JP2018120910A - Retainer - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain deterioration of uniformity of temperature distribution of a surface of a ceramics plate.SOLUTION: A retainer comprises: a ceramics plate having a first surface with an almost circular plane shape; a heater electrode arranged in each segment dividing the ceramics plate into plural pieces; and a pair of power feeding terminals. The heater electrode comprises a pair of heater pad parts constituting both ends of the heater electrode, and a heater line part connecting a pair of heater pad parts. Also, the retainer comprises: a first via for electrically connecting one heater pad part of each heater electrode to one of the pair of power feeding terminals; and a second via arranged at a position in line with the first via in a circumferential direction, and electrically connecting the other heater pad part of each heater electrode to the other of the pair of power feeding terminals. A cross section area of the heater pad part is larger than that of the heater line part. The heater line part includes plural folding portions positioned in a region between the pair of heater pad parts in the circumferential direction.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本明細書に開示される技術は、対象物を保持する保持装置に関する。   The technology disclosed in this specification relates to a holding device that holds an object.

例えば半導体を製造する際にウェハを保持する保持装置として、静電チャックが用いられる。静電チャックは、セラミックス板と、セラミックス板の内部に設けられたチャック電極とを備えており、チャック電極に電圧が印加されることにより発生する静電引力を利用して、セラミックス板の表面(以下、「吸着面」という)にウェハを吸着して保持する。   For example, an electrostatic chuck is used as a holding device for holding a wafer when manufacturing a semiconductor. The electrostatic chuck includes a ceramic plate and a chuck electrode provided inside the ceramic plate, and utilizes the electrostatic attraction generated when a voltage is applied to the chuck electrode. Hereinafter, the wafer is sucked and held on the “sucking surface”.

静電チャックに保持されたウェハの温度分布が不均一になると、ウェハに対する各処理(成膜、エッチング等)の精度が低下するおそれがあるため、静電チャックにはウェハの温度分布をできるだけ均一にする性能が求められる。そのため、静電チャックには、抵抗発熱体により構成されたヒータ電極が設けられる(例えば、特許文献1参照)。ヒータ電極は、ヒータ電極の両端を構成する一対のヒータパッド部と、一対のヒータパッド部の間を結ぶ線状のヒータ線部とを備える。一対のヒータパッド部の内の一方のヒータパッド部は、ビア等を介して一対の給電端子の一方の給電端子に電気的に接続され、一対のヒータパッド部の内の他方のヒータパッド部は、他のビア等を介して一対の給電端子の他方の給電端子に電気的に接続される。電源から給電端子およびビア等を介してヒータ電極に電圧が印加されると、ヒータ電極が発熱することによってセラミックス板が加熱される。このようなヒータ電極による加熱によって、セラミックス板の吸着面の温度制御が行われる。   If the temperature distribution of the wafer held on the electrostatic chuck becomes non-uniform, the accuracy of each process (film formation, etching, etc.) on the wafer may be reduced. Performance is required. Therefore, the electrostatic chuck is provided with a heater electrode composed of a resistance heating element (see, for example, Patent Document 1). The heater electrode includes a pair of heater pad portions constituting both ends of the heater electrode and a linear heater wire portion connecting the pair of heater pad portions. One heater pad portion of the pair of heater pad portions is electrically connected to one power supply terminal of the pair of power supply terminals via vias or the like, and the other heater pad portion of the pair of heater pad portions is And electrically connected to the other power supply terminal of the pair of power supply terminals via other vias or the like. When a voltage is applied from the power source to the heater electrode through the power supply terminal and vias, the ceramic electrode is heated by the heat generation of the heater electrode. The temperature control of the adsorption surface of the ceramic plate is performed by such heating by the heater electrode.

特開2016−129183号公報JP 2006-129183 A

セラミックス板の吸着面の温度制御を精度良く行うため、セラミックス板の全部または一部が複数の仮想的な領域(以下、「セグメント」という)に分割され、各セグメントにヒータ電極が配置された構成が採用されることがある。セグメントの設定態様としては、例えば、セラミックス板の全部または一部を、吸着面の中心点を中心とする円周方向に並ぶ複数のセグメントに分割する態様が用いられる。このような構成によれば、各セグメントに配置されたヒータ電極を個別に制御することにより、セグメント毎に温度制御を行うことができ、その結果、セラミックス板の吸着面の温度制御を精度良く行うことができる。   In order to accurately control the temperature of the adsorption surface of the ceramic plate, all or part of the ceramic plate is divided into a plurality of virtual areas (hereinafter referred to as “segments”), and heater electrodes are arranged in each segment. May be adopted. As the segment setting mode, for example, a mode is used in which all or part of the ceramic plate is divided into a plurality of segments arranged in the circumferential direction around the center point of the suction surface. According to such a configuration, by controlling the heater electrode arranged in each segment individually, the temperature control can be performed for each segment, and as a result, the temperature control of the adsorption surface of the ceramic plate is accurately performed. be able to.

上述した構成において、ヒータ電極の両端を構成する一対のヒータパッド部の断面積がヒータ線部の断面積より大きいと、ヒータパッド部における発熱量がヒータ線部の発熱量より小さくなる。そのため、このような場合には、各セグメントにおけるヒータパッド部周辺の温度が低くなり、セグメント内の温度分布の均一性が低下し、ひいては、セラミックス板の吸着面における温度分布の均一性が低下するおそれがある。   In the configuration described above, if the cross-sectional area of the pair of heater pads constituting both ends of the heater electrode is larger than the cross-sectional area of the heater wire, the amount of heat generated in the heater pad becomes smaller than the amount of heat generated in the heater wire. Therefore, in such a case, the temperature around the heater pad in each segment is lowered, the uniformity of the temperature distribution in the segment is lowered, and consequently the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface of the ceramic plate is lowered. There is a fear.

なお、このような課題は、静電引力を利用してウェハを保持する静電チャックに限らず、セラミックス板を備え、セラミックス板の表面上に対象物を保持する保持装置一般に共通の課題である。   Such a problem is not limited to the electrostatic chuck that holds the wafer using electrostatic attraction, but is a common problem for holding devices that include a ceramic plate and hold an object on the surface of the ceramic plate. .

本明細書では、上述した課題を解決することが可能な技術を開示する。    In this specification, the technique which can solve the subject mentioned above is disclosed.

本明細書に開示される技術は、例えば、以下の形態として実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification can be realized as, for example, the following forms.

(1)本明細書に開示される保持装置は、略円形平面状の第1の表面を有するセラミックス板と、前記セラミックス板の少なくとも一部を前記第1の表面の中心点を中心とする円周方向に並ぶ複数のセグメントに分割したときの各前記セグメント内に配置された抵抗発熱体であるヒータ電極であって、ヒータ電極の両端を構成する一対のヒータパッド部と、前記一対のヒータパッド部の間を結ぶ線状のヒータ線部と、を備えるヒータ電極と、一対の給電端子と、各前記ヒータ電極について設けられ、前記一対のヒータパッド部の一方のヒータパッド部と前記一対の給電端子の一方の給電端子とを電気的に接続する第1のビアと、各前記ヒータ電極について設けられ、前記円周方向において前記第1のビアと並ぶ位置に配置され、前記一対のヒータパッド部の他方のヒータパッド部と前記一対の給電端子の他方の給電端子とを電気的に接続する第2のビアと、を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、前記一対のヒータパッド部の断面積は、前記ヒータ線部の断面積よりも大きく、少なくとも1つの前記ヒータ電極である特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と前記他方のヒータパッド部との間の領域に位置する複数の折り返し部分を含む。本保持装置によれば、特定ヒータ電極のヒータ線部が、円周方向において一方のヒータパッド部と他方のヒータパッド部との間の領域に位置する複数の折り返し部分を含むため、一方のヒータパッド部と他方のヒータパッド部との間の距離を十分に取ることができると共に、一方のヒータパッド部と他方のヒータパッド部との間の領域におけるヒータ線部の発熱量を十分に確保することができる。そのため、本保持装置によれば、特定ヒータ電極が配置されたセグメントにおける一方のヒータパッド部と他方のヒータパッド部との間の領域の温度が過度に低くなることを抑制することができ、その結果、セグメント内の温度分布の均一性が低下することを抑制することができ、ひいては、セラミックス板の第1の表面における温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。 (1) A holding device disclosed in the present specification includes a ceramic plate having a substantially circular flat first surface, and a circle having at least a part of the ceramic plate centered on a center point of the first surface. A heater electrode which is a resistance heating element disposed in each of the segments divided into a plurality of segments arranged in the circumferential direction, and a pair of heater pad portions constituting both ends of the heater electrode, and the pair of heater pads A heater electrode provided with a linear heater wire portion connecting between the portions, a pair of power supply terminals, and each heater electrode provided with one heater pad portion and the pair of power supplies A first via that electrically connects one power supply terminal of the terminal and each of the heater electrodes, and is disposed at a position aligned with the first via in the circumferential direction; A second via that electrically connects the other heater pad portion of the tape pad portion and the other power supply terminal of the pair of power supply terminals, and holds an object on the first surface of the ceramic plate In the holding device, the cross-sectional area of the pair of heater pad portions is larger than the cross-sectional area of the heater wire portion, and the heater wire portion of the specific heater electrode that is at least one of the heater electrodes is in the circumferential direction. It includes a plurality of folded portions located in a region between the one heater pad portion and the other heater pad portion. According to this holding device, the heater wire portion of the specific heater electrode includes a plurality of folded portions located in a region between one heater pad portion and the other heater pad portion in the circumferential direction. A sufficient distance can be secured between the pad portion and the other heater pad portion, and a sufficient amount of heat is generated in the heater wire portion in the region between the one heater pad portion and the other heater pad portion. be able to. Therefore, according to the present holding device, it is possible to suppress the temperature of the region between one heater pad portion and the other heater pad portion in the segment where the specific heater electrode is disposed from being excessively low, As a result, it can suppress that the uniformity of the temperature distribution in a segment falls, and can suppress that the uniformity of the temperature distribution in the 1st surface of a ceramic board falls by extension.

(2)上記保持装置において、前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向に略平行な第1の円周状部分であって、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と並び、かつ、前記一方のヒータパッド部に対して前記他方のヒータパッド部とは反対側の領域に位置する第1の円周状部分を含む構成としてもよい。本保持装置によれば、該一方のヒータパッド部とセグメントの境界線との間の距離を十分に取ることができるため、該一方のヒータパッド部が、該セグメントに隣接する他のセグメントのヒータパッド部に近付き過ぎることを抑制することができ、セラミックス板の第1の表面における温度分布の均一性の低下を効果的に抑制することができる。 (2) In the holding device, the heater wire portion of the specific heater electrode is a first circumferential portion substantially parallel to the circumferential direction, and the one heater pad portion in the circumferential direction. It is good also as a structure including the 1st circumferential part located in the area | region on the opposite side to said other heater pad part with respect to said one heater pad part. According to the present holding device, a sufficient distance can be secured between the one heater pad portion and the boundary line of the segment, so that the one heater pad portion is a heater of the other segment adjacent to the segment. It can suppress that it approaches a pad part too much, and can suppress the fall of the uniformity of the temperature distribution in the 1st surface of a ceramic board effectively.

(3)上記保持装置において、前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向に略平行な第2の円周状部分であって、前記円周方向において前記他方のヒータパッド部と並び、かつ、前記他方のヒータパッド部に対して前記一方のヒータパッド部とは反対側の領域に位置する第2の円周状部分を含む構成としてもよい。本保持装置によれば、該他方のヒータパッド部とセグメントの境界線との間の距離を十分に取ることができるため、該他方のヒータパッド部が、該セグメントに隣接する他のセグメントのヒータパッド部に近付き過ぎることを抑制することができ、セラミックス板の第1の表面における温度分布の均一性の低下をさらに効果的に抑制することができる。 (3) In the holding device, the heater wire portion of the specific heater electrode is a second circumferential portion substantially parallel to the circumferential direction, and the second heater pad portion in the circumferential direction. It is good also as a structure which contains the 2nd circumferential part located in the area | region on the opposite side to said one heater pad part with respect to said other heater pad part. According to the present holding device, a sufficient distance can be secured between the other heater pad portion and the boundary line of the segment, so that the other heater pad portion is a heater of another segment adjacent to the segment. It can suppress that it approaches a pad part too much, and can suppress further the fall of the uniformity of the temperature distribution in the 1st surface of a ceramic board more effectively.

(4)上記保持装置において、前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記一方のヒータパッド部に接続された第1のビア側部分であって、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と重ならない領域に、前記円周方向に略平行な複数の円周状部分を含む第1のビア側部分と、前記他方のヒータパッド部に接続された第2のビア側部分であって、前記円周方向において前記他方のヒータパッド部と重ならない領域に、前記円周方向に略平行な複数の円周状部分を含む第2のビア側部分と、前記第1のビア側部分と前記複数の折り返し部分とを接続する第1の接続部分であって、前記円周方向において前記第1のビア側部分の前記複数の円周状部分と前記第2のビア側部分の前記複数の円周状部分との間の領域に、前記円周方向に略直交する第1の直線状部分を含む第1の接続部分と、前記第2のビア側部分と前記複数の折り返し部分とを接続する第2の接続部分であって、前記円周方向において前記第1のビア側部分の前記複数の円周状部分と前記第2のビア側部分の前記複数の円周状部分との間の領域に、前記円周方向に略直交する第2の直線状部分であって、前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部の他の部分を介さずに前記第1の直線状部分と隣り合う第2の直線状部分を含む第2の接続部分と、を含むことを特徴とする構成としてもよい。本保持装置によれば、第2の直線状部分がヒータ電極のヒータ線部の他の部分を介さずに第1の直線状部分と隣り合っているため、セラミックス板に形成される貫通孔が、第1の直線状部分と第2の直線状部分との間の領域ではなく、第1の直線状部分より第1のビア側部分の側の領域や、第2の直線状部分より第2のビア側部分の側の領域に配置される可能性を高めることができる。ここで、貫通孔が第1の直線状部分と第2の直線状部分との間の領域に配置されると、貫通孔が第1の直線状部分や第2の直線状部分と干渉する可能性が高くなる。貫通孔と第1の直線状部分または第2の直線状部分との干渉を避けるために、第1の直線状部分または第2の直線状部分の形状を変更しようとすると、変更後の第1の直線状部分または第2の直線状部分がヒータ電極のヒータ線部を構成する他の部分(第1のビア側部分や第2のビア側部分等)に干渉するおそれがある。そのため、そのような構成では、ある大きさのセグメントにおいてヒータ電極のヒータ線部のパターンの微細化を実現しつつ、貫通孔等の配置の自由度を確保することができないおそれがある。これに対し、貫通孔が第1の直線状部分より第1のビア側部分の側の領域や第2の直線状部分より第2のビア側部分の側の領域に配置されると、貫通孔が第1のビア側部分や第2のビア側部分と干渉する可能性が高くなる。貫通孔と第1のビア側部分または第2のビア側部分との干渉を避けることは、第1のビア側部分または第2のビア側部分を構成する円周状部分の長さを短くするなどして比較的簡単に実現することができる。従って、本保持装置によれば、ヒータ電極のヒータ線部のパターンの微細化を実現しつつ、貫通孔等の配置の自由度を容易に確保することができる。 (4) In the holding device, the heater wire portion of the specific heater electrode is a first via side portion connected to the one heater pad portion, and the one heater pad portion in the circumferential direction. A first via side portion including a plurality of circumferential portions substantially parallel to the circumferential direction, and a second via side portion connected to the other heater pad portion in a region that does not overlap with the circumferential direction, A second via side portion including a plurality of circumferential portions substantially parallel to the circumferential direction in a region that does not overlap with the other heater pad portion in the circumferential direction; the first via side portion; A first connecting portion connecting a plurality of folded portions, wherein the plurality of circumferential portions of the first via side portion and the plurality of circles of the second via side portion in the circumferential direction; In the region between the circumferential parts, it is almost straight in the circumferential direction. A first connection portion including a first linear portion, a second connection portion connecting the second via-side portion and the plurality of folded portions, wherein the first connection portion in the circumferential direction is the first connection portion. In a region between the plurality of circumferential portions of the via-side portion and the plurality of circumferential portions of the second via-side portion, a second linear portion that is substantially orthogonal to the circumferential direction And a second connection portion including a second linear portion adjacent to the first linear portion without passing through another portion of the heater line portion of the specific heater electrode. It is good also as a structure. According to the holding device, since the second linear portion is adjacent to the first linear portion without passing through the other portion of the heater wire portion of the heater electrode, the through hole formed in the ceramic plate is , Not a region between the first linear portion and the second linear portion, but a region closer to the first via side portion than the first linear portion, and second from the second linear portion. The possibility of being arranged in the region on the side of the via side portion can be increased. Here, when the through hole is disposed in a region between the first linear portion and the second linear portion, the through hole may interfere with the first linear portion and the second linear portion. Increases nature. In order to avoid interference between the through-hole and the first linear portion or the second linear portion, if the shape of the first linear portion or the second linear portion is changed, the changed first The linear portion or the second linear portion may interfere with other portions (a first via side portion, a second via side portion, etc.) constituting the heater line portion of the heater electrode. Therefore, in such a configuration, there is a possibility that the degree of freedom of arrangement of the through-holes and the like cannot be ensured while realizing the miniaturization of the pattern of the heater wire portion of the heater electrode in a certain size segment. On the other hand, when the through hole is arranged in a region closer to the first via side portion than the first linear portion or a region closer to the second via side portion than the second linear portion, the through hole Is likely to interfere with the first via side portion and the second via side portion. Avoiding interference between the through-hole and the first via-side part or the second via-side part shortens the length of the circumferential part constituting the first via-side part or the second via-side part. It can be realized relatively easily. Therefore, according to the present holding device, it is possible to easily ensure the degree of freedom of arrangement of the through holes and the like while realizing miniaturization of the pattern of the heater wire portion of the heater electrode.

なお、本明細書に開示される技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、保持装置、静電チャック、CVDヒータ等のヒータ装置、真空チャック、それらの製造方法等の形態で実現することが可能である。   The technique disclosed in the present specification can be realized in various forms, for example, forms such as a holding device, an electrostatic chuck, a heater device such as a CVD heater, a vacuum chuck, and a manufacturing method thereof. Can be realized.

実施形態における静電チャック10の外観構成を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view showing roughly the appearance composition of electrostatic chuck 10 in an embodiment. 実施形態における静電チャック10のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XZ cross-sectional structure of the electrostatic chuck 10 in embodiment. 実施形態における静電チャック10のXY平面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XY plane structure of the electrostatic chuck 10 in embodiment. 1つのセグメントSEに配置された1つのヒータ電極500のXY断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows XY cross-sectional structure of one heater electrode 500 arrange | positioned at one segment SE. 比較例の静電チャック10におけるヒータ電極500Xの構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the structure of the heater electrode 500X in the electrostatic chuck 10 of a comparative example. 実施形態のセラミックス板100の吸着面S1の温度分布のシミュレーション結果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the simulation result of the temperature distribution of the adsorption surface S1 of the ceramic board 100 of embodiment. 比較例のセラミックス板100の吸着面S1の温度分布のシミュレーション結果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the simulation result of the temperature distribution of the adsorption surface S1 of the ceramic board 100 of a comparative example. 変形例におけるヒータ電極500aの構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows schematically the structure of the heater electrode 500a in a modification. 変形例におけるヒータ電極500bの構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the structure of the heater electrode 500b in a modification.

A.実施形態:
A−1.静電チャック10の構成:
図1は、実施形態における静電チャック10の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、実施形態における静電チャック10のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、実施形態における静電チャック10のXY平面構成を概略的に示す説明図である。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック10は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。図2には、図3のII−IIの位置における静電チャック10のXZ断面構成が示されており、図3には、静電チャック10を上方から見たときのXY平面構成が示されている。
A. Embodiment:
A-1. Configuration of the electrostatic chuck 10:
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an external configuration of the electrostatic chuck 10 in the embodiment, and FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing an XZ sectional configuration of the electrostatic chuck 10 in the embodiment. 3 is an explanatory diagram schematically showing an XY plane configuration of the electrostatic chuck 10 according to the embodiment. In each figure, XYZ axes orthogonal to each other for specifying the direction are shown. In this specification, for convenience, the positive direction of the Z-axis is referred to as the upward direction, and the negative direction of the Z-axis is referred to as the downward direction. However, the electrostatic chuck 10 is actually installed in an orientation different from such an orientation. May be. 2 shows an XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 at the position II-II in FIG. 3, and FIG. 3 shows an XY plane configuration when the electrostatic chuck 10 is viewed from above. ing.

静電チャック10は、対象物(例えばウェハW)を静電引力により吸着して保持する装置であり、例えば半導体製造装置の真空チャンバー内でウェハWを固定するために使用される。静電チャック10は、所定の配列方向(本実施形態では上下方向(Z軸方向))に並べて配置されたセラミックス板100およびベース部材200を備える。セラミックス板100とベース部材200とは、セラミックス板100の下面S2(図2参照)とベース部材200の上面S3とが上記配列方向に対向するように配置される。   The electrostatic chuck 10 is an apparatus that attracts and holds an object (for example, a wafer W) by electrostatic attraction, and is used, for example, to fix the wafer W in a vacuum chamber of a semiconductor manufacturing apparatus. The electrostatic chuck 10 includes a ceramic plate 100 and a base member 200 that are arranged in a predetermined arrangement direction (in this embodiment, the vertical direction (Z-axis direction)). The ceramic plate 100 and the base member 200 are disposed so that the lower surface S2 (see FIG. 2) of the ceramic plate 100 and the upper surface S3 of the base member 200 face each other in the arrangement direction.

セラミックス板100は、上述した配列方向(Z軸方向)に略直交する略円形平面状の上面(以下、「吸着面」という)S1を有する板状部材であり、セラミックス(例えば、アルミナや窒化アルミニウム等)により形成されている。セラミックス板100の直径は例えば50mm〜500mm程度(通常は200mm〜350mm程度)であり、セラミックス板100の厚さは例えば1mm〜10mm程度である。セラミックス板100の吸着面S1は、特許請求の範囲における第1の表面に相当する。また、本明細書では、Z軸に直交する方向(すなわち、吸着面S1に平行な方向)を「面方向」という。また、図3に示すように、面方向の内、吸着面S1の中心点P1を中心とする円周方向を「円周方向CD」といい、面方向の内、円周方向CDに直交する方向を「径方向RD」という。   The ceramic plate 100 is a plate-like member having a substantially circular planar upper surface (hereinafter referred to as “adsorption surface”) S1 substantially orthogonal to the arrangement direction (Z-axis direction) described above, and ceramics (for example, alumina or aluminum nitride). Etc.). The diameter of the ceramic plate 100 is, for example, about 50 mm to 500 mm (usually about 200 mm to 350 mm), and the thickness of the ceramic plate 100 is, for example, about 1 mm to 10 mm. The adsorption surface S1 of the ceramic plate 100 corresponds to the first surface in the claims. In the present specification, a direction perpendicular to the Z axis (that is, a direction parallel to the suction surface S1) is referred to as a “plane direction”. Further, as shown in FIG. 3, the circumferential direction around the center point P1 of the suction surface S1 in the surface direction is referred to as “circumferential direction CD”, and is orthogonal to the circumferential direction CD in the surface direction. The direction is referred to as “radial direction RD”.

図2に示すように、セラミックス板100の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成されたチャック電極400が設けられている。Z軸方向視でのチャック電極400の形状は、例えば略円形である。チャック電極400に電源(図示せず)から電圧が印加されると、静電引力が発生し、この静電引力によってウェハWがセラミックス板100の吸着面S1に吸着固定される。   As shown in FIG. 2, a chuck electrode 400 formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) is provided inside the ceramic plate 100. The shape of the chuck electrode 400 when viewed in the Z-axis direction is, for example, a substantially circular shape. When a voltage is applied to the chuck electrode 400 from a power source (not shown), an electrostatic attractive force is generated, and the wafer W is attracted and fixed to the attracting surface S1 of the ceramic plate 100 by the electrostatic attractive force.

また、図2に示すように、セラミックス板100の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された抵抗発熱体で構成された複数のヒータ電極500が設けられている。ヒータ電極500に電源(図示せず)から電圧が印加されると、ヒータ電極500が発熱することによってセラミックス板100が温められ、セラミックス板100の吸着面S1に保持されたウェハWが温められる。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。ヒータ電極500の構成およびヒータ電極500への給電のための構成については、後に詳述する。   In addition, as shown in FIG. 2, a plurality of heater electrodes 500 made of a resistance heating element formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum) are provided inside the ceramic plate 100. When a voltage is applied to the heater electrode 500 from a power source (not shown), the heater electrode 500 generates heat to warm the ceramic plate 100, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 100 is warmed. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized. The configuration of the heater electrode 500 and the configuration for supplying power to the heater electrode 500 will be described in detail later.

ベース部材200は、例えばセラミックス板100と同径の、または、セラミックス板100より径が大きい円形平面の板状部材であり、例えば金属(アルミニウムやアルミニウム合金等)により形成されている。ベース部材200の直径は例えば220mm〜550mm程度(通常は220mm〜350mm)であり、ベース部材200の厚さは例えば20mm〜40mm程度である。   The base member 200 is a circular flat plate-like member having the same diameter as the ceramic plate 100 or a larger diameter than the ceramic plate 100, and is formed of, for example, metal (aluminum, aluminum alloy, or the like). The diameter of the base member 200 is, for example, about 220 mm to 550 mm (usually 220 mm to 350 mm), and the thickness of the base member 200 is, for example, about 20 mm to 40 mm.

ベース部材200の内部には冷媒流路210が形成されている。冷媒流路210に冷媒(例えば、フッ素系不活性液体や水等)が流されると、ベース部材200が冷却され、後述する接着層300を介したベース部材200とセラミックス板100との間の伝熱によりセラミックス板100が冷却され、セラミックス板100の吸着面S1に保持されたウェハWが冷却される。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。   A coolant channel 210 is formed inside the base member 200. When a coolant (for example, a fluorine-based inert liquid or water) flows through the coolant channel 210, the base member 200 is cooled, and is transmitted between the base member 200 and the ceramic plate 100 via an adhesive layer 300 described later. The ceramic plate 100 is cooled by heat, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 100 is cooled. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized.

セラミックス板100とベース部材200とは、セラミックス板100の下面S2とベース部材200の上面S3との間に配置された接着層300によって互いに接合されている。接着層300は、例えばシリコーン系樹脂やアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の接着材により構成されている。接着層300の厚さは、例えば0.1mm〜1mm程度である。   The ceramic plate 100 and the base member 200 are joined to each other by an adhesive layer 300 disposed between the lower surface S2 of the ceramic plate 100 and the upper surface S3 of the base member 200. The adhesive layer 300 is made of an adhesive material such as a silicone resin, an acrylic resin, or an epoxy resin. The thickness of the adhesive layer 300 is, for example, about 0.1 mm to 1 mm.

A−2.ヒータ電極500等の詳細構成:
次に、ヒータ電極500の構成およびヒータ電極500への給電のための構成について詳述する。図3に示すように、本実施形態では、セラミックス板100に複数の仮想的な領域であるセグメントSEが設定されている。より詳細には、Z軸方向視で、セラミックス板100が、吸着面S1の中心点P1を中心とする同心円状の複数の第1の境界線BL1によって複数の仮想的な環状領域(ただし、中心点P1を含む領域のみは円状領域)に分割され、さらに各環状領域が、径方向RDに延びる複数の第2の境界線BL2によって円周方向CDに並ぶ複数の仮想的な領域であるセグメントSEに分割されている。このように、本実施形態では、セラミックス板100の一部(各環状領域)が、吸着面S1の中心点P1を中心とする円周方向CDに並ぶ複数のセグメントSEに分割されている。
A-2. Detailed configuration of the heater electrode 500 and the like:
Next, the configuration of the heater electrode 500 and the configuration for supplying power to the heater electrode 500 will be described in detail. As shown in FIG. 3, in the present embodiment, a plurality of virtual segments SE are set on the ceramic plate 100. More specifically, as viewed in the Z-axis direction, the ceramic plate 100 has a plurality of virtual annular regions (however, centered by a plurality of concentric first boundary lines BL1 around the center point P1 of the suction surface S1. Only the region including the point P1 is divided into circular regions), and each annular region is a plurality of virtual regions arranged in the circumferential direction CD by a plurality of second boundary lines BL2 extending in the radial direction RD. It is divided into SE. Thus, in the present embodiment, a part (each annular region) of the ceramic plate 100 is divided into a plurality of segments SE arranged in the circumferential direction CD centering on the center point P1 of the suction surface S1.

セラミックス板100に設定された複数のセグメントSEのそれぞれには、1つのヒータ電極500が配置されている(図4参照)。各ヒータ電極500の構成については、後述する。   One heater electrode 500 is disposed in each of the plurality of segments SE set on the ceramic plate 100 (see FIG. 4). The configuration of each heater electrode 500 will be described later.

図2に示すように、静電チャック10は、各ヒータ電極500への給電のための構成を備えている。具体的には、静電チャック10には、ベース部材200の下面S4からセラミックス板100の内部に至る一対の端子用孔11,12が形成されている。各端子用孔11,12は、ベース部材200を上下方向に貫通する貫通孔220と、接着層300を上下方向に貫通する貫通孔320と、セラミックス板100の下面S2側に形成された凹部120とが、互いに連通することにより構成された一体の孔である。   As shown in FIG. 2, the electrostatic chuck 10 has a configuration for supplying power to each heater electrode 500. Specifically, the electrostatic chuck 10 is formed with a pair of terminal holes 11 and 12 extending from the lower surface S <b> 4 of the base member 200 to the inside of the ceramic plate 100. Each of the terminal holes 11 and 12 includes a through hole 220 that penetrates the base member 200 in the vertical direction, a through hole 320 that penetrates the adhesive layer 300 in the vertical direction, and a recess 120 formed on the lower surface S2 side of the ceramic plate 100. Are integral holes configured by communicating with each other.

一対の端子用孔11,12の一方である第1の端子用孔11には、柱状の第1の給電端子21が収容されている。また、第1の端子用孔11を構成するセラミックス板100の凹部120の底面には、第1の電極パッド31が設けられている。第1の給電端子21は、例えばろう付け等により第1の電極パッド31に接合されている。また、第1の電極パッド31は、第1の給電側ビア41を介して、ドライバ電極50における第1の導電領域51に導通している。ドライバ電極50の第1の導電領域51は、面方向に平行な所定の領域を有するパターンである。なお、第1の給電端子21、第1の電極パッド31、第1の給電側ビア41、および、第1の導電領域51は、すべて、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成されている。   A columnar first power supply terminal 21 is accommodated in the first terminal hole 11 which is one of the pair of terminal holes 11 and 12. In addition, a first electrode pad 31 is provided on the bottom surface of the concave portion 120 of the ceramic plate 100 constituting the first terminal hole 11. The first power supply terminal 21 is joined to the first electrode pad 31 by, for example, brazing. Further, the first electrode pad 31 is electrically connected to the first conductive region 51 in the driver electrode 50 through the first power supply side via 41. The first conductive region 51 of the driver electrode 50 is a pattern having a predetermined region parallel to the surface direction. Note that the first power supply terminal 21, the first electrode pad 31, the first power supply side via 41, and the first conductive region 51 are all formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum). ing.

同様に、一対の端子用孔11,12の他方である第2の端子用孔12には、柱状の第2の給電端子22が収容されている。また、第2の端子用孔12を構成するセラミックス板100の凹部120の底面には、第2の電極パッド32が設けられている。第2の給電端子22は、例えばろう付け等により第2の電極パッド32に接合されている。また、第2の電極パッド32は、第2の給電側ビア42を介して、ドライバ電極50における第2の導電領域52に導通している。ドライバ電極50の第2の導電領域52は、面方向に平行な所定の領域を有するパターンである。なお、第2の給電端子22、第2の電極パッド32、第2の給電側ビア42、および、第2の導電領域52は、すべて、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成されている。   Similarly, a columnar second power supply terminal 22 is accommodated in the second terminal hole 12 which is the other of the pair of terminal holes 11 and 12. A second electrode pad 32 is provided on the bottom surface of the concave portion 120 of the ceramic plate 100 constituting the second terminal hole 12. The second power supply terminal 22 is joined to the second electrode pad 32 by, for example, brazing. The second electrode pad 32 is electrically connected to the second conductive region 52 in the driver electrode 50 through the second power supply side via 42. The second conductive region 52 of the driver electrode 50 is a pattern having a predetermined region parallel to the surface direction. Note that the second power supply terminal 22, the second electrode pad 32, the second power supply side via 42, and the second conductive region 52 are all formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum). ing.

各セグメントSEに配置された各ヒータ電極500は、上述したドライバ電極50における一対の導電領域(第1の導電領域51および第2の導電領域52)に対して、並列に接続されている。具体的には、各ヒータ電極500の一端(後述の第1のヒータパッド部501)は、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された第1のヒータ側ビア61を介して、第1の導電領域51に導通しており、各ヒータ電極500の他端(後述の第2のヒータパッド部502)は、導電性材料により形成された第2のヒータ側ビア62を介して、第2の導電領域52に導通している。   Each heater electrode 500 arranged in each segment SE is connected in parallel to the pair of conductive regions (first conductive region 51 and second conductive region 52) in the driver electrode 50 described above. Specifically, one end (first heater pad portion 501 described later) of each heater electrode 500 is connected via a first heater-side via 61 formed of a conductive material (for example, tungsten or molybdenum). The other end of each heater electrode 500 (second heater pad portion 502 described later) is electrically connected to the first conductive region 51 via a second heater side via 62 formed of a conductive material. The second conductive region 52 is electrically connected.

一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)は、電源(図示せず)に接続されている。電源からの電圧は、一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)、一対の電極パッド(第1の電極パッド31および第2の電極パッド32)、および、一対の給電側ビア(第1の給電側ビア41および第2の給電側ビア42)を介してドライバ電極50の一対の導電領域(第1の導電領域51および第2の導電領域52)に供給され、さらに、各ヒータ電極500について設けられた一対のヒータ側ビア(第1のヒータ側ビア61および第2のヒータ側ビア62)を介してヒータ電極500に印加される。これにより、各ヒータ電極500が発熱する。   The pair of power supply terminals (the first power supply terminal 21 and the second power supply terminal 22) are connected to a power source (not shown). The voltage from the power supply includes a pair of power supply terminals (first power supply terminal 21 and second power supply terminal 22), a pair of electrode pads (first electrode pad 31 and second electrode pad 32), and a pair of power supply terminals. The power supply side vias (first power supply side via 41 and second power supply side via 42) are supplied to the pair of conductive regions (first conductive region 51 and second conductive region 52) of the driver electrode 50, Further, the voltage is applied to the heater electrode 500 via a pair of heater side vias (first heater side via 61 and second heater side via 62) provided for each heater electrode 500. Thereby, each heater electrode 500 generates heat.

なお、上述した各ヒータ電極500への給電のための構成において、第1のヒータ側ビア61は、各ヒータ電極500について設けられ、ヒータ電極500の一端(後述の第1のヒータパッド部501)と、一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)の一方である第1の給電端子21とを、(ドライバ電極50の第1の導電領域51、第1の給電側ビア41、第1の電極パッド31を介して)電気的に接続するものであり、特許請求の範囲における第1のビアに相当する。また、第2のヒータ側ビア62は、各ヒータ電極500について設けられ、ヒータ電極500の他端(後述の第2のヒータパッド部502)と、一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)の他方である第2の給電端子22とを、(ドライバ電極50の第2の導電領域52、第2の給電側ビア42、第2の電極パッド32を介して)電気的に接続するものであり、特許請求の範囲における第2のビアに相当する。   In the configuration for supplying power to each heater electrode 500 described above, the first heater-side via 61 is provided for each heater electrode 500, and one end of the heater electrode 500 (first heater pad portion 501 described later). And the first power supply terminal 21 which is one of the pair of power supply terminals (the first power supply terminal 21 and the second power supply terminal 22) (the first conductive region 51 of the driver electrode 50, the first power supply). It is electrically connected (via the side via 41 and the first electrode pad 31), and corresponds to the first via in the claims. The second heater side via 62 is provided for each heater electrode 500, and the other end of the heater electrode 500 (second heater pad portion 502 to be described later) and a pair of power supply terminals (first power supply terminal 21 and The second power supply terminal 22, which is the other of the second power supply terminals 22) (via the second conductive region 52 of the driver electrode 50, the second power supply side via 42, and the second electrode pad 32). It is electrically connected and corresponds to the second via in the claims.

次に、各ヒータ電極500の構成について詳細に説明する。図4は、1つのセグメントSE(図3参照)に配置された1つのヒータ電極500のXY断面構成を示す説明図である。本実施形態では、各セグメントSEに同様の構成のヒータ電極500が配置されているため、1つのヒータ電極500の構成について代表して説明する。なお、以下に説明するヒータ電極500は、特許請求の範囲における特定ヒータ電極に相当する。   Next, the configuration of each heater electrode 500 will be described in detail. FIG. 4 is an explanatory diagram showing an XY cross-sectional configuration of one heater electrode 500 arranged in one segment SE (see FIG. 3). In the present embodiment, since the heater electrode 500 having the same configuration is arranged in each segment SE, the configuration of one heater electrode 500 will be described as a representative. The heater electrode 500 described below corresponds to a specific heater electrode in the claims.

図4に示すように、ヒータ電極500は、ヒータ電極500の両端を構成する一対のヒータパッド部501,502と、一対のヒータパッド部501,502の間を結ぶ線状のヒータ線部504とを備える。   As shown in FIG. 4, the heater electrode 500 includes a pair of heater pad portions 501 and 502 constituting both ends of the heater electrode 500 and a linear heater wire portion 504 connecting the pair of heater pad portions 501 and 502. Is provided.

一対のヒータパッド部501,502の内の一方である第1のヒータパッド部501は、Z軸方向視で第1のヒータ側ビア61と重なる位置に配置され、第1のヒータ側ビア61に接続されている。第1のヒータパッド部501のZ軸方向視での断面積(すなわち、面方向の断面が円形である場合には、半径×半径×π)は、第1のヒータ側ビア61のZ軸方向視での断面積(すなわち、面方向の断面が円形である場合には、半径×半径×π)より大きい。同様に、一対のヒータパッド部501,502の内の他方である第2のヒータパッド部502は、Z軸方向視で第2のヒータ側ビア62と重なる位置に配置され、第2のヒータ側ビア62に接続されている。第2のヒータパッド部502のZ軸方向視での断面積(すなわち、面方向の断面が円形である場合には、半径×半径×π)は、第2のヒータ側ビア62のZ軸方向視での断面積(すなわち、面方向の断面が円形である場合には、半径×半径×π)より大きい。   The first heater pad portion 501, which is one of the pair of heater pad portions 501 and 502, is disposed at a position overlapping the first heater side via 61 as viewed in the Z-axis direction, and is connected to the first heater side via 61. It is connected. The cross-sectional area of the first heater pad portion 501 as viewed in the Z-axis direction (that is, radius × radius × π when the cross section in the plane direction is circular) is the Z-axis direction of the first heater-side via 61. It is larger than the cross-sectional area in view (ie, when the cross section in the plane direction is circular, radius × radius × π). Similarly, the second heater pad portion 502, which is the other of the pair of heater pad portions 501, 502, is disposed at a position overlapping the second heater side via 62 as viewed in the Z-axis direction, and the second heater side It is connected to the via 62. The cross-sectional area of the second heater pad portion 502 as viewed in the Z-axis direction (that is, radius × radius × π when the cross section in the plane direction is circular) is the Z-axis direction of the second heater-side via 62. It is larger than the cross-sectional area in view (ie, when the cross section in the plane direction is circular, radius × radius × π).

図4に示すように、各ヒータ電極500について設けられた一対のヒータ側ビア(第1のヒータ側ビア61および第2のヒータ側ビア62)は、円周方向CDにおいて互いに並ぶように配置されている。そのため、各ヒータ電極500の両端を構成する一対のヒータパッド部(第1のヒータパッド部501および第2のヒータパッド部502)も、円周方向CDにおいて互いに並ぶように配置されている。なお、以下の説明では、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501(または第2のヒータパッド部502)と並ぶ(重なる)領域を「パッド重複領域R1」といい、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501(または第2のヒータパッド部502)と並ばない(重ならない)領域を「パッド非重複領域R2」という。   As shown in FIG. 4, a pair of heater side vias (first heater side via 61 and second heater side via 62) provided for each heater electrode 500 are arranged so as to be aligned with each other in the circumferential direction CD. ing. Therefore, the pair of heater pad portions (the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502) constituting both ends of each heater electrode 500 are also arranged so as to be aligned with each other in the circumferential direction CD. In the following description, a region aligned (overlapping) with the first heater pad portion 501 (or the second heater pad portion 502) in the circumferential direction CD is referred to as a “pad overlapping region R1”, and in the circumferential direction CD. A region that does not line up (does not overlap) the first heater pad portion 501 (or the second heater pad portion 502) is referred to as a “pad non-overlapping region R2.”

ヒータ線部504は、第1のヒータパッド部501との接続箇所から第2のヒータパッド部502との接続箇所まで一筆書きできるように延伸する線状のパターンである。面方向で見たときの、ヒータ線部504の断面積(すなわち、(面方向の内の延伸方向に直交する方向の幅)×(Z軸方向の厚さ))は、面方向で見たときの、第1のヒータパッド部501の断面積(すなわち、(面方向の幅)×(Z軸方向の厚さ))および第2のヒータパッド部502の断面積(すなわち、(面方向の幅)×(Z軸方向の厚さ))より小さい。   The heater wire portion 504 is a linear pattern extending so that one stroke can be drawn from a connection location with the first heater pad portion 501 to a connection location with the second heater pad portion 502. The cross-sectional area of the heater wire portion 504 when viewed in the plane direction (that is, (width in the direction perpendicular to the extending direction in the plane direction) × (thickness in the Z-axis direction)) was viewed in the plane direction. The cross-sectional area of the first heater pad portion 501 (ie, (width in the surface direction) × (thickness in the Z-axis direction)) and the cross-sectional area of the second heater pad portion 502 (ie, (in the surface direction) Smaller than (width) × (thickness in the Z-axis direction)).

ヒータ線部504は、図4において一点鎖線で囲われた複数の部分から構成されている。具体的には、ヒータ線部504は、第1のビア側部分510と、第2のビア側部分520と、第1の接続部分530と、第2の接続部分540と、複数の(5つの)折り返し部分550とから構成されている。   The heater wire portion 504 is composed of a plurality of portions surrounded by a one-dot chain line in FIG. Specifically, the heater wire portion 504 includes a first via-side portion 510, a second via-side portion 520, a first connection portion 530, a second connection portion 540, and a plurality of (five ) And a folded portion 550.

ヒータ線部504を構成する第1のビア側部分510は、第1のヒータパッド部501に接続された部分である。第1のビア側部分510は、主として、円周方向CDに略平行な複数の円周状部分511と、径方向RDに互いに隣り合う2つの円周状部分511の端部間をつなぐように径方向RDに略平行に延びる直線状部分512とから構成されている。なお、1つの円周状部分511に注目した場合に、該円周状部分511の一方の端部は、直線状部分512によって、径方向RDの一方側に隣り合う他の円周状部分511と接続されており、該円周状部分511の他方の端部は、他の直線状部分512によって、径方向RDの他方側に隣り合う他の円周状部分511と接続されている。   The first via side portion 510 constituting the heater wire portion 504 is a portion connected to the first heater pad portion 501. The first via-side portion 510 mainly connects between a plurality of circumferential portions 511 substantially parallel to the circumferential direction CD and the ends of two circumferential portions 511 adjacent to each other in the radial direction RD. It is comprised from the linear part 512 extended substantially parallel to radial direction RD. When attention is paid to one circumferential portion 511, one end portion of the circumferential portion 511 is connected to another circumferential portion 511 adjacent to one side in the radial direction RD by a linear portion 512. The other end of the circumferential portion 511 is connected to another circumferential portion 511 adjacent to the other side in the radial direction RD by another linear portion 512.

本実施形態では、第1のビア側部分510を構成する複数の円周状部分511は、パッド非重複領域R2に配置されていると共に、パッド重複領域R1の内の第1のヒータパッド部501に対して第2のヒータパッド部502とは反対側の領域にも配置されている。以下、パッド重複領域R1の内の第1のヒータパッド部501に対して第2のヒータパッド部502とは反対側の領域に配置された円周状部分511を、第1の特定円周状部分513という。本実施形態では、第1のビア側部分510は、2つの第1の特定円周状部分513を含む。第1の特定円周状部分513は、特許請求の範囲における第1の円周状部分に相当する。   In the present embodiment, the plurality of circumferential portions 511 constituting the first via-side portion 510 are arranged in the pad non-overlapping region R2, and the first heater pad portion 501 in the pad overlapping region R1. On the other hand, it is also arranged in the region opposite to the second heater pad portion 502. Hereinafter, a circumferential portion 511 disposed in a region opposite to the second heater pad portion 502 with respect to the first heater pad portion 501 in the pad overlapping region R1 is defined as a first specific circumferential shape. This is referred to as a part 513. In the present embodiment, the first via-side portion 510 includes two first specific circumferential portions 513. The first specific circumferential portion 513 corresponds to the first circumferential portion in the claims.

同様に、ヒータ線部504を構成する第2のビア側部分520は、第2のヒータパッド部502に接続された部分である。第2のビア側部分520は、主として、円周方向CDに略平行な複数の円周状部分521と、径方向RDに互いに隣り合う2つの円周状部分521の端部間をつなぐように径方向RDに略平行に延びる直線状部分522とから構成されている。なお、1つの円周状部分521に注目した場合に、該円周状部分521の一方の端部は、直線状部分522によって、径方向RDの一方側に隣り合う他の円周状部分521と接続されており、該円周状部分521の他方の端部は、他の直線状部分522によって、径方向RDの他方側に隣り合う他の円周状部分521と接続されている。   Similarly, the second via side portion 520 constituting the heater line portion 504 is a portion connected to the second heater pad portion 502. The second via-side portion 520 mainly connects between the plurality of circumferential portions 521 substantially parallel to the circumferential direction CD and the ends of the two circumferential portions 521 adjacent to each other in the radial direction RD. It is comprised from the linear part 522 extended substantially parallel to radial direction RD. When attention is paid to one circumferential portion 521, one end portion of the circumferential portion 521 is connected to another circumferential portion 521 adjacent to one side in the radial direction RD by a linear portion 522. The other end portion of the circumferential portion 521 is connected to another circumferential portion 521 adjacent to the other side in the radial direction RD by another linear portion 522.

本実施形態では、第2のビア側部分520を構成する複数の円周状部分521は、パッド非重複領域R2に配置されていると共に、パッド重複領域R1の内の第2のヒータパッド部502に対して第1のヒータパッド部501とは反対側の領域にも配置されている。以下、パッド重複領域R1の内の第2のヒータパッド部502に対して第1のヒータパッド部501とは反対側の領域に配置された円周状部分521を、第2の特定円周状部分523という。本実施形態では、第2のビア側部分520は、2つの第2の特定円周状部分523を含む。第2の特定円周状部分523は、特許請求の範囲における第2の円周状部分に相当する。   In the present embodiment, the plurality of circumferential portions 521 constituting the second via-side portion 520 are arranged in the pad non-overlapping region R2, and the second heater pad portion 502 in the pad overlapping region R1. On the other hand, it is also arranged in a region opposite to the first heater pad portion 501. Hereinafter, a circumferential portion 521 disposed in a region opposite to the first heater pad portion 501 with respect to the second heater pad portion 502 in the pad overlapping region R1 is a second specific circumferential shape. This is referred to as a portion 523. In the present embodiment, the second via-side portion 520 includes two second specific circumferential portions 523. The second specific circumferential portion 523 corresponds to the second circumferential portion in the claims.

ヒータ線部504を構成する複数の折り返し部分550は、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に位置する。なお、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域とは、上述したパッド重複領域R1の内、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502とに挟まれた領域である。また、折り返し部分550が、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に位置するとは、該折り返し部分550の少なくとも一部分が、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に位置することを意味する。また、本明細書において、「折り返し部分」とは、ヒータ線部504の延伸方向に沿ってヒータ線部504の一端(例えば第1のヒータパッド部501との接続位置)から他端(例えば第2のヒータパッド部502との接続位置)に向かう経路において、所定の仮想直線(例えば、図4に示す仮想直線VL)を一方側から他方側に横切るように延びる部分と、該仮想直線VLを他方側から一方側に横切るように延びる部分と、の組合せを1つ含む線状の部分である。本実施形態では、各折り返し部分550は、円周方向CDに略平行な仮想直線VLを径方向RDの外周側から中心点P1側に横切るように延びる部分と、該仮想直線VLを径方向RDの中心点P1側から外周側に横切るように延びる部分と、の組合せを1つ含むように構成されている。   The plurality of folded portions 550 constituting the heater wire portion 504 are located in a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. In the circumferential direction CD, the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 is the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 501 in the above-described pad overlapping region R1. This is an area sandwiched between the heater pads 502. Further, when the folded portion 550 is located in the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD, at least a part of the folded portion 550 is in the circumferential direction CD. In FIG. 4, it is located in a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502. Further, in this specification, the “folded portion” refers to one end (for example, a connection position with the first heater pad portion 501) of the heater wire portion 504 along the extending direction of the heater wire portion 504 and the other end (for example, the first portion). 2 extending from the one side to the other side on a predetermined virtual straight line (for example, the virtual straight line VL shown in FIG. 4) on the path toward the heater pad portion 502 of the second heater pad portion 502, and the virtual straight line VL A linear portion including one combination of a portion extending from the other side so as to cross the one side. In the present embodiment, each folded portion 550 includes a portion extending so as to cross the virtual straight line VL substantially parallel to the circumferential direction CD from the outer peripheral side of the radial direction RD toward the center point P1, and the virtual straight line VL in the radial direction RD. And a portion extending so as to cross from the center point P1 side to the outer peripheral side.

ヒータ線部504を構成する第1の接続部分530は、第1のビア側部分510における第1のヒータパッド部501との接続箇所とは反対側の端部と、複数の折り返し部分550のグループの一方の端部と、を接続する部分である。第1の接続部分530は、第1の直線状部分531を含む。第1の直線状部分531は、径方向RDに略平行な(すなわち、円周方向CDに略直交する)直線状の部分であり、かつ、円周方向CDにおいて、第1のビア側部分510における複数の円周状部分511(ただし、パッド非重複領域R2にあるもの)と第2のビア側部分520における複数の円周状部分521(ただし、パッド非重複領域R2にあるもの)との間の領域に位置する部分である。   The first connection portion 530 constituting the heater wire portion 504 includes an end portion of the first via side portion 510 opposite to the connection portion with the first heater pad portion 501, and a group of the plurality of folded portions 550. It is a part which connects one edge part of these. The first connection portion 530 includes a first linear portion 531. The first linear portion 531 is a linear portion that is substantially parallel to the radial direction RD (that is, substantially orthogonal to the circumferential direction CD), and the first via side portion 510 in the circumferential direction CD. A plurality of circumferential portions 511 (in the pad non-overlapping region R2) and a plurality of circumferential portions 521 in the second via-side portion 520 (in the pad non-overlapping region R2). It is a part located in the area between.

同様に、ヒータ線部504を構成する第2の接続部分540は、第2のビア側部分520における第2のヒータパッド部502との接続箇所とは反対側の端部と、複数の折り返し部分550のグループの他方の端部と、を接続する部分である。第2の接続部分540は、第2の直線状部分542を含む。第2の直線状部分542は、径方向RDに略平行な(すなわち、円周方向CDに略直交する)直線状の部分であり、かつ、円周方向CDにおいて、第1のビア側部分510における複数の円周状部分511(ただし、パッド非重複領域R2にあるもの)と第2のビア側部分520における複数の円周状部分521(ただし、パッド非重複領域R2にあるもの)との間の領域に位置する部分である。図4に示すように、第2の直線状部分542は、ヒータ電極500のヒータ線部504の他の部分を介さずに、第1の接続部分530の第1の直線状部分531と隣り合っている。   Similarly, the second connection portion 540 constituting the heater wire portion 504 includes an end portion of the second via-side portion 520 opposite to the connection portion with the second heater pad portion 502, and a plurality of folded portions. It is a part which connects the other edge part of 550 group. The second connection portion 540 includes a second straight portion 542. The second linear portion 542 is a linear portion that is substantially parallel to the radial direction RD (that is, substantially orthogonal to the circumferential direction CD), and the first via side portion 510 in the circumferential direction CD. A plurality of circumferential portions 511 (in the pad non-overlapping region R2) and a plurality of circumferential portions 521 in the second via-side portion 520 (in the pad non-overlapping region R2). It is a part located in the area between. As shown in FIG. 4, the second linear portion 542 is adjacent to the first linear portion 531 of the first connection portion 530 without passing through other portions of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500. ing.

A−3.本実施形態の効果:
以上説明したように、本実施形態の静電チャック10は、Z軸方向に略直交する略円形平面状の吸着面S1を有するセラミックス板100と、セラミックス板100の少なくとも一部を吸着面S1の中心点P1を中心とする円周方向CDに並ぶ複数のセグメントSEに分割したときの各セグメントSE内に配置された抵抗発熱体であるヒータ電極500と、一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)とを備える。ヒータ電極500は、ヒータ電極500の両端を構成する一対のヒータパッド部501,502と、一対のヒータパッド部501,502の間を結ぶ線状のヒータ線部504とを備える。本実施形態の静電チャック10は、さらに、各ヒータ電極500について設けられ、ヒータ電極500の一端を構成する第1のヒータパッド部501と一方の給電端子(第1の給電端子21)とを電気的に接続する第1のヒータ側ビア61と、各ヒータ電極500について設けられ、円周方向CDにおいて第1のヒータ側ビア61と並ぶ位置に配置され、ヒータ電極500の他端を構成する第2のヒータパッド部502と他方の給電端子(第2の給電端子22)とを電気的に接続する第2のヒータ側ビア62とを備える。また、一対のヒータパッド部501,502の断面積は、ヒータ線部504の断面積よりも大きい。また、各ヒータ電極500のヒータ線部504は、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に位置する複数の折り返し部分550を含む。
A-3. Effects of this embodiment:
As described above, the electrostatic chuck 10 according to the present embodiment includes the ceramic plate 100 having the substantially circular planar suction surface S1 substantially orthogonal to the Z-axis direction, and at least a part of the ceramic plate 100 on the suction surface S1. A heater electrode 500 that is a resistance heating element disposed in each segment SE when divided into a plurality of segments SE arranged in the circumferential direction CD centered on the center point P1, and a pair of power supply terminals (first power supply terminals) 21 and a second power supply terminal 22). The heater electrode 500 includes a pair of heater pad portions 501 and 502 constituting both ends of the heater electrode 500, and a linear heater wire portion 504 connecting the pair of heater pad portions 501 and 502. The electrostatic chuck 10 of the present embodiment is further provided for each heater electrode 500, and includes a first heater pad portion 501 constituting one end of the heater electrode 500 and one power supply terminal (first power supply terminal 21). A first heater-side via 61 to be electrically connected and each heater electrode 500 are provided and arranged at a position aligned with the first heater-side via 61 in the circumferential direction CD to constitute the other end of the heater electrode 500. A second heater-side via 62 that electrically connects the second heater pad portion 502 and the other power supply terminal (second power supply terminal 22) is provided. Further, the cross-sectional area of the pair of heater pad portions 501 and 502 is larger than the cross-sectional area of the heater wire portion 504. Further, the heater wire portion 504 of each heater electrode 500 includes a plurality of folded portions 550 that are located in a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD.

本実施形態の静電チャック10は、上述した構成であるため、以下に説明するように、吸着面S1における温度分布の均一性の低下を抑制することができる。   Since the electrostatic chuck 10 of the present embodiment has the above-described configuration, as described below, it is possible to suppress a decrease in the uniformity of the temperature distribution on the attracting surface S1.

図5は、比較例の静電チャック10におけるヒータ電極500Xの構成を概略的に示す説明図である。図5に示す比較例の静電チャック10におけるヒータ電極500Xは、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に折り返し部分550が1つのみ存在する点が、同領域に折り返し部分550が複数存在する実施形態のヒータ電極500(図4)と異なる。なお、比較例のヒータ電極500Xでは、第1の接続部分530は第1の直線状部分531のみから構成されており、該第1の直線状部分531が折り返し部分550の一部分と連続的な直線状部分を構成している。同様に、第2の接続部分540は第2の直線状部分542のみから構成されており、該第2の直線状部分542が折り返し部分550の他の一部分と連続的な直線状部分を構成している。   FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the heater electrode 500X in the electrostatic chuck 10 of the comparative example. The heater electrode 500X in the electrostatic chuck 10 of the comparative example shown in FIG. 5 has only one folded portion 550 in a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. The existing point is different from the heater electrode 500 (FIG. 4) of the embodiment in which a plurality of folded portions 550 exist in the same region. In the heater electrode 500X of the comparative example, the first connection portion 530 includes only the first linear portion 531 and the first linear portion 531 is a straight line continuous with a part of the folded portion 550. Is formed. Similarly, the second connecting portion 540 is composed of only the second linear portion 542, and the second linear portion 542 constitutes a linear portion continuous with the other portion of the folded portion 550. ing.

このように、比較例の静電チャック10におけるヒータ電極500Xでは、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に、折り返し部分550が1つのみ存在する。そのため、比較例の静電チャック10では、円周方向CDにおける第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の距離が短くなると共に、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域におけるヒータ線部504の発熱量が小さくなる。ここで、上述したように、第1のヒータパッド部501および第2のヒータパッド部502の断面積は、ヒータ線部504の断面積よりも大きいことから、第1のヒータパッド部501および第2のヒータパッド部502における発熱量は、ヒータ線部504の発熱量より小さい。そのため、吸着面S1における第1のヒータパッド部501および第2のヒータパッド部502の直上の領域の温度は低くなりやすい。比較例の静電チャック10では、円周方向CDにおける第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の距離が短いため、吸着面S1における温度が低くなりやすい領域が互いに近接することとなる。また、比較例の静電チャック10では、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域におけるヒータ線部504の発熱量が小さいため、吸着面S1における温度が低くなりやすい領域の付近における発熱量が十分に確保できない。そのため、比較例の静電チャック10では、各セグメントSEにおける第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域の温度が過度に低くなることによってセグメントSE内の温度分布の均一性が低下し、ひいては、セラミックス板100の吸着面S1における温度分布の均一性が低下するおそれがある。   As described above, in the heater electrode 500X in the electrostatic chuck 10 of the comparative example, one folded portion 550 is provided in the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. Only exists. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the comparative example, the distance between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD is shortened, and the first heater pad portion 501 and the first heater pad portion 501 The amount of heat generated by the heater wire portion 504 in the region between the two heater pad portions 502 is reduced. Here, as described above, since the cross-sectional areas of the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 are larger than the cross-sectional area of the heater wire portion 504, the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 504 The heat generation amount in the second heater pad portion 502 is smaller than the heat generation amount in the heater wire portion 504. Therefore, the temperature of the region immediately above the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 on the suction surface S1 tends to be low. In the electrostatic chuck 10 of the comparative example, since the distance between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD is short, the regions where the temperature on the suction surface S1 tends to be low are mutually connected. It will be close. Further, in the electrostatic chuck 10 of the comparative example, since the amount of heat generated by the heater wire portion 504 in the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 is small, the temperature on the suction surface S1 is low. It is not possible to secure a sufficient amount of heat generation in the vicinity of the region where it tends to occur. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the comparative example, the temperature distribution in the segment SE is caused by excessively lowering the temperature of the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in each segment SE. There is a possibility that the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface S1 of the ceramic plate 100 may be lowered.

これに対し、図4に示すように、本実施形態の静電チャック10におけるヒータ電極500では、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に、複数の折り返し部分550が存在する。そのため、本実施形態の静電チャック10では、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の距離を十分に取ることができると共に、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域におけるヒータ線部504の発熱量を十分に確保することができる。従って、本実施形態の静電チャック10では、各セグメントSEにおける第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域の温度が過度に低くなることを抑制することができ、その結果、セグメントSE内の温度分布の均一性が低下することを抑制することができ、ひいては、セラミックス板100の吸着面S1における温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   On the other hand, as shown in FIG. 4, in the heater electrode 500 in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. There are a plurality of folded portions 550. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, a sufficient distance can be secured between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502, and the first heater pad portion 501 and the first heater pad portion 501 The amount of heat generated by the heater wire portion 504 in the region between the two heater pad portions 502 can be sufficiently secured. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, it is possible to suppress the temperature of the region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in each segment SE from becoming excessively low. As a result, it is possible to suppress a decrease in the uniformity of the temperature distribution in the segment SE, and consequently, it is possible to suppress a decrease in the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface S1 of the ceramic plate 100.

図6および図7は、セラミックス板100の吸着面S1の温度分布のシミュレーション結果を示す説明図である。図6には、セラミックス板100における1つのセグメントSEに配置された本実施形態のヒータ電極500に給電した場合の吸着面S1の温度分布のシミュレーション結果の一例が示されており、図7には、同じく1つのセグメントSEに配置された比較例のヒータ電極500Xに給電した場合の吸着面S1の温度分布のシミュレーション結果の一例が示されている。   6 and 7 are explanatory diagrams illustrating simulation results of the temperature distribution of the adsorption surface S1 of the ceramic plate 100. FIG. FIG. 6 shows an example of a simulation result of the temperature distribution on the adsorption surface S1 when power is supplied to the heater electrode 500 of the present embodiment arranged in one segment SE in the ceramic plate 100. FIG. Similarly, an example of a simulation result of the temperature distribution of the adsorption surface S1 when power is supplied to the heater electrode 500X of the comparative example arranged in one segment SE is shown.

図7に示すように、比較例のヒータ電極500Xを用いた場合には、最高温度Tmaxは132.8℃となり、最低温度Tminは127.6℃となり、最大温度差ΔTは5.2℃であった。なお、最低温度Tminは、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との中間地点付近で記録された。   As shown in FIG. 7, when the heater electrode 500X of the comparative example is used, the maximum temperature Tmax is 132.8 ° C., the minimum temperature Tmin is 127.6 ° C., and the maximum temperature difference ΔT is 5.2 ° C. there were. The minimum temperature Tmin was recorded in the vicinity of an intermediate point between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502.

一方、図6に示すように、本実施形態のヒータ電極500を用いた場合には、最高温度Tmaxは132.9℃となり、最低温度Tminは128.6℃となり、最大温度差ΔTは4.3℃であった。なお、最低温度Tminは、第1のヒータパッド部501および第2のヒータパッド部502の直上の位置で記録された。このように、本実施形態のヒータ電極500を用いた場合には、比較例のヒータ電極500Xを用いた場合と比較して、最大温度差ΔTを小さくすることができる、すなわち、吸着面S1の温度分布の均一性の低下を抑制することができることが確認された。   On the other hand, as shown in FIG. 6, when the heater electrode 500 of this embodiment is used, the maximum temperature Tmax is 132.9 ° C., the minimum temperature Tmin is 128.6 ° C., and the maximum temperature difference ΔT is 4. It was 3 ° C. The minimum temperature Tmin was recorded at a position immediately above the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502. As described above, when the heater electrode 500 of the present embodiment is used, the maximum temperature difference ΔT can be reduced as compared with the case of using the heater electrode 500X of the comparative example, that is, the adsorption surface S1. It was confirmed that a decrease in uniformity of temperature distribution can be suppressed.

また、本実施形態の静電チャック10におけるヒータ電極500は、円周方向CDに略平行な第1の特定円周状部分513を含む。第1の特定円周状部分513は、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と並び、かつ、第1のヒータパッド部501に対して第2のヒータパッド部502とは反対側の領域に位置する。そのため、本実施形態の静電チャック10では、第1のヒータパッド部501とセグメントSEの第2の境界線BL2(例えば、図4に示すセグメントSEの左端を規定する第2の境界線BL2)との間の距離を十分に取ることができる。その結果、第1のヒータパッド部501が、該セグメントSEに隣接する他のセグメントSEのヒータパッド部(例えば、図4に示すセグメントSEの左隣に位置する他のセグメントSE(図示せず)の第2のヒータパッド部502)に近付き過ぎることを抑制することができる。第1のヒータパッド部501と他のセグメントSEのヒータパッド部との間の距離が短いと、吸着面S1における温度が低くなりやすい領域が互いに近接することとなるため、吸着面S1の温度分布の均一性が低下しやすい。本実施形態の静電チャック10では、第1のヒータパッド部501が他のセグメントSEのヒータパッド部に近付き過ぎることを抑制することができるため、吸着面S1の温度分布の均一性の低下を効果的に抑制することができる。なお、本実施形態の静電チャック10では、ヒータ電極500のヒータ線部504が複数の(2つの)第1の特定円周状部分513を含んでいるため、第1のヒータパッド部501と他のセグメントSEのヒータパッド部との間の領域におけるヒータ電極500のヒータ線部504の発熱量を十分に確保することができ、吸着面S1の温度分布の均一性の低下をさらに効果的に抑制することができる。   Further, the heater electrode 500 in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment includes a first specific circumferential portion 513 that is substantially parallel to the circumferential direction CD. The first specific circumferential portion 513 is aligned with the first heater pad portion 501 in the circumferential direction CD, and is opposite to the second heater pad portion 502 with respect to the first heater pad portion 501. Located in the area. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the first heater pad 501 and the second boundary line BL2 of the segment SE (for example, the second boundary line BL2 that defines the left end of the segment SE shown in FIG. 4). A sufficient distance can be taken between the two. As a result, the first heater pad portion 501 has a heater pad portion of another segment SE adjacent to the segment SE (for example, another segment SE (not shown) located on the left side of the segment SE shown in FIG. 4). It is possible to prevent the second heater pad portion 502) from being too close. If the distance between the first heater pad part 501 and the heater pad part of the other segment SE is short, the regions where the temperature on the suction surface S1 tends to be low are close to each other, and thus the temperature distribution on the suction surface S1. The uniformity of the is easy to decrease. In the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the first heater pad portion 501 can be prevented from coming too close to the heater pad portions of the other segments SE, so the uniformity of the temperature distribution on the suction surface S1 can be reduced. It can be effectively suppressed. In the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, since the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 includes a plurality of (two) first specific circumferential portions 513, the first heater pad portion 501 and A sufficient amount of heat can be generated in the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 in the region between the heater pads of the other segments SE, and the temperature distribution on the suction surface S1 can be more effectively reduced. Can be suppressed.

また、本実施形態の静電チャック10におけるヒータ電極500は、さらに、円周方向CDに略平行な第2の特定円周状部分523を含む。第2の特定円周状部分523は、円周方向CDにおいて第2のヒータパッド部502と並び、かつ、第2のヒータパッド部502に対して第1のヒータパッド部501とは反対側の領域に位置する。そのため、本実施形態の静電チャック10では、第2のヒータパッド部502とセグメントSEの第2の境界線BL2(例えば、図4に示すセグメントSEの右端を規定する第2の境界線BL2)との間の距離を十分に取ることができる。その結果、第2のヒータパッド部502が、該セグメントSEに隣接する他のセグメントSEのヒータパッド部(例えば、図4に示すセグメントSEの右隣に位置する他のセグメントSE(図示せず)の第1のヒータパッド部501)に近付き過ぎることを抑制することができる。第2のヒータパッド部502と他のセグメントSEのヒータパッド部との間の距離が短いと、吸着面S1における温度が低くなりやすい領域が互いに近接することとなるため、吸着面S1の温度分布の均一性が低下しやすい。本実施形態の静電チャック10では、第2のヒータパッド部502が他のセグメントSEのヒータパッド部に近付き過ぎることを抑制することができるため、吸着面S1の温度分布の均一性の低下を抑制することができる。なお、本実施形態の静電チャック10では、ヒータ電極500のヒータ線部504が複数の(2つの)第2の特定円周状部分523を含んでいるため、第2のヒータパッド部502と他のセグメントSEのヒータパッド部との間の領域におけるヒータ電極500のヒータ線部504の発熱量を十分に確保することができ、吸着面S1の温度分布の均一性の低下をさらに効果的に抑制することができる。   In addition, the heater electrode 500 in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment further includes a second specific circumferential portion 523 that is substantially parallel to the circumferential direction CD. The second specific circumferential portion 523 is aligned with the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD, and is opposite to the first heater pad portion 501 with respect to the second heater pad portion 502. Located in the area. Therefore, in the electrostatic chuck 10 according to the present embodiment, the second boundary line BL2 between the second heater pad portion 502 and the segment SE (for example, the second boundary line BL2 defining the right end of the segment SE shown in FIG. 4). A sufficient distance can be taken between the two. As a result, the second heater pad portion 502 has a heater pad portion of another segment SE adjacent to the segment SE (for example, another segment SE (not shown) located on the right side of the segment SE shown in FIG. 4). The first heater pad portion 501) can be prevented from being too close. When the distance between the second heater pad portion 502 and the heater pad portion of the other segment SE is short, regions where the temperature on the suction surface S1 tends to be low are close to each other, and thus the temperature distribution on the suction surface S1. The uniformity of the is easy to decrease. In the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the second heater pad portion 502 can be prevented from coming too close to the heater pad portions of the other segments SE, so that the uniformity of the temperature distribution on the suction surface S1 is reduced. Can be suppressed. In the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, since the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 includes a plurality of (two) second specific circumferential portions 523, the second heater pad portion 502 and A sufficient amount of heat can be generated in the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 in the region between the heater pads of the other segments SE, and the temperature distribution on the suction surface S1 can be more effectively reduced. Can be suppressed.

なお、1つのセグメントSEに注目して温度分布の均一性の低下を抑制する点と、隣接する2つのセグメントSEにわたって温度分布の均一性の低下を抑制する点と、の両方の観点から、第1のヒータパッド部501は、セグメントSEを円周方向CDに沿って第1領域から第4領域の4つの仮想領域に分割したときの、第1領域と第2領域との境界に近い位置に配置されることが好ましく、第2のヒータパッド部502は、第3領域と第4領域との境界に近い位置に配置されることが好ましい。   From the viewpoint of both the point that suppresses the decrease in uniformity of temperature distribution by focusing on one segment SE and the point that suppresses the decrease in uniformity of temperature distribution across two adjacent segments SE. One heater pad portion 501 is located at a position close to the boundary between the first region and the second region when the segment SE is divided into four virtual regions from the first region to the fourth region along the circumferential direction CD. It is preferable that the second heater pad portion 502 is disposed at a position close to the boundary between the third region and the fourth region.

また、本実施形態の静電チャック10におけるヒータ電極500のヒータ線部504は、第1のヒータパッド部501に接続された第1のビア側部分510と、第2のヒータパッド部502に接続された第2のビア側部分520とを含む。第1のビア側部分510は、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と重ならない領域(パッド非重複領域R2)に、円周方向CDに略平行な複数の円周状部分511を含む。同様に、第2のビア側部分520は、円周方向CDにおいて第2のヒータパッド部502と重ならない領域(パッド非重複領域R2)に、円周方向CDに略平行な複数の円周状部分521を含む。ヒータ電極500のヒータ線部504は、さらに、第1のビア側部分510と複数の折り返し部分550とを接続する第1の接続部分530と、第2のビア側部分520と複数の折り返し部分550とを接続する第2の接続部分540とを含む。第1の接続部分530は、円周方向CDにおいて第1のビア側部分510に含まれる上記複数の円周状部分511(ただし、パッド非重複領域R2に位置するもの)と第2のビア側部分520に含まれる上記複数の円周状部分521(ただし、パッド非重複領域R2に位置するもの)との間の領域に、円周方向CDに略直交する(すなわち、径方向RDに略平行な)第1の直線状部分531を含む。また、第2の接続部分540は、円周方向CDにおいて第1のビア側部分510に含まれる上記複数の円周状部分511(ただし、パッド非重複領域R2に位置するもの)と第2のビア側部分520に含まれる上記複数の円周状部分521(ただし、パッド非重複領域R2に位置するもの)との間の領域に、円周方向CDに略直交する(すなわち、径方向RDに略平行な)第2の直線状部分542を含む。第2の直線状部分542は、ヒータ電極500のヒータ線部504の他の部分を介さずに第1の直線状部分531と隣り合っている。   In addition, the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 in the electrostatic chuck 10 of this embodiment is connected to the first via-side portion 510 connected to the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502. Second via-side portion 520 formed. The first via-side portion 510 has a plurality of circumferential portions 511 substantially parallel to the circumferential direction CD in a region (pad non-overlapping region R2) that does not overlap the first heater pad portion 501 in the circumferential direction CD. Including. Similarly, the second via-side portion 520 has a plurality of circumferential shapes substantially parallel to the circumferential direction CD in a region (pad non-overlapping region R2) that does not overlap the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. A portion 521 is included. The heater wire portion 504 of the heater electrode 500 further includes a first connection portion 530 that connects the first via side portion 510 and the plurality of folded portions 550, a second via side portion 520, and the plurality of folded portions 550. And a second connection portion 540 that connects the two. The first connection portion 530 includes the plurality of circumferential portions 511 (which are located in the pad non-overlapping region R2) included in the first via side portion 510 and the second via side in the circumferential direction CD. A region between the plurality of circumferential portions 521 included in the portion 520 (however, located in the pad non-overlapping region R2) is substantially orthogonal to the circumferential direction CD (that is, substantially parallel to the radial direction RD). A first linear portion 531. The second connection portion 540 includes a plurality of circumferential portions 511 (which are located in the pad non-overlapping region R2) included in the first via side portion 510 in the circumferential direction CD and the second connection portion 540. A region between the plurality of circumferential portions 521 included in the via-side portion 520 (however, located in the pad non-overlapping region R2) is substantially orthogonal to the circumferential direction CD (that is, in the radial direction RD). A second linear portion 542 (substantially parallel). The second linear portion 542 is adjacent to the first linear portion 531 without passing through other portions of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500.

ここで、第1の直線状部分531と第2の直線状部分542との間にヒータ電極500のヒータ線部504の他の部分(例えば、径方向RDに略平行な他の直線状部分)が配置されている構成では、セラミックス板100に形成される貫通孔(例えば、ピン挿通孔やガス供給孔)が、第1の直線状部分531と第2の直線状部分542との間の領域に配置される可能性が高くなる。その結果、貫通孔が第1の直線状部分531や第2の直線状部分542と干渉する可能性が高くなる。貫通孔と第1の直線状部分531または第2の直線状部分542との干渉を避けるために、第1の直線状部分531または第2の直線状部分542の形状を変更しようとすると、変更後の第1の直線状部分531または第2の直線状部分542がヒータ電極500のヒータ線部504を構成する他の部分(第1のビア側部分510や第2のビア側部分520等)に干渉するおそれがある。そのため、そのような構成では、ある大きさのセグメントSEにおいてヒータ電極500のヒータ線部504のパターンの微細化を実現しつつ、貫通孔等の配置の自由度を確保することができないおそれがある。   Here, another portion of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 (for example, another linear portion substantially parallel to the radial direction RD) between the first linear portion 531 and the second linear portion 542. In the configuration in which the through hole (for example, the pin insertion hole or the gas supply hole) formed in the ceramic plate 100 is a region between the first linear portion 531 and the second linear portion 542. There is a high possibility of being placed in. As a result, the possibility that the through hole interferes with the first linear portion 531 and the second linear portion 542 is increased. If the shape of the first linear portion 531 or the second linear portion 542 is changed in order to avoid interference between the through hole and the first linear portion 531 or the second linear portion 542, the change is made. The subsequent first linear portion 531 or the second linear portion 542 is another portion constituting the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 (the first via side portion 510, the second via side portion 520, etc.). There is a risk of interference. Therefore, in such a configuration, there is a possibility that the degree of freedom of arrangement of the through-holes and the like cannot be ensured while realizing the miniaturization of the pattern of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 in a certain segment SE. .

これに対し、本実施形態の静電チャック10では、第2の直線状部分542がヒータ電極500のヒータ線部504の他の部分を介さずに第1の直線状部分531と隣り合っているため、セラミックス板100に形成される貫通孔が、第1の直線状部分531より第1のビア側部分510の側の領域や第2の直線状部分542より第2のビア側部分520側の領域に配置される可能性が高くなる。貫通孔が第1の直線状部分531より第1のビア側部分510の側の領域や第2の直線状部分542より第2のビア側部分520の側の領域に配置されると、貫通孔が第1のビア側部分510や第2のビア側部分520と干渉する可能性が高くなる。貫通孔と第1のビア側部分510または第2のビア側部分520との干渉を避けることは、第1のビア側部分510または第2のビア側部分520を構成する円周状部分511,521の長さを短くするなどして比較的簡単に実現することができる。従って、本実施形態の静電チャック10では、ヒータ電極500のヒータ線部504のパターンの微細化を実現しつつ、貫通孔等の配置の自由度を確保することができる。   On the other hand, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the second linear portion 542 is adjacent to the first linear portion 531 without passing through other portions of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500. Therefore, the through-hole formed in the ceramic plate 100 has a region closer to the first via side portion 510 than the first linear portion 531 and closer to the second via side portion 520 than the second linear portion 542. The possibility of being placed in the area increases. When the through hole is arranged in a region closer to the first via side portion 510 than the first linear portion 531 and a region closer to the second via side portion 520 than the second linear portion 542, the through hole Is likely to interfere with the first via side portion 510 and the second via side portion 520. Avoiding interference between the through-hole and the first via-side portion 510 or the second via-side portion 520 means that the circumferential portion 511 constituting the first via-side portion 510 or the second via-side portion 520 is used. It can be realized relatively easily by shortening the length of 521 or the like. Therefore, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the degree of freedom of arrangement of the through holes and the like can be ensured while realizing the miniaturization of the pattern of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500.

B.変形例:
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
B. Variations:
The technology disclosed in the present specification is not limited to the above-described embodiment, and can be modified into various forms without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

上記実施形態における静電チャック10の構成は、あくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、上記実施形態において、ヒータ電極500のヒータ線部504を構成する各折り返し部分550の折り返し方向は、任意に変更可能である。図8は、変形例におけるヒータ電極500aの構成を概略的に示す説明図である。図8に示す変形例のヒータ電極500aでは、上記実施形態のヒータ電極500(図4)と同様に、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に、複数の(8つの)折り返し部分550が存在する。ただし、上記実施形態では、各折り返し部分550は、円周方向CDに略平行な仮想直線VLを径方向RDの外周側から中心点P1側に横切るように延びる部分と、該仮想直線VLを径方向RDの中心点P1側から外周側に横切るように延びる部分と、の組合せを1つ含むように構成されているのに対し、図8に示す変形例のヒータ電極500aでは、各折り返し部分550が、径方向RDに略平行な仮想直線VLを円周方向CDの一方側から他方側に横切るように延びる部分と、該仮想直線VLを円周方向CDの他方側から一方側に横切るように延びる部分と、の組合せを1つ含むように構成されている。このような構成の変形例のヒータ電極500aにおいても、上記実施形態のヒータ電極500と同様に、円周方向CDにおいて第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域に複数の折り返し部分550が存在するため、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の距離を十分に取ることができると共に、第1のヒータパッド部501と第2のヒータパッド部502との間の領域におけるヒータ電極500aのヒータ線部504の発熱量を十分に確保することができ、セラミックス板100の吸着面S1における温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   The configuration of the electrostatic chuck 10 in the above embodiment is merely an example, and can be variously modified. For example, in the above embodiment, the folding direction of each folded portion 550 constituting the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 can be arbitrarily changed. FIG. 8 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the heater electrode 500a in a modified example. In the heater electrode 500a of the modified example shown in FIG. 8, similarly to the heater electrode 500 (FIG. 4) of the above embodiment, between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD. There are a plurality of (eight) folded portions 550 in the region. However, in the above embodiment, each folded portion 550 includes a portion extending so as to cross the virtual straight line VL substantially parallel to the circumferential direction CD from the outer peripheral side of the radial direction RD to the center point P1 side, and the virtual straight line VL having a diameter The heater electrode 500a according to the modification shown in FIG. 8 is configured to include one combination of a portion extending so as to cross from the center point P1 side in the direction RD to the outer peripheral side. However, a portion extending so as to cross the virtual straight line VL substantially parallel to the radial direction RD from one side of the circumferential direction CD to the other side, and so as to cross the virtual straight line VL from the other side of the circumferential direction CD to the one side. It is comprised so that one combination of the extended part may be included. Also in the heater electrode 500a of the modified example having such a configuration, a region between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502 in the circumferential direction CD, similarly to the heater electrode 500 of the above embodiment. Since there are a plurality of folded portions 550, a sufficient distance can be secured between the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 502, and the first heater pad portion 501 and the second heater pad portion 501 can be separated from each other. The amount of heat generated by the heater wire portion 504 of the heater electrode 500a in a region between the heater pad portion 502 and the heater pad portion 502 can be sufficiently secured, and the temperature distribution uniformity on the adsorption surface S1 of the ceramic plate 100 is prevented from being lowered. can do.

また、上記実施形態では、ヒータ電極500のヒータ線部504が第1の特定円周状部分513や第2の特定円周状部分523を含んでいるが、ヒータ電極500のヒータ線部504が第1の特定円周状部分513と第2の特定円周状部分523との少なくとも一方を含まないとしてもよい。また、上記実施形態では、第2の直線状部分542がヒータ電極500のヒータ線部504の他の部分を介さずに第1の直線状部分531と隣り合うとしているが、必ずしもこのような構成である必要はない。   In the above embodiment, the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 includes the first specific circumferential portion 513 and the second specific circumferential portion 523, but the heater wire portion 504 of the heater electrode 500 is It may not include at least one of the first specific circumferential portion 513 and the second specific circumferential portion 523. In the above embodiment, the second linear portion 542 is adjacent to the first linear portion 531 without passing through other portions of the heater wire portion 504 of the heater electrode 500, but such a configuration is not necessarily required. Need not be.

また、上記実施形態において、各ヒータパッド部のすべてについて、第1のヒータパッド部501の断面積および第2のヒータパッド部502の断面積がヒータ線部504の断面積より大きい必要はなく、ヒータパッド部の断面積がヒータ線部504の断面積より大きい箇所が少なくとも1つあればよい。   In the above embodiment, the sectional area of the first heater pad part 501 and the sectional area of the second heater pad part 502 need not be larger than the sectional area of the heater wire part 504 for all the heater pad parts. It suffices if there is at least one location where the cross sectional area of the heater pad portion is larger than the cross sectional area of the heater wire portion 504.

また、上記実施形態では、各ヒータ電極500がドライバ電極50における一対の導電領域(第1の導電領域51および第2の導電領域52)を介して一対の給電端子(第1の給電端子21および第2の給電端子22)に接続されているが、各ヒータ電極500がドライバ電極50を介さずに一対の給電端子に接続されていてもよい。すなわち、静電チャック10がドライバ電極50や給電側ビア41,42を備えないとしてもよい。また、ドライバ電極50が、それぞれ一対の給電端子21,22に導通する複数対の導電領域を備え、複数のヒータ電極500の一部が一対の導電領域に導通し、複数のヒータ電極500の他の一部が他の一対の導電領域に導通するとしてもよい。   In the above embodiment, each heater electrode 500 is connected to a pair of power supply terminals (first power supply terminal 21 and second power supply region 52) via a pair of conductive regions (first conductive region 51 and second conductive region 52) in the driver electrode 50. Although connected to the second power supply terminal 22), each heater electrode 500 may be connected to a pair of power supply terminals without passing through the driver electrode 50. That is, the electrostatic chuck 10 may not include the driver electrode 50 and the power supply side vias 41 and 42. Further, the driver electrode 50 includes a plurality of pairs of conductive regions that are electrically connected to the pair of power supply terminals 21 and 22, respectively, and part of the plurality of heater electrodes 500 is electrically connected to the pair of conductive regions. May be electrically connected to another pair of conductive regions.

また、上記実施形態において、第1のヒータ側ビア61、第2のヒータ側ビア62、第1の給電側ビア41、および、第2の給電側ビア42は、それぞれ、単数のビアにより構成してもよいし、複数のビアのグループにより構成してもよい。図9は、変形例におけるヒータ電極500bの構成を概略的に示す説明図である。図9に示す変形例のヒータ電極500bでは、第1のヒータ側ビア61および第2のヒータ側ビア62が、それぞれ、3つのビアのグループにより構成されている。   In the above embodiment, each of the first heater side via 61, the second heater side via 62, the first power supply side via 41, and the second power supply side via 42 is constituted by a single via. It may be configured by a group of a plurality of vias. FIG. 9 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the heater electrode 500b in a modified example. In the heater electrode 500b of the modification shown in FIG. 9, the first heater side via 61 and the second heater side via 62 are each configured by a group of three vias.

また、上記実施形態におけるセグメントSEの設定態様は、任意に変更可能である。また、上述したヒータ電極500の構成は、静電チャック10が備えるすべてのヒータ電極500において実現されている必要はなく、少なくとも1つのヒータ電極500において実現されていればよい。  Moreover, the setting aspect of the segment SE in the said embodiment can be changed arbitrarily. Further, the configuration of the heater electrode 500 described above need not be realized in all the heater electrodes 500 included in the electrostatic chuck 10, and may be realized in at least one heater electrode 500.

また、上記実施形態では、各ヒータ電極500がセラミックス板100の内部に配置されているが、各ヒータ電極500がセラミックス板100とベース部材200との間に配置されるとしてもよい。   In the above embodiment, each heater electrode 500 is disposed inside the ceramic plate 100, but each heater electrode 500 may be disposed between the ceramic plate 100 and the base member 200.

また、上記実施形態では、セラミックス板100の内部に1つのチャック電極400が設けられた単極方式が採用されているが、セラミックス板100の内部に一対のチャック電極400が設けられた双極方式が採用されてもよい。また、上記実施形態の静電チャック10における各部材を形成する材料は、あくまで例示であり、各部材が他の材料により形成されてもよい。   In the above-described embodiment, a monopolar system in which one chuck electrode 400 is provided inside the ceramic plate 100 is employed, but a bipolar system in which a pair of chuck electrodes 400 is provided inside the ceramic plate 100 is employed. It may be adopted. Moreover, the material which forms each member in the electrostatic chuck 10 of the said embodiment is an illustration to the last, and each member may be formed with another material.

また、本発明は、静電引力を利用してウェハWを保持する静電チャック10に限らず、セラミックス板の表面上に対象物を保持する他の保持装置(例えば、CVDヒータ等のヒータ装置や真空チャック等)にも適用可能である。   In addition, the present invention is not limited to the electrostatic chuck 10 that holds the wafer W using electrostatic attraction, but other holding devices (for example, a heater device such as a CVD heater) that holds an object on the surface of a ceramic plate. Or a vacuum chuck).

10:静電チャック 11:第1の端子用孔 12:第2の端子用孔 21:第1の給電端子 22:第2の給電端子 31:第1の電極パッド 32:第2の電極パッド 41:第1の給電側ビア 42:第2の給電側ビア 50:ドライバ電極 51:第1の導電領域 52:第2の導電領域 61:第1のヒータ側ビア 62:第2のヒータ側ビア 100:セラミックス板 120:凹部 200:ベース部材 210:冷媒流路 220:貫通孔 300:接着層 320:貫通孔 400:チャック電極 500:ヒータ電極 501:第1のヒータパッド部 502:第2のヒータパッド部 504:ヒータ線部 510:第1のビア側部分 511:円周状部分 512:直線状部分 513:第1の特定円周状部分 520:第2のビア側部分 521:円周状部分 522:直線状部分 523:第2の特定円周状部分 530:第1の接続部分 531:第1の直線状部分 540:第2の接続部分 542:第2の直線状部分 550:折り返し部分 10: electrostatic chuck 11: first terminal hole 12: second terminal hole 21: first power supply terminal 22: second power supply terminal 31: first electrode pad 32: second electrode pad 41 : First power supply side via 42: second power supply side via 50: driver electrode 51: first conductive region 52: second conductive region 61: first heater side via 62: second heater side via 100 : Ceramic plate 120: Concave portion 200: Base member 210: Refrigerant flow path 220: Through hole 300: Adhesive layer 320: Through hole 400: Chuck electrode 500: Heater electrode 501: First heater pad portion 502: Second heater pad Portion 504: Heater wire portion 510: First via side portion 511: Circumferential portion 512: Linear portion 513: First specific circumferential portion 520: Second via side portion 521: Circumferential portion 522: Linear portion 523: Second specific circumferential portion 530: First connection portion 531: First linear portion 540: Second connection portion 542: Second linear shape Part 550: Folded part

Claims (4)

略円形平面状の第1の表面を有するセラミックス板と、
前記セラミックス板の少なくとも一部を前記第1の表面の中心点を中心とする円周方向に並ぶ複数のセグメントに分割したときの各前記セグメント内に配置された抵抗発熱体であるヒータ電極であって、ヒータ電極の両端を構成する一対のヒータパッド部と、前記一対のヒータパッド部の間を結ぶ線状のヒータ線部と、を備えるヒータ電極と、
一対の給電端子と、
各前記ヒータ電極について設けられ、前記一対のヒータパッド部の一方のヒータパッド部と前記一対の給電端子の一方の給電端子とを電気的に接続する第1のビアと、
各前記ヒータ電極について設けられ、前記円周方向において前記第1のビアと並ぶ位置に配置され、前記一対のヒータパッド部の他方のヒータパッド部と前記一対の給電端子の他方の給電端子とを電気的に接続する第2のビアと、
を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、
前記一対のヒータパッド部の断面積は、前記ヒータ線部の断面積よりも大きく、
少なくとも1つの前記ヒータ電極である特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と前記他方のヒータパッド部との間の領域に位置する複数の折り返し部分を含むことを特徴とする、保持装置。
A ceramic plate having a substantially circular planar first surface;
A heater electrode which is a resistance heating element disposed in each segment when at least a part of the ceramic plate is divided into a plurality of segments arranged in a circumferential direction centering on a center point of the first surface. A heater electrode comprising: a pair of heater pad portions constituting both ends of the heater electrode; and a linear heater wire portion connecting the pair of heater pad portions;
A pair of power supply terminals;
A first via that is provided for each of the heater electrodes and electrically connects one heater pad portion of the pair of heater pad portions and one power supply terminal of the pair of power supply terminals;
Provided for each of the heater electrodes, arranged in a position aligned with the first via in the circumferential direction, and the other heater pad portion of the pair of heater pad portions and the other power supply terminal of the pair of power supply terminals. A second via for electrical connection;
A holding device for holding an object on the first surface of the ceramic plate,
The cross-sectional area of the pair of heater pad portions is larger than the cross-sectional area of the heater wire portion,
The heater wire portion of the specific heater electrode that is at least one of the heater electrodes includes a plurality of folded portions positioned in a region between the one heater pad portion and the other heater pad portion in the circumferential direction. A holding device.
請求項1に記載の保持装置において、
前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向に略平行な第1の円周状部分であって、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と並び、かつ、前記一方のヒータパッド部に対して前記他方のヒータパッド部とは反対側の領域に位置する第1の円周状部分を含むことを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 1, wherein
The heater wire portion of the specific heater electrode is a first circumferential portion substantially parallel to the circumferential direction, and is aligned with the one heater pad portion in the circumferential direction, and the one heater A holding device comprising a first circumferential portion located in a region opposite to the other heater pad portion with respect to the pad portion.
請求項2に記載の保持装置において、
前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、前記円周方向に略平行な第2の円周状部分であって、前記円周方向において前記他方のヒータパッド部と並び、かつ、前記他方のヒータパッド部に対して前記一方のヒータパッド部とは反対側の領域に位置する第2の円周状部分を含むことを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 2,
The heater wire portion of the specific heater electrode is a second circumferential portion substantially parallel to the circumferential direction, and is aligned with the other heater pad portion in the circumferential direction, and the other heater A holding device comprising a second circumferential portion located in a region opposite to the one heater pad portion with respect to the pad portion.
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部は、
前記一方のヒータパッド部に接続された第1のビア側部分であって、前記円周方向において前記一方のヒータパッド部と重ならない領域に、前記円周方向に略平行な複数の円周状部分を含む第1のビア側部分と、
前記他方のヒータパッド部に接続された第2のビア側部分であって、前記円周方向において前記他方のヒータパッド部と重ならない領域に、前記円周方向に略平行な複数の円周状部分を含む第2のビア側部分と、
前記第1のビア側部分と前記複数の折り返し部分とを接続する第1の接続部分であって、前記円周方向において前記第1のビア側部分の前記複数の円周状部分と前記第2のビア側部分の前記複数の円周状部分との間の領域に、前記円周方向に略直交する第1の直線状部分を含む第1の接続部分と、
前記第2のビア側部分と前記複数の折り返し部分とを接続する第2の接続部分であって、前記円周方向において前記第1のビア側部分の前記複数の円周状部分と前記第2のビア側部分の前記複数の円周状部分との間の領域に、前記円周方向に略直交する第2の直線状部分であって、前記特定ヒータ電極の前記ヒータ線部の他の部分を介さずに前記第1の直線状部分と隣り合う第2の直線状部分を含む第2の接続部分と、
を含むことを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 3,
The heater wire portion of the specific heater electrode is
A first via side portion connected to the one heater pad portion, and a plurality of circumferential shapes substantially parallel to the circumferential direction in a region not overlapping with the one heater pad portion in the circumferential direction A first via side portion including a portion;
A second via-side portion connected to the other heater pad portion, and a plurality of circumferential shapes substantially parallel to the circumferential direction in a region not overlapping the other heater pad portion in the circumferential direction A second via side portion including the portion;
A first connecting portion for connecting the first via side portion and the plurality of folded portions, wherein the plurality of circumferential portions and the second portion of the first via side portion in the circumferential direction; A first connecting portion including a first linear portion substantially orthogonal to the circumferential direction in a region between the plurality of circumferential portions of the via-side portion of
A second connecting portion that connects the second via-side portion and the plurality of folded-back portions, wherein the plurality of circumferential portions of the first via-side portion and the second in the circumferential direction; In the region between the plurality of circumferential portions of the via-side portion, the second linear portion substantially orthogonal to the circumferential direction, and the other portion of the heater wire portion of the specific heater electrode A second connecting part including a second linear part adjacent to the first linear part without interposing,
A holding device.
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