JP2018092088A - 電気泳動装置、電子機器、および電気泳動装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電気泳動装置の製造工程を簡素化する。【解決手段】帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を区画する隔壁部と、前記第１基板に形成された電極と、前記電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部とを具備し、前記導通部は、前記隔壁部と同一材料で形成されて前記第１基板側に突出する基体部と、前記基体部を覆う導電層とを含む電気泳動装置。【選択図】図２

Description

本発明は、帯電粒子を分散媒に分散した分散液（以下「電気泳動分散液」という）を利用して画像を表示する技術に関する。

例えば特許文献１には、相互に対向する透明基板と素子基板との間隙に電気泳動分散液を保持した表示装置が開示されている。透明基板の内面に形成された共通電極は、透明基板の角部に形成された上下導通部を介して素子基板上の配線に電気的に接続される。

特開２００９−２２９９１１号公報

特許文献１の技術では、透明基板と素子基板との間隙に形成される他の要素とは独立した工程で上下導通部が形成されるから、電気泳動装置の製造工程が煩雑であるという問題がある。以上の事情を考慮して、本発明は、電気泳動装置の製造工程を簡素化することを目的とする。

以上の課題を解決するために、本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を区画する隔壁部と、前記第１基板に形成された電極と、前記電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部とを具備し、前記導通部は、前記隔壁部と同一材料で形成されて前記第１基板側に突出する基体部と、前記基体部を覆う導電層とを含む。以上の構成では、電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部の基体部が、第１基板と第２基板との間の隔壁部と同一材料で形成されるから、基体部と隔壁部とを別材料により別個の工程で形成する場合と比較して製造工程を簡素化することが可能である。また、導電性のペーストやボールにより電極を第２基板上の配線に導通させる構成と比較して、電極と配線との間の抵抗を低減できるという利点もある。

本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、複数の前記導通部を具備する。以上の態様では、複数の導通部が設置されるから、導通部を１個だけ設置した構成と比較して、電極と第２基板上の配線との間の抵抗を低減できるという効果は格別に顕著である。

本発明の好適な態様において、前記複数の導通部は、前記電気泳動分散液が配置された画素領域に沿って設置される。以上の態様では、電極の広い範囲が第２基板上の配線に導通するから、電極の面内における電圧の相違を低減できるという利点がある。

本発明の好適な態様において、前記帯電粒子を駆動する駆動回路を具備し、前記複数の導通部は、前記駆動回路に沿って設置される。以上の態様では、電極の広い範囲が第２基板上の配線に導通するから、電極の面内における電圧の相違を低減できるという利点がある。

本発明の好適な態様において、前記導電層は、前記基体部と、前記基体部が設置される下地面とを覆う。以上の態様では、基体部だけでなくその下地面も覆うように導電層が形成されるから、導電層が基体部のみを覆う構成と比較して、電極と第２基板上の配線との間の抵抗を低減できるという効果は格別に顕著である。

本発明の好適な態様に係る電子機器は、前述の各態様に係る電気泳動装置を具備する。例えば、時計や電子ペーパー等が電子機器の好例であるが、本発明の適用範囲は以上の例示に限定されない。

本発明の好適な態様に係る電気泳動装置の製造方法は、帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間隙を区画する隔壁部と、前記第１基板に形成された電極と、前記電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部とを具備する電気泳動装置の製造方法であって、前記導通部は、前記第２基板の面上に形成されて前記第１基板側に突出する基体部と、前記基体部を覆う導電層とを含み、前記隔壁部と前記基体部とを同一材料で形成し、前記基体部を覆うように前記導電層を形成する。以上の方法では、電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部の基体部が、第１基板と第２基板との間の隔壁部と同一材料で形成されるから、基体部と隔壁部とを別材料により別個の工程で形成する場合と比較して製造工程を簡素化することが可能である。

本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置の平面図である。 電気泳動装置の断面図である。 画素電極および隔壁部の構成を例示する平面図である。 導通電極および導通部の構成を例示する平面図である。 電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ1の説明図である。 電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ2の説明図である。 電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ3の説明図である。 電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ4の説明図である。 電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ5の説明図である。 第２実施形態における電気泳動装置の断面図である。 変形例（態様１）における電気泳動装置の平面図である。 変形例（態様２）における電気泳動装置の平面図である。 変形例（態様３）における電気泳動装置の平面図である。 変形例（態様４）における電気泳動装置の平面図である。 変形例（態様５）における電気泳動装置の平面図である。 電子機器の一例である腕時計の正面図である。 電子機器の一例である電子ペーパーの斜視図である。

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置１００Aの平面図である。第１実施形態の電気泳動装置１００Aは、相互に交差するＸ方向とＹ方向とにわたり画素領域Ａ内に行列状に配列された複数の画素Ｐを利用して任意の画像を表示する表示機器である。図１に例示される通り、電気泳動装置１００Aは、相互に間隔をあけて対向する第１基板１０と第２基板２０とを具備する。第１基板１０は、表示画像を視認する利用者側に位置し、第２基板２０は利用者とは反対側（背面側）に位置する。第１基板１０および第２基板２０の各々は、光透過性の板状部材である。ただし、背面側に位置する第２基板２０の光透過性は必須ではない。

図１に例示される通り、第２基板２０のうち第１基板１０の縁辺から張出した領域（以下「実装領域」という）には複数の接続端子２２が形成される。複数の接続端子２２の各々は、実装領域に接合された配線基板（例えばフレキシブルケーブル）２４を介して外部装置に電気的に接続される。

図２は、電気泳動装置１００Aの断面図である。図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間隙には電気泳動分散液３０が保持される。電気泳動分散液３０は、複数の帯電粒子３２（３２B，３２W）の電気泳動を利用して階調を表示する表示媒体である。具体的には、電気泳動分散液３０は、相互に逆極性に帯電した白色の帯電粒子３２Wおよび黒色の帯電粒子３２Bと、複数の帯電粒子３２（３２W，３２B）が泳動可能に分散された分散媒３４とを含んで構成される。

図２に例示される通り、第１基板１０のうち第２基板２０との対向面には共通電極１２が形成される。共通電極１２は、画素領域Ａ内の複数の画素Ｐにわたり連続する電極であり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の光透過性の導電材料で形成される。第１実施形態の共通電極１２は、第１基板１０の全面（画素領域Ａの内側および外側の双方）にわたり連続する。

図２に例示される通り、第２基板２０のうち第１基板１０との対向面には回路層２６が形成される。回路層２６は、保護層（パッシベーション層）２６８を最表層とする複数層の積層で構成され、複数のトランジスターと複数の配線とを内包する。

例えば回路層２６内の複数の配線は、Ｘ方向に延在する複数の走査線とＹ方向に延在する複数の信号線とを含む。各走査線と各信号線との交差に対応する位置に画素Ｐが配置される。また、複数のトランジスターは、例えば走査線駆動回路（Ｙドライバー）と信号線駆動回路（Ｘドライバー）と複数の画素回路とを構成する。走査線駆動回路は、複数の走査線を順次に選択するための走査信号を各走査線に供給する。信号線駆動回路は、各画素Ｐに指定された階調に応じた階調信号を複数の信号線の各々に供給する。図１に例示される通り、走査線駆動回路４２および信号線駆動回路４４は画素領域Ａの外側に設置される。具体的には、走査線駆動回路４２は、第１基板１０のうちＸ方向の負側に位置するＹ方向の縁辺に沿って配置され、信号線駆動回路４４は、第１基板１０のうちＹ方向の正側に位置するＸ方向の縁辺に沿って設置される。画素回路（図示略）は、各画素Ｐの階調を制御するための回路であり、画素領域Ａの内側に画素Ｐ毎に設置される。

図２に例示される通り、回路層２６内の複数のトランジスターＴrの各々は、半導体層２６１とゲート電極２６３とソース電極２６５とドレイン電極２６６とを含んで構成される。半導体層２６１は、例えばポリシリコン等の半導体材料で第２基板２０の表面に形成される。ゲート電極２６３は、例えばモリブデン（Ｍｏ）等の導電材料で形成され、ゲート絶縁層２６２を挟んで半導体層２６１のチャネル領域に対向する。図２の層間絶縁層２６４は、半導体層２６１とゲート電極２６３とを覆う。ソース電極２６５およびドレイン電極２６６は、層間絶縁層２６４の表面に形成され、層間絶縁層２６４とゲート絶縁層２６２とを貫通する導通孔（コンタクトホール）を介して半導体層２６１に導通する。層間絶縁層２６４の表面には複数の配線も形成される。例えば、図２に例示される通り、第１基板１０上の共通電極１２を第２基板２０上の接続端子２２に接続するための配線２６７が層間絶縁層２６４の表面に形成される。回路層２６の最表層に位置する保護層２６８は、複数のトランジスターＴrと複数の配線とを覆う。

回路層２６の表面には絶縁層５２が形成される。絶縁層５２は、回路層２６の表面の段差を平坦化するための被膜（いわゆる平坦化層）である。絶縁層５２は、例えばアクリル系またはエポキシ系等の光透過性の樹脂材料により３μｍ程度の膜厚に形成される。

図２に例示される通り、絶縁層５２の表面には複数の画素電極５４と導通電極５６とが形成される。各画素電極５４および導通電極５６は、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の光透過性の導電材料で形成される。複数の画素電極５４の各々は、画素Ｐ毎に個別に形成された略矩形状の電極であり、絶縁層５２と保護層２６８とを貫通する導通孔Ｈ1を介して画素回路のトランジスターＴr（例えばドレイン電極２６６）に電気的に接続される。図３に例示される通り、画素領域Ａの内側には、相互に間隔をあけてＸ方向およびＹ方向にわたり複数の画素電極５４が行列状に配列する。

画素電極５４と共通電極１２との間の電圧に応じて複数の帯電粒子３２が泳動することで画素電極５４毎に階調（白色／黒色）が制御される。例えば、白色の帯電粒子３２Wが共通電極１２に接近することで白色が表示され、黒色の帯電粒子３２Bが共通電極１２に接近することで黒色が表示される。以上の説明から理解される通り、画素電極５４と共通電極１２とが電気泳動分散液３０を挟んで相互に対向する部分が画素Ｐとして機能する。

図２の導通電極５６は、第１基板１０上の共通電極１２を前述の配線２６７（さらには第２基板２０上の接続端子２２）に電気的に接続するための電極であり、画素領域Ａの外側に形成される。したがって、導通電極５６は、共通電極１２のうち画素領域Ａの外側に位置する部分に対向する。図１に例示される通り、第１実施形態の導通電極５６は、第２基板２０のうちＸ方向の正側（走査線駆動回路４２とは反対側）に位置するＹ方向の縁辺に沿って長尺状に形成される。図２に例示される通り、導通電極５６は、絶縁層５２と保護層２６８とを貫通する導通孔Ｈ2を介して配線２６７に接続される。図２では１個の導通孔Ｈ2が図示されているが、複数の導通孔Ｈ2を介して導通電極５６を配線２６７に接続することも可能である。

図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間には隔壁部６２が形成される。隔壁部６２は、第２基板２０の面上（さらに詳細には絶縁層５２の表面）に形成される。具体的には、隔壁部６２は、画素領域Ａの内側に位置し、第１基板１０と第２基板２０との間隙を複数の空間（以下「セル」という）Ｃに区画する構造体である。隔壁部６２の頂上面は第１基板１０上の共通電極１２に接触する。第１実施形態では、図３に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間隙が隔壁部６２により画素Ｐ毎に区画され、Ｘ方向とＹ方向とにわたり複数のセルＣが行列状に配列する。すなわち、隔壁部６２の平面形状は、Ｙ方向に隣合う各画素電極５４の間の領域内でＸ方向に延在する直線状の部分と、Ｘ方向に隣合う各画素電極５４の間の領域内でＹ方向に延在する直線状の部分とを組合わせた格子状である。隔壁部６２の材料は任意であるが、例えばアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料が好適である。図２に例示される通り、隔壁部６２で区画された複数のセルＣの各々に電気泳動分散液３０が充填される。隔壁部６２は画素領域Ａの内側に形成されるから、電気泳動分散液３０は画素領域Ａの外側には配置されない。すなわち、画素領域Ａは、電気泳動分散液３０が配置された領域（表示領域）とも換言され得る。なお、隔壁部６２を遮光材料で形成すれば、各画素Ｐの間隙を遮光する遮光層として隔壁部６２を利用することが可能である。

図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間には複数の導通部６４が形成される。複数の導通部６４は、第２基板２０の面上（具体的には導通電極５６の表面）に形成される。複数の導通部６４は、第１基板１０上の共通電極１２を第２基板２０上の配線２６７に電気的に接続（いわゆる上下動通）するための構造体であり、画素領域Ａの外側に配置される。図２および図４に例示される通り、複数の導通部６４は、導通電極５６の面上に相互に間隔をあけて形成される。具体的には、複数の導通部６４は、Ｘ方向およびＹ方向にわたり行列状に配列する。図１から理解される通り、第１実施形態における複数の導通部６４は、画素領域Ａに沿って形成される。具体的には、画素領域ＡのうちＸ方向の正側に位置するＹ方向の周縁に沿って複数の導通部６４が配列する。なお、複数の導通部６４の配列の態様は任意である。例えば、複数の導通部６４をＹ方向に沿って１列に配列することも可能である。

図２に例示される通り、複数の導通部６４の各々は、基体部６４２と導電層６４４とを含んで構成される。基体部６４２は、導通電極５６の表面に形成されて当該表面から第１基板１０側に突出する柱状の部分である。図２および図４に例示される通り、第１実施形態の基体部６４２は、断面形状が多角形で第１基板１０に近い位置ほど幅寸法が減少する角錐台（例えば四角錐台）状に形成される。ただし、基体部６４２の立体形状は以上の例示に限定されない。例えば、断面形状が円形である円錐台状に基体部６４２を形成した構成や、基端部から先端部まで幅寸法が一定である円柱状または角柱状に基体部６４２を形成した構成も採用され得る。

基体部６４２と隔壁部６２とは同一材料で同一層から形成される。すなわち、第２基板２０の全域を覆う絶縁層の選択的な除去（パターニング）により、基体部６４２と隔壁部６２とが共通の工程で一括的に形成される。したがって、基体部６４２と隔壁部６２とは共通の材料で構成される。例えば隔壁部６２について前述した通り、基体部６４２および隔壁部６２は、例えばエポキシ系またはアクリル系等の樹脂材料で形成される。また、基体部６４２と隔壁部６２とは略同等の高さ（例えば２０μｍ以上）に形成される。

導電層６４４は、導電材料で形成されて基体部６４２を覆う被膜である。導電層６４４の形成に使用される導電材料は任意であるが、例えばアルミニウムや銀等の低抵抗な金属材料が好適である。図２に例示される通り、導電層６４４は、基体部６４２の頂上面（先端面）および側面を覆う。導電層６４４のうち基体部６４２の頂上面を覆う部分の表面は、共通電極１２のうち画素領域Ａの外側に位置する部分に接触する。他方、導電層６４４のうち基体部６４２の基端側に位置する端部は導通電極５６の表面に接触する。したがって、共通電極１２は、複数の導通部６４の各々の導電層６４４を介して導通電極５６に電気的に接続される。すなわち、共通電極１２は、各導通部６４の導電層６４４と導通電極５６と配線２６７とを介して接続端子２２に電気的に接続される。共通電極１２と接続端子２２とが電気的に接続されることで、外部装置から配線基板２４を介して接続端子２２に供給される所定の電圧が共通電極１２に印加される。

＜電気泳動装置１００Aの製造方法＞
以上に例示した電気泳動装置１００Aの製造方法を説明する。図５から図９は、電気泳動装置１００Aの製造方法の工程図である。図５に例示される通り、工程Ｐ1では、回路層２６と絶縁層５２とが積層された第２基板２０が用意される。絶縁層５２のうち画素領域Ａの内側には画素Ｐ毎に導通孔Ｈ1が形成され、絶縁層５２のうち画素領域Ａの外側には導通孔Ｈ2が形成される。なお、回路層２６と絶縁層５２との形成には公知の製造技術が任意に採用され得る。

工程Ｐ1の実行後の工程Ｐ2では、図６に例示される通り、画素領域Ａの内側に複数の画素電極５４が形成されるとともに画素領域Ａの外側に導通電極５６が形成される。具体的には、例えば絶縁層５２の全面を覆う導電膜が形成され、当該導電膜を選択的に除去することで、複数の画素電極５４と導通電極５６とが一括的に形成される。導電膜の形成には、例えばスパッタリング等の成膜技術が好適に利用され、導電膜の選択的な除去には、例えばフォトリソグラフィおよびエッチング等の加工技術が好適に利用される。

工程Ｐ2の実行後の工程Ｐ3では、図７に例示される通り、複数の画素電極５４と導通電極５６とが形成された絶縁層５２の全面を覆う絶縁層７０が形成される。例えばスピンコート等の成膜技術を利用してアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料により絶縁層７０が形成される。硬化前における絶縁層７０の粘度は例えば２０００ｍＰａ／ｓであり、例えば絶縁層５２の硬化前の粘度（例えば１５ｍＰｓ／ｓ）と比較して充分に高い。また、硬化後における絶縁層７０の硬度は例えば２ＧＰａ程度であり、硬化後の絶縁層５２の硬度（例えば０.５ＧＰａ）と比較して充分に高い。

工程Ｐ3の実行後の工程Ｐ4では、図８に例示される通り、隔壁部６２と複数の基体部６４２とが共通の絶縁層７０から形成される。すなわち、絶縁層７０の選択的な除去により隔壁部６２と複数の基体部６４２とが同一材料により一括的に形成される。絶縁層７０の選択的な除去には、フォトリソグラフィおよびエッチング等の公知の加工技術が任意に採用される。

工程Ｐ4の実行後の工程Ｐ5では、図９に例示される通り、複数の基体部６４２の各々を覆うように導電層６４４が形成される。具体的には、例えば第２基板２０の全面を覆う導電膜が例えばスパッタリング等の成膜技術により形成され、フォトリソグラフィおよびエッチング等の加工技術により当該導電膜を選択的に除去することで、各基体部６４２を覆う導電層６４４が形成される。工程Ｐ4および工程Ｐ5により複数の導通部６４が形成される。

工程Ｐ5の実行後に、隔壁部６２で区画された各セルＣに電気泳動分散液３０が充填される。以上の工程を経た第２基板２０と、別途の工程で共通電極１２が形成された第１基板１０とが、例えば樹脂材料のシール材を介して相互に接合される。第１基板１０と第２基板２０とが接合されることで、図２を参照して前述した通り、第２基板２０上の各導通部６４の導電層６４４が第１基板１０上の共通電極１２に接触する。すなわち、共通電極１２が複数の導通部６４と導通電極５６と配線２６７とを介して接続端子２２に電気的に接続される。以上が電気泳動装置１００Aの製造方法の好適例である。

以上に説明した通り、第１実施形態では、共通電極１２に電気的に接続される導通部６４の基体部６４２が、第１基板１０と第２基板２０との間の隔壁部６２と同一材料で形成される。したがって、隔壁部６２の形成とは別個の材料および工程で基体部６４２を形成する場合と比較して、電気泳動装置１００Aの製造工程を簡素化することが可能である。

なお、共通電極１２と導通電極５６とを導通させるための構成としては、例えば、第１基板１０と第２基板２０との間に配置された導電性のペーストやボールを利用する構成（以下「対比例」という）も想定され得る。しかし、対比例では、導電性のペーストやボールと共通電極１２とが接触する面積を確保し難いため、共通電極１２と配線２６７との間の抵抗を充分に低減することは実際には困難である。例えば液晶装置では、液晶素子に印加される電圧は数ボルト程度であるから導電性のペーストやボールによる導通でも充分であるが、電気泳動装置１００Aでは画素電極５４と共通電極１２との間に１０Ｖ程度の高い電圧が印加される。したがって、電気泳動装置１００Aにおいては、共通電極１２と配線２６７との間の抵抗を低減することが格別に重要である。

第２基板２０から第１基板１０側に突出する柱状の導通部６４を利用して共通電極１２と導通電極５６とを導通させる第１実施形態では、導通部６４（導電層６４４）と導通電極５６および共通電極１２とが接触する面積を確実かつ充分に確保できる。したがって、共通電極１２と配線２６７との間の抵抗を確実かつ充分に低減することが可能である。以上の構成によれば、画素電極５４と共通電極１２との間に１０Ｖ程度の高電圧が印加される構成のもとでも充分に実用可能な程度に、共通電極１２と配線２６７との間の抵抗を低減することが可能である。また、共通電極１２と配線２６７との導通に必要な面積が縮小されるから、画素領域Ａの外側の面積を縮小（いわゆる狭額縁化）できるという利点もある。

第１実施形態では、複数の導通部６４が形成されるから、導通部６４を１個だけ設置した構成と比較して、第１基板１０上の共通電極１２と第２基板２０上の配線２６７との間の抵抗を低減できるという効果は格別に顕著である。また、第１実施形態では、画素領域Ａに沿うように複数の導通部６４が形成されるから、複数の導通部６４が局所的に形成された構成と比較して、共通電極１２の広い範囲を配線２６７に導通させることが可能である。したがって、共通電極１２の面内における電圧の相違（電圧降下の程度の差異）を低減できるという利点がある。

＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態を説明する。なお、以下に例示する各形態において作用または機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。

図１０は、第２実施形態における電気泳動装置１００Bの断面図である。第１実施形態では、導電層６４４が基体部６４２の頂上面と側面とを覆う構成を例示した。第２実施形態の導通部６４においては、図１０に例示される通り、基体部６４２の頂上面および側面に加えて、基体部６４２が形成される下地面（具体的には導通電極５６の表面）も覆うように導電層６４４が形成される。具体的には、平面視で導通電極５６と同等の外形となるように導電層６４４が形成される。すなわち、第２実施形態の導電層６４４は、導通電極５６の表面に形成された複数の基体部６４２にわたり連続する。

第２実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。また、第２実施形態では、基体部６４２とその下地面との双方を覆うように導電層６４４が形成されるから、共通電極１２と導通電極５６との抵抗を低減できるという効果は格別に顕著である。

＜変形例＞
以上に例示した各態様は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下に例示する態様は、前述の各形態に適用され得る。また、以下の例示から任意に選択された２個以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。

（１）画素領域Ａと複数の導通部６４と駆動回路（走査線駆動回路４２または信号線駆動回路４４）との位置関係は前述の各形態での例示に限定されない。例えば、以下に例示する種々の態様を採用することも可能である。なお、以下の説明で参照する図１１から図１５では、導通電極５６と複数の導通部６４とが形成される領域（以下「導通領域」という）に符号６８が付与されている。すなわち、導通電極５６は導通領域６８と同等の外形に形成され、複数の導通部６４は導通領域６８の内側に配列する。

［態様１（図１１）］
図１１に例示された態様１の電気泳動装置１００Cでは、導通電極５６と複数の導通部６４とを含む導通領域６８が、信号線駆動回路４４に平面視で重なる。具体的には、画素領域ＡのうちＹ方向の正側に位置するＸ方向の縁辺（あるいは信号線駆動回路４４）に沿うように導通領域６８が形成される。すなわち、導通電極５６はＸ方向に沿う帯状に形成され、複数の導通部６４はＸ方向に沿って配列する。なお、走査線駆動回路４２に平面視で重なるように導通電極５６と複数の導通部６４とを形成することも可能である。

駆動回路（走査線駆動回路４２または信号線駆動回路４４）に沿って複数の導通部６４を形成した構成では、複数の導通部６４を局所的に形成した構成と比較して、共通電極１２の広い範囲を配線２６７に導通させることが可能である。したがって、共通電極１２の面内における電圧の相違（電圧降下の程度の差異）を低減できるという利点がある。また、態様１では、平面視で駆動回路に重なるように導通電極５６と複数の導通部６４とが形成されるから、導通電極５６と複数の導通部６４とが駆動回路に重ならない構成と比較して、電気泳動装置１００Cのサイズを縮小できるという利点も或る。

［態様２（図１２）］
図１２に例示された態様２の電気泳動装置１００Dでは、導通電極５６と複数の導通部６４とを含む導通領域６８が、画素領域Ａを全周にわたり包囲する。以上の構成によれば、画素領域Ａの全周にわたり共通電極１２が第２基板２０上の配線２６７に導通するから、共通電極１２の面内における電圧の相違を低減できるという効果は格別に顕著である。

［態様３（図１３）］
図１３に例示された態様３の電気泳動装置１００Eは、例えば腕時計等のウェアラブル機器に使用される表示機器であり、第１基板１０および第２基板２０の各々の概略的な平面形状が円形状である。したがって、画素領域Ａは円形状であり、走査線駆動回路４２および信号線駆動回路４４は、画素領域Ａの周囲の円弧状の領域に形成される。図１３の態様３において導通電極５６と複数の導通部６４とを含む導通領域６８は、画素領域Ａの外側の領域のうち走査線駆動回路４２とは反対側に位置する円弧状の領域である。すなわち、導通電極５６は円弧状に形成され、複数の導通部６４は円弧状に配列する。

［態様４（図１４）］
図１４に例示された態様４の電気泳動装置１００Fは、態様３と同様に、第１基板１０および第２基板２０の各々が円形状である。態様４の導通領域６８は、信号線駆動回路４４に平面視で重なる円弧状の領域である。なお、平面視で走査線駆動回路４２に重なるように導通領域６８を形成することも可能である。態様４によれば、前述の態様１と同様の効果が実現される。

［態様５（図１５）］
図１５に例示された態様５の電気泳動装置１００Gは、態様３と同様に、第１基板１０および第２基板２０の各々が円形状である。態様５の導通領域６８は、画素領域Ａを全周にわたり包囲する円環状の領域である。すなわち、導通電極５６は円環状に形成され、複数の導通部６４は画素領域Ａの周囲に円形状に配列する。態様５によれば、前述の態様２と同様の効果が実現される。

（２）前述の各形態では、第１基板１０と第２基板２０との間隙を画素Ｐ毎に区画する形状の隔壁部６２を例示したが、隔壁部６２の形状は以上の例示に限定されない。例えば、第１基板１０と第２基板２０との間隙を、相互に隣合う複数の画素Ｐを単位として複数の空間に区画する形状の隔壁部６２を形成することも可能である。また、隔壁部６２が第２基板２０の全面にわたり連続する必要はなく、相互に離間した複数の部分で隔壁部６２を構成することも可能である。

（３）前述の各形態では、共通電極１２が第１基板１０の全面にわたり連続する構成を例示したが、共通電極１２の平面形状は以上の例示に限定されない。例えば、相互に離間した複数の共通電極１２を第１基板１０の表面に形成することも可能である。以上の構成では、複数の共通電極１２の各々について、前述の各形態と同様に、１個以上の導通部６４と配線２６７とが第２基板２０の面上に形成される。

（４）前述の各形態では、隔壁部６２および基体部６４２を単層で形成したが、複数層の積層で隔壁部６２および基体部６４２を形成することも可能である。隔壁部６２が複数層で形成された構成では、隔壁部６２のうち少なくとも１層と同一材料（さらには同一層）により基体部６４２を形成した構成が好適である。すなわち、「基体部６４２を隔壁部６２と同一材料で形成する」という表現は、隔壁部６２が単層である場合には当該層と同一材料で基体部６４２が形成されることを意味し、隔壁部６２が複数層である場合には、複数層のうち少なくとも１層と同一材料で基体部６４２が形成されることを意味する。また、導電層６４４の層数も任意であり、複数層の積層で導電層６４４を形成することも可能である。

＜電子機器＞
以上に例示した電気泳動装置１００（１００A，１００B，１００C，１００D，１００E，１００F，１００G）は、種々の電子機器に利用され得る。電気泳動装置１００を利用した電子機器の具体的な形態を以下に例示する。

図１６は、電気泳動装置１００を表示機器として利用した腕時計９２の正面図である。図１６に例示される通り、腕時計９２は、電気泳動装置１００を収容する筐体９２１と、筐体９２１に連結されたバンド９２２とを具備するウェアラブル機器である。利用者はバンド９２２を手首に巻回することで腕時計９２を装着可能である。電気泳動装置１００の画素領域Ａは筐体９２１の開口９２３から露出し、時刻等の各種の情報の表示に利用される。筐体９２１に設置された操作子９２４が操作されると、例えば画素領域Ａに表示される画像が変更される。

図１７は、電気泳動装置１００を利用した電子ペーパー９４の斜視図である。図１７に例示される通り、電子ペーパー９４は、弾性変形が可能なシートを第１基板１０および第２基板２０として利用した電気泳動装置１００を具備し、画素領域Ａ内に各種の画像を表示する。

本発明が適用される電子機器は以上の例示に限定されない。例えば、携帯電話機や電子書籍等の情報端末，携帯型の音響再生装置，タッチパネル搭載型の表示装置など、各種の電子機器に本発明の電気泳動装置を利用することが可能である。

１００（１００A，１００B，１００C，１００D，１００E，１００F，１００G）…電気泳動装置、１０…第１基板、１２…共通電極、２０…第２基板、２２…接続端子、２４…配線基板、２６…回路層、２６７…配線、２６８…保護層、３０…電気泳動分散液、３２（３２B，３２W）…帯電粒子、３４…分散媒、４２…走査線駆動回路、４４…信号線駆動回路、５２…絶縁層、５４…画素電極、５６…導通電極、６２…隔壁部、６４…導通部、６４２…基体部、６４４…導電層。

Claims (7)

1. 帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間隙を区画する隔壁部と、
   前記第１基板に形成された電極と、
   前記電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部とを具備し、
   前記導通部は、
   前記隔壁部と同一材料で形成されて前記第１基板側に突出する基体部と、
   前記基体部を覆う導電層とを含む
   電気泳動装置。
2. 複数の前記導通部を具備する
   請求項１の電気泳動装置。
3. 前記複数の導通部は、前記電気泳動分散液が配置された画素領域に沿って設置される
   請求項２の電気泳動装置。
4. 前記帯電粒子を駆動する駆動回路を具備し、
   前記複数の導通部は、前記駆動回路に沿って設置される
   請求項２または請求項３の電気泳動装置。
5. 前記導電層は、前記基体部と、前記基体部が設置される下地面とを覆う
   請求項１から請求項４の何れかの電気泳動装置。
6. 請求項１から請求項５の何れかの電気泳動装置を具備する電子機器。
7. 帯電粒子と分散媒とを含む電気泳動分散液を保持する第１基板および第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間隙を区画する隔壁部と、
   前記第１基板に形成された電極と、
   前記電極と第２基板上の配線とを導通させる導通部と
   を具備する電気泳動装置の製造方法であって、
   前記導通部は、
   前記第２基板の面上に形成されて前記第１基板側に突出する基体部と、
   前記基体部を覆う導電層とを含み、
   前記隔壁部と前記基体部とを同一材料で形成し、
   前記基体部を覆うように前記導電層を形成する
   電気泳動装置の製造方法。
   

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