JP2018080388A - 三次元の対象物を積層造形するための装置 - Google Patents

Abstract

【課題】三次元の対象物を積層造形するための装置を提供すること。【解決手段】レーザービーム（４）を用いて硬化可能な構成材料（３）から成る構成材料層を層ごとに連続的かつ選択的に露光することによって、かつそれに伴って、層ごとに連続的かつ選択的に硬化することによって、三次元の対象物（２）を積層造形するための装置（１）であって、中で、レーザービーム（４）を用いて硬化可能な構成材料（３）から成るそれぞれの構成材料層の層ごとの連続的かつ選択的な露光と、それに伴う層ごとの連続的かつ選択的な硬化とが行われるプロセスチャンバ（７）と、それぞれの構成材料層を選択的に露光しかつそれに伴って硬化するためのレーザービーム（４）を発生させるために設備されている露光装置（６）とを備え、露光装置（６）はハウジング構造（１１）に、プロセスチャンバ（７）から熱的に減結合され距離を置いて、設けられているあるいは形成されている。【選択図】図１

Description

レーザービームを用いて硬化可能な構成材料から成る構成材料層を層ごとに連続的かつ選択的に露光することによって、かつそれに伴って、層ごとに連続的かつ選択的に硬化することによって、三次元の対象物を積層造形するための装置であって、請求項１のプリアンブルに基づくさらなる特徴を有するプロセスチャンバと露光装置とを備える。

三次元の対象物を積層造形するための対応する装置は、たとえば選択的レーザー焼結法もしくは選択的レーザー溶融法を実行するための装置の形状で、それ自体としては周知である。対応する装置は、中でそれぞれの構成材料層の層ごとの連続的かつ選択的な露光と、それに伴う層ごとの連続的かつ選択的な硬化とが行われるプロセスチャンバと、それぞれの構成材料層を選択的に露光しかつそれに伴って硬化するためのレーザービームを発生させるために設備されている露光装置とを備える。

対応する装置の運転中にプロセスに起因して発生するプロセス熱は、プロセスチャンバの加熱を引き起こす。今日に至るまで、露光装置をプロセスチャンバの露出した外面に直接設けることが一般的なので、プロセスチャンバの加熱とそれに伴う熱膨張は必然的に、正確に位置決めされるべきもしくは正確に位置決めされた露光装置の位置決めをある程度変化させてしまうことになりかねない。

露光装置の位置決めの変化が、選択的に露光されるべきもしくは硬化されるべきそれぞれの構成材料層の正確な露光とひいては造形されるべき物体の品質に悪影響を及ぼしかねないのであれば、これは改善に値する状態である。

本発明の課題は、それに対して改善された、三次元の対象物を積層造形するための装置を提供することである。

この課題は、請求項１に記載の、三次元の対象物を積層造形するための装置によって解決される。これに従属する請求項は、本装置の可能な実施形態に関する。

本願で記述される装置（「装置」）は、レーザービームを用いて硬化可能な構成材料から成る構成材料層を層ごとに連続的かつ選択的に露光することによって、かつそれに伴って、層ごとに連続的かつ選択的に硬化することによって、三次元の対象物すなわちたとえば技術的な部材もしくは技術的な部材群を積層造形するために設備されている。構成材料とは特に、微粒子のもしくは粉末状の金属材料、プラスチック材料および／あるいはセラミック材料であってよい。選択的に硬化されるべきそれぞれの構成材料層の選択的硬化は、物体に関連した構築データに基づいて行われる。対応する構築データは、それぞれ積層造形されるべき物体の幾何学構造的形体を描写し、たとえば積層造形されるべき物体の「スライスされた」ＣＡＤデータを含んでよい。装置は、ＳＬＭ装置として、すなわち選択的レーザー溶融法（ＳＬＭ法）を実行するための装置として、あるいはＳＬＳ装置として、すなわち選択的レーザー焼結法（ＳＬＳ法）を実行するための装置として形成されていてよい。

本装置は、積層構築過程を実行するために典型的に必要な機能コンポーネントを備える。これには特に、層形成装置層形成装置と露光装置とが含まれる。層形成装置は、選択的に硬化されるべき構成材料層を（装置の構築レベルにおいて）形成するために設備されている。層形成装置は、複数の構成部材、すなわちたとえば特に刃状のコーティングツールを備えるコーティング要素と、コーティング要素を定義された移動軌道に沿ってガイドするためのガイド装置とを備えてよい。

露光装置は、（装置の構築レベルにおいて）それぞれの構成材料層を選択的に露光し、それに伴って硬化するためのレーザービームを発生させるために設備されている。露光装置も、複数の構成部材、すなわちたとえばレーザービームを発生させるためのビーム発生装置と、ビーム発生装置によって発生されたレーザービームを、選択的に硬化されるべき構成材料層の選択的に露光されるべき領域に転向するためのビーム転向装置（Ｓｔｒａｈｌａｂｌｅｎｋｅｉｎｒｉｃｈｔｕｎｇ）（スキャナ装置）と、たとえばフィルタ要素、対物要素、レンズ要素などのようないくつかの光学要素とを備えてよい。露光装置は、装置の光学系と呼ばれてもよく、もしくはそのように見なされてもよい。

露光装置は、特にプロファイル状のもしくはプロファイル形状の１つあるいは複数の枠組み構造要素によって形成されるあるいはそのような枠組み構造要素を備えるハウジング構造に、プロセスチャンバから熱的に減結合され距離を置いて、設けられているあるいは形成されている。プロセスチャンバに対して熱的に減結合し距離を置いて、露光装置すなわち特に、露光装置に付属するビーム転向装置を設けるあるいは形成するとは、場合によっては露光装置の位置決めすなわち配向および／あるいは配置の望ましからざる変化をもたらしかねない熱（熱エネルギー）が、プロセスチャンバから露光装置へ伝達され得ないということと理解され得る。露光装置は、プロセスチャンバから空間的に距離を置いているので、プロセスチャンバから露光装置への伝熱は起こり得ない。露光装置は、熱的な観点では、プロセスチャンバから完全に減結合されている。つまりプロセスチャンバから露光装置への（かつその逆方向の）伝熱は、起こり得ない。

従って、露光装置とプロセスチャンバとの間には典型的に、露光装置とプロセスチャンバとの間の距離を定義する間隙空間が形成されている。間隙空間は、露光装置とプロセスチャンバとの間の数ミリメートルの距離、すなわち特に少なくとも１ミリメートルの距離を定義できる。従って、露光装置とプロセスチャンバとの間には典型的に、プロセスチャンバから露光装置への伝熱を可能にしかねない物理的な接触、すなわち特に機械的な接触がない。

冒頭で記述された従来技術に関連して記述される問題に対処して、露光装置を、プロセスチャンバから熱的に減結合し距離を置いて設けるあるいは形成することによって、対応する装置の運転中に、プロセスに起因して発生するプロセス熱で加熱されるプロセスチャンバが、露光装置の位置決めに悪影響を及ぼすことが起こり得ないようにする。

露光装置は、枠組み構造に設けられている。枠組み構造とは、典型的には装置の（閉じられた）ハウジング構造もしくはケーシング構造を形成し、従って（実質的に）装置の外側形体を定義する、装置の外側ハウジング枠組み構造であってよい。以下において明らかとなるように、露光装置が設けられあるいは形成されている枠組み構造が、装置の外側ハウジング枠組み構造ではない、別の実施形態がある。

露光装置を枠組み構造に設けるもしくは形成することを考慮すれば、様々な可能性があり、これらの可能性は、以下においてより詳細に説明される。

本装置はたとえば、露光装置とプロセスチャンバとが設けられあるいは形成されている（共通の）枠組み構造を備えてよい。その際露光装置は、プロセスチャンバから距離を置いて、枠組み構造に設けられあるいは形成されているので、装置の運転中にプロセスチャンバを介して枠組み構造にもたらされる熱エネルギーによって、枠組み構造での露光装置の位置決めが変化することは起こらず、もしくは起こり得ない。装置の運転中にプロセスチャンバを介して枠組み構造にもたらされる熱エネルギーは、特に熱膨張によって、露光装置の位置決めの望ましからざる変化を引き起こすには、全く不充分である。

これは構造的にたとえば、露光装置が少なくとも１つの第１の枠組み構造部分に設けられあるいは形成されており、プロセスチャンバが少なくとも１つのさらなる枠組み構造部分に設けられあるいは形成されているように実現することができ、少なくとも１つの第１の枠組み構造部分は、少なくとも１つのさらなる枠組み構造部分から距離を置いて設けられあるいは形成されているので、装置の運転中にプロセスチャンバを介して枠組み構造にもたらされる熱エネルギーによって、枠組み構造での露光装置の位置決めが変化することは起こらず、もしくは起こり得ない。

代替的に本装置は、互いに熱的に減結合され距離を置いて設けられている複数の別々の枠組み構造を備えてよく、露光装置は第１の枠組み構造に設けられあるいは形成されており、プロセスチャンバは第２の枠組み構造に設けられあるいは形成されている。この関連においても、それぞれの枠組み構造を、互いに熱的に減結合し距離を置いて設けるとは、場合によっては露光装置の位置決めすなわち配向および／あるいは配置の望ましからざる変化をもたらしかねない熱（熱エネルギー）が、第２の枠組み構造から第１の枠組み構造へ伝達され得ないということと理解され得る。それぞれの枠組み構造は、互いに空間的に距離を置いているので、第２の枠組み構造から第１の枠組み構造への伝熱は起こり得ない。

それぞれの枠組み構造は、互いの中に設けられていてよく、第２の枠組み構造は構築構造上、第１の枠組み構造よりも寸法が小さい。その限りにおいて第２の枠組み構造は、内側枠組み構造と見なされもしくは呼ばれてよく、第１の枠組み構造は、外側枠組み構造と見なされもしくは呼ばれてよい。これによって、それぞれの枠組み構造を、コンパクトではあるが熱的に減結合して設けることが可能になる。第１のもしくは外側の枠組み構造によって定義される内室は、場合によっては不活性化可能であってよい。

露光装置は、熱膨張係数が０．５から３．０×１０^−６Ｋ^−１の領域にある材料特に金属から形成されている、別々の枠組み構造部分もしくは別々の枠組み構造要素に設けられあるいは形成されていてよい。対応する材料は、たとえば「インバー」の名称で知られる鉄・ニッケル合金であってよく、当該合金の熱膨張係数は、（２０℃から９０℃の温度領域において）０．５から２．０×１０^−６Ｋ^−１である。ここで一般的に知っておくべきことは、露光装置が設けられあるいは形成されている枠組み構造は、合理的には熱膨張係数（線膨張係数もしくは体積膨張係数）が比較的小さい材料から形成されているということである。

言及されたように、露光装置とプロセスチャンバとの間には典型的に、露光装置とプロセスチャンバとの間の距離を定義する間隙空間が形成されている。間隙空間内には、露光装置特に露光装置もしくはこれに付属するビーム転向装置のレーザービーム抽出ポイント（Ｌａｓｅｒｓｔｒａｈｌａｕｓｋｏｐｐｌｕｎｇｓｐｕｎｋｔ）であって、レーザービームが露光装置特に露光装置に付属するビーム転向装置から抽出されるもしくは出る際に通るレーザービーム抽出ポイントと、レーザービームがプロセスチャンバによって定義されるプロセスチャンバ内部空間に注入されるもしくは入る際に通るレーザービーム注入ポイント（Ｌａｓｅｒｓｔｒａｈｌｅｉｎｋｏｐｐｌｕｎｇｓｐｕｎｋｔ）特にレーザービーム注入ウィンドウ（Ｌａｓｅｒｓｔｒａｈｌｅｉｎｋｏｐｐｌｕｎｇｓｆｅｎｓｔｅｒ）との間に設けられあるいは形成されている少なくとも１つの遮蔽要素が、露光装置特に露光装置のレーザービーム出口ポイント（Ｌａｓｅｒｓｔｒａｈｌａｕｓｔｒｉｔｔｓｐｕｎｋｔ）とプロセスチャンバ特にプロセスチャンバのレーザービーム注入ポイントとの間で延伸するレーザービームを遮蔽するために設けられあるいは形成されていてよい。遮蔽要素は、ベローズ状もしくはベローズ形状のあるいはスリーブ状もしくはスリーブ形状の幾何学構造的形体を備えてよく、適切な遮蔽材料すなわちたとえば、ガラス、鋼鉄などから形成されている。遮蔽要素は装置の遮蔽を確実にし、すなわち特に露光装置とプロセスチャンバとの間に延伸する間隙空間を介して、レーザービームが装置から望ましからず出ることを防ぐ。

同じ目的で、特に平面の少なくとも１つの遮蔽要素を備える遮蔽ハウジング構造が設けられあるいは形成されており、当該遮蔽ハウジング構造は、露光装置が設けられあるいは形成されている枠組み構造の周囲に設けられあるいは形成されていることも考えられ得る。遮蔽ハウジング構造は、少なくとも露光装置が設けられあるいは形成されている枠組み構造の筐体であり、当該筐体は、特に露光装置とプロセスチャンバとの間に延伸する間隙空間を介して、レーザービームが装置から望ましからず出ることを防ぐ。

本発明は、図中の実施例に基づいて、より詳細に説明されている。図に示されるのは以下である。

一実施例に従った装置の一基本図である。 一実施例に従った装置の一基本図である。 一実施例に従った装置の一基本図である。

図１から図３は、装置１の一実施例に従った装置１の一基本図をそれぞれ示している。

装置１は、硬化可能な構成材料３から成る構成材料層すなわちたとえば金属粉末の構成材料層をレーザー照射たとえばレーザービーム４を用いて層ごとに連続的かつ選択的に露光することによって、かつそれに伴って、層ごとに連続的かつ選択的に硬化することによって、三次元の対象物２すなわち特に技術的な部材もしくは技術的な部材群を積層造形するために使われる。硬化されるべきそれぞれの構成材料層の選択的硬化は、物体に関連した構築データに基づいて行われる。対応する構築データは、それぞれ積層造形されるべき物体２の幾何学的もしくは幾何学構造的形体を描写し、たとえば造形されるべき物体２の「スライスされた」ＣＡＤデータを含んでよい。装置１は、レーザーＣＵＳＩＮＧ（Ｒ）装置として、すなわち選択的レーザー溶融法を実行するための装置として形成されていてよい。

装置１は、積層構築過程を実行するために必要な機能コンポーネントを備える。図においては、層形成装置５と露光装置６とが１つだけ示されている。

層形成装置５は、選択的に露光されるべきもしくは選択的に硬化されるべき構成材料層を、装置１の構築レベルにおいて形成するために設備されている。層形成装置５は、複数のコータ要素を備えるコータ要素アセンブリ（詳細には表示されず）を備え、当該コータ要素アセンブリは、ガイド装置（図示されず）を介して、両矢印Ｐ１によって示唆されるように水平方向に、装置１のプロセスチャンバ７内で移動可能に支承されている。

露光装置６は、装置１の構築レベルにおいて選択的に硬化されるべき構成材料層を選択的に露光するために設備されており、このために、レーザービーム４を発生させるために設備されているビーム発生装置（図示されず）と、ビーム発生装置によって発生されたレーザービーム４を、選択的に硬化されるべき構成材料層の露光されるべき領域に転向するために設備されているビーム転向装置（図示されず）と、たとえばフィルタ要素、対物要素、レンズ要素などのようないくつかの光学要素とを備える。露光装置６は、装置１の光学系と呼ばれてもよく、もしくはそのように見なされてもよい。

図においてはさらに、調量モジュール８と構成モジュール構成モジュール９とオーバーフローモジュール１０とが表わされており、これらのモジュールは、装置１のプロセスチャンバ７の下部領域にドッキングされている。挙げられたモジュールは、プロセスチャンバ７の下部領域を形成してもよい。

露光装置６は、たとえばプロファイル状のもしくはプロファイル形状の１つあるいは複数の枠組み構造要素（詳細には表示されず）によって形成されるもしくはそのような枠組み構造要素を備えるハウジング構造１１に、プロセスチャンバ７から熱的に減結合され距離を置いて、設けられている。プロセスチャンバ７に対して熱的に減結合し距離を置いて、露光装置６すなわち特に、露光装置６に付属するビーム転向装置を設けるあるいは形成するとは、場合によっては（たとえば基準となる位置決めに対して）露光装置６の位置決めすなわち配向および／あるいは配置の望ましからざる変化をもたらしかねない熱（熱エネルギー）が、プロセスチャンバ７から露光装置６へ伝達され得ないということと理解され得る。露光装置６は、プロセスチャンバ７から空間的に距離を置いているので、プロセスチャンバ７から露光装置６への伝熱は起こり得ない。つまり露光装置６は、熱的な観点では、プロセスチャンバ７から完全に減結合されている。

明らかに、露光装置６とプロセスチャンバ７との間には、露光装置６とプロセスチャンバ７との間の距離を定義する間隙空間１２が形成されている。間隙空間１２は、数ミリメートルの距離、すなわち特に少なくとも１ミリメートルの距離を定義できる。従って、露光装置６とプロセスチャンバ７との間には、プロセスチャンバ７から露光装置６への伝熱を可能にしかねない物理的な接触、すなわち特に機械的な接触がない。

言い換えれば、露光装置６を、プロセスチャンバ７から熱的に減結合し距離を置いて設けることによって、装置１の運転中に、プロセスに起因して発生するプロセス熱で加熱されるプロセスチャンバ７が、露光装置６の位置決めに悪影響を及ぼすことが起こり得ない。

図１に示されている実施例において、露光装置６は、装置１の外側ハウジング枠組み構造を形成する枠組み構造１１に設けられている。ハウジング枠組み構造は、装置１の（閉じられた）ハウジング構造もしくはケーシング構造を形成し、従って（実質的に）装置１の外側形体を定義する。

図１に示されている実施例において、プロセスチャンバ７も枠組み構造１１に設けられている。従って装置１は、露光装置６とプロセスチャンバ７とが設けられている（共通の）枠組み構造１１を備える。その際露光装置６は、プロセスチャンバ７から距離を置いて、枠組み構造１１に設けられているので、装置１の運転中にプロセスチャンバ７を介して枠組み構造１１にもたらされる熱エネルギーによって、枠組み構造１１での露光装置６の位置決めが変化することは起こらず、もしくは起こり得ない。露光装置６は、プロセスチャンバ７から距離を置いて設けられているので、装置１の運転中にプロセスチャンバ７を介して枠組み構造１１にもたらされる熱エネルギーは、特に熱膨張によって、露光装置６の位置決めの望ましからざる変化を引き起こすには、不充分である。

これは構造的に、露光装置６が第１の枠組み構造部分１１ａに設けられており、プロセスチャンバ７がさらなる枠組み構造部分１１ｂに設けられているように実現されており、第１の枠組み構造部分１１ａは、さらなる枠組み構造部分１１ｂから距離を置いて設けられているので、装置１の運転中にプロセスチャンバ７を介して枠組み構造１１にもたらされる熱エネルギーによって、枠組み構造１１での露光装置６の位置決めが変化することは起こらず、もしくは起こり得ない。

図１に示されている実施例においてさらに、露光装置６は、熱膨張係数が０．５から３．０×１０^−６Ｋ^−１の領域にある材料特に金属から形成されている、枠組み構造１１の別々の枠組み構造部分（第１の枠組み構造部分１１ａ）もしくは別々の枠組み構造要素に設けられているという可能性が表わされている。対応する材料は、たとえば「インバー」の名称で知られる鉄・ニッケル合金であってよく、当該合金の熱膨張係数は、（２０℃から９０℃の温度領域において）０．５から２．０×１０^−６Ｋ^−１である。

最後に、図１に示されている実施例において、間隙空間１２内には、露光装置６特に露光装置６もしくはこれに付属するビーム転向装置のレーザービーム抽出ポイント（詳細には表示されず）であって、レーザービーム４が露光装置６特に露光装置６に付属するビーム転向装置から抽出されるもしくは出る際に通るレーザービーム抽出ポイントと、レーザービーム４がプロセスチャンバ７によって定義されるプロセスチャンバ内部空間１５に注入されるもしくは入る際に通るレーザービーム注入ポイント（詳細には表示されず）特にレーザービーム注入ウィンドウ１４との間に設けられあるいは形成されている遮蔽要素１６が、露光装置６特に露光装置６のレーザービーム出口ポイントとプロセスチャンバ７特にプロセスチャンバ７のレーザービーム注入ポイントとの間で延伸するレーザービーム４を遮蔽するために設けられているという可能性が表わされている。遮蔽要素１６は、ベローズ状のあるいはスリーブ状の幾何学構造的形体を備え、適切な遮蔽材料すなわちたとえば、ガラス、鋼鉄などから形成されている。遮蔽要素１６は装置１の遮蔽を確実にし、すなわち特に露光装置とプロセスチャンバとの間に延伸する間隙空間１２を介して、レーザービーム４が装置１から望ましからず出ることを防ぐ。

図２に示されている実施例において、装置１は、互いに熱的に減結合され距離を置いて設けられている複数の別々の枠組み構造１１、１３を備える。露光装置６は第１の枠組み構造１１に設けられており、プロセスチャンバ７は第２の枠組み構造１３に設けられている。同様にそれぞれの枠組み構造１１、１３を、互いに熱的に減結合し距離を置いて設けるとは、場合によっては露光装置６の位置決めの望ましからざる変化をもたらしかねない熱（熱エネルギー）が、第２の枠組み構造１３から第１の枠組み構造１１へ伝達され得ないということと理解され得る。それぞれの枠組み構造１１、１３は、互いに空間的に距離を置いているので、第２の枠組み構造１３から第１の枠組み構造１１への伝熱は起こり得ない。

２つの枠組み構造１１、１３は、図２に示されている実施例において、互いの中に設けられている。第２の枠組み構造１３は構築構造上、第１の枠組み構造１１よりも寸法が小さい。その限りにおいて第２の枠組み構造１３は、内側枠組み構造と見なされもしくは呼ばれてよく、第１の枠組み構造１１は、外側枠組み構造と見なされもしくは呼ばれてよい。第１のもしくは外側の枠組み構造１１によって定義される内室は、場合によっては不活性化可能であってよい。

図３に示されている実施例において、装置１を確実に遮蔽するために、すなわち、特に露光装置６とプロセスチャンバ７との間に延伸する間隙空間１２を介して、レーザービーム４が装置１から望ましからず出ることを防ぐために、適切な遮蔽材料たとえば鋼鉄から形成される特に平面の少なくとも１つの遮蔽要素（詳細には表示されず）を備える遮蔽ハウジング構造１７が設けられており、当該遮蔽ハウジング構造１７は、露光装置６が設けられている枠組み構造１１の周囲に設けられている。遮蔽ハウジング構造１７は、露光装置６が設けられている枠組み構造１１の筐体であり、当該筐体は、特に露光装置６とプロセスチャンバ７との間に延伸する間隙空間１２を介して、レーザービーム４が装置１から望ましからず出ることを防ぐ。

Claims (8)

1. レーザービーム（４）を用いて硬化可能な構成材料（３）から成る構成材料層を層ごとに連続的かつ選択的に露光することによって、かつそれに伴って、層ごとに連続的かつ選択的に硬化することによって、三次元の対象物（２）を積層造形するための装置（１）であって、
   中で、レーザービーム（４）を用いて硬化可能な構成材料（３）から成るそれぞれの構成材料層の層ごとの連続的かつ選択的な露光と、それに伴う層ごとの連続的かつ選択的な硬化とが行われるプロセスチャンバ（７）と、
   それぞれの構成材料層を選択的に露光しかつそれに伴って硬化するためのレーザービーム（４）を発生させるために設備されている露光装置（６）とを備える装置（１）において、
   前記露光装置（６）はハウジング構造（１１）に、前記プロセスチャンバ（７）から熱的に減結合され距離を置いて、設けられているあるいは形成されていることを特徴とする装置（１）。
2. 前記装置（１）は、前記露光装置（６）と前記プロセスチャンバ（７）とが設けられあるいは形成されている枠組み構造（１１）を備え、前記露光装置（６）は、前記プロセスチャンバ（７）から距離を置いて、前記枠組み構造（１１）に設けられあるいは形成されているので、前記装置（１）の運転中に前記プロセスチャンバ（７）を介して前記枠組み構造（１１）にもたらされる熱エネルギーによって、前記枠組み構造（１１）での前記露光装置（６）の位置決めが変化することは起こらないことを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 前記露光装置（６）が少なくとも１つの第１の枠組み構造部分（１１ａ）に設けられあるいは形成されており、前記プロセスチャンバ（７）が少なくとも１つのさらなる枠組み構造部分（１１ｂ）に設けられあるいは形成されていて、少なくとも１つの前記第１の枠組み構造部分（１１ａ）は、少なくとも１つの前記さらなる枠組み構造部分（１１ｂ）から距離を置いて設けられあるいは形成されているので、前記装置（１）の運転中に前記プロセスチャンバ（７）を介して前記枠組み構造（１１）にもたらされる熱エネルギーによって、前記枠組み構造（１１）での前記露光装置（６）の位置決めが変化することは起こらないことを特徴とする請求項２に記載の装置。
4. 前記装置は、互いに熱的に減結合され距離を置いて設けられている複数の別々の枠組み構造（１１、１３）を備え、前記露光装置（６）は第１の枠組み構造（１１）に設けられあるいは形成されており、前記プロセスチャンバ（７）は第２の枠組み構造（１３）に設けられあるいは形成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
5. 前記露光装置（６）は、熱膨張係数が０．５から３．０×１０^−６Ｋ^−１の領域にある材料特に金属から形成されている、別々の枠組み構造部分（１１ａ）に設けられあるいは形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の装置。
6. 前記露光装置（６）と前記プロセスチャンバ（７）との間には、前記露光装置（６）と前記プロセスチャンバ（７）との間の距離を定義する間隙空間（１２）が形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の装置。
7. 前記露光装置（６）特に該露光装置（６）のレーザービーム抽出ポイントであって、レーザービーム（４）が前記露光装置（６）特に該露光装置（６）に付属するビーム転向装置から抽出される際に通るレーザービーム抽出ポイントと、レーザービーム（４）が前記プロセスチャンバ（７）によって定義されるプロセスチャンバ内部空間（１５）に注入される際に通るレーザービーム注入ポイントとの間に設けられあるいは形成されている、特にベローズ状あるいはスリーブ状の少なくとも１つの遮蔽要素（１６）であって、前記露光装置（６）特に該露光装置（６）のレーザービーム出口ポイントと前記プロセスチャンバ（７）特に該プロセスチャンバ（７）の前記レーザービーム注入ポイントとの間で延伸するレーザービーム（４）を遮蔽するための遮蔽要素（１６）を特徴とする請求項６に記載の装置。
8. 前記露光装置（６）が設けられあるいは形成されている前記枠組み構造（１１）の周囲に設けられあるいは形成されている、少なくとも１つの遮蔽要素（１６）を備える遮蔽ハウジング構造（１７）を特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の装置。

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