JP2015052098A - Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid - Google Patents
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- 0 *N(C(c(cc1)c(c2ccc3-c(c4c56)ccc5C(N5*)=O)c3c1-c4ccc6C5=O)=O)C2=O Chemical compound *N(C(c(cc1)c(c2ccc3-c(c4c56)ccc5C(N5*)=O)c3c1-c4ccc6C5=O)=O)C2=O 0.000 description 2
- HGGXMMVRXONVEH-NFSLGCCLSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1-c1ccccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1-c1ccccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O HGGXMMVRXONVEH-NFSLGCCLSA-N 0.000 description 1
- AOJFGSBAVMMAII-LVYIWIAJSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1N1CCOCC1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1N1CCOCC1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O AOJFGSBAVMMAII-LVYIWIAJSA-N 0.000 description 1
- QBEYHCBVIGDRKR-UUDCSCGESA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1c(C)cccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1c(C)cccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O QBEYHCBVIGDRKR-UUDCSCGESA-N 0.000 description 1
- QMWLHTCHAAELSQ-LVYIWIAJSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1cc(cccc2)c2cc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1cc(cccc2)c2cc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O QMWLHTCHAAELSQ-LVYIWIAJSA-N 0.000 description 1
- RNTZTTVTQGEUKU-CCFHIKDMSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1ccccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1ccccc1)=O)=O)\c1ccccc1C)=O RNTZTTVTQGEUKU-CCFHIKDMSA-N 0.000 description 1
- WTWGZEKKURQWBS-ZNTNEXAZSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1[N+]([O-])=O)=O)\c1c(C)cccc1)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1[N+]([O-])=O)=O)\c1c(C)cccc1)=O WTWGZEKKURQWBS-ZNTNEXAZSA-N 0.000 description 1
- VMSWRERSCXPEAM-YYDJUVGSSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc1ccccc1)=O)\c1ccccc1C=[IH])=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc1ccccc1)=O)\c1ccccc1C=[IH])=O VMSWRERSCXPEAM-YYDJUVGSSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、顔料分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤に関する。 The present invention relates to a pigment dispersion, a photosensitive resin composition containing the same, and a dispersion aid.
液晶パネルは、画像のコントラストを強調するためのブラックマトリクスや、一般に赤(R)、緑(G)、及び青(B)の各色からなるRGBの着色層が形成されたカラーフィルタを備えている。これらのブラックマトリクスやカラーフィルタは、黒色又は各色の顔料が分散された感光性樹脂組成物を基板に塗布し、乾燥した後、得られた塗膜を露光、現像し、所望のパターンを形成することの繰り返しにより形成される。このような感光性樹脂組成物を製造するためには、顔料を分散させた顔料分散液が用いられる。例えば、特許文献1には、顔料と、溶剤と、分散剤と、アゾ基、アミド基、及びカルボニル基を有する特定の添加剤とを含有する顔料分散液が開示されている。 The liquid crystal panel includes a black matrix for enhancing the contrast of an image, and a color filter in which an RGB colored layer generally composed of red (R), green (G), and blue (B) colors is formed. . In these black matrixes and color filters, a photosensitive resin composition in which black or each color pigment is dispersed is applied to a substrate and dried, and then the obtained coating film is exposed and developed to form a desired pattern. It is formed by repeating. In order to produce such a photosensitive resin composition, a pigment dispersion in which a pigment is dispersed is used. For example, Patent Document 1 discloses a pigment dispersion containing a pigment, a solvent, a dispersant, and a specific additive having an azo group, an amide group, and a carbonyl group.
近年、液晶パネルの高解像度化において技術革新が進み、RGB着色層の発色性の向上が求められている。RGB着色層を与える感光性樹脂組成物において顔料の濃度を高くすることにより、上記発色性の向上を図ることができる。しかし、顔料の高濃度化は、上記感光性樹脂組成物の光に対する感度の低下をもたらすため、例えば、低露光量で良好な形状のパターンを形成することが難しくなり、露光工程における生産性が低下しやすい。 In recent years, technological innovation has progressed in increasing the resolution of liquid crystal panels, and there has been a demand for improved color development of RGB colored layers. The color developability can be improved by increasing the pigment concentration in the photosensitive resin composition that provides the RGB colored layer. However, increasing the concentration of the pigment causes a decrease in the sensitivity of the photosensitive resin composition to light. For example, it becomes difficult to form a pattern having a good shape with a low exposure amount, and the productivity in the exposure process is reduced. It tends to decline.
また、顔料分散液における分散剤の量を低減することができれば、顔料分散液から得られる感光性樹脂組成物において、分散剤の量が減った分だけ、光重合開始剤の量や光重合性モノマー等の光重合性化合物の量を増やすことができ、感光性樹脂組成物の光に対する感度を上げることができる。そのためには、分散剤の含有量を減らしても顔料の分散安定性が良好であることが求められる。 Further, if the amount of the dispersant in the pigment dispersion can be reduced, the amount of the photopolymerization initiator and the photopolymerizability in the photosensitive resin composition obtained from the pigment dispersion are reduced by the amount of the dispersant. The amount of a photopolymerizable compound such as a monomer can be increased, and the sensitivity of the photosensitive resin composition to light can be increased. For that purpose, it is required that the dispersion stability of the pigment is good even if the content of the dispersant is reduced.
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、分散剤の含有量を減らしても顔料の分散安定性が良好であり、低露光量でも高密着性の微小パターンを形成可能な感光性樹脂組成物を与えることのできる顔料分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a conventional situation. Even when the content of the dispersant is reduced, the dispersion stability of the pigment is good, and a highly adhesive micropattern is formed even at a low exposure amount. It is an object of the present invention to provide a pigment dispersion capable of providing a possible photosensitive resin composition, a photosensitive resin composition containing the same, and a dispersion aid.
本発明者らは鋭意検討した結果、含窒素芳香環化合物からなる顔料を含有する顔料分散液に特定のオキシムエステル化合物を添加することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by adding a specific oxime ester compound to a pigment dispersion containing a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound, and to complete the present invention. It came. Specifically, the present invention provides the following.
本発明の第一の態様は、含窒素芳香環化合物からなる顔料と、分散剤と、オキシムエステル化合物と、溶剤とを含有し、上記オキシムエステル化合物は、オキシム基に含まれる炭素原子に、芳香環を含む有機基と、カルボニル基を介して、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環とが結合したものである顔料分散液である。 A first aspect of the present invention includes a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound, a dispersant, an oxime ester compound, and a solvent. The oxime ester compound has an aromatic group on a carbon atom contained in the oxime group. It is a pigment dispersion liquid in which an organic group containing a ring and an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring are bonded via a carbonyl group.
本発明の第二の態様は、基材樹脂と、光重合開始剤と、上記顔料分散液とを含む感光性樹脂組成物である。 The second aspect of the present invention is a photosensitive resin composition comprising a base resin, a photopolymerization initiator, and the pigment dispersion.
本発明の第三の態様は、オキシムエステル化合物からなり、上記オキシムエステル化合物は、オキシム基に含まれる炭素原子に、芳香環を含む有機基と、カルボニル基を介して、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環とが結合したものである分散助剤である。 A third aspect of the present invention comprises an oxime ester compound, and the oxime ester compound has an aromatic hydrocarbon ring or a carbon atom contained in the oxime group via an organic group containing an aromatic ring and a carbonyl group. It is a dispersion aid in which an aromatic heterocycle is bonded.
本発明によれば、分散剤の含有量を減らしても顔料の分散安定性が良好であり、低露光量でも高密着性の微小パターンを形成可能な感光性樹脂組成物を与えることのできる顔料分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤を提供することができる。 According to the present invention, even when the content of the dispersant is reduced, the dispersion stability of the pigment is good, and the pigment capable of providing a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern with high adhesion even at a low exposure amount. A dispersion, a photosensitive resin composition containing the dispersion, and a dispersion aid can be provided.
<顔料分散液>
本発明に係る顔料分散液は、含窒素芳香環化合物からなる顔料と、分散剤と、オキシムエステル化合物と、溶剤とを含有する。なお、本発明に係る顔料分散液は、光重合性モノマー等の光重合性化合物や光重合開始剤を含有しない。
<Pigment dispersion>
The pigment dispersion according to the present invention contains a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound, a dispersant, an oxime ester compound, and a solvent. The pigment dispersion according to the present invention does not contain a photopolymerizable compound such as a photopolymerizable monomer or a photopolymerization initiator.
[含窒素芳香環化合物からなる顔料]
本発明に係る顔料分散液は、含窒素芳香環化合物からなる顔料を含有する。本発明に係る顔料分散液は、このような顔料を含有することにより、例えば、液晶表示ディスプレイのカラーフィルタ、塗料、ソルダーレジスト、インクジェット用インク等の形成に好ましく使用される。上記顔料は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Pigment made of nitrogen-containing aromatic ring compound]
The pigment dispersion according to the present invention contains a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound. By containing such a pigment, the pigment dispersion according to the present invention is preferably used for forming, for example, a color filter, a paint, a solder resist, and an ink jet ink for a liquid crystal display. The pigments can be used alone or in combination of two or more.
含窒素芳香環化合物からなる顔料としては、特に限定されないが、例えば、ジケトピロロピロール系顔料、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、イソインドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、インダンスレン系顔料等が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料、フタロシアニン系顔料、及び/又はペリレン系顔料を用いることが好ましい。 The pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound is not particularly limited. For example, diketopyrrolopyrrole pigment, phthalocyanine pigment, perylene pigment, azo pigment, quinacridone pigment, benzimidazolone pigment, isoindolinone Pigments, dioxazine pigments, indanthrene pigments and the like, and diketopyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, and / or perylene pigments are preferably used.
ジケトピロロピロール系顔料としては、特に限定されず、例えば、下記式(b−1)で表される化合物が挙げられる。 It does not specifically limit as a diketopyrrolopyrrole pigment, For example, the compound represented by a following formula (b-1) is mentioned.
式(b−1)中、A3及びA4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、フェニル基、N,N−ジメチルアミノ基、トリフルオロメチル基、シアノ基を表し、k及びk’はそれぞれ独立に0〜5の整数を表し、k及びk’がそれぞれ2以上の整数の場合、複数のA3及びA4は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。) In formula (b-1), A 3 and A 4 are each independently a halogen atom, methyl group, ethyl group, tert-butyl group, phenyl group, N, N-dimethylamino group, trifluoromethyl group, cyano And k and k ′ each independently represent an integer of 0 to 5, and when k and k ′ are each an integer of 2 or more, a plurality of A 3 and A 4 are the same or different. May be. )
式(b−1)において、k及びk’はそれぞれ独立に0〜5の整数である。中でも、高コントラストを達成し、カラーフィルタ等に適した赤色を調整しやすい点から、k及びk’はそれぞれ独立に0〜3の整数であることが好ましく、k及びk’はそれぞれ独立に0又は1の整数であることがより好ましい。 In formula (b-1), k and k ′ are each independently an integer of 0 to 5. Among these, k and k ′ are each preferably an integer of 0 to 3 and k and k ′ are each independently 0 from the viewpoint of achieving high contrast and easy adjustment of red color suitable for a color filter or the like. Or it is more preferable that it is an integer of 1.
ジケトピロロピロール系顔料としては、中でも、高輝度及び高コントラストなカラーフィルタ等が形成可能な点から、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド270、C.I.ピグメントレッド272、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ73が好ましく、色相及び着色力の点から、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255であることがより好ましい。ジケトピロロピロール系顔料は、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Among the diketopyrrolopyrrole pigments, C.I. C. is particularly preferable because a color filter having high brightness and high contrast can be formed. I. Pigment red 254, C.I. I. Pigment red 255, C.I. I. Pigment red 264, C.I. I. Pigment red 270, C.I. I. Pigment red 272, C.I. I. Pigment orange 71, C.I. I. Pigment Orange 73 is preferable, and C.I. I. Pigment red 254, C.I. I. More preferably, it is CI Pigment Red 255. The diketopyrrolopyrrole pigments can be used singly or in combination of two or more.
本発明に用いられるジケトピロロピロール系顔料の平均一次粒径としては、所望の発色が可能なものであればよく、特に限定されない。コントラストを向上させる点から、10〜50nmの範囲内であることが好ましく、10〜30nmの範囲内であることがより好ましい。顔料の平均一次粒径が上記範囲であることにより、例えば、カラーフィルタを高コントラストで、かつ高品質なものとすることができる。なお、上記顔料の平均粒径は、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、個々の一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、その平均をその粒子の粒径とする。次に、100個以上の粒子について、それぞれの粒子の体積(質量)を、求めた粒径の直方体と近似して求め、体積平均粒径を求めそれを平均粒径とする。なお、電子顕微鏡としては透過型(TEM)及び走査型(SEM)のいずれを用いても同じ結果を得ることができる。 The average primary particle size of the diketopyrrolopyrrole pigment used in the present invention is not particularly limited as long as it can produce a desired color. From the viewpoint of improving the contrast, it is preferably in the range of 10 to 50 nm, and more preferably in the range of 10 to 30 nm. When the average primary particle diameter of the pigment is within the above range, for example, the color filter can be made to have high contrast and high quality. In addition, the average particle diameter of the pigment can be obtained by a method of directly measuring the size of primary particles from an electron micrograph. Specifically, the minor axis diameter and major axis diameter of each primary particle are measured, and the average is taken as the particle diameter of the particle. Next, for 100 or more particles, the volume (mass) of each particle is obtained by approximating a cuboid with the obtained particle size, and the volume average particle size is obtained and used as the average particle size. The same result can be obtained by using either a transmission type (TEM) or a scanning type (SEM) as an electron microscope.
本発明に用いられるジケトピロロピロール系顔料は、再結晶法、ソルベントソルトミリング法等の公知の方法にて製造することができる。また、市販のジケトピロロピロール系顔料を用いてもよい。 The diketopyrrolopyrrole pigment used in the present invention can be produced by a known method such as a recrystallization method or a solvent salt milling method. Commercially available diketopyrrolopyrrole pigments may also be used.
フタロシアニン系顔料としては、特に限定されず、例えば、下記式(b−2)で表される化合物が挙げられる。 It does not specifically limit as a phthalocyanine pigment, For example, the compound represented by a following formula (b-2) is mentioned.
[式中、X1〜X4はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環式基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、又は置換基を有してもよいアリールチオ基を表す。Y1〜Y4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、又は置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。Mは、銅原子、亜鉛原子等の金属原子を表す。m1、m2、m3、m4、n1、n2、n3、及びn4は、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、m1+n1、m2+n2、m3+n3、m4+n4は、各々、0〜4の整数であり、同一でも異なってもよい。] [Wherein, X 1 to X 4 are each independently an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or a substituent. A heterocyclic group that may have a substituent, an alkoxyl group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylthio group that may have a substituent, or a substituent. Represents an optionally substituted arylthio group. Y 1 to Y 4 each independently represent a halogen atom, a nitro group, an optionally substituted phthalimidomethyl group, or an optionally substituted sulfamoyl group. M represents a metal atom such as a copper atom or a zinc atom. m1, m2, m3, m4, n1, n2, n3, and n4 each independently represents an integer of 0 to 4, and m1 + n1, m2 + n2, m3 + n3, m4 + n4 are each an integer of 0 to 4, and are the same But it may be different. ]
一般式(b−2)中、X1〜X4は、同一でも異なってもよく、その具体例としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環式基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基が挙げられる。上記X1〜X4が置換基を有する場合、置換基は、同一でも異なってもよく、その具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、アミノ基、水酸基、ニトロ基等の特性基の他、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、複数あってもよい。 In General Formula (b-2), X 1 to X 4 may be the same or different, and specific examples thereof include an alkyl group that may have a substituent and an aryl group that may have a substituent. A cycloalkyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, an alkoxyl group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, substituted Examples thereof include an alkylthio group which may have a group and an arylthio group which may have a substituent. When X 1 to X 4 have a substituent, the substituents may be the same or different. Specific examples thereof include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, an amino group, a hydroxyl group and a nitro group. In addition to the characteristic groups such as alkyl group, aryl group, cycloalkyl group, alkoxyl group, aryloxy group, alkylthio group, and arylthio group. Moreover, there may be a plurality of these substituents.
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ネオペンチル基、n−へキシル基、n−オクチル基、ステアリル基、2−エチルへキシル基等の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられ、「置換基を有するアルキル基」としては、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2−ジブロモエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2−エトキシエチル基、2−ブトキシエチル基、2−ニトロプロピル基、ベンジル基、4−メチルベンジル基、4−tert−プチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基、2,4−ジクロロベンジル基等が挙げられる。 As the “alkyl group” of the alkyl group which may have a substituent, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a neopentyl group, an n-hexyl group, Examples include a linear or branched alkyl group such as an n-octyl group, a stearyl group, and a 2-ethylhexyl group. Examples of the “alkyl group having a substituent” include a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, 2,2, 2-trifluoroethyl group, 2,2-dibromoethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-butoxyethyl group, 2-nitropropyl group, benzyl group, 4 -Methylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-nitrobenzyl group, 2,4-dichlorobenzyl group, etc. .
置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、「置換基を有するアリール基」としては、p−メチルフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−ニトロフェニル基、p−メトキシフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2−アミノフェニル基、2−メチル−4−クロロフェニル基、4−ヒドロキシ−1−ナフチル基、6−メチル−2−ナフチル基、4,5,8−トリクロロ−2−ナフチル基、アントラキノニル基、2−アミノアントラキノニル基等が挙げられる。 Examples of the “aryl group” of the aryl group which may have a substituent include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group, and the “aryl group having a substituent” includes a p-methylphenyl group, p- Bromophenyl group, p-nitrophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2-aminophenyl group, 2-methyl-4-chlorophenyl group, 4-hydroxy-1-naphthyl Group, 6-methyl-2-naphthyl group, 4,5,8-trichloro-2-naphthyl group, anthraquinonyl group, 2-aminoanthraquinonyl group and the like.
置換基を有してもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基等が挙げられ、「置換基を有するシクロアルキル基」としては、2,5−ジメチルシクロペンチル基、4−tert−プチルシクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the “cycloalkyl group” of the cycloalkyl group which may have a substituent include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group and the like, and examples of the “cycloalkyl group having a substituent” include 2,5 -A dimethylcyclopentyl group, 4-tert- butyl cyclohexyl group, etc. are mentioned.
置換基を有してもよい複素環式基の「複素環式基」としては、ピリジル基、ピラジル基、ピペリジノ基、ピラニル基、モルホリノ基、アクリジニル基等が挙げられ、「置換基を有する複素環式基」としては、3−メチルピリジル基、N−メチルピペリジル基、N−メチルピロリル基等が挙げられる。 Examples of the “heterocyclic group” of the heterocyclic group which may have a substituent include a pyridyl group, a pyrazyl group, a piperidino group, a pyranyl group, a morpholino group, an acridinyl group, and the like. Examples of the “cyclic group” include a 3-methylpyridyl group, an N-methylpiperidyl group, and an N-methylpyrrolyl group.
置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、2,3−ジメチル−3−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、ステアリルオキシ基、2−エチルへキシルオキシ基等の直鎖又は分岐アルコキシル基が挙げられ、「置換基を有するアルコキシル基」としては、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ基、2,2−ジトリフルオロメチルプロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、2−ブトキシエトキシ基、2−ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。 As the “alkoxyl group” of the alkoxyl group which may have a substituent, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, neopentyloxy group, 2 , 3-dimethyl-3-pentyloxy, n-hexyloxy group, n-octyloxy group, stearyloxy group, 2-ethylhexyloxy group and the like linear and branched alkoxyl groups such as “alkoxyl having a substituent” Examples of the group include trichloromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 2,2,3,3-tetrafluoropropoxy group, 2,2-ditrifluoromethylpropoxy group, 2- Ethoxyethoxy group, 2-butoxyethoxy group, 2-nitropropoxy group, benzyloxy group, etc. And the like.
置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アンスリルオキシ基等が挙げられ、「置換基を有するアリールオキシ基」としては、p−メチルフェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基、p−メトキシフェノキシ基、2,4−ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、2−メチル−4−クロロフェノキシ基等が挙げられる。 Examples of the “aryloxy group” of the aryloxy group which may have a substituent include a phenoxy group, a naphthoxy group, an anthryloxy group, and the like, and the “aryloxy group having a substituent” includes p-methyl. Examples include phenoxy group, p-nitrophenoxy group, p-methoxyphenoxy group, 2,4-dichlorophenoxy group, pentafluorophenoxy group, 2-methyl-4-chlorophenoxy group.
置換基を有してもよいアルキルチオ基の「アルキルチオ基」としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられ、「置換基を有するアルキルチオ基」としては、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。 Examples of the “alkylthio group” of the alkylthio group which may have a substituent include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group, a hexylthio group, an octylthio group, a decylthio group, a dodecylthio group, and an octadecylthio group. Examples of the “alkylthio group having a substituent” include a methoxyethylthio group, an aminoethylthio group, a benzylaminoethylthio group, a methylcarbonylaminoethylthio group, a phenylcarbonylaminoethylthio group, and the like.
置換基を有してもよいアリールチオ基の「アリールチオ基」としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基等が挙げられ、「置換基を有するアリールチオ基」としては、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、2−アミノフェニルチオ基、2−ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。 Examples of the “arylthio group” of the arylthio group which may have a substituent include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, a 9-anthrylthio group, and the like, and “an arylthio group having a substituent” Chlorophenylthio group, trifluoromethylphenylthio group, cyanophenylthio group, nitrophenylthio group, 2-aminophenylthio group, 2-hydroxyphenylthio group and the like.
次に、Y1〜Y4の具体例としては、ハロゲン原子、ニトロ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基(C6H4(CO)2N−CH2−)、スルファモイル基(H2NSO2−)が挙げられる。また、置換基を有するフタルイミドメチル基とは、フタルイミドメチル基中の水素原子が置換基により置換された構造を表し、置換基を有するスルファモイル基とは、スルファモイル基中の水素原子が置換基により置換された構造を表す。好ましいY1〜Y4は、ハロゲン原子及びスルファモイル基である。m1〜m4が0である(つまり、Y1〜Y4がない)フタロシアニン化合物も好適に使用できる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、及び、置換基を有してもよいスルファモイル基の「置換基」としては、X1〜X4の置換基と同義である。 Next, specific examples of Y 1 to Y 4 include a halogen atom, a nitro group, an optionally substituted phthalimidomethyl group (C 6 H 4 (CO) 2 N—CH 2 —), a sulfamoyl group ( H 2 NSO 2 —). Moreover, the phthalimidomethyl group having a substituent represents a structure in which a hydrogen atom in the phthalimidomethyl group is substituted by a substituent, and the sulfamoyl group having a substituent is a hydrogen atom in the sulfamoyl group substituted by a substituent. Represents the resulting structure. Preferred Y 1 to Y 4 are a halogen atom and a sulfamoyl group. m1~m4 is 0 (i.e., no Y 1 to Y 4) phthalocyanine compound can be preferably used. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. The “substituent” of the phthalimidomethyl group which may have a substituent and the sulfamoyl group which may have a substituent has the same meaning as the substituents of X 1 to X 4 .
フタロシアニン系顔料としては、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37、C.I.ピグメントグリーン58、C.I.ピグメントブルー16、C.I.ピグメントブルー75、及びC.I.ピグメントブルー15(15:1から15:6等を含む)等が好ましく、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン58、C.I.ピグメントブルー15:1〜15:6がより好ましい。フタロシアニン系顔料は、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of the phthalocyanine pigment include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment green 37, C.I. I. Pigment green 58, C.I. I. Pigment blue 16, C.I. I. Pigment blue 75, and C.I. I. Pigment Blue 15 (including 15: 1 to 15: 6) and the like are preferable. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment green 58, C.I. I. Pigment Blue 15: 1 to 15: 6 is more preferable. A phthalocyanine pigment can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
本発明に用いられるフタロシアニン系顔料は、公知の方法にて製造することができる。また、市販のフタロシアニン系顔料を用いてもよい。 The phthalocyanine pigment used in the present invention can be produced by a known method. Commercially available phthalocyanine pigments may also be used.
ペリレン系顔料としては、下記式(e−1)で表されるペリレン系顔料、下記式(e−2)で表されるペリレン系顔料、及び下記式(e−3)で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、BASF社製の製品名K0084、及びK0086や、ピグメントブラック21、30、31、32、33、及び34等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。 As a perylene pigment, a perylene pigment represented by the following formula (e-1), a perylene pigment represented by the following formula (e-2), and a perylene pigment represented by the following formula (e-3) Pigments. As commercial products, product names K0084 and K0086 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene pigments.
式(e−1)中、Re1及びRe2は、それぞれ独立に炭素原子数1〜3のアルキレン基を表し、Re3及びRe4は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。
In formula (e-1), R e1 and R e2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R e3 and R e4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or Represents an acetyl group.
上記の式(e−1)で表される化合物、式(e−2)で表される化合物、及び式(e−3)で表される化合物は、例えば、特開昭62−1753号公報、特公昭63−26784号公報等に記載の方法を用いて合成することができる。即ち、ペリレン−3,5,9,10−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒若しくはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。 Examples of the compound represented by the above formula (e-1), the compound represented by the formula (e-2), and the compound represented by the formula (e-3) include, for example, JP-A-62-17353. Can be synthesized using the method described in JP-B 63-26784. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or a dianhydride thereof and an amine are used as raw materials, and a heating reaction is performed in water or an organic solvent. The target product can be obtained by reprecipitation of the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallization in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.
ペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。 In order to disperse the perylene pigment satisfactorily, the average particle size of the perylene pigment is preferably 10 to 1000 nm.
その他、本発明に係る顔料分散液には、色調を調整する目的で、紫色、オレンジ色、茶色、黄色等の色調を有する、含窒素芳香環化合物からなる顔料を加えてもよい。例えば、
ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、36、37、38、39、42、44、47、49、50、ソルベントバイオレット(Solvent Violet)13、36等の紫色顔料、
C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、14、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、40、43、46、48、49、51、61、62、63、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79等のオレンジ色顔料、
C.I.ピグメントブラウン23、25等の茶色顔料、
C.I.ピグメントイエロー83、117、129、138、139、150、154、155、180、185等の黄色顔料が挙げられる。
In addition, for the purpose of adjusting the color tone, a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound having a color tone of purple, orange, brown, yellow, or the like may be added to the pigment dispersion according to the present invention. For example,
Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, Purple pigments such as 36, 37, 38, 39, 42, 44, 47, 49, 50, Solvent Violet 13, 36,
C. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 14, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 40, 43, 46, 48, 49, 51, 61, 62, 63, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 and other orange pigments,
C. I. Brown pigments such as CI Pigment Brown 23 and 25,
C. I. And yellow pigments such as CI Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, and 185.
含窒素芳香環化合物からなる顔料の含有量は、本発明に係る顔料分散液の固形分に対して、5〜95質量%が好ましく、25〜90質量%がより好ましい。 The content of the pigment composed of the nitrogen-containing aromatic ring compound is preferably 5 to 95% by mass and more preferably 25 to 90% by mass with respect to the solid content of the pigment dispersion according to the present invention.
[分散剤]
本発明に係る顔料分散液は、分散剤を含有する。上記顔料分散液が分散剤を含有すると、上記顔料分散液において、顔料が均一に分散しやすくなる。分散剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
[Dispersant]
The pigment dispersion according to the present invention contains a dispersant. When the pigment dispersion contains a dispersant, the pigment is easily dispersed uniformly in the pigment dispersion. A dispersing agent may be used independently and may use 2 or more types together.
分散剤としては、公知のものが挙げられ、ポリエチレンイミン系高分子分散剤、ウレタン樹脂系高分子分散剤、アクリル樹脂系高分子分散剤を用いることが好ましい。 Examples of the dispersant include known ones, and it is preferable to use a polyethyleneimine polymer dispersant, a urethane resin polymer dispersant, and an acrylic resin polymer dispersant.
本発明に係る顔料分散液において、分散剤の含有量は、顔料100質量部に対して、1〜50質量部であることが好ましく、1〜20質量部であることがより好ましく、1〜15質量部であることが更に好ましい。分散剤の含有量が上記の範囲であると、本発明に係る顔料分散液における顔料の均一な分散が更に容易になる。また、上限が小さいほど、後述の感光性樹脂組成物において、各成分のバランスが良好となりやすく、当該感光性樹脂組成物における他成分の配合量を相対的に増加させることができるため、感度等の他の特性を向上させやすくなる。感度特性について、特に感光波長を吸収してしまう青色系の顔料を用いた際の効果が良好となる。 In the pigment dispersion according to the present invention, the content of the dispersant is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment, and 1 to 15 More preferably, it is part by mass. When the content of the dispersant is in the above range, uniform dispersion of the pigment in the pigment dispersion according to the present invention is further facilitated. In addition, as the upper limit is smaller, in the photosensitive resin composition described later, the balance of each component tends to be better, and the blending amount of other components in the photosensitive resin composition can be relatively increased. It becomes easy to improve other characteristics. As for the sensitivity characteristics, the effect is particularly good when a blue pigment that absorbs the photosensitive wavelength is used.
[オキシムエステル化合物]
本発明に係る顔料分散液は、オキシム基に含まれる炭素原子に、芳香環を含む有機基と、カルボニル基を介して、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環とが結合したオキシムエステル化合物を含有する。このオキシムエステル化合物は、光重合開始剤としての機能と分散助剤としての機能とを兼ね備える。そのため、含窒素芳香環化合物からなる顔料を含有する顔料分散液は、上記オキシムエステル化合物を含有すると、分散剤の含有量を減らしても顔料の分散安定性が良好となりやすい。即ち、上記オキシムエステル化合物を用いることで、顔料の分散安定性を損なわずに、顔料分散液中の分散剤の含有量を減らすことが容易となる。結果として、分散剤の一部を上記オキシムエステル化合物で置き換えたこととなる。上記オキシムエステル化合物は、光重合開始剤としても機能するため、上記の置き換えは、分散剤の含有量を減らし、光重合開始剤の含有量を増やしたことに該当する。よって、上記オキシムエステル化合物を含有する顔料分散液から得られる感光性樹脂組成物において、光重合開始剤の含有量を増やすことができ、この感光性樹脂組成物から低露光量で高密着性の微小パターンを形成することが容易となる。上記オキシムエステル化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Oxime ester compound]
The pigment dispersion according to the present invention includes an oxime ester compound in which an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring is bonded to a carbon atom contained in an oxime group via an organic group containing an aromatic ring and a carbonyl group. contains. This oxime ester compound has both a function as a photopolymerization initiator and a function as a dispersion aid. Therefore, when the pigment dispersion containing a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound contains the oxime ester compound, the dispersion stability of the pigment tends to be good even if the content of the dispersant is reduced. That is, by using the oxime ester compound, it becomes easy to reduce the content of the dispersant in the pigment dispersion without impairing the dispersion stability of the pigment. As a result, a part of the dispersant is replaced with the oxime ester compound. Since the oxime ester compound also functions as a photopolymerization initiator, the above replacement corresponds to reducing the content of the dispersant and increasing the content of the photopolymerization initiator. Therefore, in the photosensitive resin composition obtained from the pigment dispersion containing the oxime ester compound, the content of the photopolymerization initiator can be increased. From the photosensitive resin composition, a low exposure amount and high adhesion can be obtained. It becomes easy to form a minute pattern. The said oxime ester compound can be used individually or in combination of 2 or more types.
含窒素芳香環化合物からなる顔料において、π電子系は、分子中に含まれる窒素原子の影響により、窒素原子を含まない場合と比較して、不安定な状態となっている。そのため、含窒素芳香環化合物からなる顔料は、分散安定性が良好となりにくい。本発明に係る顔料分散液で用いられる上記オキシムエステル化合物は、オキシム基及びカルボニル基を含み、更に、これらの基に芳香環が結合しているため、安定なπ電子系を形成している。上記オキシムエステル化合物と含窒素芳香環化合物からなる顔料との間では、π−π相互作用が生じ、互いの分子がスタッキングして、上記顔料のπ電子系は安定化されると推測される。その結果として、上記オキシムエステル化合物は、含窒素芳香環化合物からなる顔料の分散安定性を向上させることができるものと考えられる。 In a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound, the π-electron system is unstable due to the influence of the nitrogen atom contained in the molecule as compared with the case where no nitrogen atom is contained. Therefore, a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound is unlikely to have good dispersion stability. The oxime ester compound used in the pigment dispersion according to the present invention contains an oxime group and a carbonyl group, and further, an aromatic ring is bonded to these groups, so that a stable π electron system is formed. It is presumed that a π-π interaction occurs between the oxime ester compound and the pigment composed of the nitrogen-containing aromatic ring compound, the molecules of each other are stacked, and the π electron system of the pigment is stabilized. As a result, it is considered that the oxime ester compound can improve the dispersion stability of a pigment composed of a nitrogen-containing aromatic ring compound.
上記オキシムエステル化合物は、分散助剤として、特に、含窒素芳香環化合物からなる顔料を分散するために分散助剤として、好適に用いることができる。 The oxime ester compound can be suitably used as a dispersion aid, particularly as a dispersion aid for dispersing a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound.
上記オキシムエステル化合物において、芳香環を含む有機基としては、特に限定されないが、例えば、置換基を有してもよいアリール基が挙げられる。置換基を有してもよいアリール基としては、下記において式(1)中のR1について例示する基が挙げられる。 In the oxime ester compound, the organic group containing an aromatic ring is not particularly limited, and examples thereof include an aryl group which may have a substituent. Examples of the aryl group which may have a substituent include groups exemplified below for R 1 in the formula (1).
上記オキシムエステル化合物において、芳香族炭化水素環としては、特に限定されないが、例えば、置換基を有してもよいアリール基が挙げられる。また、上記オキシムエステル化合物において、芳香族複素環としては、特に限定されないが、例えば、置換基を有してもよいヘテロアリール基が挙げられる。置換基を有してもよいアリール基及び置換基を有してもよいヘテロアリール基としては、下記において式(1)中のR2について例示する基が挙げられる。 In the oxime ester compound, the aromatic hydrocarbon ring is not particularly limited, and examples thereof include an aryl group which may have a substituent. In the oxime ester compound, the aromatic heterocycle is not particularly limited, and examples thereof include a heteroaryl group which may have a substituent. Examples of the aryl group which may have a substituent and the heteroaryl group which may have a substituent include groups exemplified below for R 2 in the formula (1).
上記オキシムエステル化合物としては、例えば、下記式(1)で表されるオキシムエステル化合物が挙げられる。 As said oxime ester compound, the oxime ester compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.
式(1)中、R1は、置換基を有してもよいアリール基を示す。置換基を有してもよいアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル基が挙げられる。 In formula (1), R 1 represents an aryl group which may have a substituent. Examples of the aryl group that may have a substituent include a phenyl group that may have a substituent.
R1において、アリール基又はフェニル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基が有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R 1 , the substituent that the aryl group or the phenyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the phenyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. Phenyl group which may have, phenoxy group which may have substituent, phenylthio group which may have substituent, benzoyl group which may have substituent, phenoxy which may have substituent Carbonyl group, optionally substituted benzoyloxy group, optionally substituted phenylalkyl group, optionally substituted naphthyl group, optionally substituted naphthoxy group, substituted A naphthoyl group which may have a group, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent Heterocyclyl group which may have a substituent, Heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, Amino group, Amino group substituted with 1 or 2 organic groups, Morpholin-1-yl group, Piperazine-1- Yl group, halogen atom, nitro group, cyano group and the like.
置換基がアルキル基である場合、炭素数1〜20が好ましく、炭素数1〜6がより好ましい。置換基がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、置換基がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When a substituent is an alkyl group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. When the substituent is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when the substituent is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When the substituent is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
置換基がアルコキシ基である場合、炭素数1〜20が好ましく、炭素数1〜6がより好ましい。また、置換基がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。置換基がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチオキシル基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、置換基がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When a substituent is an alkoxy group, C1-C20 is preferable and C1-C6 is more preferable. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where the substituent is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When the substituent is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.
置換基がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、炭素数3〜10が好ましく、炭素数3〜6がより好ましい。置換基がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。置換基がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When a substituent is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, C3-C10 is preferable and C3-C6 is more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.
置換基が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素数2〜20が好ましく、炭素数2〜7がより好ましい。置換基が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。置換基が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When a substituent is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, C2-C20 is preferable and C2-C7 is more preferable. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.
置換基がアルコキシカルボニル基である場合、炭素数2〜20が好ましく、炭素数2〜7がより好ましい。置換基がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When a substituent is an alkoxycarbonyl group, C2-C20 is preferable and C2-C7 is more preferable. Specific examples when the substituent is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Seo nonyloxycarbonyl group, n- decyl oxycarbonyl group, and the like isodecyl oxycarbonyl group.
置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合、炭素数7〜20が好ましく、炭素数7〜10がより好ましい。また、置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合、炭素数11〜20が好ましく、炭素数11〜14がより好ましい。置換基が置換基を有してもよいフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。置換基が置換基を有してもよいナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。 When the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent, the carbon number is preferably 7-20, and more preferably 7-10. Moreover, when a substituent is a naphthyl alkyl group which may have a substituent, C1-C20 is preferable and C-11-C14 is more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where the substituent is an optionally substituted naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β -Naphthyl) ethyl group.
置換基が置換基を有してもよいヘテロシクリル基である場合、上記ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。上記ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。 When the substituent is a heterocyclyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or This is a heterocyclyl group in which a single ring and a benzene ring are condensed. In the case where the heterocyclyl group is a condensed ring, the number is 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline.
置換基が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、上記で置換基について例示したものと同様である。1又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When the substituent is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, and carbon numbers 2 -20 saturated aliphatic acyl group, phenyl group optionally having substituent, benzoyl group optionally having substituent, phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms optionally having substituent, substituted Examples thereof include a naphthyl group which may have a group, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a heterocyclyl group. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those exemplified above for the substituent. Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, and n-butyl. Amino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthyl Amino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-deca Examples thereof include a noylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.
上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が更に置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素数1〜6のアルキル基;炭素数1〜6のアルコキシ基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。上記置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group, and the like further have a substituent in the above substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen atom; nitro group; It is. When the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like contained in the above substituent further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When a phenyl group, a naphthyl group, a heterocyclyl group, and the like have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
式(1)中、R2は、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいヘテロアリール基を示す。置換基を有してもよいアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル基が挙げられる。置換基を有してもよいヘテロアリール基としては、例えば、置換基を有してもよいカルバゾリル基が挙げられる。 In formula (1), R 2 represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent. Examples of the aryl group that may have a substituent include a phenyl group that may have a substituent. Examples of the heteroaryl group which may have a substituent include a carbazolyl group which may have a substituent.
R2において、アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R 2 , the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, and a saturated aliphatic group. An acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, and a substituent. A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, and a substituent A good naphthyl group, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent Good naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, amino group, 1 or 2 organic groups And an amino group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group and a cyano group substituted with
R2がヘテロアリール基又はカルバゾリル基である場合、ヘテロアリール基が窒素原子等のヘテロ原子上に有してもよい好適な置換基、及び、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、アルキル基が好ましく、炭素数1〜20のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜6のアルキル基が更により好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R 2 is a heteroaryl group or a carbazolyl group, a suitable substituent that the heteroaryl group may have on a heteroatom such as a nitrogen atom, and a preferred case that the carbazolyl group may have on a nitrogen atom Examples of such substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, phenyl groups that may have substituents, benzoyl groups that may have substituents, and substituents. Phenoxycarbonyl group which may have, phenylalkyl group which may have substituent, naphthyl group which may have substituent, naphthoyl group which may have substituent, And a good naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, and the like. It is. Among these substituents, an alkyl group is preferable, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is still more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
アリール基、ヘテロアリール基、フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、R1について説明したのと同様である。 Specific examples of the substituent that the aryl group, heteroaryl group, phenyl group, or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, and a saturated aliphatic acyloxy group. Substituted with a group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and 1 or 2 organic groups The amino group thus prepared is the same as that described for R 1 .
上記置換基において、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基等が更に置換基を有する場合の置換基に関しては、R1について説明したのと同様である。 In the above substituents, the substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group and the like further have a substituent is the same as described for R 1 .
R2の中では、感光性樹脂組成物が感度に優れる点から、下記式(2)又は(3)で表される基が好ましく、下記式(2)で表される基がより好ましく、下記式(2)で表される基であって、AがSである基が特に好ましい。 Among R 2 , a group represented by the following formula (2) or (3) is preferable, a group represented by the following formula (2) is more preferable, from the viewpoint that the photosensitive resin composition is excellent in sensitivity. A group represented by the formula (2) in which A is S is particularly preferable.
感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する場合、パターン形成時のポストベークの工程での加熱によって、パターンに着色が生じやすい。しかし、感光性樹脂組成物において、光重合開始剤として、R2が上記式(2)で表される基であって、AがSである基である、式(1)で表されるオキシムエステル化合物を用いる場合、加熱によるパターンの着色を抑制できる。 When a pattern is formed using the photosensitive resin composition, the pattern is likely to be colored by heating in the post-baking process during pattern formation. However, in the photosensitive resin composition, as a photopolymerization initiator, R 2 is a group represented by the above formula (2), and A is a group in which S is a oxime represented by the formula (1) When using an ester compound, the coloring of the pattern by heating can be suppressed.
式(2)におけるR4が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(2)においてR4が有機基である場合の好適な例としては、炭素数1〜6のアルキル基;炭素数1〜6のアルコキシ基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。 When R 4 in the formula (2) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable example of R 4 in the formula (2) is an organic group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a piperazin-1-yl group and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms A dialkylamino group; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; and a cyano group.
R4の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In R 4 , substituted by a group selected from the group consisting of benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, and phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.
また、式(2)において、nは、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1であるのが特に好ましい。nが1である場合、R4の結合する位置は、R4が結合するフェニル基が原子Aと結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In the formula (2), n is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. when n is 1, the binding position of R 4 is, relative to the bond to the phenyl group R 4 is bonded is bonded to the atom A, it is preferably in the para position.
式(3)におけるR5は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。R5の好適な例としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R 5 in Formula (3) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of R 5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, Phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthoxycarbonyl group, and an optionally substituted carbon number 11 to 20 Naphthylalkyl group, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, and the like.
R5の中では、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 Among R 5 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an ethyl group is particularly preferred.
式(3)におけるR6は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。R6として好適な基の具体例としては、炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。R6として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基がより好ましく、2−メチルフェニル基が特に好ましい。 R 6 in formula (3) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of suitable groups as R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. Among these groups, R 6 is more preferably a phenyl group which may have a substituent, and particularly preferably a 2-methylphenyl group.
R4、R5、又はR6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合の置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。R4、R5、又はR6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。R4、R5、又はR6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent, the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Monoalkylamino having an alkoxy group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, 1-4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 , or R 6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
式(1)中、R3は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基である。R3としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 In Formula (1), R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 3 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.
一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物は、例えば、下記スキームに従って合成することができる。具体的には、下記一般式(2−1)で表されるケトン化合物に、塩酸の存在下に下記一般式(2−2)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素数1〜6のアルキル基。)を反応させて、下記一般式(2−3)で表されるケトオキシム化合物を得、次いで、下記一般式(2−3)で表されるケトオキシム化合物と、下記一般式(2−4)で表される酸無水物((R3CO)2O)、又は下記一般式(2−5)で表される酸ハライド(R3COHal、Halはハロゲン。)とを反応させて、下記一般式(2−6)で表されるオキシムエステル化合物を得ることができる。なお、下記一般式(2−1)、(2−3)、(2−4)、(2−5)、及び(2−6)において、R1、R2、R3、及びmは、一般式(1)と同様である。 The oxime ester compound represented by the general formula (1) can be synthesized, for example, according to the following scheme. Specifically, a ketone compound represented by the following general formula (2-1) is added to a nitrite ester (RONO, R represented by the following general formula (2-2) in the presence of hydrochloric acid in the presence of hydrochloric acid. 6) to obtain a ketoxime compound represented by the following general formula (2-3), and then a ketoxime compound represented by the following general formula (2-3) and the following general formula (2). 2-4) is reacted with an acid anhydride ((R 3 CO) 2 O) or an acid halide represented by the following general formula (2-5) (R 3 COHal, Hal is halogen). Thus, an oxime ester compound represented by the following general formula (2-6) can be obtained. In the following general formulas (2-1), (2-3), (2-4), (2-5), and (2-6), R 1 , R 2 , R 3 , and m are: The same as in the general formula (1).
<スキーム>
一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のPI−1〜PI−42が挙げられる。
本発明に係る顔料分散液において、上記オキシムエステル化合物の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。上記オキシムエステル化合物の含有量は、典型的には、顔料100質量部に対して、1〜50質量部であることが好ましく、1〜10質量部であることがより好ましい。上記オキシムエステル化合物の含有量をかかる範囲とすることにより、得られる顔料分散液において、顔料の分散安定性が良好となりやすい。また、上記オキシムエステル化合物の含有量が上記の範囲である顔料分散液は、低露光量で高密着性の微小パターンを形成することができる感光性樹脂組成物を調製するのに好適に用いることができる。 In the pigment dispersion according to the present invention, the content of the oxime ester compound is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The content of the oxime ester compound is typically preferably 1 to 50 parts by mass and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. By setting the content of the oxime ester compound in such a range, the dispersion stability of the pigment tends to be good in the obtained pigment dispersion. In addition, a pigment dispersion in which the content of the oxime ester compound is in the above range is preferably used for preparing a photosensitive resin composition capable of forming a highly adhesive micropattern with a low exposure amount. Can do.
また、本発明に係る顔料分散液において、分散剤と上記オキシムエステル化合物との合計の含有量が、顔料100質量部に対して、1〜60質量部であることが好ましく、1〜55質量部であることがより好ましく、1〜20質量部であることが更に好ましい。上記合計の含有量が上記の範囲であると、本発明に係る顔料分散液における顔料の均一な分散や上記オキシムエステル化合物による効果を確保しつつ、上記顔料分散液及びこの顔料分散液から得られる感光性樹脂組成物において、各成分のバランスが良好となりやすい。また上限が小さいほど、当該感光性樹脂組成物における他成分の配合量を相対的に増加させることができるため、感度等の他の特性を向上させやすくなる。 In the pigment dispersion according to the present invention, the total content of the dispersant and the oxime ester compound is preferably 1 to 60 parts by mass, and 1 to 55 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. It is more preferable that it is 1-20 mass parts. When the total content is in the above range, the pigment dispersion and the pigment dispersion can be obtained while ensuring the uniform dispersion of the pigment in the pigment dispersion according to the present invention and the effect of the oxime ester compound. In the photosensitive resin composition, the balance of each component tends to be good. Moreover, since the compounding quantity of the other component in the said photosensitive resin composition can be increased relatively, so that an upper limit is small, it becomes easy to improve other characteristics, such as a sensitivity.
[溶剤]
本発明に係る顔料分散液における溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル部炭酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。溶剤は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[solvent]
Examples of the solvent in the pigment dispersion according to the present invention include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol Mono-n-butyl ether, dipropylene glycol (Poly) alkylene glycol monoalkyl such as monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether Ethers: (poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate Kind; di Other ethers such as tylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate Alkyl lactates such as ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, Hydroxyethyl acetate, 2-hydroxy-3-methyl methyl carbonate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropione , Ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyrate Other esters such as butyl, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methyl Examples include pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, amides such as N, N-dimethylacetamide, and the like. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3−メトキシブチルアセテートは、後述のアルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、及び光重合開始剤、並びに上記式(1)で表される化合物に対して優れた溶解性を示すとともに、上記顔料の分散性を良好にすることができるため好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。 Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, and 3-methoxybutyl acetate are alkali-soluble as described below. The resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator, and the compound represented by the above formula (1) exhibit excellent solubility and are preferable because the dispersibility of the pigment can be improved. It is particularly preferable to use propylene glycol monomethyl ether acetate or 3-methoxybutyl acetate.
溶剤の含有量は、本発明に係る顔料分散液の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。 The amount of the solvent is preferably such that the solid content concentration of the pigment dispersion according to the present invention is 1 to 50% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass.
[オキシムエステル化合物以外の分散助剤]
本発明に係る顔料分散液は、任意成分として、上記オキシムエステル化合物以外の分散助剤を含んでいてもよい。上記オキシムエステル化合物以外の分散助剤は、スタッキング性の点で含窒素芳香環を有する分散助剤であることが好ましく、例えば、後述の感光性樹脂組成物を用いて、基板への密着性と、耐水性とが良好なパターンを形成することができる点で、含窒素芳香環を有するシランカップリング剤であることが好ましい。含窒素芳香環を有するシランカップリング剤として、具体的には、下記式(11)で表されるものが好ましい。
[Dispersion aids other than oxime ester compounds]
The pigment dispersion according to the present invention may contain a dispersion aid other than the oxime ester compound as an optional component. The dispersion aid other than the oxime ester compound is preferably a dispersion aid having a nitrogen-containing aromatic ring in terms of stacking properties. For example, using a photosensitive resin composition described later, A silane coupling agent having a nitrogen-containing aromatic ring is preferred in that a pattern having good water resistance can be formed. Specifically as a silane coupling agent which has a nitrogen-containing aromatic ring, what is represented by following formula (11) is preferable.
R11 pR12 (3−p)Si−R13−NH−C(O)−Y−R14−X・・・(11)
(式(11)中、R11はアルコキシ基であり、R12はアルキル基であり、pは1〜3の整数であり、R13はアルキレン基であり、Yは−NH−、−O−、又は−S−であり、R14は単結合、又はアルキレン基であり、Xは、置換基を有していてもよく単環でも多環でもよい含窒素ヘテロアリール基であり、X中の−Y−R14−と結合する環は含窒素6員芳香環であり、−Y−R14−は前記含窒素6員芳香環中の炭素原子と結合する。)
R 11 p R 12 (3-p) Si—R 13 —NH—C (O) —Y—R 14 —X (11)
(In Formula (11), R 11 is an alkoxy group, R 12 is an alkyl group, p is an integer of 1 to 3, R 13 is an alkylene group, and Y is —NH— or —O—. Or -S-, R 14 is a single bond or an alkylene group, X is a nitrogen-containing heteroaryl group which may have a substituent and may be monocyclic or polycyclic, The ring bonded to —Y—R 14 — is a nitrogen-containing 6-membered aromatic ring, and —Y—R 14 — is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing 6-membered aromatic ring.
式(11)中、R11はアルコキシ基である。R11について、アルコキシ基の炭素原子数は1〜6が好ましく、1〜4がより好ましく、シランカップリング剤の反応性の観点から1又は2が特に好ましい。R11の好ましい具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、及びn−ヘキシルオキシ基が挙げられる。これらのアルコキシ基の中では、メトキシ基、及びエトキシ基が好ましい。 In formula (11), R 11 is an alkoxy group. For R 11, number of carbon atoms in the alkoxy group 1 to 6, more preferably 1 to 4, from the viewpoint of the reactivity of the silane coupling agent 1 or 2 are particularly preferred. Preferable specific examples of R 11 include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, and n. -A hexyloxy group is mentioned. Among these alkoxy groups, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.
アルコキシ基であるR11が加水分解されて生成するシラノール基が基板の表面等と反応することで、後述の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンの基板表面への密着性が向上する。このため、パターンの基板表面への密着性を向上させやすい点から、pは3であるのが好ましい。 The silanol group produced by hydrolysis of R 11, which is an alkoxy group, reacts with the surface of the substrate and the like, thereby improving the adhesion of the pattern formed using the photosensitive resin composition described later to the substrate surface. . For this reason, p is preferably 3 from the viewpoint of easily improving the adhesion of the pattern to the substrate surface.
式(11)中、R12はアルキル基である。R12について、アルキル基の炭素原子数は1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、シランカップリング剤の反応性の観点から1又は2が特に好ましい。R12の好ましい具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、及びn−ドデシル基が挙げられる。 In formula (11), R 12 is an alkyl group. For R 12, the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, from the viewpoint of the reactivity of the silane coupling agent 1 or 2 are particularly preferred. Preferable specific examples of R 12 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl group. N-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, and n-dodecyl group.
式(11)中、R13はアルキレン基である。R13について、アルキレン基の炭素原子数は1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、2〜4が特に好ましい。R13の好ましい具体例としては、メチレン基、1,2−エチレン基、1,1−エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、ブタン−1,2−ジイル基、ブタン−1,1−ジイル基、ブタン−2,2−ジイル基、ブタン−2,3−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、及びヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、及びドデカン−1,12−ジイル基が挙げられる。これらのアルキレン基の中では、1,2−エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、及びブタン−1,4−ジイル基が好ましい。 In formula (11), R 13 is an alkylene group. For R 13, the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 6, 2 to 4 are particularly preferred. Preferred examples of R 13 include methylene group, 1,2-ethylene group, 1,1-ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-1,1- Diyl group, propane-2,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,2-diyl group, butane-1,1-diyl group, butane- 2,2-diyl group, butane-2,3-diyl group, pentane-1,5-diyl group, pentane-1,4-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7- And diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, and dodecane-1,12-diyl group. It is done. Among these alkylene groups, 1,2-ethylene group, propane-1,3-diyl group, and butane-1,4-diyl group are preferable.
Yは−NH−、−O−、又は−S−であり、−NH−であるのが好ましい。−CO−O−、又は−CO−S−で表される結合よりも、−CO−NH−で表される結合のほうが加水分解を受けにくいため、後述の感光性樹脂組成物においてYが−NH−であるシランカップリング剤を用いると、耐水性に優れるパターンを形成しやすい。 Y is —NH—, —O—, or —S—, and is preferably —NH—. Since the bond represented by -CO-NH- is less susceptible to hydrolysis than the bond represented by -CO-O- or -CO-S-, Y in the photosensitive resin composition described later is- When a silane coupling agent that is NH- is used, a pattern having excellent water resistance can be easily formed.
R14は単結合、又はアルキレン基であり、単結合であるのが好ましい。R14がアルキレン基である場合の好ましい例は、R13と同様である。 R 14 is a single bond or an alkylene group, and preferably a single bond. Preferable examples when R 14 is an alkylene group are the same as those for R 13 .
Xは、置換基を有していてもよく単環でも多環でもよい含窒素ヘテロアリール基であり、X中の−Y−R14−と結合する環は含窒素6員芳香環であり、−Y−R14−は該含窒素6員芳香環中の炭素原子と結合する。理由は不明であるが、後述の感光性樹脂組成物においてこのようなXを有するシランカップリング剤を用いると、基板への密着性と、耐水性とに優れるパターンを形成できる。 X is a nitrogen-containing heteroaryl group which may have a substituent and may be monocyclic or polycyclic, and the ring bonded to —Y—R 14 — in X is a nitrogen-containing 6-membered aromatic ring, -YR 14 -is bonded to a carbon atom in the nitrogen-containing 6-membered aromatic ring. The reason is unknown, but when a silane coupling agent having such X in the photosensitive resin composition described later is used, a pattern having excellent adhesion to the substrate and water resistance can be formed.
Xが多環ヘテロアリール基である場合、ヘテロアリール基は、複数の単環が縮合した基であってもよく、複数の単環が単結合を介して結合した基であってもよい。Xが多環ヘテロアリール基である場合、多環ヘテロアリール基に含まれる環数は1〜3が好ましい。Xが多環ヘテロアリール基である場合、X中の含窒素6員芳香環に縮合又は結合する環は、ヘテロ原子を含んでいても含んでいなくてもよく、芳香環であっても芳香環でなくてもよい。 When X is a polycyclic heteroaryl group, the heteroaryl group may be a group in which a plurality of monocycles are condensed or a group in which a plurality of monocycles are bonded via a single bond. When X is a polycyclic heteroaryl group, the number of rings contained in the polycyclic heteroaryl group is preferably 1 to 3. When X is a polycyclic heteroaryl group, the ring condensed or bonded to the nitrogen-containing 6-membered aromatic ring in X may or may not contain a hetero atom, and may be an aromatic ring or an aromatic ring. It does not have to be a ring.
含窒素ヘテロアリール基であるXが有していてもよい置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜6のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜6の脂肪族アシル基、ベンゾイル基、ニトロ基、ニトロソ基、アミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、スルホン酸基、カルボキシル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。Xが有する置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Xが有する置換基の数は、5以下が好ましく、3以下がより好ましい。Xが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同じであっても、異なっていてもよい。 Examples of the substituent that X which is a nitrogen-containing heteroaryl group may have include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, C2-C6 alkenyloxy group, C2-C6 aliphatic acyl group, benzoyl group, nitro group, nitroso group, amino group, hydroxy group, mercapto group, cyano group, sulfonic acid group, carboxyl group And halogen atoms. The number of substituents X has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The number of substituents X has is preferably 5 or less, more preferably 3 or less. When X has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
Xの好ましい例としては、下記式の基が挙げられる。
上記の基の中でも、下記式の基がXとしてより好ましい。
以上説明した、式(11)で表される化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (11) described above include the following compounds.
上記オキシムエステル化合物以外の分散助剤の含有量は、本発明に係る顔料分散液において、0.1〜10質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。 In the pigment dispersion according to the present invention, the content of the dispersion aid other than the oxime ester compound is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass.
[顔料分散液の調製方法]
本発明に係る顔料分散液は、含窒素芳香環化合物からなる顔料と、分散剤と、上記オキシムエステル化合物と、溶剤とを3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合(分散・混練)し、必要に応じて5μmメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。顔料分散液の調製で、含窒素芳香環化合物からなる顔料と、(分散助剤としての)上記オキシムエステル化合物とを、ともに撹拌機で混合(分散・混練)しておくことで、含窒素芳香環化合物からなる顔料と上記オキシムエステル化合物との間で、π−π相互作用が生じ、本発明の効果が得られるものと考えられる。
[Method for preparing pigment dispersion]
The pigment dispersion according to the present invention is a mixture (dispersion / kneading) of a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound, a dispersant, the oxime ester compound, and a solvent with a stirrer such as a three-roll mill, ball mill, or sand mill. And it can prepare by filtering with filters, such as a 5 micrometer membrane filter, as needed. By preparing (dispersing and kneading) a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound and the oxime ester compound (as a dispersion aid) together with a stirrer in the preparation of the pigment dispersion, It is considered that a π-π interaction occurs between the pigment made of the ring compound and the oxime ester compound, and the effects of the present invention can be obtained.
<感光性樹脂組成物>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、基材樹脂と、光重合開始剤と、本発明に係る顔料分散液とを少なくとも含有する。
<Photosensitive resin composition>
The photosensitive resin composition according to the present invention contains at least a base resin, a photopolymerization initiator, and a pigment dispersion according to the present invention.
[基材樹脂]
基材樹脂としては、特に限定されず、感光性樹脂組成物において一般的に用いられている公知の樹脂が挙げられる。基材樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Base resin]
It does not specifically limit as base resin, The well-known resin generally used in the photosensitive resin composition is mentioned. Base resin can be used individually or in combination of 2 or more types.
基材樹脂としては、例えば、重合性基含有樹脂等の重合性樹脂が挙げられる。このような重合性樹脂としては、後述するアルカリ可溶性樹脂のうち、エチレン性不飽和基を有するものが挙げられる。 Examples of the base resin include polymerizable resins such as polymerizable group-containing resins. Examples of such polymerizable resins include those having an ethylenically unsaturated group among the alkali-soluble resins described later.
また、基材樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、濃度0.05質量%のKOH水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。 Moreover, alkali-soluble resin is mentioned as base resin. The alkali-soluble resin is a resin film having a resin concentration of 20% by mass (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate), and a 1 μm-thick resin film is formed on the substrate and placed in a 0.05% by mass KOH aqueous solution for 1 minute. When immersed, it means a film that dissolves 0.01 μm or more in thickness.
アルカリ可溶性樹脂としては、上述のアルカリ可溶性を示す樹脂であれば特に限定されず、従来公知のアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。アルカリ可溶性樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it is a resin exhibiting alkali solubility as described above, and a conventionally known alkali-soluble resin can be used. The alkali-soluble resins can be used alone or in combination of two or more.
好適なアルカリ可溶性樹脂の一例としては、(A1)カルド構造を有する樹脂が挙げられる。(A1)カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式(a−1)で表される樹脂が好ましい。 An example of a suitable alkali-soluble resin is (A1) a resin having a cardo structure. (A1) The resin having a cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among these, the resin represented by the following formula (a-1) is preferable.
上記式(a−1)中、Xaは、下記式(a−2)で表される基を示す。 In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).
上記式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Waは、単結合又は下記式(a−3)で表される基を示す。 In the above formula (a-2), each R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, each R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).
また、上記式(a−1)中、Yaは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (—CO—O—CO—) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.
また、上記式(a−1)中、Zaは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を示す。
Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Moreover, in said formula (a-1), m shows the integer of 0-20.
(A1)カルド構造を有する樹脂の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。 (A1) The mass average molecular weight of the resin having a cardo structure is preferably 1000 to 40000, and more preferably 2000 to 30000. By setting it as the above range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained while obtaining good developability.
また、好適なアルカリ可溶性樹脂の他の例としては、(A2)エポキシ樹脂が挙げられる。(A2)エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができ、エチレン性不飽和基を有さないものであっても、エチレン性不飽和基を有するものであってもよい。 Moreover, (A2) epoxy resin is mentioned as another example of suitable alkali-soluble resin. (A2) The epoxy resin is not particularly limited, and a conventionally known epoxy resin can be used, and it has an ethylenically unsaturated group even if it does not have an ethylenically unsaturated group. It may be.
エチレン性不飽和基を有さないエポキシ樹脂としては、例えば、不飽和カルボン酸とエポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも共重合させて得られる樹脂(A2−1)を用いることができる。 As an epoxy resin not having an ethylenically unsaturated group, for example, a resin (A2-1) obtained by at least copolymerizing an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound can be used.
不飽和カルボン酸としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸;これらジカルボン酸の無水物;等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、得られる樹脂のアルカリ溶解性、入手の容易性等の点から、(メタ)アクリル酸及び無水マレイン酸が好ましい。これらの不飽和カルボン酸は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸とメタクリル酸との両方を意味する。
Examples of unsaturated carboxylic acids include monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid and crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; and anhydrides of these dicarboxylic acids; It is done. Among these, (meth) acrylic acid and maleic anhydride are preferable in terms of copolymerization reactivity, alkali solubility of the resulting resin, availability, and the like. These unsaturated carboxylic acids can be used alone or in combination of two or more.
In the present specification, “(meth) acrylic acid” means both acrylic acid and methacrylic acid.
上記樹脂(A2−1)に占める不飽和カルボン酸由来の構成単位(カルボキシル基を有する構成単位)の割合は、5〜29質量%であることが好ましく、10〜25質量%であることがより好ましい。上記範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の現像性を適度なものとすることができる。 The proportion of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (the structural unit having a carboxyl group) in the resin (A2-1) is preferably 5 to 29% by mass, more preferably 10 to 25% by mass. preferable. By setting it as the said range, the developability of the photosensitive resin composition can be made moderate.
エポキシ基含有不飽和化合物は、脂環式エポキシ基を有さないものであっても、脂環式エポキシ基を有するものであってもよいが、脂環式エポキシ基を有するものがより好ましい。 The epoxy group-containing unsaturated compound may have no alicyclic epoxy group or may have an alicyclic epoxy group, but more preferably has an alicyclic epoxy group.
脂環式エポキシ基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物としては、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エポキシアルキルエステル類;α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類;o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類;等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びp−ビニルベンジルグリシジルエーテルが好ましい。 Examples of the epoxy group-containing unsaturated compound having no alicyclic epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl. (Meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate and other (meth) acrylic acid epoxy alkyl esters; α-ethyl acrylate glycidyl, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylic acid Α-alkylacrylic acid epoxy alkyl esters such as glycidyl and α-ethylacrylic acid 6,7-epoxyheptyl; glycidyl ethers such as o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether ;etc Is mentioned. Among these, glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl from the viewpoints of copolymerization reactivity, strength of cured resin, and the like. Glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether are preferred.
脂環式エポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物の脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。 The alicyclic group of the epoxy group-containing unsaturated compound having an alicyclic epoxy group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group.
具体的に、脂環式エポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物としては、例えば下記式(a4−1)〜(a4−16)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性樹脂組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式(a4−1)〜(a4−6)で表される化合物が好ましく、下記式(a4−1)〜(a4−4)で表される化合物がより好ましい。 Specifically, examples of the epoxy group-containing unsaturated compound having an alicyclic epoxy group include compounds represented by the following formulas (a4-1) to (a4-16). Among these, in order to make the developability of the photosensitive resin composition appropriate, compounds represented by the following formulas (a4-1) to (a4-6) are preferable, and the following formula (a4-1) The compound represented by (a4-4) is more preferable.
上記式中、Ra3は水素原子又はメチル基を示し、Ra4は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ra5は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示し、nは0〜10の整数を示す。Ra4としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ra5としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基を示す)が好ましい。 In the above formula, R a3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a4 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a5 represents a divalent hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms. Represents a group, and n represents an integer of 0 to 10. R a4 is preferably a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a5 , for example, methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, phenylene group, cyclohexylene group, —CH 2 —Ph—CH 2 — (Ph is A phenylene group) is preferred.
これらのエポキシ基含有不飽和化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 These epoxy group-containing unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.
上記樹脂(A2−1)に占めるエポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位(エポキシ基を有する構成単位)の割合は、5〜90質量%であることが好ましく、15〜75質量%であることがより好ましい。上記範囲とすることにより、良好な形状のカラーフィルタ等を形成しやすくなる。 The proportion of the structural unit derived from the epoxy group-containing unsaturated compound (structural unit having an epoxy group) in the resin (A2-1) is preferably 5 to 90% by mass, and 15 to 75% by mass. Is more preferable. By setting it as the above range, it becomes easy to form a color filter having a good shape.
上記樹脂(A2−1)は、脂環式基含有不飽和化合物を更に共重合させたものであることが好ましい。 The resin (A2-1) is preferably obtained by further copolymerizing an alicyclic group-containing unsaturated compound.
脂環式基含有不飽和化合物の脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。 The alicyclic group of the alicyclic group-containing unsaturated compound may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group.
具体的に、脂環式基含有不飽和化合物としては、例えば下記式(a5−1)〜(a5−8)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性樹脂組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式(a5−3)〜(a5−8)で表される化合物が好ましく、下記式(a5−3)、(a5−4)で表される化合物がより好ましい。 Specifically, examples of the alicyclic group-containing unsaturated compound include compounds represented by the following formulas (a5-1) to (a5-8). Among these, in order to make the developability of the photosensitive resin composition appropriate, compounds represented by the following formulas (a5-3) to (a5-8) are preferable, and the following formula (a5-3) , (A5-4) is more preferable.
上記式中、Ra6は水素原子又はメチル基を示し、Ra7は単結合又は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ra8は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を示す。Ra7としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ra8としては、例えばメチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R a6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a7 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a8 represents a hydrogen atom or 1 to 5 carbon atoms. Represents an alkyl group. R a7 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a8 , for example, a methyl group and an ethyl group are preferable.
上記樹脂(A2−1)に占める脂環式基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合は、1〜40質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましい。 The proportion of the structural unit derived from the alicyclic group-containing unsaturated compound in the resin (A2-1) is preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass.
また、上記樹脂(A2−1)は、上記以外の他の化合物を更に共重合させたものであってもよい。このような他の化合物としては、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Further, the resin (A2-1) may be obtained by further copolymerizing other compounds than the above. Examples of such other compounds include (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
(メタ)アクリル酸エステル類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル(メタ)アクリレート;クロロエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート;等が挙げられる。 As (meth) acrylic acid esters, linear or branched chain such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, etc. Alkyl (meth) acrylates; chloroethyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, furfuryl (Meth) acrylate; etc. are mentioned.
(メタ)アクリルアミド類としては、(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、N−アリール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−アリール(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 (Meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N-aryl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-aryl (meth) acrylamide, N -Methyl-N-phenyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide and the like.
アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類;アリルオキシエタノール;等が挙げられる。 Examples of the allyl compound include allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, etc .; allyloxyethanol; Can be mentioned.
ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル;等が挙げられる。 As vinyl ethers, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether , Alkyl vinyl ethers such as diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether; vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichloropheny And the like; ethers, vinyl naphthyl ether, vinyl aryl ethers such as vinyl anthranyl ether.
ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。 Vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate, vinyl vinyl. Examples include enyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate and the like.
スチレン類としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン;メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン;クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン;等が挙げられる。 Styrenes include: styrene; methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy Alkyl styrene such as methyl styrene and acetoxymethyl styrene; alkoxy styrene such as methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene and dimethoxy styrene; chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Styrene, halostyrenes such as 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene; and the like.
樹脂(A2−1)の質量平均分子量は、2000〜50000であることが好ましく、5000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The mass average molecular weight of the resin (A2-1) is preferably 2000 to 50000, and more preferably 5000 to 30000. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability and developability of the photosensitive resin composition are easily balanced.
一方、エチレン性不飽和基を有するエポキシ樹脂としては、例えば、不飽和カルボン酸とエポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させて得られる樹脂のカルボキシル基と、エポキシ基含有不飽和化合物のエポキシ基とを反応させて得られる樹脂(A2−2)、あるいは、不飽和カルボン酸とエポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させて得られる樹脂のエポキシ基と、不飽和カルボン酸のカルボキシル基とを反応させて得られる樹脂(A2−3)を用いることができる。 On the other hand, as an epoxy resin having an ethylenically unsaturated group, for example, a carboxyl group of a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound, and an epoxy group of an epoxy group-containing unsaturated compound A resin (A2-2) obtained by reacting an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group of a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound, and a carboxyl group of an unsaturated carboxylic acid. Resin (A2-3) obtained by reacting can be used.
不飽和カルボン酸、エポキシ基含有不飽和化合物としては、上記樹脂(A2−1)で例示した化合物が挙げられる。したがって、不飽和カルボン酸とエポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させて得られる樹脂としては、上記樹脂(A2−1)が例示される。 As unsaturated carboxylic acid and an epoxy group containing unsaturated compound, the compound illustrated by the said resin (A2-1) is mentioned. Therefore, the resin (A2-1) is exemplified as a resin obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid and an epoxy group-containing unsaturated compound.
上記樹脂(A2−2)、(A2−3)に占める不飽和カルボン酸由来の構成単位(カルボキシル基を有する構成単位)の割合は、5〜60質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。上記範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の現像性を適度なものとすることができる。 The proportion of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (the structural unit having a carboxyl group) in the resins (A2-2) and (A2-3) is preferably 5 to 60% by mass, and 10 to 40% by mass. % Is more preferable. By setting it as the said range, the developability of the photosensitive resin composition can be made moderate.
また、上記樹脂(A2−2)、(A2−3)に占めるエポキシ基含有不飽和化合物由来の構成単位(エポキシ基を有する構成単位)の割合は、5〜90質量%であることが好ましく、15〜75質量%であることがより好ましい。上記範囲とすることにより、良好な形状のカラーフィルタ等を形成しやすくなる。 Moreover, it is preferable that the ratio of the structural unit (structural unit which has an epoxy group) derived from the epoxy group containing unsaturated compound in the said resin (A2-2) and (A2-3) is 5-90 mass%, More preferably, it is 15-75 mass%. By setting it as the above range, it becomes easy to form a color filter having a good shape.
樹脂(A2−2)、(A2−3)の質量平均分子量は、2000〜50000であることが好ましく、5000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The mass average molecular weight of the resins (A2-2) and (A2-3) is preferably 2000 to 50000, and more preferably 5000 to 30000. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability and developability of the photosensitive resin composition are easily balanced.
上記のほか、(A2)エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノール又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、アミンエポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂のエポキシ基と、(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート樹脂等を用いることもできる。 In addition to the above, (A2) epoxy resin includes bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolac type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, An epoxy (meth) acrylate resin obtained by reacting an epoxy group of an epoxy resin such as a polycarboxylic acid polyglycidyl ester, a polyol polyglycidyl ester, an amine epoxy resin, or a dihydroxybenzene type epoxy resin with (meth) acrylic acid, etc. It can also be used.
基材樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して40〜85質量%であることが好ましく、45〜75質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスをとりやすい傾向がある。 The content of the base resin is preferably 40 to 85% by mass and more preferably 45 to 75% by mass with respect to the solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the above range, there is a tendency that developability is easily balanced.
[光重合開始剤]
光重合開始剤としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Photopolymerization initiator]
It does not specifically limit as a photoinitiator, A conventionally well-known photoinitiator can be used. A photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
光重合開始剤として具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(即ち、ミヒラーズケトン)、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン(即ち、エチルミヒラーズケトン)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、「NCI−831」(商品名:ADEKA製)等が挙げられる。また、本発明で用いられるオキシムエステル化合物、即ち、オキシム基に含まれる炭素原子に、芳香環を含む有機基と、カルボニル基を介して、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環とが結合したオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として用いることができる。つまり、本発明に係る感光性樹脂組成物において、上記オキシムエステル化合物は、分散助剤として含まれる(上記顔料分散液中に分散助剤として含まれる)が、更に、光重合開始剤として含まれていてもよい。この場合、光重合開始剤としてのオキシムエステル化合物は、含窒素芳香環化合物からなる顔料との間で、π−π相互作用が生じていないと考えられる。光重合開始剤としてのオキシムエステル化合物については上記と同様であり、上記式(1)で表される化合物が好ましい。 Specific examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2- Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methylpropan-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4- Methyl dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoate 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- ( o-ethoxycarbonyl) oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobu Tyronitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- ( o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5 -Diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4,5-triarylimidazole dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4 ' -Bisdimethylaminobenzophenone (ie Michler's ketone), 4,4 -Bisdiethylaminobenzophenone (ie ethyl Michler's ketone), 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin- n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethyl Aminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis- (9-acridinyl) ) Heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (Furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo -4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trick Loromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, ethanone, 1 -[9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime), 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)- , 2- (O-benzoyloxime)], 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, “NCI-831” (trade name: manufactured by ADEKA), and the like. Further, the oxime ester compound used in the present invention, that is, an organic group containing an aromatic ring and an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring bonded to a carbon atom contained in the oxime group via a carbonyl group. Oxime ester compounds can also be used as photopolymerization initiators. That is, in the photosensitive resin composition according to the present invention, the oxime ester compound is contained as a dispersion aid (included as a dispersion aid in the pigment dispersion), but is further contained as a photopolymerization initiator. It may be. In this case, it is considered that the oxime ester compound as a photopolymerization initiator does not cause a π-π interaction with a pigment made of a nitrogen-containing aromatic ring compound. The oxime ester compound as the photopolymerization initiator is the same as described above, and the compound represented by the above formula (1) is preferable.
光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して0.5〜20質量%であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。
また、感光性樹脂組成物が光重合開始剤として上記オキシムエステル化合物を含む場合、上記オキシムエステル化合物の割合は、光重合開始剤の総量に対し、1〜100質量%であることが好ましく、20〜100質量%であることがより好ましく、50〜100質量%であることが更に好ましく、80〜100質量%であることが特に好ましい。上記範囲とすることで、感光性樹脂組成物の感度や細線密着性を向上させることができる。
It is preferable that content of a photoinitiator is 0.5-20 mass% with respect to solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as said range, sufficient heat resistance and chemical-resistance can be acquired, a coating-film formation ability can be improved, and hardening failure can be suppressed.
Moreover, when the photosensitive resin composition contains the oxime ester compound as a photopolymerization initiator, the proportion of the oxime ester compound is preferably 1 to 100% by mass with respect to the total amount of the photopolymerization initiator, More preferably, it is -100 mass%, It is further more preferable that it is 50-100 mass%, It is especially preferable that it is 80-100 mass%. By setting it as the said range, the sensitivity and fine wire adhesiveness of the photosensitive resin composition can be improved.
[顔料分散液]
本発明に係る顔料分散液の含有量は、感光性樹脂組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性樹脂組成物における顔料の含有量が感光性樹脂組成物の固形分に対して、5〜70質量%となる量が好ましく、25〜60質量%となる量がより好ましい。
[Pigment dispersion]
The content of the pigment dispersion according to the present invention may be appropriately determined according to the use of the photosensitive resin composition. As an example, the content of the pigment in the photosensitive resin composition is a solid content of the photosensitive resin composition. The amount of 5 to 70% by mass is preferable with respect to the minute, and the amount of 25 to 60% by mass is more preferable.
更に、後述の光重合性モノマーを用いる場合、本発明に係る顔料分散液の含有量は、感光性樹脂組成物における上記オキシムエステル化合物の含有量が、基材樹脂と光重合性モノマーとの合計量100質量部に対して、0.01〜2.5質量部となる量が好ましく、0.01〜0.5質量部となる量がより好ましい。感光性樹脂組成物における上記オキシムエステル化合物の含有量がかかる範囲となるように、本発明に係る顔料分散液の含有量を調整することにより、基板に対する密着性に優れる微小パターンを形成しやすくなる。 Furthermore, when using the photopolymerizable monomer described later, the content of the pigment dispersion according to the present invention is the sum of the content of the oxime ester compound in the photosensitive resin composition and the base resin and the photopolymerizable monomer. An amount of 0.01 to 2.5 parts by mass is preferable and an amount of 0.01 to 0.5 parts by mass is more preferable with respect to 100 parts by mass. By adjusting the content of the pigment dispersion according to the present invention so that the content of the oxime ester compound in the photosensitive resin composition falls within such a range, it becomes easy to form a fine pattern having excellent adhesion to the substrate. .
[光重合性モノマー]
本発明に係る感光性樹脂組成物は、光重合性モノマーを含有してもよい。光重合性モノマーとしては、特に限定されず、従来公知の単官能モノマー、多官能モノマーを用いることができる。光重合性モノマーは、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Photopolymerizable monomer]
The photosensitive resin composition according to the present invention may contain a photopolymerizable monomer. It does not specifically limit as a photopolymerizable monomer, A conventionally well-known monofunctional monomer and a polyfunctional monomer can be used. A photopolymerizable monomer can be used individually or in combination of 2 or more types.
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Monofunctional monomers include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl ( And (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(即ち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。 On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meta Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydi Ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) Acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (Meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, tolylene diisocyanate), reaction product of trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene Examples thereof include polyfunctional monomers such as ethers, polyhydric alcohols and N-methylol (meth) acrylamide condensates, and triacryl formal. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
光重合性モノマーの含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して1〜30質量%であることが好ましく、5〜20質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The content of the photopolymerizable monomer is preferably 1 to 30% by mass and more preferably 5 to 20% by mass with respect to the solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the above range, it tends to be easy to balance sensitivity, developability, and resolution.
[その他の成分]
上記感光性樹脂組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
The said photosensitive resin composition may contain various additives as needed. Examples of the additive include a sensitizer, a curing accelerator, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an aggregation inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, and a surfactant.
<感光性樹脂組成物の製造方法>
本発明に係る感光性樹脂組成物の製造方法は、基材樹脂と、光重合開始剤と、本発明にかかる顔料分散液とを混合する工程を少なくとも含む。この工程において、上記成分に加えて、光重合性モノマー及び/又はその他の成分を混合してもよい。これらの成分は、例えば、3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合することができる。なお、製造された感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、5μmメンブランフィルタ等のフィルタを用いて濾過してもよい。
<Method for producing photosensitive resin composition>
The method for producing a photosensitive resin composition according to the present invention includes at least a step of mixing the base resin, the photopolymerization initiator, and the pigment dispersion according to the present invention. In this step, in addition to the above components, a photopolymerizable monomer and / or other components may be mixed. These components can be mixed with a stirrer such as a three-roll mill, a ball mill, or a sand mill. In addition, you may filter using filters, such as a 5 micrometer membrane filter, so that the manufactured photosensitive resin composition may become uniform.
本発明に係る感光性樹脂組成物の製造方法では、含窒素芳香環化合物からなる顔料と、分散剤と、上記オキシムエステル化合物と、溶剤とを予め混ぜて顔料分散液を調製し、この顔料分散液を基材樹脂等の他の成分と混合する。このような工程を経ることにより、低露光量でも高密着性の微小パターンを形成することができる感光性樹脂組成物が得られる。 In the method for producing a photosensitive resin composition according to the present invention, a pigment dispersion is prepared by previously mixing a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound, a dispersant, the oxime ester compound, and a solvent. The liquid is mixed with other components such as a base resin. By passing through such a process, the photosensitive resin composition which can form a highly adhesive micro pattern even with a low exposure amount is obtained.
以下、実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
以下の実施例及び比較例では、下記の化合物1及び比較化合物1〜4をオキシムエステル化合物として用いた。 In the following examples and comparative examples, the following compound 1 and comparative compounds 1 to 4 were used as oxime ester compounds.
<オキシムエステル化合物の合成>
以下、化合物1の合成について、合成例1により説明する。
[合成例1]
2−(2−メチルフェニル)−1−[4−(フェニルスルファニル)フェニル]エタン−1,2−ジオン7.68g(23.13mmol)と、ヒドロキシルアミン塩酸塩2.93g(42.16mmol)と、トリエチルアミン4.15g(41.01mmol)とをエタノール64.00gに混合し、75℃〜80℃で3時間反応した。反応液をエバポレートし、酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレートして2−(2−メチルフェニル)2−(N−ヒドロキシイミノ)−1−[4−(フェニルスルファニル)フェニル]エタン−1−オン8.03gを得た。得られた、2−(2−メチルフェニル)−2−(N−ヒドロキシイミノ)−1−[4−(フェニルスルファニル)フェニル]エタン−1−オン8.03gを、酢酸中で、無水酢酸13.33g(130.57mmol)によりアセチル化し、上記式で表されるオキシムエステル化合物6.25gを得た。
<Synthesis of oxime ester compound>
Hereinafter, the synthesis of Compound 1 will be described by Synthesis Example 1.
[Synthesis Example 1]
2- (2-methylphenyl) -1- [4- (phenylsulfanyl) phenyl] ethane-1,2-dione 7.68 g (23.13 mmol) and hydroxylamine hydrochloride 2.93 g (42.16 mmol) Then, 4.15 g (41.01 mmol) of triethylamine was mixed with 64.00 g of ethanol and reacted at 75 ° C. to 80 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was evaporated, ethyl acetate was added, washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and evaporated to 2- (2-methylphenyl) 2- (N-hydroxyimino) -1- [4- ( 8.03 g of phenylsulfanyl) phenyl] ethane-1-one were obtained. The obtained 8.03 g of 2- (2-methylphenyl) -2- (N-hydroxyimino) -1- [4- (phenylsulfanyl) phenyl] ethane-1-one was added to acetic anhydride 13 in acetic acid. By acetylation with .33 g (130.57 mmol), 6.25 g of an oxime ester compound represented by the above formula was obtained.
<顔料分散液の調製>
[実施例1〜10、比較例1〜10]
表1に示す顔料、分散剤、及びオキシム化合物を混合し、表1に示す溶剤に溶解して、固形分濃度17〜23質量%の顔料分散液を調製した。なお、各成分の使用量は、表1に示す通りである。また、顔料、分散剤、及び溶剤の詳細は、下記の通りである。実施例10の混合物1は、上記で合成した化合物1(オキシムエステル化合物)と下記式で表される含窒素芳香環を有するシランカップリング剤との混合物(質量比1:1)である。
<Preparation of pigment dispersion>
[Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 10]
The pigment, dispersant, and oxime compound shown in Table 1 were mixed and dissolved in the solvent shown in Table 1 to prepare a pigment dispersion having a solid content concentration of 17 to 23% by mass. In addition, the usage-amount of each component is as showing in Table 1. Details of the pigment, dispersant, and solvent are as follows. The mixture 1 of Example 10 is a mixture (mass ratio 1: 1) of the compound 1 (oxime ester compound) synthesized above and a silane coupling agent having a nitrogen-containing aromatic ring represented by the following formula.
R254(C.I.ピグメントレッド254、下記の一番左の式で表されるジケトピロロピロール系顔料)
B15:6(C.I.ピグメントブルー15:6、下記の真ん中の式で表されるフタロシアニン系顔料)
G58(C.I.ピグメントグリーン58、下記の一番右の式で表されるフタロシアニン系顔料)
Perylene(3,4,9,10−ペリレンテトラカルボンジアミド:上記式(e−3)において、Re7及びRe8が水素原子のもの)
B15: 6 (CI pigment blue 15: 6, phthalocyanine pigment represented by the following middle formula)
G58 (CI Pigment Green 58, phthalocyanine pigment represented by the rightmost formula below)
Perylene (3,4,9,10-perylenetetracarboxylic diamide: in the above formula (e-3), R e7 and R e8 are hydrogen atoms)
・分散剤
アクリル樹脂系高分子分散剤(商品名:DisperBYK2001、ビックケミー社製)
・溶剤
3−メトキシブチルアセテート/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=60/40(質量比)の混合溶剤
-Dispersant Acrylic resin polymer dispersant (trade name: DisperBYK2001, manufactured by Big Chemie)
・ Solvent: Mixed solvent of 3-methoxybutyl acetate / propylene glycol monomethyl ether acetate = 60/40 (mass ratio)
[粘度の評価]
E型粘度計(東京計器製)を用いて、調製直後の顔料分散液の粘度を測定した。また、顔料分散液を遮光ガラス容器に充填し、密閉状態で40℃にて7日間静置した後、E型粘度計を用いて、再度、顔料分散液の粘度を測定した。調製直後の粘度の値と40℃にて7日間静置した後の粘度の値との差が0.3mPa・s以下であった場合、顔料分散液の分散安定性が良好(○)であると判定し、上記の差が0.3mPa・s超であった場合、顔料分散液の分散安定性が不良(×)であると判定した。結果を表1に示す。
[Evaluation of viscosity]
Using an E-type viscometer (manufactured by Tokyo Keiki), the viscosity of the pigment dispersion immediately after preparation was measured. The pigment dispersion was filled in a light-shielding glass container and allowed to stand at 40 ° C. for 7 days in a sealed state, and then the viscosity of the pigment dispersion was measured again using an E-type viscometer. When the difference between the viscosity value immediately after preparation and the viscosity value after standing at 40 ° C. for 7 days is 0.3 mPa · s or less, the dispersion stability of the pigment dispersion is good (◯). When the difference was more than 0.3 mPa · s, it was determined that the dispersion stability of the pigment dispersion was poor (x). The results are shown in Table 1.
表1に示す通り、実施例1、2、及び4〜10では、化合物1を添加することで、分散剤の含有量を減らしても、顔料の分散安定性が良好であった。一方、化合物1を用いなかった比較例1〜10では、実施例1、2、及び4〜10よりも多い量の分散剤を用いた場合に、顔料の分散安定性が良好となるか、又は、実施例1、2、及び4〜10よりも多い量の分散剤を用いても、顔料の分散安定性が不良であった。以上から、本発明に係る顔料分散液は、分散剤の含有量を減らしても顔料の分散安定性が良好であることが分かる。 As shown in Table 1, in Examples 1, 2, and 4 to 10, even when the content of the dispersant was reduced by adding Compound 1, the dispersion stability of the pigment was good. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 10 in which Compound 1 was not used, the dispersion stability of the pigment was improved when a larger amount of the dispersant than Examples 1, 2, and 4 to 10 was used, or The dispersion stability of the pigment was poor even when an amount of dispersant greater than Examples 1, 2, and 4-10 was used. From the above, it can be seen that the pigment dispersion according to the present invention has good pigment dispersion stability even when the content of the dispersant is reduced.
<感光性樹脂組成物の調製>
[実施例11〜24及び比較例11〜21]
表2に記載の光重合開始剤20質量部、樹脂A(固形分55質量%、溶剤:3−メトキシブチルアセテート)30質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30質量部、及び表2に記載の顔料分散液(各顔料分散液の固形分濃度は17〜23質量%であり、顔料の含有量は15質量%である。)100質量部と、3−メトキシブチルアセテート(60質量%)とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(40質量%)とからなる混合溶剤とを混合した後、孔径5μmのメンブレンフィルターにより濾過して、感光性樹脂組成物を調製した。なお、混合溶剤の量を調整して、感光性樹脂組成物中の固形分濃度を15質量%に調整した。
また、表2に示す光重合開始剤のうち、「OXE01」及び「化合物1+OXE01」の詳細は、下記の通りである。
OXE01:BASF社製の光重合開始剤(商品名:IRGACURE OXE 01:1.2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)])
化合物1+OXE01:化合物1とOXE01との混合物(質量比1:1)
<Preparation of photosensitive resin composition>
[Examples 11 to 24 and Comparative Examples 11 to 21]
20 parts by mass of the photopolymerization initiator described in Table 2, 30 parts by mass of resin A (solid content 55% by mass, solvent: 3-methoxybutyl acetate), 30 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and the pigments described in Table 2 100 parts by weight of a dispersion (the solid content concentration of each pigment dispersion is 17 to 23% by weight and the pigment content is 15% by weight), 3-methoxybutyl acetate (60% by weight) and propylene glycol After mixing with a mixed solvent composed of monomethyl ether acetate (40% by mass), the mixture was filtered through a membrane filter having a pore size of 5 μm to prepare a photosensitive resin composition. The amount of the mixed solvent was adjusted to adjust the solid content concentration in the photosensitive resin composition to 15% by mass.
Details of “OXE01” and “Compound 1 + OXE01” among the photopolymerization initiators shown in Table 2 are as follows.
OXE01: Photopolymerization initiator manufactured by BASF (trade name: IRGACURE OXE 01: 1.2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)])
Compound 1 + OXE01: Mixture of Compound 1 and OXE01 (mass ratio 1: 1)
また、感光性樹脂組成物の調製で使用した樹脂Aは、以下の処方に従って合成したものを用いた。
まず、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量235)235g、テトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール100mg、及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記構造式(a−4)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
Moreover, what was synthesize | combined according to the following prescription was used for resin A used by preparation of the photosensitive resin composition.
First, in a 500 ml four-necked flask, 235 g of bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid Was heated and dissolved at 90 to 100 ° C. while blowing air at a rate of 25 ml / min. Next, the temperature was gradually raised while the solution was clouded, and the solution was heated to 120 ° C. to be completely dissolved. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. During this time, the acid value was measured, and heating and stirring were continued until the acid value was less than 1.0 mgKOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target value. And it cooled to room temperature and obtained the bisphenol fluorene type epoxy acrylate represented by the following structural formula (a-4) of colorless and transparent solid.
次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート307.0gに3−メトキシブチルアセテート600gを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物80.5g及び臭化テトラエチルアンモニウム1gを混合し、徐々に昇温して110〜115℃で4時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸38.0gを混合し、90℃で6時間反応させ、樹脂Aを得た。酸無水物基の消失はIRスペクトルにより確認した。この樹脂Aは、前述の一般式(a−1)で表される化合物に相当する。 Next, after adding 600 g of 3-methoxybutyl acetate to 307.0 g of the bisphenolfluorene type epoxy acrylate thus obtained and dissolving, 80.5 g of benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were added. The mixture was gradually heated and reacted at 110 to 115 ° C. for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain Resin A. The disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum. This resin A corresponds to the compound represented by the general formula (a-1).
実施例11〜24及び比較例11〜21の感光性樹脂組成物の各々について、以下の方法に従って、ポストベークによる着色の評価、及び細線密着性の評価を行った。結果を表2に記す。 About each of the photosensitive resin composition of Examples 11-24 and Comparative Examples 11-21, the evaluation of coloring by post-baking and the evaluation of fine wire adhesion were performed according to the following methods. The results are shown in Table 2.
[着色評価]
実施例11〜24及び比較例11〜21の感光性樹脂組成物の各々について、以下の手順にて、着色評価を行った。
まず、感光性樹脂組成物をガラス基板(10cm×10cm)にスピン塗布し、90℃にて120秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に1.0μmの塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光量を20、50、100、又は200mJ/cm2とし、露光ギャップを200μmとして、塗膜を露光した。露光後の膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で30〜50秒間現像後、230℃で30分間、ポストベークを行った。ポストベーク前後の塗布膜について、瞬間マルチ測光システム(MCPD−3000:大塚電子株式会社製)を用いて、380nm〜780nm波長域の透過率の差をΔYとして測定した。ΔYの値を表2に記載する。ΔYの絶対値が小さいほど、着色されていないことを意味する。
[Coloring evaluation]
About each of the photosensitive resin composition of Examples 11-24 and Comparative Examples 11-21, coloring evaluation was performed in the following procedures.
First, the photosensitive resin composition was spin-coated on a glass substrate (10 cm × 10 cm) and heated at 90 ° C. for 120 seconds to form a 1.0 μm coating film on the surface of the glass substrate. Thereafter, a mirror projection aligner (product name: TME-150 RTO, manufactured by Topcon Corporation) was used, the exposure amount was 20, 50, 100, or 200 mJ / cm 2 , the exposure gap was 200 μm, and the coating film was exposed. The exposed film was developed with a 0.04 mass% KOH aqueous solution at 26 ° C. for 30 to 50 seconds, and then post-baked at 230 ° C. for 30 minutes. About the coating film before and behind post-baking, the difference of the transmittance | permeability of 380 nm-780 nm wavelength range was measured as (DELTA) Y using the instantaneous multiphotometry system (MCPD-3000: Otsuka Electronics Co., Ltd. product). The values for ΔY are listed in Table 2. It means that it is not colored, so that the absolute value of (DELTA) Y is small.
[細線密着性の評価]
実施例11〜24及び比較例11〜21の感光性樹脂組成物を、ガラス基板(100mm×100mm)上にスピンコーターを用いて塗布し、90℃で120秒間プリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光ギャップを50μmとして、5μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、20、50、100、及び200mJ/cm2の4段階とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
[Evaluation of fine wire adhesion]
The photosensitive resin compositions of Examples 11 to 24 and Comparative Examples 11 to 21 were applied on a glass substrate (100 mm × 100 mm) using a spin coater, prebaked at 90 ° C. for 120 seconds, and a film thickness of 1.0 μm. The coating film was formed. Next, a mirror projection aligner (product name: TME-150 RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.) was used, the exposure gap was 50 μm, and the coating film was irradiated with ultraviolet rays through a negative mask on which a 5 μm line pattern was formed. The exposure amount was set in four stages of 20 , 50, 100, and 200 mJ / cm 2 . The exposed coating film was developed with a 0.04 mass% KOH aqueous solution at 26 ° C. for 40 seconds and then post-baked at 230 ° C. for 30 minutes to form a line pattern.
形成されたラインパターンを光学顕微鏡により観察し、細線密着性を評価した。細線密着性は、基板から剥がれずラインパターンが形成されたものを「良好」、基板から剥がれてラインパターンが形成されなかったものを「不良」として評価した。結果を表2に示す。 The formed line pattern was observed with an optical microscope, and fine line adhesion was evaluated. The fine line adhesion was evaluated as “good” when the line pattern was formed without being peeled from the substrate, and “bad” when the line pattern was not formed when peeled from the substrate. The results are shown in Table 2.
表2から分かるように、実施例11〜24では、ポストベーク時の加熱による着色を抑制することができ、また、50mJ/cm2という露光量で、5μmのラインパターンが基板に密着した。特に、実施例12〜15、17〜24では、20mJ/cm2という低露光量であっても、5μmのラインパターンが基板に密着した。 As can be seen from Table 2, in Examples 11 to 24, coloring due to heating during post-baking could be suppressed, and a 5 μm line pattern adhered to the substrate with an exposure amount of 50 mJ / cm 2 . In particular, in Examples 12 to 15 and 17 to 24, a 5 μm line pattern adhered to the substrate even at a low exposure amount of 20 mJ / cm 2 .
これに対して、比較例11、14、15及び17では、ポストベーク時の加熱による着色を抑制することができたものの、50mJ/cm2という露光量では、5μmのラインパターンが基板に密着せず、実施例11〜24と比較して、細線密着性に劣っていた。 On the other hand, in Comparative Examples 11, 14, 15 and 17, although coloring due to heating during post-baking could be suppressed, a 5 μm line pattern adhered to the substrate at an exposure amount of 50 mJ / cm 2. It was inferior to thin-line adhesiveness compared with Examples 11-24.
また、比較例12、13、20、及び21では、50mJ/cm2という露光量で、5μmのラインパターンが基板に密着し、特に、比較例12、20、及び21では、20mJ/cm2という低露光量であっても、5μmのラインパターンが基板に密着した。しかし、比較例12、13、20、及び21では、ポストベーク時の加熱による着色を抑制することができなかった。比較例12や13の感光性樹脂組成物は光重合開始剤としての化合物1を含むが、着色を抑制できていないことから、化合物1と含窒素芳香環化合物からなる顔料との間で、π−π相互作用が生じていないと考えられる。 Further, in Comparative Examples 12, 13, 20, and 21, a line pattern of 5 μm was adhered to the substrate with an exposure amount of 50 mJ / cm 2 , and in particular, in Comparative Examples 12, 20, and 21, it was 20 mJ / cm 2. Even with a low exposure amount, a 5 μm line pattern adhered to the substrate. However, in Comparative Examples 12, 13, 20, and 21, coloring due to heating during post-baking could not be suppressed. The photosensitive resin compositions of Comparative Examples 12 and 13 contain Compound 1 as a photopolymerization initiator, but coloring cannot be suppressed. Therefore, between Compound 1 and a pigment comprising a nitrogen-containing aromatic ring compound, π It is considered that −π interaction does not occur.
更に、比較例16、18、19では、ポストベーク時の加熱による着色を抑制することができず、また、50mJ/cm2という露光量では、5μmのラインパターンが基板に密着せず、実施例11〜24と比較して、細線密着性に劣っていた。 Further, in Comparative Examples 16, 18, and 19, coloring due to heating during post-baking cannot be suppressed, and a line pattern of 5 μm does not adhere to the substrate at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 , and the examples Compared with 11-24, it was inferior to thin wire adhesiveness.
Claims (6)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014074478A JP5890457B2 (en) | 2013-08-05 | 2014-03-31 | Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid |
KR1020140094894A KR102281546B1 (en) | 2013-08-05 | 2014-07-25 | Pigment dispersion, photosensitive resin composition therewith, and dispersion aids |
CN201410377230.XA CN104371372B (en) | 2013-08-05 | 2014-08-01 | Dispersible pigment dispersion, photosensitive polymer combination and dispersing aid containing the dispersible pigment dispersion |
TW103126783A TWI596164B (en) | 2013-08-05 | 2014-08-05 | A pigment dispersion liquid, a photosensitive resin composition containing the pigment dispersion liquid, and a dispersion aid |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013162671 | 2013-08-05 | ||
JP2013162671 | 2013-08-05 | ||
JP2014074478A JP5890457B2 (en) | 2013-08-05 | 2014-03-31 | Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015052098A true JP2015052098A (en) | 2015-03-19 |
JP5890457B2 JP5890457B2 (en) | 2016-03-22 |
Family
ID=52701342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014074478A Active JP5890457B2 (en) | 2013-08-05 | 2014-03-31 | Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5890457B2 (en) |
TW (1) | TWI596164B (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI731895B (en) * | 2015-12-08 | 2021-07-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | Radiation-sensitive resin composition, cured film, pattern forming method, solid-state imaging device, and image display device |
JP7008508B2 (en) * | 2016-09-30 | 2022-01-25 | 株式会社Dnpファインケミカル | Photosensitive colored resin compositions for color filters, color filters, and display devices |
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-
2014
- 2014-03-31 JP JP2014074478A patent/JP5890457B2/en active Active
- 2014-08-05 TW TW103126783A patent/TWI596164B/en active
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JP7194492B2 (en) | 2016-10-24 | 2022-12-22 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5890457B2 (en) | 2016-03-22 |
TW201510108A (en) | 2015-03-16 |
TWI596164B (en) | 2017-08-21 |
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