JP2018103078A - Detoxification equipment and detoxification method - Google Patents
Detoxification equipment and detoxification method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018103078A JP2018103078A JP2016249962A JP2016249962A JP2018103078A JP 2018103078 A JP2018103078 A JP 2018103078A JP 2016249962 A JP2016249962 A JP 2016249962A JP 2016249962 A JP2016249962 A JP 2016249962A JP 2018103078 A JP2018103078 A JP 2018103078A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkaline solution
- ruthenium oxide
- oxide gas
- scrubber
- detoxification
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
本発明は、酸化ルテニウムガスを無害化する無害化装置及び無害化方法に関する。 The present invention relates to a detoxifying device and a detoxifying method for detoxifying ruthenium oxide gas.
ルテニウムは、化学触媒としてだけでなく、半導体装置の電極や抵抗素子等の電子部品等に利用されている。これらルテニウム類の生産或いは処理工程からは、主にルテニウムやルテニウム化合物を含有するガスや液が排出され、これらを分離回収する処理方法や設備に関して、従来からさまざまな方法が提案されている。 Ruthenium is used not only as a chemical catalyst but also in electronic parts such as electrodes and resistance elements of semiconductor devices. From these ruthenium production or processing steps, gases and liquids mainly containing ruthenium and ruthenium compounds are discharged, and various methods have been proposed for processing methods and equipment for separating and recovering them.
ルテニウムやルテニウム化合物を分離回収する方法としては、これら物質にハロゲンガス、次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を用いて揮発性の酸化ルテニウム（主に四酸化ルテニウム）とし、回収する酸化蒸留法が一般的に知られている。例えば、特許文献１には、蒸留法を用いて分離回収する方法が開示されている。また、特許文献２には、酸性化のルテニウム溶液内で吸着剤を溶解させた後、アルカリ化することで吸着剤にルテニウムを析出回収する方法が開示されている。 As a method for separating and recovering ruthenium and ruthenium compounds, there is an oxidative distillation method in which these substances are converted into volatile ruthenium oxide (mainly ruthenium tetroxide) using an oxidizing agent such as halogen gas or sodium hypochlorite. Generally known. For example, Patent Document 1 discloses a method for separation and recovery using a distillation method. Patent Document 2 discloses a method for precipitating and collecting ruthenium in an adsorbent by dissolving the adsorbent in an acidified ruthenium solution and then alkalizing it.
これらの回収方法を実際に実施するには、前述の方法に加えて、大小さまざまな前処理、薬剤添加、浸出処理等、多種多様な工程を経てから酸化ルテニウムが精製蒸留されることになる。 In order to actually carry out these recovery methods, ruthenium oxide is purified and distilled after passing through various steps such as pretreatment, addition of chemicals, and leaching treatment in addition to the aforementioned methods.
しかしながら、上述の特許文献１、特許文献２に記載のいずれの各方法、各工程においても、様々な工程処理を行う中で、酸化ルテニウムガスの系外への放出は免れ得ない。 However, in any of the methods and processes described in Patent Document 1 and Patent Document 2 described above, the release of ruthenium oxide gas to the outside of the system cannot be avoided while performing various process treatments.
酸化ルテニウムガスは殆どが四酸化ルテニウムであると考えられるが、非常に粒子が細かい物質でもあり、ミスト状であっても粉塵状であっても、ほとんど通常の気体と変わらないと考えてよいようなガスである。 Most of ruthenium oxide gas is thought to be ruthenium tetroxide, but it is also a substance with very fine particles, and it may be considered that it is almost the same as ordinary gas, whether it is mist or dust. Is a gas.
他にも、特有の刺激臭がある、堆積し周囲を黒色に汚染する、強力な酸化作用を持つため付着した材料等に悪影響を及ぼす、等の性質を有するだけでなく、予期せぬ燃焼を促すことがある、非常に不安定なため自己分解爆発を起こすことがある等のやや危険度の高い特徴も持っている。 In addition to having properties such as a peculiar pungent odor, depositing and contaminating the surroundings in black, and having a strong oxidizing action, it adversely affects attached materials etc., as well as unexpected combustion It also has features with a slightly high degree of danger, such as it may urge, and it may cause a self-decomposing explosion because it is very unstable.
以上述べたように、酸化ルテニウムガスは人間にも環境にも危険性の高い物質であることから、系外に放出することは避けるべきで、確実に捕集・処理することは極めて重要である。 As mentioned above, ruthenium oxide gas is a dangerous substance for both humans and the environment, so it should be avoided to release it out of the system, and it is extremely important to collect and treat it reliably. .
酸化ルテニウムガスは、上述のように、非常に粒子が細かい、燃焼の恐れがある等の特徴から、一般的なフィルタや乾式集塵機、電気集塵機等で捕集・処理することは技術的に困難であり、更に、最悪火災や爆発のおそれもある。一般的に、ルテニウム類の生産や各種処理は、もともと生産量が少ないか極めて限定的な規模での実施が多いため、それほど注目・問題にされてくることは殆どなかったものと思われる。 As described above, ruthenium oxide gas is technically difficult to collect and treat with a general filter, dry dust collector, electric dust collector, etc. due to its very fine particles and the possibility of burning. There is also the danger of a worst fire or explosion. In general, the production and various treatments of rutheniums are likely to have received little attention and problems because they were originally produced in small quantities or on a very limited scale.
しかしながら、今後は、更なる環境負荷低減への取組みとして注目・問題視されてくることになると想定される。 However, in the future, it is expected that attention and problems will be seen as efforts to further reduce environmental impact.
そこで、本発明は、ルテニウム類の各種生産或いは各種処理工程において系外に放出される有害な酸化ルテニウムガスを、安全で、効率的にかつ確実に除去することができる無害化装置及び無害化方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a detoxification device and a detoxification method capable of safely, efficiently and reliably removing harmful ruthenium oxide gas released from the system in various production or processing steps of rutheniums. The purpose is to provide.
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る無害化装置は、ルテニウム化合物を用いたプロセスから生じた酸化ルテニウムガスを無害化する無害化装置であって、
第１のアルカリ溶液を貯留する貯留槽と、該貯留槽に貯留された前記第１のアルカリ溶液中に前記プロセスから生じた前記酸化ルテニウムガスを供給するガス供給手段とを有し、前記酸化ルテニウムガスを前記第１のアルカリ溶液に溶解させる前処理設備と、
該前処理設備から送られてきた含塵ガスを、第２のアルカリ溶液を洗浄液として洗浄し、該前処理設備で除去されなかった前記酸化ルテニウムガスを捕捉するスクラバ設備と、を有する。
In order to achieve the above object, a detoxification apparatus according to an aspect of the present invention is a detoxification apparatus for detoxifying ruthenium oxide gas generated from a process using a ruthenium compound,
A storage tank for storing the first alkaline solution; and a gas supply means for supplying the ruthenium oxide gas generated from the process into the first alkaline solution stored in the storage tank, the ruthenium oxide Pretreatment equipment for dissolving gas in the first alkaline solution;
A scrubber facility that cleans the dust-containing gas sent from the pretreatment facility using the second alkaline solution as a cleaning liquid and captures the ruthenium oxide gas that has not been removed by the pretreatment facility.
本発明によれば、酸化ルテニウムガスを無害化することができる。 According to the present invention, ruthenium oxide gas can be rendered harmless.
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明の第１の実施形態に係る無害化装置及び無害化方法で補足・処理して無害化する物質は、酸化ルテニウムである。ルテニウムは、半導体装置の電極や抵抗素子等の電子部品等に利用されており、これらの生産工程や、触媒として処理工程等で使用され、その時に発生する酸化ルテニウムがガスとなり、工程外に放出されている。本発明の実施形態に係る酸化ルテニウムガスの無害化装置及び無害化方法では、この工程外に放出されるガスの酸化ルテニウムを９９％以上除去すること、又は３０ｍｇ／ｍ３以下、より好ましくは１０ｍｇ／ｍ３として系外に清浄なガスとして排出することを目標値としている。酸化ルテニウムの殆どは四酸化ルテニウムであると考えられるが、非常に粒子が細かい物質でもあり、ミスト状であっても粉塵状であっても、ほとんど通常の気体と同じと考えてよいようなガスである。 The substance to be detoxified by supplementing and treating with the detoxification apparatus and detoxification method according to the first embodiment of the present invention is ruthenium oxide. Ruthenium is used in electronic parts such as electrodes and resistance elements of semiconductor devices, and is used in these production processes and treatment processes as a catalyst. The ruthenium oxide generated at that time becomes a gas that is released outside the process. Has been. In the ruthenium oxide gas detoxification apparatus and detoxification method according to the embodiment of the present invention, 99% or more of ruthenium oxide is removed from the gas released outside this process, or 30 mg / m 3 or less, more preferably 10 mg. The target value is to discharge as / m 3 out of the system as clean gas. Most of ruthenium oxide is thought to be ruthenium tetroxide, but it is also a very fine substance, a gas that can be considered almost the same as normal gas, whether it is mist or dust. It is.
この酸化ルテニウムガスは、強力な酸化作用を持ち、且つ、非常に細かい粒子という特徴がある。これらの特徴から、安全性を考慮すると、乾式集塵機、電気集塵機、乾式フィルタ方式よりも湿式処理方法が好ましい。また、酸化ルテニウムガスは酸性であり、アルカリ溶液への溶解性が高いため、湿式における溶解除去効率性を考慮し、本発明の実施形態に係る無害化装置及び無害化方法では、アルカリ溶液を使用した湿式処理方法を採用した。一般的な湿式処理方法としては、スクラバ設備を使用した方法があるが、この方法では、酸化ルテニウムの除去率は６０％から８５％であり、十分と言える除去率は達成できていない。そこで、発明者は、試行錯誤の結果、本発明を創作するに至った。 This ruthenium oxide gas has a strong oxidizing action and is characterized by very fine particles. From these characteristics, in consideration of safety, the wet processing method is preferable to the dry dust collector, the electrostatic dust collector, and the dry filter method. In addition, since ruthenium oxide gas is acidic and has high solubility in an alkaline solution, the alkaline solution is used in the detoxification device and the detoxification method according to the embodiment of the present invention in consideration of the dissolution and removal efficiency in a wet process. The wet processing method was adopted. As a general wet processing method, there is a method using a scrubber facility, but in this method, the removal rate of ruthenium oxide is 60% to 85%, and a sufficient removal rate cannot be achieved. Therefore, the inventor has created the present invention as a result of trial and error.
以下、本発明の第１の実施形態に係る無害化装置につき、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, a detoxification apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図１は、本発明の第１の実施形態に係る酸化ルテニウムガスの無害化方法を行う、酸化ルテニウムガスの無害化装置の一例を示した模式図である。本発明の実施形態に係る酸化ルテニウムガス無害化装置は、前段に前処理設備２０を有し、後段にスクラバ設備３０を有する。また、前処理設備２０の前段には、関連構成要素として、プロセス装置１０が設けられている。また、スクラバ設備３０の後段には、ミスト処理装置５０と、ブロア６０とが更に設けられている。なお、プロセス装置１０と前処理設備２０とは、ダクト１６を介して接続されている。また、ダクト１６には、ファン１８が設けられている。前処理設備２０とスクラバ設備３０とは、ダクト２６を介して接続されている。同様に、スクラバ設備３０とミスト処理装置５０とはダクト３９を介して接続され、ミスト処理装置５０とブロア６０とは、ダクト５５を介して接続されている。 FIG. 1 is a schematic view showing an example of a ruthenium oxide gas detoxification device that performs the ruthenium oxide gas detoxification method according to the first embodiment of the present invention. The ruthenium oxide gas detoxifying device according to the embodiment of the present invention has a pretreatment facility 20 at the front stage and a scrubber facility 30 at the rear stage. In addition, a process apparatus 10 is provided as a related component in the previous stage of the pretreatment facility 20. Further, a mist processing device 50 and a blower 60 are further provided in the subsequent stage of the scrubber facility 30. The process apparatus 10 and the pretreatment facility 20 are connected via a duct 16. The duct 16 is provided with a fan 18. The pretreatment facility 20 and the scrubber facility 30 are connected via a duct 26. Similarly, the scrubber facility 30 and the mist processing device 50 are connected via a duct 39, and the mist processing device 50 and the blower 60 are connected via a duct 55.
プロセス装置１０は、半導体装置やそれらに用いられる部品の製造を行うためのプロセスを行う装置であり、かかるプロセスにおいて、ルテニウム又はルテニウム化合物が用いられ、酸化ルテニウムガスが発生する。プロセス装置１０は、反応槽１１を備え、ルテニウム又はルテニウム化合物を用いた各生産工程や触媒としての処理工程を、反応槽１１で行う。 The process apparatus 10 is an apparatus that performs a process for manufacturing semiconductor devices and components used in them. In such a process, ruthenium or a ruthenium compound is used, and ruthenium oxide gas is generated. The process apparatus 10 includes a reaction tank 11 and performs each production process using ruthenium or a ruthenium compound and a treatment process as a catalyst in the reaction tank 11.
反応槽１１では、ルテニウム処理に必要なさまざまな物質が反応槽投入口１２から投入され、攪拌機１３により反応を促進するようになっている。反応槽１１内には各種反応に必要な反応物質１４が満たされている。なお、反応槽１１については、ルテニウム処理工程の代表例の一つとして便宜的に記載したもので、槽以外に炉や塔等さまざまな形態が考えられる。本発明の実施形態に係る無害化装置及び無害化方法では、この反応により放出される酸化ルテニウムガス１を処理して無害化し、外系に放出する。 In the reaction tank 11, various substances necessary for ruthenium treatment are introduced from the reaction tank inlet 12, and the reaction is promoted by the stirrer 13. The reaction tank 11 is filled with reactants 14 necessary for various reactions. In addition, about the reaction tank 11, it described for convenience as one of the representative examples of a ruthenium processing process, and various forms, such as a furnace and a tower, can be considered besides a tank. In the detoxification apparatus and the detoxification method according to the embodiment of the present invention, the ruthenium oxide gas 1 released by this reaction is treated to be detoxified and released to the external system.
以下、本発明の実施形態に係る無害化装置の各設備について、個別に説明する。 Hereinafter, each equipment of the detoxification apparatus which concerns on embodiment of this invention is demonstrated separately.
前処理設備２０は、反応槽１１から排出された酸化ルテニウムガス１をアルカリ性の溶液２４に接触させることにより、アルカリ溶液２４に溶解させて吸収させる溶解工程を行うための設備である。よって、前処理設備２０は、前処理槽２１内にアルカリ溶液２４を貯留する。プロセス装置１０の反応槽１１における反応により放出される酸化ルテニウムガス１は、反応槽排気口１５からファン１８の吸引力及び送風力、及びブロア６０の吸引力により、ダクト１６を介して次工程を行う前処理設備２０の前処理槽２１に送られる。なお、ファン１８は必要に応じて設けられてよく、ブロア６０の吸引力、又はガス発生による自然的な拡散力で酸化ルテニウムガス１が前処理槽２１に問題無く送られれば、必ずしもファン１８は設ける必要は無い。しかしながら、ブロア６０と反応槽１１とは相当の距離があり、吸引力が不十分な場合には、ファン１８を設けて、酸化ルテニウムガス１が円滑に、かつ効率的に前処理槽２１に送られるようにすることが好ましい。 The pretreatment facility 20 is a facility for performing a dissolution process in which the ruthenium oxide gas 1 discharged from the reaction vessel 11 is brought into contact with the alkaline solution 24 to be dissolved in the alkaline solution 24 and absorbed. Therefore, the pretreatment facility 20 stores the alkaline solution 24 in the pretreatment tank 21. The ruthenium oxide gas 1 released by the reaction in the reaction tank 11 of the process apparatus 10 is subjected to the next process through the duct 16 by the suction force and blowing force of the fan 18 and the suction force of the blower 60 from the reaction tank exhaust port 15. It is sent to the pretreatment tank 21 of the pretreatment facility 20 to be performed. The fan 18 may be provided as necessary. If the ruthenium oxide gas 1 is sent to the pretreatment tank 21 without any problem by the suction force of the blower 60 or the natural diffusion force due to gas generation, the fan 18 is not necessarily provided. There is no need to provide it. However, if the blower 60 and the reaction tank 11 have a considerable distance and the suction force is insufficient, a fan 18 is provided so that the ruthenium oxide gas 1 is smoothly and efficiently sent to the pretreatment tank 21. It is preferable that
前処理槽２１はアルカリ溶液２４で満たされており、プロセス反応により放出される酸化ルテニウムガス１をアルカリ溶液２４内に供給し、放出することでアルカリ溶液２４に溶解させて吸収させる。なお、ダクト１６から供給された酸化ルテニウムガス１は、ガス供給管２２を介してアルカリ溶液２４内の深い位置に運ばれ、アルカリ溶液２４内に供給される。また、酸化ルテニウムガス１を効率良くアルカリ溶液２４内に供給するために、バブリング装置２３を設けてもよい。送られてきた酸化ルテニウムガス１は、バブリング装置２３により細かい粒子状の気泡となり、気泡表面でアルカリ溶液２４と反応して除去される。前処理槽２１におけるアルカリ溶液２４のｐＨ値は、酸化ルテニウムガス１の処理の観点からは高い方が良いが、処理効率と、前処理槽２１やバブリング装置２３の材料の耐食性とのバランスを考慮すると、１２以上１４以下のｐＨ値に抑えることが好ましい。一般的に、ｐＨ値１０を超えて、１２以上１４以下へと上げることは難しくなってくる。これは、アルカリ溶液２４の投入量が増えるだけでなく、空気中のＣＯ２等と反応してそのレベルを維持するのが難しいからである。今回の前処理設備２０では、バブリング装置２３等は単体の装置であり、外気との接触は比較的少ないため、高ｐＨ値でも維持しやすい構成と言える。また、バブリング装置２３は、駆動部もない機構なので設備自体の耐食性も高い。また、アルカリ溶液２４の薬液は、用途に応じて種々の薬液を用いることができるが、汎用性や価格等の面から、例えば水酸化ナトリウム水溶液を用いることが好ましい。アルカリ溶液２４を通過し、前処理設備２０で除去できなかった酸化ルテニウムガス１は、前処理設部２０の出口２５から、ダクト２６を経由して、スクラバ設備３０の入口３２に送られる。なお、溶解効率を考慮すると、バブリング装置２３を設ける方が好ましいが、酸化ルテニウムガス１をアルカリ溶液２４内に供給するガス供給管２２が設けられていれば安価でルテニウムガス１をアルカリ溶液２４に溶解させることは十分可能であるので、バブリング装置２３は、必要に応じて設けるようにしてよい。 The pretreatment tank 21 is filled with the alkaline solution 24, and the ruthenium oxide gas 1 released by the process reaction is supplied into the alkaline solution 24, and is released and dissolved in the alkaline solution 24 to be absorbed. The ruthenium oxide gas 1 supplied from the duct 16 is carried to a deep position in the alkaline solution 24 via the gas supply pipe 22 and supplied into the alkaline solution 24. Further, in order to efficiently supply the ruthenium oxide gas 1 into the alkaline solution 24, a bubbling device 23 may be provided. The sent ruthenium oxide gas 1 becomes fine particulate bubbles by the bubbling device 23 and reacts with the alkaline solution 24 on the bubble surface to be removed. The pH value of the alkaline solution 24 in the pretreatment tank 21 is preferably higher from the viewpoint of the treatment with the ruthenium oxide gas 1, but the balance between the treatment efficiency and the corrosion resistance of the materials of the pretreatment tank 21 and the bubbling device 23 is taken into consideration. Then, it is preferable to suppress to 12 or more and 14 or less pH value. In general, it becomes difficult to increase the pH value from 10 to 12 and exceeding 14 inclusive. This is because it is difficult not only to increase the input amount of the alkaline solution 24 but also to maintain the level by reacting with CO 2 or the like in the air. In the pretreatment facility 20 of this time, the bubbling device 23 and the like are a single device, and the contact with the outside air is relatively small. Therefore, it can be said that the configuration is easy to maintain even at a high pH value. Further, since the bubbling device 23 is a mechanism having no drive unit, the equipment itself has high corrosion resistance. In addition, as the chemical solution of the alkaline solution 24, various chemical solutions can be used depending on the application, but it is preferable to use, for example, a sodium hydroxide aqueous solution from the viewpoint of versatility and cost. The ruthenium oxide gas 1 that has passed through the alkaline solution 24 and could not be removed by the pretreatment facility 20 is sent from the outlet 25 of the pretreatment facility 20 via the duct 26 to the inlet 32 of the scrubber facility 30. In consideration of dissolution efficiency, it is preferable to provide the bubbling device 23. However, if the gas supply pipe 22 for supplying the ruthenium oxide gas 1 into the alkaline solution 24 is provided, the ruthenium gas 1 is supplied to the alkaline solution 24 at a low cost. Since it can be sufficiently dissolved, the bubbling device 23 may be provided as necessary.
スクラバ設備３０は、前処理設備２０で取りきれなかった酸化ルテニウムガス１をスクラバ洗浄し、より確実に補足・処理する設備である。バブリング装置２３で除去しきれなかった酸化ルテニウムガス１は、前処理槽２１からダクト２６を介して次工程のスクラバ設備３０に送られる。スクラバ設備３０は、スクラバ塔３１と、入口３２と、シャワーノズル３３ａ、３３ｂと、充填材３４ａ、３４ｂと、フィルタ３７と、ポンプ３５とから構成される。スクラバ塔３１の底部は、アルカリ液３６で満たされている。スクラバ設備３０に供給された前処理槽２１で除去しきれなかった酸化ルテニウムガス１は、２段式のシャワーノズル３３ａ、３３ｂにより、アルカリ溶液３６で湿潤された充填材３４ａ、３４ｂに接触反応することで除去される。シャワーノズル３３ａ、３３ｂの構成については、特に限定ははく、充填材３４ａ、３４ｂに均等に不足なくアルカリ溶液３６を噴霧供給することができればよい。スクラバ設備３０の充填材３４ａ、３４ｂについても特に限定は無く、用途に応じて種々の充填材３４ａ、３４ｂを用いてよいが、なるべくアルカリ液３６と酸化ルテニウムガス１との接触がし易くなるように、例えば、比較的小さ目のテラレット、ラシヒリング等を用いることが好ましい。また、図１においては、充填材３４ａ、３４ｂを用いた構成が示されているが、通過する酸化ルテニウムガス１をアルカリ溶液３６で洗浄できる構成であれば、種々のアルカリ溶液３６保持部材を用いることができる。 The scrubber facility 30 is a facility that scrubber-cleans the ruthenium oxide gas 1 that could not be removed by the pretreatment facility 20, and more reliably captures and processes it. The ruthenium oxide gas 1 that could not be removed by the bubbling device 23 is sent from the pretreatment tank 21 through the duct 26 to the scrubber facility 30 in the next step. The scrubber facility 30 includes a scrubber tower 31, an inlet 32, shower nozzles 33 a and 33 b, fillers 34 a and 34 b, a filter 37, and a pump 35. The bottom of the scrubber tower 31 is filled with the alkaline liquid 36. The ruthenium oxide gas 1 that could not be removed in the pretreatment tank 21 supplied to the scrubber facility 30 contacts and reacts with the fillers 34a and 34b wetted with the alkaline solution 36 by the two-stage shower nozzles 33a and 33b. Is removed. The configuration of the shower nozzles 33a and 33b is not particularly limited as long as the alkaline solution 36 can be sprayed and supplied evenly to the fillers 34a and 34b. The fillers 34a and 34b of the scrubber facility 30 are not particularly limited, and various fillers 34a and 34b may be used depending on the application. However, the alkaline liquid 36 and the ruthenium oxide gas 1 can be contacted as easily as possible. For example, it is preferable to use a relatively small terrarette, Raschig ring, or the like. Further, FIG. 1 shows a configuration using the fillers 34a and 34b, but various alkaline solution 36 holding members are used as long as the passing ruthenium oxide gas 1 can be washed with the alkaline solution 36. be able to.
また、図１のスクラバ設備３０においては、２段式のシャワーノズル３３ａ、３３ｂ方式を例示しているが、設置スペースや費用等との兼ね合いで、単段式のシャワーノズルとしても良い。スクラバ設備３０におけるアルカリ溶液３６のｐＨ値も高い方が酸化ルテニウムガス１の捕捉効率は良いが、スクラバ塔３１を含むスクラバ設備３０本体やポンプ３５等の材料の耐食性等から、ｐＨ値で１０以上１２以下に抑えることが望ましい。スクラバ設備３０は、前処理設備２０と異なり常に空気と接触し、ポンプ３５等駆動部も多く、シール部や摺動部の耐食性を考慮すると、高ｐＨでの運転は避ける必要がある。よって、前処理設備２０に貯留されるアルカリ溶液２４よりも、スクラバ設備３０のスクラバ塔３１に貯留されるアルカリ溶液３６のｐＨ値は小さな値となっている。また、アルカリ液３６の薬液は、用途に応じて種々の薬液を用いることができるが、前処理設備２０と同様、汎用性や価格等の面から水酸化ナトリウム水溶液を用いることが好ましい。 Further, in the scrubber facility 30 of FIG. 1, the two-stage shower nozzles 33a and 33b are illustrated, but a single-stage shower nozzle may be used in consideration of installation space and cost. The higher the pH value of the alkaline solution 36 in the scrubber facility 30 is, the better the capture efficiency of the ruthenium oxide gas 1 is. However, due to the corrosion resistance of the materials such as the main body of the scrubber facility 30 and the pump 35 including the scrubber tower 31, the pH value is 10 or more. It is desirable to suppress it to 12 or less. Unlike the pretreatment equipment 20, the scrubber equipment 30 is always in contact with air, and there are many driving parts such as a pump 35. Considering the corrosion resistance of the seal part and the sliding part, it is necessary to avoid operation at high pH. Therefore, the pH value of the alkaline solution 36 stored in the scrubber tower 31 of the scrubber facility 30 is smaller than the alkaline solution 24 stored in the pretreatment facility 20. Various chemical solutions can be used as the chemical solution of the alkaline solution 36 depending on the application, but it is preferable to use a sodium hydroxide aqueous solution from the viewpoint of versatility, cost and the like as in the pretreatment facility 20.
スクラバ塔３１内のシャワーヘッド３３ａ、３３ｂ及び充填材３４ａ、３４ｂよりも上方、つまり酸化ルテニウムガス１の流れにおけるシャワーヘッド３３ａ、３３ｂ及び充填材３４ａ、３４ｂよりも下流側の出口３８付近には、フィルタ３７が設けられている。フィルタ３７は、酸化ルテニウムガス１を含むミストを捕捉するために設けられ、酸化ルテニウムガス１がスクラバ設備３０から放出される前に、比較的大きめのミスト等はフィルタ３７にて補足回収される。 Above the shower heads 33a and 33b and the fillers 34a and 34b in the scrubber tower 31, that is, in the vicinity of the outlet 38 on the downstream side of the shower heads 33a and 33b and the fillers 34a and 34b in the flow of the ruthenium oxide gas 1, A filter 37 is provided. The filter 37 is provided to capture mist containing the ruthenium oxide gas 1, and relatively large mist and the like are supplemented and collected by the filter 37 before the ruthenium oxide gas 1 is released from the scrubber facility 30.
スクラバ設備３０の更に後段には、ミスト処理装置５０が設けられ、ダクト３９を介してスクラバ設備３０の出口が、ミスト処理装置５０の入口５２に接続されている。ミスト処理装置５０は、ケーシング５１内に、酸化ルテニウムガス１を含むミストを捕捉するミスト充填材５３を有する。即ち、フィルタ３７で捕捉回収しきれない比較的細かなミストは、ケーシング５１内にミスト用充填材５３を設置したミスト処理装置５０で回収する。 A mist processing device 50 is provided further downstream of the scrubber facility 30, and an outlet of the scrubber facility 30 is connected to an inlet 52 of the mist processing device 50 through a duct 39. The mist processing apparatus 50 has a mist filler 53 for capturing mist containing the ruthenium oxide gas 1 in the casing 51. That is, relatively fine mist that cannot be captured and collected by the filter 37 is collected by the mist processing device 50 in which the mist filler 53 is installed in the casing 51.
酸化ルテニウムガス１の除去処理がなされた清浄なガス２は、最終的にブロア６０を介して系外に放出される。ミスト処理装置５０の出口５４は、ダクト５５を介してブロア６０の吸入口６２に接続されている。ブロア６０は、例えば、ケーシング６１内に、ファン用の羽根が設けられ、排出口６３から清浄なガス２を排出する。なお、このブロア６０は、排出と同時に、前処理設備２０、スクラバ設備３０、ミスト処理装置５０内での酸化ルテニウムガス１の供給、排出を行っている。但し、前処理設備２０への吸入が不十分な場合には、必要に応じてファン１８を前処理設備２０とプロセス装置１０との間に設けてもよいことは、上述の通りである。 The clean gas 2 from which the ruthenium oxide gas 1 has been removed is finally released out of the system through the blower 60. The outlet 54 of the mist processing device 50 is connected to the suction port 62 of the blower 60 through a duct 55. For example, the blower 60 is provided with fan blades in the casing 61 and discharges the clean gas 2 from the discharge port 63. The blower 60 supplies and discharges the ruthenium oxide gas 1 in the pretreatment facility 20, the scrubber facility 30, and the mist treatment apparatus 50 simultaneously with the discharge. However, as described above, the fan 18 may be provided between the pretreatment facility 20 and the process apparatus 10 as needed when the suction into the pretreatment facility 20 is insufficient.
以上説明した通り、第１の実施形態に係る無害化装置及び無害化方法によれば、反応槽１１から発生した酸化ルテニウムガス１は、前処理槽２１とスクラバ塔３１にてそれぞれアルカリ液２４、３６により処理され、清浄なガス２として大気放出される。 As described above, according to the detoxification apparatus and the detoxification method according to the first embodiment, the ruthenium oxide gas 1 generated from the reaction tank 11 is converted into the alkaline liquid 24 in the pretreatment tank 21 and the scrubber tower 31, respectively. 36 and discharged into the atmosphere as clean gas 2.
図２は、特に酸化ルテニウムガスの処理が困難な場合に有効な、２段のスクラバ設備３０、４０を直列に設置した、本発明の第２の実施形態に係る無害化装置の一例を示した図である。 FIG. 2 shows an example of a detoxifying device according to the second embodiment of the present invention in which two-stage scrubber facilities 30 and 40 are installed in series, which is particularly effective when it is difficult to treat ruthenium oxide gas. FIG.
図２に示されるように、第２の実施形態に係る無害化装置は、２段のスクラバ設備３０、４０を備えている点で、第１の実施形態に係る無害化装置と異なっている。他の構成要素は、第１の実施形態に係る無害化装置と同様であるので、対応する構成要素に同一の参照符号を付してその説明を省略する。 As shown in FIG. 2, the detoxification apparatus according to the second embodiment is different from the detoxification apparatus according to the first embodiment in that it includes two-stage scrubber facilities 30 and 40. Since other components are the same as those of the detoxifying apparatus according to the first embodiment, the same reference numerals are assigned to the corresponding components and the description thereof is omitted.
２段目のスクラバ設備４０は、１段目のスクラバ設備３０と同様の構成を有し、スクラバ塔４１と、入口４２と、シャワーノズル４３ａ、４３ｂと、充填材４３ａ、４３ｂと、アルカリ溶液４６と、ポンプ４５と、フィルタ４７と、出口４８とを有する。また、２段目のスクラバ設備４０の出口４８と、ミスト処理装置５０とが、ダクト４９により接続されている。このように、２段目のスクラバ設備４０は、第１の実施形態に係るスクラバ設備３０と同一の構成を有してもよい。２段のスクラバ設備３０、４０を設けることにより、酸化ルテニウムガス１の量や濃度が高い場合にも、十分に酸化ルテニウムガス１を捕捉、除去することが可能となる。 The second-stage scrubber facility 40 has the same configuration as the first-stage scrubber facility 30, and includes a scrubber tower 41, an inlet 42, shower nozzles 43 a and 43 b, fillers 43 a and 43 b, and an alkaline solution 46. A pump 45, a filter 47, and an outlet 48. Further, the outlet 48 of the second stage scrubber facility 40 and the mist processing device 50 are connected by a duct 49. As described above, the second-stage scrubber facility 40 may have the same configuration as the scrubber facility 30 according to the first embodiment. By providing the two-stage scrubber equipment 30, 40, it is possible to sufficiently capture and remove the ruthenium oxide gas 1 even when the amount and concentration of the ruthenium oxide gas 1 are high.
ここで、図２において、第１段目のスクラバ設備３０には、フィルタ３７が設けられていない。これは、ミスト状態で１段目のスクラバ設備３０から２段目のスクラバ設備４０に酸化ルテニウムガス１を含むミストを送るからであり、最終の出口４８にフィルタ４７が１個設けられていれば十分だからである。 Here, in FIG. 2, the first stage scrubber facility 30 is not provided with a filter 37. This is because the mist containing the ruthenium oxide gas 1 is sent from the first-stage scrubber facility 30 to the second-stage scrubber facility 40 in the mist state, and if one filter 47 is provided at the final outlet 48. That's enough.
なお、用途に応じて、１段目のスクラバ設備３０と２段目のスクラバ設備４０との構成を異なるものとしたり、アルカリ溶液３６、４６同士のｐＨ値を異ならせたりすることも可能である。例えば、２段目のスクラバ設備４０におけるシャワーノズル４３ａ、４３ｂ及び充填材４４ａ、４４ｂを２段ではなく単段としたり、２段目のスクラバ設備４０のアルカリ溶液４６のｐＨ値を１段目のアルカリ溶液３６のｐＨ値よりも低い値にしたりすることも可能である。２段目を１段目の捕捉的な役割を担わせる場合には、そのような構成も可能である。 Depending on the application, the first-stage scrubber equipment 30 and the second-stage scrubber equipment 40 can be configured differently, or the pH values of the alkaline solutions 36 and 46 can be made different. . For example, the shower nozzles 43a and 43b and the fillers 44a and 44b in the second-stage scrubber facility 40 are not single-stage, but the pH value of the alkaline solution 46 in the second-stage scrubber equipment 40 is set to the first-stage. It is also possible to lower the pH value of the alkaline solution 36. Such a configuration is also possible when the second stage has a capturing role for the first stage.
このように、第２の実施形態に係る無害化装置によれば、より柔軟な無害化方法を実施することが可能になる。特に酸化ルテニウムガス１の量や濃度が高い場合や、より清浄なガス２が必要な場合は、この方式を採用することが好ましい。 As described above, according to the detoxification apparatus according to the second embodiment, it is possible to implement a more flexible detoxification method. In particular, when the amount or concentration of the ruthenium oxide gas 1 is high or when a cleaner gas 2 is required, it is preferable to employ this method.
なお、第１の実施形態、第２の実施形態のいずれにおいても、シャワーノズル３３ａ、３３ｂ、４３ａ、４３ｂ及び充填材３４ａ、３４ｂ、４４ａ、４４ｂは、２段の場合と単段の場合しか説明していないが、用途に応じて、３段以上の多段としても良いことは言うまでもない。同様に、第２の実施形態に係る無害化装置及び無害化方法においても、スクラバ設備３０、４０を３段以上の多段とすることも可能である。 In both the first embodiment and the second embodiment, the shower nozzles 33a, 33b, 43a, 43b and the fillers 34a, 34b, 44a, 44b are only described in the case of two stages and the single stage. Needless to say, however, three or more stages may be used depending on the application. Similarly, also in the detoxification device and the detoxification method according to the second embodiment, the scrubber facilities 30 and 40 can be multi-staged with three or more stages.
更に、必要であれば、前処理設備２０を２段以上の多段にすることも可能である。このように、本実施形態に係る無害化装置は、用途に応じて種々の構成とすることができ、種々の無害化方法を実施することが可能である。 Furthermore, if necessary, the pretreatment facility 20 can be multi-staged with two or more stages. As described above, the detoxification apparatus according to the present embodiment can have various configurations according to applications, and various detoxification methods can be performed.
次に、第１の実施形態に係る無害化装置及び無害化処理方法を実施した実施例について説明する。なお、第１の実施形態に係る無害化装置に対応する構成要素には、理解の容易のため、同一の参照符号を付すこととする。 Next, examples in which the detoxification apparatus and the detoxification processing method according to the first embodiment are implemented will be described. Note that components corresponding to the detoxifying device according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals for easy understanding.
本実施例では、抵抗素子等の電子部品作製工程から排出される酸化ルテニウムガスの無害化装置設備及び無害化方法について記載する。 In the present embodiment, a detoxification apparatus facility and a detoxification method for ruthenium oxide gas discharged from an electronic component manufacturing process such as a resistance element will be described.
工程から排出される酸化ルテニウムガス１は、四酸化ルテニウムで、１００ｍｇ／ｍ３以上であった。これを補足・処理し無害化した。 The ruthenium oxide gas 1 discharged from the process was ruthenium tetroxide and was 100 mg / m 3 or more. This was supplemented and processed to make it harmless.
本処理に使用した酸化ルテニウムガス１の無害化装置は、工程から排出される酸化ルテニウムガス１を前処理設備２０に供給するファン１８と、前処理を行う前処設備２０と、湿式処理を行うスクラバ設備３０と、残留ミストの除去を行うミスト処理装置５０と、酸化ルテニウムガスを吸引するブロア６０で構成した。 The detoxification device for ruthenium oxide gas 1 used in this treatment performs a fan 18 for supplying ruthenium oxide gas 1 discharged from the process to the pretreatment facility 20, a pretreatment facility 20 for performing pretreatment, and a wet treatment. A scrubber facility 30, a mist processing device 50 for removing residual mist, and a blower 60 for sucking ruthenium oxide gas were used.
前処理設備２０においては、前処理槽２１を設け、前処理槽２１内にアルカリ溶液２４を満たした。アルカリ溶液２４は、水酸化ナトリウムを使用した。その時のアルカリ溶液２４のｐＨを１２〜１４に調整した。また、前処理槽２１内には、バブリング装置２３を設置した。工程から排出される酸化ルテニウムガス１は、ファン１８により前処理設備２０に供給され、そのガスは、前処理槽内２１に設置されたバブリング装置２３を通り、バブリング装置２３により細かい粒子状の気泡となり、気泡表面でアルカリ溶液２４と反応して除去された。 In the pretreatment facility 20, a pretreatment tank 21 is provided, and the alkaline solution 24 is filled in the pretreatment tank 21. As the alkaline solution 24, sodium hydroxide was used. The pH of the alkaline solution 24 at that time was adjusted to 12-14. A bubbling device 23 was installed in the pretreatment tank 21. The ruthenium oxide gas 1 discharged from the process is supplied to the pretreatment facility 20 by the fan 18, and the gas passes through the bubbling device 23 installed in the pretreatment tank 21, and fine particulate bubbles are produced by the bubbling device 23. It was removed by reacting with the alkaline solution 24 on the bubble surface.
スクラバ設備３０は、スクラバ塔３１と、２段式のシャワーノズル３３ａ、３３ｂと、２段式の充填材３４ａ、３４ｂと、フィルタ３７と、ポンプ３５から構成した。スクラバ塔３１の底部にはアルカリ溶液３６を貯留した。アルカリ溶液３６は、水酸化ナトリウムを使用した。その時のアルカリ溶液３６のｐＨを１０〜１２に調整した。充填材３４ａ、３４ｂは、テラレットを使用した。スクラバ塔３１の出口３８の手前にはフィルタ３７を設置した。前処理設備２０で取りきれなかった酸化ルテニウムガス１は、スクラバ塔３１の下側の入口３２から供給され、２段式のシャワーノズル３３ａ、３３ｂにより湿潤された充填材３４ａ、３４ｂに接触反応することで除去された。スクラバ設備３０から排出されるミスト等は、スクラバ出口３８前のフィルタ３７にて吸収した。 The scrubber facility 30 includes a scrubber tower 31, two-stage shower nozzles 33 a and 33 b, two-stage fillers 34 a and 34 b, a filter 37, and a pump 35. An alkali solution 36 was stored at the bottom of the scrubber tower 31. As the alkaline solution 36, sodium hydroxide was used. The pH of the alkaline solution 36 at that time was adjusted to 10-12. Terralet was used for the fillers 34a and 34b. A filter 37 was installed in front of the outlet 38 of the scrubber tower 31. The ruthenium oxide gas 1 that could not be removed by the pretreatment facility 20 is supplied from the lower inlet 32 of the scrubber tower 31 and contacts and reacts with the fillers 34a and 34b wetted by the two-stage shower nozzles 33a and 33b. It was removed. The mist discharged from the scrubber facility 30 was absorbed by the filter 37 in front of the scrubber outlet 38.
ミスト処理装置５０は、スクラバ設備３０の後に設置された。フィルタ３７で捕捉回収しきれない比較的細かなミストは、ミスト用充填材５３をケーシング５１内に設置したミスト処理装置５０で吸収した。 The mist processing device 50 was installed after the scrubber facility 30. The relatively fine mist that could not be captured and recovered by the filter 37 was absorbed by the mist processing device 50 in which the mist filler 53 was installed in the casing 51.
ブロア６０は、ミスト処理装置５０の後に設置した。ミストは、最終的にブロア６０を介して処理され、無害化されたガス２が系外に放出された。 The blower 60 was installed after the mist processing apparatus 50. The mist was finally processed through the blower 60, and the detoxified gas 2 was released out of the system.
この時の排出されたガス２に含まれた酸化ルテニウムは、０．４ｍｇ／ｍ３以下であった。 The ruthenium oxide contained in the discharged gas 2 at this time was 0.4 mg / m 3 or less.
このように、本実施例によれば、１００ｍｇ／ｍ３以上あった酸化ルテニウムが、最終的には０．４ｍｇ／ｍ３以下に低減され、本実施形態に係る無害化装置及び無害化方法により、酸化ルテニウムガスを含むガスが無害化されることが証明された。 As described above, according to this example, ruthenium oxide that was 100 mg / m 3 or more was finally reduced to 0.4 mg / m 3 or less, and the detoxification apparatus and detoxification method according to this embodiment were used. It has been proved that gas containing ruthenium oxide gas is rendered harmless.
以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について詳説したが、本発明は、上述した実施形態及び実施例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。 The preferred embodiments and examples of the present invention have been described in detail above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and the above-described embodiments and examples can be made without departing from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made to the embodiments.
１ 酸化ルテニウムガス
２ 清浄なガス
１０ プロセス装置
１１ 反応槽
１４ 反応物質
１５ 反応槽排気口
１６、２６、３９、４９、５５ ダクト
２０ 前処理設備
２１ 前処理槽
２２ ガス供給管
２３ バブリング装置
２４、３６、４６ アルカリ溶液
３０、４０ スクラバ設備
３３ａ、３３ｂ、４３ａ、４３ｂ シャワーノズル
３４ａ、３４ｂ、４４ａ、４４ｂ 充填材
３５、４５ ポンプ
３７、４７ フィルタ
３８、４８ スクラバ出口
５０ ミスト処理装置
６０ ブロア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ruthenium oxide gas 2 Clean gas 10 Process apparatus 11 Reaction tank 14 Reactant 15 Reaction tank exhaust port 16, 26, 39, 49, 55 Duct 20 Pretreatment equipment 21 Pretreatment tank 22 Gas supply pipe 23 Bubbling apparatus 24, 36 , 46 Alkaline solution 30, 40 Scrubber equipment 33a, 33b, 43a, 43b Shower nozzle 34a, 34b, 44a, 44b Filler 35, 45 Pump 37, 47 Filter 38, 48 Scrubber outlet 50 Mist treatment device 60 Blower
Claims (17)
第１のアルカリ溶液を貯留する貯留槽と、該貯留槽に貯留された前記第１のアルカリ溶液中に前記プロセスから生じた前記酸化ルテニウムガスを供給するガス供給手段とを有し、前記酸化ルテニウムガスを前記第１のアルカリ溶液に溶解させる前処理設備と、
該前処理設備から送られてきた含塵ガスを、第２のアルカリ溶液を洗浄液として洗浄し、該前処理設備で除去されなかった前記酸化ルテニウムガスを捕捉するスクラバ設備と、を有する無害化装置。 A detoxifying device for detoxifying ruthenium oxide gas generated from a process using a ruthenium compound,
A storage tank for storing the first alkaline solution; and a gas supply means for supplying the ruthenium oxide gas generated from the process into the first alkaline solution stored in the storage tank, the ruthenium oxide Pretreatment equipment for dissolving gas in the first alkaline solution;
A detoxifying device having a scrubber facility that cleans the dust-containing gas sent from the pretreatment facility using the second alkaline solution as a cleaning liquid and captures the ruthenium oxide gas that has not been removed by the pretreatment facility. .
該充填材に前記第２のアルカリ溶液を噴霧供給するシャワーノズルと、
該充填材及び該シャワーノズルよりも下流側に設けられ、前記酸化ルテニウムガスを捕捉するフィルタと、を含む請求項１乃至３のいずれか一項に記載の無害化装置。 The scrubber facility includes a filler,
A shower nozzle for spraying the second alkaline solution onto the filler;
The detoxification device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a filter provided downstream of the filler and the shower nozzle and capturing the ruthenium oxide gas.
前記第２のアルカリ溶液を前記シャワーノズルに供給するポンプと、を有する請求項４又は５に記載の無害化装置。 The scrubber facility contains the filler, the shower nozzle and the filter, and a scrubber tower capable of storing the second alkaline solution on the bottom surface;
The harmless device according to claim 4, further comprising: a pump that supplies the second alkaline solution to the shower nozzle.
前記第２のアルカリ溶液のｐＨ値は１０以上１２以下である請求項１乃至９のいずれか一項に記載の無害化装置。 The pH value of the first alkaline solution is 12 or more and 14 or less,
The detoxification device according to any one of claims 1 to 9, wherein the pH value of the second alkaline solution is 10 or more and 12 or less.
前記プロセスから生じた前記酸化ルテニウムガスを第１のアルカリ溶液内に供給して該第１のアルカリ溶液に溶解させる溶解工程と、
該第１のアルカリ溶液に溶解しなかった前記酸化ルテニウムガスを、第２のアルカリ溶液で湿潤された充填材を用いて洗浄した後、フィルタにて捕捉するスクラバ洗浄工程と、を有する無害化方法。 A ruthenium oxide gas detoxifying method for detoxifying ruthenium oxide gas generated from a process using a ruthenium compound,
A dissolving step of supplying the ruthenium oxide gas generated from the process into the first alkaline solution and dissolving the gas in the first alkaline solution;
A scrubber cleaning step of cleaning the ruthenium oxide gas not dissolved in the first alkaline solution with a filler wetted with the second alkaline solution, and then capturing with a filter. .
前記第２のアルカリ溶液のｐＨ値は１０以上１２以下である請求項１２乃至１５のいずれか一項に記載の無害化方法。 The pH value of the first alkaline solution is 12 or more and 14 or less,
The detoxification method according to any one of claims 12 to 15, wherein the pH value of the second alkaline solution is 10 or more and 12 or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016249962A JP6844247B2 (en) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | Detoxification device and detoxification method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016249962A JP6844247B2 (en) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | Detoxification device and detoxification method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018103078A true JP2018103078A (en) | 2018-07-05 |
| JP6844247B2 JP6844247B2 (en) | 2021-03-17 |
Family
ID=62786400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016249962A Active JP6844247B2 (en) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | Detoxification device and detoxification method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6844247B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230041279A (en) * | 2021-09-17 | 2023-03-24 | 대한조선 주식회사 | Ammonia gas treatment system and ammonia-propelled vessel including the same |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0299898A (en) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Ruthenium remover |
| JPH03100498A (en) * | 1989-09-14 | 1991-04-25 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method for removing ruthenium tetraoxide |
| JPH03105921U (en) * | 1990-02-14 | 1991-11-01 | ||
| JPH0772295A (en) * | 1993-09-06 | 1995-03-17 | Toshiba Corp | Method for removing radioactive ruthenium |
| JPH0824567A (en) * | 1994-07-11 | 1996-01-30 | Chiyoda Corp | Desulfurizing method of waste gas and apparatus therefor |
| JP2001149739A (en) * | 1999-09-13 | 2001-06-05 | Esupo Kk | Device and method for washing polluted gas |
| JP2012012241A (en) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Mitsubishi Materials Corp | Production method and apparatus in which corrosive gas such as ruthenium tetroxide generates |
| JP2013155391A (en) * | 2012-01-26 | 2013-08-15 | Mitsubishi Materials Corp | Recovery method of ruthenium |
| WO2013140653A1 (en) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | Kurushima Takeo | Method for treating discharge gas |
| JP2014043611A (en) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Asahi Pretec Corp | Method for recovering ruthenium |
| CN105457459A (en) * | 2015-12-25 | 2016-04-06 | 广东浚丰华科技有限公司 | Organic waste gas purification device and method aiming at hardware production workshop |
-
2016
- 2016-12-22 JP JP2016249962A patent/JP6844247B2/en active Active
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0299898A (en) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Ruthenium remover |
| JPH03100498A (en) * | 1989-09-14 | 1991-04-25 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method for removing ruthenium tetraoxide |
| JPH03105921U (en) * | 1990-02-14 | 1991-11-01 | ||
| JPH0772295A (en) * | 1993-09-06 | 1995-03-17 | Toshiba Corp | Method for removing radioactive ruthenium |
| JPH0824567A (en) * | 1994-07-11 | 1996-01-30 | Chiyoda Corp | Desulfurizing method of waste gas and apparatus therefor |
| JP2001149739A (en) * | 1999-09-13 | 2001-06-05 | Esupo Kk | Device and method for washing polluted gas |
| JP2012012241A (en) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Mitsubishi Materials Corp | Production method and apparatus in which corrosive gas such as ruthenium tetroxide generates |
| JP2013155391A (en) * | 2012-01-26 | 2013-08-15 | Mitsubishi Materials Corp | Recovery method of ruthenium |
| WO2013140653A1 (en) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | Kurushima Takeo | Method for treating discharge gas |
| JP2014043611A (en) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Asahi Pretec Corp | Method for recovering ruthenium |
| CN105457459A (en) * | 2015-12-25 | 2016-04-06 | 广东浚丰华科技有限公司 | Organic waste gas purification device and method aiming at hardware production workshop |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230041279A (en) * | 2021-09-17 | 2023-03-24 | 대한조선 주식회사 | Ammonia gas treatment system and ammonia-propelled vessel including the same |
| KR102552858B1 (en) * | 2021-09-17 | 2023-07-10 | 대한조선 주식회사 | Ammonia gas treatment system and ammonia-propelled vessel including the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6844247B2 (en) | 2021-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5554482B2 (en) | Exhaust gas treatment method | |
| KR101913738B1 (en) | Wet scrubber using flushing water of dissolved oxygen | |
| JP2002273172A (en) | Method and apparatus for treating perfluoride | |
| US20130177490A1 (en) | Removal of atmospheric pollutants from gas, related apparatus, processes and uses thereof | |
| JP2005074311A (en) | Air cleaner, and air cleaning method | |
| JP6570794B2 (en) | Exhaust gas pressure reduction device | |
| JP2011506062A (en) | Method for promoting mercury retention in wet flue gas desulfurization systems | |
| JP2018103078A (en) | Detoxification equipment and detoxification method | |
| CN104147915A (en) | Flue gas treatment method | |
| JP2008062129A (en) | Deodorization system | |
| JP5111955B2 (en) | Exhaust gas treatment method and apparatus for waste treatment facility | |
| JP3129945B2 (en) | Semiconductor manufacturing exhaust gas treatment method | |
| KR101758108B1 (en) | Apparatus and method for treating waste gas by catalyst | |
| KR101762903B1 (en) | Apparatus for reducing water and air pollutant | |
| KR20230096964A (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
| KR101297585B1 (en) | Facilities for recycling chemical gas | |
| JP4042021B2 (en) | Air cleaning method | |
| JP2006231105A (en) | Method for removing oxidizing gas | |
| JP2005342573A (en) | Apparatus for removing volatile organic compound | |
| JP2016190206A (en) | Removal method of arsine in exhaust gas | |
| JP2010069423A (en) | Deodorization system, deodorization apparatus, and deodorization method | |
| JP2019130461A (en) | Gas detoxification system | |
| JP2010000453A (en) | Exhaust gas clarification method and equipment | |
| EP4011485A1 (en) | Exhaust gas treatment method and treatment equipment | |
| JP2002079054A (en) | Method for removing harmful substance |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190701 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200527 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200721 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200915 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210126 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210208 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6844247 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |