JP2018114202A - 除染装置及びそれを備える空気清浄システム - Google Patents

Abstract

【課題】短時間に十分な除染を行うことができるとともに、使用される除染剤の種類に関わらず結露液の発生を防止可能な除染装置及びそれを備える空気清浄システムを提供する。【解決手段】細胞調製室８０の空気が吸い込まれる空気吸込口１００ａと、空気吸込口１００ａから吸い込まれた空気に対し、過酸化水素ガスを放出する過酸化水素ガス発生装置１３１と、過酸化水素ガスを放出した後の空気が拡散口１００ｂを通じて細胞調製室８０に給気されることで、細胞調製室８０の除染を行う拡散ファン１０４と、パスボックス１０１，１０２と、過酸化水素ガスを放出した後の空気が通風口１００ｄ，１００ｅを通じて前記物品収納庫の内部に給気されることで、パスボックス１０１，１０２の内部の除染を行うパスボックス用ファン１１２と、を備える。【選択図】図２

Description

本発明は、除染装置及びそれを備える空気清浄システムに関する。

近年の医療技術の進歩により、再生医療に対する関心が高まっている。再生医療は、ＥＳ細胞や幹細胞、ｉＰＳ細胞等のヒトから採取された細胞を人工的に培養し、皮膚や軟骨等の細胞としてヒトに移植する技術である。細胞培養時の大きな課題として、細胞が調製（培養）される細胞調製室において、培養中の細胞に他の細胞や生菌の混入を抑制する点がある。特に、培養中の細胞に対し、他の培養中の細胞が混入する、所謂クロスコンタミネーション（交叉汚染）は十分に防止されるべき課題である。従って、細胞調製室の内部における除染（殺菌や除菌の概念を含む、以下同じ）は重要な課題である。

また、細胞調製室には、細胞調製室と、細胞調製室に隣接して設置されたクリーン廊下との間で培養器具等の授受を簡便にするため、パスボックスが設置されることが多い。このパスボックスにおいて、細胞調製室の側には扉が設けられ、また、クリーン廊下側にも扉が設けられている。そして、これらの扉の双方が同時に開けられることはない。そのため、クリーン廊下側の扉が開けられた場合には、当該扉が閉じられた後にパスボックスの内部の除染が行われることがある。これにより、その後に細胞調製室の側の扉が開けられた場合であっても、細胞調製室の内部の清浄度が維持される。

このような細胞調製室及びパスボックスの内部の除染に関する技術として、特許文献１に記載の技術が知られている。特許文献１には、培養室を備えた培養装置が着脱可能なアイソレータは、前記培養装置が装着される際に前記培養室と連通される作業室と、前記作業室に連通され、かつ、前記作業室内に搬入する物品を滅菌可能な収納室と、前記作業室と前記収納室とを連通するための第１開口部を密閉可能な第１扉と、前記収納室に物品を搬入するための第２開口部を密閉可能な第２扉と、前記収納室の温度、二酸化炭素の濃度、及び、湿度のうち少なくとも１つを調整する調整装置と、を備えることが記載されている。

特開２０１６−２８６１３号公報（特に［要約］の項目を参照）

特許文献１に記載の技術では、作業室及びパスボックスのそれぞれに、独立して過酸化水素ガスが供給されている（特許文献１の段落００１２及び図１を参照）。そして、これらの過酸化水素ガスは、触媒により不活性化された後、外部に排出されている（同段落００３０を参照）。この特許文献１に記載の技術では、除染時に過酸化水素が作業室からそのまま排出される。そのため、大きな空間を有する作業室の内部での過酸化水素濃度が高くなりにくく、除染が不十分になる可能性がある。従って、十分な除染を行おうとすれば、長時間の除染が必要になる可能性がある。

また、作業室とパスボックスとの内容積を比較すると、パスボックスの内容積の方がずっと小さい。そのため、作業室とパスボックスとに対して同じ濃度の過酸化水素ガスが供給されると、例えば夏場の高湿の空気や冬場の低温の空気がそのまま供給されれば、過酸化水素ガスが供給された際、特にパスボックスの内部壁面に結露液（凝縮液）が発生する可能性がある。

そして、この結露液は高濃度の過酸化水素含有液となるため、作業室やパスボックスの内部での気相中の過酸化水素ガスの濃度が変化し、この点でも、短時間で十分な除染を行うことができない可能性がある。さらには、高濃度の過酸化水素を含有する結露液が生成する結果、当該結露液の部分での酸化力（殺菌力）が局所的に大きくなる。その結果、結露液が生じた部分での腐食が進行し易くなる。従って、除染の際には、結露液の発生が十分に防止されることが好ましい。特に、特許文献１に記載のような過酸化水素ガス（除染剤）のみならず、他の除染剤を使用するときにおいても、結露液の発生が十分に防止されることが好ましい。

本発明はこれらの課題に鑑みて為されたものであり、本発明が解決しようとする課題は、短時間に十分な除染を行うことができるとともに、使用される除染剤の種類に関わらず結露液の発生を防止可能な除染装置及びそれを備える空気清浄システムを提供することである。

本発明者らは前記課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、以下の知見を見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、空気調和が行われた空気清浄室に設置される物品収納庫と、前記空気清浄室との双方の除染を行う除染装置であって、前記空気清浄室の内部の空気が吸い込まれる空気吸込口と、当該空気吸込口から吸い込まれた空気に対し、ガス状の除染剤を放出する除染剤放出装置と、当該除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記空気清浄室の内部に給気されるように形成された第一通風口を通じて前記空気清浄室の内部に給気されることで、前記空気清浄室の除染を行う第一給気装置と、内部に物品を収納可能な物品収納庫と、前記除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記物品収納庫の内部に給気可能になるように形成された第二通風口を通じて前記物品収納庫の内部に給気されることで、前記物品収納庫の内部の除染を行う第二給気装置と、を備えることを特徴とする、除染装置に関する。その他の解決手段は発明を実施するための形態において後記する。

本発明によれば、短時間に十分な除染を行うことができるとともに、結露液の発生を防止可能な除染装置及びそれを備える空気清浄システムを提供することができる。

第一実施形態の除染装置を備える細胞調製室の構成を示す図である。 第一実施形態の除染装置の装置構成を示す図である。 細胞調製室において第一実施形態の除染装置が設置される場所を示す平面図である。 第一実施形態の除染装置を使用した細胞調製室及びパスボックスの内部の除染時のフローを示す図である。 第二実施形態の除染装置の装置構成を示す図である。 図５に示す第二実施形態の除染装置に供えられた流量制御部材を示す図であり、（ａ）はガス流量が多いとき、（ｂ）はガス流量が少ないときの様子である。 第三実施形態の除染装置の装置構成を示す図である。 第四実施形態の除染装置の装置構成を示す図である。

以下、図面を適宜参照しながら、本発明を実施するための形態（本実施形態）を説明する。なお、各図において、図示の都合上又は図示の簡略化のため、部材や装置の一部の図示を省略して記載することがある。また、各図において、同じ部材や装置については同じ符号を付すものとし、重複する説明は省略する。

図１は、第一実施形態の除染装置１００を備える細胞調製室８０の構成を示す図である。細胞調製室８０には、安全キャビネット６０が設置されており、この内部で作業員が作業可能になっている。また、細胞調製室８０には、二つのパスボックス１０１，１０２が備えられている。このパスボックス１０１，１０２のそれぞれには、細胞調製室８０側に配置された扉１２０，１２０と、クリーン廊下９０側に配置された扉１２１，１２１とが備えられている。そして、この扉１２０，１２０，１２１，１２１が開けられることで、パスボックス１０１，１０２の内部に、細胞培養に使用される機器（培養機器、図示しない）等の物品を収容可能になっている。これにより、細胞調製室８０とクリーン廊下９０との間で、物品の授受が可能になっている。なお、細胞調製室８０側に配置された扉１２０，１２０と、クリーン廊下９０側に配置された扉１２１，１２１とは、同時には開かないようになっている。

また、細胞培養終了後の細胞調製室８０、及び、扉１２０，１２０，１２１，１２１のいずれか一つが開けられた後のパスボックス１０１，１０２の内部は、パスボックス１０１，１０２と一体になって構成された除染装置１００によって除染される。即ち、この除染装置１００は、パスボックス１０１，１０２とともに、細胞調製室８０に設置される。除染装置１００の装置構成及びその設置位置は、図２及び図３を参照しながら後記する。

細胞調製室８０には、通常時には、吸気ダクト１０を通じて、清浄な空気が供給される。具体的には、図示しないガラリ等を通じて取り込まれた外気が、空調装置１１において温度や湿度を調整された後（空気調和された後）、図示しない給気ファンにより、定風量制御装置１２、気密ダンパ１３及びＨＥＰＡフィルタ１５を通じて、細胞調製室８０に供給される。なお、この気密ダンパ１３は、細胞調製室８０への通風時（通常時）には全開になっている。一方で、除染装置１００による細胞調製室８０の除染時には、気密ダンパ１３はモータ１４によって全閉にされる。この制御の詳細は、図４を参照しながら後記する。

一方で、細胞調製室８０からは、通常時には、排気ダクト２０を通じて、外部に排気される。具体的には、図示しない排気ファンにより、ＨＥＰＡフィルタ２１を通じて、気密ダンパ２２、室圧制御ダンパ２４及び定風量制御装置２６を通じて、細胞調製室８０の内部の空気が外部に排気される。これらのうち、室圧制御ダンパ２４にはアクチュエータ２５が接続されており、アクチュエータ２５によって室圧制御ダンパ２４の開度が制御されることで、細胞調製室８０の室圧が制御される。また、気密ダンパ２２は、細胞調製室８０からの排気時（通常時）には全開になっている。一方で、除染装置１００による細胞調製室８０の除染時には、気密ダンパ２２はモータ２３によって全閉にされる。この制御の詳細は、図４を参照しながら後記する。

次に、細胞調製室８０に備えられる除染装置１００の設備構成について、図２を参照しながら説明する。

図２は、第一実施形態の除染装置１００の装置構成を示す図である。除染装置１００には、前記のように二つのパスボックス１０１，１０２が備えられている、そして、除染装置１００には、パスボックス１０１の外部かつ上方に形成され、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の除染時に過酸化水素ガスが通流するチャンバ１０５が形成されている。また、除染装置１００には、パスボックス１０２の下方に形成され、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の除染時に細胞調製室８０の内部の空気が通流するチャンバ１０７が形成されている。

除染装置１００の下方に形成されたチャンバ１０７と、除染装置１００の上方に形成されたチャンバ１０５とは、除湿装置１３０及び過酸化水素ガス発生装置１３１を介して、通風管１３２，１３３により接続されている。これらのうち、除湿装置１３０は、例えばシリカ等の吸湿剤を備えて構成される。また、過酸化水素ガス発生装置１３１は、チャンバ１０５に送風するためのファン１３１ａのほか、いずれも図示しないが、液体の過酸化水素を貯留するタンクや蒸発機等を備えて構成される。そして、蒸発機によって液体の過酸化水素が気化して過酸化水素ガス（ガス状の過酸化水素）が生成し、生成した過酸化水素ガスが、ファン１３１ａの稼働により空気に載せられて通風管１３３を通じ、チャンバ１０５に放出される。

従って、過酸化水素ガス発生装置１３１のファン１３１ａの稼働により、吸込口１００ａを介して、細胞調製室８０の内部の空気がチャンバ１０７に取り込まれる。そして、チャンバ１０７に取り込まれた空気は、通風管１３２を通じて除湿装置１３０に供給され、除湿される。除湿装置１３０で除湿された空気は過酸化水素ガス発生装置１３１に供給され、過酸化水素ガスを受け取った後、通風管１３３を通じて、チャンバ１０５に供給される。このチャンバ１０５で過酸化水素ガスを受け取った空気は、詳細は後記するが、拡散口１００ｂを通じて、細胞調製室８０に給気される。従って、このチャンバ１０７、過酸化水素ガス発生装置１３１及びチャンバ１０５を介して、細胞調製室８０の内部の空気が循環していることになる。

このチャンバ１０５では、前記の吸込口１００ａとは異なる吸込口１００ｃを通じて、細胞調製室８０の内部の空気が取り込まれる。ここで、この吸込口１００ｃについて、図３を参照しながら説明する。

図３は、細胞調製室８０において第一実施形態の除染装置１００が設置される場所を示す平面図（上面図）である。図３に示すように、除染装置１００は細胞調製室８０の角の部分に設置される。そして、除染装置１００の正面側（安全キャビネット５０の側）には、前記のように吸込口１００ａ及び拡散口１００ｂが形成されている（図２を併せて参照）。一方で、除染装置１００の側方であって上方（前記のチャンバ１０５と同じ高さ位置）には、吸込口１００ｃが形成されている。

この吸込口１００ｃは、細胞調製室８０とチャンバ１０５とを連通するものである。従って、この吸込口１００ｃを通じてチャンバ１０５に取り込まれた空気は、その通流方向を９０°曲げられ、前記の図２を参照しながら説明した拡散口１００ｂを通じて、細胞調製室８０に給気される。即ち、細胞調製室８０では、除染装置１００により、空気が循環していることになる。

前記の図２に戻り、チャンバ１０５において、拡散ファン１０４の稼働によって、この吸込口１００ｃを通じて取り込まれた空気に対し、過酸化水素ガス発生装置１３１において生成した過酸化水素ガスが放出されることになる。そして、この過酸化水素ガスが放出された空気は、拡散ファン１０４の稼働により、拡散口１００ｂを通じて、細胞調製室８０に供給される。これにより、細胞調製室８０の内部の除染が行われる。なお、この拡散ファン１０４は一定速度で回転しており、細胞調製室８０への給気量も一定である。

また、除染装置１００では、その上方に形成されたチャンバ１０５と、パスボックス１０１と、パスボックス１０２とは、連通している。具体的には、チャンバ１０５とパスボックス１０１とは、通風口１００ｄ，１００ｅを介して連通している。また、パスボックス１０１とパスボックス１０２とは、通風口１００ｄ，１００ｅを介して連通している。

これらのうち、チャンバ１０５とパスボックス１０１とを連通させる通風口１００ｄには、チャンバ１０５からパスボックス１０１への空気の流れを生じさせるパスボックス用ファン１０８が設けられている。これにより、通風口１００ｄを通じて、チャンバ１０５からパスボックス１０１に空気が流れ、チャンバ１０５の過酸化水素ガスを含む空気がパスボックス１０１に給気される。そして、パスボックス１０１の内部の除染が行われる。

一方で、チャンバ１０５とパスボックス１０１とを連通させる通風口１００ｅには、ファンは設けられていない。そのため、前記のパスボックス用ファン１０８が稼働することでチャンバ１０５からパスボックス１０１への空気の流れが生じれば、この通風口１００ｅには、パスボックス１０１からチャンバ１０５への空気の流れが生じることになる。即ち、チャンバ１０５とパスボックス１０１との間で、過酸化水素ガスを含む空気が循環していることになる。

なお、パスボックス用ファン１０８には、インバータ１０９が接続されている。そして、後記するセンサ１１６による測定値に基づいて、このインバータ１０９の周波数が制御されることで、パスボックス用ファン１０８の回転速度が制御される。これにより、チャンバ１０５からパスボックス１０１に供給される空気量（過酸化水素ガスの量）が制御される。

さらに、パスボックス１０１とパスボックス１０２とを連通させる通風口１００ｄには、パスボックス１０１からパスボックス１０２への空気の流れを生じさせるパスボックス用ファン１１２が設けられている。これにより、パスボックス１０１を経由して給気されたチャンバ１０５からの過酸化水素ガスを含む空気が、パスボックス１０２に給気される。そして、パスボックス１０２の内部の除染が行われる。

一方で、パスボックス１０１とパスボックス１０２とを連通させる通風口１００ｅには、ファンは設けられていない。そのため、前記のパスボックス用ファン１１２が稼働することでパスボックス１０１からパスボックス１０２への空気の流れが生じれば、パスボックス１０１，１０２の内圧の上昇により、この通風口１００ｅには、パスボックス１０２からパスボックス１０１への空気の流れが生じることになる。即ち、チャンバ１０５とパスボックス１０２との間で、パスボックス１０１を介して、過酸化水素ガスを含む空気が循環していることになる。

このことを換言すれば、チャンバ１０５により過酸化水素ガスを放出された空気は、通風口１００ｄ、パスボックス１０１、通風口１００ｄ、パスボックス１０２、通風口１００ｅ、パスボックス１０１及び通風口１００ｅを介して、チャンバ１０５（過酸化水素ガスが放出された場所）に戻されるようになっている（即ち、これらにより、戻り通風路が形成されている）。

なお、パスボックス用ファン１１２は、前記のパスボックス用ファン１０８とは異なり、一定の回転速度で稼働している。そのため、パスボックス１０１からパスボックス１０２への給気量は一定になっている。

さらに、チャンバ１０５から最も離れたパスボックス１０２の内部底面近傍には、過酸化水素ガスの濃度を測定するセンサ１１６が設けられている。このセンサ１１６は、図２において破線で示す電気信号線により、演算制御装置５０に接続されている。そして、前記のように、このセンサ１１６により測定された値、即ち、パスボックス１０２での過酸化水素ガスの濃度に応じて、インバータ１０９の周波数制御を介して、パスボックス用ファン１０８の回転速度が制御される。

なお、演算制御装置５０は、いずれも図示しないが、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）、Ｉ／Ｆ（インターフェイス）等を備えて構成される。そして、演算制御装置５０は、ＲＯＭに格納されている所定の制御プログラムがＣＰＵによって実行されることにより具現化される。

前記の図１に示す細胞調製室８０において、細胞の調製（培養）が完了し、新たに別の細胞の調製が開始される場合、クロスコンタミネーションの防止等の観点から、新たな別の細胞の調製開始前に細胞調製室８０の除染が行われる。また、これに伴い、パスボックス１０１，１０２に収納された培養器具（図示しない）等も含め、パスボックス１０１，１０２内の除染も行われる。細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の除染は、前記のように除染装置１００によって行われる。

図４は、第一実施形態の除染装置１００を使用した細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の内部の除染時のフローを示す図である。このフローは、前記の演算制御装置５０（図２参照）によって行われる。なお、図４には、説明の便宜上、細胞調製室８０に対する空調の終了及び再開に関するステップも示している。以下、図４のフローの説明を、適宜図１及び図２を参照しながら説明する。

まず、除染に先立って、演算制御装置５０は、空調装置１１及び図示しない給排気ファンを停止し、細胞調製室８０の空調及び給排気を停止する（ステップＳ１０１）。そして、演算制御装置５０は、モータ１４，２３を操作して、気密ダンパ１３，２２を全閉にする（ステップＳ１０２）。これにより、細胞調製室８０の内部は、空調された空気が充満している状態で、気密にされる。

次いで、演算制御装置５０は、過酸化水素ガス発生装置１３１の稼働を開始する（ステップＳ１０３）。これにより、過酸化水素ガス発生装置１３１において、過酸化水素ガスが生成し始め、過酸化水素ガス発生装置１３１に内蔵されたファン１３１ａにより、チャンバ１０５に過酸化水素ガスが放出され始める。そして、この状態で、演算制御装置５０は、拡散ファン１０４及びパスボックス用ファン１０８，１１２の稼働を開始する（ステップＳ１０４）。

なお、拡散ファン１０４及びパスボックス用ファン１１２の回転速度は予め定められた速度とし、これらの回転速度は除染装置１００では前記のように一定である。一方で、パスボックス用ファン１０８の回転速度は、最初は予め定められた速度とされるが、後記するセンサ１１６での測定値に基づいてインバータ１０９の周波数が変更され、パスボックス用ファン１０８の回転速度が適宜変更される。即ち、除染装置１００では、パスボックス用ファン１０８の回転速度は可変である。

そして、所定時間経過後、演算制御装置５０は、センサ１１６により、パスボックス１０２の底面近傍の過酸化水素濃度を測定する（ステップＳ１０５）。そして、演算制御装置５０は、測定された濃度が予め定められた濃度（設定濃度）より大きいか否かを判断する（ステップＳ１０６）。ここでいう設定濃度とは、チャンバ１０５からみて最も下流側であるパスボックス１０２の内部濃度が当該設定濃度以上であれば、その上流側であるパスボックス１０１，１０２の双方を十分に除染可能な程度の値を表している。従って、このステップＳ１０６において、センサ１１６により測定された濃度が設定濃度以上であれば、パスボックス１０１，１０２の内部の除染は十分に行われると考えられる。そこで、演算制御装置５０は、この場合には（Ｙｅｓ方向）、パスボックス用ファン１０８の回転速度を維持したまま、所定時間待機する（ステップＳ１０７）。これにより、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の除染が行われる。

一方で、前記のステップＳ１０６において、センサ１１６により測定された濃度が設定濃度以下の場合、特に、過酸化水素ガスの流れで最も下流側となるパスボックス１０２の内部の除染が不十分になる可能性がある。また、パスボックス１０２の内部の除染を十分に行わせるためには、除染時間が長くなる。そこで、この場合には、演算制御装置５０は、インバータ１０９の周波数を大きくし、パスボックス用ファン１０８の回転速度を大きくする（ステップＳ１０８）。これにより、パスボックス１０１，１０２への過酸化水素ガスの供給量が増加する。そして、その後、所定時間経過後、再度前記のステップＳ１０５が行われる。

また、前記のステップＳ１０７において、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２の除染が完了すると、演算制御装置５０は、まず、パスボックス用ファン１０８，１１２の稼働を停止する（ステップＳ１０９）。このとき、拡散ファン１０４の稼働は継続しており、パスボックス１０１，１０２よりも大きな空間を有する細胞調製室８０の除染は引き続き行われる。そして、この状態（細胞調製室８０の除染を継続中）で所定時間待機後、細胞調製室８０の除染が完了する。具体的には、演算制御装置５０は、拡散ファン１０４の稼働を停止する（ステップＳ１１１）。これとともに、演算制御装置５０は、過酸化水素ガス発生装置１３１の稼働を停止する（ステップＳ１１２）。そして、演算制御装置５０は、気密ダンパ１３，２２を全開にし（ステップＳ１１３）、細胞調製室８０の空調を再開する（ステップＳ１１４）。

以上のフローによれば、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２のそれぞれを速やかに除染することができる。また、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２のそれぞれに供給される空気は、細胞調製室８０の内部に存在していた空気である。細胞調製室８０の内部の空気は、予め空調装置１１（図１）によって空調された空気であるから、その空気を除染装置１００を介して循環させても、結露液は生じにくい。そのため、除染装置１００によれば、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２のそれぞれを速やかに除染することができるとともに、過酸化水素ガスを高濃度に含む結露液の発生を防止することもできる。

そして、結露液の発生が防止されることで、生成した結露液に高濃度に含まれる過酸化水素ガスによる局所的な腐食が発生するといった事態が防止される。また、結露液の発生が防止されるため、過酸化水素ガスの濃度が局所的に変化することが防止される。そのため、安定した除染を行うことができる。

また、パスボックス１０１，１０２に供給される空気は、前記のように予め空調された細胞調製室８０の空気である。そのため、このため、細胞調製室８０に供給される過酸化酸素ガス濃度と同じ濃度を有する気体がパスボックス１０１，１０２に供給されても、パスボックス１０１，１０２の内部で露点に達し難い。そのため、パスボックス１０１，１０２の内部での結露液の発生を確実に防止することができる。

さらに、除染装置１００では、図２に示すように、除湿装置１３０が備えられている。これにより、循環する過酸化水素ガスが分解し、空気中の水分（即ち水蒸気）が多くなってきた場合でも、除湿装置１３０により除湿することができる。そのため、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２における結露液の発生をより確実に防止することができる。

また、チャンバ１０５からは、気密になった細胞調製室８０と、気密になった（扉１２０，１０４が閉じられた）パスボックス１０１，１０２との双方に、過酸化水素ガスを含む空気が供給される。そのため、細胞調製室８０及びパスボックス１０１，１０２のいずれにおいても、その内部の空間の過酸化水素ガスの濃度が高まり易くなり、より確実な除染を行うことができる。また、センサ１１６により測定された過酸化水素ガスの濃度に応じて、パスボックス１０１，１０２への過酸化水素ガスの供給量が制御される。そのため、この点でも、パスボックス１０１，１０２の除染を確実に行うことができる。

さらに、細胞調製室８０と、パスボックス１０１，１０２との除染開始は同時であるが、パスボックス１０１，１０２の除染完了後（パスボックス用ファン１０８，１１２の停止後）にも、しばらくの間、細胞調製室８０の除染が引き続き行われる。これにより、パスボックス１０１，１０２よりも大きな空間を有する細胞調製室８０についても十分な除染を行うことができる。特に、パスボックス１０１，１０２の内部の除染について、作業員等が手で拭くことなく除染を行うことができるため、簡便にパスボックス１０１，１０２の内部の除染を行うことができる。

図５は、第二実施形態の除染装置２００の装置構成を示す図である。この除染装置２００では、前記の除染装置１００におけるパスボックス用ファン１０８，１１２に加えて、開口面積を変更可能な流量制御部材２０１が取り付けられている。ただし、これらのパスボックス用ファンのうち、パスボックス用ファン１０８，１１２の回転速度は、除染装置２００では一定になっている。そして、パスボックス用ファン１０８が設置された通風口１００ｄの開口面積は、この流量制御部材２０１によって変更可能である。

図６は、図５に示す第二実施形態の除染装置２００に供えられた流量制御部材２０１を示す図であり、（ａ）は流量が多いとき、（ｂ）は流量が少ないときの様子である。この流量制御部材２０１は、例えば「カメラの絞り（虹彩絞り）」のような構造を有している。

具体的には、流量制御部材２０１は、筐体２０１ａと、その内部に、スライドすることで中央の開口２０１ｃの面積が変更されるスライド部材２０１ｂとを備えて構成される。除染装置２００の稼働開始直後は、図６（ａ）に示す大きさの開口２０１ｃとなっている。そして、前記の除染装置１００と同様に、センサ１１７により測定された濃度が低いときには、多くの過酸化水素ガスがパスボックス１０１，１０２に供給されるように、図６（ｂ）に示すように開口２０１ｃの面積が大きくなる。なお、この開口２０１ｃの大きさの変更は、図５に示したモータ２０２により行われる。

除染装置２００では、過酸化水素ガス発生装置１３１に備えられたファン１３１ａにより、過酸化水素ガスが除染装置２００の最上段に備えられたチャンバ１０５に導かれる。そして、このチャンバ１０５の内部の空気は、一定回転速度のパスボックス用ファン１０８，１１２により一定風量で、パスボックス１０１，１０２への給気が行われる。そして、流量変更部材２０１を利用することで、パスボックス用ファン１０８，１１２の回転速度を一定にしつつ、パスボックス１０１，１０２への流量を変更することができる。

図７は、第三実施形態の除染装置３００の装置構成を示す図である。前記の除染装置１００，２００では、細胞調製室８０とクリーン廊下９０との間での物品の授受を可能にするパスボックス１０１，１０２が備えられていた。しかし、図７に示す除染装置３００では、前記のパスボックス１０１，１０２に代えて、細胞調製室８０の内部で使用される掃除用具等を収納する掃除用具入れ３０１が備えられている。

細胞調製室８０の内部は清浄であるものの、人の出入りや物品の移動があるため、塵埃の堆積等が生じ得る。そのため、細胞調製室８０の内部では、細胞調製室８０の内部でのみ使用される掃除用具を使用して、清掃が行われる。そして、清掃終了後には、図７に示す掃除用具入れ３０１に掃除用具が収納される。そして、この掃除用具入れ３０１の上方には、前記の各実施形態と同様のチャンバ１０５が形成され、当該チャンバ１０５から掃除用具入れ３０１の内部に過酸化水素ガスが供給されるようになっている。これにより、掃除用具の出し入れ時以外には締め切られ、雑菌の繁殖が生じ易い掃除用具入れ３０１であっても、その内部の除染が行われ、清浄な状態が維持される。

図８は、第四実施形態の除染装置４００の装置構成を示す図である。前記の各実施形態では、パスボックス１０１，１０２や掃除用具入れ３０１の下方に形成されるチャンバ１０７は、パスボックス１０１，１０２や掃除用具入れ３０１とは連通していなかった。そのため、パスボックス１０１，１０２や掃除用具入れ３０１の上方に形成されるチャンバ１０５と、パスボックス１０１，１０２や掃除用具入れ３０１との間では、通風口１００ｄ，１００ｅにより、空気が循環していた。

しかし、図８に示す除染装置４００では、通風口１００ｅを形成せずに、パスボックス１０２の底面に、パスボックス１０２とチャンバ１０７とを連通する通風口１００ｆが形成されている。そして、この通風口１００ｆには、パスボックス用ファン１５０が配置されている。このパスボックス用ファン１５０と、前記のパスボックス用ファン１０８，１１２とには、それぞれ、インバータ１５１，１０９，１１３が接続されている。そして、センサ１１６による測定値に基づいて、前記の演算制御装置５０により、インバータ１５１，１０９，１１３の周波数が制御される。これにより、パスボックス用ファン１０８，１１２，１５０の回転速度が制御される。より具体的には、センサ１１６により測定される過酸化水素ガスの濃度が設定濃度（前記の図４参照）より大きくなるように、パスボックス用ファン１０８，１１２，１５０の回転速度が制御される。

除染装置４００では、パスボックス用ファン１０８，１１２，１５０の稼働により、チャンバ１０５の空気（過酸化水素ガスを含む）は、パスボックス１０１，１０２を通じて、チャンバ１０７に排気される。そして、このチャンバ１０７に排気された空気（過酸化水素ガスを含む）は、通風管１３２，１３３を通じて、除湿装置１３０及び過酸化水素ガス発生装置１３１を介して、チャンバ１０５に戻される。従って、除染装置４００では、過酸化水素ガスを含む空気は、チャンバ１０５と、パスボックス１０１，１０２と、チャンバ１０７と、除湿装置１３０と、過酸化水素ガス発生装置１３１との間で、循環している。

このことを換言すれば、チャンバ１０５により過酸化水素ガスを放出された空気は、通風口１００ｄ、パスボックス１０１、通風口１００ｄ、パスボックス１０２、通風口１００ｆ、チャンバ１０７、通風管１３２、除湿剤１３０、過酸化水素ガス発生装置１３１及び通風管１３３を介して、チャンバ１０５（過酸化水素ガスが放出された場所）に戻されるようになっている（即ち、戻り通風路が形成されている）。

このように、細胞培養室８０とチャンバ１０５，１０７との間での空気の循環と同様に、チャンバ１０５，１０７と、パスボックス１０１，１０２との間でも空気が循環するようにすることで、パスボックス１０１，１０２の内部での結露がより確実に防止される。即ち、パスボックス１０１，１０２において、常に上方から下方に向かう空気の流れが生じていることで、過酸化水素ガスが局所的に大きくなることがより確実に防止される。これにより、意図せず露点に到達することがより確実に防止され、結露液の発生がより確実に防止される。

以上、四つの実施形態を挙げながら本発明を説明したが、本発明は前記の実施形態に何ら限定されるものではない。例えば、前記の各実施形態は、必要に応じて、その一部を適宜組み合わせて実施することができる。

例えば、前記の各実施形態では、物品収納庫として、パスボックス１０１，１０２や掃除用具入れ３０１を例示したが、物品収納庫は、例えばインキュベータや作業庫、安全キャビネット、クリーンベンチ等、物品を収納することができるものであれば、どのようなものであってもよい。物品収納庫を除染する際、細胞調製室８０（空気清浄室）内の扉は閉められていることが好ましいが、必ずしも閉められていなくてもよい。

また、除染装置１００〜４００が設置される部屋として細胞調製室８０を例示したが、除染装置１００〜４００が設置される部屋としては、細胞調製室に例示されず、例えばクリーンルーム等、予め空調が行われた部屋であれば、どのようなものであってもよい。

さらに、前記の各実施形態では、チャンバ１０５からパスボックス１０１や掃除用具入れ３０１への給気量のみが制御されるようにした。しかし、例えばパスボックス１０１からパスボックス１０２への給気量を制御したり、パスボックス１０１からチャンバ１０５への排気量を制御したり、パスボックス１０２からチャンバ１０７への排気量を制御したりして、チャンバ１０５からパスボックス１０１，１０２（物品収納庫）の全体への給気量が制御されるようにしてもよい。また、制御対象となるファンの数は一つである必要はなく、二つ以上であってもよい。

また、その制御の指標として、前記の各実施形態では、センサ１１６，１１７が備えられているが、その設置場所は図示の例に何ら限られない。ただし、物品収納庫全体で十分な除染を行う観点から、過酸化水素ガス等の除染剤が放出されるチャンバ１０５からできるだけ離れた部位に設置されることが好ましい。

さらに、使用する除染剤の種類も、前記の過酸化水素ガスのほか、様々なものを使用することができる。特に、空気への放出時に「ガス状」となっていれば、例えば保管時には液体や固体であってもよい。

また、前記の吸込口１００ａ、拡散口１００ｂ、吸込口１００ｃ、通風口１００ｄ，１００ｅ，１００ｆにはそれぞれエアスリットが配置されているが、このエアスリットは配置されていなくてもよい。

１３ 気密ダンパ（除染装置）
１４ モータ（除染装置）
２２ 気密ダンパ（除染装置）
２３ モータ（除染装置）
５０ 演算制御装置
８０ 細胞調製室（空気清浄室）
１００ 除染装置
１００ａ 吸込口（空気吸込口）
１００ｂ 拡散口（第一通風口）
１００ｃ 吸込口（空気吸込口）
１００ｄ 通風口（第二通風口、戻り通風路）
１００ｅ 通風口（戻り通風路）
１００ｆ 通風口（戻り通風路）
１０１ パスボックス（物品収納庫、戻り通風路）
１０２ パスボックス（物品収納庫、戻り通風路）
１０４ 拡散ファン（第一給気装置）
１０５ チャンバ（戻り通風路）
１０７ チャンバ（戻り通風路）
１０８ パスボックス用ファン（第一給気装置、第二給気装置）
１０９ インバータ（第二給気装置）
１１２ パスボックス用ファン（第二給気装置）
１１６ センサ（除染剤濃度測定装置）
１１７ センサ（除染剤濃度測定装置）
１３０ 除湿剤（除湿装置、戻り通風路）
１３１ 過酸化水素ガス発生装置（除染剤放出装置、戻り通風路）
１３１ａ ファン（除染剤放出装置、第二給気装置）
１３２ 通風管（戻り通風路）
１３３ 通風管（除染剤放出装置、戻り通風路）
１５０ パスボックス用ファン（戻り通風路）
２００ 除染装置
２０１ 流量制御部材（開口面積変更部材）
３００ 除染装置
３０１ 掃除用具入れ（物品収納庫）
４００ 除染装置
１０００ 空気清浄システム

Claims (7)

1. 空気調和が行われた空気清浄室に設置される物品収納庫と、前記空気清浄室との双方の除染を行う除染装置であって、
   前記空気清浄室の内部の空気が吸い込まれる空気吸込口と、
   当該空気吸込口から吸い込まれた空気に対し、ガス状の除染剤を放出する除染剤放出装置と、
   当該除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記空気清浄室の内部に給気されるように形成された第一通風口を通じて前記空気清浄室の内部に給気されることで、前記空気清浄室の除染を行う第一給気装置と、
   内部に物品を収納可能な物品収納庫と、
   前記除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記物品収納庫の内部に給気可能になるように形成された第二通風口を通じて前記物品収納庫の内部に給気されることで、前記物品収納庫の内部の除染を行う第二給気装置と、を備えることを特徴とする、除染装置。
2. 前記除染剤放出装置から放出された除染剤を含むこととなった前記物品収納庫の内部の空気が、前記除染剤放出装置により除染剤が放出された場所に戻されるような戻り通風路を備えていることを特徴とする、請求項１に記載の除染装置。
3. 前記除染剤は過酸化水素であり、
   前記戻り通風路の途中には、除湿装置が備えられていることを特徴とする、請求項２に記載の除染装置。
4. 前記第二通風口には、当該第二通風口の開口面積を変更可能な開口面積変更部材が備えられ、
   当該開口面積変更部材により前記開口面積が変更されることで、前記物品収納庫の内部への給気量が変更可能になっていることを特徴とする、請求項３に記載の除染装置。
5. 前記物品収納庫の内部における前記除染剤の濃度を測定する除染剤濃度測定装置と、
   当該除染剤濃度測定装置により測定された除染剤の濃度が予め定められた濃度以下であるときには、前記物品収納庫の内部に供給される除染剤の量を増加させる演算制御装置と、を備えることを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載の除染装置。
6. 前記除染剤濃度測定装置は、前記物品収納庫の内部底面の近傍に設置されていることを特徴とする、請求項５に記載の除染装置。
7. 物品収納庫が設置され、空気調和が行われた空気清浄室と、
   当該空気清浄室の内部の空気が吸い込まれる空気吸込口と、当該空気吸込口から吸い込まれた空気に対し、ガス状の除染剤を放出する除染剤放出装置と、当該除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記空気清浄室の内部に給気されるように形成された第一通風口を通じて前記空気清浄室の内部に給気されることで、前記空気清浄室の除染を行う第一給気装置と、内部に物品を収納可能な物品収納庫と、前記除染剤放出装置から除染剤を放出した後の空気が、前記物品収納庫の内部に給気可能になるように形成された第二通風口を通じて前記物品収納庫の内部に給気されることで、前記物品収納庫の内部の除染を行う第二給気装置と、を備える除染装置と、を有することを特徴する、空気清浄システム。

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