KR101758108B1 - Apparatus and method for treating waste gas by catalyst - Google Patents

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Abstract

본 발명은 과불화 화합물과 산성 가스의 혼합물인 폐가스를 처리하기 위한 것으로서 폐가스 중 산성 가스를 1차 처리하는 이중관 구조의 전처리 유닛과, 상기 전처리 유닛을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛과 상기 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스 중 잔존하는 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛을 포함하여 산성 가스의 제거 성능을 향상시켜 설비의 손상을 방지하는 한편 과불화 화합물 역시 보다 효율적으로 제거할 수 있는 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법이다.The present invention relates to a pretreatment unit for a waste gas which is a mixture of a perfluorinated compound and an acidic gas and which has a double pipe structure in which acid gas is firstly treated in the waste gas and a catalytic treatment for treating a perfluorinated compound of waste gas passing through the pretreatment unit And a post-treatment unit for treating the acidic gas remaining in the waste gas passing through the unit and the catalytic treatment unit to improve the removal performance of the acidic gas to prevent damage to the facility and to remove the perfluorinated compound more efficiently And a catalytic waste gas treating apparatus and method.

Figure R1020150155872
Figure R1020150155872

Description

촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR TREATING WASTE GAS BY CATALYST}[0001] APPARATUS AND METHOD FOR TREATING WASTE GAS BY CATALYST [0002]

본 발명은 과불화 화합물과 산성 가스의 혼합물인 폐가스를 처리하기 위한 것으로서 폐가스 중 산성 가스를 1차 처리하는 이중관 구조의 전처리 유닛과, 상기 전처리 유닛을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛과 상기 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스 중 잔존하는 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛을 포함하여 산성 가스의 제거 성능을 향상시켜 설비의 손상을 방지하는 한편 과불화 화합물 역시 보다 효율적으로 제거할 수 있는 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법이다.The present invention relates to a pretreatment unit for a waste gas which is a mixture of a perfluorinated compound and an acidic gas and which has a double pipe structure in which acid gas is firstly treated in the waste gas and a catalytic treatment for treating a perfluorinated compound of waste gas passing through the pretreatment unit And a post-treatment unit for treating the acidic gas remaining in the waste gas passing through the unit and the catalytic treatment unit to improve the removal performance of the acidic gas to prevent damage to the facility and to remove the perfluorinated compound more efficiently And a catalytic waste gas treating apparatus and method.

일반적으로 과불화 화합물(Perfluoro compound)은 반도체 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 널리 쓰이는 가스이다.In general, perfluoro compounds are widely used as chamber cleaners for etching etchants and chemical vapor deposition processes in semiconductor etching processes.

그런데, 반도체공정에 사용되는 과불화 화합물은 공정중에 전량 소비되지 않기 때문에 미 반응 가스가 잔류되는 경우가 많고, 이에 더하여 부차적으로 생성되는 가스가 발생되는 경우도 있으며, 심지어는 원료 가스가 그대로 진공 펌프에서 배출되는 경우도 있다.However, since the perfluorinated compound used in the semiconductor process is not consumed in the entire amount during the process, unreacted gas often remains, and in addition, a gas generated in the secondary may be generated. Even if the raw material gas is directly supplied to the vacuum pump In some cases.

이러한 용도의 과불화 화합물로는 CF4, CHF3, NF3, SF6 등이 사용될 수 있고, 더욱이 반도체 공정뿐만 아니라 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제, 에칭제, 용매, 반응원료 등의 목적으로 사용되는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에도 포함될 수 있다.CF4, CHF3, NF3, SF6 and the like can be used as the perfluorinated compound for this purpose. Further, it is possible to use not only the semiconductor process but also chlorine-fluorocarbon (CFC) Solvents, reaction materials, etc., and waste gas discharged from the workplace.

비록 과불화 화합물이 종래에 사용되던 CFC보다도 안전하고 안정한 물질이지만 지구온난화 지수(global warming potential)가 이산화탄소 대비 수천∼수만 배로 매우 높다. Although perfluorinated compounds are safer and more stable than conventional CFCs, global warming potentials are very high, ranging from thousands to tens of thousands of times more than carbon dioxide.

따라서, 과불화 화합물을 대기 중으로 배출하는 것은 환경 보호를 위해 규제의 대상이 되고 있고, 앞으로도 그 규제가 더욱 강화될 전망이다.Therefore, the release of perfluorinated compounds into the air is subject to regulations for the protection of the environment, and the regulations are expected to be further strengthened in the future.

이에, 반도체 공정이나 과불화 화합물을 다루는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에 포함된 과불화 화합물을 처리하기 위하여 I) 직접 연소법, ii) 플라즈마 분해법, iii) 회수법, iv) 촉매 분해법 등 여러 가지 제거방법들이 알려져 있으며, 각각의 기술마다 문제점을 갖고 있어 아직은 상업적 적용에 문제점이 따르고 있는 실정이다.I) direct combustion, ii) plasma decomposition, iii) recovery, iv) catalytic cracking, etc., to treat the perfluorinated compounds contained in the waste gas discharged from the semiconductor processing, Methods are known, and each technique has a problem, so that there is still a problem in commercial application.

구체적으로 상기의 과불화 화합물의 제거방법을 살펴보면, i) 직접 연소법은 과불화 화합물을 포함하는 폐가스를 가연성 가스를 이용해 1,400 ℃ 이상의 고온에서 직접 연소하는 방법으로서, 가장 간편한 과불화 화합물 처리방법 중의 하나다.Specifically, the above-mentioned method of removing the perfluorinated compound is as follows: (i) Direct combustion method is a method of directly burning a waste gas containing a perfluorinated compound at a high temperature of 1,400 ° C or more by using a combustible gas. As one of the easiest methods of treating a perfluorinated compound All.

그러나, 반응온도가 높아 여러 가지 부가적인 문제점이 발생하는바, 특히 폐가스 중에 과불화 화합물과 함께 포함되어 있는 질소와 산소가 반응하여 유해 물질인 질소산화물(thermal NOx)을 다량 생성될 뿐만 아니라, 과불화 화합물 분해 시 발생되는 HF에 의하여 장치부식이 심하게 일어나 질소산화물 처리 및 장치의 유지보수를 위한 비용이 과다하게 소요되는 문제점이 있다.However, since the reaction temperature is high, various additional problems arise. In particular, nitrogen and oxygen contained in the waste gas together with the perfluorinated compound react with each other to generate a large amount of harmful nitrogen oxides (thermal NOx) HF generated during the decomposition of a chemical compound causes severe corrosion of the apparatus, and thus there is a problem that the cost for nitrogen oxide treatment and maintenance of the apparatus is excessively increased.

ii) 플라즈마 분해법은 과불화 화합물을 포함하는 폐가스를 플라즈마 영역을 통과시켜 분해 제거하는 기술로서, 과불화 화합물 분해에는 효과적이나 높은 에너지 상태의 플라즈마를 사용하기 때문에 과불화 화합물의 무차별 분해에 의해 생성된 유리기(radical)들의 이차 반응으로 다양한 종류의 부산물이 생성되는 문제점이 있다.ii) The plasma decomposition method is a technique for decomposing and removing waste gas containing a perfluorinated compound through a plasma region. Since the plasma decomposition method is effective for decomposing the perfluorinated compound, but uses a plasma with a high energy state, There are problems in that various kinds of by-products are generated due to the secondary reaction of the radicals.

또한, 플라즈마를 안정적으로 장시간 발생시키기 위한 플라즈마 발생장치의 내구성 및 경제성에 있어서도 문제점이 있다.Further, there is also a problem in terms of durability and economical efficiency of the plasma generating apparatus for stably generating the plasma for a long time.

iii) 회수법은 폐가스에 포함된 과불화 화합물 성분을 PSA(pressure swing adsorption) 또는 분리막(membrane) 등을 사용하여 분리한 다음 회수하는 방법으로서, 과불화 화합물의 재활용이 가능하다는 측면에서 바람직하지만, 반도체 공정에서와 같이 불규칙적으로 소량 배출되는 과불화 화합물을 처리하는 경우에 있어서는 경제성이 낮은 방법이다.iii) The recovery method is a method of separating perfluorocompound components contained in the waste gas using PSA (pressure swing adsorption) or membrane, and recovering the recovered perfluorocompound, which is preferable in view of recycling of the perfluorinated compound. It is a low-cost method in the case of treating perfluorinated compounds which are emitted in a small amount irregularly as in a semiconductor process.

iv) 촉매 분해법은 촉매 및 수증기를 사용하여 과불화 화합물 분해가 500∼800 ℃의 저온에서 일어나게 유도함으로서 질소산화물(thermal NOx)의 발생 및 장치 부식을 크게 낮출 수 있기 때문에 직접 분해법 및 플라즈마 분해법의 대안으로 널리 연구되어 왔다.iv) The catalytic cracking method uses catalyst and steam to induce the decomposition of perfluorinated compound to occur at a low temperature of 500 to 800 ° C, which can greatly reduce the generation of nitrogen oxides (thermal NOx) and device corrosion, Have been widely studied.

그러나, 500∼800 ℃의 운전조건은 촉매가 물리적 또는 화학적인 변화 없이 장시간 활성을 유지하기에는 여전히 높은 온도조건으로서 촉매의 내구성을 확보하는 것이 가장 큰 걸림돌이 되고 있다.However, the operation conditions of 500 to 800 ° C are the biggest obstacles to ensure the durability of the catalyst as a high temperature condition in order to maintain the catalyst for a long time without physical or chemical change.

즉, 부산물로 생성되는 HF와 수증기가 동시에 존재하는 500∼800 ℃의 반응 분위기에서 지속적으로 내구성을 갖는 촉매개발이 상업화의 관건이 되고 있으며, 이 때문에 과불화 화합물 분해용 촉매의 개발은 최근까지도 계속되고 있다.That is, the development of a catalyst having continuous durability in a reaction atmosphere of 500 to 800 ° C. in which HF and steam generated as by-products are present at the same time is the key to commercialization. Therefore, the development of a catalyst for decomposing a perfluorinated compound has continued .

이러한 촉매분해 반응에서 적용 가능한 촉매로는 대부분 고체산 촉매가 널리 알려져 있으며, 이 중에서도 γ-Al2O3 촉매가 가장 많이 이용되고 있다. SF6 제거와 유사한 과불화 화합물s 가스를 제거하기 위한 촉매로는 알루미나를 기본 촉매로 하여 Ni, Co, P, Fe, Ti, Zn, La, Ce 등 금속 첨가물로 촉매를 제조하여 제거하는 방식의 기술이 많이 발표되었다. Most of the catalysts applicable to this catalytic cracking reaction are solid acid catalysts. Among them, γ-Al2O3 catalysts are most widely used. As a catalyst for removing the perfluorinated compound s gas similar to the removal of SF 6, there is a technique of manufacturing a catalyst by using a metal catalyst such as Ni, Co, P, Fe, Ti, Zn, La, A lot has been announced.

이외에 포스페이트계 촉매, 지르코니아계 촉매, 실리카계 촉매로도 연구되었으며, 알루미나 상에 황산, 인산, 붕산 등 무기산을 담지시킨 촉매도 연구되었다.In addition, a catalyst such as a phosphate catalyst, a zirconium catalyst, and a silica catalyst has also been studied, in which inorganic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, and boric acid are supported on alumina.

그런데, 상술한 바와 같은 종래의 촉매 분해 기술을 이용하는 경우 다음과 같은 문제점이 있었다.However, the conventional catalyst decomposition technique as described above has the following problems.

즉, 상기 과불화 화합물을 포함하는 폐가스는 일반적으로 산성 가스를 포함하고 있다.That is, the waste gas containing the perfluorinated compound generally contains an acid gas.

그런데, 상술한 바와 같은 종래 기술의 경우 상기 산성 가스를 제대로 제거하지 못하여 설비에 손상이 발생되는 문제점이 있었다.
However, in the case of the conventional art as described above, there is a problem that the acid gas can not be properly removed and the equipment is damaged.

한편, 상술한 과불화 화합물 등에 대한 처리 장치 자체는 널리 알려진 기술로서 아래의 선행기술문헌에 자세히 기재되어 있으므로 중복되는 설명과 도시는 생략한다.On the other hand, the above-described apparatus for treating perfluorinated compounds and the like is well known in the art described in the following prior art documents, so that redundant description and illustration are omitted.

한국 등록 특허 제10-0806011호Korean Patent No. 10-0806011 한국 등록 특허 제10-0907444호Korean Patent No. 10-0907444 한국 등록 특허 제10-1406198호Korean Patent No. 10-1406198

따라서 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 폐가스 중 산성 가스를 1차 처리하는 이중관 구조의 전처리 유닛과, 상기 전처리 유닛을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛과, 상기 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스 중 포함되어 있는 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛을 포함하여 산성 가스의 제거 성능을 향상시켜 설비의 손상을 방지하는 한편 과불화 화합물 역시 보다 효율적으로 제거할 수 있는 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법을 제공함에 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is therefore an object of the present invention to provide a pretreatment unit having a double pipe structure for firstly treating acidic gas in waste gas, a catalytic processing unit for treating a perfluorinated compound of waste gas passing through the pretreatment unit, Treatment unit for treating the acidic gas contained in the waste gas passing through the unit to prevent the damage of the equipment by improving the removal performance of the acidic gas and the catalytic waste gas treatment capable of removing the perfluorinated compound more efficiently And an object of the present invention is to provide an apparatus and a method.

그러나, 본 발명의 목적은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적은 아랫니 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the object of the present invention is not limited to the above-mentioned object, and another object which is not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the undergarment.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 과불화 화합물과 산성 가스의 혼합물인 폐가스가 유입되는 것으로서 상기 산성 가스를 1차 처리하는 전처리 유닛과, 상기 전처리 유닛을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛과, 상기 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스 중에 포함되는 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛을 포함하되, 상기 전처리 유닛은 이중관 구조의 전처리 챔버와, 상기 전처리 챔버내부에 설치되는 폐가스 처리부를 포함하되, 상기 전처리 챔버는 상기 폐가스가 유입되는 외부관과, 상기 외부관 내부에 설치되어 상기 내부관과 연통되는 것으로서 상기 폐가스 처리부가 내부에 설치되는 내부관을 포함하고, 상기 촉매 처리 유닛은 내부에 촉매가 설치되는 촉매 처리 챔버와 상기 촉매 처리 챔버의 폐가스를 가열하는 가열부를 포함하며, 상기 후처리 유닛은 후처리 챔버와, 상기 후처리 챔버 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 폐가스 처리부를 포함하는 촉매식 폐가스 처리 장치에 일 특징이 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a process for treating a waste gas comprising the steps of: a pre-treatment unit into which waste gas, which is a mixture of a perfluorinated compound and an acid gas, is introduced into the waste gas; And a post-treatment unit for treating the acid gas contained in the waste gas that has passed through the catalyst treatment unit, wherein the pretreatment unit comprises a pre-treatment chamber of a double pipe structure and an off-gas treatment unit installed inside the pretreatment chamber, Wherein the pretreatment chamber comprises an outer tube into which the waste gas flows and an inner tube which is installed inside the outer tube and communicates with the inner tube and is provided inside the waste gas treatment section, And a heating unit for heating the waste gas of the catalytic processing chamber After the above, further comprising a processing unit has an aspect in catalytic waste gas treatment apparatus comprising a waste gas processing unit, which is installed along the flow direction of the waste gas after-treatment chamber and, after the inside of the processing chamber.

이때, 상기 전처리 챔버에 설치되는 폐가스 처리부는 상기 외부관 내부에 설치되는 이온 처리부와, 상기 내부관 내부에 설치되는 수처리부를 포함하되, 상기 이온 처리부는 상기 외부관 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 이온 교환 필터와, 상기 이온 교환 필터 일 측에 설치되어 이온 교환 용액을 상기 이온 교환 필터측으로 분사하는 복수 개의 분사부와 상기 분사부에 이온 교환 용액을 공급하는 용액 공급부를 포함하고, 상기 수처리부는 상기 내부관 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터와, 상기 수처리 필터 일 측에 설치되어 세척수를 상기 수처리 필터측으로 분사하는 복수 개의 분사부와, 상기 분사부에 세척수를 공급하는 세척수 공급부를 포함하는 것도 가능하다.At this time, the waste gas treatment unit installed in the pretreatment chamber includes an ion treatment unit installed inside the outer tube and a water treatment unit installed inside the inner tube, and a plurality of ion treatment units are installed in the outer tube in a circumferential direction A plurality of ion exchange filters disposed at predetermined intervals along the flow direction of the waste gas; a plurality of jetting portions provided on one side of the ion exchange filter for jetting the ion exchange solution toward the ion exchange filter; Wherein the water treatment unit comprises a plurality of water treatment filters disposed along the waste gas flow direction inside the inner tube and spaced apart from each other by a predetermined distance, A plurality of jetting portions for jetting toward the water treatment filter side, And a washing water supply unit for supplying washing water to the spraying unit.

또한, 상기 전처리 유닛과 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스가 유입되는 후처리 유닛은 이중관 구조의 후처리 챔버를 포함하되, 상기 후처리 챔버는 상기 촉매 처리 유닛을 통과한 폐가스가 유입되는 외부관과, 상기 외부관 내부에 설치되어 상기 외부관과 연통되는 내부관을 포함하고, 상기 폐가스 처리부는 상기 외부관 내부에 설치되는 수처리부와, 상기 내부관 내부에 설치되는 이온 처리부를 포함하되, 상기 이온 처리부는 상기 내부관 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 이온 교환 필터와, 상기 이온 교환 필터 일 측에 설치되어 이온 교환 용액을 상기 이온 교환 필터측으로 분사하는 복수 개의 분사부와, 상기 분사부에 이온 교환 용액을 공급하는 용액 공급부를 포함하고, 상기 수처리부는 상기 외부관 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터와, 상기 수처리 필터 일 측에 설치되어 세척수를 상기 수처리 필터측으로 분사하는 복수 개의 분사부와 상기 분사부에 세척수를 공급하는 세척수 공급부를 포함하는 것도 가능하다.The post-treatment unit into which the waste gas having passed through the pretreatment unit and the catalyst treatment unit flows includes a post-treatment chamber having a double pipe structure, the post-treatment chamber comprising an outer pipe through which the waste gas passing through the catalyst treatment unit flows, Wherein the waste gas treatment unit includes a water treatment unit installed inside the outer pipe and an ion treatment unit installed inside the inner pipe, A plurality of ion exchange filters disposed along the waste gas flow direction in the inner tube and spaced apart from each other by a predetermined distance; a plurality of ion exchange filters disposed on one side of the ion exchange filter for spraying the ion exchange solution toward the ion exchange filter And a solution supply unit for supplying an ion exchange solution to the jetting unit, wherein the water treatment unit A plurality of water treatment filters disposed in the outer tube in the circumferential direction and spaced apart from each other along the flow direction of the waste gas; a plurality of water treatment filters installed at one side of the water treatment filter for spraying wash water toward the water treatment filter And a washing water supply unit for supplying washing water to the spraying unit and the spraying unit.

또한, 상기 용액 공급부는 상기 전처리 유닛에 설치되는 이온 처리부와 후처리 유닛에 설치되는 이온 처리부에 이온 교환 용액을 공급하기 위한 것으로서, 상기 전처리 유닛의 외부관에 설치되는 분사부에 이온 교환 용액을 공급하는 제1라인과, 상기 외부관 저면에 설치되어 저장된 이온 교환 용액을 회수하는 제2라인과, 상기 후처리 유닛의 내부관에 설치되는 분사부에 이온 교환 용액을 공급하는 제3라인과, 상기 내부관 저면에 설치되어 저장된 이용 교환 용액을 회수하는 제4라인과, 상기 제1라인과 제2라인 그리고 제3라인과 제4라인에 각각 연결되어 상기 제2라인과 제4라인으로부터 이온 교환 용액을 회수한 후 상기 제1라인과 제3라인으로 상기 회수된 이온 교환 용액을 공급하는 펌프를 포함하는 것도 가능하다.The solution supply unit supplies the ion exchange solution to the ion treatment unit installed in the pretreatment unit and the ion treatment unit installed in the after treatment unit and supplies the ion exchange solution to the spray unit installed in the outer tube of the pretreatment unit A third line for supplying an ion exchange solution to a spray part provided in an inner pipe of the post-treatment unit; and a third line for supplying an ion exchange solution to the spray part provided in the inner pipe of the post- A fourth line connected to the first line and the second line, and a third line and a fourth line connected to the first line and the fourth line, And a pump for supplying the recovered ion exchange solution to the first line and the third line after recovering the ion exchange solution.

또한, 상기 세척수 공급부는 상기 전처리 유닛에 설치되는 수처리부와 후처리 유닛에 설치되는 수처리부에 세척수를 공급하기 위한 것으로서, 상기 전처리 유닛의 내부관에 설치되는 분사부에 세척수를 공급하는 제1라인과, 상기 내부관 저면에 설치되어 저장된 세척수를 회수하는 제2라인과, 상기 후처리 유닛의 외부관에 설치되는 분사부에 세척수를 공급하는 제3라인과, 상기 외부관 저면에 설치되어 저장된 세척수를 회수하는 제4라인과, 상기 제1라인과 제2라인 그리고 제3라인과 제4라인에 각각 연결되어 상기 제2라인과 제4라인으로부터 세척수를 회수한 후 상기 제1라인과 제3라인으로 상기 회수된 세척수를 공급하는 펌프를 포함하는 것도 가능하다.The washing water supply unit supplies the washing water to the water treatment unit installed in the pretreatment unit and the water treatment unit installed in the after treatment unit. The washing water supply unit supplies the washing water to the spraying unit installed in the inner pipe of the pretreatment unit, A third line for supplying washing water to a spraying unit installed in an outer pipe of the post-treatment unit, and a third line for supplying wash water to the spraying unit installed on the bottom surface of the outer tube, And a fourth line connected to the first line, the second line, the third line and the fourth line, respectively, for recovering the washing water from the second line and the fourth line, And a pump for supplying the recovered washing water to the washing water tank.

또한, 상기 전처리 챔버 또는 후처리 챔버의 내부관 일 측에 연통공이 형성되어 외부관과 연통되되, 상기 연통공의 위치는 상기 내부관 또는 외부관에 저장된 이온 교환 용액 또는 세척수 보다 높은 위치에 형성된 것도 가능하다.In addition, a communication hole may be formed at one side of the inner tube of the pretreatment chamber or the post-treatment chamber to communicate with the outer tube, and the position of the communication hole may be formed at a higher position than the ion exchange solution or the washing water stored in the inner tube or the outer tube It is possible.

또한, 본 발명은 상기 처리 장치를 이용하여 상기 폐가스를 처리하는 방법으로서, 상기 폐가스가 전처리 챔버의 외부관을 통해 유입되면서 상기 외부관에 설치된 이온처리부에 의해 상기 폐가스의 산성 가스가 1차적으로 중화되어 제거된 후, 상기 폐가스는 내부관으로 유입되면서 상기 내부관에 설치된 수처리부에 의해 이물질이 필터링되어 배출되고, 상기 배출된 폐가스는 상기 가열부를 통해 가열된 상태로 촉매 처리 유닛으로 유입되어 촉매에 의해 과불화 화합물이 분해된 후 배출되고, 상기 배출된 폐가스는 후처리 챔버의 외부관을 통해 유입되면서 상기 외부관에 설치된 수처리부에 의해 산성 가스 일부를 제거하는 한편 이물질을 필터링한 후 상기 내부관으로 유입되어 상기 분해된 과불화 화합물이 입자화되어 제거되는 한편 잔존하는 산성 가스가 중화되어 제거되는 촉매식 폐가스 처리 방법에 또 다른 특징이 있다.
Further, the present invention provides a method for treating the waste gas using the treatment apparatus, wherein the waste gas is introduced through an outer pipe of the pretreatment chamber, and the acid gas of the waste gas is primarily neutralized The waste gas is introduced into the internal pipe, the foreign substance is filtered and discharged by the water treatment unit installed in the internal pipe, and the discharged waste gas flows into the catalyst treatment unit while being heated through the heating unit, And the discharged waste gas is introduced through the external pipe of the post-treatment chamber while removing part of the acid gas by the water treatment unit installed in the external pipe while filtering the foreign substance, And the decomposed perfluorinated compound is granulated and removed, while the remaining acidic There is another aspect to the catalytic waste gas treatment method which is removed is neutralized Suga.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

이상 설명한 본 발명에 의해 종래보다 산성 가스 제거 성능을 향상시켜 설비의 부식을 방지하는 한편 과불화 화합물의 제거 성능 또한 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention described above, it is possible to improve the acid gas removing performance as compared with the prior art, thereby preventing the corrosion of the equipment and improving the removal performance of the perfluorinated compound.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치를 설명하는 개념도이며,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치로서 전처리 유닛을 설명하는 개념도이며,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치 후처리 유닛을 설명하는 개념도이며,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치로서 전처리 유닛과 후처리 유닛 그리고 촉매 처리 유닛 모두를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a processing apparatus according to an embodiment of the present invention,
2 is a conceptual diagram illustrating a preprocessing unit as a processing apparatus according to an embodiment of the present invention,
3 is a conceptual diagram illustrating a processing device post-processing unit according to an embodiment of the present invention,
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating both a preprocessing unit, a post-processing unit, and a catalyst processing unit according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 내려져야 할 것이다.In addition, the terms described below are defined in consideration of the functions of the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the user, the operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

아울러, 아래의 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 본 발명의 청구범위에 제시된 구성요소의 예시적인 사항에 불과하며, 본 발명의 명세서 전반에 걸친 기술사상에 포함되고 청구범위의 구성요소에서 균등물로서 치환 가능한 구성요소를 포함하는 실시예는 본 발명의 권리범위에 포함될 수 있다.
In addition, the following embodiments are not intended to limit the scope of the present invention, but merely as exemplifications of the constituent elements set forth in the claims of the present invention, and are included in technical ideas throughout the specification of the present invention, Embodiments that include components replaceable as equivalents in the elements may be included within the scope of the present invention.

첨부된 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치를 설명하는 개념도이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치로서 전처리 유닛을 설명하는 개념도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치 후처리 유닛을 설명하는 개념도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치로서 전처리 유닛과 후처리 유닛 그리고 촉매 처리 유닛 모두를 설명하는 개념도이다.
FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating a preprocessing unit as a processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a pretreatment unit, a post-treatment unit, and a catalyst treatment unit as a treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치(10)는 도 1에 도시된 바와 같이 과불화 화합물과 산성 가스의 혼합물인 폐가스가 유입되는 것으로서 상기 산성 가스를 1차 처리하는 전처리 유닛(100)과, 상기 전처리 유닛(100)을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛(200)과, 상기 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 촉매 반응 과정에서 발생하는 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛(300)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the treatment apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes a pretreatment unit 100 to which the waste gas, which is a mixture of the perfluorinated compound and the acid gas, A catalytic processing unit 200 for treating a perfluorinated compound of waste gas that has passed through the pretreatment unit 100 and a post-treatment unit 200 for treating the acidic gas generated in the course of the catalytic reaction through the catalytic treatment unit 200 300).

즉, 폐가스의 산성 가스는 상기 전처리 유닛(100)에서 1차 처리되고 후처리 유닛(300)에서 잔존하는 산성 가스가 처리되어 최종적으로 깨끗한 가스가 배출되고, 과불화 화합물은 상기 촉매 처리 유닛(200)에서 처리된다.That is, the acid gas of the waste gas is first treated in the pre-treatment unit 100 and the remaining acid gas in the post-treatment unit 300 is treated to finally discharge the clean gas, and the perfluorinated compound is supplied to the catalyst processing unit 200 ).

이때, 상기 전처리 유닛(100)은 도시된 바와 같이 이중관 구조의 전처리 챔버(110)를 포함할 수 있으며, 이를 위해 상기 전처리 챔버(110)는 폐가스가 유입되는 통로인 유입부(도시하지 않음)가 상부에 구비된 외부관(112)과, 상기 외부관(112) 내부에 설치되어 하부에 내부로 연통된 연통공(도시하지 않음)가 하나 이상 형성되며 상기 연통공의 상부로 폐가스 처리부(S)가 내부에 설치되는 내부관(111)을 포함할 수 있다. 상기 연통공의 하부로 처리수 등이 수용되는 수용부(도시하지 않음)가 구비된다. 상기 내부관(111)의 상부에 폐가스 처리부(S)를 통과한 가스가 배출되는 배출부가 구비된다.In this case, the pre-treatment unit 100 may include a pre-treatment chamber 110 having a double pipe structure. To this end, the pre-treatment chamber 110 includes an inlet (not shown) And at least one communication hole (not shown) communicating with the interior of the lower portion is formed in the outer pipe 112. The waste gas treatment unit S is disposed above the communication hole, And an inner tube 111 installed inside. And a receiving portion (not shown) for receiving treated water or the like is provided below the communication hole. And a discharge unit for discharging the gas that has passed through the waste gas treatment unit S is provided at an upper portion of the inner pipe 111.

예를 들어 중공의 원통 형상인 외부관(112) 내부에 유사한 형상의 내부관(111)이 배치되는 것이다. 이때 상기 폐가스를 처리하는 폐가스 처리부(S)가 상기 내부관(111) 내부에 설치되는 것이다.For example, an inner tube 111 having a similar shape is disposed inside the outer tube 112 having a hollow cylindrical shape. At this time, a waste gas treatment unit S for treating the waste gas is installed inside the inner pipe 111.

이러한 구성에 의해 폐가스가 유입부를 통하여 상기 외부관(112)으로 유입된 후 도면상 하측 방향으로 유동한 후 연통공을 통하여 내부관(111) 내부로 유입되어 도면상 상부 방향으로 유동하면서 상기 폐가스 처리부(S)에 의해 상기 폐가스의 산성 가스가 1차 처리되는 것이다.The waste gas flows into the outer tube 112 through the inlet, flows downward in the drawing, flows into the inner tube 111 through the communication hole, flows in the upward direction in the drawing, (S), the acid gas of the waste gas is treated first.

이후, 상기 폐가스 처리부(S)에 의해 처리된 폐가스는 도면상 상부 방향으로 토출되어 후술되는 촉매 처리 유닛(200)으로 이동된다.Thereafter, the waste gas treated by the waste gas treatment unit S is discharged in the upward direction in the figure and is transferred to the catalyst processing unit 200, which will be described later.

한편, 상기 전처리 유닛(100)은 다양한 형상을 이용할 수 있으며 예를 들어 도 1에 도시된 실시예와 같이 도면상 좌측에 형성된 입구를 통해 유입된 후 도면상 상부측에 형성된 출구를 통해 배출될 수 있다.Meanwhile, the preprocessing unit 100 can be used in various shapes. For example, as shown in FIG. 1, the preprocessing unit 100 may be introduced through an inlet formed on the left side of the drawing, have.

다만 이는 본 발명을 설명하기 위한 일 실시예예에 불과한 것으로서 본 발명은 이러한 실시예에 의해 제한되지 않음은 분명하다.
It should be understood, however, that this is merely one embodiment for explaining the present invention, and the present invention is not limited by these embodiments.

상술한 바와 같이 폐가스는 본 발명의 전처리 유닛(100)에서 산성 가스가 1차 처리된 후 폐가스의 과불화 화합물을 처리하기 위해 촉매 처리 유닛(200)으로 투입되며 이를 위한 상기 촉매 처리 유닛(200)은 도 1에 도시된 바와 같이 내부에 촉매(CA)가 설치되는 중공의 촉매 처리 챔버(210)로 이루어지며, 촉매 처리 챔버(210)에 유입되는 폐가스를 가열하는 가열부(220)를 포함할 수 있다. As described above, the waste gas is introduced into the catalyst processing unit 200 for treating the perfluorocompound of the waste gas after the acid gas is first treated in the pretreatment unit 100 of the present invention, As shown in FIG. 1, includes a heating unit 220, which includes a hollow catalytic processing chamber 210 in which a catalyst CA is installed, and which heats the waste gas flowing into the catalytic processing chamber 210 .

상기 촉매 처리 챔버(210)의 경우 상기 촉매(CA)가 내부 설치될 수 있는 형상인 한 다양한 형상을 이용할 수 있으며 예를 들어 도 1에 도시된 실시예와 같이 촉매 처리 챔버(210) 내부 높이 방향 중앙 지점에 상기 촉매(CA)를 설치한 후 상기 촉매 처리 챔버(210)의 도면상 상부측에서 폐가스가 유입된 후 상기 촉매(CA)를 거쳐 도면상 하부측 방향으로 배출될 수 있다. In the case of the catalytic processing chamber 210, various shapes can be used as long as the catalyst CA can be installed therein. For example, as shown in FIG. 1, After the catalyst (CA) is installed at the central point, waste gas may be introduced from the upper side of the catalyst processing chamber 210 in the drawing, and then discharged downward in the drawing through the catalyst (CA).

다만, 이는 본 발명을 설명하기 위한 일 실시예에 불과한 것으로서 본 발명은 이러한 실시예에 의해 제한되지 않음은 분명하다.However, it should be understood that the present invention is by no means limited to such an embodiment.

또한 상기 촉매(CA)의 경우 상기 과불화 화합물을 처리하기 위한 것으로서 이러한 기능을 수행할 수 있는 한 어떠한 종류라도 사용가능하다.The catalyst (CA) is used for treating the perfluorinated compound, and any kind can be used as long as it can perform such a function.

한편, 상기 가열부(220)는 과불화 화합물이 상기 촉매(CA)에 보다 효율적으로 처리될 수 있도록 온도를 상승시키는 역할을 하며 이를 위해 널리 알려진 열선 등을 이용할 수 있다.Meanwhile, the heating unit 220 raises the temperature so that the perfluorinated compound can be more efficiently treated by the catalyst (CA). For this purpose, well-known hot wires can be used.

상기 가열부(220)는 촉매 처리 챔버(210)를 둘러싸는 열선으로 형성될 수도 있으며, 가열이 균일하고 확실하게 이루어지도록 전처리 챔버(110)와 촉매 처리 챔버(210) 사이에 배관을 감싸는 형태로 상기 열선 등을 이용하는 가열하는 예비 가열부(221)를 더 포함할 수 있다. 상기 가열부(220)는 촉매 처리 챔버(210) 내측과 외측에 구비될 수 있다. 이러한 구성에 의해 상기 전처리 챔버(110)에서 토출되는 폐가스의 온도가 상승된 후 상기 촉매(CA)로 투입되는 것이다.
The heating unit 220 may be formed of a heat line surrounding the catalytic processing chamber 210 and may be configured to surround the pipe between the pretreatment chamber 110 and the catalytic processing chamber 210 so that heating is uniform and reliable. And a preheating unit 221 for heating using the hot wire or the like. The heating unit 220 may be provided inside and outside the catalytic processing chamber 210. With this configuration, the temperature of the waste gas discharged from the pretreatment chamber 110 is increased, and then the waste gas is introduced into the catalyst CA.

상기 후처리 유닛(300)은 상기 전처리 유닛(100)과 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스가 투입되어 잔존하는 산성 가스를 최종 처리하는 것으로서 이를 위해 도 1에 도시된 바와 같이 후처리 챔버(310)와, 상기 후처리 챔버(310) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 폐가스 처리부(S)를 포함할 수 있다.The post-treatment unit 300 finalizes the acid gas remaining after the waste gas passing through the pretreatment unit 100 and the catalytic treatment unit 200 is put into the post-treatment chamber 300 as shown in FIG. And a waste gas treatment unit S disposed in the post-treatment chamber 310 along the waste gas flow direction.

이때, 상기 폐가스 처리부(S)가 내부에 설치되는 후처리 챔버(310)는 다양한 형상을 가질 수 있으며, 도 1에 도시된 실시예와 같이 원통 형상을 가져 내부에 폐가스 처리부(S)가 설치되는 한편 상부측은 상대적으로 좁은 직경을 가져 최종 처리된 폐가스가 배출되도록 하는 것도 가능하다.
In this case, the post-treatment chamber 310 in which the waste gas treatment unit S is installed may have various shapes. As shown in FIG. 1, the post-treatment chamber S has a cylindrical shape, While the upper side has a relatively narrow diameter, so that the final treated waste gas can be discharged.

한편, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 산성 가스를 처리하기 위해 이온 교환 용액(IW)과 세척수(WW)를 이용할 수 있으며 상기 이온 교환 용액(IW)과 세척수(WW)를 공급하기 위한 용액 공급부(IU) 및 세척수 공급부(WU)를 포함할 수 있으며 이에 대해서는 따로이 설명하기로 한다.1, an ion exchange solution IW and wash water WW may be used for treating the acidic gas, and a solution supply part (not shown) for supplying the ion exchange solution IW and the wash water WW IU) and a wash water supply unit (WU), which will be described separately.

또한, 상기 전처리 유닛(100)과 후처리 유닛(300)에서 처리 과정동안 발생한 폐수는 드레인 펌프(PU)를 이용하여 배출하는 것도 가능하고 후술되는 바와 같이 상기 용액 공급부(IU) 및 세척수 공급부(WU)의 공급 펌프(IU-5,WU-5)를 이용하는 것도 가능하다.
Wastewater generated during the treatment process in the pre-treatment unit 100 and the post-treatment unit 300 can be discharged using the drain pump PU and the solution supply unit IU and the wash water supply unit WU It is also possible to use feed pumps IU-5 and WU-5.

이하 도 2를 참조하여 상기 전처리 유닛(100)에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the preprocessing unit 100 will be described in more detail with reference to FIG.

도시된 바와 같이 상기 전처리 유닛(100)은 이중관 구조의 전처리 챔버(110)를 포함한다.As shown, the pretreatment unit 100 includes a pre-treatment chamber 110 having a double-tube structure.

이때, 상기 전처리 챔버(110)에 설치되는 폐가스 처리부(S)는 상기 외부관(112) 내부에 설치되는 이온 처리부(IS)와, 상기 내부관(111) 내부에 설치되는 수처리부(WS)를 포함한다.The waste gas treatment unit S installed in the pretreatment chamber 110 includes an ion treatment unit IS installed inside the outer tube 112 and a water treatment unit WS installed inside the inner tube 111 .

즉, 본 발명의 폐가스 처리부(S)는 이온 처리부(IS)와 수처리부(WS)를 포함하되, 상기 이온 처리부(IS)는 상기 이중관 구조의 전처리 챔버(110) 중 외부관(112) 내부에 설치되고, 상기 수처리부(WS)는 상기 전처리 챔버(110) 중 내부관(111) 내부에 설치되는 것이다.That is, the waste gas treatment unit S of the present invention includes an ion treatment unit IS and a water treatment unit WS, and the ion treatment unit IS is disposed inside the outer tube 112 of the pre- And the water treatment unit WS is installed inside the inner tube 111 of the pretreatment chamber 110. [

이때, 상기 이온 처리부(IS)는 상기 폐가스중 산성 가스를 처리하기 위한 이온 교환 필터(IF)와 상기 이온 교환 필터(IF) 일 측에 설치되어 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(IP)와 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)를 포함한다.At this time, the ion treatment unit IS includes an ion exchange filter IF for treating the acid gas in the waste gas, and an ion exchange filter IF installed at one side of the ion exchange filter IF, And a solution supply unit IU for supplying the ion exchange solution IW to the jetting unit IP.

이때, 상기 이온 교환 필터(IF)는 상기 외부관(112) 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치될 수 있다.At this time, a plurality of ion exchange filters (IF) may be installed in the outer tube 112 in the circumferential direction, and may be spaced apart from each other along the flow direction of the waste gas.

즉, 도 2에 도시된 실시예와 같이 상기 이온 교환 필터(IF)는 상기 외부관(112) 내부에 상호 마주보는 방향으로 설치되되 폐가스의 유동 방향 즉, 도면상 하측 방향으로 다수 개 설치될 수 있다.2, the ion exchange filters IF may be installed in the direction opposite to each other inside the outer tube 112, but a plurality of ion exchange filters IF may be installed in the flowing direction of the waste gas, have.

이러한 이온 교환 필터(IF)를 상기 산성 가스가 통과하면서 처리되며, 이를 위해 상기 이온 교환 필터(IF)는 염기성 특성을 가지는 필터망과 상기 필터망이 지지되는 프레임을 포함할 수 있다. 이러한 이온 교환 필터(IF)를 산성 가스가 통과하면서 중화되어 제거되는 것이다.The ion exchange filter (IF) is processed while passing the acid gas. To this end, the ion exchange filter (IF) may include a filter network having basic characteristics and a frame supporting the filter network. Such an ion exchange filter (IF) is neutralized while being passed through the acid gas and removed.

또한, 상기 산성 가스 제거 효율을 향상하기 위해 상기 이온 교환 필터(IF)에 이온 교환 용액(IW)을 투입하는 것도 가능하다.It is also possible to add the ion exchange solution IW to the ion exchange filter IF to improve the acid gas removal efficiency.

예를 들어 염기성 특성을 가지는 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)에 분사하여 산성 가스를 보다 효율적으로 중화하여 제거하는 것이다.For example, an ion exchange solution IW having basic characteristics is injected into the ion exchange filter IF to more effectively neutralize and remove the acid gas.

한편, 상기 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 분사하기 위해 복수 개의 분사부(IP)와 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)를 포함할 수 있다.A solution supply unit IU for supplying an ion exchange solution IW to the jetting unit IP and a plurality of jetting units IP for jetting the ion exchange solution IW to the ion exchange filter IF side, . ≪ / RTI >

상기 분사부(IP)는 널리 알려진 노즐 등을 이용하여 이온 교환 용액(IW)을 이온 교환 필터(IF)측으로 분사할 수 있으며 이러한 구성은 널리 알려진 관계로 도 2에서 개략적으로 도시하였다.The injection unit IP can inject the ion exchange solution IW to the ion exchange filter IF side by using a well-known nozzle or the like. Such a configuration is schematically shown in FIG. 2 in a well-known relationship.

상기 용액 공급부(IU)는 상술된 바와 같이 이온 교환 용액(IW)을 분사부(IP)측으로 공급하기 위한 것으로서, 이를 위해 다양한 구성을 이용할 수 있으나, 도시된 바와 같이 상기 전처리 유닛(100)의 외부관(112)에 설치되는 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 제1라인(IU-1)과, 상기 외부관(112) 저면에 설치되어 저장된 이온 교환 용액(IW)을 회수하는 제2라인(IU-2)을 포함할 수 있다.The solution supply unit IU is for supplying the ion exchange solution IW to the jetting unit IP side as described above, and various configurations can be used for this purpose. However, as shown in the figure, A first line IU-1 for supplying an ion exchange solution IW to an injection part IP installed in the pipe 112 and an ion exchange solution IW installed on the bottom surface of the external pipe 112, And a second line IU-2 for recovery.

이때, 상기 제1라인(IU-1)과 제2라인(IU-2)에 설치되는 것으로서 상기 제2라인(IU-2)으로부터 이온 교환 용액(IW)을 회수한 후 상기 제1라인(IU-1)으로 상기 회수된 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 펌프(IU-5)를 포함할 수 있다.
At this time, after the ion exchange solution IW is recovered from the second line IU-2 and installed in the first line IU-1 and the second line IU-2, the first line IU- -1) to supply the recovered ion exchange solution IW.

즉, 상기 펌프(IU-5)에 의해 이온 교환 용액(IW)을 제1라인(IU-1)을 통해 분사부(IP)로 공급하고, 상기 분사된 이온 교환 용액(IW)은 외부관(112) 하부에 일시 저장되었다가 제2라인(IU-2)을 통해 회수된 후 상기 제1라인(IU-1)으로 다시 이송되는 것이다.That is, the ion exchange solution IW is supplied to the jetting unit IP via the first line IU-1 by the pump IU-5, and the jetted ion exchange solution IW is supplied to the outer tube 112 and is then retrieved through the second line IU-2 and then transferred again to the first line IU-1.

이때, 도 2에서는 도시되지 않았으나 널리 알려진 필터를 이용하여 이물질을 제거하는 것도 가능하다.
At this time, although it is not shown in FIG. 2, it is also possible to remove foreign matter by using a widely known filter.

한편, 상기 폐가스 처리부(S)는 상술된 바와 같이 이온 처리부(IS)와 수처리부(WS)를 구비하며, 상기 수처리부(WS)는 도2에 도시된 바와 같이 상기 내부관(111) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터(WF)와, 상기 수처리 필터(WF) 일 측에 설치되어 세척수(WW)를 상기 수처리 필터(WF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(WP)를 포함할 수 있다.The waste gas treatment unit S includes an ion treatment unit IS and a water treatment unit WS as described above and the water treatment unit WS is disposed inside the inner pipe 111 as shown in FIG. A plurality of water treatment filters WF installed along the waste gas flow direction and spaced apart from each other by a predetermined distance and a plurality of water treatment filters WF disposed on one side of the water treatment filter WF for spraying wash water WW toward the water treatment filter WF And a jetting portion WP.

즉, 도 2에 도시된 실시예의 경우 상기 수처리 필터(WF)는 상기 내부관(111) 내부에 폐가스 유동 방향 즉, 도면상 상하 방향으로 다수 개 설치되되 일정 간격 이격되도록 배치된다.In other words, in the embodiment shown in FIG. 2, the water treatment filters WF are disposed in the inner tube 111 in the direction of the waste gas flow, that is, in the vertical direction in the figure, and spaced apart by a predetermined distance.

이때, 상기 분사부(WP)는 상기 상하 방향 배치된 수처리 필터(WF)상에 각각 배치되어 세척수(WW)를 상기 수처리 필터(WF)측으로 분사되게 하며 이때, 상기 분사부(WP)는 상술된 바와 같이 노즐 등을 이용할 수 있다.At this time, the jetting units WP are respectively disposed on the water treatment filters WF arranged in the vertical direction to cause the washing water WW to be jetted toward the water treatment filter WF, A nozzle or the like can be used as described above.

또한, 상기 분사부(WP)에 세척수(WW)를 공급하기 위해 세척수 공급부(WU)를 포함할 수 있으며, 상기 세척수 공급부(WU)는 상기 전처리 유닛(100)의 내부관(111)에 설치되는 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 제1라인(WU-1)과, 상기 내부관(111) 저면에 설치되어 저장된 세척수(WW)을 회수하는 제2라인(WU-2)을 포함할 수 있다.The washing water supplying unit WU may include a washing water supplying unit WU for supplying the washing water WW to the spraying unit WP and the washing water supplying unit WU may be installed in the inner tube 111 of the pretreatment unit 100 A first line WU-1 for supplying wash water WW to the jetting section WP and a second line WU-2 for recovering the wash water WW installed on the bottom surface of the inner tube 111, .

이때, 상기 제1라인(WU-1)과 제2라인(WU-2)에 각각 연결되어 상기 제2라인(WU-2)으로부터 세척수(WW)을 회수한 후 상기 제1라인(WU-1)으로 상기 회수된 세척수(WW)을 공급하는 펌프(WU-5)를 구비하게 된다.At this time, after washing water WW is recovered from the second line WU-2 by being connected to the first line WU-1 and the second line WU-2, the first line WU-1 And a pump WU-5 for supplying the recovered wash water WW.

즉, 상기 펌프(WU-5)에 상기 제2라인(WU-2)으로부터 세척수가 회수된 후 제1라인(WU-1)으로 투입되어 전체적으로 순환되도록 하는 것이다.
That is, after the washing water is recovered from the second line WU-2 to the pump WU-5, the washing water is supplied to the first line WU-1 to be circulated as a whole.

한편, 상기 이온 처리부(IS)의 용액 공급부(IU)와 상기 수처리부(WS)의 세척수 공급부(WU)는 널리 알려진 배관 등을 이용하여 제1라인(IU-1,WU-1)과 제2라인(IU-2,WU-2)을 구성하는 것도 가능하며 이 때 상기 각 라인에 널리 알려진 필터 등을 설치하여 이물질을 제거하는 것도 가능하다.
The solution supply unit IU of the ion treatment unit IS and the wash water supply unit WU of the water treatment unit WS are connected to the first line IU-1 and the second line WU- It is also possible to construct the lines IU-2 and WU-2, and it is also possible to remove foreign matter by installing a filter widely known in each line.

한편, 상기 후처리 유닛(300)의 경우도 전처리 유닛(100)과 유사하게 이중관 구조를 가질 수 있다.In the meantime, the post-processing unit 300 may have a double pipe structure similar to the preprocessing unit 100.

즉, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 전처리 유닛(100)과 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스가 유입되는 후처리 유닛(300)은 이중관 구조의 후처리 챔버(310)를 포함할 수 있다.3, the post-treatment unit 300 into which the waste gas having passed through the pretreatment unit 100 and the catalyst treatment unit 200 is introduced may include a post-treatment chamber 310 having a double pipe structure .

이때, 상기 후처리 챔버(310)는 상기 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스가 유입되는 외부관(312)과, 상기 외부관(312) 내부에 설치되어 상기 내부관(311)과 연통되는 내부관(311)을 포함하게 된다.The post-treatment chamber 310 includes an outer tube 312 through which the waste gas having passed through the catalyst processing unit 200 flows and an inner tube 313 provided inside the outer tube 312 to communicate with the inner tube 311 And includes an inner tube 311.

한편, 후처리 유닛(300)의 폐가스 처리부(S)는 전처리 유닛(100)의 폐가스 처리부(S, 도 2참조)와 달리 상기 외부관(312) 내부에 설치되는 수처리부(WS)와, 상기 내부관(311) 내부에 설치되는 이온 처리부(IS)를 포함할 수 있다.The waste gas treatment unit S of the post-treatment unit 300 is different from the waste gas treatment unit S (see FIG. 2) of the pretreatment unit 100 and comprises a water treatment unit WS installed inside the outer pipe 312, And an ion processing unit IS provided inside the inner tube 311. [

이때, 상기 이온 처리부(IS)는 상기 내부관(311) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 이온 교환 필터(IF)와, 상기 이온 교환 필터(IF) 일 측에 설치되어 이온 교환 용액(IW)들 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(IP)와, 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)를 포함할 수 있다.The ion processing unit IS includes a plurality of ion exchange filters IF disposed in the inner tube 311 along the waste gas flow direction and spaced apart from each other by a predetermined distance, And a solution supply unit IU for supplying the ion exchange solution IW to the injection unit IP, the ion exchange solution IW being injected into the ion exchange filter IF, . ≪ / RTI >

즉, 이온 교환 필터(IF)를 내부관(311) 내부에 폐가스 유동 방향 즉, 도면상 상하 방향으로 다수 개 설치하되 상호 일정 간격 이격되게 배치한다. 이때, 상기 분사부(IP)를 상기 이온 교환 필터(IF)상에 배치하여 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 공급하게 된다.That is, a plurality of ion exchange filters (IF) are installed inside the inner tube 311 in the direction of the waste gas flow, that is, in the vertical direction in the figure, and are spaced apart from each other by a predetermined distance. At this time, the jetting unit IP is disposed on the ion exchange filter IF to supply the ion exchange solution IW to the ion exchange filter IF side.

또한, 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)는 앞서 설명한 도 2의 경우와 동일하게 적용될 수 있어 중복되는 설명은 생략한다.
In addition, the solution supply unit IU for supplying the ion exchange solution IW to the jetting unit IP may be applied in the same manner as in the case of FIG. 2 described above, and a duplicate description will be omitted.

한편, 상기 후처리 유닛(300)에 설치되는 수처리부(WS)는 도 3에 도시된 바와 같이 후처리 챔버(310)의 외부관(312) 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터(WF)와, 상기 수처리 필터(WF) 일 측에 설치되어 세척수(WW)을 상기 수처리 필터(WF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(WP)와 상기 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 세척수 공급부(WU)를 포함할 수 있다.3, a plurality of water treatment units WS installed in the post-treatment unit 300 are installed in the outer tube 312 of the post-treatment chamber 310 in the circumferential direction, A plurality of water jetting filters WF disposed on one side of the water treatment filter WF to jet wash water WW to the water treatment filter WF side, And a washing water supply unit WU for supplying wash water WW to the spray unit WP.

즉, 상기 수처리 필터(WF)를 외부관(312) 내부에 상호 마주보는 위치로 배치하되 폐가스 유동 방향 즉, 도면상 하부 방향으로 다수 개 설치하는 것이다. 이러한 수처리 필터(WF)사이에 상기 분사부(WP)를 각각 배치하여 세척수(WW)를 상기 수처리 필터(WF)측으로 공급되도록 한다.That is, the water treatment filters WF are disposed inside the outer tube 312 at mutually facing positions, and a plurality of water treatment filters WF are installed in the waste gas flow direction, that is, the lower side in the drawing. The jetting portions WP are disposed between the water treatment filters WF so that the washing water WW is supplied to the water treatment filter WF side.

또한, 상기 분사부(WP)에 세척수(WW)를 공급하는 세척수 공급부(WU)의 경우 도 2에서 설명한 바와 동일하게 적용될 수 있으므로 중복되는 설명은 생략한다.
In addition, the washing water supply unit WU for supplying the washing water WW to the jetting unit WP may be applied in the same manner as described with reference to FIG. 2, so that a duplicate description will be omitted.

이상 설명된 바와 같이 상기 전처리 유닛(100)의 전처리 챔버(110)와 후처리 유닛(300)의 후처리 챔버(310) 모두 이중관 구조를 가질 수 있으며, 상기 이중관 구조의 내부관과 외부관은 상호 연통되도록 형성된다.As described above, both the pretreatment chamber 110 of the pretreatment unit 100 and the post-treatment chamber 310 of the post-treatment unit 300 can have a double-tube structure, and the inner tube and the outer tube of the double- Respectively.

이를 위해 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 상기 전처리 챔버(110) 또는 후처리 챔버(310)의 내부관(111,311) 일 측에 연통공(H)이 형성되어 외부관(112,312)과 연통되도록 할 수 있다.2 and 3, a communication hole H is formed at one side of the inner pipes 111 and 311 of the pre-processing chamber 110 or the post-processing chamber 310 to communicate with the outer pipes 112 and 312 can do.

다만, 상기 연통공(H)의 위치는 상기 내부관(111,311) 또는 외부관(112,312)에 저장된 이온 교환 용액(IW) 또는 세척수(WW) 보다 높은 위치에 형성되어야 한다.The position of the communication hole H should be formed at a position higher than the ion exchange solution IW or the washing water WW stored in the inner tube 111 or 311 or the outer tube 112 or 312.

즉, 도 2에 도시된 전처리 유닛(100)의 경우 내부관(111) 하부에는 세척수(WW)가 일시 저장되어 있고 외부관(112) 하부에는 이온 교환 용액(IW)이 일시 저장되어 있으므로 상기 연통공(H)을 통해 상호 혼합되지 않도록 상기 연통공(H)의 위치를 이온 교환 용액(IW) 또는 세척수(WW) 보다 높은 위치에 형성하는 것이다.
2, the washing water WW is temporarily stored in the lower portion of the inner tube 111 and the ion exchange solution IW is temporarily stored in the lower portion of the outer tube 112. Therefore, The position of the communication hole H is formed at a position higher than the ion exchange solution IW or the washing water WW so as not to be mixed with each other through the hole H. [

이상 설명한 바와 같이 본 발명은 전처리 유닛(100)과 촉매 처리 유닛(200) 그리고 후처리 유닛(300)을 포함하고 있으며, 상기 전처리 유닛(100)과 후처리 유닛(200)은 도 4에 도시된 바와 같이 모두 이중관 구조를 채택할 수 있으며, 이러한 경우 상기 전처리 유닛(100)과 후처리 유닛(300)에 세척수(WW)와 이온 교환 용액(IW)을 각각 순환시키는 세척수 공급부(WU)와 이온 공급부(IU)를 공용으로 사용할 수 있다.As described above, the present invention includes a preprocessing unit 100, a catalyst processing unit 200, and a post-processing unit 300. The preprocessing unit 100 and the post-processing unit 200 are the same as those shown in FIG. The washing water supply unit WU for circulating the washing water WW and the ion exchange solution IW to the pre-treatment unit 100 and the post-treatment unit 300, (IU) can be commonly used.

즉, 상기 용액 공급부(IU)는 상기 전처리 유닛(100)에 설치되는 이온 처리부(IS)와 후처리 유닛(300)에 설치되는 이온 처리부(IS)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하도록 하는 것으로서, 상기 전처리 유닛(100)의 외부관(112)에 설치되는 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 제1라인(IU-1)과, 상기 외부관(112) 저면에 설치되어 저장된 이온 교환 용액(IW)을 회수하는 제2라인(IU-2)을 포함할 수 있다.That is, the solution supply unit IU supplies the ion exchange solution IW to the ion processing unit IS installed in the pre-processing unit 100 and the ion processing unit IS installed in the post-processing unit 300 A first line IU-1 for supplying ion exchange solution IW to an injection port IP provided in an outer tube 112 of the preprocessing unit 100, And a second line IU-2 for recovering the stored ion exchange solution IW.

또한, 상기 용액 공급부(IU)는 상기 후처리 유닛(300)의 내부관(311)에 설치되는 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 제3라인(IU-3)과, 상기 내부관(311) 저면에 설치되어 저장된 이용 교환 용액(IW)을 회수하는 제4라인(IU-4)을 포함할 수 있다.The solution supply unit IU includes a third line IU-3 for supplying the ion exchange solution IW to the spray part IP provided in the inner pipe 311 of the post-treatment unit 300, And a fourth line IU-4 installed on the bottom surface of the inner pipe 311 for recovering the used exchange solution IW stored therein.

이때, 상기 제1라인(IU-1)과 제2라인(IU-2) 그리고 제3라인(IU-3)과 제4라인(IU-4)에 각각 연결되어 상기 제2라인(IU-2)과 제4라인(IU-4)으로부터 이온 교환 용액(IW)을 회수한 후 상기 제1라인(IU-1)과 제3라인(IU-3)으로 상기 회수된 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 펌프(IU-5)를 구비하는 것이다.The second line IU-2 is connected to the first line IU-1 and the second line IU-2, the third line IU-3 and the fourth line IU-4, ) And the recovered ion exchange solution (IW) into the first line (IU-1) and the third line (IU-3) after recovering the ion exchange solution (IW) from the fourth line And a pump IU-5 for supplying the same.

즉, 하나의 펌프(IU-5)에 의해 상기 전처리 유닛(100)의 이온 처리부(IS)와 후처리 유닛(300)의 이온 처리부(IS)에 각각 이온 교환 용액(IW)을 순환시키면서 공급할 수 있게 된다.That is, the ion-exchange solution IW can be supplied to the ion-processing unit IS of the preprocessing unit 100 and the ion-processing unit IS of the post-processing unit 300, .

또한, 유사하게 상기 세척수 공급부(WU)는 상기 전처리 유닛(100)에 설치되는 수처리부(WS)와 후처리 유닛(300)에 설치되는 수처리부(WS)에 세척수(WW)을 공급하도록 상기 전처리 유닛(100)의 내부관(111)에 설치되는 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 제1라인(WU-1)과, 상기 내부관(111) 저면에 설치되어 저장된 세척수(WW)을 회수하는 제2라인(WU-2)을 포함할 수 있다.Similarly, the washing water supply unit WU is connected to the pretreatment unit WS to supply the washing water WW to the water treatment unit WS installed in the pretreatment unit 100 and the water treatment unit WS installed in the post treatment unit 300, A first line WU-1 for supplying wash water WW to an injection part WP installed in an inner pipe 111 of the unit 100 and a second line WU- And a second line WU-2 for recovering the second line WU-2.

또한, 상기 세척수 공급부(WU)는 상기 후처리 유닛(300)의 외부관(312)에 설치되는 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 제3라인(WU-3)과, 상기 외부관(312) 저면에 설치되어 저장된 세척수(WW)을 회수하는 제4라인(WU-4)을 포함하게 된다.The washing water supply unit WU includes a third line WU-3 for supplying wash water WW to the spray unit WP installed in the outer pipe 312 of the post-treatment unit 300, And a fourth line WU-4 installed on the bottom surface of the pipe 312 to recover the stored wash water WW.

이때, 상기 제1라인(WU-1)과 제2라인(WU-2) 그리고 제3라인(WU-3)과 제4라인(WU-4)에 각각 연결되어 상기 제2라인(WU-2)과 제4라인(WU-4)으로부터 세척수(WW)을 회수한 후 상기 제1라인(WU-1)과 제3라인(WU-3)으로 상기 회수된 세척수(WW)을 공급하는 펌프(WU-5)를 구비하게 되는 것이다.The second line WU-2 is connected to the first line WU-1 and the second line WU-2, the third line WU-3 and the fourth line WU-4, A pump (not shown) for supplying the recovered wash water WW to the first line WU-1 and the third line WU-3 after recovering the wash water WW from the fourth line WU- WU-5).

즉, 하나의 펌프(WU-5)를 이용하여 상기 전처리 유닛(100)과 후처리 유닛(300)의 수처리부(WS)에 세척수(WW)를 순환 공급하게 되는 것이다.
That is, the washing water WW is circulated and supplied to the water treatment units WS of the pre-treatment unit 100 and the post-treatment unit 300 using one pump WU-5.

한편, 상기 수처리 필터(WF)에 대해서는 특별한 설명을 하지 않았으나 이물질을 걸러내는 일반적인 필터를 이용하되 상술된 바와 같이 세척수가 투입되는 것이며 이는 일반적인 기술인 관계로 자세한 설명과 도시는 생략한다.Although the water treatment filter WF is not described in detail, a general filter for filtering out foreign substances is used, and the washing water is input as described above.

또한, 상기 이온 교환 필터(IF)의 경우 상술된 바와 같이 염기성 특성을 가지는 필터망과 상기 필터망이 지지되는 프레임을 포함할 수 있다. 이러한 이온 교환 필터(IF)를 산성 가스가 통과하면서 중화되어 제거되는 것이다.
In addition, in the case of the ion exchange filter (IF), a filter network having basic characteristics and a frame supporting the filter network as described above may be included. Such an ion exchange filter (IF) is neutralized while being passed through the acid gas and removed.

이하, 도 4를 참조하여 이상 설명한 본 발명의 처리 장치를 이용한 처리 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a processing method using the processing apparatus of the present invention described above with reference to FIG. 4 will be described.

다만, 보다 상세하게 설명하기 위해 상기 폐가스 중 과불화 화합물은 SF6를 대상으로 하고 상기 이온 교환 물질(IW)은 염기성 특성을 가지는 NaOH를 대상으로 하였다.However, in order to explain in more detail, the perfluorinated compound in the waste gas was SF6, and the ion exchange material (IW) was NaOH having basic characteristics.

즉, 촉매 처리 유닛(200)의 촉매(CA) 반응에 의해 상기 SF6는 아래와 같이 반응한다.That is, the SF 6 reacts as follows by the catalytic (CA) reaction of the catalytic treatment unit 200.

SF6+3H2O -> SO3+6HFSF6 + 3H2O - > SO3 + 6HF

또한, 후처리부(300)의 이온 처리부(IS)에 의해 상기 SO3는 다음과 같이 처리된다.The SO3 is processed as follows by the ion processing unit IS of the post-processing unit 300. [

SO3+2NaOH -> Na2SO4+H2OSO3 + 2NaOH - > Na2SO4 + H2O

즉, 상기 SO3는 NaOH에 의해 입자 형태의 Na2SO4가 되어 처리되는 것이다.That is, the SO 3 is treated with NaOH as Na 2 SO 4 in the form of particles.

이러한 실시예를 대상으로 하여 상세히 설명한다.These embodiments will be described in detail.

우선, 상기 SF6와 산성 가스를 포함하는 폐가스는 상기 전처리 챔버(110)의 외부관(112)을 통해 유입되면서 상기 외부관(112)에 설치된 이온처리부(IS)에 의해 상기 폐가스의 산성 가스가 1차적으로 중화되어 제거된다. 즉, 상기 이온처리부(IS)는 염기성 특성을 가지는 이온 교환 필터(IF)와 NaOH를 이용한 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)에 분사하는 분사부(IP)를 구비한다.First, the waste gas containing SF6 and the acid gas flows through the outer pipe 112 of the pretreatment chamber 110, and the acid gas of the waste gas is supplied to the inner pipe 112 through the ion processing unit IS provided in the outer pipe 112, And neutralized and removed. That is, the ion processing unit IS includes an ion exchange filter IF having a basic property and a jetting unit IP for spraying an ion exchange solution IW using NaOH to the ion exchange filter IF.

이때, 상기 산성 가스는 상기 염기성 특성을 가지는 이온 교환 필터(IF)와 NaOH에 의해 중화되어 1차 제거되는 것이다.At this time, the acid gas is neutralized by the ion exchange filter (IF) having the basic property and NaOH, and is primarily removed.

한편, 상기 산성 가스가 1차 제거된 폐가스는 내부관(111)으로 유입되면서 상기 내부관(111)에 설치된 수처리부(WS)에 의해 이물질이 필터링되어 배출된다.On the other hand, the waste gas from which the acid gas is firstly removed flows into the inner pipe 111, and the foreign substance is filtered and discharged by the water treatment unit WS installed in the inner pipe 111.

즉, 상기 수처리부(WS)에 의해 세척수가 공급되어 상기 과불화화합물의 환원재로 사용되게 하는 한편 상기 이온처리부(IS)의 이온 교환 필터(IF)에서 사용되는 케미컬을 세척하게 되는 것이다.That is, washing water is supplied by the water treatment unit WS to be used as a reducing material of the perfluorinated compound, and the chemical used in the ion exchange filter IF of the ion treatment unit IS is washed.

또한, 상기 산성 가스가 수용성인 경우 상기 수처리부(WS)에 의해서도 일부 제거될 수 있다.In addition, if the acid gas is water-soluble, it can be partially removed by the water treatment unit WS.

이상 설명된 상기 전처리 유닛(100)에서 산성 가스가 1차 제거된 폐가스는 촉매 처리 유닛(200)으로 이송되어 촉매 처리된다.The waste gas from which the acid gas has been primarily removed in the pretreatment unit 100 described above is transferred to the catalyst processing unit 200 and subjected to the catalyst treatment.

즉, 상술된 바와 같이 과불화 화합물 SF6는 촉매 반응에 의해 SO3와 또 다른 산성 가스인 HF로 분해된다.Namely, as described above, the perfluorinated compound SF6 is decomposed into SO 3 and HF which is another acid gas by a catalytic reaction.

이때, 상기 촉매 반응을 원활하게 하기 위해 상술된 바와 같이 상기 촉매 처리 유닛(200)으로 투입되는 폐가스를 가열하는 것이다. 또한 상기 촉매 반응을 위해 물이 필요하므로 상기 전처리 유닛(100)에서 물을 공급하거나 혹은 상기 촉매 처리 유닛(200)에서 별도로 물을 공급할 수 있다.At this time, in order to facilitate the catalytic reaction, the waste gas introduced into the catalytic treatment unit 200 is heated as described above. In addition, since water is required for the catalytic reaction, water can be supplied from the pretreatment unit 100 or water can be supplied separately from the catalyst treatment unit 200.

한편, 상기 촉매 처리 유닛(200)에서 처리된 폐가스는 후처리 유닛(300)으로 유입된다.On the other hand, the waste gas processed in the catalyst processing unit 200 flows into the post-treatment unit 300.

이때, 상기 배출된 폐가스는 후처리 챔버(310)의 외부관(312)을 통해 유입되면서 상기 외부관(312)에 설치된 수처리부(WS)에 의해 산성 가스 일부를 제거하는 한편 이물질을 필터링한다.At this time, the discharged waste gas flows through the outer pipe 312 of the post-treatment chamber 310, and a part of the acid gas is removed by the water treatment unit WS installed in the outer pipe 312, and the foreign substance is filtered.

즉, 상기 SF6는 촉매 반응에 의해 HF라는 산성 가스가 별도로 발생하며 이러한 HF 산성 가스는 물에 용해가 되어 제거되는 것이다. 물론 상기 수처리 필터(WF)에 의해 이물질도 제거됨은 물론 상기 촉매(CA)를 경과한 폐가스를 냉각하는 역할도 한다.That is, in SF6, an acidic gas such as HF is generated separately by the catalytic reaction, and the HF acid gas is dissolved in water and removed. As a matter of course, the water treatment filter (WF) removes foreign matter as well as cooling the waste gas passing through the catalyst (CA).

상기 수처리부(WS)에 의해 산성 가스가 일부 제거된 폐가스는 내부관(311)으로 진입한다.The waste gas in which the acid gas is partially removed by the water treatment section WS enters the inner pipe 311.

이때, 상기 내부관(311)에는 이온 처리부(IS)가 배치되어 있다. 즉, 상기 내부관(311)에는 분해된 과불화 화합물인 SO3가 진입하며, 상기 SO3는 염기성 특성을 가지는 이온 교환 물질인 NaOH와 만나게 된다.At this time, an ion processing unit IS is disposed in the inner pipe 311. That is, SO 3, which is a decomposed perfluorinated compound, enters the inner pipe 311, and the SO 3 meets NaOH, which is an ion exchange material having a basic property.

이때, 상술된 바와 같이 상기 SO3는 고체 입자인 Na2SO4가 되어 낙하하게 되고 이에 의해 상기 분해된 과불화 화합물이 제거되는 것이다.At this time, as described above, the SO 3 falls into solid particles of Na 2 SO 4, whereby the decomposed perfluorinated compound is removed.

또한, 상기 내부관(311)에 진입된 폐가스 중 산성 가스는 상기 염기성 특성을 가지는 NaOH와 반응하여 중화되고 이에 의해 상기 산성 가스가 최종 제거되는 것이다.In addition, the acid gas in the waste gas entering the inner pipe 311 is neutralized by reacting with NaOH having the basic characteristic, whereby the acid gas is finally removed.

즉, 상기 전처리 유닛(100)에서 잔존하는 산성가스와 상기 과불화 화합물의 분해 반응에서 발생하는 산성 가스가 상술한 내부관(311)에서 최종 제거되는 것이다.
That is, the acid gas remaining in the pretreatment unit 100 and the acid gas generated in the decomposition reaction of the perfluorinated compound are finally removed from the inner tube 311.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the present invention. It is obvious that the modification or improvement is possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 범주에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 명확해질 것이다.It is intended that the present invention cover the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

100 : 전처리 유닛 110 : 전처리 챔버
111 : 내부관 112 : 외부관
200 : 촉매 처리 유닛 210 : 촉매 처리 챔버
220 : 가열부 300 : 후처리 유닛
310 : 후처리 챔버 311 : 내부관
312 : 외부관 S : 폐가스 처리부
IS : 이온 처리부 IF : 이온 교환 필터
IP : 분사부 IW : 이온 교환 용액
IU : 용액 공급부 WS : 수처리부
WF : 수처리필터 WP : 분사부
WW : 세척수 WU : 세척수 공급부100: preprocessing unit 110: preprocessing chamber
111: inner tube 112: outer tube
200: catalytic processing unit 210: catalytic processing chamber
220: heating unit 300: post-processing unit
310: post-processing chamber 311: inner tube
312: outer tube S: waste gas treatment section
IS: ion treatment section IF: ion exchange filter
IP: Discharge part IW: Ion exchange solution
IU: solution supply part WS: water treatment part
WF: Water treatment filter WP:
WW: Wash water WU: Wash water supply part

Claims (7)

과불화 화합물과 산성 가스의 혼합물인 폐가스가 유입되는 것으로서 상기 산성 가스를 1차 처리하는 전처리 유닛(100)과, 상기 전처리 유닛(100)을 통과한 폐가스의 과불화 화합물을 처리하는 촉매 처리 유닛(200)과 상기 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스 중에 포함된 산성 가스를 처리하는 후처리 유닛(300)을 포함하되,
상기 전처리 유닛(100)은 이중관 구조의 전처리 챔버(110)와, 상기 전처리 챔버(110)내부에 설치되는 폐가스 처리부(S)를 포함하되, 상기 전처리 챔버(110)는 상기 폐가스가 유입되는 외부관(112)과, 상기 외부관(112) 내부에 설치되어 내부관(111)과 연통되는 것으로서 상기 폐가스 처리부(S)가 내부에 설치되는 내부관(111)을 포함하고,
상기 전처리 챔버(110)에 설치되는 폐가스 처리부(S)는 상기 외부관(112) 내부에 설치되는 이온 처리부(IS)와, 상기 내부관(111) 내부에 설치되는 수처리부(WS)를 포함하되,
상기 이온 처리부(IS)는 상기 외부관(112) 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 이온 교환 필터(IF)와, 상기 이온 교환 필터(IF) 일 측에 설치되어 이온 교환 용액(IW)을 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(IP)와 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)를 포함하고,
상기 수처리부(WS)는 상기 내부관(111) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터(WF)와, 상기 수처리 필터(WF) 일 측에 설치되어 세척수(WW)를 상기 수처리 필터(WF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(WP)와, 상기 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 세척수 공급부(WU)를 포함하며,
상기 촉매 처리 유닛(200)은 내부에 촉매(CA)가 설치되는 촉매 처리 챔버(210)와 상기 촉매 처리 챔버(210)의 폐가스를 가열하는 가열부(220)를 포함하며,
상기 후처리 유닛(300)은 후처리 챔버(310)와, 상기 후처리 챔버(310) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 폐가스 처리부(S)를 포함하는 촉매식 폐가스 처리 장치.A pretreatment unit 100 for firstly treating the acidic gas into which a waste gas as a mixture of a perfluorinated compound and an acidic gas flows and a catalytic treatment unit 100 for treating a perfluorinated compound of waste gas passing through the pretreatment unit 100 And a post-treatment unit (300) for treating the acid gas contained in the waste gas passing through the catalyst processing unit (200)
The pretreatment unit 100 includes a pretreatment chamber 110 having a double pipe structure and a waste gas treatment unit S installed in the pretreatment chamber 110. The pretreatment chamber 110 is connected to an external pipe And an inner pipe 111 installed inside the outer pipe 112 and communicating with the inner pipe 111 and having the waste gas treatment unit S installed therein,
The waste gas treatment unit S installed in the pretreatment chamber 110 includes an ion treatment unit IS installed inside the outer pipe 112 and a water treatment unit WS installed inside the inner pipe 111 ,
A plurality of ion exchange filters (IF) disposed in the outer tube (112) in the circumferential direction and spaced apart from each other along the flow direction of the waste gas; A plurality of jetting units IP provided on one side of the ion exchange filter IF for jetting the ion exchange solution IW toward the ion exchange filter IF and a solution for supplying the ion exchange solution IW to the jetting unit IP Comprising a supply IU,
The water treatment unit WS includes a plurality of water treatment filters WF disposed in the inner tube 111 along the waste gas flow direction and spaced apart from each other by a predetermined distance, A plurality of jetting portions WP for jetting the wastewater WW to the water treatment filter WF side and a washing water supply portion WU for supplying washing water WW to the jetting portion WP,
The catalytic processing unit 200 includes a catalytic processing chamber 210 in which a catalyst CA is installed and a heating unit 220 for heating waste gas of the catalytic processing chamber 210,
The post-treatment unit 300 includes a post-treatment chamber 310 and a waste gas treatment unit S disposed along the waste gas flow direction in the post-treatment chamber 310. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 전처리 유닛(100)과 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스가 유입되는 후처리 유닛(300)은 이중관 구조의 후처리 챔버(310)를 포함하되, 상기 후처리 챔버(310)는 상기 촉매 처리 유닛(200)을 통과한 폐가스가 유입되는 외부관(312)과, 상기 외부관(312) 내부에 설치되어 상기 외부관(312)과 연통되는 내부관(311)을 포함하고,
상기 폐가스 처리부(S)는 상기 외부관(312) 내부에 설치되는 수처리부(WS)와, 상기 내부관(311) 내부에 설치되는 이온 처리부(IS)를 포함하되,
상기 이온 처리부(IS)는 상기 내부관(311) 내부에 폐가스 유동 방향을 따라 설치되는 것으로서 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 이온 교환 필터(IF)와, 상기 이온 교환 필터(IF) 일 측에 설치되어 이온 교환 용액(IW)를 상기 이온 교환 필터(IF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(IP)와, 상기 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 용액 공급부(IU)를 포함하고,
상기 수처리부(WS)는 상기 외부관(312) 내부에 원주 방향으로 다수 개 설치되는 한편 상기 폐가스의 유동 방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되는 복수 개의 수처리 필터(WF)와, 상기 수처리 필터(WF) 일 측에 설치되어 세척수(WW)을 상기 수처리 필터(WF)측으로 분사하는 복수 개의 분사부(WP)와 상기 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 세척수 공급부(WU)를 포함하는 촉매식 폐가스 처리 장치.The method according to claim 1,
The post-treatment unit 300 into which the waste gas having passed through the pretreatment unit 100 and the catalyst treatment unit 200 flows includes a post-treatment chamber 310 having a double pipe structure, An outer tube 312 into which waste gas having passed through the processing unit 200 flows and an inner tube 311 installed inside the outer tube 312 and communicating with the outer tube 312,
The waste gas treatment unit S includes a water treatment unit WS installed inside the outer pipe 312 and an ion treatment unit IS installed inside the inner pipe 311,
The ion processing unit IS includes a plurality of ion exchange filters IF disposed in the inner tube 311 along the waste gas flow direction and spaced apart from each other by a predetermined distance, And a solution supply unit IU for supplying the ion exchange solution IW to the injection part IP. The ion exchange solution IW is supplied to the ion exchange solution IF, and,
The water treatment unit WS includes a plurality of water treatment filters WF disposed in the outer tube 312 in the circumferential direction and spaced apart from each other along the flow direction of the waste gas, And a washing water supply unit WU for supplying washing water WW to the spraying unit WP and a washing water supply unit WU for supplying the washing water WW to the water spraying unit WF, Catalytic waste gas treatment system. 청구항 3에 있어서,
상기 용액 공급부(IU)는 상기 전처리 유닛(100)에 설치되는 이온 처리부(IS)와 후처리 유닛(300)에 설치되는 이온 처리부(IS)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하기 위한 것으로서,
상기 전처리 유닛(100)의 외부관(112)에 설치되는 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 제1라인(IU-1)과, 상기 외부관(112) 저면에 설치되어 저장된 이온 교환 용액(IW)을 회수하는 제2라인(IU-2)과,
상기 후처리 유닛(300)의 내부관(311)에 설치되는 분사부(IP)에 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 제3라인(IU-3)과, 상기 내부관(311) 저면에 설치되어 저장된 이용 교환 용액(IW)을 회수하는 제4라인(IU-4)과,
상기 제1라인(IU-1)과 제2라인(IU-2) 그리고 제3라인(IU-3)과 제4라인(IU-4)에 각각 연결되어 상기 제2라인(IU-2)과 제4라인(IU-4)으로부터 이온 교환 용액(IW)을 회수한 후 상기 제1라인(IU-1)과 제3라인(IU-3)으로 상기 회수된 이온 교환 용액(IW)을 공급하는 펌프(IU-5)를 포함하는 촉매식 폐가스 처리 장치.The method of claim 3,
The solution supply unit IU supplies the ion exchange solution IW to the ion processing unit IS installed in the preprocessing unit 100 and the ion processing unit IS installed in the postprocessing unit 300,
A first line IU-1 for supplying an ion exchange solution IW to an injection port IP provided in an outer tube 112 of the preprocessing unit 100 and a second line IU- A second line IU-2 for recovering the stored ion exchange solution IW,
A third line IU-3 for supplying the ion exchange solution IW to the jetting section IP provided in the inner tube 311 of the post-processing unit 300 and a third line IU- A fourth line IU-4 for recovering the used exchange solution IW stored therein,
The second line IU-2 is connected to the first line IU-1 and the second line IU-2, the third line IU-3 and the fourth line IU-4, After recovering the ion exchange solution IW from the fourth line IU-4, the recovered ion exchange solution IW is supplied to the first line IU-1 and the third line IU-3 A catalytic waste gas treatment apparatus comprising a pump (IU-5). 청구항 3에 있어서,
상기 세척수 공급부(WU)는 상기 전처리 유닛(100)에 설치되는 수처리부(WS)와 후처리 유닛(300)에 설치되는 수처리부(WS)에 세척수(WW)을 공급하기 위한 것으로서,
상기 전처리 유닛(100)의 내부관(111)에 설치되는 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 제1라인(WU-1)과, 상기 내부관(111) 저면에 설치되어 저장된 세척수(WW)을 회수하는 제2라인(WU-2)과,
상기 후처리 유닛(300)의 외부관(312)에 설치되는 분사부(WP)에 세척수(WW)을 공급하는 제3라인(WU-3)과, 상기 외부관(312) 저면에 설치되어 저장된 세척수(WW)을 회수하는 제4라인(WU-4)과,
상기 제1라인(WU-1)과 제2라인(WU-2) 그리고 제3라인(WU-3)과 제4라인(WU-4)에 각각 연결되어 상기 제2라인(WU-2)과 제4라인(WU-4)으로부터 세척수(WW)을 회수한 후 상기 제1라인(WU-1)과 제3라인(WU-3)으로 상기 회수된 세척수(WW)을 공급하는 펌프(WU-5)를 포함하는 촉매식 폐가스 처리 장치.The method of claim 3,
The wash water supply unit WU supplies the wash water WW to the water treatment unit WS installed in the pretreatment unit 100 and the water treatment unit WS installed in the post treatment unit 300,
A first line WU-1 for supplying wash water WW to an injection part WP installed in an inner pipe 111 of the pre-processing unit 100, A second line (WU-2) for recovering the first line (WW)
A third line WU-3 for supplying wash water WW to the jetting unit WP installed in the outer pipe 312 of the post-treatment unit 300, A fourth line WU-4 for recovering the washing water WW,
The second line WU-2 is connected to the first line WU-1 and the second line WU-2, the third line WU-3 and the fourth line WU-4, A pump WU-1 for supplying the recovered wash water WW to the first line WU-1 and the third line WU-3 after recovering the wash water WW from the fourth line WU- 5). ≪ / RTI > 청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,
상기 전처리 챔버(110) 또는 후처리 챔버(310)의 내부관(111,311) 일 측에 연통공(H)이 형성되어 외부관(112,312)과 연통되되,
상기 연통공(H)의 위치는 상기 내부관(111,311) 또는 외부관(112,312)에 저장된 이온 교환 용액(IW) 또는 세척수(WW) 보다 높은 위치에 형성된 촉매식 폐가스 처리 장치.The method according to claim 1 or 3,
A communication hole H is formed at one side of the inner tube 111 or 311 of the pre-processing chamber 110 or the post-processing chamber 310 to communicate with the outer tube 112 or 312,
The position of the communication hole H is formed at a position higher than the ion exchange solution IW or the washing water WW stored in the inner pipe 111 or 311 or the outer pipe 112 or 312. 청구항 1, 청구항 3 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 처리 장치를 이용하여 상기 폐가스를 처리하는 방법으로서,
상기 폐가스가 전처리 챔버(110)의 외부관(112)을 통해 유입되면서 상기 외부관(112)에 설치된 이온처리부(IS)에 의해 상기 폐가스의 산성 가스가 1차적으로 중화되어 제거된 후, 상기 폐가스는 내부관(111)으로 유입되면서 상기 내부관(111)에 설치된 수처리부(WS)에 의해 이물질이 필터링되어 배출되고,
상기 배출된 폐가스는 상기 가열부(220)를 통해 가열된 상태로 촉매 처리 유닛(200)으로 유입되어 촉매(CA)에 의해 과불화 화합물이 분해된 후 배출되고,
상기 배출된 폐가스는 후처리 챔버(310)의 외부관(312)을 통해 유입되면서 상기 외부관(312)에 설치된 수처리부(WS)에 의해 산성 가스 일부를 제거하는 한편 이물질을 필터링한 후
상기 내부관(311)으로 유입되어 상기 분해된 과불화 화합물이 입자화되어 제거되는 한편 잔존하는 산성 가스가 중화되어 제거되는 촉매식 폐가스 처리 방법.A method for treating the waste gas using the treatment apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The waste gas is introduced through the outer pipe 112 of the pretreatment chamber 110 and the acid gas of the waste gas is first neutralized and removed by the ion treatment unit IS provided on the outer pipe 112, The foreign substances are filtered and discharged by the water treatment unit WS installed in the internal pipe 111 while being introduced into the internal pipe 111,
The exhausted waste gas flows into the catalyst treatment unit 200 while being heated through the heating unit 220, is decomposed and discharged by the catalyst CA,
The discharged waste gas flows through the outer pipe 312 of the post-treatment chamber 310 while part of the acid gas is removed by the water treatment unit WS installed in the outer pipe 312, and the foreign substance is filtered
Wherein the decomposed perfluorinated compound is introduced into the inner pipe (311) to be granulated and removed, while the remaining acidic gas is neutralized and removed.
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