JP2018080889A - 蒸気加熱装置 - Google Patents
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Abstract
Description
蒸気供給系統10は、蒸気供給管11と、制御弁13と、バイパス管16と、フラッシュ蒸気管21とを有している。蒸気供給管11は、蒸気が一端から流入し他端から使用装置へ供給される。使用装置では、供給された蒸気によって対象物が加熱される一方、蒸気が凝縮してドレンとなる。制御弁13は、蒸気供給管11に設けられ、蒸気の流量が調節可能な流量調整弁である。制御弁13は、蒸気とドレンとを分離する気液分離部14を有しており、気液分離部14で分離された蒸気が下流側に流れる。また、蒸気供給管11には、制御弁13の上流側と下流側に開閉弁12,15が設けられている。気液分離部14にはドレン排出管18が接続されており、気液分離部14で分離されたドレンがドレン排出管18から排出される。
ドレン回収系統30は、ドレン回収管31およびドレン圧送管33と、該ドレン回収管31およびドレン圧送管33が接続されたドレン圧送装置32とを有している。ドレン圧送装置32は、使用装置で蒸気が凝縮して発生したドレンがドレン回収管31を介して流入し、該流入したドレンをドレン圧送管33に圧送するものである。具体的に、ドレン圧送装置32は、ドレンの流入口32aおよび圧送口32bと、蒸気の導入口32cおよび排出口32dとを有している。流入口32aにはドレン回収管31が接続され、圧送口32bにはドレン圧送管33が接続されている。導入口32cおよび排出口32dには、それぞれ後述する蒸気導入管51および蒸気排出管71が接続されている。
蒸気導入系統50は、蒸気導入管51と、減圧弁54と、バイパス管56とを有している。蒸気導入管51は、一端が蒸気供給管11におけるバイパス管16よりも上流側に接続され、他端がドレン圧送装置32の導入口32cに接続されている。蒸気導入管51は、蒸気供給管11の蒸気の一部をドレン圧送装置32に導入することによってドレン圧送装置32内のドレンを圧送させるものである。減圧弁54は、蒸気導入管51に設けられ、蒸気の圧力を減圧するものである。蒸気導入管51には、減圧弁54の上流側に開閉弁52およびストレーナ53が設けられ、減圧弁54の下流側に開閉弁55が設けられている。バイパス管56は、蒸気導入管51に接続され、減圧弁54、ストレーナ53および開閉弁52,55をバイパスするものである。つまり、バイパス管56の一端は開閉弁52よりも上流側に接続され、他端は開閉弁55よりも下流側に接続されている。バイパス管56には、開閉弁57が設けられている。また、蒸気導入管51には、バイパス管56よりも下流側に、開閉弁58およびストレーナ59が設けられている。
蒸気排出系統70は、蒸気排出管71と、均圧管75とを有している。蒸気排出管71は、一端がドレン圧送装置32の排出口32dに接続され、他端がブロー管44における開閉弁45よりも下流側に接続されている。蒸気排出管71には、上流側から順に、開閉弁72、エアベント73および逆止弁74が設けられている。均圧管75は、蒸気排出管71における開閉弁72よりも上流側に接続されており、開閉弁76が設けられている。なお、上述した全ての開閉弁は手動式のものであり、そのうち開閉弁17,22,43,45,57,58はボール弁である。
ドレン圧送装置32は、図示しないが、ドレンの貯留室を有しており、その貯留室にフロートが配置されている。ドレン圧送装置32は、フロートが所定の低位まで下降すると、導入口32cが閉じると共に排出口32dが開き、フロートが所定の高位まで上昇すると、導入口32cが開くと共に排出口32dが閉じるように構成されている。ドレン圧送装置32では、導入口32cが閉じて排出口32dが開くと、ドレン回収管31のドレンが流入口32aから貯留室に流入する。このドレンの流入に伴い、貯留室の蒸気が排出口32dから蒸気排出管71およびブロー管44を通って排出される。また、ドレン圧送装置32では、導入口32cが開いて排出口32dが閉じると、蒸気導入管51の蒸気が導入口32cから貯留室に流入する。この蒸気の導入により、貯留室のドレンが圧送口32bからドレン圧送管33に圧送(排出)される。
また、蒸気加熱装置1は、センサ類として、圧力計81,82,83,84,85、圧力センサ86および圧力調節部87を備えている。圧力計81は蒸気供給管11における制御弁13よりも上流側の圧力を示し、圧力計82は蒸気供給管11における制御弁13よりも下流側の圧力を示し、圧力計83は分岐管42における圧力を示す。圧力計84は蒸気導入管51における減圧弁54よりも下流側の圧力を示し、圧力計85は均圧管75における圧力を示す。圧力センサ86は、蒸気供給管11における制御弁13よりも下流側の圧力を検出し、その検出圧力を圧力調節部87に送る。圧力調節部87は、制御弁13の上部に設けられており、圧力センサ86から送られた検出圧力に基づいて制御弁13を駆動制御する。制御弁13が駆動制御されることにより、蒸気の圧力が調節される。
蒸気加熱装置1は、図2〜図9に示すように、蒸気供給系統10と、ドレン回収系統30と、蒸気導入系統50と、蒸気排出系統70と、センサ類とが取り付けられてユニット化されたフレーム90を備えている。
これにより、フレーム90における空間を有効に活用することができる。
10 蒸気供給系統
11 蒸気供給管
13 制御弁(流量調整弁)
30 ドレン回収系統
31 ドレン回収管
32 ドレン圧送装置
33 ドレン圧送管
50 蒸気導入系統
51 蒸気導入管
54 減圧弁
90 フレーム
91 ベース
101,102,103,104 支柱
105,106 梁
Claims (3)
- 別の場所に設けられた使用装置へ蒸気を供給し、該蒸気によって上記使用装置の対象物が加熱される蒸気供給管と、該蒸気供給管に設けられた流量調整弁とを有する蒸気供給系統と、
ドレン回収管およびドレン圧送管が接続され、上記使用装置で蒸気が凝縮して発生したドレンが上記ドレン回収管を介して流入し、該流入したドレンを上記ドレン圧送管に圧送するドレン圧送装置を有するドレン回収系統と、
上記蒸気供給系統および上記ドレン回収系統が取り付けられてユニット化されたフレームとを備えている
ことを特徴とする蒸気加熱装置。 - 請求項1に記載の蒸気加熱装置において、
上記蒸気供給管の蒸気の一部を上記ドレン圧送装置に導入することによって上記ドレン圧送装置内のドレンを圧送させる蒸気導入管と、該蒸気導入管に設けられた減圧弁とを有し、上記フレームに取り付けられて上記蒸気供給系統および上記ドレン回収系統と共にユニット化された蒸気導入系統を備え、
上記蒸気供給系統の流量調整弁は上記フレームの上段に取り付けられ、上記ドレン回収系統のドレン圧送装置は上記フレームの下段に取り付けられ、上記蒸気導入系統の減圧弁は上記フレームにおける上記流量調整弁と上記ドレン圧送装置との間の中段に取り付けられている
ことを特徴とする蒸気加熱装置。 - 請求項1または2に記載の蒸気加熱装置において、
上記フレームは、地面に接地するベースと、該ベースにおいて所定の四角形の四隅に配置されて鉛直上方に延びる4本の支柱と、それぞれ上記四角形の対向する二辺に沿って位置し、上記辺の両端に位置する2本の支柱に接続された2本の梁とを有し、
上記蒸気供給系統は、両端が上記蒸気供給管において上記制御弁の上流側と下流側に接続されたバイパス管を有し、上記蒸気供給管および上記バイパス管のそれぞれは上記2本の梁の間に亘って延びて該2本の梁に固定されている
ことを特徴とする蒸気加熱装置。
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