concerns on resin supply operation | movement. The resin supply apparatus 10 includes a supply unit 20 (discharge unit) and a chamber 30, and supplies (applies) the liquid resin R from the supply unit 20 to the workpiece W (supplied object) in the vacuum chamber 30. To do. In the present embodiment, the resin supply device 10 is described as being in a three-dimensional (XYZ) orthogonal coordinate system, and the vertical direction (vertical direction) shown in FIG. (Horizontal direction) is a direction parallel to the X axis and the Y axis.

本実施形態では、ワークWとして、例えば複数のチップ部品100(例えば半導体チップ)が行列状にフリップチップ接続(バンプ接続)された円板形状のキャリア101(例えば半導体ウェハ)を適用する。このため、ワークWは、狭隘部102(チップ部品100とキャリア101との間)を有する。また、本実施形態では、樹脂Rとして、例えばシリコーン樹脂やエポキシ樹脂といった液状(溶融した状態を含む)の熱硬化性樹脂を適用する。このような樹脂Rが供給されたワークWに対しては、成形金型91(図9参照)を用いて、例えばeWLB(Embedded Wafer Level Ballgrid-Array Package)と呼ばれる成形工程の樹脂成形がなされる。   In the present embodiment, for example, a disk-shaped carrier 101 (for example, a semiconductor wafer) in which a plurality of chip components 100 (for example, semiconductor chips) are flip-chip connected (bump connected) in a matrix is applied as the workpiece W. For this reason, the workpiece W has a narrow portion 102 (between the chip component 100 and the carrier 101). In the present embodiment, a liquid thermosetting resin (including a molten state) such as a silicone resin or an epoxy resin is applied as the resin R. For the workpiece W supplied with such resin R, resin molding in a molding process called eWLB (Embedded Wafer Level Ballgrid-Array Package), for example, is performed using a molding die 91 (see FIG. 9). .

樹脂供給装置10は、供給部20を構成するにあたり、液状の樹脂Rが貯留されるシリンジ21と、シリンジ21の先端に設けられ、樹脂Rを吐出するノズル22(チューブノズル)と、シリンジ21内に挿入され、樹脂Rを押し付けるプランジャ23と、を備える。シリンジ21はシリンジケース25(カートリッジホルダ)に収納される。これにより、シリンジ21を容易に交換することができる。また、プランジャ23は駆動部80(Z軸駆動機構)によってZ軸方向に上下動(往復動)することができる。これにより、プランジャ23によって押し付けられた樹脂Rをノズル22から吐出させることができる。また、シリンジケース25は、駆動部70(Z軸駆動機構)によってZ軸方向に上下動(往復動)することができる。これにより、シリンジケース25、シリンジ21を介してノズル22がZ軸方向に移動することができ、後述の液切りをすることができる。なお、駆動部70、80としては、モータによってレール上を移動するスライダや、リンク構造を用いた多間接ロボットなど任意の移動構造を備えたものを用いることができる。   In configuring the supply unit 20, the resin supply device 10 includes a syringe 21 in which the liquid resin R is stored, a nozzle 22 (tube nozzle) that discharges the resin R provided at the tip of the syringe 21, and the syringe 21. And a plunger 23 for pressing the resin R. The syringe 21 is housed in a syringe case 25 (cartridge holder). Thereby, the syringe 21 can be easily replaced. Further, the plunger 23 can be moved up and down (reciprocating) in the Z-axis direction by the drive unit 80 (Z-axis drive mechanism). Thereby, the resin R pressed by the plunger 23 can be discharged from the nozzle 22. The syringe case 25 can be moved up and down (reciprocating) in the Z-axis direction by the drive unit 70 (Z-axis drive mechanism). Thereby, the nozzle 22 can move to a Z-axis direction via the syringe case 25 and the syringe 21, and the below-mentioned liquid draining can be performed. In addition, as the drive units 70 and 80, those provided with an arbitrary moving structure such as a slider that moves on a rail by a motor or a multi-indirect robot using a link structure can be used.

また、樹脂供給装置10は、例えば弾性体で構成されたノズル22(チューブノズル)を摘むように設けられ、ノズル22の開閉を行うピンチバルブ24と、このピンチバルブ24の駆動を行うバルブ駆動部26(例えばエアシリンダで駆動される)と、を備える。ピンチバルブ24はバルブ駆動部26に設けられ、バルブ駆動部26はシリンジケース25に設けられる。樹脂供給装置10では、ピンチバルブ24が開いた状態でプランジャ23が下動してシリンジ21内の樹脂Rを押し出す方向に流動させることでノズル22から樹脂Rが吐出される。他方、プランジャ23の下動が停止すると共にピンチバルブ24が閉じてノズル22からの樹脂Rの吐出が停止される。   In addition, the resin supply device 10 is provided so as to grip a nozzle 22 (tube nozzle) made of, for example, an elastic body, a pinch valve 24 that opens and closes the nozzle 22, and a valve drive unit 26 that drives the pinch valve 24. (For example, driven by an air cylinder). The pinch valve 24 is provided in the valve drive unit 26, and the valve drive unit 26 is provided in the syringe case 25. In the resin supply device 10, the resin R is discharged from the nozzle 22 by causing the plunger 23 to move downward in the state in which the pinch valve 24 is opened and causing the resin R in the syringe 21 to flow in the pushing direction. On the other hand, the downward movement of the plunger 23 is stopped and the pinch valve 24 is closed, and the discharge of the resin R from the nozzle 22 is stopped.

吐出停止の後には、液状の樹脂Rの液切りを行うことで、樹脂Rがノズル22から垂れてしまうのを防止することができる。樹脂Rの液切りとは、樹脂Rをノズル22から下方に吐出してワークWに供給し、樹脂Rがその自重によってノズル22から切り離されず引き伸ばされた状態(ドローリング状態)となった場合に、ノズル22から切り離すことをいう。本実施形態においては、樹脂Rを吐出し終わったノズル22を上下動することでワークWとの距離の伸縮を繰り返し、ノズル22から切り離す方法を想定している。チャンバ30が閉じられた状態で液切りが行われることによりホコリなどの巻き込みなどを防止することができる。なお、液切りの手法としてはこれに限らず、ノズル22の先端から物理的に切り取るような手法や、ノズル22に連通し分岐した経路を介してエアを導入し、切り離す手法でもよい。   After the discharge is stopped, the liquid resin R is drained to prevent the resin R from dripping from the nozzle 22. The drainage of the resin R is when the resin R is discharged downward from the nozzle 22 and supplied to the workpiece W, and the resin R is stretched without being separated from the nozzle 22 by its own weight (drawing state). It means to cut off from the nozzle 22. In the present embodiment, a method is assumed in which the nozzle 22 that has finished discharging the resin R is moved up and down repeatedly to repeatedly expand and contract the distance from the workpiece W and separate from the nozzle 22. By removing the liquid with the chamber 30 closed, it is possible to prevent entrainment of dust and the like. Note that the method for removing liquid is not limited to this, and a method for physically cutting from the tip of the nozzle 22 or a method for introducing and separating air through a path branched to communicate with the nozzle 22 may be used.

また、樹脂供給装置10は、一対のチャンバ部31、32(一方をチャンバ蓋31、他方をチャンバ本体32とする)を有するチャンバ30(例えば鋼材から構成される)を備える。樹脂供給装置10では、チャンバ30内にセットされたワークWに対して、チャンバ蓋31側に設けられたノズル22から液状の樹脂Rが吐出して供給される。また、樹脂供給装置10は、温度調節部(例えばヒータやクーラ)を備えることで、チャンバ30の内部温度を調節してもよく、供給される樹脂Rの温度を調節してもよい。   The resin supply apparatus 10 includes a chamber 30 (for example, made of steel) having a pair of chamber portions 31 and 32 (one is a chamber lid 31 and the other is a chamber body 32). In the resin supply apparatus 10, the liquid resin R is discharged and supplied to the workpiece W set in the chamber 30 from the nozzle 22 provided on the chamber lid 31 side. Moreover, the resin supply apparatus 10 may be provided with a temperature adjustment unit (for example, a heater or a cooler) to adjust the internal temperature of the chamber 30 or the temperature of the supplied resin R.

チャンバ蓋31は、蓋駆動部50(XYZ軸駆動機構)によってXYZ軸方向に往復動することができる。蓋駆動部50としては、前述した一軸(Z軸)用の駆動部70、80を三軸(XYZ軸)のそれぞれに対応させたものを用いることができる。これにより、チャンバ本体32に対してチャンバ蓋31をZ軸に沿う方向(鉛直方向)に上下動させる(近づけたり、遠ざけたりさせる)ことで、チャンバ30を開閉することができる。また、後述するが、蓋駆動部50により、チャンバ30が閉じられた状態でチャンバ本体32に対してチャンバ蓋31を移動(水平移動)させるができる。これによれば、チャンバ30が真空状態においてもチャンバ蓋31およびこれに設けられるノズル22を移動させることができる。すなわち、真空状態で任意の吐出位置においてワークWの面内に樹脂Rを供給することができる。   The chamber lid 31 can reciprocate in the XYZ axis directions by a lid driving unit 50 (XYZ axis driving mechanism). As the lid drive unit 50, the one-axis (Z-axis) drive units 70 and 80 described above corresponding to the three axes (XYZ axes) can be used. Accordingly, the chamber 30 can be opened and closed by moving the chamber lid 31 up and down (approaching or moving away) in the direction along the Z axis (vertical direction) with respect to the chamber body 32. As will be described later, the lid driving unit 50 can move (horizontally move) the chamber lid 31 with respect to the chamber main body 32 with the chamber 30 closed. According to this, even when the chamber 30 is in a vacuum state, the chamber lid 31 and the nozzle 22 provided thereon can be moved. That is, the resin R can be supplied into the surface of the workpiece W at an arbitrary discharge position in a vacuum state.

また、樹脂供給装置10は、チャンバ本体32(例えば有底筒状体を構成する容器)の開口縁32a(例えば上面視円形状、上面視矩形状、又は、上面視多角形状)に設けられ、チャンバ蓋31とチャンバ本体32との間をシールするシールリング33(例えばOリング)を備える。これにより、チャンバ蓋31とチャンバ本体32とがシールリング33を介して接する状態となって、チャンバ30が閉じられた状態(内部が密閉された状態)となる。なお、シールリング33の高さ調節のためにシールリング33下に調節部材(例えば板やシート)を設けてもよい。   The resin supply device 10 is provided on an opening edge 32a (for example, a circular shape in a top view, a rectangular shape in a top view, or a polygonal shape in a top view) of a chamber body 32 (for example, a container constituting a bottomed cylindrical body), A seal ring 33 (for example, an O-ring) that seals between the chamber lid 31 and the chamber body 32 is provided. As a result, the chamber lid 31 and the chamber body 32 are in contact with each other via the seal ring 33, and the chamber 30 is closed (the inside is sealed). An adjustment member (for example, a plate or a sheet) may be provided under the seal ring 33 in order to adjust the height of the seal ring 33.

ところで、樹脂供給装置10は、真空状態としたチャンバ30内でノズル22からワークWに向けて液状の樹脂RをワークWに吐出して供給する。このため、樹脂供給装置10では、ノズル22がチャンバ30内に設けられるよう構成される。具体的には、樹脂供給装置10は、保持部34(凹部)と、シールリング36(Oリング)と、を備える。保持部34は、チャンバ蓋31の中央部においてノズル22を収容するようにチャンバ蓋31の面31a(チャンバ本体32側にある面31a)から凹んで設けられ、チャンバ蓋31を貫通するシリンジケース25を保持する。また、シールリング36は、シリンジケース25と保持部34(チャンバ蓋31)との間をシールしている。これにより、チャンバ30が閉じられた状態において駆動部70によってシリンジケース25を上下動させたとしてもチャンバ30内を密閉状態とすることができる。   By the way, the resin supply device 10 discharges and supplies the liquid resin R to the workpiece W from the nozzle 22 toward the workpiece W in the vacuum chamber 30. Therefore, the resin supply device 10 is configured such that the nozzle 22 is provided in the chamber 30. Specifically, the resin supply device 10 includes a holding part 34 (recessed part) and a seal ring 36 (O-ring). The holding portion 34 is provided to be recessed from the surface 31 a of the chamber lid 31 (the surface 31 a on the chamber body 32 side) so as to accommodate the nozzle 22 in the central portion of the chamber lid 31, and the syringe case 25 penetrating the chamber lid 31. Hold. The seal ring 36 seals between the syringe case 25 and the holding portion 34 (chamber lid 31). Thereby, even if the syringe case 25 is moved up and down by the drive unit 70 in a state where the chamber 30 is closed, the inside of the chamber 30 can be sealed.

ここで、チャンバ蓋31とチャンバ本体32の大きさについて説明する。チャンバ30を閉じた状態とするため、チャンバ本体32の開口(開口縁32aの内側)がチャンバ蓋31によって塞がれる(覆われる)。すなわち、平面視(上面視)において、チャンバ蓋31の大きさがチャンバ本体32の開口よりも大きい。具体的には、チャンバ30が閉じられた状態を維持しながら、チャンバ本体32に対してチャンバ蓋31を水平移動させることができるようなチャンバ蓋31の大きさとなる。換言すれば、Y軸方向およびX軸方向において、真空を維持しながらノズル22をワークWの一端から他端に亘って移動させることができるようなチャンバ蓋31の大きさとなる。このため、図3に示すように、ノズル22の位置がチャンバ本体32内にセットされたワークWの最外周に達すると、チャンバ蓋31がY軸方向およびX軸方向に大きくはみ出ることとなる。   Here, the sizes of the chamber lid 31 and the chamber body 32 will be described. In order to make the chamber 30 closed, the opening of the chamber main body 32 (inside the opening edge 32a) is closed (covered) by the chamber lid 31. That is, the size of the chamber lid 31 is larger than the opening of the chamber body 32 in plan view (top view). Specifically, the size of the chamber lid 31 is such that the chamber lid 31 can be moved horizontally with respect to the chamber body 32 while the chamber 30 is kept closed. In other words, the size of the chamber lid 31 is such that the nozzle 22 can be moved from one end to the other end of the workpiece W while maintaining a vacuum in the Y-axis direction and the X-axis direction. For this reason, as shown in FIG. 3, when the position of the nozzle 22 reaches the outermost periphery of the workpiece W set in the chamber body 32, the chamber lid 31 protrudes greatly in the Y-axis direction and the X-axis direction.

また、樹脂供給装置10は、チャンバ30の内部圧力を調節する圧調節部41と、チャンバ30内に通じ、圧調節部41と連通される路42(例えばチャンバ本体32の底部を貫通する孔)と、を備える。樹脂供給装置10では、閉じられた状態(密閉状態)のチャンバ30内が、例えば真空ポンプを備える圧調節部41によってエアが排出されて真空状態(減圧状態)となる。このようにエアが排出された真空状態のチャンバ30とすることができるので、ワークWに樹脂Rを供給したときに樹脂R内においてエアを抱え込んでしまう不具合を防止することができる。   In addition, the resin supply device 10 includes a pressure adjusting unit 41 that adjusts the internal pressure of the chamber 30 and a path 42 that communicates with the pressure adjusting unit 41 (for example, a hole that passes through the bottom of the chamber body 32). And comprising. In the resin supply device 10, the inside of the chamber 30 in a closed state (sealed state) is brought into a vacuum state (depressurized state) by discharging air, for example, by a pressure adjusting unit 41 including a vacuum pump. Thus, since the chamber 30 can be in a vacuum state in which air is discharged, it is possible to prevent a problem that air is held in the resin R when the resin R is supplied to the workpiece W.

また、樹脂供給装置10は、チャンバ蓋31とチャンバ本体32との間で加重を受ける加重受け37(例えば鋼材から構成される)を備える。この加重受け37は、円形のシールリング33に沿ってチャンバ本体32に設けられることで、シールリング33の過度な潰れを防止する。加重受け37としては、例えば円形のシールリング33に沿ってチャンバ本体32に複数設けられた構成とすることができる。この場合、複数の加重受け37によってチャンバ蓋31にかかる大気圧を支持しながらチャンバ本体32上の任意の高さにチャンバ蓋31を位置させる。これにより、シールリング33の過度な潰れを防止して、チャンバ蓋31とチャンバ本体32との接触による摩擦を防止し、シール性を確保してチャンバ30を真空状態とすることができる。また、複数の加重受け37によってチャンバ蓋31を多点で受けることとなるので、加重を分散させることができる。また、複数の加重受け37がシールリング33の外側に設けられること、すなわちチャンバ30内に複数の加重受け37がないことで、チャンバ30内のエアの除去が容易になる。また、チャンバ30が開いた状態では、チャンバ本体32からチャンバ蓋31へ向かう高さにおいて加重受け37よりシールリング33が高い。言い換えると、チャンバ30が開いた状態で、チャンバ蓋31に対して加重受け37よりシールリング33が近い位置に配置される。これによれば、チャンバ30が閉じられた状態では、チャンバ蓋31をシールリング33に確実に接した状態とすることができ、シール性を確保してチャンバ30を真空状態とすることができる。   In addition, the resin supply device 10 includes a load receiver 37 (for example, made of steel) that receives a load between the chamber lid 31 and the chamber body 32. The weight receiver 37 is provided in the chamber body 32 along the circular seal ring 33 to prevent the seal ring 33 from being excessively crushed. For example, a plurality of weight receivers 37 may be provided in the chamber body 32 along the circular seal ring 33. In this case, the chamber lid 31 is positioned at an arbitrary height on the chamber main body 32 while supporting the atmospheric pressure applied to the chamber lid 31 by the plurality of weight receivers 37. Thereby, excessive crushing of the seal ring 33 can be prevented, friction due to contact between the chamber lid 31 and the chamber main body 32 can be prevented, sealing performance can be ensured, and the chamber 30 can be in a vacuum state. Further, since the chamber lid 31 is received at multiple points by the plurality of weight receivers 37, the weights can be dispersed. Further, since the plurality of weight receivers 37 are provided outside the seal ring 33, that is, the plurality of weight receivers 37 are not provided in the chamber 30, air in the chamber 30 can be easily removed. When the chamber 30 is open, the seal ring 33 is higher than the load receiver 37 in the height from the chamber body 32 toward the chamber lid 31. In other words, the seal ring 33 is disposed at a position closer to the chamber lid 31 than the load receiver 37 with the chamber 30 opened. According to this, in a state in which the chamber 30 is closed, the chamber lid 31 can be reliably in contact with the seal ring 33, and the chamber 30 can be in a vacuum state while ensuring sealing performance.

ところで、樹脂供給装置10では、チャンバ30が閉じられた状態(チャンバ構造が保持された状態)で、チャンバ本体32に対してチャンバ蓋31(ワークWに対してシリンジ21)が水平方向に移動するように構成されている。具体的には、加重受け37としてボールローラが用いられる。ボールローラは、例えば、自由回転球体と、この自由回転球体を一部突出させた状態(これにてチャンバ蓋31と接する)で回転保持する球体受け(着座)と、を備えて構成される。これによれば、チャンバ30内を真空状態とすることでチャンバ蓋31に大気圧が加えられる状態においても、点動体であるボールローラにおける転がり方式での加重受け構造とすることで、例えばすべり方式における加重受け構造と比較して、極めて円滑にチャンバ蓋31を水平方向に移動させることができる。   By the way, in the resin supply apparatus 10, the chamber lid 31 (syringe 21 with respect to the workpiece W) moves in the horizontal direction with respect to the chamber body 32 in a state where the chamber 30 is closed (a state where the chamber structure is held). It is configured as follows. Specifically, a ball roller is used as the weighted receiver 37. The ball roller includes, for example, a free rotating sphere and a sphere receiver (sitting) that rotates and holds the free rotating sphere in a state in which the free rotating sphere partially protrudes (which contacts the chamber lid 31). According to this, even when atmospheric pressure is applied to the chamber lid 31 by making the inside of the chamber 30 a vacuum state, for example, a sliding method can be achieved by adopting a weighted receiving structure in a rolling manner in a ball roller that is a moving body. The chamber lid 31 can be moved in the horizontal direction very smoothly as compared with the weight receiving structure in FIG.

特にワークWが大判化することでチャンバ本体32も大型化させる必要があるときには大気圧によってチャンバ蓋31に加えられる力が大きくなるため、加重受け37に加わる力も大きくなる。このため、加重受け37に加わる力に応じた個数の加重受け37を設けることで、それぞれの加重受け37に加わる力を分散化して小さくすることで、チャンバ蓋31を円滑に移動させることができる。なお、加重受け37としては、チャンバ蓋31に加えられるに応じて、ボールローラのような転がり加重受けのみならず滑り加重受けを用いたりすることもできる。なお、シールリング33と加重受け37のチャンバ蓋31に対する摺動のし易さを確保するために、これらの間に潤滑剤を塗布しておいてもよい。   In particular, when the workpiece W is enlarged and the chamber body 32 needs to be enlarged, the force applied to the chamber lid 31 by the atmospheric pressure increases, so that the force applied to the load receiver 37 also increases. For this reason, by providing the number of weight receivers 37 corresponding to the force applied to the weight receivers 37, the force applied to each of the weight receivers 37 can be dispersed and reduced so that the chamber lid 31 can be moved smoothly. . In addition, as the load receiver 37, a sliding load receiver as well as a rolling load receiver such as a ball roller can be used depending on the chamber lid 31. Note that a lubricant may be applied between the seal ring 33 and the weighted receiver 37 to ensure ease of sliding with respect to the chamber lid 31.

また、樹脂供給装置10は、チャンバ30内に設けられる重量計40を備える。樹脂供給装置10では重量計40にワークWがセットされ、重量計40はワークWの重量を計測する。この重量計40では、ワークWがセットされた状態で、ワークWに吐出される樹脂Rの重量が計測される。これによれば、真空状態のチャンバ30内においてワークWに吐出して供給される樹脂Rをリアルタイムで計測することができる。   In addition, the resin supply device 10 includes a weighing scale 40 provided in the chamber 30. In the resin supply apparatus 10, the workpiece W is set on the weighing scale 40, and the weighing scale 40 measures the weight of the workpiece W. The weight scale 40 measures the weight of the resin R discharged to the workpiece W in a state where the workpiece W is set. According to this, the resin R discharged and supplied to the workpiece W in the vacuum chamber 30 can be measured in real time.

また、樹脂供給装置10は、チャンバ本体32の底部を貫通して設けられ、駆動部44(図7参照)によってZ軸方向に上下動(往復動)するピン43と、このピン43とチャンバ本体32との間をシールするシールリング45(図7参照)と、を備える。このピン43は、搬送装置に対するワークWの受け渡しに用いられる。搬送装置からワークWを受けるときは、ピン43は上動して先端がチャンバ本体32から突出する(図1参照)。ピン43から重量計40へワークWをセットするときは、ピン43は下動してチャンバ本体32の底部側へ退避する(図2参照)。   The resin supply device 10 is provided through the bottom of the chamber main body 32, and is moved up and down (reciprocating) in the Z-axis direction by the drive unit 44 (see FIG. 7). And a seal ring 45 (see FIG. 7) that seals between the two. This pin 43 is used for delivery of the workpiece W to the transport device. When receiving the workpiece W from the transfer device, the pin 43 moves upward and the tip protrudes from the chamber body 32 (see FIG. 1). When setting the workpiece W from the pin 43 to the weighing scale 40, the pin 43 moves downward and retracts to the bottom side of the chamber body 32 (see FIG. 2).

次に、樹脂供給装置10の動作方法(樹脂供給方法となる)について説明する。樹脂供給装置10は、CPU(中央演算処理装置)およびROM、RAMなどの記憶部を有する制御部(不図示)を備えている。記憶部に記録された各種制御プログラムをCPUが読み出して実行することで、樹脂供給装置10を構成する各部(機構)の動作が制御される。各部が動作することが樹脂供給装置10の動作となる。なお、樹脂供給装置10が樹脂成形装置に組み込まれる場合には、樹脂成形装置の制御部によって樹脂供給装置10が制御される構成としてもよい。   Next, an operation method (which becomes a resin supply method) of the resin supply apparatus 10 will be described. The resin supply device 10 includes a CPU (Central Processing Unit) and a control unit (not shown) having a storage unit such as a ROM and a RAM. When the CPU reads out and executes various control programs recorded in the storage unit, the operation of each unit (mechanism) constituting the resin supply device 10 is controlled. The operation of each part is the operation of the resin supply device 10. In addition, when the resin supply apparatus 10 is incorporated in the resin molding apparatus, the resin supply apparatus 10 may be controlled by a control unit of the resin molding apparatus.

図1に示す樹脂供給装置10は、チャンバ30にワークWが供給される前の状態である。ここでは、チャンバ30が開いており、またシリンジ21のノズル22がピンチバルブ24によって閉じられ、プランジャ23が上方で待機している。このようにチャンバ30が開いている状態で、例えば搬送装置や作業者によって搬送されるワークWをチャンバ30にセットする。本実施形態では、搬送装置がワークWをピン43に引渡し、ワークWを受け取ったピン43が下動することで、ワークWが重量計40にセットされる(図2参照)。   The resin supply apparatus 10 shown in FIG. 1 is in a state before the workpiece W is supplied to the chamber 30. Here, the chamber 30 is open, the nozzle 22 of the syringe 21 is closed by the pinch valve 24, and the plunger 23 is waiting upward. In the state where the chamber 30 is open as described above, for example, a workpiece W transferred by a transfer device or an operator is set in the chamber 30. In this embodiment, the transfer device delivers the workpiece W to the pin 43, and the pin 43 that has received the workpiece W moves downward, so that the workpiece W is set on the weighing scale 40 (see FIG. 2).

続いて、図2に示すように、チャンバ30を閉じた状態として、その内部のエアを排出して真空状態とする。具体的には、まず、蓋駆動部50によってチャンバ蓋31を下動させていくことで、チャンバ蓋31がシールリング33を押し潰しながら加重受け37と接してチャンバ30を閉じた状態とする。次いで、圧調節部41によってチャンバ30内を減圧していき、所定圧の真空状態とする。ここで、チャンバ蓋31を加重受け37で支持することでシールリング33が潰れすぎてしまうのを防止することができる。なお、この真空状態とする動作の前に、または並行して、チャンバ30の内部温度が所定の値となるように温度調節部(不図示)を制御することで、供給される樹脂Rへの熱の影響を抑制することができる。   Subsequently, as shown in FIG. 2, the chamber 30 is closed, and the air inside the chamber 30 is discharged to be in a vacuum state. Specifically, first, the chamber lid 31 is moved downward by the lid driving unit 50, so that the chamber 30 closes the chamber 30 by contacting the load receiver 37 while crushing the seal ring 33. Next, the inside of the chamber 30 is depressurized by the pressure adjusting unit 41 to obtain a vacuum state with a predetermined pressure. Here, it is possible to prevent the seal ring 33 from being crushed by supporting the chamber lid 31 with the weight receiver 37. In addition, before or in parallel with the operation of making the vacuum state, by controlling a temperature adjusting unit (not shown) so that the internal temperature of the chamber 30 becomes a predetermined value, The influence of heat can be suppressed.

続いて、真空状態としたチャンバ30内でワークWへの樹脂Rの供給を開始する。具体的には、圧調節部41によってチャンバ30を引き続き真空状態とする。そして、バルブ駆動部26によってピンチバルブ24を駆動させてノズル22を開き、駆動部80によってプランジャ23を下動させてノズル22から樹脂Rを吐出させることで、ワークWへの樹脂Rの供給を可能とする。このとき、重量計40によってワークWの重量、すなわち樹脂Rの重量をリアルタイムで計測しながら樹脂Rが供給されることとなる。   Subsequently, the supply of the resin R to the workpiece W is started in the chamber 30 in a vacuum state. Specifically, the chamber 30 is continuously evacuated by the pressure adjusting unit 41. Then, the pinch valve 24 is driven by the valve driving unit 26 to open the nozzle 22, and the plunger 23 is moved downward by the driving unit 80 to discharge the resin R from the nozzle 22, thereby supplying the resin R to the workpiece W. Make it possible. At this time, the resin R is supplied while measuring the weight of the workpiece W, that is, the weight of the resin R in real time by the weight meter 40.

続いて、図3に示すように、ノズル22がワークWの所定位置と対向するようにノズル22を移動させながら、ノズル22から樹脂Rを吐出する。具体的には、圧調節部41によってチャンバ30を引き続き真空状態とする。そして、蓋駆動部50によってチャンバ蓋31を水平移動させてチャンバ蓋31に設けられたノズル22を移動させながら、駆動部80によってプランジャ23を更に下動させてノズル22から樹脂Rを吐出させる。この際、ノズル22がワークWの最外周に達してもシールリング33によって密閉状態(真空状態)が維持されるように、ノズル22の移動範囲はシールリング33の内径より小さいものとなる。ここでは、ワークWの狭隘部102(チップ部品100とキャリア101との間)に掛かるように樹脂Rを供給(塗布)していく。   Subsequently, as illustrated in FIG. 3, the resin R is discharged from the nozzle 22 while moving the nozzle 22 so that the nozzle 22 faces a predetermined position of the workpiece W. Specifically, the chamber 30 is continuously evacuated by the pressure adjusting unit 41. Then, while moving the chamber lid 31 horizontally by the lid driving unit 50 and moving the nozzle 22 provided in the chamber lid 31, the plunger 23 is further moved downward by the driving unit 80 to discharge the resin R from the nozzle 22. At this time, the moving range of the nozzle 22 is smaller than the inner diameter of the seal ring 33 so that the sealed state (vacuum state) is maintained by the seal ring 33 even when the nozzle 22 reaches the outermost periphery of the workpiece W. Here, the resin R is supplied (applied) so as to be applied to the narrow portion 102 (between the chip component 100 and the carrier 101) of the workpiece W.

このようにして、所定の塗布パターンとなるようにワークWの表面に樹脂Rを供給(塗布)することができる。塗布パターンとしては、図4に示すように、例えば、ワークWの表面全体に渦巻き状や格子状とすることができる。ここで、図4は円板形状のワークWへの樹脂Rの塗布パターンを説明するための図であり、図4Aは渦巻き、図4Bは格子の状態を示す。所定量の樹脂Rを供給するにあたり、ノズル22が設けられたチャンバ蓋31を移動させながらワークWの表面全体に樹脂Rを供給することで、例えば、ワークWの表面中央のみに樹脂Rを供給する方式と比較して、成形金型91(図9参照)を用いてキャビティC内で樹脂Rを圧縮する際に、樹脂Rが流れる距離(熱が加わる時間)を同程度にすることができ、エアが抱え込まれるのを防止することができる。   In this way, the resin R can be supplied (applied) to the surface of the workpiece W so as to have a predetermined application pattern. As an application pattern, as shown in FIG. 4, for example, the entire surface of the workpiece W can be formed in a spiral shape or a lattice shape. Here, FIG. 4 is a figure for demonstrating the application pattern of resin R to the disk-shaped workpiece | work W, FIG. 4A shows a spiral, FIG. 4B shows the state of a grating | lattice. In supplying a predetermined amount of resin R, for example, the resin R is supplied only to the center of the surface of the workpiece W by supplying the resin R to the entire surface of the workpiece W while moving the chamber lid 31 provided with the nozzle 22. Compared with the method of performing the above, when the resin R is compressed in the cavity C using the molding die 91 (see FIG. 9), the distance that the resin R flows (time during which heat is applied) can be made comparable. , Air can be prevented from being carried.

また、チップ部品100の側面を樹脂Rで覆うような図4Bに示す塗布パターンとしてもよいし、チップ部品100の側面を樹脂Rで覆うか否かを問わずに、格子状等に、チップ部品100の全面に樹脂Rを供給することもできる。ここで、チップ部品100の側面を樹脂Rで覆うような図4Bに示す塗布パターンとしたときには、後述する工程において大気圧により狭隘部102に樹脂Rをすばやく注入してアンダーフィル(いわゆるキャピラリーアンダーフィルに相当)することができる。更に、型内で樹脂成形を行う際に、狭隘部102におけるエアの排出が適切に行われることで型内における圧縮(成形金型91による加圧)によって、アンダーフィルをより確実に行うこともできる。なお、図4Bに示すようなチップ部品100間を埋めて樹脂Rを供給しなくとも、チップ部品100の全周に樹脂Rを供給することができれば、図4Bに示す樹脂Rのライン幅(チップ間幅)よりも狭いライン幅で樹脂Rを供給することもできる。   Moreover, it is good also as an application | coating pattern shown in FIG. 4B which covers the side surface of the chip component 100 with the resin R, and it is good also as a grid | lattice-like chip component regardless of whether the side surface of the chip component 100 is covered with the resin R. Resin R can also be supplied to the entire surface of 100. Here, when the coating pattern shown in FIG. 4B is formed such that the side surface of the chip component 100 is covered with the resin R, the resin R is quickly injected into the narrow portion 102 by atmospheric pressure in a process to be described later, so-called capillary underfill. Equivalent). Further, when resin molding is performed in the mold, the underfill can be more reliably performed by compression (pressing by the molding die 91) in the mold by appropriately discharging air in the narrow portion 102. it can. If the resin R can be supplied to the entire periphery of the chip component 100 without filling the space between the chip components 100 as shown in FIG. 4B and supplying the resin R, the line width (chip) of the resin R shown in FIG. It is also possible to supply the resin R with a line width narrower than the (interval width).

この他、樹脂Rの塗布パターンにおいては種々考えられる。図5はチップ部品(不図示)が搭載されて狭隘部を有するパネル形状(矩形状)のワークWに対する樹脂Rの塗布パターン(ワークWに対向するノズル22の吐出経路を含む)を説明するための図である。図5AはワークWの中央部に樹脂Rをドット状(一点)に塗布(センタードット)した状態である。このような簡易な塗布パターンであっても、例えば、真空雰囲気下で樹脂Rの供給を行った後、大気雰囲気下にワークWをおくことで、その圧力差によって狭隘部に樹脂Rを注入させることができる。また、塗布時間を短縮することができる。図5BはワークWの面内に樹脂Rを多点状に塗布した状態である。この状態では、センタードットと比較して、エアの排出を容易にし、またキャビティC内で樹脂Rを圧縮する際に樹脂Rが流れる距離を同程度にすることができる。   In addition, various types of resin R coating patterns are possible. FIG. 5 illustrates a resin R coating pattern (including a discharge path of the nozzle 22 facing the workpiece W) on a panel-shaped (rectangular) workpiece W having chip portions (not shown) mounted thereon and having a narrow portion. FIG. FIG. 5A shows a state in which the resin R is applied in a dot shape (one point) (center dot) to the center of the workpiece W. Even with such a simple coating pattern, for example, after the resin R is supplied in a vacuum atmosphere, the work W is placed in an air atmosphere, so that the resin R is injected into the narrow portion due to the pressure difference. be able to. Moreover, the application time can be shortened. FIG. 5B shows a state in which the resin R is applied in a multipoint manner on the surface of the workpiece W. In this state, compared to the center dot, air can be easily discharged, and the distance through which the resin R flows when the resin R is compressed in the cavity C can be made approximately the same.

図5CはワークWの面内で樹脂Rを例えば略キャビティサイズに大きく渦巻き状に塗布した状態である。この状態では、渦巻き状としてエアの排出を容易にし、キャビティサイズに塗布されることで、キャビティC内で樹脂Rを圧縮する際に、樹脂Rが流れる距離を同程度にすることができる。図5Dは例えばセンタードット(図5A)よりも樹脂Rの高さを低くし(センタードットの低背化)、小さな可動域で小さく渦巻き状に塗布した状態である。この状態では、樹脂Rが型面に対して接触するタイミングを遅らせることで型閉じ動作におけるエアの排出可能な時間を長くしてエアの排出を容易にすることができる。また、一点から樹脂Rを塗布したときには、粘度が高いことで線状に塗布された樹脂Rが不均等に積み上がりながら塗布されることで、均一な形状に塗布することが困難となる場合も考えられるが、小さく渦巻き状に塗布することで、適切な円形等の形状に塗布することもできる。なお、高い位置にある樹脂Rが圧縮されて低い位置に移動する際にエアを抱え込むといった不具合の発生を防止することができる。   FIG. 5C shows a state in which the resin R is applied in a spiral shape in a substantially cavity size within the surface of the workpiece W, for example. In this state, air can be easily discharged in a spiral shape and applied to the cavity size, so that when the resin R is compressed in the cavity C, the distance through which the resin R flows can be made approximately the same. FIG. 5D shows a state where the height of the resin R is made lower than that of the center dot (FIG. 5A) (the center dot is made shorter) and is applied in a small spiral with a small range of motion. In this state, by delaying the timing at which the resin R comes into contact with the mold surface, the time during which the air can be discharged in the mold closing operation can be lengthened to facilitate the air discharge. In addition, when the resin R is applied from one point, it may be difficult to apply a uniform shape because the resin R applied in a linear shape is applied while being stacked unevenly due to high viscosity. Although it is conceivable, it can be applied in a suitable circular shape by applying it in a small spiral shape. In addition, it is possible to prevent the occurrence of problems such as holding air when the resin R at a high position is compressed and moves to a low position.

図5Eは矩形状のワークWの角に合わせて角ができるように渦巻き状に塗布した状態である。この状態では、ワークWの形状に合わせて渦巻き状としてエアの排出を容易に行うことができる。図5Fは矩形状のワークWに合わせて格子状に一筆書きで塗布した状態である。この状態では、ワークWの形状に合わせて均一幅で樹脂Rを塗布することができる。図5GはワークWの面内で樹脂Rを中央部から外周部へ向かうような放射状に塗布(点線はノズル22からの吐出なしの経路)した状態である。この状態では、樹脂Rがキャビティ内で圧縮される際に、中央部から外周部へエアの排出を行うことができる。   FIG. 5E shows a state where the coating is applied in a spiral shape so that a corner is formed in accordance with the corner of the rectangular workpiece W. In this state, air can be easily discharged in a spiral shape according to the shape of the workpiece W. FIG. 5F shows a state in which it is applied in a grid pattern with a single stroke according to the rectangular workpiece W. In this state, the resin R can be applied with a uniform width according to the shape of the workpiece W. FIG. 5G shows a state in which the resin R is applied radially in the plane of the workpiece W from the central portion to the outer peripheral portion (a dotted line indicates a path without discharge from the nozzle 22). In this state, when the resin R is compressed in the cavity, air can be discharged from the central portion to the outer peripheral portion.

また、チップ部品100への樹脂Rの塗布パターンにおいても種々考えられる。図6はワークWの要部(チップ部品100)への樹脂Rの塗布パターンを説明するための図である。図6Aはチップ部品100の全周に渡って一筆書きで樹脂Rを塗布した状態である。図6Bは隣接するチップ部品100間を覆わずに外周のみ一筆書きで樹脂Rを塗布した状態である。図6Cは隣接するチップ部品100間(一部の樹脂Rはチップ部品100上にある)を覆って樹脂Rを塗布する状態である。図6に示すように、塗布パターンを環状とすることで、その内側にある狭隘部102へ樹脂Rが注入され易くなる。   Various types of application patterns of the resin R to the chip component 100 are also conceivable. FIG. 6 is a diagram for explaining a coating pattern of the resin R on the main part (chip component 100) of the workpiece W. FIG. 6A shows a state in which the resin R is applied with a single stroke over the entire periphery of the chip component 100. FIG. 6B shows a state in which the resin R is applied only with a single stroke without covering between adjacent chip components 100. FIG. 6C shows a state in which the resin R is applied between the adjacent chip components 100 (part of the resin R is on the chip components 100). As shown in FIG. 6, by making the coating pattern annular, the resin R can be easily injected into the narrow portion 102 inside thereof.

このように樹脂Rが所定量供給された後(すなわち塗布パターンが完成した後)、ノズル22からの樹脂Rの吐出を停止する。具体的には、駆動部80によるプランジャ23の下動を停止すると共にピンチバルブ24によってノズル22が閉じられて樹脂Rの吐出を停止する。また、プランジャ23を引き戻して樹脂Rの吐出の停止を補助してもよい。   Thus, after a predetermined amount of the resin R is supplied (that is, after the coating pattern is completed), the discharge of the resin R from the nozzle 22 is stopped. Specifically, the downward movement of the plunger 23 by the driving unit 80 is stopped, and the nozzle 22 is closed by the pinch valve 24 to stop the discharge of the resin R. Alternatively, the plunger 23 may be pulled back to assist in stopping the discharge of the resin R.

続いて、チャンバ30内からエアを排出することを停止する。具体的には、圧調節部41によるエアの排出を停止することによってチャンバ30の所定圧における真空状態を解除する。圧調整部41の停止によって、真空状態における所定圧からチャンバ30内が加圧されることとなる。これにより、例えばワークW上に供給された樹脂Rの下方において狭隘部102(樹脂Rを充填すべき空間)がある場合に、アンダーフィルがされるように減圧された狭隘部102に周囲の雰囲気の圧力で加圧された樹脂Rが注入される。   Subsequently, the discharge of air from the chamber 30 is stopped. Specifically, the vacuum state at a predetermined pressure in the chamber 30 is released by stopping the discharge of air by the pressure adjusting unit 41. By stopping the pressure adjusting unit 41, the inside of the chamber 30 is pressurized from a predetermined pressure in a vacuum state. Thereby, for example, when there is a narrowed portion 102 (a space to be filled with the resin R) below the resin R supplied onto the workpiece W, the ambient atmosphere in the narrowed portion 102 decompressed so as to be underfilled Resin R pressurized at a pressure of is injected.

続いて、閉じられた状態のチャンバ30内でノズル22を上下動(昇降)させる。具体的には、チャンバ蓋31を動かさずにチャンバ30が閉じられた状態で、駆動部70によってシリンジケース25(シリンジ21)を介してノズル22を上下動させる。このようにして、ノズル22の上下動を所定回数繰り返す液切り動作が行われる。本実施形態では、チャンバ30が閉じられ内部が形成されたままの状態で液切り(ノズル22の上下動)が行われる。   Subsequently, the nozzle 22 is moved up and down (raised and lowered) in the chamber 30 in a closed state. Specifically, the nozzle 22 is moved up and down via the syringe case 25 (syringe 21) by the driving unit 70 in a state where the chamber 30 is closed without moving the chamber lid 31. In this manner, a liquid draining operation is performed in which the vertical movement of the nozzle 22 is repeated a predetermined number of times. In the present embodiment, the liquid is removed (the nozzle 22 moves up and down) while the chamber 30 is closed and the inside is formed.

続いて、チャンバ30を開いた状態とする。具体的には、蓋駆動部50によってチャンバ蓋31を上動させていくことで、チャンバ本体32(加重受け37およびシールリング33)からチャンバ蓋31が遠ざかっていき、チャンバ30が開いた状態となる(図1参照)。これにより、大気開放され、樹脂Rの周囲から大気圧が加えられることで、狭隘部102へ樹脂Rが注入(充填)される。本実施形態のように、ワークWとしてキャリア101上にチップ部品100がフリップチップ接続により搭載されているときには、チップ部品100とキャリア101を接続する多数のバンプの間に樹脂Rを注入、充填することができ、エアの抱え込み(狭隘部102で樹脂Rのない領域)を抑制することができる。なお、チップ部品100がキャリア101上にフリップチップ接続でない方式でワークW上に搭載される場合であっても、チップ部品100の側面とキャリア101の主面とで構成される角部の空間にエアが溜まってしまうような場合にも樹脂Rを充填できる。   Subsequently, the chamber 30 is opened. Specifically, by moving the chamber lid 31 upward by the lid driving unit 50, the chamber lid 31 moves away from the chamber body 32 (the weighted receiver 37 and the seal ring 33), and the chamber 30 is opened. (See FIG. 1). As a result, the atmosphere R is opened, and atmospheric pressure is applied from around the resin R, whereby the resin R is injected (filled) into the narrow portion 102. As in the present embodiment, when the chip component 100 is mounted on the carrier 101 as the workpiece W by flip chip connection, the resin R is injected and filled between a large number of bumps connecting the chip component 100 and the carrier 101. It is possible to suppress air entrainment (a region without the resin R in the narrow portion 102). Even when the chip component 100 is mounted on the work W by a method other than flip-chip connection on the carrier 101, the space between the corners formed by the side surfaces of the chip component 100 and the main surface of the carrier 101 is not limited. The resin R can be filled even when air accumulates.

なお、再度チャンバ30を閉じてチャンバ30内を真空状態(減圧)とした後、チャンバ30を開いて大気開放(加圧)とする工程を繰り返してもよい。これによれば、狭隘部102へ樹脂Rをより確実に注入することができる。なお、チャンバ30内の加圧は、圧調節部41が例えばコンプレッサなどの加圧装置を備えていれば、チャンバ30を閉じた状態でも行うことができ、エアの抱え込みを解消しながら雰囲気を加圧して狭隘部102へ樹脂R一層確実に注入することができる。   Note that the process of closing the chamber 30 again and making the inside of the chamber 30 in a vacuum state (depressurized) and then opening the chamber 30 to release to the atmosphere (pressurization) may be repeated. According to this, the resin R can be more reliably injected into the narrow portion 102. The pressurization in the chamber 30 can be performed even when the chamber 30 is closed as long as the pressure adjusting unit 41 includes a pressurizing device such as a compressor. The resin R can be more reliably injected into the narrow portion 102 by pressing.

その後、チャンバ30が開いている状態で、例えば搬送装置によってワークW(樹脂Rが供給されたもの)が取り出される。この際、重量計40にセットされているワークWは、上動したピン43によって支持(エジェクト)され、搬送装置へ渡される。その後は、樹脂Rが供給されたワークWは、例えば成形金型91(図9参照)へ搬送されセットされる。次いで、成形金型91で形成されるキャビティC内で圧縮され、樹脂Rが熱硬化される。この圧縮により樹脂Rが加圧されて狭隘部102へ注入されることによって、アンダーフィルをより確実に行うことができる。このように、前述の樹脂供給方法を用いてエアの抱え込みなどの不具合が防止されているので、狭隘部102での未充填などの成形不良が抑制された成形品が製造される。   Thereafter, in a state where the chamber 30 is open, for example, the workpiece W (the one supplied with the resin R) is taken out by the transfer device. At this time, the workpiece W set on the weight scale 40 is supported (ejected) by the pin 43 that has moved upward, and is transferred to the conveying device. Thereafter, the workpiece W supplied with the resin R is conveyed and set to a molding die 91 (see FIG. 9), for example. Next, the resin R is compressed in the cavity C formed by the molding die 91, and the resin R is thermally cured. By the resin R being pressurized by this compression and injected into the narrow portion 102, the underfill can be more reliably performed. As described above, since problems such as air entrapment are prevented by using the above-described resin supply method, a molded product in which molding defects such as unfilling in the narrow portion 102 are suppressed is manufactured.

(実施形態2)
本発明の実施形態に係る樹脂供給装置10Aについて、主として図7および図8を参照して説明する。図7および図8は樹脂供給動作に係る樹脂供給装置10Aを説明するための図である。本実施形態では、前記実施形態1よりもチャンバ蓋31を小さくすることができ、装置の小型化が可能な点で相違するため、以下ではこの点を中心に説明する。なお、樹脂供給装置10Aにおいても前記実施形態1と同様に圧調節部41(図1参照)を用いてチャンバ30内を真空状態とするが、図7および図8では圧調節部41を省略している。また、説明を容易にするために、一部にハッチングを付している。
(Embodiment 2)
A resin supply apparatus 10A according to an embodiment of the present invention will be described mainly with reference to FIGS. 7 and 8 are views for explaining the resin supply apparatus 10A related to the resin supply operation. In the present embodiment, the chamber lid 31 can be made smaller than in the first embodiment, and is different in that the apparatus can be miniaturized. Therefore, this point will be mainly described below. In the resin supply apparatus 10A as well, the chamber 30 is evacuated using the pressure adjusting unit 41 (see FIG. 1) as in the first embodiment, but the pressure adjusting unit 41 is omitted in FIGS. ing. Further, in order to facilitate the explanation, some parts are hatched.

樹脂供給装置10Aは、チャンバ蓋31を移動させる蓋駆動部50A(XZ軸駆動機構またはYZ軸駆動機構)と、チャンバ30内に設けられ、ワークWがセットされるセット台51と、セット台51を回転させる台駆動部52(回転駆動機構)と、を備える。蓋駆動部50Aとしては、前述した一軸(Z軸)用の駆動部70、80を二軸(XZ軸またはYZ軸)のそれぞれに対応させたものを用いることができ、水平方向(X軸またはY軸方向)および鉛直方向(Z軸方向)にチャンバ蓋31(ノズル22)を移動させることができる。また、台駆動部52としては、セット台51に取り付けられる回転軸53がベルト54を介してモータ55によって回転駆動するものを用いることができ、回転方向(水平方向)にセット台51を移動させることができる。また、回転軸53がチャンバ本体32の底部で貫通して設けられるため、樹脂供給装置10Aは回転軸53とチャンバ本体32との間をシールするシールリング57を備える。   The resin supply apparatus 10A includes a lid driving unit 50A (XZ axis driving mechanism or YZ axis driving mechanism) that moves the chamber lid 31, a set base 51 that is provided in the chamber 30 and on which the workpiece W is set, and a set base 51 A table drive unit 52 (rotation drive mechanism). As the lid drive unit 50A, the one-axis (Z-axis) drive unit 70, 80 described above corresponding to each of the two axes (XZ-axis or YZ-axis) can be used. The chamber lid 31 (nozzle 22) can be moved in the Y-axis direction) and the vertical direction (Z-axis direction). Further, as the table driving unit 52, a rotary shaft 53 attached to the set table 51 can be driven to rotate by a motor 55 via a belt 54, and the set table 51 is moved in the rotation direction (horizontal direction). be able to. Further, since the rotation shaft 53 is provided through the bottom of the chamber body 32, the resin supply device 10 </ b> A includes a seal ring 57 that seals between the rotation shaft 53 and the chamber body 32.

これによれば、チャンバ30が真空状態においてもワークWに対してチャンバ蓋31およびこれに設けられるノズル22を相対的に移動させることができる。すなわち、任意の吐出位置においてワークWの面内に樹脂Rを供給することができる。また、ワークセット側として回転するセット台51を設けることで、樹脂供給側としてノズル22が設けられるチャンバ蓋31の移動範囲(可動範囲)を小さくすることができる。具体的には、チャンバ蓋31の水平方向における移動範囲が、前記実施形態1ではX軸およびY軸方向であるのに対して、本実施形態ではY軸方向またはX軸方向のいずれかにおける半径分の距離だけでよい。すなわち、ワークWの中心部から一端部までノズル22を移動させる動作と平行してワークWを回転させることで、ワークWの全面に対して渦巻き状に樹脂Rを塗布することができる。また、このような構成において、ノズル22の進退動作と、ワークWの回転とを組み合わせることで、ワークWにおいて任意の直線または曲線の放射状の塗布も可能である。このため、本実施形態では、前記実施形態1よりもチャンバ蓋31を小さくすることができる。また、チャンバ蓋31が小さくなるので、樹脂供給装置10A全体のフットプリントを小さく(省スペース化)することができる。   According to this, even when the chamber 30 is in a vacuum state, the chamber lid 31 and the nozzle 22 provided thereon can be moved relative to the workpiece W. That is, the resin R can be supplied into the surface of the workpiece W at an arbitrary discharge position. Moreover, by providing the set base 51 that rotates on the work set side, the moving range (movable range) of the chamber lid 31 on which the nozzle 22 is provided on the resin supply side can be reduced. Specifically, the moving range in the horizontal direction of the chamber lid 31 is the X-axis and Y-axis directions in the first embodiment, whereas in this embodiment, the radius in either the Y-axis direction or the X-axis direction. Just minutes away. That is, the resin R can be spirally applied to the entire surface of the workpiece W by rotating the workpiece W in parallel with the operation of moving the nozzle 22 from the center to one end of the workpiece W. In such a configuration, by combining the forward / backward movement of the nozzle 22 and the rotation of the workpiece W, it is possible to apply an arbitrary straight or curved radial pattern on the workpiece W. For this reason, in this embodiment, the chamber lid 31 can be made smaller than in the first embodiment. Further, since the chamber lid 31 is small, the footprint of the entire resin supply device 10A can be reduced (space saving).

また、樹脂供給装置10Aは、セット台51に設けられ、例えばワークWを挟むように固定するチャック56を備える。これによれば、ノズル22からワークWに吐出される樹脂Rに粘着性があり、樹脂RによってワークWの回転が阻止されるような場合であっても、セット台51の回転に合わせてワークWを安定して回転させることができる。   Further, the resin supply apparatus 10A includes a chuck 56 that is provided on the set base 51 and is fixed so as to sandwich the workpiece W, for example. According to this, even when the resin R discharged from the nozzle 22 to the workpiece W is sticky and the rotation of the workpiece W is blocked by the resin R, the workpiece is synchronized with the rotation of the set table 51. W can be rotated stably.

また、樹脂供給装置10Aは、チャンバ30外に設けられ、チャンバ本体32を貫通するピン61を介してワークWがセットされる重量計60と、重量計60に起立して設けられるピン61と、を備える。重量計60およびピン61は、駆動部63(Z軸駆動機構)によってZ軸方向に上下動(往復動)することができる。これによれば、前記実施形態1の重量計40のようにチャンバ30内に設けることなく、ワークWに供給される樹脂量を計測することができる。このため、チャンバ30の容量を小さくすることができる。また、重量計60がチャンバ30外に設けられるので、チャンバ30内が真空状態となった後に計測可能な安定した状態となるまで待機することなく計測することができる。この点を踏まえて前記実施形態1では真空状態でも計測可能な重量計40を用いているが高額となってしまうため、本実施形態では低額な重量計60を用いることで樹脂供給装置10Aの製造コストを低減することができる。また、チャンバ30の容量が小さくなることで、例えば圧調節部41としての真空ポンプにかかる負荷を抑制することができる。   Further, the resin supply apparatus 10A is provided outside the chamber 30, and a weight scale 60 on which a workpiece W is set via a pin 61 penetrating the chamber body 32, a pin 61 provided upright on the weight scale 60, Is provided. The weigh scale 60 and the pin 61 can be moved up and down (reciprocating) in the Z-axis direction by the drive unit 63 (Z-axis drive mechanism). According to this, the amount of resin supplied to the workpiece W can be measured without being provided in the chamber 30 as in the weighing scale 40 of the first embodiment. For this reason, the capacity of the chamber 30 can be reduced. In addition, since the weigh scale 60 is provided outside the chamber 30, measurement can be performed without waiting until the chamber 30 is in a stable state that can be measured after the inside of the chamber 30 is in a vacuum state. In consideration of this point, in the first embodiment, the weighing scale 40 that can be measured even in a vacuum state is used. However, since it is expensive, in this embodiment, the inexpensive weighing scale 60 is used to manufacture the resin supply device 10A. Cost can be reduced. Moreover, the load concerning the vacuum pump as the pressure adjustment part 41 can be suppressed, for example because the capacity | capacitance of the chamber 30 becomes small.

また、樹脂供給装置10Aは、チャンバ30外へピン61が退避した状態で、ピン61が貫通していたチャンバ本体32の孔32bを塞ぐシャッタ62を備える。シャッタ62としては、例えば駆動部(不図示)によってスライド可能な構成のものを用いることができる。チャンバ30が閉じられた状態で孔32bをシャッタ62で塞ぐ(シールする)ことでチャンバ30内を密閉状態とすることができる。   The resin supply device 10 </ b> A includes a shutter 62 that closes the hole 32 b of the chamber body 32 through which the pin 61 has passed in a state where the pin 61 is retracted out of the chamber 30. As the shutter 62, for example, a shutter slidable by a drive unit (not shown) can be used. By closing (sealing) the hole 32b with the shutter 62 while the chamber 30 is closed, the inside of the chamber 30 can be sealed.

シャッタ62は、ピン61を貫通させるための孔62aと、回転軸53を貫通させるための孔62bとを備える。ワークWの重量が計測される状態で孔32bと孔62aとが連通するように、シャッタ62は移動する(位置する)。また、ワークWが計測される状態と樹脂Rが供給される状態との間でシャッタ62が移動する(位置する)こととなるが、この間で回転軸53がシャッタ62と接触しないような大きさで孔62aが形成されている。   The shutter 62 includes a hole 62 a for penetrating the pin 61 and a hole 62 b for penetrating the rotating shaft 53. The shutter 62 moves (positions) so that the hole 32b and the hole 62a communicate with each other in a state where the weight of the workpiece W is measured. Further, the shutter 62 moves (positions) between the state in which the workpiece W is measured and the state in which the resin R is supplied, but the size is such that the rotating shaft 53 does not contact the shutter 62 during this time. A hole 62a is formed.

ところで、樹脂供給時においては、ピン61をチャンバ30外に退避させなくとも、チャンバ30内に留まらせておくことが考えられる。この場合、チャンバ30内を密閉状態とするため、孔32bにおいてチャンバ本体32とピン61との間をシールするシールリングを設けておく必要がある。このため、ピン61を介しての重量計60による計測が、正確にできないおそれが生じる。この点、本実施形態では、孔32bでのシールに関してシールリングを用いるのではなくシャッタ62を設けている。これにより、チャンバ30外に重量計60を設ける構成であっても正確に重量計測することができる。なお、孔32bや孔62aの径がピン61の径よりも大きいことで、ピン61がチャンバ本体32に接触せずに、ピン61を介して重量計60によってワークWの重量が計測される。   By the way, at the time of resin supply, it is conceivable that the pin 61 remains in the chamber 30 without being retracted out of the chamber 30. In this case, in order to seal the inside of the chamber 30, it is necessary to provide a seal ring that seals between the chamber main body 32 and the pin 61 in the hole 32b. For this reason, there is a possibility that measurement by the weighing scale 60 through the pin 61 cannot be performed accurately. In this regard, in the present embodiment, a shutter 62 is provided instead of using a seal ring for sealing in the hole 32b. Thereby, even if it is the structure which provides the weighing scale 60 out of the chamber 30, it can measure a weight correctly. Since the diameter of the hole 32b or the hole 62a is larger than the diameter of the pin 61, the weight of the workpiece W is measured by the weigh scale 60 via the pin 61 without the pin 61 coming into contact with the chamber body 32.

次に、樹脂供給装置10Aの動作方法(樹脂供給方法となる)について説明する。なお、前記実施形態1と重複する工程は概略して説明する。   Next, an operation method (to be a resin supply method) of the resin supply apparatus 10A will be described. In addition, the process which overlaps with the said Embodiment 1 is demonstrated roughly.

まず、図7に示すように、樹脂Rが供給される前のワークWの重量を計測した後、セット台51へワークWをセットする。具体的には、チャンバ30が開いている状態で、予めピン61の先端がセット台51よりも高い位置となるように、駆動部63によって重量計60およびピン61を上動させておく。この状態で、例えば搬送装置や作業者によって搬送されるワークWをピン61にセットし、樹脂Rが供給される前のワークWの重量を重量計60で計測する。そして、駆動部63によって重量計60およびピン61を下動させて、ピン61からセット台51へワークWを渡した後、チャック56によってワークWをセット台51に固定してセットする。   First, as shown in FIG. 7, the weight of the workpiece W before the resin R is supplied is measured, and then the workpiece W is set on the set stand 51. Specifically, with the chamber 30 open, the weight unit 60 and the pin 61 are moved up by the drive unit 63 in advance so that the tip of the pin 61 is positioned higher than the set base 51. In this state, for example, the workpiece W conveyed by the conveyance device or the operator is set on the pin 61, and the weight of the workpiece W before the resin R is supplied is measured by the weigh scale 60. Then, the weigh scale 60 and the pin 61 are moved downward by the drive unit 63 and the workpiece W is transferred from the pin 61 to the set table 51, and then the workpiece W is fixed and set to the set table 51 by the chuck 56.

続いて、ピン61をチャンバ本体32から退避させた後、シャッタ62をスライドさせてピン61が貫通していた孔32bを塞ぐ(シャッタ62が閉じた状態となる)。その後、チャンバ30を閉じた状態として、圧調節部41によってチャンバ30内のエアを排出
し始め、真空状態(減圧状態)とする。
Subsequently, after retracting the pin 61 from the chamber body 32, the shutter 62 is slid to close the hole 32b through which the pin 61 has passed (the shutter 62 is in a closed state). Thereafter, the chamber 30 is closed, and the pressure adjusting unit 41 starts to discharge the air in the chamber 30 to make a vacuum state (depressurized state).

続いて、図8に示すように、真空状態としたチャンバ30内で、ワークWに対して相対的にノズル22を移動させながら、ノズル22から樹脂Rを吐出して供給する。具体的には、圧調節部41によってチャンバ30を引き続き真空状態とする。そして、台駆動部52によってセット台51を回転(水平移動)させてセット台51にセットされたワークWを移動させながら、蓋駆動部50Aによってチャンバ蓋31を水平移動させてチャンバ蓋31に設けられたノズル22を移動させる。このとき、チャンバ蓋31は、前記実施形態1とは異なり、Y軸方向またはX軸方向のいずれか一方に水平移動する。バルブ駆動部26によってピンチバルブ24を駆動させてノズル22を開き、駆動部80によってプランジャ23を下動させることで、ワークWへノズル22から樹脂Rを吐出して供給する。前記実施形態1で説明した所定の塗布パターンのうち渦巻き状や放射状といった塗布パターンとなるようにワークWの表面に樹脂Rを供給(塗布)することができる。   Subsequently, as shown in FIG. 8, the resin R is discharged and supplied from the nozzle 22 while moving the nozzle 22 relative to the workpiece W in the vacuum chamber 30. Specifically, the chamber 30 is continuously evacuated by the pressure adjusting unit 41. The chamber lid 31 is horizontally moved by the lid driving unit 50A while the workpiece W set on the set platform 51 is moved by rotating (horizontal movement) the set platform 51 by the platform driving unit 52, and the chamber lid 31 is provided. The nozzle 22 is moved. At this time, unlike the first embodiment, the chamber lid 31 moves horizontally in either the Y-axis direction or the X-axis direction. The pinch valve 24 is driven by the valve driving unit 26 to open the nozzle 22, and the plunger 23 is moved downward by the driving unit 80, whereby the resin R is discharged from the nozzle 22 and supplied to the workpiece W. The resin R can be supplied (applied) to the surface of the workpiece W so as to have a spiral or radial coating pattern among the predetermined coating patterns described in the first embodiment.

続いて、チャンバ30内からエアを排出することを停止する。具体的には、圧調節部41によるエアの排出を停止することによってチャンバ30の所定圧における真空状態を解除する。これにより、減圧された狭隘部102に周囲の雰囲気の圧力で加圧された樹脂Rが注入される。また、ノズル22の上下動を所定回数繰り返して液切りを行う。   Subsequently, the discharge of air from the chamber 30 is stopped. Specifically, the vacuum state at a predetermined pressure in the chamber 30 is released by stopping the discharge of air by the pressure adjusting unit 41. Thereby, the resin R pressurized with the pressure of the surrounding atmosphere is inject | poured into the pressure-reduced narrow part 102. FIG. Further, the nozzle 22 is repeatedly moved up and down a predetermined number of times to perform liquid removal.

続いて、閉じられた状態のチャンバ30内で樹脂Rの供給量を計測する。具体的には、シャッタ62をスライドさせて孔32bと孔62aとを連通させる(シャッタ62が開いた状態となる)。これにより、チャンバ30が大気開放され、狭隘部102への樹脂Rの注入(充填)が促進される。また、ピン61がチャンバ30内へ進入可能な状態となる。そして、駆動部63によって重量計60およびピン61を上動させて、チャンバ本体32を貫通したピン61でワークWを持ち上げる。これにより、ワークWの重量を重量計60で計測して、樹脂供給前の重量と比較することで、樹脂Rの供給量を計測することができる。なお、樹脂供給量が所定量に達していなければ、ワークWをセット台51にセットし、真空状態のチャンバ30内で樹脂Rを再度供給する。   Subsequently, the supply amount of the resin R is measured in the closed chamber 30. Specifically, the shutter 62 is slid to connect the hole 32b and the hole 62a (the shutter 62 is in an open state). Thereby, the chamber 30 is opened to the atmosphere, and injection (filling) of the resin R into the narrow portion 102 is promoted. Further, the pin 61 can enter the chamber 30. Then, the weighing unit 60 and the pin 61 are moved up by the driving unit 63, and the workpiece W is lifted by the pin 61 penetrating the chamber body 32. Thereby, the supply amount of the resin R can be measured by measuring the weight of the workpiece W with the weigh scale 60 and comparing it with the weight before the resin supply. If the resin supply amount does not reach the predetermined amount, the workpiece W is set on the set stand 51, and the resin R is supplied again in the vacuum chamber 30.

樹脂Rが所定量供給された後、チャンバ30を開いた状態とする。具体的には、蓋駆動部50Aによってチャンバ蓋31を上動させていくことで、チャンバ本体32からチャンバ蓋31が遠ざかっていき、チャンバ30が開いた状態となる。その後、例えば搬送装置によってワークW(樹脂Rが供給されたもの)が取り出され、例えば成形金型91(図9参照)へ搬送される。この際、セット台51にセットされているワークWは、チャック56が解除された後、上動したピン43によって支持(エジェクト)され、搬送装置へ渡される。なお、その後は、樹脂Rが供給されたワークWを成形金型91へセットし、成形金型91が有するキャビティC内で樹脂Rが熱硬化される。前述の樹脂供給方法を用いてエアの抱え込みなどの不具合が防止されているので、狭隘部102での未充填などの成形不良が抑制された成形品が製造される。   After a predetermined amount of the resin R is supplied, the chamber 30 is opened. Specifically, by moving the chamber lid 31 upward by the lid driving unit 50A, the chamber lid 31 moves away from the chamber main body 32 and the chamber 30 is opened. Thereafter, the workpiece W (the one supplied with the resin R) is taken out by, for example, a conveying device, and conveyed to, for example, a molding die 91 (see FIG. 9). At this time, the workpiece W set on the setting table 51 is supported (ejected) by the pin 43 moved upward after the chuck 56 is released, and is transferred to the conveying device. After that, the workpiece W supplied with the resin R is set in the molding die 91, and the resin R is thermally cured in the cavity C of the molding die 91. Since problems such as air entrapment are prevented by using the above-described resin supply method, a molded product in which molding defects such as unfilling in the narrow portion 102 are suppressed is manufactured.

(実施形態3)
まず、本発明の実施形態に係る樹脂成形装置90について、主として図9および図19を参照して説明する。図9は樹脂成形方法(樹脂成形装置90)を説明するための図(断面図)である。図19は樹脂成形装置90を説明するための図(概略構成図)である。
(Embodiment 3)
First, a resin molding apparatus 90 according to an embodiment of the present invention will be described mainly with reference to FIGS. 9 and 19. FIG. 9 is a diagram (cross-sectional view) for explaining the resin molding method (resin molding apparatus 90). FIG. 19 is a diagram (schematic configuration diagram) for explaining the resin molding apparatus 90.

樹脂成形装置90は、自動機として、供給部97、プレス部98、収納部99およびこれらの間でワークWや樹脂Rを搬送する搬送装置104(搬送部)を備える。供給部97は、前述の樹脂供給装置10を備え、ワークWや樹脂Rをプレス部98へ供給する準備などを行う。また、プレス部98は、キャビティCを有する成形金型91を備え、キャビティC内で樹脂Rを熱硬化させる。この成形金型91は、公知のプレス機構によって型開閉可能な一対の金型(一方を上型92、他方を下型93とする)を備え、下型93にワークWがセットされ、上型92にキャビティC(凹部)が設けられて「上キャビティ成形」を行う。なお、上型92にワークWがセットされ、下型93にキャビティC(凹部)が設けられて「下キャビティ成形」を行う金型構成としてもよい。また、収納部99は、樹脂成形されたワークW(成形品)を収納する準備などを行う。なお、樹脂成形装置90は各部を制御する制御部105を備えており、この制御部105が樹脂供給装置10、10Aの制御部として兼用されるが、別々に用いられてもよい。   The resin molding apparatus 90 includes, as an automatic machine, a supply unit 97, a press unit 98, a storage unit 99, and a conveyance device 104 (conveyance unit) that conveys the workpiece W and the resin R therebetween. The supply unit 97 includes the resin supply device 10 described above, and performs preparations for supplying the workpiece W and the resin R to the press unit 98. The press unit 98 includes a molding die 91 having a cavity C, and the resin R is thermally cured in the cavity C. The molding die 91 includes a pair of molds (one is an upper die 92 and the other is a lower die 93) that can be opened and closed by a known press mechanism, and a workpiece W is set on the lower die 93, and the upper die A cavity C (concave portion) is provided at 92 to perform “upper cavity molding”. It is also possible to adopt a mold configuration in which the workpiece W is set on the upper die 92 and the cavity C (concave portion) is provided on the lower die 93 to perform “lower cavity molding”. The storage unit 99 prepares for storing a resin-molded workpiece W (molded product). The resin molding device 90 includes a control unit 105 that controls each unit, and this control unit 105 is also used as a control unit for the resin supply devices 10 and 10A, but may be used separately.

なお、自動機である樹脂成形装置90の別の構成としては、ワークWの収納も可能な供給部97、前述の樹脂供給装置10を備えた樹脂Rの供給部、プレス部98およびこれらの間でワークWや樹脂Rを搬送する搬送装置104(搬送部)を備えた構成としてもよい。供給部97は、ワークWをプレス部98へ供給する準備し、成形が行われたワークWを収納する。また、樹脂Rの供給部はワークWやリリースフィルムに対して、任意に樹脂Rを供給することができる。   In addition, as another structure of the resin molding apparatus 90 which is an automatic machine, the supply part 97 which can accommodate the workpiece | work W, the supply part of the resin R provided with the above-mentioned resin supply apparatus 10, the press part 98, and between these It is good also as a structure provided with the conveying apparatus 104 (conveyance part) which conveys the workpiece | work W and resin R. The supply unit 97 prepares to supply the workpiece W to the press unit 98 and stores the molded workpiece W. Further, the resin R supply unit can arbitrarily supply the resin R to the workpiece W or the release film.

成形金型91は、キャビティC(凹部)を構成するため、キャビティ駒94(第1金型ブロック)およびこれを囲むクランパ95(第2金型ブロック)を備える。成形金型91では、上型92にキャビティCが設けられるため、キャビティCの底部がキャビティ駒94の下面、キャビティCの側部がクランパ95の内壁面で構成される。また、成形金型91は、上型92と下型93との間(金型内部)をシールするシールリング96(例えばOリング)を備える。なお、図示しないが、樹脂成形装置90は、成形金型91の内部圧力を調節する圧調節部(例えば真空ポンプ)や内部温度(成形温度)を調節する温度調節部(例えばヒータ)を備える。   The molding die 91 includes a cavity piece 94 (first mold block) and a clamper 95 (second mold block) surrounding the cavity piece 94 (first mold block) in order to form a cavity C (concave portion). In the molding die 91, since the cavity C is provided in the upper die 92, the bottom of the cavity C is constituted by the lower surface of the cavity piece 94, and the side portion of the cavity C is constituted by the inner wall surface of the clamper 95. The molding die 91 includes a seal ring 96 (for example, an O-ring) that seals between the upper die 92 and the lower die 93 (inside the die). Although not shown, the resin molding apparatus 90 includes a pressure adjusting unit (for example, a vacuum pump) that adjusts the internal pressure of the molding die 91 and a temperature adjusting unit (for example, a heater) that adjusts the internal temperature (molding temperature).

次に、樹脂成形方法(樹脂成形装置90の動作方法となる)について説明する。まず、例えば前述の樹脂供給装置10を用いて、ワークW上に樹脂Rを供給する(図9A)。続いて、樹脂Rが供給されたワークWを搬送装置104によって、樹脂供給装置10から型開いた状態の成形金型91へ搬入し、チップ部品100をキャビティC側に向けてワークWを成形金型91(下型93の上面)にセットする(図9B)。   Next, a resin molding method (which is an operation method of the resin molding apparatus 90) will be described. First, for example, the resin R is supplied onto the workpiece W using the above-described resin supply apparatus 10 (FIG. 9A). Subsequently, the workpiece W supplied with the resin R is carried by the transfer device 104 from the resin supply device 10 to the molding die 91 in a mold open state, and the workpiece W is molded into the mold C with the chip part 100 facing the cavity C side. It is set on the mold 91 (the upper surface of the lower mold 93) (FIG. 9B).

続いて、成形金型91を型閉じしていき、キャビティCを減圧(真空)状態とする(図9C)。具体的には、プレス機構によって上型92に対して下型93を近づけていく。これにより、下型93に設けられているシールリング96が上型92のクランパ95にタッチし、キャビティCにワークW(キャリア101)上のチップ部品100および樹脂Rが収容される。このとき、圧調節部(不図示)によってエアの排出をすることで、金型内部を減圧状態とすることができる。   Subsequently, the molding die 91 is closed, and the cavity C is brought into a reduced pressure (vacuum) state (FIG. 9C). Specifically, the lower die 93 is brought closer to the upper die 92 by a press mechanism. As a result, the seal ring 96 provided on the lower die 93 touches the clamper 95 of the upper die 92, and the chip component 100 and the resin R on the workpiece W (carrier 101) are accommodated in the cavity C. At this time, the inside of the mold can be brought into a reduced pressure state by discharging air by a pressure adjusting unit (not shown).

続いて、成形金型91を更に型閉じていくことで、上型92と下型93との間でワークW(キャリア101)をクランプし(図9D)、圧縮成形を行う(図9E)。このとき、温度調節部(不図示)によって成形金型91は成形温度に加熱されているので、樹脂RはキャビティC内で熱硬化(加熱、硬化)される。樹脂Rが圧縮(加圧)されて狭隘部102へ注入されることなるが、前述の樹脂供給方法を用いてエアの抱え込みなどの不具合が防止されているので、狭隘部102での未充填などの成形不良が抑制された成形品(ワークW)が形成される。その後、成形金型91を型開きした状態とし、搬送装置104によって成形金型91からワークW(成形品)が取り出され、収納部99に搬出される。   Subsequently, by further closing the mold 91, the workpiece W (carrier 101) is clamped between the upper mold 92 and the lower mold 93 (FIG. 9D), and compression molding is performed (FIG. 9E). At this time, since the molding die 91 is heated to the molding temperature by the temperature adjusting unit (not shown), the resin R is thermally cured (heated and cured) in the cavity C. The resin R is compressed (pressurized) and injected into the narrow portion 102. However, problems such as air entrapment are prevented by using the above-described resin supply method, so that the narrow portion 102 is not filled. A molded product (work W) in which the molding defects are suppressed is formed. Thereafter, the molding die 91 is opened, and the workpiece W (molded product) is taken out from the molding die 91 by the conveying device 104 and is carried out to the storage unit 99.

本実施形態では、樹脂成形前に前述の樹脂供給方法によってワークWと樹脂Rとの間にエアが混入するのを抑制している。このため、ワークW(成形品)の樹脂成形部において、エア混入によるボイドの発生を抑制することができる。また、ワークWでは、狭隘部102においてもエアの混入が抑制されているため、ボイドの発生を抑制してアンダーフィルが行われる。   In the present embodiment, air is prevented from being mixed between the workpiece W and the resin R by the above-described resin supply method before resin molding. For this reason, generation | occurrence | production of the void by air mixing can be suppressed in the resin molding part of the workpiece | work W (molded article). Further, in the workpiece W, since air is suppressed from being mixed even in the narrow portion 102, generation of voids is suppressed and underfill is performed.

(実施形態4)
まず、本発明の実施形態に係る樹脂成形装置90Aについて、主として図10を参照して説明する。図10は樹脂成形方法(樹脂成形装置90A)を説明するための図(断面図)である。なお、樹脂成形装置90Aの概略構成は前述した樹脂成形装置90(図19)と同様である。
(Embodiment 4)
First, a resin molding apparatus 90A according to an embodiment of the present invention will be described mainly with reference to FIG. FIG. 10 is a diagram (sectional view) for explaining the resin molding method (resin molding apparatus 90A). The schematic configuration of the resin molding apparatus 90A is the same as the resin molding apparatus 90 (FIG. 19) described above.

樹脂成形装置90Aが備える成形金型91Aは、公知のプレス機構によって型開閉可能な一対の金型(一方を上型92、他方を下型93とする)を備え、上型92にワークWがセットされ、下型93にキャビティC(凹部)が設けられて「下キャビティ成形」を行う。本実施形態では、「下キャビティ成形」を行う点、及び、異なる2種類の樹脂R、Raを用いて成形する点で前記実施形態3と相違するため、以下ではこの点を中心に説明する。   The molding die 91A provided in the resin molding apparatus 90A includes a pair of molds (one is an upper die 92 and the other is a lower die 93) that can be opened and closed by a known press mechanism. The lower mold 93 is provided with a cavity C (concave portion) to perform “lower cavity molding”. The present embodiment is different from the third embodiment in that “lower cavity molding” is performed, and molding is performed using two different types of resins R and Ra. Therefore, this point will be mainly described below.

次に、樹脂成形方法(樹脂成形装置90Aの動作方法)について説明する。まず、例えば前述の樹脂供給装置10を用いて、ワークW上に樹脂Rを供給する(図10A)。更に、樹脂供給装置10によれば、減圧された狭隘部102に周囲の雰囲気の圧力で加圧された樹脂Rを注入させることができる(図10B)。ここで、ワークWの狭隘部102へ樹脂Rが充填されたことで、チップ部品100とキャリア101との接続部分が封止されていることから成形を完了してもよい。   Next, a resin molding method (an operation method of the resin molding apparatus 90A) will be described. First, for example, the resin R is supplied onto the workpiece W using the above-described resin supply apparatus 10 (FIG. 10A). Furthermore, according to the resin supply apparatus 10, the resin R pressurized with the pressure of the surrounding atmosphere can be injected into the narrowed portion 102 whose pressure has been reduced (FIG. 10B). Here, since the narrow portion 102 of the workpiece W is filled with the resin R, the connecting portion between the chip component 100 and the carrier 101 is sealed, and thus the molding may be completed.

しかしながら、チップ部品100の外周も樹脂封止することで一体化して機械的な強度を保持したり、チップ部品100外周も樹脂封止により被覆したほうがよい場合には、以下の工程を行う。具体的には、樹脂Rが供給されたワークWを搬送装置104によって、樹脂供給装置10から型開いた状態の成形金型91Aへ搬入し、チップ部品100をキャビティC側に向けてワークWを成形金型91A(上型92の下面)にセットする(図10C)。このワークWは、例えば上型92の下面で開口する路(孔)を介して吸引装置によって上型92の下面に吸着保持される。また、ワークWに供給されている樹脂Rとは別の樹脂RaをキャビティC内に供給する。ここで、別の樹脂Raとは、樹脂供給装置10を用いる工程とは別の工程で供給されるものであり、材質が同じものであっても異なってもよい。また、樹脂供給装置10での樹脂Rは液状であったが、樹脂Raは液状、顆粒状、粉状、シート状であってもよい。また、樹脂Raは、適宜の搬送装置104により搬送できるが、例えば、金型面を覆って型面と樹脂Raとの接触を防止するリリースフィルムに樹脂Raを搭載した状態でキャビティC内に供給することができる。   However, when the outer periphery of the chip component 100 is preferably sealed by resin sealing to maintain mechanical strength, or the outer periphery of the chip component 100 is preferably covered by resin sealing, the following steps are performed. Specifically, the workpiece W supplied with the resin R is carried by the transport device 104 from the resin supply device 10 to the molding die 91A in a mold open state, and the workpiece W is directed toward the cavity C side. It is set on the molding die 91A (the lower surface of the upper die 92) (FIG. 10C). The workpiece W is sucked and held on the lower surface of the upper die 92 by a suction device through a path (hole) opened on the lower surface of the upper die 92, for example. Further, a resin Ra different from the resin R supplied to the workpiece W is supplied into the cavity C. Here, the different resin Ra is supplied in a process different from the process using the resin supply apparatus 10 and may be the same or different. Moreover, although the resin R in the resin supply apparatus 10 was liquid, the resin Ra may be liquid, granular, powdery, or sheet-like. The resin Ra can be transported by an appropriate transport device 104. For example, the resin Ra is supplied into the cavity C in a state where the resin Ra is mounted on a release film that covers the mold surface and prevents contact between the mold surface and the resin Ra. can do.

続いて、成形金型91Aを型閉じしていき、キャビティCを減圧(真空)状態とする(図10D)。これにより、上型92に設けられているシールリング96が下型93のクランパ95にタッチし、キャビティCにチップ部品100および樹脂R、Raが収容される。   Subsequently, the molding die 91A is closed, and the cavity C is brought into a reduced pressure (vacuum) state (FIG. 10D). As a result, the seal ring 96 provided on the upper die 92 touches the clamper 95 of the lower die 93, and the chip component 100 and the resins R and Ra are accommodated in the cavity C.

続いて、成形金型91Aを更に型閉じていくことで、上型92と下型93との間でワークW(キャリア101)をクランプし、圧縮成形を行う(図10E)。このとき、温度調節部(不図示)によって成形金型91Aは成形温度に加熱されているので、樹脂R、RaはキャビティC内で熱硬化(加熱、硬化)される。前述の樹脂供給方法を用いてエアの抱え込みなどの不具合が防止されているので、狭隘部102での未充填などの成形不良が抑制された成形品(ワークW)が形成される。また、例えば、狭隘部102の充填に適した樹脂Rと、放熱性やシールド性などに優れチップ部品100の封止に適した樹脂Raを用いて成形品を形成することができる。その後、成形金型91Aを型開きした状態とし、搬送装置104によって成形金型91AからワークW(成形品)が取り出され、収納部99に搬出される。   Subsequently, by further closing the molding die 91A, the workpiece W (carrier 101) is clamped between the upper die 92 and the lower die 93, and compression molding is performed (FIG. 10E). At this time, since the molding die 91A is heated to the molding temperature by the temperature adjusting unit (not shown), the resins R and Ra are thermally cured (heated and cured) in the cavity C. Since problems such as air entrapment are prevented using the resin supply method described above, a molded product (work W) in which molding defects such as unfilling in the narrow portion 102 are suppressed is formed. Further, for example, a molded product can be formed using a resin R suitable for filling the narrow portion 102 and a resin Ra excellent in heat dissipation and shielding properties and suitable for sealing the chip component 100. Thereafter, the molding die 91A is opened, and the workpiece W (molded product) is taken out from the molding die 91A by the conveying device 104 and carried out to the storage unit 99.

(実施形態5)
本発明の実施形態に係る樹脂成形方法について、主として図11〜図14を参照して説明する。図11〜図14は樹脂成形方法を説明するための図(斜視図)である。本実施形態では、例えば、ワークWへの樹脂Rの供給には前述の樹脂供給装置10、10Aを用いることができ、樹脂成形には前述の樹脂成形装置90、90Aを用いることができるが、樹脂成形には「上キャビティ成形」を行う樹脂成形装置90が好ましい。
(Embodiment 5)
The resin molding method according to the embodiment of the present invention will be described mainly with reference to FIGS. FIGS. 11-14 is a figure (perspective view) for demonstrating the resin molding method. In the present embodiment, for example, the above-described resin supply devices 10 and 10A can be used for supplying the resin R to the workpiece W, and the above-described resin molding devices 90 and 90A can be used for resin molding. For resin molding, a resin molding apparatus 90 that performs “upper cavity molding” is preferable.

まず、樹脂Rが供給される前のワークW(被供給物)を準備する(図11)。ワークWとしては、複数のチップ部品100(例えば半導体チップなど)が行列状にフリップチップ接続(バンプ接続)された円板形状のキャリア101(例えば半導体ウェハ、配線層が形成されたガラス板など)を適用する。   First, a workpiece W (supplied object) before the resin R is supplied is prepared (FIG. 11). As the workpiece W, a disk-shaped carrier 101 (for example, a semiconductor wafer, a glass plate on which a wiring layer is formed) in which a plurality of chip parts 100 (for example, semiconductor chips) are flip-chip connected (bumped) in a matrix form. Apply.

続いて、例えば樹脂供給装置10を用いて、ワークW上に樹脂Rを供給する(図12)。ここでは、ワークW(キャリア101)全面に隙間を空けて液状の樹脂Rを渦巻き状に塗布して供給することで、ワークW上において樹脂Rに覆われたチップ部品100がない状態とする。   Subsequently, the resin R is supplied onto the workpiece W using, for example, the resin supply device 10 (FIG. 12). Here, the chip part 100 covered with the resin R on the workpiece W is removed by supplying the liquid resin R in a spiral shape with a gap provided across the entire surface of the workpiece W (carrier 101).

続いて、樹脂Rが供給されたワークWを型開きした成形金型91へセットした後、成形金型91を型閉じることで、シールリング96をクランパ95にタッチさせ、更にワークWをクランプする。このとき、型閉じされたキャビティCを含む金型内部は減圧されている。このように、周囲雰囲気を減圧することによってチップ部品100とキャリア101との間(図1に示す狭隘部102)のエアを排出し、アンダーフィルされた樹脂R内のボイドの発生を防止することができる。なお、エアの排出効果を高めるために、シールリング96がタッチする際に、樹脂Rがキャビティ駒94の下面に接しないような高さで樹脂RがワークWに供給されているのが好ましい(図9C)。   Subsequently, after setting the workpiece W supplied with the resin R to the molding die 91 that has been opened, the molding die 91 is closed so that the seal ring 96 is touched to the clamper 95 and further the workpiece W is clamped. . At this time, the inside of the mold including the closed cavity C is decompressed. In this way, by reducing the ambient atmosphere, the air between the chip component 100 and the carrier 101 (the narrow portion 102 shown in FIG. 1) is discharged, and generation of voids in the underfilled resin R is prevented. Can do. In order to enhance the air discharge effect, it is preferable that the resin R is supplied to the workpiece W at such a height that the resin R does not contact the lower surface of the cavity piece 94 when the seal ring 96 touches ( FIG. 9C).

そして、更に型閉じすることによって、液状の樹脂Rを圧縮し(図13)、キャビティC内で充填された樹脂Rを熱硬化させて成形する(図14)。渦巻き状(複数の線状)に塗布された液状の樹脂Rは、成形金型91で押し広げられて隣接する線状の樹脂R間の距離分だけ流れることになり、例えば塗布時間の短縮のためにワークWの中央に一点で盛られて供給された樹脂Rが外周まで流れる場合と比較して、樹脂Rの流動距離を削減することができる。これにより、架橋反応により硬化が進行しながら流動していく樹脂の樹脂流動によるチップシフトなどの不具合の発生を防止することができる。また、樹脂流動により生じるフローマークの発生も低減することができる。また、距離が長い場合における流動時の受熱による樹脂Rの硬化を防止してワークWの外周におけるアンダーフィル性を向上することができる。   Further, by closing the mold, the liquid resin R is compressed (FIG. 13), and the resin R filled in the cavity C is thermoset and molded (FIG. 14). The liquid resin R applied in a spiral shape (a plurality of linear shapes) is spread by the molding die 91 and flows by the distance between the adjacent linear resins R. For example, the application time is shortened. Therefore, the flow distance of the resin R can be reduced as compared with the case where the resin R that is supplied at one point in the center of the workpiece W flows to the outer periphery. Thereby, generation | occurrence | production of malfunctions, such as a chip shift by the resin flow of resin which flows while hardening progresses by a crosslinking reaction, can be prevented. In addition, the generation of flow marks caused by resin flow can be reduced. Further, it is possible to prevent the resin R from being hardened by heat reception during flow when the distance is long, and to improve the underfill property on the outer periphery of the workpiece W.

ところで、単に渦巻き状に樹脂RをワークWに塗布して供給した場合、成形金型91で樹脂Rが圧縮されていくと、隣接する線状の樹脂Rどうしが合流することとなるため、減圧が十分でない場合には合流箇所においてエアが抱え込まれてしまうおそれがある。そこで、例えば図15〜図18に示すようにワークWにおける所定箇所でエアが流出できる部分がある塗布パターンとすることで、成形金型91で樹脂Rを圧縮していく際にエアの排出を十分に行い、成形不良を防止することができる。なお、樹脂供給装置10、10Aを用いてワークWに樹脂Rを供給するにあたり、チャンバ30内を真空状態とせずとも樹脂R内におけるエアの抱え込みなどの不具合を防止することができる樹脂Rの塗布パターンとして説明する。   By the way, when the resin R is simply applied in a spiral shape and supplied to the workpiece W, when the resin R is compressed by the molding die 91, the adjacent linear resins R are joined together. If this is not sufficient, air may be trapped at the junction. Therefore, for example, as shown in FIGS. 15 to 18, by applying a coating pattern in which air can flow out at a predetermined location on the workpiece W, air is discharged when the resin R is compressed by the molding die 91. It is sufficient to prevent molding defects. In addition, when resin R is supplied to the workpiece W using the resin supply devices 10 and 10A, application of the resin R that can prevent problems such as air entrapment in the resin R without setting the chamber 30 in a vacuum state. This will be described as a pattern.

図15は渦巻き状の一部(所定位置103)を細くして樹脂Rが供給された後のワークWの状態を示す。ここでは、液状の樹脂Rを渦巻き状に供給する際に、ワークWの表面に図15に示す十字方向や、6方向、8方向など所定方向(所定位置103)や任意間隔で、樹脂Rの高さを低く、または樹脂Rを少なくしている。このような樹脂供給方法としては、例えばノズル22の移動速度を上げることで、その位置における塗布量を他の位置より低下させることができる。また、別の方法としては、ノズル22からの樹脂Rの塗布量を減らすことができる。例えば、ノズル22の開度を下げる(ノズル22を摘む)方法や、プランジャ23の動作速度を遅くする方法が考えられる。これにより、成形金型91で樹脂Rが圧縮される際には、エアが所定位置103を通過できるため、エアの排出を円滑にすることができ、ボイドの発生を防止することができる。   FIG. 15 shows the state of the workpiece W after the resin R is supplied by narrowing a part of the spiral shape (predetermined position 103). Here, when the liquid resin R is supplied in a spiral shape, the resin R is applied to the surface of the work W at a predetermined direction (predetermined position 103) such as the cross direction shown in FIG. The height is lowered or the resin R is reduced. As such a resin supply method, for example, by increasing the moving speed of the nozzle 22, the coating amount at that position can be reduced as compared with other positions. As another method, the application amount of the resin R from the nozzle 22 can be reduced. For example, a method of lowering the opening of the nozzle 22 (picking the nozzle 22) or a method of slowing the operation speed of the plunger 23 can be considered. Thus, when the resin R is compressed by the molding die 91, air can pass through the predetermined position 103, so that the air can be discharged smoothly and the generation of voids can be prevented.

図16は途切れさせながら渦巻き状に樹脂Rが供給された後のワークWの状態を示す。ここでは、エアの流動できる空間を設けるために、実質的に多点に塗布するような方法を用いる。この場合、渦巻き状の塗布パターンとなるように移動しているノズル22において、ワークWに近接させたときに樹脂Rを吐出し、離間させたときに吐出された樹脂Rが切り離されるような動作を繰り返すようにする。これにより、完全に塗布を終了させずに次の吐出点に移動させることで、次の吐出点に移動させる動作を即時行うことができる。これにより、吐出点に到達しワークWに近接させたときに樹脂Rを高速に繰り返して吐出することができるため、樹脂Rを高速に供給することができる。また、樹脂Rが塗布された点の間をエアが流動することができ、ボイドの発生を防止できる。また、ノズル22からは少しずつ樹脂Rを吐出することになるので、所定の供給量となるまでワークW全面に樹脂Rを塗布することができる。これによれば、例えば渦巻きの線を高密度に配置した塗布をすることができるため、樹脂Rの流動量を低減しフローマークを減らすこともできる。   FIG. 16 shows a state of the workpiece W after the resin R is supplied in a spiral shape while being interrupted. Here, in order to provide a space in which air can flow, a method that is applied to multiple points is used. In this case, in the nozzle 22 moving so as to form a spiral coating pattern, the operation is such that the resin R is discharged when the nozzle 22 is brought close to the workpiece W, and the discharged resin R is separated when the nozzle 22 is moved apart. To repeat. Thereby, the movement to the next discharge point can be immediately performed by moving to the next discharge point without completely ending the application. Accordingly, since the resin R can be repeatedly discharged at high speed when the discharge point is reached and brought close to the workpiece W, the resin R can be supplied at high speed. In addition, air can flow between the points where the resin R is applied, and generation of voids can be prevented. Further, since the resin R is gradually discharged from the nozzle 22, the resin R can be applied to the entire surface of the workpiece W until a predetermined supply amount is reached. According to this, since it is possible to apply, for example, spiral lines arranged at a high density, it is possible to reduce the flow amount of the resin R and reduce the flow marks.

図17は途切れさせながら直線状に樹脂Rが供給された後のワークWの状態を示す。ここでは、図16を参照して説明した方法を用いて、エアの流動できる空間を設けるために、実質的に多点に塗布するような直線状の塗布パターンとしている。また、直線状に樹脂Rを供給することで、チップ間に供給する場合に適用することもでき、例えば図6Bに示すように最終的に一のパッケージ領域として切り分けられる複数のチップの間に塗布する場合に適用することもできる。   FIG. 17 shows the state of the workpiece W after the resin R is supplied linearly while being interrupted. Here, using the method described with reference to FIG. 16, in order to provide a space through which air can flow, a linear application pattern that is applied to a plurality of points is used. Further, by supplying the resin R in a straight line, it can be applied to the case where the resin R is supplied between the chips. For example, as shown in FIG. 6B, the resin R is applied between a plurality of chips that are finally separated as one package region. It can also be applied to

図18はチップ部品100間に多点で樹脂Rが供給された後のワークWの状態を示す。ここでは、図16を参照して説明した方法を用いて、例えば、4つの隣接したチップ部品100間に樹脂Rを塗布することで、成形金型91で樹脂Rを圧縮する際に、エアフローを確保しながら樹脂RをキャビティC内で充填させやすくすることができる。   FIG. 18 shows the state of the workpiece W after the resin R is supplied at multiple points between the chip components 100. Here, when the resin R is compressed by the molding die 91 by applying the resin R between, for example, four adjacent chip components 100 using the method described with reference to FIG. The resin R can be easily filled in the cavity C while ensuring.

以上、本発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   Although the present invention has been specifically described above based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

例えば、図5、図15〜図18に示すような各種の樹脂供給方法は、ワークWとしてチップ部品100が搭載されたキャリア101だけでなく、平坦なワークや図10に示すような下キャビティ成形用において離形成の確保や樹脂漏れ防止などの目的で用いられるリリースフィルムに対しても適用することができる。   For example, various resin supply methods as shown in FIGS. 5 and 15 to 18 include not only the carrier 101 on which the chip component 100 is mounted as the work W but also a flat work or lower cavity molding as shown in FIG. It can also be applied to a release film used for the purpose of ensuring separation and preventing resin leakage.

前記実施形態では、減圧した後に樹脂Rを吐出するノズル22の位置を移動させる構成について説明したが本発明はこれに限定されない。例えば樹脂Rを吐出するノズル22の位置を移動させることでワークW上やリリースフィルム上に任意の形状で樹脂Rを塗布する構成については減圧せずに樹脂Rを供給してもよい。また、例えばリリースフィルム上に任意の形状で樹脂Rを塗布することもできるが、これによりリリースフィルムと樹脂Rとの隙間で挟まれたエアや樹脂R内のエアを排出することもできる。また、シリンジ21やノズル22を複数備えた構成として、塗布時間を短縮させる構成としてもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the position of the nozzle 22 that discharges the resin R after the pressure is reduced has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the resin R may be supplied without reducing the pressure in the configuration in which the resin R is applied in an arbitrary shape on the workpiece W or the release film by moving the position of the nozzle 22 that discharges the resin R. In addition, for example, the resin R can be applied in an arbitrary shape on the release film. However, the air sandwiched between the release film and the resin R or the air in the resin R can be discharged. Moreover, it is good also as a structure which shortens application | coating time as a structure provided with two or more syringes 21 and nozzles 22. FIG.

また、例えば図15〜図18等に示すような各種の樹脂供給方法は、ワークWにおける所定箇所でエアが流出できる部分がある塗布パターンであり、樹脂Rの吐出を行う際には減圧していなくても、例えば減圧される金型内においてエアが流出(排出)しながら成形することで、ボイドの発生を防止した成形をすることができる。   Further, for example, various resin supply methods as shown in FIGS. 15 to 18 and the like are application patterns in which air can flow out at a predetermined location on the workpiece W, and the pressure is reduced when discharging the resin R. Even without this, for example, molding can be performed while preventing generation of voids by molding while the air flows out (discharges) in a mold that is decompressed.

前記実施形態では、チャンバ蓋の加重受けとして、ボールローラを用いたが、例えばコンプレッサからのエアによって加重を受ける構成を用いることができる。   In the above-described embodiment, the ball roller is used as the weighted receiver of the chamber lid. However, for example, a configuration in which the weight is received by air from the compressor can be used.

10 樹脂供給装置
30 チャンバ
31 チャンバ蓋
32 チャンバ本体
32a 開口縁
33 シールリング
37 加重受け
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Resin supply apparatus 30 Chamber 31 Chamber lid 32 Chamber main body 32a Opening edge 33 Seal ring 37 Load receiving

Claims (11)

真空状態としたチャンバ内で液状の樹脂を被供給物に供給する樹脂供給装置であって、
前記チャンバを構成するチャンバ蓋およびチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の開口縁に設けられ、前記チャンバ蓋と前記チャンバ本体との間をシールするシールリングと、
前記シールリングに沿って前記チャンバ本体に設けられ、前記チャンバ蓋と前記チャンバ本体との間で加重を受ける加重受けと、
を備えることを特徴とする樹脂供給装置。
A resin supply device that supplies liquid resin to a supply in a vacuum chamber.
A chamber lid and a chamber body constituting the chamber;
A seal ring that is provided at an opening edge of the chamber body and seals between the chamber lid and the chamber body;
A load receiver provided on the chamber body along the seal ring and receiving a load between the chamber lid and the chamber body;
A resin supply device comprising:
請求項1記載の樹脂供給装置において、
前記チャンバが開いた状態では、前記チャンバ本体から前記チャンバ蓋へ向かう高さにおいて前記加重受けより前記シールリングが高いことを特徴とする樹脂供給装置。
In the resin supply apparatus of Claim 1,
In the state where the chamber is opened, the seal ring is higher than the load receiver at a height from the chamber body toward the chamber lid.
請求項1または2記載の樹脂供給装置において、
前記チャンバが閉じた状態で前記チャンバ本体に対して前記チャンバ蓋を移動させる蓋駆動部を更に備えることを特徴とする樹脂供給装置。
In the resin supply apparatus of Claim 1 or 2,
The resin supply apparatus further comprising: a lid driving unit that moves the chamber lid with respect to the chamber body in a state where the chamber is closed.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂供給装置において、
前記加重受けは、ボールローラが複数設けられている構成であることを特徴とする樹脂供給装置。
In the resin supply apparatus as described in any one of Claims 1-3,
The weight receiving is configured to include a plurality of ball rollers.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂供給装置において、
前記チャンバ内に設けられ、前記被供給物がセットされる重量計を更に備えることを特徴とする樹脂供給装置。
In the resin supply apparatus as described in any one of Claims 1-4,
A resin supply apparatus, further comprising a weigh scale provided in the chamber and on which the material to be supplied is set.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂供給装置において、
前記チャンバ内に設けられ、前記被供給物がセットされるセット台と、
前記セット台を回転させる台駆動部と、
を更に備えることを特徴とする樹脂供給装置。
In the resin supply apparatus as described in any one of Claims 1-5,
A set table provided in the chamber and on which the material to be supplied is set;
A table drive unit for rotating the set table;
A resin supply device further comprising:
請求項6記載の樹脂供給装置において、
前記チャンバ外に設けられ、前記チャンバ本体を貫通するピンを介して前記被供給物がセットされる重量計を更に備えることを特徴とする樹脂供給装置。
The resin supply apparatus according to claim 6, wherein
A resin supply apparatus, further comprising a weigh scale provided outside the chamber and set with the supply object via a pin penetrating the chamber main body.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂供給装置と、
キャビティを有し、前記キャビティ内で前記樹脂を熱硬化させる金型と、
を備えることを特徴とする樹脂成形装置。
The resin supply device according to any one of claims 1 to 7,
A mold having a cavity and thermosetting the resin in the cavity;
A resin molding apparatus comprising:
狭隘部を有する被供給物に液状の樹脂を供給する樹脂供給方法であって、
(a)チャンバ内に前記被供給物をセットする工程と、
(b)前記(a)工程の後、前記チャンバ内を減圧する工程と、
(c)前記(b)工程の後、前記狭隘部に掛かるように前記樹脂を供給する工程と、
(d)前記(c)工程の後、前記チャンバ内を加圧する工程と、
を含むことを特徴とする樹脂供給方法。
A resin supply method for supplying a liquid resin to an article having a narrow portion,
(A) setting the supply object in a chamber;
(B) after the step (a), reducing the pressure in the chamber;
(C) after the step (b), supplying the resin so as to be applied to the narrow portion;
(D) after the step (c), pressurizing the chamber;
A resin supply method comprising:
請求項9記載の樹脂供給方法において、
前記(b)工程では、前記チャンバを真空状態とし、
前記(d)工程では、前記チャンバを大気開放することを特徴とする樹脂供給方法。
The resin supply method according to claim 9, wherein
In the step (b), the chamber is evacuated,
In the step (d), the chamber is opened to the atmosphere.
請求項9または10記載の樹脂供給方法において、
チップ部品がフリップチップ接続されたキャリアを前記被供給物とし、前記狭隘部を前記キャリアと前記チップ部品との間とすることを特徴とする樹脂供給方法。
In the resin supply method according to claim 9 or 10,
A resin supply method characterized in that a carrier to which a chip component is flip-chip connected is used as the supply object, and the narrow portion is between the carrier and the chip component.
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