JP2018129417A - 並列光モジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】放熱性に優れ、信頼性及び高周波信号伝送特性に優れた並列光モジュールを提供する。【解決手段】一方の面に第1の金属層104及び第2の金属層114が設けられた第1の基板101と、第1の基板101上に積層された第2の基板102と、第1の金属層104上に実装された半導体集積回路素子111と、第2の金属層114上に実装された光素子アレイ112と、を有し、第1の基板101には、複数の第1のビア108により第1のビアパタン集合体108Aが形成され、第2の基板102には、複数の第2のビア109により第2のビアパタン集合体109Aが形成され、第1のビアパタン集合体108A及び第2のビアパタン集合体109Aは、第1の基板101と第2の基板102との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れる方向に延在するように設けられている並列光モジュールである。【選択図】図1
Description
本発明は、並列光モジュールに係り、特に情報機器などの装置間又は装置内ボード間で送受信される高速光信号を伝送する光ケーブルのインターフェース部となる並列光モジュールに関する。
近年、データセンタ内のサーバやストレージ等の機器で処理するデータ量の飛躍的な増加に伴い、サーバ等の情報機器間を繋ぐ信号伝送ケーブルや所謂インターコネクトとよばれる装置内配線の信号伝送の大容量化が求められている。これに伴い、インターコネクト速度としては、チャンネル当たり25Gbit/sから50Gbit/s以上の高速化が求められている。このような高速での信号伝送方式として、従来の電気伝送技術と比較して低クロストークであり、高密度化や伝送線路の軽量化が可能な光インターコネクト技術が期待されている。
光インターコネクト技術では、今後の光配線の大容量化のため、光素子を多チャンネル(並列)化した並列光モジュールの適用が、有効な技術として検討されている。並列光モジュールには、実装の高密度化や小型化の観点から、光コネクタ等の各種部品を基板の厚さ方向に配置して三次元的に集積するとともに、多チャンネルの光素子と電子回路とをなるべく近接させて設置することが求められる。
一方、例えば送信部の光源として用いられるレーザダイオードは、85℃以上の高温環境下においてその特性が著しく劣化するため、光素子と電子回路とを近接配置する場合には、高信頼化の観点から、光素子や電子回路から発生する熱を、効率的に放熱することが求められる。
例えば特許文献1には、光素子40とドライバ集積回路41を搭載する光素子搭載基板30の上方から上部構造体50を嵌め込んで、光ファイバ7と光素子40とを光学的に接続した光モジュールが開示されている。
また、特許文献2には、光素子32とIC34とが実装されたモジュール基板30上にカバー36を接合し、カバー36における光素子32と対向する位置に、レンズアレイ50を設置した光モジュールが開示されている。
特許文献1に記載の光モジュールは、光素子40やドライバ集積回路41の直上に上部構造体50が設置されるため、この位置に放熱部材を設置することが困難である。このため、ドライバ集積回路41からの熱が、光素子40に周り込み、光素子40の特性が悪化するおそれがある。
特許文献2に記載の光モジュールは、光素子32からの熱をモジュール基板30を介して光モジュールの下方に放熱し、IC34からの熱をカバー36を介して光モジュールの上方に放熱することが可能となるため、IC34からの熱の、光素子32への回り込みが低減される可能性がある。しかしながら、カバー36がレンズアレイ50と同一面に設置されているため、IC34からの熱がカバー36を介して放熱される場合には、カバー36から放熱される熱のレンズアレイ50への熱的な干渉を避ける必要がある。このため、IC34とレンズアレイ50との距離を、ある程度隔離する必要があり、これに伴い、レンズアレイ50と対向配置される光素子32とIC34との距離が隔離されるため、高周波電気配線部分の信号伝播損失や反射の影響が大きくなり、高周波特性が劣化するおそれがある。
そこで、本発明の目的は、放熱性に優れ、信頼性及び高周波信号伝送特性に優れた並列光モジュールを提供することにある。
本発明に係る並列光モジュールの好ましい実施形態としては、一方の面に第1の金属層及び該第1の金属層と離間した第2の金属層が設けられ、他方の面に第3の金属層が設けられた第1の基板と、前記第3の金属層を介して前記第1の基板上に積層され、前記第3の金属層が設けられた面と反対側の面に第4の金属層が設けられた第2の基板と、前記第1の金属層上に実装された半導体集積回路素子と、前記第2の金属層上に実装された光素子アレイと、を有し、前記第1の基板には、前記第1の金属層と前記第3の金属層とを電気的に接続する第1のビアが複数個設けられ、該複数の第1のビアにより第1のビアパタン集合体が形成され、前記第2の基板には、前記第3の金属層と前記第4の金属層とを電気的に接続する第2のビアが複数個設けられ、該複数の第2のビアにより第2のビアパタン集合体が形成され、前記第1のビアパタン集合体及び前記第2のビアパタン集合体は、前記第1の基板と前記第2の基板との積層方向に向けて前記光素子アレイから離れる方向に延在するように設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、放熱性に優れ、信頼性及び高周波信号伝送特性に優れた並列光モジュールを実現することができる。
図1(a)に、実施例1に係る並列光モジュールの下面斜視図を示し、図1(b)に、図1(a)のA−A’断面図を示す。図1(b)に示すように、実施例1に係る並列光モジュールは、第1の基板101と、第1の基板101上に積層された第2の基板102とを有し、平坦性を有する積層構造である積層基板100を有している。第1の基板101、第2の基板102の材料としては、例えばアルミナや窒化アルミ等のセラミックを用いてもよく、ガラスエポキシ樹脂等の有機材料を用いてもよい。
第1の基板101の一方の面(図1(a)の下面斜視図において、積層基板100の最表面となる面)には、第1の金属層104と、第1の金属層104と離間した第2の金属層114とが設けられている。第1の金属層104上には、半導体集積回路素子111が実装されており、第1の金属層104と半導体集積回路素子111とは電気的に接続されている。
第2の金属層114上には、光素子アレイ112が実装されている。光素子アレイ112は、発光素子アレイまたは受光素子アレイであり、少なくとも2チャンネル以上のアレイ状として構成されている。光素子アレイ112と第2の金属層114とは、導電性の接着剤等を介して電気的に接続されている。光素子アレイ112と半導体集積回路素子111とは、それぞれの電極パッドに接続した金属ワイヤ121により、電気的に接続されている。
第2の金属層114は、第1の金属層104と電気的に絶縁させて設けている。具体的には、第1の金属層104はGND(接地)電位とし、第2の金属層114は、GNDから絶縁(フローティング)した電気回路とする。また、第1の金属層104と第2の金属層114との間の離隔距離は、光素子アレイ112と半導体集積回路素子111とを接続する導体ワイヤのワイヤ長を出来るだけ短くし、安定な高周波特性を得るために、0.2〜1mm程度とすることが好ましい。
図1(b)に示すように、第1の基板101において、第1の金属層104が設けられた面と反対側の面には、第3の金属層105が設けられている。第1の基板101内部には、第1の金属層104と第3の金属層105とを電気的に接続する第1のビア108が複数個設けられており、複数の第1のビア108により第1のビアパタン集合体108Aが形成されている。
また、第1の基板101の第3の金属層105が形成された面には、第3の金属層105と離間して、第6の金属層115が設けられている。第1の基板101内部には、光素子アレイ112が実装された第2の金属層114と第6の金属層115とを電気的に接続する第4のビア118が複数個設けられており、複数の第4のビア118により第4のビアパタン集合体118Aが形成されている。
第2の基板102は、第3の金属層105、第6の金属層115を介して、第1の基板101上に積層されている。第2の基板102には、第3の金属層105、第6の金属層115が設けられた面と反対側の面に、第4の金属層106が設けられている。第2の基板102内部には、第3の金属層105と第4の金属層106とを電気的に接続する第2のビア109が複数個設けられており、複数の第2のビア109により第2のビアパタン集合体109Aが形成されている。
第2の基板102には、第3の金属層105、第6の金属層115が設けられた面と反対側の面に、第4の金属層106と離間して、第7の金属層116が設けられている。第2の基板102内部には、第6の金属層115と第7の金属層116とを電気的に接続する第5のビア119が複数個設けられており、複数の第5のビア119により第5のビアパタン集合体119Aが形成されている。
第1のビアパタン集合体108A及び第2のビアパタン集合体109Aは、それぞれ、第1の基板101と第2の基板102との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れるように、図1(b)に示す積層断面における破線矢印で示す斜め方向(以下、第1の斜め方向という。)に延在するように設けられている。
実施例1に係る並列光モジュールによれば、積層基板100において、第1の基板101の光素子アレイ112及び半導体集積回路素子111の実装面から、この実装面と反対側に積層された第2の基板102の表面にかけて、接続用のビア(第1のビア108、第2のビア109)を設けている。このため、半導体集積回路素子111や光素子アレイ112から発生した熱を、各ビアを介して、これらの実装面と反対側の積層基板100表面に向けて放熱することができる。
このような積層基板100では、例えば光素子アレイ112と光学的に接続する光コネクタを第1の基板101側に設置し、半導体集積回路素子111や光素子アレイ112から発生する熱を放熱するヒートシンク等の放熱部材を、第2の基板102側に設置する構成が可能となる。即ち、放熱部材と光コネクタとを別々の面に設置することで、両者の熱的な干渉を回避しつつ高い放熱性を得ることができ、並列光モジュール全体の実装面積の小面積化と、高い放熱特性との両立が可能となる。
また、実施例1に係る並列光モジュールによれば、上記したように、第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109Aを、第1の基板101と第2の基板102との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れる方向に延在させて設けることで、半導体集積回路素子111から発する熱が、第1のビアパタン集合体108A〜第2のビアパタン集合体109Aを介して、光素子アレイ112から離隔するように伝熱する。このため、半導体集積回路素子111の熱が光素子アレイ112に周り込むのを抑止することが出来る。
また、このように、半導体集積回路素子111の熱の光素子アレイ112への周り込みを防止できるため、第1の基板101上において、半導体集積回路素子111と光素子アレイ112とを近接させて実装することができる。このため、半導体集積回路素子111と光素子アレイ112間を接続する導体ワイヤ121が長くなるのを防止することができ、インダクタンスの増加による高周波特性の劣化を抑止することが可能である。特に、25Gbit/s以上の高速信号伝送においては、高周波特性の劣化を回避するため、光素子―集積回路間の高周波電気配線の距離を1mm以下に近接させることが求められている。実施例1に係る並列光モジュールによれば、半導体集積回路素子111の熱の光素子アレイ112への周り込みを防止しつつ、このような半導体集積回路素子111と光素子アレイ112との近接配置が可能となる。
また、実施例1に係る並列光モジュールによれば、第1の金属層104をGND(接地)電位とし、第2の金属層114をGNDから絶縁(フローティング)して、第1の金属層104と第2の金属層114とを電気的に絶縁する。これにより、半導体集積回路素子111において安定なGND電位が保持されるため、電源レベルの変動等に起因する高周波特性のノイズの影響を回避出来る。また、光素子アレイ112においては、素子実装回路の低容量化により高速特性に優れた性能を得ることが出来る。
図2(a)に、実施例2に係る並列光モジュールの下面斜視図を示し、図2(b)に、図2(a)のA−A’断面図を示す。図2(b)に示すように、実施例2に係る並列光モジュールは、第1の基板101と、第1の基板101上に積層された第2の基板102と、第2の基板102上に積層された第3の基板103とを有し、平坦性を有する積層構造である積層基板200を有している。なお、実施例1は、第2の基板102上に第3の基板103を積層した点以外は、実施例1と同様の構成であり、実施例1と共通する構成については、説明を省略する。この点は、以下の実施例2〜実施例6においても同様である。
第1の基板101、第2の基板102及び第3の基板103の構成材料としては、実施例1と同様、例えばアルミナや窒化アルミ等のセラミックを用いてもよく、ガラスエポキシ樹脂等の有機材料を用いてもよい。以下の説明では、第1の基板101及び第3の基板103をビルドアップ基板とし、第2の基板102をコア基板とした例について説明する。
第3の基板103は、第4の金属層106、第7の金属層116を介して、第2の基板102上に積層されている。第3の基板103には、第4の金属層106、第7の金属層116が設けられた面と反対側の面に、第5の金属層107が設けられている。第3の基板103内部には、第4の金属層106と第5の金属層107とを電気的に接続する第3のビア110が複数個設けられており、複数の第3のビア110により第3のビアパタン集合体110Aが形成されている。
第3の基板103には、第4の金属層106、第7の金属層116が設けられた面と反対側の面に、第5の金属層107と離間して、第8の金属層117が設けられている。第3の基板103内部には、第7の金属層116と第8の金属層117とを電気的に接続する第6のビア120が複数個設けられており、複数の第6のビア120により第6のビアパタン集合体120Aが形成されている。
ビルドアップ基板である第1の基板101及び第3の基板103が有機樹脂材料により形成されている場合には、これらの基板内に形成される、第1のビア108、第3のビア110、第4のビア118、第6のビア120は、レーザ加工により形成するビアホール(Laser Via Hole: 以下、LVHという。)等とすることができる。その形態は、空洞を有するスルーホール(Through Hole: TH)としても良いし、空洞を樹脂材料や金属材料で充填しても良い。
ビルドアップ基板である第1の基板101及び第3の基板103の厚さとしては、特に限定されないが、通常0.05〜0.2mm程度に形成される。また、この場合、LVHの穴径やピッチについても特に限定されないが、通常0.05〜0.5mmの範囲で設計される。
また、コア基板である第2の基板102については、これらの基板内に形成される第2のビア109、第5のビア119は、ドリル加工により形成するビアホール(Interstitial Via Hole: IVH)等とすることができる。
コア基板である第2の基板102の厚さとしては、特に限定されないが、通常0.3〜2mm程度と、上記したビルドアップ基板より厚く形成される。また、IVHの穴径やピッチについては、基板の厚さに応じて適宜調整されるため特に限定されないが、通常0.1〜2mm程度の範囲で設計される。
第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A及び第3のビアパタン集合体110Aは、それぞれ、第1の基板101と第2の基板102と第3の基板103との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れるように、図2(b)に示す積層断面における破線矢印で示す斜め方向(以下、第1の斜め方向という。)に延在するように設けられている。
実施例2に係る並列光モジュールによれば、実施例1に係る並列光モジュールにより得られる効果に加え、以下の効果を得ることができる。即ち、実施例2に係る並列光モジュールによれば、積層基板200において、第1の基板101の光素子アレイ112及び半導体集積回路素子111の実装面から、この実装面と反対側に積層された第3の基板103の表面にかけて、接続用のビア(第1のビア108、第2のビア109、第3のビア110)を設けている。このため、三層の積層基板を用いた場合においても、半導体集積回路素子111や光素子アレイ112から発生した熱を、各ビアを介して、これらの実装面と反対側の積層基板200表面に向けて放熱することができる。
また、実施例2に係る並列光モジュールによれば、ビルドアップ基板である第1の基板101及び第3の基板103内に、第1のビア108、第3のビア110、第4のビア118、第6のビア120が、微細な穴径又はピッチで形成されるため、半導体集積回路素子111から発する熱を、効率的に放熱することができる。
また、実施例2に係る並列光モジュールによれば、上記したように、第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A及び第3のビアパタン集合体110Aを、それぞれ、第1の基板101と第2の基板102と第3の基板103との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れる方向に延在させて設けることで、半導体集積回路素子111から発する熱が、第1のビアパタン集合体108A〜第3のビアパタン集合体110Aを介して、光素子アレイ112から離隔するように伝熱される。このため、三層の積層基板を用いた場合においても、半導体集積回路素子111の熱が光素子アレイ112に周り込むのを抑止することが出来る。
次に、実施例2に係る並列光モジュールの構成について、放熱性に関する検証を行った。図3に、実施例2に係る並列光モジュールにおける消費電力と光素子の温度との関係についてのシミュレーション結果を示す。
図3では、積層基板として以下の構成を有するものを用いた場合における、並列光モジュールの消費電力と光素子の温度との関係を検証した結果について示した。即ち、積層基板として、図2(b)のA−A’断面図で示すように、4層の金属層を配線層として形成し、ビルドアップ基板である第1の基板101及び第3の基板103にLVH(ビア間ピッチ:0.1mm)を形成し、コア基板である第2の基板102にIVH(ビア間ピッチ:0.6mm)を形成したものを用いた場合について検証した。
また、図2では、並列光モジュールを収容するケースとして、Al材料製のケースを使用した場合について検証した。ケースの底面積は約12cm2とした。また、ケース温度Tcは、並列光モジュールの通常の動作環境温度の最大値である70℃とし、風速2.5m/sで強制空冷により冷却することを前提として検証を行った。
図3に示す検証結果より、並列光モジュールの消費電力の最大である7.1W時(25Gbps×12chの並列光モジュール相当)においても、ケース温度Tcに対する光素子の温度上昇分は6℃程度であった。一般的な並列光モジュールに求められる仕様としては、ケース温度Tcに対する光素子温度の温度上昇が10℃以内程度であれば良いとされている。従って、図3により、図2に示す構成の並列光モジュールが、放熱特性において問題無いレベルを得られることが示された。以上の結果から、実施例2に示すビアの設置形態を適用した並列光モジュールでは、実装面積の小面積化と、高い放熱特性とを両立することが可能となる。
図4(a)は、実施例3に係る並列光モジュールの下面斜視図を示し、図4(b)に、図4(a)のA−A’断面図を示す。図4に示す並列光モジュールは、図2に示す並列光モジュールにおいて、第4のビア118により形成される第4のビアパタン集合体118Aと、第5のビア119により形成される第5のビアパタン集合体119Aと、第6のビア120により形成される第6のビアパタン集合体120Aの設置形態を変更した点、及び第2の金属層102における光素子アレイ112の実装位置を変更した点以外は、実施例1と同様である。
即ち、実施例3に係る光モジュールでは、第4のビアパタン集合体118A、第5のビアパタン集合体119A及び第6のビアパタン集合体120Aは、それぞれ、第1の基板101と第2の基板102と第3の基板103との積層方向に向けて半導体集積回路素子111から離れるように、かつ上記した第1の斜め方向(第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A及び第3のビアパタン集合体110Aの延在方向)と異なる方向となるように、図4(b)に示す積層断面における破線矢印で示す斜め方向(以下、第2の斜め方向という。)に延在するように設けられている。
即ち、第2のビアパタン集合体109Aと第5のビアパタン集合体119Aとの間の距離は、第1のビアパタン集合体108Aと第4のビアパタン集合体118Aとの間の距離より大きくなるように設けられており、第3のビアパタン集合体110Aと第6のビアパタン集合体120Aとの間の距離は、第2のビアパタン集合体109Aと第5のビアパタン集合体119Aとの間の距離より大きくなるように設けられている。
実施例3に係る並列光モジュールによれば、実施例1及び実施例2に係る並列光モジュールにより得られる効果に加え、以下の効果を得ることができる。即ち、実施例3に係る並列光モジュールによれば、半導体集積回路素子111から発する熱は、第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A、及び第3のビアパタン集合体110Aを介して、光素子アレイ112から離隔するように第1の斜め方向に伝熱するとともに、レーザダイオード等の光素子アレイ112から発する熱は、第4のビアパタン集合体118A、第5のビアパタン集合体119A、第6のビアパタン集合体120Aを介して、半導体集積回路素子111から離隔するように第2の斜め方向に伝熱する。このため、半導体集積回路素子111の熱が光素子アレイ112に周り込むのを抑止し、かつ光素子アレイ112から発する熱についても、半導体集積回路素子111からの熱に干渉されることなく、積層基板300の表面に高効率で放熱することが可能となる。
また、実施例3に係る並列光モジュールでは、光素子アレイ112を、第2の金属層114における第4のビア118の直下以外の領域に実装している。上記した構成とすることで、ビアパタン形成により発生する、第2の金属層114表面の凹凸やうねりが少ない領域に、光素子アレイ112が搭載される。これにより、光素子アレイ112の搭載部分の平坦性が維持されるため、光素子アレイ112と光コネクタ間の安定な光接続を成すことが可能となる。
なお、図4に示す光素子アレイ112の設置形態に関しては、実施例1〜2及び後述する実施例4〜6の構成に適用することも可能である。
図5(a)は、実施例4に係る並列光モジュールの下面斜視図を示し、図5(b)に、図5(a)のA−A’断面図を示す。図5に示す光モジュールは、図4に示す並列光モジュールにおいて、第1の金属層104、第3の金属層105、第4の金属層106、第5の金属層107について、それぞれの面積の関係を規定した点以外は、実施例3と同様である。
即ち、実施例4に係る並列光モジュールでは、第1の金属層104の面積をa、第3の金属層105の面積をb、第4の金属層106の面積をc、第5の金属層107の面積をdとしたとき、a、b、c及びdが、a<b<c<dの関係を有するように、第1の金属層104、第3の金属層105、第4の金属層106、第5の金属層107を設けている。第1の金属層104の面積aは、集積回路素子のサイズ等にもよるが、大凡10〜500mm2の範囲で設けられる。
実施例4に係る並列光モジュールによれば、実施例1乃至実施例3に係る並列光モジュールにより得られる効果に加え、以下の効果を得ることができる。即ち、実施例4に係る並列光モジュールは、実施例1乃至3と同様、第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A、第3のビアパタン集合体110Aを、それぞれ、第1の基板101と第2の基板102と第3の基板103との積層方向に向けて光素子アレイ112から離れるように、図5(b)の積層断面における破線矢印で示す第1の斜め方向に延在させて設けている。このような構成において、第1の金属層104、第3の金属層105、第4の金属層106、第5の金属層107を、第1の基板101、第2の基板102及び第3の基板103の積層方向に向かうにしたがい、その設置面積が大きくなるように設けることで、半導体集積回路素子111から発する熱を、第1のビアパタン集合体108A、第2のビアパタン集合体109A、第3のビアパタン集合体110Aを介して、積層基板400の積層方向に向けて、さらに効率良く放熱することが可能となる。
図6は、実施例5に係る並列光モジュールの断面構成を示す図である。なお、図6に示す断面図は、図2(b)に示す並列光モジュールの積層基板200に、光コネクタ及び放熱部材を設置した状態を示している。
実施例5に係る並列光モジュールでは、第1の基板101に設けられた光素子アレイ112から第1の基板101の法線方向に出射される光の光路上、又は第1の基板101の法線方向から光素子アレイ112に入射する光の光路上に、光ファイバ506付きの光コネクタ505が載置されている。
実施例5に係る並列光モジュールでは、光素子アレイ112が、電気信号を光信号に変換するレーザダイオード素子アレイである場合には、第1の基板101に対して信号光を垂直方向に出射する表面出射型レーザダイオードを光素子アレイ112として実装し、光素子アレイ112が、光信号を受信して電気信号に変換する受光素子アレイである場合には、第1の基板101の垂直方向から信号光が光素子アレイ112に入射する表面入射型受光ダイオードを、光素子アレイ112として実装した場合について説明する。
光コネクタ505は、光素子アレイ112の表面出射型レーザダイオードからそれぞれ第1の基板101に対して垂直方向に出射されて、第1の基板101に対して法線方向に伝播する光を水平方向に光路変換し、又は光ファイバ506から出射されて第1の基板101に対して水平方向に伝播する光を、垂直方向に光路変換するミラー503と、光素子アレイ112の各チャンネルに対応し、光素子アレイ112から出射される光又は素子アレイ112に入射する光を集光するレンズ504とが集積された構造を有している。
また、積層基板200において、光コネクタ505を設置した、第1の基板101側の面と反対側の面である、第3の基板103側の面上には、熱伝導性を有する絶縁フィルム501を介して、金属製の放熱部材500(ヒートシンク)が載置されている。
絶縁フィルム501の材料に関しては、熱伝導性を有するものであれば特に限定されないが、熱伝導率が1〜数十W/m・K程度、厚さが0.1〜0.5mm程度の、一般的に使用される放熱用シートを用いるのが望ましい。放熱部材500についても、熱伝導率が数百W/m・K以上の、一般的に使用されるアルミニウム(Al)製、銅(Cu)製、又はSUS製のものを用いるのが望ましい。
実施例5に係る光モジュールでは、半導体集積回路素子111からの熱は、積層基板200内に設けた第1のビア108、第2のビア109、第3のビア110及び放熱部材500を介して、積層基板200の上面側に高効率に放熱される。
実施例5に係る並列光モジュールによれば、光素子アレイ112と光学的に接続する光コネクタ505を、積層基板200における第1の基板101側に設置し、放熱部材500を積層基板200における第3の基板103側に設置している。即ち、放熱部材500と光コネクタ505とを、それぞれ別々の面に搭載している。従って、両者の熱的な干渉を回避しつつ、並列光モジュール全体の実装面積の小面積化と、高い放熱特性との両立が可能となる。
また、放熱部材500には、溝部502が設けられている。放熱部材500は、第5の金属層107を介して第3のビア110と接触する部分と、第8の金属層117を介して第6のビア120と接触する部分との間に溝部502が配置されるように、第3の基板103の表面上に設置されている。
上記した構成とすることで、半導体集積回路素子111から、第1のビア108乃至第3のビア110を介して伝達する熱と、光素子アレイ112から、第4のビア118乃至第6のビア120を介して伝達する熱とが、溝部502によって空間的に熱隔離される。従って、半導体集積回路素子111からの熱が光素子112に伝達するのをさらに効果的に抑制することが可能となる。
図7(a)は、実施例6に係る並列光モジュールの下面斜視図を示し、図7(b)に、図7(a)のA−A’断面図を示し、図7(c)に、図7(a)のB−B’断面図を示す。実施例6に係る並列光モジュールは、図7(a)及びそのA−A’断面図である図7(b)に示すように、第1の基板101に設けた第1の金属層104上に、半導体集積回路素子としてレーザドライバ回路602が実装され、第1の基板101に設けた第4の金属層114上に、光素子アレイとして、レーザダイオード素子アレイ601が実装されている。なお、図7において、A−A’断面図で示す領域は、上記の点以外は図2(a)、(b)で示したのと同様の構成を有している。
レーザドライバ回路602は、レーザダイオード素子アレイ601の各レーザダイオード素子に電気信号を入力し、かつこの電気信号のパターンに対応した光信号が出力されるようにバイアス電流を印加して、各レーザダイオード素子を駆動するものである。また、レーザダイオード素子アレイ601の各レーザダイオード素子は、第1の基板101に対して信号光を垂直方向に出射する表面出射型レーザダイオードである。レーザダイオード素子アレイ601の各レーザダイオード素子とレーザドライバ回路602とは、導体ワイヤ121を介して電気的に接続されている。
また、図7(a)及びそのB−B’断面図である図7(c)に示すように、第1の基板101上には、第1の金属層104から離れた位置に、第9の金属層604が設けられており、第9の金属層604上には、半導体集積回路素子としてトランスインピーダンス増幅回路603が実装されている。また、第1の基板101上には、第4の金属層114から離れた位置に、第10の金属層605が設けられており、第10の金属層605上には、光素子アレイとして、表面入射型の受光ダイオード素子アレイ600が載置されている。
トランスインピーダンス増幅回路603は、受光ダイオード素子アレイ600の各受光ダイオード素子からの電気信号を増幅する機能を有する。受光ダイオード素子アレイ600の各受光ダイオード素子は、第1の基板101の垂直方向から信号光が受光ダイオード素子に入射する表面入射型受光ダイオードである。受光ダイオード素子アレイ600の各受光ダイオード素子とトランスインピーダンス増幅回路603とは、導体ワイヤ619を介して電気的に接続されている。
図7(a)に示すように、レーザダイオード素子アレイ601の各レーザダイオード素子(発光部)と受光ダイオード素子アレイ600の各受光ダイオード素子(受光部)とは、x−x’で示す一直線上に並ぶように実装されている。そして、レーザドライバ回路602とトランスインピーダンス増幅回路603とは、このx−x’線を挟んで対向するように実装されている。
なお、図7(c)のB−B’断面図に示すように、第9の金属層604には、第1の基板101、第2の基板102及び第3の基板103にそれぞれ設けられた、第7のビア610、第8のビア612、第9のビア613により、第11の金属層611、第12の金属層608、第13の金属層609が電気的に接続されている。第7のビア610、第8のビア612及び第9のビア613の設置形態は、A−A’断面図における第1のビア108、第2のビア109及び第3のビア110と同様に、それぞれのビアパタン集合体が、第1の基板101と第2の基板102と第3の基板103との積層方向に向けて受光ダイオード素子アレイ600から離れるように、図7(b)に示す積層断面における破線矢印で示す斜め方向に延在するように設けられている。
また、第10の金属層605には、第1の基板101、第2の基板102及び第3の基板103にそれぞれ設けられた、第10のビア607、第11のビア617、第12のビア618により、第14の金属層614、第15の金属層615、第16の金属層616が電気的に接続されている。
実施例6に係る並列光モジュールによれば、送信部となるレーザダイオード素子アレイ601及びレーザドライバ回路602と、受信部となる受光ダイオード素子アレイ600及びトランスインピーダンス増幅回路603とを、同一の基板面である第1の基板101上に設置することにより、実装面積の小面積化と光モジュールにおける高い放熱特性の両立が可能となる。
また、実施例6に係る並列光モジュールによれば、図7(b)のA−A’断面図に示すように、レーザドライバ回路602から発する熱は、第1のビア108乃至第3のビア110を介して、第1の基板101乃至第3の基板103の積層方向に向けて、図7(b)における破線矢印で示す方向に放熱される。
さらに図7(c)のB−B’断面図に示すように、トランスインピーダンス増幅回路603から発する熱は、第7のビア610乃至第9のビア613を介して、
第1の基板101乃至第3の基板103の積層方向に向けて、図7(c)における破線矢印で示す方向に放熱される。
第1の基板101乃至第3の基板103の積層方向に向けて、図7(c)における破線矢印で示す方向に放熱される。
このように、レーザドライバ回路602から発する熱とトランスインピーダンス増幅回路603から発する熱は、それぞれ異なる方向に放熱されるため、送信部と受信部間における熱の干渉の影響を回避することが可能である。
さらに、レーザドライバ回路602とトランスインピーダンス増幅回路603とは、x−x’線を挟んで対向するように実装されている。このため、これらの回路をx−x’線に関して同じ側に設置した場合と比較して、レーザドライバ回路602から発する熱とトランスインピーダンス増幅回路603から発する熱との干渉を、より高精度に回避することが可能となる。
以上説明した実施例1〜実施例6に係る並列光モジュールでは、2層又は3層の積層基板を用いた場合を例に説明したが、積層基板としては、4層以上の積層基板を用いることも可能である。
100、200、300、400、800…積層基板、101…第1の基板、102…第2の基板、103…第3の基板、104…第1の金属層、105…第3の金属層、106…第4の金属層、107…第5の金属層、108…第1のビア、109…第2のビア、110…第3のビア、111…半導体集積回路素子111、112…光素子アレイ、113…信号線路パタン、114…第2の金属層、115…第6の金属層、116…第7の金属層、117…第8の金属層、118…第4のビア、119…第5のビア、120…第6のビア、121、619…導体ワイヤ、500…放熱部材、501…熱伝導性フィルム、502…溝部、503…光路変換ミラー、504…レンズ、505…光コネクタ、506…光ファイバ、600…受光ダイオード素子アレイ、601…レーザダイオード素子アレイ、602…レーザドライバ回路、603…トランスインピーダンス増幅回路
Claims (12)
- 一方の面に第1の金属層及び該第1の金属層と離間した第2の金属層が設けられ、他方の面に第3の金属層が設けられた第1の基板と、
前記第3の金属層を介して前記第1の基板上に積層され、前記第3の金属層が設けられた面と反対側の面に第4の金属層が設けられた第2の基板と、
前記第1の金属層上に実装された半導体集積回路素子と、
前記第2の金属層上に実装された光素子アレイと、を有し、
前記第1の基板には、前記第1の金属層と前記第3の金属層とを電気的に接続する第1のビアが複数個設けられ、該複数の第1のビアにより第1のビアパタン集合体が形成され、
前記第2の基板には、前記第3の金属層と前記第4の金属層とを電気的に接続する第2のビアが複数個設けられ、該複数の第2のビアにより第2のビアパタン集合体が形成され、
前記第1のビアパタン集合体及び前記第2のビアパタン集合体は、前記第1の基板と前記第2の基板との積層方向に向けて前記光素子アレイから離れる方向に延在するように設けられていることを特徴とする並列光モジュール。 - 前記第1の金属層は接地電位に保持され、前記第2の金属層は前記第1の金属層と電気的に絶縁されていることを特徴とする請求項1に記載の並列光モジュール。
- 前記第4の金属層を介して前記第2の基板上に積層され、前記第4の金属層が設けられた面と反対側の面に第5の金属層が設けられた第3の基板を有し、前記第3の基板には、前記第4の金属層と前記第5の金属層とを電気的に接続する第3のビアが複数個設けられ、該複数の第3のビアにより第3のビアパタン集合体が形成され、
前記第1のビアパタン集合体、前記第2のビアパタン集合体及び前記第3のビアパタン集合体は、前記第1の基板と前記第2の基板と前記第3の基板との積層方向に向けて前記光素子アレイから離れる方向に延在するように設けられていることを特徴とする請求項1に記載の並列光モジュール。 - 前記第1の基板には、前記第2の金属層が設けられた面と反対側の面に、第6の金属層が前記第3の金属層と離間して設けられており、かつ前記第2の金属層と前記第6の金属層とを電気的に接続する第4のビアが複数個設けられ、該複数の第4のビアにより第4のビアパタン集合体が形成され、
前記第2の基板には、前記第6の金属層が設けられた面と反対側の面に、第7の金属層が前記第4の金属層と離間して設けられており、かつ前記第6の金属層と前記第7の金属層とを電気的に接続する第5のビアが複数個設けられ、該複数の第5のビアにより第5のビアパタン集合体が形成され、
前記第3の基板には、前記第7の金属層が設けられた面と反対側の面に、第8の金属層が前記第5の金属層と離間して設けられており、かつ前記第7の金属層と前記第8の金属層とを電気的に接続する第6のビアが複数個設けられ、該複数の第6のビアにより第6のビアパタン集合体が形成され、
第4のビアパタン集合体、第5のビアパタン集合体及び第6のビアパタン集合体は、前記第1の基板と前記第2の基板と前記第3の基板との積層方向に向けて前記半導体集積回路素子から離れる方向に、かつ第1のビアパタン集合体、第2のビアパタン集合体及び第3のビアパタン集合体の延在方向と異なる方向に延在するように設けられていることを特徴とする請求項3に記載の並列光モジュール。 - 前記第2の基板は、有機樹脂材料を有するコア基板であり、前記第1の基板及び前記第3の基板は、有機樹脂材料を有するビルドアップ基板であることを特徴とする請求項3又は4に記載の並列光モジュール。
- 前記第1の金属層の面積をa、前記第3の金属層の面積をb、前記第4の金属層の面積をc、前記第5の金属層の面積をdとしたとき、a、b、c及びdは、a<b<c<dの関係を有することを特徴とする請求項3記載の並列光モジュール。
- 前記光素子アレイは、前記第2の金属層における前記第4のビアの直下以外の領域に実装されていることを特徴とする請求項4記載の並列光モジュール。
- 前記第1の基板と前記第2の基板とを有する積層構造における、該第1の基板により形成される面と反対側の面上に放熱部材が設置されていることを特徴とする請求項1記載の並列光モジュール。
- 前記第3の基板の表面上に、溝部を有する放熱部材が設置されており、
前記放熱部材は、前記第5の金属層を介して前記第3のビアと接触する部分と、前記第8の金属層を介して前記第6のビアと接触する部分との間に前記溝部が配置されるように設置されていることを特徴とする請求項4に記載の並列光モジュール。 - 前記光素子アレイは、表面出射型レーザダイオード又は表面入射型受光ダイオードであり、
前記表面出射型レーザダイオードから前記第1の基板の法線方向に出射される光の光路上、又は前記第1の基板の法線方向から前記表面入射型受光ダイオードに入射する光の光路上に、伝播光の光路を変換するミラーと、前記伝播光を集光するレンズとを有する光コネクタを設置したことを特徴とする請求項8に記載の並列光モジュール。 - 前記光素子アレイが、電気信号を光信号に変換するレーザダイオード素子アレイである場合には、前記レーザダイオード素子アレイには、前記半導体集積回路素子として、前記レーザダイオード素子アレイの各レーザダイオード素子に電気信号を入力し、かつ該電気信号のパターンに対応した光信号が出力されるように前記各レーザダイオード素子を駆動するレーザドライバ回路が導体ワイヤにより接続されており、
前記光素子アレイが、光信号を受信して電気信号に変換する前記受光素子アレイである場合には、前記受光素子アレイには、前記半導体集積回路素子として、前記受光素子アレイの各受光素子からの電気信号を増幅するトランスインピーダンス増幅回路が、導体ワイヤにより接続されていることを特徴とする請求項1に記載の並列光モジュール。 - 前記レーザダイオード素子アレイ及び前記レーザドライバ回路が、前記受光素子アレイ及び前記トランスインピーダンス増幅回路が実装された面と同じ面に実装されており、
前記レーザドライバ回路と前記トランスインピーダンス増幅回路とは、前記レーザダイオード素子アレイの発光部を結ぶ直線又は前記受光素子アレイの受光部を結ぶ直線を挟んで対向するように実装されていることを特徴とする請求項11に記載の並列光モジュール。
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