JP2018125342A - 熱処理装置および熱処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
10 ホットプレート
20 メインヒータ
20a 中心メインヒータ
20b 中間メインヒータ
20c 周縁メインヒータ
21 主電力供給部
30 補助ヒータ
31 補助電力供給部
40 温度センサ
50 カバー
60 ヒータ制御部
Claims (6)
- 基板を加熱する熱処理装置であって、
その上面に基板を載置する平板形状のホットプレートと、
前記ホットプレートに内蔵され、前記ホットプレートを加熱するメインヒータと、
前記ホットプレートに内蔵され、前記ホットプレートを加熱する補助ヒータと、
前記ホットプレートの温度を測定する温度測定部と、
前記メインヒータおよび前記補助ヒータの出力を制御するヒータ制御部と、
を備え、
前記ヒータ制御部は、前記ホットプレートに熱外乱が生じたときに、前記メインヒータによる加熱に加えて前記補助ヒータの出力を増加させて前記補助ヒータによる前記ホットプレートの加熱を行わせることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1記載の熱処理装置において、
前記ヒータ制御部は、前記ホットプレートに熱外乱が生じて前記メインヒータの出力が飽和したときに不足出力分を前記補助ヒータに出力させることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の熱処理装置において、
前記補助ヒータは、少なくとも前記ホットプレートに載置される基板の下面の全面に対向するように、前記メインヒータの下方に設けられることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項3記載の熱処理装置において、
前記メインヒータは複数のゾーンに分割されることを特徴とする熱処理装置。 - 基板を加熱する熱処理方法であって、
その上面に基板を載置する平板形状のホットプレートに内蔵されたメインヒータによって前記ホットプレートを加熱する主加熱工程と、
前記ホットプレートに熱外乱が生じたときに、前記メインヒータによる加熱に加えて前記ホットプレートに内蔵された補助ヒータによって前記ホットプレートを加熱する補助加熱工程と、
を備えることを特徴とする熱処理方法。 - 請求項5記載の熱処理方法において、
前記補助ヒータは、前記ホットプレートに熱外乱が生じて前記メインヒータの出力が飽和したときに不足出力分を出力することを特徴とする熱処理方法。
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