JP2018072397A - Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photoinitiator, and method for preparing photoinitiator - Google Patents

Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photoinitiator, and method for preparing photoinitiator Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition containing: a photopolymerizable compound (A); a photoinitiator (B) including an oxime ester compound with a specified structure having a carbonyl group at a position adjacent to a C=N bond in the oxime group (>C=N-O-); and a solvent (S), in which secular deterioration in sensitivity is suppressed, a method for producing the photosensitive composition, a photoinitiator preferably blended into the photosensitive composition, and a method for preparing the photoinitiator.SOLUTION: Provided is a photosensitive composition containing: the photopolymerizable compound (A); the photoinitiator (B) including the oxime ester compound with a specified structure having a carbonyl group at a position adjacent to the C=N bond in an oxime group (>C=N-O-); and the solvent (S), having good sensitivity, and on the other hand, in which secular deterioration in sensitivity is easy to occur, in which the quantity of moisture and the content of carboxylic acid with a specified structure are limited to prescribed value or lower.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、感光性組成物、感光性組成物の製造方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の調製方法に関する。   The present invention relates to a photosensitive composition, a method for producing a photosensitive composition, a photopolymerization initiator, and a method for preparing a photopolymerization initiator.

液晶表示装置のような表示装置では、絶縁膜のような材料が、バックライトのような光源から発せられる光を効率よく透過させる必要がある。このため、絶縁膜を形成するためには、透明性に優れる膜を形成できる材料が求められる。   In a display device such as a liquid crystal display device, a material such as an insulating film needs to efficiently transmit light emitted from a light source such as a backlight. For this reason, in order to form an insulating film, the material which can form the film | membrane excellent in transparency is calculated | required.

このような透明絶縁膜は通常、基板上でパターン化されている。パターン化された透明絶縁膜を形成する方法としては、例えば、オキセタン環を有するアルカリ可溶性樹脂と、重合性多官能化合物と、α−アミノアルキルフェノン系の光重合開始剤とを含むネガ型感光性組成物を用いる方法(特許文献1を参照。)が知られている。   Such a transparent insulating film is usually patterned on a substrate. As a method for forming a patterned transparent insulating film, for example, a negative photosensitive resin containing an alkali-soluble resin having an oxetane ring, a polymerizable polyfunctional compound, and an α-aminoalkylphenone photopolymerization initiator. A method using a composition (see Patent Document 1) is known.

ところで、近年、液晶表示ディスプレイの生産台数が増大するのに合わせてカラーフィルタの生産量も増大しており、より一層の生産性向上の観点から、低露光量でパターンを形成することのできる高感度の感光性組成物が要望されている。
しかし、特許文献1に記載のネガ型感光性組成物は、感度についてさらなる改良が求められるものであった。
このような状況において、本出願人は、高感度の感光性組成物として、オキシム基(>C=N−O−)中のC=N結合に隣接する位置にカルボニル基を有する特定の構造のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含む感光性組成物を提案している(特許文献2)。
By the way, in recent years, as the number of liquid crystal display displays produced increases, the production amount of color filters also increases. From the viewpoint of further improving productivity, it is possible to form a pattern with a low exposure amount. There is a need for sensitive photosensitive compositions.
However, the negative photosensitive composition described in Patent Document 1 requires further improvement in sensitivity.
In such a situation, the present applicant, as a highly sensitive photosensitive composition, has a specific structure having a carbonyl group at a position adjacent to a C═N bond in an oxime group (> C═N—O—). A photosensitive composition containing an oxime ester compound as a photopolymerization initiator has been proposed (Patent Document 2).

特開2012−173678号公報JP 2012-173678 A 特開2013−148872号公報JP2013-148872A

しかしながら、特許文献2に記載されるような、オキシム基(>C=N−O−)中のC=N結合に隣接する位置にカルボニル基を有する特定の構造のオキシムエステル化合物を光重合開始剤として含む感光性組成物は、感度に優れる一方で、しばしば、経時的な感度低下を起こす問題があった。   However, as described in Patent Document 2, an oxime ester compound having a specific structure having a carbonyl group at a position adjacent to a C═N bond in an oxime group (> C═N—O—) is used as a photopolymerization initiator. While the photosensitive composition contained as is excellent in sensitivity, it often has a problem of causing a decrease in sensitivity over time.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、光重合性化合物(A)と、オキシム基(>C=N−O−)中のC=N結合に隣接する位置にカルボニル基を有する特定の構造のオキシムエステル化合物を含む光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含み、経時的な感度の低下が抑制された感光性組成物と、当該感光性組成物の製造方法と、当該感光性組成物に好ましく配合される光重合開始剤と、当該光重合開始剤の調製方法とを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and a carbonyl group is formed at a position adjacent to a photopolymerizable compound (A) and a C═N bond in an oxime group (> C═N—O—). A photosensitive composition containing a photopolymerization initiator (B) containing an oxime ester compound having a specific structure and a solvent (S), in which a decrease in sensitivity over time is suppressed, and production of the photosensitive composition It is an object to provide a method, a photopolymerization initiator preferably blended in the photosensitive composition, and a method for preparing the photopolymerization initiator.

本発明者らは、光重合性化合物と、オキシム基(>C=N−O−)中のC=N結合に隣接する位置にカルボニル基を有する特定の構造のオキシムエステル化合物を含む光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含む、好感度である一方で感度の経時的な低下を起こしやすい感光性組成物において、水分の量と、特定の構造のカルボン酸の含有量とを所定の値以下に制限することにより、感度の経時的な低下を抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。   The present inventors have initiated photopolymerization comprising a photopolymerizable compound and an oxime ester compound having a specific structure having a carbonyl group at a position adjacent to the C═N bond in the oxime group (> C═N—O—). In the photosensitive composition containing the agent (B) and the solvent (S), which has good sensitivity but is likely to cause a decrease in sensitivity over time, the amount of water and the content of carboxylic acid having a specific structure It was found that by limiting the value to a predetermined value or less, it is possible to suppress a decrease in sensitivity over time, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

本発明の第1の態様は、光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含む感光性組成物であって、
光重合開始剤(B)が、下記式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含み、
感光性組成物中の下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、前述と同じ。)
で表されるカルボン酸の含有量が、光重合開始剤(B)の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下であり、
前記感光性組成物中の水分の量が、前記感光性組成物全体に対して0.1質量%以下である、感光性組成物である。 A first aspect of the present invention is a photosensitive composition comprising a photopolymerizable compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a solvent (S),
The photopolymerization initiator (B) has the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
Including a compound represented by
The following formula (2) in the photosensitive composition:
R 3 COOH (2)
(In formula (2), R 3 is the same as described above.)
The content of the carboxylic acid represented by is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2),
It is a photosensitive composition whose quantity of the water | moisture content in the said photosensitive composition is 0.1 mass% or less with respect to the said whole photosensitive composition.

本発明の第2の態様は、光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)とを、溶剤(S)に溶解させることを含む感光性組成物の製造方法であって、
光重合開始剤(B)が、下記式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物であり、
前記溶剤(S)に溶解させる光重合開始剤(B)付随する水分の量が、光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下である、方法である。 A second aspect of the present invention is a method for producing a photosensitive composition comprising dissolving a photopolymerizable compound (A) and a photopolymerization initiator (B) in a solvent (S),
The photopolymerization initiator (B) has the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
A compound represented by
The amount of water accompanying the photopolymerization initiator (B) to be dissolved in the solvent (S) is 1% by mass or less based on the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of water. It is.

本発明の第3の態様は、下記式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含む光重合開始剤であって、
光重合開始剤に付随する水分の量が、光重合開始剤の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下であり、
光重合開始剤に付随する下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、
で表されるカルボン酸の含有量が、光重合開始剤の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下である、光重合開始剤である。 The third aspect of the present invention is the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
A photopolymerization initiator containing a compound represented by:
The amount of moisture accompanying the photopolymerization initiator is 1% by mass or less based on the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of moisture,
The following formula (2) associated with the photopolymerization initiator:
R 3 COOH (2)
(In Formula (2), R 3 is
The content of the carboxylic acid represented by is a photopolymerization initiator that is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2). .

本発明の第4の態様は、第3の態様にかかる光重合開始剤の調製方法であって、
光重合開始剤(B)を熱分解しない温度で遮光下に乾燥することを含む、方法である。
A fourth aspect of the present invention is a method for preparing a photopolymerization initiator according to the third aspect,
It is a method comprising drying the photopolymerization initiator (B) in a light-shielded state at a temperature at which it is not thermally decomposed.

本発明によれば、光重合性化合物(A)と、オキシム基(>C=N−O−)中のC=N結合に隣接する位置にカルボニル基を有する特定の構造のオキシムエステル化合物を含む光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含み、経時的な感度の低下が抑制された感光性組成物と、当該感光性組成物の製造方法と、当該感光性組成物に好ましく配合される光重合開始剤と、当該光重合開始剤の調製方法とを提供することができる。   The present invention includes a photopolymerizable compound (A) and an oxime ester compound having a specific structure having a carbonyl group at a position adjacent to the C═N bond in the oxime group (> C═N—O—). It is preferable for the photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (B) and the solvent (S), in which the decrease in sensitivity over time is suppressed, the method for producing the photosensitive composition, and the photosensitive composition. The photoinitiator mix | blended and the preparation method of the said photoinitiator can be provided.

≪感光性組成物≫
感光性組成物は、光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含む。
光重合開始剤(B)は、下記式(1):
≪Photosensitive composition≫
The photosensitive composition contains a photopolymerizable compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a solvent (S).
The photopolymerization initiator (B) is represented by the following formula (1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物からなる。
感光性組成物中の下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、前述と同じ。)
で表されるカルボン酸の含有量は、光重合開始剤(B)の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下であり、500質量ppbが好ましく、450質量ppbがより好ましく、420質量ppb以下が特に好ましい。
感光性組成物中の水分の量は、前記感光性組成物全体に対して0.1質量%以下であり、0.08質量%以下が好ましく、0.05質量%以下がより好ましい。
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
It consists of the compound represented by these.
The following formula (2) in the photosensitive composition:
R 3 COOH (2)
(In formula (2), R 3 is the same as described above.)
The content of the carboxylic acid represented by is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2), and 500 mass ppb. Is preferable, 450 mass ppb is more preferable, and 420 mass ppb or less is particularly preferable.
The amount of water in the photosensitive composition is 0.1% by mass or less, preferably 0.08% by mass or less, and more preferably 0.05% by mass or less with respect to the entire photosensitive composition.

式(1)で表される化合物を光重合開始剤(B)として含む感光性組成物についての経時的な感度の低下の原因について検討がなされたところ、感光性組成物中の水分と、上記式(2)で表されるカルボン酸とが、経時的な感度の低下に悪影響を及ぼしていることが見出された。
つまり、感光性組成物が以上の要件を満たすことにより、感光性組成物の経時的な感度低下が抑制される。
The cause of the decrease in sensitivity over time for the photosensitive composition containing the compound represented by formula (1) as the photopolymerization initiator (B) was studied. It has been found that the carboxylic acid represented by the formula (2) has an adverse effect on the decrease in sensitivity over time.
That is, when the photosensitive composition satisfies the above requirements, a decrease in sensitivity over time of the photosensitive composition is suppressed.

感光性組成物において、水分の量と、式(2)で表されるカルボン酸の量とを、上記所定の範囲内に維持するためには、感光性組成物を、密閉且つ遮光された容器中で、低温で保管するのが好ましい。具体的には保管時の温度は、35℃以下が好ましく、25℃以下がより好ましく、15℃以下が特に好ましく、5℃以下が最も好ましい。保管温度の下限は特に限定されないが、感光性組成物の固化が生じたり、感光性組成物の成分の析出が生じたりしない温度が好ましい。
かかる条件で感光性組成物を保管することにより、感光性組成物中の水分の量、及び式(2)で表されるカルボン酸の量の増加、特にカルボン酸の量の増加を防ぐことができる。
In the photosensitive composition, in order to maintain the amount of water and the amount of the carboxylic acid represented by the formula (2) within the predetermined range, the photosensitive composition is sealed and shielded from light. Among them, it is preferable to store at a low temperature. Specifically, the temperature during storage is preferably 35 ° C. or lower, more preferably 25 ° C. or lower, particularly preferably 15 ° C. or lower, and most preferably 5 ° C. or lower. The lower limit of the storage temperature is not particularly limited, but a temperature at which solidification of the photosensitive composition or precipitation of the components of the photosensitive composition does not occur is preferable.
By storing the photosensitive composition under such conditions, it is possible to prevent an increase in the amount of water in the photosensitive composition and an increase in the amount of the carboxylic acid represented by the formula (2), particularly an increase in the amount of the carboxylic acid. it can.

また感光性組成物について、以下のCA(質量ppb)と、CA48(質量ppb)とから、下式で算出されるカルボン酸増加率(%)が10質量%以下である光重合開始剤(B)を含む感光性組成物が好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。
上記のカルボン酸増加率(%)が小さい光重合開始剤(B)を含む感光性組成物は、経時的にカルボン酸量が増加しにくい傾向があり、これにともない感光性組成物の経時的な感度低下が抑制されやすい。
(カルボン酸増加率算出式)
カルボン酸増加率(%)=(CA48/CA−1.00)×100
(CA及びCA48の定義)
CA:製造直後の光重合開始剤(B)の質量と式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対する式(2)で表されるカルボン酸の量(質量ppb)
CA48:35℃で48時間保存された後の光重合開始剤(B)の質量と式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対する式(2)で表されるカルボン酸の量(質量ppb)
As for the photosensitive composition, the following CA 0 (mass ppb), CA 48 (mass ppb) because, carboxylic acids increase rate calculated by the following formula (%) a photopolymerization initiator or less 10 wt% The photosensitive composition containing (B) is preferable, and it is more preferable that it is 5 mass% or less.
The photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (B) having a small carboxylic acid increase rate (%) has a tendency that the amount of carboxylic acid does not easily increase with time. Sensitive reduction in sensitivity is likely to occur.
(Carboxylic acid increase rate calculation formula)
Carboxylic acid increase rate (%) = (CA 48 / CA 0 -1.00) × 100
(Definition of CA 0 and CA 48 )
CA 0 : the amount of carboxylic acid represented by formula (2) (mass ppb) relative to the sum of the mass of photopolymerization initiator (B) immediately after production and the mass of carboxylic acid represented by formula (2)
CA 48 : of the carboxylic acid represented by the formula (2) with respect to the sum of the mass of the photopolymerization initiator (B) after being stored at 35 ° C. for 48 hours and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2). Amount (mass ppb)

また、上記のCA48は、450質量ppb以下が好ましく、430質量ppb以下がより好ましく、410質量ppb以下が特に好ましく、400質量ppm以下が最も好ましい。
CA48が上記の範囲内の値である光重合開始剤(B)を含む感光性組成物は、経時的にカルボン酸量が増加しにくく、経時的な感度低下が抑制されやすい。
感光性組成物中の式(2)で表されるカルボン酸の量は、イオンクロマト法により測定可能である。
Further, the CA 48 is preferably 450 mass ppb or less, more preferably 430 mass ppb or less, particularly preferably 410 mass ppb or less, and most preferably 400 mass ppm or less.
A photosensitive composition containing a photopolymerization initiator (B) having a CA 48 value within the above range is unlikely to increase in the amount of carboxylic acid over time, and the sensitivity deterioration over time is likely to be suppressed.
The amount of carboxylic acid represented by formula (2) in the photosensitive composition can be measured by ion chromatography.

以下、感光性組成物に含まれる、必須、又は任意の成分について説明する。   Hereinafter, essential or optional components contained in the photosensitive composition will be described.

<光重合性化合物(A)>
感光性組成物は、光重合性化合物(A)を含有する。光重合性化合物(A)としては、特に限定されず、従来公知の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、エチレン性不飽和基を有する樹脂又はエチレン性不飽和基を有するモノマーが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する樹脂と、エチレン性不飽和基を有するモノマーとは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を有する樹脂とエチレン性不飽和基を有するモノマーとを組み合わせる場合は、感光性組成物の硬化性が向上し、パターン形成が容易である。
<Photopolymerizable compound (A)>
The photosensitive composition contains a photopolymerizable compound (A). It does not specifically limit as a photopolymerizable compound (A), A conventionally well-known photopolymerizable compound can be used. Among these, a resin having an ethylenically unsaturated group or a monomer having an ethylenically unsaturated group is preferable.
A resin having an ethylenically unsaturated group and a monomer having an ethylenically unsaturated group can be used in combination. When a resin having an ethylenically unsaturated group and a monomer having an ethylenically unsaturated group are combined, the curability of the photosensitive composition is improved and pattern formation is easy.

[エチレン性不飽和基を有する樹脂]
エチレン性不飽和基を有する樹脂としては、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、カルドエポキシジアクリレート等が重合したオリゴマー類;多価アルコール類と一塩基酸又は多塩基酸とを縮合して得られるポリエステルプレポリマーに(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオールと2個のイソシアネート基を持つ化合物とを反応させた後、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノール又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート樹脂等が挙げられる。さらに、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂に多塩基酸無水物を反応させた樹脂を好適に用いることができる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」は、「アクリル又はメタクリル」を意味する。
[Resin having an ethylenically unsaturated group]
As the resin having an ethylenically unsaturated group, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, ethylene Glycol monoethyl ether (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Traethylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Oligomers obtained by polymerization of pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cardoepoxy diacrylate, etc .; Polyester obtained by reacting (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing polyhydric alcohols with monobasic acid or polybasic acid ( A) acrylate; polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a polyol and a compound having two isocyanate groups and then reacting with (meth) acrylic acid; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, Bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolak type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ester, aliphatic or cycloaliphatic epoxy resin, amine epoxy resin And an epoxy (meth) acrylate resin obtained by reacting an epoxy resin such as a dihydroxybenzene type epoxy resin with (meth) acrylic acid. Furthermore, a resin obtained by reacting an epoxy (meth) acrylate resin with a polybasic acid anhydride can be suitably used. In the present specification, “(meth) acryl” means “acryl or methacryl”.

光重合性化合物(A)が、エチレン性不飽和基を有する重合体である場合、かかる重合体としては、エチレン性不飽和基を有しカルド構造を含む重合体(A’)が好ましい。
光重合性化合物(A)として、上記のカルド構造を含む重合体(A’)を用いる場合、露光による硬化性と現像性とのバランスに優れる感光性組成物を得やすく、感光性組成物が着色剤(D)を含む場合に、着色剤(D)を良好に分散させやすい。
When the photopolymerizable compound (A) is a polymer having an ethylenically unsaturated group, such a polymer is preferably a polymer (A ′) having an ethylenically unsaturated group and having a cardo structure.
When the polymer (A ′) containing the cardo structure is used as the photopolymerizable compound (A), it is easy to obtain a photosensitive composition excellent in the balance between curability and developability by exposure, and the photosensitive composition is When the colorant (D) is included, the colorant (D) is easily dispersed well.

また、エチレン性不飽和基を有する樹脂としては、エポキシ化合物と不飽和基含有カルボン酸化合物との反応物を、さらに多塩基酸無水物と反応させることにより得られる樹脂を好適に用いることができる。   As the resin having an ethylenically unsaturated group, a resin obtained by further reacting a reaction product of an epoxy compound and an unsaturated group-containing carboxylic acid compound with a polybasic acid anhydride can be preferably used. .

その中でも、下記式(a−1)で表される化合物が好ましい。下記式(a−1)で表される化合物は、前述のカルド構造を含む重合体(A’)として好適な化合物である。この式(a−1)で表される化合物は、それ自体が、光硬化性が高い点で好ましい。

Figure 2018072397
Among these, the compound represented by the following formula (a-1) is preferable. The compound represented by the following formula (a-1) is a compound suitable as the polymer (A ′) containing the above cardo structure. The compound represented by the formula (a-1) itself is preferable in terms of high photocurability.
Figure 2018072397

上記式(a−1)中、Xは、下記式(a−2)で表される基を表す。

Figure 2018072397
In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).
Figure 2018072397

上記式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Wは、単結合又は下記式(a−3)で表される基を表す。

Figure 2018072397
In the formula (a-2), R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).
Figure 2018072397

また、上記式(a−1)中、Yは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を表す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing the acid anhydride group (—CO—O—CO—) from the dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.

また、上記式(a−1)中、Zは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を表す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を表す。
Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Moreover, in said formula (a-1), m represents the integer of 0-20.

エチレン性不飽和基を有する樹脂の酸価は、樹脂固形分で、10〜150mgKOH/gであることが好ましく、70〜110mgKOH/gであることがより好ましい。酸価を10mgKOH/g以上とすることにより、現像液に対する十分な溶解性が得られるので好ましい。また、酸価を150mgKOH/g以下とすることにより、十分な硬化性を得ることができ、表面性を良好にすることができるので好ましい。   The acid value of the resin having an ethylenically unsaturated group is preferably 10 to 150 mgKOH / g, and more preferably 70 to 110 mgKOH / g, in terms of resin solids. An acid value of 10 mgKOH / g or more is preferable because sufficient solubility in a developer can be obtained. Moreover, it is preferable for the acid value to be 150 mgKOH / g or less because sufficient curability can be obtained and surface properties can be improved.

また、エチレン性不飽和基を有する樹脂の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。質量平均分子量を1000以上とすることにより、良好な耐熱性、膜強度を得ることができるので好ましい。また、質量平均分子量を40000以下とすることにより、良好な現像性を得ることができるので好ましい。   Moreover, it is preferable that it is 1000-40000, and, as for the mass mean molecular weight of resin which has an ethylenically unsaturated group, it is more preferable that it is 2000-30000. A mass average molecular weight of 1000 or more is preferable because good heat resistance and film strength can be obtained. Moreover, it is preferable for the mass average molecular weight to be 40000 or less because good developability can be obtained.

[エチレン性不飽和基を有するモノマー]
エチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
[Monomer having an ethylenically unsaturated group]
Monomers having an ethylenically unsaturated group include monofunctional monomers and polyfunctional monomers.
Monofunctional monomers include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (Meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative, and the like. These monofunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネートと、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物)、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。   On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meta Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydi Ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) Acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (that is, tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, or a reaction product of hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate), methylenebis (meth) acrylamide, (meth) Examples thereof include polyfunctional monomers such as acrylamide methylene ether, polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide condensate, and triacryl formal. These polyfunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

感光性組成物における光重合性化合物(A)の含有量は、感光性組成物中の後述する溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して10〜70質量%が好ましく、20〜65質量%がより好ましく、30〜60質量%が特に好ましい。   As for content of the photopolymerizable compound (A) in a photosensitive composition, 10-70 mass% is preferable with respect to the sum total of the mass of components other than the solvent (S) mentioned later in a photosensitive composition, 20-65. % By mass is more preferable, and 30 to 60% by mass is particularly preferable.

以上説明した光重合性化合物(A)は、感光性組成物中の水分の量と、前述の式(2)で表されるカルボン酸の含有量とが、それぞれ所定の範囲内となるように、感光性組成物の調製前に、脱水等の精製を施されているのが好ましい。   The photopolymerizable compound (A) described above is such that the amount of water in the photosensitive composition and the content of the carboxylic acid represented by the above formula (2) are within predetermined ranges. It is preferable that purification such as dehydration is performed before preparation of the photosensitive composition.

光重合性化合物(A)から水を除去する方法としては、加熱による乾燥が挙げられる。また、光重合性化合物(A)を水と共沸する有機溶剤に溶解させた後、得られた溶液から有機溶剤を留去させて、光重合性化合物(A)中の水分を低減させてもよい。
光重合性化合物(A)からカルボン酸を除去する方法としては、加熱による除去や、脱水された有機溶剤による洗浄等の方法が挙げられる。
Examples of the method for removing water from the photopolymerizable compound (A) include drying by heating. Moreover, after dissolving a photopolymerizable compound (A) in the organic solvent azeotroped with water, the organic solvent is distilled off from the obtained solution, and the water | moisture content in a photopolymerizable compound (A) is reduced. Also good.
Examples of the method for removing carboxylic acid from the photopolymerizable compound (A) include removal by heating and washing with a dehydrated organic solvent.

<光重合開始剤(B)>
感光性組成物は、光重合開始剤(B)を含む。光重合開始剤(B)は、下記式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含む。このため、感光性組成物は感度に優れる。
しかしながら、式(1)で表される化合物を光重合開始剤として含む従来知られる感光性組成物は、経時的に感度が低下しやすい場合がある。
ところが、式(1)で表される化合物を光重合開始剤として含む感光性組成物において、水分の量と、前述の式(2)で表されるカルボン酸の量とが、それぞれ所定の範囲内の少量であることにより、感光性組成物の感度の経時的な低下が抑制される。 <Photoinitiator (B)>
The photosensitive composition contains a photopolymerization initiator (B). The photopolymerization initiator (B) is represented by the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
The compound represented by these is included. For this reason, the photosensitive composition is excellent in sensitivity.
However, the sensitivity of a conventionally known photosensitive composition containing a compound represented by the formula (1) as a photopolymerization initiator is likely to decrease with time.
However, in the photosensitive composition containing the compound represented by the formula (1) as a photopolymerization initiator, the amount of water and the amount of the carboxylic acid represented by the above formula (2) are each in a predetermined range. By being a small amount of them, a decrease in the sensitivity of the photosensitive composition over time is suppressed.

光重合開始剤(B)は、式(1)で表される化合物を2種以上組み合わせて含んでいてもよい。   The photopolymerization initiator (B) may contain a combination of two or more compounds represented by the formula (1).

光重合開始剤(B)は、本発明の目的を阻害しない範囲で、式(1)で表される化合物以外の光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤(B)における、式(1)で表される化合物の含有量は、70質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましく、90質量%以上が特に好ましく、100質量%が最も好ましい。   The photopolymerization initiator (B) may contain a photopolymerization initiator other than the compound represented by the formula (1) as long as the object of the present invention is not impaired. The content of the compound represented by the formula (1) in the photopolymerization initiator (B) is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, and 100% by mass. Most preferred.

式(1)中、Rとして好適な有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。
また、Rとしてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rに含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。
In the formula (1), examples of the organic group suitable as R 1 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, An optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group , An optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.
R 1 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R 1 may have.

がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rがアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rがアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rがアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkyl group, number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R 1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R 1 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rがアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rがアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rがアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 If R 1 is an alkoxy group, number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R 1 is an alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R 1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。Rがシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rがシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples of when R 1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R 1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。Rが飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rが飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。Rがアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples in the case where R 1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, i Examples include a sononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、Rがナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。Rがフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rがナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rが、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rは、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. Moreover, when R < 1 > is a naphthyl alkyl group, 11-20 are preferable and, as for the carbon atom number of a naphthyl alkyl group, 11-14 are more preferable. Specific examples when R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R 1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Rがヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, such monocycles, or such monocycles and benzene rings are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rがヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 1 is a heterocyclyl group.

が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rと同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R 1 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, and carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R 1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated fat Group acyloxy group, alkoxycarbonyl group, phenyl group which may have a substituent, phenoxy group which may have a substituent, phenylthio group which may have a substituent, benzoyl which may have a substituent Group, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, substituted A naphthoxy group that may have a group, a naphthoyl group that may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group that may have a substituent, and a naphthoxy group that may have a substituent Substituted with a toyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group, 1 or 2 organic groups And amino group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen atom, nitro group, cyano group and the like.

に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rに含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

置換基がアルキル基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。置換基がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、置換基がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。   When a substituent is an alkyl group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. When the substituent is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when the substituent is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When the substituent is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

置換基がアルコキシ基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、置換基がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチオキシル基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、置換基がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。   When a substituent is an alkoxy group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where the substituent is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When the substituent is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

置換基がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3〜10が好ましく、炭素原子数3〜6がより好ましい。置換基がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。置換基がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

置換基が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。置換基が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。置換基が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

置換基がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。置換基がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。   When the substituent is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples when the substituent is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Seo nonyloxycarbonyl group, n- decyl oxycarbonyl group, and the like isodecyl oxycarbonyl group.

置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7〜20が好ましく、炭素原子数7〜10がより好ましい。また、置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11〜20が好ましく、炭素原子数11〜14がより好ましい。置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。   When the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent, the number of carbon atoms is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10 carbon atoms. Moreover, when a substituent is a naphthyl alkyl group which may have a substituent, C1-C20 is preferable and C1-C14 is more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where the substituent is an optionally substituted naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β -Naphthyl) ethyl group.

置換基が置換基を有してもよいヘテロシクリル基である場合、上記ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。上記ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。   When the substituent is a heterocyclyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or This is a heterocyclyl group in which a single ring and a benzene ring are condensed. In the case where the heterocyclyl group is a condensed ring, the number is 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline.

置換基が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、上記で置換基について例示したものと同様である。1又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。   When the substituent is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of organic groups include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, carbon A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Examples thereof include an alkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. It is done. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those exemplified above for the substituent. Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, and n-butyl. Amino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthyl Amino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-deca Examples thereof include a noylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。上記置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。   Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like further have a substituent in the above substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A monoalkylamino group having 1 to 6 carbon atoms; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halo Emissions atom; a nitro group; a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like contained in the above substituent further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When a phenyl group, a naphthyl group, a heterocyclyl group, and the like have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

有機基の中でも、Rとしては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among organic groups, R 1 is an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, or a phenylthio which may have a substituent on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Rとしては、−Ab1−CO−O−Ab2で表される基も好ましい。Ab1は、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ab2は、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 In addition, as R 1 , a group represented by —A b1 —CO—O—A b2 is also preferable. A b1 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A b2 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

b1がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ab1がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。 When A b1 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. When Ab1 is an alkylene group, 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkylene group, 1-6 are more preferable, and 1-4 are especially preferable.

b2の好適な例としては、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、及び炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ab2の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of A b2 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of A b2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.

−Ab1−CO−O−Ab2で表される基の好適な具体例としては、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−n−プロピルオキシカルボニルエチル基、2−n−ブチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フェノキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ブチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ペンチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ヘキシルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−ベンジルオキシカルボニル−n−プロピル基、及び3−フェノキシカルボニル−n−プロピル基等が挙げられる。 Preferred examples of the group represented by —A b1 —CO—O—A b2 include a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-ethoxycarbonylethyl group, a 2-n-propyloxycarbonylethyl group, and 2-n. -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycal Alkylsulfonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.

以上、Rについて説明したが、Rとしては、下記式(b1a)又は(b1b)で表される基が好ましい。

Figure 2018072397
(式(b1a)及び(b1b)中、R及びRはそれぞれ有機基であり、pは0〜4の整数であり、R及びRがベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、RとRとが互いに結合して環を形成してもよく、qは1〜8の整数であり、rは1〜5の整数であり、sは0〜(r+3)の整数であり、Rは有機基である。) Having described R 1, as the R 1, preferably a group represented by the following formula (b1a) or (b1b).
Figure 2018072397
(In the formulas (b1a) and (b1b), R 7 and R 8 are each an organic group, p is an integer of 0 to 4, and R 7 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring. , R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring, q is an integer of 1 to 8, r is an integer of 1 to 5, and s is an integer of 0 to (r + 3). And R 9 is an organic group.)

式(b1a)中のR及びRについての有機基の例は、Rと同様である。Rとしては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rがアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、Rはメチル基であるのが最も好ましい。
とRとが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(b1a)で表される基であって、RとRとが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(b1a)中、pは0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。
Examples of the organic group for R 7 and R 8 in the formula (b1a) are the same as those for R 1 . R 7 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R 7 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R 7 is most preferably a methyl group.
When R 7 and R 8 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (b1a) in which R 7 and R 8 form a ring include a naphthalen-1-yl group, 1,2,3,4- And tetrahydronaphthalen-5-yl group. In said formula (b1a), p is an integer of 0-4, it is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

上記式(b1b)中、Rは有機基である。有機基としては、Rについて説明した有機基と同様の基が挙げられる。
としての有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。
In the above formula (b1b), R 9 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R 1 .
Among the organic groups as R 9 , an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. R 9 is preferably exemplified by a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式(b1b)中、rは1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(b1b)中、sは0〜(r+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(b1b)中、qは1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。   In said formula (b1b), r is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (b1b), s is 0- (r + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (b1b), q is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.

式(1)中、Rは有機基である。かかる有機基としては、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基が好ましい。置換基を有してもよいアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル基が挙げられる。置換基を有してもよいヘテロアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいカルバゾリル基が挙げられる。 In formula (1), R 2 is an organic group. As such an organic group, an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent is preferable. Examples of the aryl group that may have a substituent include a phenyl group that may have a substituent. Examples of the heteroaryl group which may have a substituent include a carbazolyl group which may have a substituent.

において、アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R 2 , the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, and a saturated aliphatic group. An acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, and a substituent. A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, and a substituent A good naphthyl group, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent Good naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, amino group, 1 or 2 organic groups And an amino group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group and a cyano group substituted with

がヘテロアリール基又はカルバゾリル基である場合、ヘテロアリール基が窒素原子等のヘテロ原子上に有してもよい好適な置換基、及び、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、アルキル基が好ましく、炭素原子数1〜20のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がさらにより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R 2 is a heteroaryl group or a carbazolyl group, a suitable substituent that the heteroaryl group may have on a heteroatom such as a nitrogen atom, and a preferred case that the carbazolyl group may have on a nitrogen atom Examples of such substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, phenyl groups that may have substituents, benzoyl groups that may have substituents, and substituents. Phenoxycarbonyl group which may have, phenylalkyl group which may have substituent, naphthyl group which may have substituent, naphthoyl group which may have substituent, And a good naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, and the like. It is. Among these substituents, an alkyl group is preferable, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is still more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rについて説明したのと同様である。 Specific examples of the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, and a saturated aliphatic acyloxy group. Substituted with a group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and 1 or 2 organic groups The amino group thus prepared is the same as that described for R 1 .

上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等がさらに置換基を有する場合の置換基に関しては、Rについて説明したのと同様である。 In the above substituent, the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like further have a substituent is the same as that described for R 1 .

の中では、感光性組成物が感度に優れる点から、下記式(1−1)又は(1−2)で表される基が好ましく、下記式(1−1)で表される基がより好ましく、下記式(1−1)で表される基であって、AがSである基が特に好ましい。 Among R 2 , a group represented by the following formula (1-1) or (1-2) is preferable because the photosensitive composition is excellent in sensitivity, and a group represented by the following formula (1-1). Are more preferable, and a group represented by the following formula (1-1), in which A is S, is particularly preferable.

Figure 2018072397
(Rは、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、AはS又はOであり、nは、0〜4の整数である。)
Figure 2018072397
(R 4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen atom, nitro group, and cyano group, A is S or O, and n is an integer of 0-4. .)

Figure 2018072397
(R及びRは、それぞれ、1価の有機基である。)
Figure 2018072397
(R 5 and R 6 are each a monovalent organic group.)

感光性組成物を用いてパターンを形成する場合、パターン形成時のポストベークの工程での加熱によって、パターンに着色が生じやすい。しかし、感光性組成物において、光重合開始剤として、Rが上記式(1−1)で表される基であって、AがSである基である、式(1)で表されるオキシムエステル化合物を用いる場合、加熱によるパターンの着色を抑制しやすい。 When a pattern is formed using the photosensitive composition, the pattern is likely to be colored by heating in the post-baking step during pattern formation. However, in the photosensitive composition, as a photopolymerization initiator, R 2 is a group represented by the above formula (1-1), and A is a group in which S is represented by the formula (1). When using an oxime ester compound, it is easy to suppress coloring of the pattern by heating.

式(1−1)におけるRが有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(1−1)においてRが有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。 When R 4 in Formula (1-1) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples in the case where R 4 is an organic group in formula (1-1) include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; and a saturation having 2 to 7 carbon atoms. Aliphatic acyl group; alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms , A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; carbon A dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 atoms; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group.

の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In R 4 , substituted by a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式(1−1)において、nは、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1であるのが特に好ましい。nが1である場合、Rの結合する位置は、Rが結合するフェニル基が原子Aと結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In formula (1-1), n is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. when n is 1, the binding position of R 4 is, relative to the bond to the phenyl group R 4 is bonded is bonded to the atom A, it is preferably in the para position.

式(1−2)におけるRは、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rの好適な例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R 5 in the formula (1-2) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferred examples of R 5 include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. Alkoxyalkyl group, C2-C20 alkoxycarbonyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, substituted A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a naphthoxy which may have a substituent Examples thereof include a carbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, and an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group.

の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基又は炭素原子数2〜20のアルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基又は炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基がより好ましく、エチル基又はエトキシエチル基が特に好ましい。 Among R 5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms is preferable. More preferred is an ethyl group or an ethoxyethyl group.

式(1−2)におけるRは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rとして好適な基の具体例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rとして、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有してもよいチエニル基がより好ましく、2−メチルフェニル基又はチエニル基が特に好ましい。 R 6 in formula (1-2) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. The heterocyclyl group which may be sufficient is mentioned. Among these groups, R 6 is preferably a phenyl group which may have a substituent or a thienyl group which may have a substituent, and particularly preferably a 2-methylphenyl group or a thienyl group.

、R、又はRに含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。R、R、又はRに含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。R、R、又はRに含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atom. 6 alkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms, alkyl having 1 to 6 carbon atoms And a monoalkylamino group having a group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(1)中、Rは有機基である。有機基としては特に限定されないが、アルキル基、アリール基が好ましい。アルキル基としては炭素原子数1〜11のアルキル基が好ましい。アリール基としては、置換基を有してもよいフェニル基である。置換基を有してもよいフェニル基における置換基は、Rについて説明した置換基と同様である。
としては炭素原子数1〜6のアルキル基、及びフェニル基がより好ましく、メチル基、エチル基、及びフェニル基が特に好ましく、メチル基、及びエチル基が最も好ましい。
In formula (1), R 3 is an organic group. Although it does not specifically limit as an organic group, An alkyl group and an aryl group are preferable. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms is preferable. The aryl group is a phenyl group which may have a substituent. The substituent in the phenyl group which may have a substituent is the same as the substituent described for R 1 .
R 3 is more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group, particularly preferably a methyl group, an ethyl group and a phenyl group, and most preferably a methyl group and an ethyl group.

式(1)で表される光重合開始剤としては、下記式(b1)で表されるオキシム系化合物を用いることも好ましい。

Figure 2018072397
(Rb1は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、
n1は0〜4の整数であり、
b2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
b3は、水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。) As the photopolymerization initiator represented by the formula (1), it is also preferable to use an oxime compound represented by the following formula (b1).
Figure 2018072397
(R b1 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group;
n1 is an integer of 0 to 4,
R b2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent,
R b3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. )

式(b1)中、Rb1は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rb1が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。n1が2〜4の整数である場合、Rb1は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。 In formula (b1), R b1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R b1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent A naphthoxycarbonyl group which may have a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, Examples include an amino group substituted with an mino group, 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When n1 is an integer of 2 to 4, R b1 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent that the substituent further has.

b1がアルキル基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rb1がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rb1がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rb1がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R b1 is an alkyl group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R b1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R b1 is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R b1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

b1がアルコキシ基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rb1がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rb1がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rb1がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R b1 is an alkoxy group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R b1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R b1 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. When R b1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

b1がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3〜10が好ましく、炭素原子数3〜6がより好ましい。Rb1がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rb1がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R b1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples of when R b1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where R b1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group, and the like.

b1が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rb1が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rb1が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R b1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples when R b1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R b1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

b1がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rb1がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When Rb1 is an alkoxycarbonyl group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R b1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxylcarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group , Isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group and the like.

b1がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7〜20が好ましく、炭素原子数7〜10がより好ましい。またRb1がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11〜20が好ましく、炭素原子数11〜14がより好ましい。Rb1がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rb1がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rb1が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rb1は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R b1 is a phenylalkyl group, 7 to 20 carbon atoms are preferable, and 7 to 10 carbon atoms are more preferable. In addition, when R b1 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably 11 to 20, and more preferably 11 to 14 carbon atoms. Specific examples in the case where R b1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R b1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R b1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R b1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

b1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Rb1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R b1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing 1 or more of N, S, and O, or such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When R b1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

b1が1、又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rb1と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R b1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, preferred examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, carbon A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Examples thereof include an alkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. It is done. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R b1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

b1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rb1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rb1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R b1 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R b1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R b1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

b1の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、及び炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。 Among R b1 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 1 carbon atoms, because it is chemically stable, has few steric hindrances, and is easy to synthesize an oxime ester compound. A group selected from the group consisting of 6 alkoxy groups and saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms is preferred, alkyls having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and methyl groups are particularly preferred.

b1がフェニル基に結合する位置は、Rb1が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を1位とし、メチル基の位置を2位とする場合に、4位、又は5位が好ましく、5位がよりに好ましい。また、n1は、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0、又は1が特に好ましい。 Position R b1 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R b1 are attached the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group 4th or 5th is preferable, and 5th is more preferable. N1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.

b2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Rb2が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数1〜6のアルキル基で置換されていてもよい。 R b2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. Further, when R b2 is a carbazolyl group which may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

b2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R b2 , the substituent that the phenyl group or carbazolyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the phenyl group or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 3 carbon atoms. -10 cycloalkyl group, C3-C10 cycloalkoxy group, C2-C20 saturated aliphatic acyl group, C2-C20 alkoxycarbonyl group, C2-C20 saturated Aliphatic acyloxy group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted phenylthio group, optionally substituted benzoyl group, substituted A phenoxycarbonyl group which may have a group, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. Naphthyl A naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a substituent A naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a group, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, 1 or 2 organic groups Examples include an amino group substituted with a group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group.

b2がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R b2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, and a substituent. A phenoxycarbonyl group which may have, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent; Heterogeneity And a krylcarbonyl group. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1、又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rb1と同様である。 Specific examples of the substituent that the phenyl group or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. With respect to an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and an amino group substituted with one or two organic groups , R b1 .

b2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent when the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent of the phenyl group or carbazolyl group in R b2 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; Benzoyl group; benzoyl group; benzoyl substituted by a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Examples include a holin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent of the phenyl group or carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

b2の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式(b2)、又は(b3)で表される基が好ましく、下記式(b2)で表される基がより好ましく、下記式(b2)で表される基であって、AがSである基が特に好ましい。 Among R b2 , a group represented by the following formula (b2) or (b3) is preferable, and a group represented by the following formula (b2) is more preferable from the viewpoint of easily obtaining a photopolymerization initiator having excellent sensitivity. A group represented by the following formula (b2) in which A is S is particularly preferable.

Figure 2018072397
(Rb4は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、AはS又はOであり、n2は、0〜4の整数である。)
Figure 2018072397
(R b4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, A is S or O, and n2 is an integer of 0 to 4. is there.)

Figure 2018072397
(Rb5及びRb6は、それぞれ、1価の有機基である。)
Figure 2018072397
(R b5 and R b6 are each a monovalent organic group.)

式(b2)におけるRb4が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(b2)においてRb4が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。 When R b4 in the formula (b2) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. In the formula (b2), when R b4 is an organic group, preferred examples include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms. An acyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a -1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A dialkylamino group having 1 to 6 alkyl groups; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group.

b4の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In R b4 , substituted by a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式(b2)において、n2は、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0、又は1であるのが特に好ましい。n2が1である場合、Rb4の結合する位置は、Rb4が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In formula (b2), n2 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. If n2 is 1, the binding position of R b4, relative bond which the phenyl group R b4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom, it is preferably in the para position.

式(b3)におけるRb5は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rb5の好適な例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜
20のアルコキシアルキル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。
R b5 in formula (b3) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferred examples of R b5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms.
20 alkoxyalkyl groups, C2-C20 alkoxycarbonyl groups, optionally substituted phenyl groups, optionally substituted benzoyl groups, optionally substituted phenoxycarbonyl groups , A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, and an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group. It is done.

b5の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基、又は炭素原子数2〜20のアルコキシアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基がより好ましく、エチル基、又はエトキシエチル基が特に好ましい。 Among R b5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxyalkyl having 2 to 6 carbon atoms. A group is more preferable, and an ethyl group or an ethoxyethyl group is particularly preferable.

式(b3)におけるRb6は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rb6として好適な基の具体例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rb6として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいチエニル基がより好ましく、2−メチルフェニル基、又はチエニル基が特に好ましい。 R b6 in formula (b3) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R b6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. The heterocyclyl group which may be sufficient is mentioned. Among these groups, R b6 is preferably a phenyl group which may have a substituent, or a thienyl group which may have a substituent, and particularly preferably a 2-methylphenyl group or a thienyl group.

b4、Rb5、又はRb6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rb4、Rb5、又はRb6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rb4、Rb5、又はRb6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R b4 , R b5 , or R b6 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atom. 6 alkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms, alkyl having 1 to 6 carbon atoms And a monoalkylamino group having a group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R b4 , R b5 , or R b6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R b4 , R b5 , or R b6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(b1)におけるRb3は、水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。Rb3としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 R b3 in Formula (b1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R b3 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

式(b1)で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のPI−1〜PI−42が挙げられる。

Figure 2018072397
Among the oxime ester compounds represented by the formula (b1), the following PI-1 to PI-42 are particularly preferable compounds.
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

また、下記式(b4)で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として好ましい。   Moreover, the oxime ester compound represented by a following formula (b4) is also preferable as a photoinitiator.

Figure 2018072397
(Rb7は水素原子、ニトロ基又は1価の有機基であり、Rb8及びRb9は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Rb8とRb9とは相互に結合して環を形成してもよく、Rb10は1価の有機基であり、Rb11は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、n3は0〜4の整数である。)
Figure 2018072397
(R b7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, and R b8 and R b9 are each a chain alkyl group which may have a substituent, or a cyclic organic which may have a substituent. R b8 and R b9 may be bonded to each other to form a ring, R b10 is a monovalent organic group, R b11 has a hydrogen atom and a substituent. And may be an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent, and n3 is an integer of 0 to 4.)

ここで、式(b4)のオキシムエステル化合物を製造するためのオキシム化合物としては、下式(b5)で表される化合物が好適である。   Here, as the oxime compound for producing the oxime ester compound of the formula (b4), a compound represented by the following formula (b5) is suitable.

Figure 2018072397
(Rb7、Rb8、Rb9、Rb10、及びn3は、式(b4)と同様である。)
Figure 2018072397
(R b7 , R b8 , R b9 , R b10 , and n3 are the same as in formula (b4).)

式(b4)及び(b5)中、Rb7は、水素原子、ニトロ基又は1価の有機基である。Rb7は、式(b4)中のフルオレン環上で、カルボニル基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。式(b4)中、Rb7のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式(b4)で表される化合物が1以上のRb7を有する場合、式(b4)で表される化合物の合成が容易であること等から、1以上のRb7のうちの1つがフルオレン環中の2位に結合するのが好ましい。Rb7が複数である場合、複数のRb7は同一であっても異なっていてもよい。 In formulas (b4) and (b5), R b7 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R b7 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the carbonyl group on the fluorene ring in formula (b4). In formula (b4), the bonding position of R b7 to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by the formula (b4) has one or more R b7 , one of the one or more R b7 is a fluorene ring because synthesis of the compound represented by the formula (b4) is easy. Bonding at the 2-position is preferable. If R b7 is plural, R b7 may be different even in the same.

b7が有機基である場合、Rb7は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rb7が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。 When R b7 is an organic group, R b7 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R b7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent An optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, Examples include a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.

b7がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rb7がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rb7がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rb7がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R b7 is an alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Further, when R b7 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R b7 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. When R b7 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

b7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rb7がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rb7がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rb7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R b7 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1-20, and more preferably 1-6. Further, when R b7 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R b7 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R b7 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

b7がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。Rb7がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rb7がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R b7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples when R b7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R b7 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

b7が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。Rb7が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rb7が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R b7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R b7 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R b7 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

b7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。Rb7がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R b7 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples when R b7 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Examples include an isononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

b7がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、Rb7がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。Rb7がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rb7がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rb7が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rb7は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R b7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. When R b7 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11-20, and more preferably 11-14. Specific examples when R b7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R b7 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R b7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R b7 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

b7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Rb7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R b7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles are fused with each other or with such a monocycle and a benzene ring. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R b7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

b7がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rb7がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R b7 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R b7 is a heterocyclyl group.

b7が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rb7と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R b7 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R b7 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

b7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rb7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rb7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R b7 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R b7 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R b7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上説明した基の中でも、Rb7としては、ニトロ基、又はRb12−CO−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Rb12は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rb12として好適な基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rb12として、これらの基の中では、2−メチルフェニル基、チオフェン−2−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、Rb7が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Rb7が水素原子であり且つRb10が後述の式(b4a)又は(b4b)で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。
Among the groups described above, R b7 is preferably a nitro group or a group represented by R b12 —CO— because the sensitivity tends to be improved. R b12 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and can be selected from various organic groups. Examples of a group suitable as R b12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. Among these groups, Rb12 is particularly preferably a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group.
Moreover, it is preferable that R b7 is a hydrogen atom because transparency tends to be good. When R b7 is a hydrogen atom and R b10 is a group represented by the following formula (b4a) or (b4b), the transparency tends to be better.

式(b4)中、Rb8及びRb9は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Rb8とRb9とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Rb8及びRb9として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Rb8及びRb9が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In formula (b4), R b8 and R b9 each represent a chain alkyl group that may have a substituent, a cyclic organic group that may have a substituent, or a hydrogen atom. R b8 and R b9 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, R b8 and R b9 are preferably chain alkyl groups which may have a substituent. When R b8 and R b9 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a linear alkyl group or a branched alkyl group.

b8及びRb9が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。Rb8及びRb9が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rb8及びRb9がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R b8 and R b9 are chain alkyl groups having no substituent, the chain alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Specific examples in the case where R b8 and R b9 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group and the like. When R b8 and R b9 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

b8及びRb9が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Rb7がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Rb7がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Rb7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。
When R b8 and R b9 are a chain alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as the preferred examples when R b7 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as the preferred examples when R b7 is a heterocyclyl group. When R b7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable.

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1〜20であり、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。   When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, and more preferably 1-6.

b8及びRb9が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Rb8及びRb9が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Rb8及びRb9が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R b8 and R b9 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R b8 and R b9 are cyclic organic groups, the substituent that the cyclic organic group may have is the same as in the case where R b8 and R b9 are chain alkyl groups.

b8及びRb9が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R b8 and R b9 are aromatic hydrocarbon groups, is the aromatic hydrocarbon group a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond? A group formed by condensation of a plurality of benzene rings is preferred. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by combining or condensing a plurality of benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

b8及びRb9が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R b8 and R b9 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Although the carbon atom number of an aliphatic cyclic hydrocarbon group is not specifically limited, 3-20 are preferable and 3-10 are more preferable. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, Examples include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.

b8及びRb9がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 When R b8 and R b9 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or such monocycles and a benzene ring. And a condensed heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done.

b8とRb9とは相互に結合して環を形成してもよい。Rb8とRb9とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Rb8とRb9とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R b8 and R b9 may be bonded to each other to form a ring. The group formed by the ring formed by R b8 and R b9 is preferably a cycloalkylidene group. When R b8 and R b9 are bonded to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.

b8とRb9とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R b8 and R b9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.

以上説明したRb8及びRb9の中でも好適な基の例としては、式−A−Aで表される基が挙げられる。式中、Aは直鎖アルキレン基であり、Aは、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Examples of suitable groups among R b8 and R b9 described above include groups represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。Aがアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。Aがハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Aがハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aが環状有機基である場合、環状有機基の例は、Rb8及びRb9が置換基として有する環状有機基と同様である。Aがアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Rb8及びRb9が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms in a straight chain alkylene group A 1 is 1 to 10 preferably 1 to 6 is more preferable. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R b8 and R b9 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group that R b8 and R b9 have as a substituent.

b8及びRb9の好適な具体例としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基等のアルキル基;2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、5−メトキシ−n−ペンチル基、6−メトキシ−n−ヘキシル基、7−メトキシ−n−ヘプチル基、8−メトキシ−n−オクチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、5−エトキシ−n−ペンチル基、6−エトキシ−n−ヘキシル基、7−エトキシ−n−ヘプチル基、及び8−エトキシ−n−オクチル基等のアルコキシアルキル基;2−シアノエチル基、3−シアノ−n−プロピル基、4−シアノ−n−ブチル基、5−シアノ−n−ペンチル基、6−シアノ−n−ヘキシル基、7−シアノ−n−ヘプチル基、及び8−シアノ−n−オクチル基等のシアノアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、6−フェニル−n−ヘキシル基、7−フェニル−n−ヘプチル基、及び8−フェニル−n−オクチル基等のフェニルアルキル基;2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基、5−シクロヘキシル−n−ペンチル基、6−シクロヘキシル−n−ヘキシル基、7−シクロヘキシル−n−ヘプチル基、8−シクロヘキシル−n−オクチル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチル−n−プロピル基、4−シクロペンチル−n−ブチル基、5−シクロペンチル−n−ペンチル基、6−シクロペンチル−n−ヘキシル基、7−シクロペンチル−n−ヘプチル基、及び8−シクロペンチル−n−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、4−メトキシカルボニル−n−ブチル基、5−メトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−メトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−メトキシカルボニル−n−ヘプチル基、8−メトキシカルボニル−n−オクチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、4−エトキシカルボニル−n−ブチル基、5−エトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−エトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−エトキシカルボニル−n−ヘプチル基、及び8−エトキシカルボニル−n−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2−クロロエチル基、3−クロロ−n−プロピル基、4−クロロ−n−ブチル基、5−クロロ−n−ペンチル基、6−クロロ−n−ヘキシル基、7−クロロ−n−ヘプチル基、8−クロロ−n−オクチル基、2−ブロモエチル基、3−ブロモ−n−プロピル基、4−ブロモ−n−ブチル基、5−ブロモ−n−ペンチル基、6−ブロモ−n−ヘキシル基、7−ブロモ−n−ヘプチル基、8−ブロモ−n−オクチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferred specific examples of R b8 and R b9 include an alkyl group such as an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, and an n-octyl group; Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkoxyalkyl groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n − Cyanoalkyl groups such as an nyl group, a 6-cyano-n-hexyl group, a 7-cyano-n-heptyl group, and an 8-cyano-n-octyl group; a 2-phenylethyl group, a 3-phenyl-n-propyl group Phenylalkyl such as 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group Groups: 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n- Heptyl, 8-cyclohexyl-n-octyl, 2-cyclopentylethyl, 3-cyclopentyl-n-propyl, 4-cyclopent Cycloalkylalkyl groups such as ru-n-butyl, 5-cyclopentyl-n-pentyl, 6-cyclopentyl-n-hexyl, 7-cyclopentyl-n-heptyl, and 8-cyclopentyl-n-octyl; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxy Carbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n -Pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxy Alkoxycarbonylalkyl groups such as rubonyl-n-heptyl and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl; 2-chloroethyl, 3-chloro-n-propyl, 4-chloro-n-butyl, 5-chloro -N-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo -N-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoro Examples thereof include a propyl group and a halogenated alkyl group such as 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

b8及びRb9として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−フェニルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基である。 Among R b8 and R b9 , preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-hepta A fluoro-n-pentyl group;

b10の好適な有機基の例としては、Rb7と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Rb7について説明したものと同様である。また、Rb10としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rb7に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Examples of suitable organic groups for R b10 are the same as R b7 , alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups, substituents. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent Group, an optionally substituted heterocyclyl group, 1, or an amino group substituted with two organic groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R b7 . R b10 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R b7 may have.

有機基の中でも、Rb10としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among organic groups, as R b10 , an alkyl group, a cycloalkyl group, an optionally substituted phenyl group, or a cycloalkylalkyl group, or an optionally substituted phenylthio group on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

また、Rb10としては、−A−CO−O−Aで表される基も好ましい。Aは、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Aは、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 Further, as R b10 , a group represented by —A 3 —CO—O—A 4 is also preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aがアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。 When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. If A 3 is an alkylene group, number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, 1 to 4 are particularly preferred.

の好適な例としては、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、及び炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられる。Aの好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of A 4 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of A 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.

−A−CO−O−Aで表される基の好適な具体例としては、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−n−プロピルオキシカルボニルエチル基、2−n−ブチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フェノキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ブチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ペンチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ヘキシルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−ベンジルオキシカルボニル−n−プロピル基、及び3−フェノキシカルボニル−n−プロピル基等が挙げられる。 Preferred examples of the group represented by —A 3 —CO—O—A 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.

以上、Rb10について説明したが、Rb10としては、下記式(b4a)又は(b4b)で表される基が好ましい。

Figure 2018072397
(式(b4a)及び(b4b)中、Rb13及びRb14はそれぞれ有機基であり、n4は0〜4の整数であり、Rb13及びRがベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Rb13とRb14とが互いに結合して環を形成してもよく、n5は1〜8の整数であり、n6は1〜5の整数であり、n7は0〜(n6+3)の整数であり、Rb15は有機基である。) Having described R b10, as the R b10, preferably a group represented by the following formula (b4a) or (B4b).
Figure 2018072397
(In the formula (b4a) and (B4b), R b13 and R b14 are each an organic group, n4 is an integer of 0 to 4, when R b13 and R 8 are present in adjacent positions on the benzene ring , R b13 and R b14 may be bonded to each other to form a ring, n5 is an integer of 1 to 8, n6 is an integer of 1 to 5, and n7 is an integer of 0 to (n6 + 3). And R b15 is an organic group.)

式(b4a)中のRb13及びRb14についての有機基の例は、Rb7と同様である。Rb13としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rb13がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、Rb13はメチル基であるのが最も好ましい。Rb13とRb14とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(b4a)で表される基であって、Rb13とRb14とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(b4a)中、n4は0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。 Examples of the organic groups for R b13 and R b14 in the formula (b4a) is the same as R b7. R b13 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R b13 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R b13 is most preferably a methyl group. When R b13 and R b14 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. A group represented by the formula (b4a), preferred examples of the groups and R b13 and R b14 form a ring, and naphthalene-1-yl group, 1,2,3,4 And tetrahydronaphthalen-5-yl group. In said formula (b4a), n4 is an integer of 0-4, It is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

上記式(b4b)中、Rb15は有機基である。有機基としては、Rb7について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rb15としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (b4b), R b15 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R b7 . Of the organic groups, an alkyl group is preferred. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. As R b15 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.

上記式(b4b)中、n6は1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(b4b)中、n7は0〜(n6+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(b4b)中、n5は1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。   In said formula (b4b), n6 is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (b4b), n7 is 0- (n6 + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (b4b), n5 is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.

式(b4)中、Rb11は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Rb11がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Rb7がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In formula (b4), R b11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be present when R b11 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. In addition, preferred examples of the substituent that may be present when R b7 is an aryl group include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom.

式(b4)中、Rb11としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (b4), Rb11 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group, or the like. Among these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.

式(b4)で表される化合物は、前述の式(b5)で表される化合物に含まれるオキシム基(>C=N−OH)を、>C=N−O−CORb11で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。Rb11は、式(b4)中のRb11と同様である。 The compound represented by the formula (b4) represents an oxime group (> C═N—OH) contained in the compound represented by the above formula (b5) by> C═N—O—COR b11. It is produced by a method including a step of converting to an oxime ester group. R b11 are the same as R b11 in the formula (b4).

オキシム基(>C=N−OH)の、>C=N−O−CORb11で表されるオキシムエステル基への変換は、前述の式(b5)で表される化合物と、アシル化剤とを反応させることにより行われる。
−CORb11で表されるアシル基を与えるアシル化剤としては、(Rb11CO)Oで表される酸無水物や、Rb11COHal(Halはハロゲン原子)で表される酸ハライドが挙げられる。
The conversion of the oxime group (> C═N—OH) to the oxime ester group represented by> C═N—O—COR b11 involves conversion of the compound represented by the above formula (b5), an acylating agent, It is performed by reacting.
The acylating agent to give the acyl group represented by -COR b11, (R b11 CO) 2 or an acid anhydride represented by O, R b11 COHal (Hal is a halogen atom) include acid halide represented by It is done.

一般式(b4)で表される化合物は、例えば、下記スキーム1に従って合成することができる。スキーム1では、下記式(b4−1)で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。Rb7がニトロ基又は1価の有機基である場合、式(b4−1)で表されるフルオレン誘導体は、9位をRb8及びRb9で置換されたフルオレン誘導体に、周知の方法によって、置換基Rb7を導入して得ることができる。9位をRb8及びRb9で置換されたフルオレン誘導体は、例えば、Rb8及びRb9がアルキル基である場合、特開平06−234668号公報に記載されるように、アルカリ金属水酸化物の存在下に、非プロトン性極性有機溶媒中で、フルオレンとアルキル化剤とを反応させて得ることができる。また、フルオレンの有機溶媒溶液中に、ハロゲン化アルキルのようなアルキル化剤と、アルカリ金属水酸化物の水溶液と、ヨウ化テトラブチルアンモニウムやカリウムtert−ブトキシドのような相間移動触媒とを添加してアルキル化反応を行うことで、9,9−アルキル置換フルオレンを得ることができる。 The compound represented by the general formula (b4) can be synthesized, for example, according to the following scheme 1. In Scheme 1, a fluorene derivative represented by the following formula (b4-1) is used as a raw material. When R b7 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (b4-1) is converted into a fluorene derivative substituted at the 9-position with R b8 and R b9 by a known method. It can be obtained by introducing the substituent R b7 . The fluorene derivative substituted at the 9-position with R b8 and R b9 is, for example, an alkali metal hydroxide when R b8 and R b9 are alkyl groups, as described in JP-A-06-234668. It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in the presence of an aprotic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene. By performing the alkylation reaction, 9,9-alkyl-substituted fluorene can be obtained.

式(b4−2)で表されるフルオレン誘導体は、式(b4−1)で表される化合物に、フリーデルクラフツ反応によって−CO−CH−Rb10で表されるアシル基を導入して得られる。アシル基を導入するためのアシル化剤は、ハロカルボニル化合物であってもよく、酸無水物であってもよい。アシル化剤としては、式(b4−7):Hal−CO−CH−Rb10で表されるカルボン酸ハライドが好ましい。式(b4−7)中、Halはハロゲン原子である。フルオレン環上にアシル基が導入される位置は、フリーデルクラフツ反応の条件を適宜変更したり、アシル化される位置の他の位置に保護及び脱保護を施したりする方法で、選択することができる。 Fluorene derivative represented by the formula (b4-2) is a compound represented by the formula (b4-1), by introducing the acyl group represented by -CO-CH 2 -R b10 by Friedel-Crafts reaction can get. The acylating agent for introducing the acyl group may be a halocarbonyl compound or an acid anhydride. The acylating agent of the formula (b4-7): the carboxylic acid halide is preferably represented by Hal-CO-CH 2 -R b10 . In formula (b4-7), Hal is a halogen atom. The position at which the acyl group is introduced on the fluorene ring can be selected by changing the Friedel-Crafts reaction conditions as appropriate, or by performing protection and deprotection at other positions where acylation is performed. it can.

次いで、式(b4−2)で表される化合物中の、Rb10とカルボニル基との間に存在するメチレン基をオキシム化して、下式(b4−4)で表されるケトオキシム化合物を得る。メチレン基をオキシム化する方法は特に限定されないが、塩酸の存在下に下記式(b4−3)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基。)を反応させる方法が好ましい。
次いで、下記式(b4−4)で表されるケトオキシム化合物と、下記式(b4−5)で表される酸無水物(Rb11CO)O)、又は下記式(b4−6)で表される酸ハライド(Rb11COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、式(b4)で表される化合物を得ることができる。
なお、下記式(b4−1)、(b4−3)、(b4−4)、(b4−5)、及び(b4−6)において、Rb7、Rb8、Rb9、Rb10、Rb11、及びn3、式(b4)と同様である。
Subsequently, the methylene group present between R b10 and the carbonyl group in the compound represented by the formula (b4-2) is oximed to obtain a ketoxime compound represented by the following formula (b4-4). Although the method for oximation of the methylene group is not particularly limited, a nitrite ester (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) represented by the following formula (b4-3) is reacted in the presence of hydrochloric acid. The method of making it preferable is.
Next, a ketoxime compound represented by the following formula (b4-4) and an acid anhydride (R b11 CO) 2 O) represented by the following formula (b4-5) or the following formula (b4-6) The compound represented by the formula (b4) can be obtained by reacting with an acid halide (R b11 COHal, Hal is a halogen atom).
In the following formulas (b4-1), (b4-3), (b4-4), (b4-5), and (b4-6), R b7 , R b8 , R b9 , R b10 , R b11 , And n3 are the same as in formula (b4).

また、スキーム1において、式(b4−6)、式(b4−2)、及び式(b4−4)それぞれに含まれるRb10は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式(b4−6)、式(b4−2)、及び式(b4−4)中のRb10は、スキーム1として示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。Rb10が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 In scheme 1, R b10 contained in each of formula (b4-6), formula (b4-2), and formula (b4-4) may be the same or different. That is, R b10 in formula (b4-6), formula (b4-2), and formula (b4-4) may be chemically modified in the synthesis process shown as Scheme 1. Examples of chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group, and the like. The chemical modification that R b10 may undergo is not limited thereto.

<スキーム1>

Figure 2018072397
<Scheme 1>
Figure 2018072397

式(b4)で表される化合物の好適な具体例としては、以下のPI−43〜PI−76が挙げられる。

Figure 2018072397
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (b4) include the following PI-43 to PI-76.
Figure 2018072397

Figure 2018072397
Figure 2018072397

光重合開始剤(B)は、前述の通り、式(1)で表される化合物以外の他の光重合開始剤を含んでいてもよい。
他の光重合開始剤としては、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−(ベンゾイルオキシイミノ)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1−オクタノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン等が挙げられる。これらの他の光重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
As described above, the photopolymerization initiator (B) may contain another photopolymerization initiator other than the compound represented by the formula (1).
Specific examples of other photopolymerization initiators include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl. ] -2-Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2 -Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio ) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, -(Benzoyloxyimino) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1-octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid Acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl- β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2- The Lothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobuty Ronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl Dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl- 4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p -Dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4- Phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, Dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- ( 9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, -[2- (3,4-Dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s- Triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2- Romo-4-methoxy) styrylphenyl -s- triazine. These other photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

また、式(1−I)で表されるオキシムエステル化合物も、式(1)で表される化合物以外の他の光重合開始剤として好ましい。

Figure 2018072397
(式(1−I)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。) Moreover, the oxime ester compound represented by Formula (1-I) is also preferable as a photopolymerization initiator other than the compound represented by Formula (1).
Figure 2018072397
(In formula (1-I), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)

式(1−I)で表されるオキシムエステル化合物の中では、下記式(b1−I)で表される化合物、及び式(b4−I)で表される化合物が好ましい。

Figure 2018072397
(式(b1−I)中、Rb1、Rb2、Rb3、及びn1は、前述の式(b1)と同様である。) Among the oxime ester compounds represented by the formula (1-I), a compound represented by the following formula (b1-I) and a compound represented by the formula (b4-I) are preferable.
Figure 2018072397
(In formula (b1-I), R b1 , R b2 , R b3 , and n1 are the same as those in formula (b1) described above.)

Figure 2018072397
(式(b4−I)中、Rb7、Rb8、Rb9、Rb10、Rb11、及びn3は前述の式(b4)と同様である。)
Figure 2018072397
(In formula (b4-I), R b7 , R b8 , R b9 , R b10 , R b11 , and n3 are the same as those in the above-described formula (b4).)

前述の通り、感光性組成物中の水分の量は、感光性組成物全体に対して0.1質量%以下である。このため、光重合開始剤(B)に付随する水分の量は、光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下である必要がある。
ここで光重合開始剤(B)に付随する水分とは、固体である光重合開始剤(B)の表面に付着する水分や、水和のように分子レベルで光重合開始剤(B)に取り込まれた水分を意味する。
As above-mentioned, the quantity of the water | moisture content in a photosensitive composition is 0.1 mass% or less with respect to the whole photosensitive composition. For this reason, the quantity of the water | moisture content accompanying a photoinitiator (B) needs to be 1 mass% or less with respect to the sum total of the mass of a photoinitiator (B) and the mass of a water | moisture content.
Here, the water accompanying the photopolymerization initiator (B) is the water adhering to the surface of the photopolymerization initiator (B) that is a solid, or the photopolymerization initiator (B) at the molecular level such as hydration. It means the moisture taken in.

光重合開始剤(B)に付随する水分の量を、光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下に低減させる方法は特に限定されない。かかる方法としては、光重合開始剤(B)を、熱分解しない温度(例えば100℃以下であり、好ましくは80℃以下)で遮光下に乾燥する方法が好ましい。乾燥は減圧条件下での乾燥方法が好ましい。乾燥時間は特に限定されないが、例えば1時間〜120時間であり、好ましくは10時間〜100時間である。
また、光重合開始剤(B)を水と共沸する有機溶剤に溶解させた溶液から溶媒を留去させて光重合開始剤(B)を回収することによっても水分の量が低減された光重合開始剤(B)を得ることができる。
The method for reducing the amount of water accompanying the photopolymerization initiator (B) to 1% by mass or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of water is not particularly limited. As such a method, a method in which the photopolymerization initiator (B) is dried under light shielding at a temperature at which it is not thermally decomposed (for example, 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower) is preferable. Drying is preferably carried out under reduced pressure. Although drying time is not specifically limited, For example, they are 1 hour-120 hours, Preferably they are 10 hours-100 hours.
In addition, light whose amount of water has been reduced can also be obtained by recovering the photopolymerization initiator (B) by distilling off the solvent from a solution obtained by dissolving the photopolymerization initiator (B) in an organic solvent azeotropic with water. A polymerization initiator (B) can be obtained.

また、光重合開始剤(B)に付随する式(2)で表されるカルボン酸の量は、光重合開始剤(B)の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下である必要がある。
光重合開始剤(B)に付随する式(2)で表されるカルボン酸の量を低減させる方法としては、例えば、再結晶による精製や、有機溶剤による洗浄等が挙げられる。
Further, the amount of the carboxylic acid represented by the formula (2) attached to the photopolymerization initiator (B) is the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2). It is necessary that it is 550 mass ppb or less with respect to the sum total.
Examples of the method for reducing the amount of the carboxylic acid represented by the formula (2) attached to the photopolymerization initiator (B) include purification by recrystallization and washing with an organic solvent.

光重合開始剤(B)の含有量は、感光性組成物中の後述する溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して、0.5〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましい。光重合開始剤(B)の含有量を上記の範囲とすることにより、好感度であって、パターン形状の不良が生じにくい感光性組成物を得ることができる。   It is preferable that content of a photoinitiator (B) is 0.5-30 mass% with respect to the sum total of mass of components other than the solvent (S) mentioned later in a photosensitive composition, More preferably, it is 20 mass%. By setting the content of the photopolymerization initiator (B) in the above range, it is possible to obtain a photosensitive composition that has good sensitivity and is less likely to cause a defective pattern shape.

また、光重合開始剤(B)に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−5−メトキシベンゾチアゾール、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、3−メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Moreover, you may combine a photoinitiator with a photoinitiator (B). Examples of the photoinitiator include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoic acid 2- Ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9, 10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-methoxybenzothiazole 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid methyl, pentaerythritol tetra-mercapto acetate, thiol compounds such as 3-mercapto propionate. These photoinitiation assistants can be used alone or in combination of two or more.

<アルカリ可溶性樹脂(C)>
感光性組成物は、光重合性化合物(A)として使用される樹脂以外の他の樹脂として、アルカリ可溶性樹脂(C)を含んでいてもよい。感光性組成物にアルカリ可溶性樹脂(C)を配合することで、感光性組成物に良好なアルカリ現像性を付与することができる。
<Alkali-soluble resin (C)>
The photosensitive composition may contain an alkali-soluble resin (C) as a resin other than the resin used as the photopolymerizable compound (A). By mix | blending alkali-soluble resin (C) with a photosensitive composition, favorable alkali developability can be provided to a photosensitive composition.

本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、濃度0.05質量%のKOH水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。   In this specification, the alkali-soluble resin means that a resin film having a film thickness of 1 μm is formed on a substrate with a resin solution (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate) having a resin concentration of 20% by mass, and KOH having a concentration of 0.05% by mass. When immersed in an aqueous solution for 1 minute, it means one that dissolves to a thickness of 0.01 μm or more.

アルカリ可溶性樹脂(C)の中では、製膜性に優れる点や、単量体の選択によって樹脂の特性を調整しやすいこと等から、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましい。エチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸アミド;クロトン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物;酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、及びアリルオキシエタノールのようなアリル化合物;ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、及びビニルアントラニルエーテルのようなビニルエーテル;ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニルのようなビニルエステル;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、及び4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレンのようなスチレン又はスチレン誘導体;エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、及び1−エイコセンのようなオレフィンが挙げられる。   Among the alkali-soluble resins (C), a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond because it has excellent film-forming properties and the characteristics of the resin can be easily adjusted by selecting the monomer. Is preferred. As monomers having an ethylenically unsaturated double bond, (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid ester; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, Itaconic acid, anhydrides of these dicarboxylic acids; such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, and allyloxyethanol Allyl compounds; hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2- Tilbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4 -Vinyl ethers such as dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, Vinyl methoxyacetate, Vinyls such as nylbutoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate Esters: styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, Acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene, dimethoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene , Trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene Styrene or styrene derivatives such as: ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4- Methyl-1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene 1-octadecene, and olefins such as 1-eicosene.

エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体であるアルカリ可溶性樹脂(C)は、通常、不飽和カルボン酸に由来する単位を含む。不飽和カルボン酸の例としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸アミド;クロトン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として使用されるエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体に含まれる、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂が所望するアルカリ可溶性を有する限り特に限定されない。アルカリ可溶性樹脂として使用される樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、5〜25質量%が好ましく、8〜16質量%がより好ましい。   The alkali-soluble resin (C), which is a polymer of monomers having an ethylenically unsaturated double bond, usually contains units derived from an unsaturated carboxylic acid. Examples of the unsaturated carboxylic acid include (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and anhydrides of these dicarboxylic acids. The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid contained in the polymer of the monomer having an ethylenically unsaturated double bond used as the alkali-soluble resin is not particularly limited as long as the resin has the desired alkali solubility. . 5-25 mass% is preferable with respect to the mass of resin, and, as for the quantity of the unit derived from unsaturated carboxylic acid in resin used as alkali-soluble resin, 8-16 mass% is more preferable.

以上例示した単量体から選択される1種以上の単量体の重合体である、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体が好ましい。以下、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体について説明する。   Among the polymers of monomers having ethylenically unsaturated double bonds, which are polymers of one or more monomers selected from the monomers exemplified above, (meth) acrylic acid and (meta ) A polymer of one or more monomers selected from acrylic esters is preferred. Hereinafter, a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester will be described.

(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の調製に用いられる、(メタ)アクリル酸エステルは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、公知の(メタ)アクリル酸エステルから適宜選択される。   The (meth) acrylic acid ester used for the preparation of a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is particularly within the range not hindering the object of the present invention. It is not limited, It selects suitably from well-known (meth) acrylic acid ester.

(メタ)アクリル酸エステルの好適な例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル(メタ)アクリレート;クロロエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート;エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステル;脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステル、及び脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの詳細については後述する。   Suitable examples of (meth) acrylic acid esters include linear or methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, and the like. Branched alkyl (meth) acrylate; chloroethyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, benzyl (meth) Examples include acrylate, furfuryl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group; and (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton. Details of the (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group and the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton will be described later.

(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、感光性組成物を用いて形成される透明絶縁膜の基材への密着性や機械的強度が優れる点から、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂が好ましい。   Among polymers of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid esters, adhesion of a transparent insulating film formed using a photosensitive composition to a substrate From the viewpoint of excellent mechanical strength, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group is preferable.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルであっても、後述するような、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルであってもよい。   Even if the (meth) acrylic ester having a group having an epoxy group is a (meth) acrylic ester having a group having a chain aliphatic epoxy group, a group having an alicyclic epoxy group as described later (Meth) acrylic acid ester having

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、芳香族基を含んでいてもよい。芳香族基を構成する芳香環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。芳香族基を有し、且つエポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、4−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、2−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、及び2−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   The (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group may contain an aromatic group. Examples of the aromatic ring constituting the aromatic group include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of the (meth) acrylic acid ester having an aromatic group and an epoxy group include 4-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, and 2-glycidyloxy. Examples include phenyl (meth) acrylate, 4-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, and 2-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate.

感光性組成物を用いて形成される膜が透明性を要求される場合、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸は、芳香族基を含まないものが好ましい。   When the film formed using the photosensitive composition is required to be transparent, the (meth) acrylic acid having a group having an epoxy group preferably does not contain an aromatic group.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、エポキシアルキル(メタ)アクリレート、及びエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレート等のような、エステル基(−O−CO−)中のオキシ基(−O−)に鎖状脂肪族エポキシ基が結合する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸エステルが有する鎖状脂肪族エポキシ基は、鎖中に1又は複数のオキシ基(−O−)を含んでいてもよい。鎖状脂肪族エポキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、3〜20が好ましく、3〜15がより好ましく、3〜10が特に好ましい。   Examples of (meth) acrylic acid ester having a group having a chain aliphatic epoxy group include an ester group (—O—CO, such as epoxyalkyl (meth) acrylate, epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylate, and the like. (Meth) acrylic acid ester in which a chain aliphatic epoxy group is bonded to the oxy group (—O—) in —). Such a chain aliphatic epoxy group possessed by the (meth) acrylate ester may contain one or a plurality of oxy groups (—O—) in the chain. The number of carbon atoms of the chain aliphatic epoxy group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 15, and particularly preferably 3 to 10.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキル(メタ)アクリレート;2−グリシジルオキシエチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシ−n−ブチル(メタ)アクリレート、5−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート、6−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having a chain aliphatic epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 6 , 7-epoxyheptyl (meth) acrylate and other epoxy alkyl (meth) acrylates; 2-glycidyloxyethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxy-n-propyl (meth) acrylate, 4-glycidyloxy-n-butyl ( Examples thereof include epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 5-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate, and 6-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体における、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の含有量は、樹脂の重量に対して、1〜95質量%が好ましく、40〜80質量%がより好ましい。   Epoxy group in a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, including a unit derived from (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group 1-95 mass% is preferable with respect to the weight of resin, and, as for content of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has group which has this, 40-80 mass% is more preferable.

また、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、感光性組成物を用いて透明性に優れる透明絶縁膜を形成しやすいことから、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂も好ましい。   Moreover, in the polymer of the 1 or more types of monomer selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, it is easy to form the transparent insulating film excellent in transparency using a photosensitive composition. Therefore, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton is also preferable.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルにおいて、脂環式骨格を有する基は、脂環式炭化水素基を有する基であっても、脂環式エポキシ基を有する基であってもよい。脂環式骨格を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。   In the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, the group having an alicyclic skeleton is a group having an alicyclic epoxy group, even if the group has an alicyclic hydrocarbon group. May be. The alicyclic group constituting the alicyclic skeleton may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルのうち、脂環式炭化水素基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば下記式(c1−1)〜(c1−8)で表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式(c1−3)〜(c1−8)で表される化合物が好ましく、下記式(c1−3)又は(c1−4)で表される化合物がより好ましい。   Among the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic hydrocarbon group include the following formulas (c1-1) to (c1- The compound represented by 8) is mentioned. Among these, compounds represented by the following formulas (c1-3) to (c1-8) are preferable, and compounds represented by the following formula (c1-3) or (c1-4) are more preferable.

Figure 2018072397
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上記式中、Rc1は水素原子又はメチル基を示し、Rc2は単結合又は炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Rc3は水素原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を示す。Rc2としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Rc3としては、メチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R c1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R c2 represents a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R c3 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group of ~ 5. R c2 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. R c3 is preferably a methyl group or an ethyl group.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルのうち、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えば下記式(c2−1)〜(c2−16)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式(c2−1)〜(c2−6)で表される化合物が好ましく、下記式(c2−1)〜(c2−4)で表される化合物がより好ましい。   Among the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group include, for example, the following formulas (c2-1) to ( c2-16). Among these, in order to make the developability of the photosensitive composition appropriate, compounds represented by the following formulas (c2-1) to (c2-6) are preferable, and the following formulas (c2-1) to The compound represented by (c2-4) is more preferable.

Figure 2018072397
Figure 2018072397

上記式中、Rc4は水素原子又はメチル基を示し、Rc5は炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Rc6は炭素原子数1〜10の2価の炭化水素基を示し、tは0〜10の整数を示す。Rc5としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Rc6としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−CH−Ph−CH−(Phはフェニレン基を示す)が好ましい。 In the above formula, R c4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R c5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R c6 represents a divalent hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms. A hydrocarbon group is shown, t shows the integer of 0-10. R c5 is preferably a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. Examples of R c6 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a phenylene group, a cyclohexylene group, —CH 2 —Ph—CH 2 — (Ph is A phenylene group) is preferred.

(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体が、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂である場合、樹脂中の脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、5〜95質量%が好ましく、10〜90質量%がより好ましく、30〜70質量%がさらに好ましい。   Resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid ester, in which a polymer of at least one monomer selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester has a group having an alicyclic skeleton The amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton in the resin is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, and 30 to 70%. More preferred is mass%.

また、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。このようなアルカリ可溶性樹脂(C)を含む感光性組成物を用いて形成される膜は、基材に対する密着性に優れる。また、このような樹脂を用いる場合、樹脂に含まれるカルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることが可能である。このため、このような樹脂を含む感光性組成物を用いると、膜を加熱する方法等を用いて、カルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることによって、形成される膜の硬度のような機械的物性を向上させることができる。   Moreover, the polymer of the 1 or more types of monomer selected from the (meth) acrylic acid and the (meth) acrylic acid ester containing the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has group which has alicyclic skeleton Among these, a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group is preferable. The film | membrane formed using such a photosensitive composition containing alkali-soluble resin (C) is excellent in the adhesiveness with respect to a base material. Further, when such a resin is used, it is possible to cause a self-reaction between a carboxy group contained in the resin and an alicyclic epoxy group. Therefore, when a photosensitive composition containing such a resin is used, a film formed by causing a self-reaction between a carboxy group and an alicyclic epoxy group using a method of heating the film or the like. It is possible to improve mechanical properties such as hardness.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましい。   In a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group, a unit derived from (meth) acrylic acid in the resin Is preferably 1 to 95% by mass, more preferably 10 to 50% by mass. In a resin including a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group, a group having an alicyclic epoxy group in the resin 1-95 mass% is preferable and, as for the quantity of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has, 30-70 mass% is more preferable.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。   It is selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, including a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group. Among the polymers of one or more monomers, a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and an alicyclic epoxy A resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having a group is preferable.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。   Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from (meth) acrylic acid in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 50% by mass. Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass. Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass. preferable.

アルカリ可溶性樹脂(C)の質量平均分子量(Mw:ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)のポリスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。)は、2000〜200000であることが好ましく、2000〜18000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。   The mass average molecular weight of the alkali-soluble resin (C) (Mw: measured value by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene. The same applies in this specification) is preferably 2000 to 200000, and 2000 to 18000. It is more preferable. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability of the photosensitive composition and the developability after exposure are easily balanced.

感光性組成物がアルカリ可溶性樹脂(C)を含む場合、感光性組成物中のアルカリ可溶性樹脂(C)の含有量は、感光性組成物中の後述する溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して、15〜89.5質量%が好ましく、35〜85質量%がより好ましく、50〜70質量%が特に好ましい。   When the photosensitive composition contains an alkali-soluble resin (C), the content of the alkali-soluble resin (C) in the photosensitive composition is the mass of components other than the solvent (S) described later in the photosensitive composition. 15-89.5 mass% is preferable with respect to the sum total, 35-85 mass% is more preferable, and 50-70 mass% is especially preferable.

以上説明したアルカリ可溶性樹脂(C)は、感光性組成物中の水分の量と、前述の式(2)で表されるカルボン酸の量とが、それぞれ所定の範囲内となるように、感光性組成物の調製前に、脱水等の精製を施されているのが好ましい。   The alkali-soluble resin (C) described above is sensitive so that the amount of water in the photosensitive composition and the amount of carboxylic acid represented by the above formula (2) are within a predetermined range. It is preferable that purification such as dehydration is performed before the preparation of the composition.

アルカリ可溶性樹脂(C)から水を除去する方法としては、加熱による乾燥が挙げられる。また、アルカリ可溶性樹脂(C)からカルボン酸を除去する方法としては、加熱による除去や、脱水された有機溶剤による洗浄等の方法が挙げられる。   Examples of the method for removing water from the alkali-soluble resin (C) include drying by heating. Examples of the method for removing carboxylic acid from the alkali-soluble resin (C) include removal by heating and washing with a dehydrated organic solvent.

<着色剤(D)>
感光性組成物は、着色剤(D)を含んでいてもよい。感光性組成物に含有される着色剤(D)としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)において、ピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを用いるのが好ましい。
<Colorant (D)>
The photosensitive composition may contain the coloring agent (D). The colorant (D) contained in the photosensitive composition is not particularly limited. For example, in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), the colorant (D) is classified as a pigment. It is preferable to use a compound having a color index (C.I.) number as shown below.

好適に使用できる黄色顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー1(以下、「C.I.ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73,74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、及び185が挙げられる。   Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, “CI Pigment Yellow” is the same, and only the number is described) 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 , And 185.

好適に使用できる橙色顔料の例としては、C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、及び73が挙げられる。   Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Orange 1 (hereinafter, “CI Pigment Orange” is the same, and only the number is described) 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

好適に使用できる紫色顔料の例としては、C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、及び50が挙げられる。   Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, “CI Pigment Violet” is the same, and only the numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50 Can be mentioned.

好適に使用できる赤色顔料の例としては、C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、及び265が挙げられる。   Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Red 1 (hereinafter, “CI Pigment Red” is the same, and only the number is described) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57: 1, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 1 8, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

好適に使用できる青色顔料の例としては、C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、及び66が挙げられる。   Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Blue 1 (hereinafter, “CI Pigment Blue” is the same, and only the number is described) 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 , And 66.

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37等の緑色顔料、C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28等の茶色顔料、C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7等の黒色顔料が挙げられる。   Examples of pigments of other hues that can be suitably used include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment Green 37 and other green pigments, C.I. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25, C.I. I. Pigment brown 26, C.I. I. Pigments such as CI Pigment Brown 28, C.I. I. Pigment black 1, C.I. I. And black pigments such as CI Pigment Black 7.

また、感光性組成物は、着色剤(D)として遮光剤を含んでいてもよい。遮光剤を含む感光性組成物は、液晶表示パネルにおけるブラックマトリックス又はブラックカラムスペーサの形成や、有機EL素子における発光層の区画用のバンクの形成に好適に用いられる。
着色剤(D)を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。
Moreover, the photosensitive composition may contain the light-shielding agent as a coloring agent (D). The photosensitive composition containing a light-shielding agent is suitably used for forming a black matrix or a black column spacer in a liquid crystal display panel or forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.
When the colorant (D) is a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment or a purple pigment as the light-shielding agent. Examples of black pigments and purple pigments include carbon black, perylene pigments, lactam pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides and composite oxides. In addition, various pigments may be mentioned regardless of organic matter or inorganic matter such as metal sulfide, metal sulfate or metal carbonate. Among these, it is preferable to use carbon black having high light shielding properties.

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。   As the carbon black, known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used, but it is preferable to use channel black having excellent light shielding properties. Resin-coated carbon black may also be used.

樹脂被覆カーボンブラックは、樹脂被覆のないカーボンブラックに比べて導電性が低いことから、液晶表示ディスプレイのような液晶表示素子のブラックマトリクスとして使用した場合に電流のリークが少なく、信頼性の高い低消費電力のディスプレイを製造できる。   Resin-coated carbon black has lower electrical conductivity than carbon black without resin coating, so there is little leakage of current when used as a black matrix for liquid crystal display elements such as liquid crystal display, and high reliability and low A display with power consumption can be manufactured.

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。   As the carbon black, carbon black subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity according to the Bronsted definition. Specific examples of the acidic group include a carboxy group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation that forms a salt with the acidic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions, and the like, and alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion, lithium ion, and ammonium ion are preferable.

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の高抵抗を達成する観点で、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される1種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。   Among the carbon blacks that have been treated to introduce acidic groups as described above, in view of achieving high resistance of a light-shielding cured film formed using the photosensitive composition, a carboxylic acid group or a carboxylic acid group is used. Carbon black having at least one functional group selected from the group consisting of sulfonic acid groups and sulfonic acid groups is preferred.

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
1)濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
2)アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
3)ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
4)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
5)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。
The method for introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. Examples of the method for introducing an acidic group include the following methods.
1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or the like, or an indirect substitution method using sulfite, bisulfite, or the like.
2) A method of diazo coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.
3) A method of reacting an organic compound having a halogen atom and an acidic group with carbon black having a hydroxyl group by Williamson's etherification method.
4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.
5) A method of performing deprotection after performing a Friedel-Crafts reaction on carbon black using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group.

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法2)が好ましい。方法2)で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、4−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。   Among these methods, the method 2) is preferred because the acidic group introduction treatment is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in the method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzene sulfonic acids such as sulfanilic acid and aminobenzoic acids such as 4-aminobenzoic acid.

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック100gに対して、1〜200mmolが好ましく、5〜100mmolがより好ましい。   The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1-200 mmol is preferable with respect to 100 g of carbon black, and, as for the number of moles of the acidic group introduce | transduced into carbon black, 5-100 mmol is more preferable.

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性組成物を用いる場合、遮光性及び絶縁性に優れ、表面反射率が低い遮光性の硬化膜を形成しやすい。なお、樹脂による被覆処理によって、感光性組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の誘電率に対する悪影響は特段生じない。カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、1〜30質量%が好ましい。
Carbon black introduced with acidic groups may be coated with a resin.
When a photosensitive composition containing carbon black coated with a resin is used, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding properties and insulating properties and low surface reflectance. In addition, the bad influence with respect to the dielectric constant of the light-shielding cured film formed using a photosensitive composition does not produce especially by the coating process by resin. Examples of resins that can be used to coat carbon black include thermosetting resins such as phenolic resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyphtal resin, epoxy resin, alkylbenzene resin, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, poly Examples thereof include thermoplastic resins such as butylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyamino bismaleimide, polyether sulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, and polyether ether ketone. The coating amount of the resin on the carbon black is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total mass of the carbon black and the mass of the resin.

また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式(d−1)で表されるペリレン系顔料、下記式(d−2)で表されるペリレン系顔料、及び下記式(d−3)で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、BASF社製の製品名K0084、及びK0086や、ピグメントブラック21、30、31、32、33、及び34等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。   A perylene pigment is also preferable as the light-shielding agent. Specific examples of the perylene pigment include the perylene pigment represented by the following formula (d-1), the perylene pigment represented by the following formula (d-2), and the following formula (d-3). Perylene pigments. As commercial products, product names K0084 and K0086 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene pigments.

Figure 2018072397
式(d−1)中、Rd1及びRd2は、それぞれ独立に炭素原子数1〜3のアルキレン基を表し、Rd3及びRd4は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。
Figure 2018072397
In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or Represents an acetyl group.

Figure 2018072397
式(d−2)中、Rd5及びRd6は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜7のアルキレン基を表す。
Figure 2018072397
In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.

Figure 2018072397
式(d−3)中、Rd7及びRd8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜22のアルキル基であり、N,O、S、又はPのヘテロ原子を含んでいてもよい。Rd7及びRd8がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Figure 2018072397
In formula (d-3), R d7 and R d8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S, or P heteroatoms. Good. When R d7 and R d8 are alkyl groups, the alkyl group may be linear or branched.

上記の式(d−1)で表される化合物、式(d−2)で表される化合物、及び式(d−3)で表される化合物は、例えば、特開昭62−1753号公報、特公昭63−26784号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−3,5,9,10−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。   Examples of the compound represented by the formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2), and the compound represented by the formula (d-3) include, for example, JP-A-62-17353. Can be synthesized using the method described in JP-B 63-26784. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or a dianhydride thereof and an amine are used as raw materials, and a heating reaction is performed in water or an organic solvent. The target product can be obtained by reprecipitation of the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallization in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.

感光性組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。   In order to satisfactorily disperse the perylene pigment in the photosensitive composition, the average particle size of the perylene pigment is preferably 10 to 1000 nm.

また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式(d−4)で表される化合物が挙げられる。   Moreover, a lactam pigment can also be included as a light-shielding agent. As a lactam pigment, the compound represented by a following formula (d-4) is mentioned, for example.

Figure 2018072397
Figure 2018072397

式(d−4)中、Xは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にE体又はZ体であり、Rd9は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Rd10は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Rd11は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式(d−4)で表される化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
d9は、式(d−4)で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の6位に結合するのが好ましく、Rd11はジヒドロインドロン環の4位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Rd9、Rd10、及びRd11は、好ましくは水素原子である。
式(d−4)で表される化合物は、幾何異性体としてEE体、ZZ体、EZ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式(d−4)で表される化合物は、例えば、国際公開第2000/24736号,国際公開第2010/081624号に記載された方法により製造することができる。
In formula (d-4), X d represents a double bond, and each independently represents an E-form or a Z-form as a geometric isomer, and R d9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, methoxy Group, bromine atom, chlorine atom, fluorine atom, carboxy group, or sulfo group, R d10 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R d11 each independently represents a hydrogen atom. Represents a methyl group or a chlorine atom.
The compound represented by Formula (d-4) can be used alone or in combination of two or more.
R d9 is preferably bonded to the 6-position of the dihydroindolone ring from the viewpoint of easy production of the compound represented by formula (d-4), and R d11 is bonded to the 4-position of the dihydroindolone ring. It is preferable to do this. From the same viewpoint, R d9 , R d10 , and R d11 are preferably hydrogen atoms.
The compound represented by the formula (d-4) has EE, ZZ, and EZ isomers as geometric isomers, and may be any one of these compounds, or these geometric isomers. It may be a mixture of
The compound represented by the formula (d-4) can be produced, for example, by the method described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/081624.

組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。   In order to satisfactorily disperse the lactam pigment in the composition, the average particle size of the lactam pigment is preferably 10 to 1000 nm.

さらに、銀錫(AgSn)合金を主成分とする微粒子(以下、「AgSn合金微粒子」という。)も遮光剤として好ましく用いられる。このAgSn合金微粒子は、AgSn合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ni、Pd、Au等が含まれていてもよい。
このAgSn合金微粒子の平均粒子径は、1〜300nmが好ましい。
Further, fine particles mainly composed of a silver tin (AgSn) alloy (hereinafter referred to as “AgSn alloy fine particles”) are also preferably used as a light shielding agent. The AgSn alloy fine particles may be composed mainly of an AgSn alloy, and may contain, for example, Ni, Pd, Au, etc. as other metal components.
The average particle diameter of the AgSn alloy fine particles is preferably 1 to 300 nm.

AgSn合金は、化学式AgxSnにて表した場合、化学的に安定したAgSn合金が得られるxの範囲は1≦x≦10であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるxの範囲は3≦x≦4である。
ここで、上記xの範囲でAgSn合金中のAgの質量比を求めると、
x=1の場合、 Ag/AgSn=0.4762
x=3の場合、 3・Ag/Ag3Sn=0.7317
x=4の場合、 4・Ag/Ag4Sn=0.7843
x=10の場合、10・Ag/Ag10Sn=0.9008
となる。
従って、このAgSn合金は、Agを47.6〜90質量%含有した場合に化学的に安定なものとなり、Agを73.17〜78.43重量%含有した場合にAg量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。
When the AgSn alloy is represented by the chemical formula AgxSn, the x range in which a chemically stable AgSn alloy is obtained is 1 ≦ x ≦ 10, and the x range in which chemical stability and blackness are simultaneously obtained is 3 ≦ x ≦ 4.
Here, when the mass ratio of Ag in the AgSn alloy is determined in the range of x,
When x = 1, Ag / AgSn = 0.4762
In the case of x = 3, 3 · Ag / Ag3Sn = 0.7317
When x = 4, 4 · Ag / Ag4Sn = 0.7843
When x = 10, 10 · Ag / Ag10Sn = 0.008
It becomes.
Therefore, this AgSn alloy becomes chemically stable when Ag is contained in an amount of 47.6 to 90% by mass, and effective when Ag is contained in an amount of 73.17 to 78.43% by mass. Chemical stability and blackness can be obtained.

このAgSn合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。   The AgSn alloy fine particles can be produced using a normal fine particle synthesis method. Examples of the fine particle synthesis method include a gas phase reaction method, a spray pyrolysis method, an atomization method, a liquid phase reaction method, a freeze drying method, and a hydrothermal synthesis method.

AgSn合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、感光性組成物の用途によっては、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化イットリウム(イットリア)、酸化チタン(チタニア)等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。
The AgSn alloy fine particles have high insulating properties, but depending on the application of the photosensitive composition, the surface may be covered with an insulating film in order to further improve the insulating properties. As a material for such an insulating film, a metal oxide or an organic polymer compound is suitable.
As the metal oxide, an insulating metal oxide such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), yttrium oxide (yttria), titanium oxide (titania), etc. is preferably used. It is done.
In addition, as the organic polymer compound, an insulating resin such as polyimide, polyether, polyacrylate, polyamine compound, or the like is preferably used.

絶縁膜の膜厚は、AgSn合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには1〜100nmの厚みが好ましく、より好ましくは5〜50nmである。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。
The thickness of the insulating film is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 5 to 50 nm, in order to sufficiently enhance the surface insulation of the AgSn alloy fine particles.
The insulating film can be easily formed by a surface modification technique or a surface coating technique. In particular, use of an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxide is preferable because an insulating film having a uniform thickness can be formed at a relatively low temperature.

遮光剤としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、AgSn合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、15質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。
As the light-shielding agent, the above-mentioned perylene pigment, lactam pigment, AgSn alloy fine particles may be used alone, or a combination thereof may be used.
In addition, the light-shielding agent may contain a dye having a hue such as red, blue, green, and yellow together with the black pigment and the purple pigment for the purpose of adjusting the color tone. The pigment of other hues of the black pigment and the purple pigment can be appropriately selected from known pigments. For example, the above-mentioned various pigments can be used as the coloring matter of other hues of black pigments and purple pigments. The amount of the dye having a hue other than the black pigment or the purple pigment is preferably 15% by mass or less and more preferably 10% by mass or less with respect to the total mass of the light shielding agent.

上記の着色剤(D)を感光性組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。   In order to uniformly disperse the colorant (D) in the photosensitive composition, a dispersant may be further used. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は2種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量100質量部に対して、有機顔料を10〜80質量部の範囲で用いることが好ましく、20〜40質量部の範囲で用いることがより好ましい。   In addition, the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more, but when used in combination, the organic pigment is used in an amount of 10 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment Preferably, it is used in the range of 20 to 40 parts by mass.

なお、感光性組成物は、着色剤(D)として顔料以外にも染料を用いることができる。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
本実施形態の感光性組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化(造塩化)することで有機溶剤等に分散させ、これを着色剤(D)として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開2013−225132号公報、特開2014−178477号公報、特開2013−137543号公報、特開2011−38085号公報、特開2014−197206号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。
これら染料もまた、前述の顔料(例えば、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、AgSn合金微粒子等)と組み合わせて使用することもできる。
In addition, the photosensitive composition can use dye other than a pigment as a coloring agent (D). This dye may be appropriately selected from known materials.
Examples of the dye that can be applied to the photosensitive composition of the present embodiment include azo dyes, metal complex azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and phthalocyanines. And dyes.
Moreover, about these dyes, it can disperse | distribute to an organic solvent etc. by rake-forming (chlorination), and this can be used as a coloring agent (D).
In addition to these dyes, for example, JP 2013-225132 A, JP 2014-178477 A, JP 2013-137543 A, JP 2011-38085 A, JP 2014-197206 A, and the like. The dyes described can also be preferably used.
These dyes can also be used in combination with the aforementioned pigments (for example, perylene pigments, lactam pigments, AgSn alloy fine particles, etc.).

感光性組成物が着色剤(D)を含む場合、感光性組成物における着色剤(D)の使用量は、感光性組成物の用途に応じて適宜決定すればよい。一例として、感光性組成物中の後述する溶剤(S)以外の成分の質量の合計100質量部に対して、5〜70質量部が好ましく、25〜60質量部がより好ましい。上記の範囲とすることにより、目的とするパターン形状を備えるブラックマトリクスや各着色層を形成することが容易である。   When the photosensitive composition contains a colorant (D), the amount of the colorant (D) used in the photosensitive composition may be appropriately determined according to the use of the photosensitive composition. As an example, 5-70 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts in total of the mass of components other than the solvent (S) mentioned later in a photosensitive composition, and 25-60 mass parts is more preferable. By setting it as the above range, it is easy to form a black matrix or each colored layer having a target pattern shape.

特に、着色剤(D)として遮光剤を含む感光性組成物を使用してブラックマトリクスを形成する場合には、ブラックマトリクスの被膜1μm当たりのOD値が4以上となるように感光性組成物における遮光剤の量を調整することが好ましい。ブラックマトリクスにおける被膜1μm当たりのOD値が4以上あれば、液晶表示ディスプレイのブラックマトリクスに用いた場合に、十分な表示コントラストを得ることができる。   In particular, when a black matrix is formed using a photosensitive composition containing a light-shielding agent as the colorant (D), the OD value per 1 μm of the black matrix coating is 4 or more in the photosensitive composition. It is preferable to adjust the amount of the light shielding agent. If the OD value per 1 μm film in the black matrix is 4 or more, sufficient display contrast can be obtained when used in the black matrix of a liquid crystal display.

着色剤(D)は、分散剤を用いて適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性組成物に添加することが好ましい。   The colorant (D) is preferably added to the photosensitive composition after preparing a dispersion in which the dispersant is dispersed at an appropriate concentration.

以上説明した着色剤(D)は、感光性組成物中の水分の量と、前述の式(2)で表されるカルボン酸の量とが、それぞれ所定の範囲内となるように、感光性組成物の調製前に、脱水等の精製を施されているのが好ましい。
また、着色剤(D)を分散液として用いる場合、分散液中の分散媒は、水分と、式(2)で表されるカルボン酸の含有量とが十分に少ないものを用いるのが好ましい。
The colorant (D) described above is photosensitive so that the amount of water in the photosensitive composition and the amount of carboxylic acid represented by the above formula (2) are within a predetermined range. Prior to preparation of the composition, purification such as dehydration is preferably performed.
Moreover, when using a coloring agent (D) as a dispersion liquid, it is preferable to use a dispersion medium in the dispersion liquid that has a sufficiently small amount of water and the content of the carboxylic acid represented by the formula (2).

着色剤(D)から水を除去する方法としては、加熱による乾燥や、シリカゲル、モレキュラーシーブ等の脱水剤を用いる方法が挙げられる。着色剤(D)からカルボン酸を除去する方法としては、加熱による除去や、脱水された有機溶剤による洗浄等の方法が挙げられる。分散媒のような液状成分から水やカルボン酸を除去する場合、蒸留等を行ってもよく、液状成分にシリカゲル、モレキュラーシーブ、活性炭等の脱水剤や吸着剤を加えてもよい。   Examples of the method for removing water from the colorant (D) include drying by heating and a method using a dehydrating agent such as silica gel or molecular sieve. Examples of the method for removing carboxylic acid from the colorant (D) include removal by heating and washing with a dehydrated organic solvent. When water or carboxylic acid is removed from a liquid component such as a dispersion medium, distillation or the like may be performed, and a dehydrating agent or adsorbent such as silica gel, molecular sieve, activated carbon or the like may be added to the liquid component.

<溶剤(S)>
感光性組成物は、溶剤(S)を含む。溶剤(S)の種類は、水分の量と、式(2)で表されるカルボン酸の量とが所定の範囲内である感光性組成物を調製出来る限り特に限定されない。
<Solvent (S)>
The photosensitive composition contains a solvent (S). The type of the solvent (S) is not particularly limited as long as a photosensitive composition in which the amount of moisture and the amount of carboxylic acid represented by formula (2) are within a predetermined range can be prepared.

溶剤(S)の好適な具体例としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルイソブチルアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルカプロラクタム、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ピリジン、及びN,N,N’,N’−テトラメチルウレア等の含窒素極性有機溶剤等が挙げられる。これらの溶剤(S)は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Preferred examples of the solvent (S) include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol Mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether such as ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate Diethylene glycol Other ethers such as coal dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, etc. Alkyl 2-lactic acid esters; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxy Ethyl acetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methyl Toxibutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, Other esters such as n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene; N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylisobutyramide, N, N-diethylacetamide, N, N-diethylformamide, N-methylcaprolactam, 1 , 3-Dimethyl-2-imidazolidinone, pyridi , And N, N, N ', a nitrogen-containing polar organic solvents such as N'- tetramethylurea. These solvent (S) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。
また、各成分の溶解性や、着色剤(D)の分散性等の点で、溶剤(S)が、含窒素極性有機溶剤を含むのも好ましい。含窒素極性有機溶剤としては、N,N,N’,N’−テトラメチルウレアが好ましい。
これらの溶剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, other ethers described above, alkyl lactate esters, and other esters described above are preferable, alkylene glycol monoalkyl ether acetates described above. Other ethers and other esters described above are more preferred.
Moreover, it is also preferable that a solvent (S) contains a nitrogen-containing polar organic solvent at points, such as the solubility of each component and the dispersibility of a coloring agent (D). As the nitrogen-containing polar organic solvent, N, N, N ′, N′-tetramethylurea is preferable.
These solvents can be used alone or in combination of two or more.

上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3−メトキシブチルアセテートが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。   Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone and 3-methoxybutyl acetate are preferred, and propylene glycol monomethyl It is particularly preferable to use ether acetate or 3-methoxybutyl acetate.

溶剤(S)の含有量は、感光性組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性組成物の溶剤(S)以外の成分の質量の合計100質量部に対して、50〜1900質量部程度が挙げられ、好ましくは80〜900質量部程度である。   The content of the solvent (S) may be appropriately determined according to the use of the photosensitive composition. As an example, the content of the components other than the solvent (S) of the photosensitive composition is 100 parts by mass in total. 50 to about 1900 parts by mass, preferably about 80 to 900 parts by mass.

溶剤(S)は、感光性組成物中の水分の量と、前述の式(2)で表されるカルボン酸の量とが、それぞれ所定の範囲内となるように、感光性組成物の調製前に、脱水等の精製を施されているのが好ましい。   The solvent (S) is used to prepare the photosensitive composition so that the amount of water in the photosensitive composition and the amount of the carboxylic acid represented by the above formula (2) are within a predetermined range. It is preferable to perform purification such as dehydration before.

溶剤(S)から水を除去する方法としては、蒸留や、シリカゲル、モレキュラーシーブ等の脱水剤を用いる方法等が挙げられる。
溶剤(S)からカルボン酸を除去する方法としては、蒸留や、モレキュラーシーブ、活性炭等の脱水剤や吸着剤を用いる方法が挙げられる。
Examples of the method for removing water from the solvent (S) include distillation and a method using a dehydrating agent such as silica gel and molecular sieve.
Examples of the method for removing carboxylic acid from the solvent (S) include distillation, a method using a dehydrating agent such as molecular sieve, activated carbon, and an adsorbent.

<その他の成分>
感光性組成物は、上記の成分以外に、必要に応じて、各種の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、硬化促進剤、光架橋剤、光増感剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が例示される。
<Other ingredients>
The photosensitive composition may contain various additives as needed in addition to the above components. Specifically, a curing accelerator, a photocrosslinking agent, a photosensitizer, a dispersion aid, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, Surfactant etc. are illustrated.

熱重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等を挙げることができる。また、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系等の化合物を、界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン等の化合物を、それぞれ例示できる。   Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether. Further, examples of the antifoaming agent include compounds such as silicone and fluorine, and examples of the surfactant include compounds such as anion, cation and nonion.

<感光性組成物の製造方法>
感光性組成物の製造方法は、上記説明した所定の成分を、それぞれ所望する量、溶剤(S)に、均一に分散又は溶解させることができる方法であれば特に限定されない。
好適な製造方法については後述する。
<Method for producing photosensitive composition>
The method for producing the photosensitive composition is not particularly limited as long as the above-described predetermined components can be uniformly dispersed or dissolved in the desired amount and solvent (S), respectively.
A suitable manufacturing method will be described later.

≪感光性組成物の製造方法≫
感光性組成物の製造方法は、光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)とを、溶剤(S)に溶解させることを含む感光性組成物の製造方法である。
この製造方法では、前述の式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含む光重合開始剤(B)が用いられる。
そして、溶剤(S)に溶解させる光重合開始剤(B)に付随する水分の量は、光重合開始剤の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下であり、0.5質量%以下が好ましく、0.1質量%がさらに好ましく、0.05質量%以下が特に好ましい。付随する水分の量がかかる範囲内である光重合開始剤(B)を用いて感光性組成物を製造することにより、経時的な感度の低下が抑制された感光性組成物を得ることができる。 ≪Method for producing photosensitive composition≫
The method for producing a photosensitive composition is a method for producing a photosensitive composition comprising dissolving a photopolymerizable compound (A) and a photopolymerization initiator (B) in a solvent (S).
In this manufacturing method, the above-described formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
The photoinitiator (B) containing the compound represented by this is used.
And the quantity of the water | moisture content accompanying the photoinitiator (B) dissolved in a solvent (S) is 1 mass% or less with respect to the sum total of the mass of a photoinitiator, and the mass of a water | moisture content. 5 mass% or less is preferable, 0.1 mass% is more preferable, and 0.05 mass% or less is especially preferable. By producing a photosensitive composition using a photopolymerization initiator (B) in which the amount of accompanying water is within such a range, a photosensitive composition in which a decrease in sensitivity over time can be obtained can be obtained. .

光重合開始剤(B)に付随する水分の量を上記の範囲内の値とするために、感光性組成物の製造方法は、光重合開始剤(B)を熱分解しない温度で遮光下に乾燥することを含むのが好ましい。   In order to set the amount of moisture accompanying the photopolymerization initiator (B) to a value within the above range, the method for producing a photosensitive composition is performed under light shielding at a temperature at which the photopolymerization initiator (B) is not thermally decomposed. It preferably includes drying.

また、溶剤(S)に溶解させる光重合開始剤(B)について、光重合開始剤(B)に付随する前述の式(2)で表されるカルボン酸の含有量は、光重合開示剤(B)の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下が好ましく、500質量ppbがより好ましく、450質量ppbが特に好ましく、420質量ppb以下が最も好ましい。   Further, for the photopolymerization initiator (B) to be dissolved in the solvent (S), the content of the carboxylic acid represented by the above formula (2) attached to the photopolymerization initiator (B) is determined by the photopolymerization disclosure agent ( 550 mass ppb or less is preferable with respect to the sum total of the mass of B) and the mass of the carboxylic acid represented by formula (2), more preferably 500 mass ppb, particularly preferably 450 mass ppb, and 420 mass ppb or less. Most preferred.

感光性組成物を調製する際、光重合性化合物(A)及び光重合開始剤(B)とともに、アルカリ可溶性樹脂(C)を溶剤(S)に溶解させてもよい。
さらに、溶剤(S)には、前述のその他の成分を溶解させてもよい。
以上説明した成分の使用量は、感光性組成物について前述した通りである。
When preparing the photosensitive composition, the alkali-soluble resin (C) may be dissolved in the solvent (S) together with the photopolymerizable compound (A) and the photopolymerization initiator (B).
Furthermore, the above-mentioned other components may be dissolved in the solvent (S).
The usage-amount of the component demonstrated above is as having mentioned above about the photosensitive composition.

溶剤(S)に、光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、及びアルカリ可溶性樹脂(C)等を溶解させる方法は特に限定されない。
光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、及びアルカリ可溶性樹脂(C)等を同時に溶剤(S)に加えて溶解させてもよく、光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、及びアルカリ可溶性樹脂(C)等を任意の順序で、逐次的に溶剤(S)に加えて溶解させてもよい。
また、光重合性化合物(A)を溶剤(S)に溶解させた溶液と、光重合開始剤(B)を溶剤に溶解させた溶液と、アルカリ可溶性樹脂(C)を溶剤(S)に溶解させた溶液と、その他の成分を溶剤(S)に溶解させた溶液とから選んだ2種以上の溶液を、任意の順序で混合してもよい。
The method for dissolving the photopolymerizable compound (A), the photopolymerization initiator (B), the alkali-soluble resin (C) and the like in the solvent (S) is not particularly limited.
The photopolymerizable compound (A), the photopolymerization initiator (B), the alkali-soluble resin (C), etc. may be simultaneously added to the solvent (S) and dissolved. The agent (B), the alkali-soluble resin (C) and the like may be sequentially added to the solvent (S) and dissolved in an arbitrary order.
Further, a solution in which the photopolymerizable compound (A) is dissolved in the solvent (S), a solution in which the photopolymerization initiator (B) is dissolved in the solvent, and an alkali-soluble resin (C) are dissolved in the solvent (S). Two or more kinds of solutions selected from the solution prepared and the solution prepared by dissolving other components in the solvent (S) may be mixed in any order.

感光性組成物に前述の着色剤(D)を含有させる場合、着色剤(D)の配合方法は特に限定されない。
例えば、着色剤(D)以外の成分を溶剤(S)に均一に溶解させた均一な溶液を得た後に、着色剤(D)や着色剤(D)の分散液を溶液に加えてもよい。
また、着色剤(D)を所定の量の溶剤(S)に分散させた後に、溶剤(S)を含む分散液中に光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、及びアルカリ可溶性樹脂(C)等を溶解させてもよい。
When the above-mentioned colorant (D) is contained in the photosensitive composition, the blending method of the colorant (D) is not particularly limited.
For example, after obtaining a uniform solution in which components other than the colorant (D) are uniformly dissolved in the solvent (S), a dispersion of the colorant (D) or the colorant (D) may be added to the solution. .
Further, after the colorant (D) is dispersed in a predetermined amount of the solvent (S), the photopolymerizable compound (A), the photopolymerization initiator (B), and the alkali are dispersed in the dispersion containing the solvent (S). A soluble resin (C) or the like may be dissolved.

以上説明した方法によれば、光重合開始剤(B)として式(1)で表される化合物を含んでいても、経時的な感度低下を起こしにくい感光性組成物を調製出来る。   According to the method demonstrated above, even if it contains the compound represented by Formula (1) as a photoinitiator (B), the photosensitive composition which hardly raise | generates a sensitivity with time can be prepared.

≪光重合開始剤≫
光重合開始剤は、式(1):

Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含む。
光重合開始剤に付随する水分の量は、光重合開始剤の質量と、光重合開始剤に付随する水の質量との合計に対して1質量%以下である。
また、光重合開始剤に付随する下記式(2)
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、
で表されるカルボン酸の量は、光重合開始剤の質量と、式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下である。
かかる光重合開始剤(B)を用いることにより、高感度である一方で、経時的な感度低下を起こしにくい感光性組成物を調製しやすい。 ≪Photopolymerization initiator≫
The photopolymerization initiator has the formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
The compound represented by these is included.
The amount of water accompanying the photopolymerization initiator is 1% by mass or less based on the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of water accompanying the photopolymerization initiator.
Further, the following formula (2) attached to the photopolymerization initiator
R 3 COOH (2)
(In Formula (2), R 3 is
The amount of the carboxylic acid represented by is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2).
By using such a photopolymerization initiator (B), it is easy to prepare a photosensitive composition that is highly sensitive and hardly causes a decrease in sensitivity over time.

光重合開始剤(B)について、式(1)で表される化合物、式(1)で表される化合物の含有量、式(1)で表される化合物以外に含んでいてもよい他の光重合開始剤、光重合開始剤の調製方法等は、感光性組成物、及び感光性組成物の製造方法について前述した通りである。   About photoinitiator (B), other than the compound represented by the compound represented by Formula (1), the content of the compound represented by Formula (1), and the compound represented by Formula (1) The photopolymerization initiator, the method for preparing the photopolymerization initiator, and the like are as described above for the photosensitive composition and the method for producing the photosensitive composition.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples.

〔実施例1〜4、及び比較例1〜6〕
実施例1、実施例2、及び比較例1〜3では、光重合開始剤の保管試験を行った。
実施例3、実施例4、及び比較例4〜6では、実施例1、実施例2、及び比較例1〜3での試験に供した光重合開始剤を用いて感光性組成物を調製した。
[Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6]
In Example 1, Example 2, and Comparative Examples 1 to 3, a storage test of the photopolymerization initiator was performed.
In Example 3, Example 4, and Comparative Examples 4-6, the photosensitive composition was prepared using the photoinitiator used for the test in Example 1, Example 2, and Comparative Examples 1-3. .

(感光性組成物の調製)
実施例3、実施例4、及び比較例4〜6において、下記構造(質量比I−1:I−2:II−1:III−1は、25:20:14:41)のアルカリ可溶性樹脂65質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー)35質量部と、表2に記載の種類及び質量部の光重合開始剤とを、固形分濃度が24質量%となるように、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶媒(質量比55:45)に溶解させて、感光性組成物を調製した。
なお、後述する方法に従って、光重合開始剤について35℃48時間の保管試験を行った。各実施例及び比較例について、保管試験前の光重合開始剤と、保管試験後の光重合開始剤とを用いて、2種類の感光性組成物を調製した。

Figure 2018072397
(Preparation of photosensitive composition)
In Example 3, Example 4, and Comparative Examples 4 to 6, an alkali-soluble resin having the following structure (mass ratio I-1: I-2: II-1: III-1 is 25: 20: 14: 41) 65 parts by mass, 35 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer), and the type and mass part of the photopolymerization initiator listed in Table 2 so that the solid content concentration is 24% by mass, A photosensitive composition was prepared by dissolving in a mixed solvent (mass ratio 55:45) of diethylene glycol methyl ethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate.
In addition, according to the method mentioned later, the 35 degreeC 48-hour storage test was done about the photoinitiator. About each Example and the comparative example, two types of photosensitive compositions were prepared using the photoinitiator before a storage test, and the photoinitiator after a storage test.
Figure 2018072397

(光重合開始剤(B)の保管試験)
光重合開始剤(B)の化学構造は以下の通りである。

Figure 2018072397
(Storage test of photopolymerization initiator (B))
The chemical structure of the photopolymerization initiator (B) is as follows.
Figure 2018072397

なお、実施例で用いた光重合開始剤(B)は、上記化合物を再結晶して得た粉末を、遮光下に分解温度以下で加熱・減圧乾燥して得た。実施例2は実施例1よりも減圧乾燥時間を短くした。
また、比較例で用いた光重合開始剤(B)は、光重合開始剤(B)に付随する水分の量が、光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対する量(質量%)として下記表1に記載の量となるように、実施例で用いた光重合開始剤に対して水を加えて調製した。
なお、水分の量についてはカールフィッシャー法で測定した。
また、得られた光重合開始剤(B)の製造直後(初期)の酢酸含有量(AC、光重合開始剤の質量と酢酸の質量との合計に基づく質量ppb)と、35℃48時間保管後の酢酸含有量(AC48)とを測定した。得られた、ACの値と、AC48の値とから、前述の式に基づいてカルボン酸増加率を算出した。AC、AC48、及びカルボン酸増加率を表1に記す。
酢酸含有量については、イオンクロマト法により測定した。
In addition, the photoinitiator (B) used in the Examples was obtained by heating the powder obtained by recrystallizing the above compound at a decomposition temperature or lower under reduced light and drying under reduced pressure. In Example 2, the drying time under reduced pressure was shorter than that in Example 1.
Moreover, the photoinitiator (B) used by the comparative example is the quantity with respect to the sum total of the mass of a photoinitiator (B), and the quantity of the water | moisture content accompanying a photoinitiator (B). It prepared by adding water with respect to the photoinitiator used in the Example so that it might become the quantity of following Table 1 as (mass%).
The amount of moisture was measured by the Karl Fischer method.
Further, the acetic acid content (AC 0 , mass ppb based on the sum of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of acetic acid initiator) immediately after production (initial) of the obtained photopolymerization initiator (B), and 35 ° C. for 48 hours. The acetic acid content after storage (AC 48 ) was measured. From the obtained AC 0 value and AC 48 value, the carboxylic acid increase rate was calculated based on the above formula. The AC 0 , AC 48 , and carboxylic acid increase rates are listed in Table 1.
The acetic acid content was measured by ion chromatography.

Figure 2018072397
Figure 2018072397

(感度評価)
実施例3、実施例4、及び比較例4〜6で得た感光性組成物を用いて、以下の方法に従って感度評価を行った。
(Sensitivity evaluation)
Using the photosensitive compositions obtained in Example 3, Example 4, and Comparative Examples 4 to 6, the sensitivity was evaluated according to the following method.

<感度評価方法>
スピンコーターを用いて,10cm×10cmのガラスに、感光性組成物をスピン塗布して塗布膜を形成した。塗布膜を100℃、120秒間の条件でベークして、塗布膜から溶剤を除去した。次いで、ベークされた塗布膜に対して、ミラープロジェクションアライナーで、露光量10、20、30、40、及び50mJ/cmにて露光を行った。
露光後、塗布膜の膜厚を測定した。また、膜厚測定後の塗布膜を、濃度0.05質量%のKOH水溶液を用いて60秒間現像処理した。次いで、現像処理後の塗布膜の膜厚を測定した。各露光量において、現像前後の膜厚差を算出し、膜厚差0.1μm未満となる最小露光量を確認し、最小露光量を感度とした。
<Sensitivity evaluation method>
Using a spin coater, the photosensitive composition was spin-coated on 10 cm × 10 cm glass to form a coating film. The coating film was baked at 100 ° C. for 120 seconds to remove the solvent from the coating film. Next, the baked coating film was exposed with a mirror projection aligner at exposure amounts of 10, 20, 30, 40, and 50 mJ / cm 2 .
After the exposure, the thickness of the coating film was measured. Further, the coating film after the film thickness measurement was developed for 60 seconds using an aqueous KOH solution having a concentration of 0.05% by mass. Next, the film thickness of the coating film after the development treatment was measured. For each exposure amount, the difference in film thickness before and after development was calculated, the minimum exposure amount at which the difference in film thickness was less than 0.1 μm was confirmed, and the minimum exposure amount was taken as sensitivity.

下表2における組成物中水分量は、組成物全体の質量に対する水分の量(質量%)であり、製造直後の光重合開始剤(B)を用いた場合と経時後の光重合開始剤(B)を用いた場合とで同様の数値を示す。組成物中酢酸量は、光重合開始剤(B)の質量と、酢酸の質量との合計に対する酢酸の量(質量ppb)であり、表1に記載した数値と同様である。
保管前の開始剤を含む感光性組成物と、保管後の開始剤を含む感光性組成物とで感度に差がない場合を「良好」と評価し、保管前の開始剤を含む感光性組成物と、保管後の開始剤を含む感光性組成物とで感度に差がある場合を「不良」と評価した。
The amount of water in the composition in Table 2 below is the amount of water (% by mass) relative to the total mass of the composition. When the photopolymerization initiator (B) immediately after production is used, the photopolymerization initiator after aging ( The same numerical value is shown when B) is used. The amount of acetic acid in the composition is the amount of acetic acid (mass ppb) relative to the sum of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of acetic acid, and is the same as the numerical values described in Table 1.
The photosensitive composition containing the initiator before storage is evaluated as “good” when there is no difference in sensitivity between the photosensitive composition containing the initiator before storage and the photosensitive composition containing the initiator after storage. The case where there was a difference in sensitivity between the product and the photosensitive composition containing the initiator after storage was evaluated as “bad”.

Figure 2018072397
Figure 2018072397

実施例によれば、前述の式(1)で表される構造を有する光重合開始剤(B)を含む感光性組成物において、酢酸の含有量が、光重合開始剤(B)の質量と、酢酸の質量との合計に対して550質量ppb以下であり、光重合開始剤(B)付随する水分の量が、前記光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下の(B)を使用して感光性組成物を調製した場合は、調製された感光性組成物の感度の低下が生じないことが分かる。
他方、比較例によれば、感光性組成物中の酢酸の含有量が、光重合開始剤(B)の質量と、酢酸の質量との合計に対して550質量ppb超であったり、水分の量が、感光性組成物全体に対して0.1質量%超であったりする場合、経時的な感度の低下が生じやすいことが分かる。
According to the examples, in the photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (B) having the structure represented by the above formula (1), the content of acetic acid is the mass of the photopolymerization initiator (B). The amount of water accompanying the photopolymerization initiator (B) is less than 550 mass ppb based on the total amount of acetic acid, and the amount of water accompanying the photopolymerization initiator (B) is the sum of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of water. On the other hand, when the photosensitive composition is prepared using 1% by mass or less of (B), it is understood that the sensitivity of the prepared photosensitive composition does not decrease.
On the other hand, according to the comparative example, the content of acetic acid in the photosensitive composition is more than 550 mass ppb with respect to the sum of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of acetic acid, It can be seen that when the amount is more than 0.1% by mass with respect to the entire photosensitive composition, the sensitivity is likely to deteriorate over time.

Claims (8)

光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、溶剤(S)とを含む感光性組成物であって、
前記光重合開始剤(B)が、下記式(1):
Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含み、
前記感光性組成物中の下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、前記と同じ。)
で表されるカルボン酸の含有量が、前記光重合開始剤(B)の質量と、前記式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下であり、
前記感光性組成物中の水分の量が、前記感光性組成物全体に対して0.1質量%以下である、感光性組成物。
A photosensitive composition comprising a photopolymerizable compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a solvent (S),
The photopolymerization initiator (B) is represented by the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
Including a compound represented by
The following formula (2) in the photosensitive composition:
R 3 COOH (2)
(In formula (2), R 3 is the same as above.)
The content of the carboxylic acid represented by is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2),
The photosensitive composition whose quantity of the water | moisture content in the said photosensitive composition is 0.1 mass% or less with respect to the said whole photosensitive composition.
さらに、アルカリ可溶性樹脂(C)を含む、請求項1に記載の感光性組成物。   Furthermore, the photosensitive composition of Claim 1 containing alkali-soluble resin (C). 光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)とを、溶剤(S)に溶解させることを含む感光性組成物の製造方法であって、
前記光重合開始剤(B)が、下記式(1):
Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含み、
前記溶剤(S)に溶解させる前記光重合開始剤(B)付随する水分の量が、前記光重合開始剤(B)の質量と、水分の質量との合計に対して1質量%以下である、方法。
A method for producing a photosensitive composition comprising dissolving a photopolymerizable compound (A) and a photopolymerization initiator (B) in a solvent (S),
The photopolymerization initiator (B) is represented by the following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
Including a compound represented by
The amount of water accompanying the photopolymerization initiator (B) dissolved in the solvent (S) is 1% by mass or less based on the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of water. ,Method.
さらに、アルカリ可溶性樹脂(C)を溶剤(S)に溶解させる、請求項3に記載の方法。   Furthermore, the method of Claim 3 which dissolves alkali-soluble resin (C) in a solvent (S). 前記溶剤(S)に溶解させる前記光重合開始剤(B)に付随する下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、
で表されるカルボン酸の含有量が、前記光重合開始剤(B)の質量と、前記式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下である、請求項3又は4に記載の方法。
The following formula (2) attached to the photopolymerization initiator (B) to be dissolved in the solvent (S):
R 3 COOH (2)
(In Formula (2), R 3 is
The content of the carboxylic acid represented by the formula (2) is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator (B) and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2). Item 5. The method according to Item 3 or 4.
前記光重合開始剤(B)を熱分解しない温度で遮光下に乾燥することを含む、請求項3〜5のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 3 to 5, comprising drying the photopolymerization initiator (B) under light shielding at a temperature at which the photopolymerization initiator (B) is not thermally decomposed. 下記式(1):
Figure 2018072397
(式(1)中、R、R、及びRは、それぞれ独立に、炭素原子に結合する結合手を有する1価の有機基である。)
で表される化合物を含む光重合開始剤であって、
前記光重合開始剤に付随する水分の量が、前記光重合開始剤の質量と、前記水分の質量との合計に対して1質量%以下であり、
前記光重合開始剤に付随する下記式(2):
COOH・・・(2)
(式(2)中、Rは、
で表されるカルボン酸の含有量が、前記光重合開始剤の質量と、前記式(2)で表されるカルボン酸の質量との合計に対して550質量ppb以下である、光重合開始剤。
Following formula (1):
Figure 2018072397
(In Formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond bonded to a carbon atom.)
A photopolymerization initiator containing a compound represented by:
The amount of water accompanying the photopolymerization initiator is 1% by mass or less based on the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of the water,
The following formula (2) associated with the photopolymerization initiator:
R 3 COOH (2)
(In Formula (2), R 3 is
The content of the carboxylic acid represented by the formula (2) is 550 mass ppb or less with respect to the total of the mass of the photopolymerization initiator and the mass of the carboxylic acid represented by the formula (2). .
請求項7に記載の光重合開始剤の調製方法であって、
前記光重合開始剤(B)を熱分解しない温度で遮光下に乾燥することを含む、方法。
A method for preparing a photopolymerization initiator according to claim 7,
A method comprising drying the photopolymerization initiator (B) in a light-shielded state at a temperature that does not thermally decompose.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020140161A (en) * 2019-03-01 2020-09-03 太陽インキ製造株式会社 Alkali development type photocurable thermosetting resin composition
WO2021200815A1 (en) * 2020-03-30 2021-10-07 株式会社Adeka Radical polymerization initiator, composition, cured product, and cured product manufacturing method

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021106806A1 (en) * 2019-11-28 2021-06-03 東京応化工業株式会社 Photosensitive ink composition, cured product, display panel and method for producing cured product
CN113777882A (en) * 2020-06-10 2021-12-10 新应材股份有限公司 White photosensitive resin composition, white partition wall, light conversion layer, and light emitting device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4118241B2 (en) * 2004-03-01 2008-07-16 三菱化学株式会社 Determination of impurities in acrylic acid
JP2015030782A (en) * 2013-08-01 2015-02-16 富士フイルム株式会社 Colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state image sensor, and image display device
JP2015052098A (en) * 2013-08-05 2015-03-19 東京応化工業株式会社 Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid
WO2015111607A1 (en) * 2014-01-24 2015-07-30 東レ株式会社 Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated cmos image sensor
JP2016180908A (en) * 2015-03-25 2016-10-13 株式会社大阪ソーダ Reactive resin composition and use of the same

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101167868B1 (en) * 2006-03-10 2012-07-23 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Curable composition, color filters, and liquid crystal displays
JP5513711B2 (en) * 2007-10-01 2014-06-04 太陽ホールディングス株式会社 Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP2012173678A (en) 2011-02-24 2012-09-10 Kyocera Chemical Corp Negative photosensitive resin composition, transparent insulation film, and method for manufacturing semiconductor substrate
JP5890297B2 (en) 2011-12-22 2016-03-22 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition, color filter and display device using the same, oxime ester compound, and photopolymerization initiator
JP6010483B2 (en) * 2013-02-28 2016-10-19 株式会社カネカ Photosensitive resin composition preparation kit and use thereof
JP6010484B2 (en) * 2013-02-28 2016-10-19 株式会社カネカ Photosensitive resin composition preparation kit and use thereof
CN105916937B (en) * 2014-01-23 2018-11-16 电化株式会社 Resin combination
JP5890464B2 (en) * 2014-05-01 2016-03-22 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4118241B2 (en) * 2004-03-01 2008-07-16 三菱化学株式会社 Determination of impurities in acrylic acid
JP2015030782A (en) * 2013-08-01 2015-02-16 富士フイルム株式会社 Colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state image sensor, and image display device
JP2015052098A (en) * 2013-08-05 2015-03-19 東京応化工業株式会社 Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid
WO2015111607A1 (en) * 2014-01-24 2015-07-30 東レ株式会社 Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated cmos image sensor
JP2016180908A (en) * 2015-03-25 2016-10-13 株式会社大阪ソーダ Reactive resin composition and use of the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020140161A (en) * 2019-03-01 2020-09-03 太陽インキ製造株式会社 Alkali development type photocurable thermosetting resin composition
WO2020179163A1 (en) * 2019-03-01 2020-09-10 太陽インキ製造株式会社 Alkali developable photocurable thermosetting resin composition
JP7330719B2 (en) 2019-03-01 2023-08-22 太陽ホールディングス株式会社 Alkali developable photocurable thermosetting resin composition
TWI813829B (en) * 2019-03-01 2023-09-01 日商太陽控股股份有限公司 Alkali-developable photocurable thermosetting resin composition
WO2021200815A1 (en) * 2020-03-30 2021-10-07 株式会社Adeka Radical polymerization initiator, composition, cured product, and cured product manufacturing method

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