KR102537532B1 - Resin Composition, Cured Film, Color Filter, and Preparing Method of Cured Film - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있는 수지 조성물과, 상기 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법과, 상기 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막과, 상기 경화막을 구비하는 컬러 필터를 제공하는 것이다.
알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 안료(D)를 포함하는 수지 조성물에, 하기 식(e1):
(Re1O)a(Re2)3-aSi-Re3-NH-CO-Re4-Re5···(e1)
(식(e1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이며, a는 2 또는 3이며, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이며, Re4는 2가의 유기기이며, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기이다.)
로 표시되는 화합물을 실란 커플링제(E)로서 배합한다.
The present invention provides a resin composition capable of forming a pattern with good adhesion to a substrate and suppressing the generation of development residues in unexposed areas, a method for producing a cured film using the resin composition, and curing the resin composition. It is to provide a cured film formed by making and a color filter provided with the cured film.
To a resin composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), and a pigment (D), the following formula (e1):
(R e1 O )a (R e2 ) 3-a Si-R e3 -NH-CO-R e4 -R e5 ... (e1)
(In formula (e1), R e1 and R e2 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a is 2 or 3, R e3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R e4 is a divalent organic group, and R e5 is a Brensted acid group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, or a carbamoyl group.)
The compound represented by is blended as a silane coupling agent (E).

Description

수지 조성물, 경화막, 컬러 필터, 및 경화막의 제조 방법{Resin Composition, Cured Film, Color Filter, and Preparing Method of Cured Film}Resin composition, cured film, color filter, and method for producing a cured film {Resin Composition, Cured Film, Color Filter, and Preparing Method of Cured Film}

본 발명은 수지 조성물과, 상기 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막과, 상기 경화막을 구비하는 컬러 필터와, 전술한 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition, a cured film formed by curing the resin composition, a color filter provided with the cured film, and a method for producing a cured film using the above-described resin composition.

액정 디스플레이 등의 표시체는 서로 대향해 쌍을 이루는 전극이 형성된 2매의 기판의 사이에 액정층을 끼우는 구조로 되어 있다. 그리고 한쪽의 기판의 내측에는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 등의 각 색으로 이루어지는 화소를 가지는 컬러 필터가 형성되어 있다. 그리고, 이 컬러 필터에서는 각 화소에서의 상이한 색의 혼합색을 방지하거나 전극의 패턴을 숨기거나 하기 위해서, 통상 R, G, B 각 색의 화소를 구획하도록 매트릭스상으로 배치된 블랙 매트릭스가 형성되어 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] Display bodies such as liquid crystal displays have a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates on which electrodes forming pairs facing each other are formed. A color filter having pixels of each color such as red (R), green (G), and blue (B) is formed inside one substrate. In this color filter, in order to prevent color mixing of different colors in each pixel or to hide the pattern of electrodes, a black matrix arranged in a matrix form is formed to divide pixels of each color, usually R, G, and B. .

일반적으로, 컬러 필터는 리소그래피법에 의해 형성된다. 구체적으로는 우선 기판에 흑색의 감광성 조성물을 도포, 노광, 현상하여, 블랙 매트릭스를 형성한다. 그 후, 그 다음에 적(R), 녹(G), 청(B) 각 색의 감광성 조성물마다, 도포, 노광, 현상을 반복함으로써 각 색 패턴을 소정의 위치에 형성하여 컬러 필터를 형성한다.Generally, color filters are formed by lithography. Specifically, first, a black photosensitive composition is applied to a substrate, exposed to light, and developed to form a black matrix. After that, each color pattern is formed at a predetermined position by repeating application, exposure, and development for each photosensitive composition of each color of red (R), green (G), and blue (B) to form a color filter. .

컬러 필터를 구성하는 착색막의 형성 방법, 예를 들면 블랙 매트릭스의 형성 방법에 대해서는 네거티브형의 감광성 수지 조성물을 이용하는 방법이 제안되고 있다.A method of using a negative photosensitive resin composition has been proposed for a method of forming a colored film constituting a color filter, for example, a method of forming a black matrix.

예를 들면, 특허문헌 1에는 저비용으로 고차광성과 저반사율을 양립하는 것이 가능한 블랙 매트릭스의 원료가 되는 흑색 감광성 수지 조성물로서, 카본 블랙과, 소수성 실리카 미립자 등을 배합한 네거티브형의 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다.For example, in Patent Document 1, as a black photosensitive resin composition serving as a raw material of a black matrix capable of achieving both high light-shielding properties and low reflectance at low cost, a negative photosensitive resin composition in which carbon black and hydrophobic silica fine particles are blended is has been initiated.

일본 특개 2015-161815호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-161815

그렇지만, 본 발명자들이 검토한 결과, 특허문헌 1에 기재되는 조성물 등의 종래의 감광성 수지 조성물을 이용하는 경우, 기판에 양호하게 밀착한 패턴을 형성하기 어렵거나, 미노광부에서 잔사가 발생하기 쉽거나 하는 과제가 있는 것을 알게 되었다.However, as a result of investigation by the present inventors, when using a conventional photosensitive resin composition such as the composition described in Patent Document 1, it is difficult to form a pattern that adheres well to the substrate, or residues are easily generated in unexposed areas. I found out that there are challenges.

본 발명은 상기의 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있는 수지 조성물과, 상기 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법과, 상기 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막과, 상기 경화막을 구비하는 컬러 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and provides a resin composition capable of forming a pattern with good adhesion to a substrate and suppressing the generation of development residues in unexposed areas, and a cured film using the resin composition. It aims at providing the manufacturing method, the cured film formed by hardening the said resin composition, and the color filter provided with the said cured film.

본 발명자들은 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 안료(D)를 포함하는 수지 조성물에, 후술하는 특정한 구조의 화합물을 실란 커플링제(E)로서 배합함으로써 상기의 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는 본 발명은 이하의 것을 제공한다.The present inventors added a compound having a specific structure to a resin composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), and a pigment (D) as a silane coupling agent (E) It was found that the above subject could be solved by blending as, and came to complete the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

본 발명의 제1 태양은,A first aspect of the present invention,

알칼리 가용성 수지(A)와, An alkali-soluble resin (A);

광중합성 화합물(B)과,A photopolymerizable compound (B);

광중합 개시제(C)와,A photopolymerization initiator (C);

안료(D)와,A pigment (D);

실란 커플링제(E)Silane Coupling Agent (E)

를 포함하는 수지 조성물로서, As a resin composition comprising a,

실란 커플링제(E)가, 하기 식(e1):The silane coupling agent (E) has the following formula (e1):

(Re1O)a(Re2)3-aSi-Re3-NH-CO-Re4-Re5···(e1) (R e1 O) a (R e2 ) 3-a Si-R e3 -NH-CO-R e4 -R e5 ... (e1)

(식(e1) 중, Re1 및 Re2 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이며, a는 2 또는 3이며, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이며, Re4는 2가의 유기기이며, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기이다.)(In formula (e1), R e1 and R e2 are Each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a is 2 or 3, Re3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, Re4 is a divalent organic group, and Re5 is a Brenstedt acidic group, alcoholic hydroxyl group, amino group, or carbamoyl group.)

로 표시되는 알콕시실란 화합물을 포함하는 수지 조성물이다.It is a resin composition containing the alkoxysilane compound represented by.

본 발명의 제2 태양은 제1 태양과 관련된 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 경화막이다.The second aspect of the present invention is a cured film formed by curing the resin composition related to the first aspect.

본 발명의 제3 태양은 제2 태양과 관련된 경화막을 구비하는 컬러 필터이다.A third aspect of the present invention is a color filter comprising a cured film related to the second aspect.

본 발명의 제4 태양은 제1 태양과 관련된 수지 조성물을 도포함으로써, 도포막을 형성하는 공정과,A fourth aspect of the present invention includes the steps of forming a coating film by applying the resin composition related to the first aspect;

도포막을 위치 선택적으로 노광하는 공정과,A step of positionally selectively exposing the coated film;

노광된 도포막을 현상하여, 패턴화된 경화막을 형성하는 공정과,A step of developing the exposed coating film to form a patterned cured film;

패턴화된 경화막을 베이크하는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법이다.It is a manufacturing method of a cured film including the process of baking a patterned cured film.

본 발명에 의하면, 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있는 수지 조성물과, 상기 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법과, 상기 수지 조성물을 경화시켜서 이루어지는 경화막과, 상기 경화막을 구비하는 컬러 필터를 제공할 수 있다.According to the present invention, a resin composition capable of forming a pattern having good adhesion to a substrate and suppressing the generation of development residue in unexposed areas, a method for producing a cured film using the resin composition, and the resin composition A cured film formed by curing and a color filter provided with the cured film can be provided.

이하, 본 발명에 대해서, 적합한 실시 형태에 근거하여 설명한다. 또한 본 명세서 중에서의 「~」는 특별히 언급이 없으면 이상(하한값)으로부터 이하(상한값)를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described based on preferred embodiments. In addition, "-" in this specification represents the following (upper limit value) from the above (lower limit value) unless there is particular notice.

≪수지 조성물≫<<resin composition>>

수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 안료(D)와, 실란 커플링제(E)를 포함한다.The resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a pigment (D), and a silane coupling agent (E).

실란 커플링제(E)는 하기 식(e1):The silane coupling agent (E) is represented by the formula (e1):

(Re1O)a(Re2)3-aSi-Re3-NH-CO-Re4-Re5···(e1) (R e1 O) a (R e2 ) 3-a Si-R e3 -NH-CO-R e4 -R e5 ... (e1)

(식(e1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이며, a는 2 또는 3이며, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이며, Re4는 2가의 유기기이며, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기이다.)(In formula (e1), R e1 and R e2 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a is 2 or 3, R e3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R e4 is a divalent organic group, and R e5 is a Brensted acid group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, or a carbamoyl group.)

로 표시되는 알콕시실란 화합물을 포함한다.It includes an alkoxysilane compound represented by

본 실시 형태에서는 수지 조성물이, 상기의 실란 커플링제(E)를 포함함으로써, 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있는 수지 조성물이 얻어진다.In the present embodiment, the resin composition can form a pattern with good adhesion to the substrate by containing the above silane coupling agent (E), and can suppress the generation of development residue in the unexposed area. is obtained

이하, 수지 조성물에 포함되는 필수, 또는 임의의 성분과, 수지 조성물의 조제 방법에 대해서 설명한다.Hereinafter, essential or optional components contained in the resin composition and methods for preparing the resin composition are described.

<알칼리 가용성 수지(A)><Alkali-soluble resin (A)>

수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(A)(본 명세서에서 「(A) 성분」이라고도 기재함)를 포함한다. 알칼리 가용성 수지(A)로서는 특별히 한정되지 않고, 종래부터 여러 가지의 감광성의 수지 조성물에 배합되고 있는 알칼리 가용성 수지로부터 적절히 선택할 수 있다.The resin composition contains an alkali-soluble resin (A) (also described as "component (A)" in this specification). It does not specifically limit as alkali-soluble resin (A), It can select suitably from the alkali-soluble resin conventionally mix|blended with various photosensitive resin compositions.

여기서, 본 명세서에서, 알칼리 가용성 수지(A)란, 분자 내에 알칼리 가용성을 갖게 하는 관능기(예를 들면, 페놀성 수산기, 카르복시기, 술폰산기 등 )를 구비하는 수지를 나타낸다.In this specification, the alkali-soluble resin (A) refers to a resin having a functional group (for example, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, etc.) that imparts alkali solubility in the molecule.

알칼리 가용성 수지로서 적합한 수지로서는 카르도 구조를 가지는 수지(A1)(이하, 「카르도 수지(A1)」라고도 기재함)를 들 수 있다.Resin (A1) which has a cardo structure (hereinafter also described as "cardo resin (A1)") is mentioned as resin suitable as alkali-soluble resin.

알칼리 가용성 수지로서 카르도 구조(A1)를 가지는 수지를 이용하는 경우, 해상성(解像性)이 뛰어난 수지 조성물을 얻기 쉽고, 수지 조성물을 이용해 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성하기 쉽다.When using a resin having a cardo structure (A1) as the alkali-soluble resin, it is easy to obtain a resin composition having excellent resolution, and it is easy to form a cured film that is difficult to excessively flow by heating using the resin composition.

[카르도 구조를 가지는 수지(A1)] [Resin (A1) having a cardo structure]

카르도 구조를 가지는 수지(A1)로서는, 그 구조 중에 카르도 골격을 가지고, 소정의 알칼리 가용성을 가지는 수지를 이용할 수 있다. 카르도 골격이란, 제1 환상 구조를 구성하고 있는 1개의 환 탄소 원자에, 제2 환상 구조와 제3 환상 구조가 결합한 골격을 말한다. 또한 제2 환상 구조와, 제3 환상 구조는, 동일한 구조이어도 상이한 구조이어도 된다.As the resin (A1) having a cardo structure, a resin having a cardo skeleton in its structure and having a predetermined alkali solubility can be used. The cardo skeleton refers to a skeleton in which the second cyclic structure and the third cyclic structure are bonded to one ring carbon atom constituting the first cyclic structure. In addition, the 2nd annular structure and the 3rd annular structure may be the same structure or different structures may be sufficient as them.

카르도 골격의 대표적인 예로서는 플루오렌환의 9위치의 탄소 원자에 2개의 방향환(예를 들면 벤젠환)이 결합한 골격을 들 수 있다.A representative example of the cardo skeleton is a skeleton in which two aromatic rings (for example, a benzene ring) are bonded to the carbon atom at the 9th position of the fluorene ring.

(A1) 카르도 구조 수지로서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 종래 공지된 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도, 하기 식(a-1)로 표시되는 수지가 바람직하다.(A1) The cardo structure resin is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Especially, resin represented by the following formula (a-1) is preferable.

[화 1][Tue 1]

Figure 112018057420203-pat00001
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식(a-1) 중, Xa는 하기 식(a-2)로 표시되는 기를 나타낸다. m1는 0~20의 정수를 나타낸다.In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2). m1 represents an integer from 0 to 20.

[화 2][Tue 2]

Figure 112018057420203-pat00002
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상기 식(a-2) 중, Ra1은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ra2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, Ra3은 각각 독립적으로 직쇄 또는 분기쇄의 알킬렌기를 나타내고, m2는 0 또는 1을 나타내고, Wa는 하기 식(a-3)로 표시되는 기를 나타낸다.In the formula (a-2), R a1 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, R a2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R a3 is Each independently represents a linear or branched alkylene group, m2 represents 0 or 1, and W a represents a group represented by the following formula (a-3).

[화 3][Tue 3]

Figure 112018057420203-pat00003
Figure 112018057420203-pat00003

식(a-2) 중, Ra3으로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~6의 알킬렌기가 특히 바람직하고, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,2-디일기, 및 프로판-1,3-디일기가 가장 바람직하다.In formula (a-2), as R a3 , an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, and an alkylene group having 1 to 6 atoms is particularly preferable. and most preferably an ethane-1,2-diyl group, a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group.

식(a-3) 중의 환 A는 방향족환과 축합하고 있어도 되고 치환기를 가지고 있어도 되는 지방족환을 나타낸다. 지방족환은 지방족 탄화수소환이어도, 지방족 복소환이어도 된다.Ring A in formula (a-3) represents an aromatic ring and an aliphatic ring which may be condensed or may have a substituent. The aliphatic ring may be an aliphatic hydrocarbon ring or an aliphatic heterocyclic ring.

지방족환으로서는 모노시클로알칸, 비시클로알칸, 트리시클로알칸, 테트라시클로알칸 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic ring include monocycloalkanes, bicycloalkanes, tricycloalkanes, and tetracycloalkanes.

구체적으로는 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄 등의 모노시클로알칸이나, 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 테트라시클로도데칸을 들 수 있다.Specifically, monocycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane and tetracyclododecane are exemplified.

지방족환에 축합해도 되는 방향족환은 방향족 탄화수소환이어도 방향족 복소환이어도 되며, 방향족 탄화수소환이 바람직하다. 구체적으로는 벤젠환, 및 나프탈렌환이 바람직하다.An aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring may be sufficient as the aromatic ring which may be condensed with an aliphatic ring, and an aromatic hydrocarbon ring is preferable. Specifically, a benzene ring and a naphthalene ring are preferable.

식(a-3)로 표시되는 2가기의 적합한 예로서는 하기의 기를 들 수 있다.Preferable examples of the divalent group represented by the formula (a-3) include the following groups.

[화 4][Tuesday 4]

Figure 112018057420203-pat00004
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식(a-1) 중의 2가기 Xa는 잔기 Za를 부여하는 테트라카르복시산 2무수물과, 하기 식(a-2a)로 표시되는 디올 화합물을 반응시킴으로써, (A1) 카르도 수지 중에 도입된다.Divalent group X a in formula (a-1) is introduced into cardo resin (A1) by reacting tetracarboxylic dianhydride giving residue Z a with a diol compound represented by formula (a-2a) below.

[화 5][Tuesday 5]

Figure 112018057420203-pat00005
Figure 112018057420203-pat00005

식(a-2a) 중, Ra1, Ra2, Ra3, 및 m2는 식(a-2)에 대해 설명한 것과 같다. 식(a-2a) 중의 환 A에 대해서는 식(a-3)에 대해 설명한 것과 같다.In formula (a-2a), R a1 , R a2 , R a3 , and m2 are as described for formula (a-2). Ring A in formula (a-2a) is as described for formula (a-3).

식(a-2a)로 표시되는 디올 화합물은, 예를 들면 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.The diol compound represented by formula (a-2a) can be manufactured, for example by the following method.

우선, 하기 식(a-2b)로 표시되는 디올 화합물이 가지는 페놀성 수산기 중의 수소 원자를, 필요에 따라 상법에 따라서, -Ra3-OH로 표시되는 기로 치환한 후, 에피클로로히드린 등을 이용해 글리시딜화하여, 하기 식(a-2c)로 표시되는 에폭시 화합물을 얻는다.First, after replacing the hydrogen atom in the phenolic hydroxyl group of the diol compound represented by the following formula (a-2b) with a group represented by -R a3 -OH according to a conventional method as necessary, epichlorohydrin etc. It glycidylates using, and obtains the epoxy compound represented by the following formula (a-2c).

그 다음에, 식(a-2c)로 표시되는 에폭시 화합물을, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 반응시킴으로써, 식(a-2a)로 표시되는 디올 화합물이 얻어진다.Then, the diol compound represented by formula (a-2a) is obtained by making the epoxy compound represented by formula (a-2c) react with acrylic acid or methacrylic acid.

식(a-2b) 및 식(a-2c) 중, Ra1, Ra3, 및 m2는 식(a-2)에 대해 설명한 것과 같다. 식(a-2b) 및 식(a-2c) 중의 환 A에 대해서는 식(a-3)에 대해 설명한 것과 같다.In formulas (a-2b) and (a-2c), R a1 , R a3 , and m2 are as described for formula (a-2). Ring A in formulas (a-2b) and (a-2c) is as described for formula (a-3).

또한 식(a-2a)로 표시되는 디올 화합물의 제조 방법은 상기의 방법으로 한정되지 않는다.In addition, the manufacturing method of the diol compound represented by formula (a-2a) is not limited to said method.

[화 6][Tue 6]

Figure 112018057420203-pat00006
Figure 112018057420203-pat00006

식(a-2b)로 표시되는 디올 화합물의 적합한 예로서는 이하의 디올 화합물을 들 수 있다.Suitable examples of the diol compound represented by the formula (a-2b) include the following diol compounds.

[화 7][Tue 7]

Figure 112018057420203-pat00007
Figure 112018057420203-pat00007

상기 식(a-1) 중, Ra0는 수소 원자 또는 -CO-Ya-COOH로 표시되는 기이다. 여기서, Ya는 디카르복시산 무수물로부터 산무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기를 나타낸다. 디카르복시산 무수물의 예로서는 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸-endo-메틸렌테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.In the formula (a-1), R a0 is a hydrogen atom or a group represented by -CO-Y a -COOH. Here, Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (-CO-O-CO-) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl-endo-methylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Anhydrous glutaric acid etc. are mentioned.

또, 상기 식(a-1) 중, Za는 테트라카르복시산 2무수물로부터 2개의 산무수물기를 제외한 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2무수물의 예로서는 하기 식(a-4)로 표시되는 테트라카르복시산 2무수물, 피로멜리트산 2무수물, 벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 비페닐테트라카르복시산 2무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2무수물 등을 들 수 있다.Moreover, in said formula (a-1), Z <a> represents the residue obtained by removing two acid anhydride groups from tetracarboxylic dianhydride. Examples of the tetracarboxylic dianhydride include tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (a-4). can be heard

또, 상기 식(a-1) 중, m은 0~20의 정수를 나타낸다.Moreover, in said formula (a-1), m represents the integer of 0-20.

[화 8][Tue 8]

Figure 112018057420203-pat00008
Figure 112018057420203-pat00008

(식(a-4) 중, Ra4, Ra5, 및 Ra6은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종을 나타내고, m3은 0~12의 정수를 나타낸다.)(In formula (a-4), each of R a4 , R a5 , and R a6 independently represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluorine atom, and m3 is 0 to 10 Represents an integer of 12.)

식(a-4) 중의 Ra4로서 선택될 수 있는 알킬기는 탄소 원자수가 1~10인 알킬기이다. 알킬기가 구비하는 탄소 원자수를 이 범위로 설정함으로써, 얻어지는 카르복시산에스테르의 내열성을 한층 향상시킬 수 있다. Ra4가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 내열성이 뛰어난 카르도 수지를 얻기 쉬운 점으로부터, 1~6이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~4가 더욱 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하다.The alkyl group which can be selected as R a4 in formula (a-4) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. By setting the number of carbon atoms in the alkyl group within this range, the heat resistance of the carboxylic acid ester obtained can be further improved. When R a4 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 4, and 1 to 3, from the viewpoint of easiness to obtain a cardo resin having excellent heat resistance. This is particularly preferred.

Ra4가 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다.When R a4 is an alkyl group, the alkyl group may be linear or branched.

식(a-4) 중의 Ra4로서는 내열성이 뛰어난 카르도 수지를 얻기 쉬운 점으로부터, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기가 보다 바람직하다. 식(a-4) 중의 Ra4는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기 또는 이소프로필기가 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 메틸기가 특히 바람직하다.As R a4 in formula (a-4), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable each independently from the viewpoint of easily obtaining a cardo resin having excellent heat resistance. R a4 in formula (a-4) is more preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group or isopropyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or methyl group.

식(a-4) 중의 복수의 Ra4는 고순도의 테트라카르복시산 2무수물의 조제가 용이한 점으로부터, 동일한 기인 것이 바람직하다.A plurality of R a4 in formula (a-4) is preferably the same group from the viewpoint of easy preparation of high-purity tetracarboxylic dianhydride.

식(a-4) 중의 m3은 0~12의 정수를 나타낸다. m3의 값을 12 이하로 하는 것에 의해서, 테트라카르복시산 2무수물의 정제를 용이하게 할 수 있다.m3 in Formula (a-4) represents the integer of 0-12. By setting the value of m3 to 12 or less, the purification of tetracarboxylic dianhydride can be facilitated.

테트라카르복시산 2무수물의 정제가 용이한 점으로부터, m3의 상한은 5가 바람직하고, 3이 보다 바람직하다.From the viewpoint of easy purification of tetracarboxylic dianhydride, 5 is preferable and, as for the upper limit of m3, 3 is more preferable.

테트라카르복시산 2무수물의 화학적 안정성의 점으로부터, m3의 하한은 1이 바람직하고, 2가 보다 바람직하다.From the point of chemical stability of tetracarboxylic dianhydride, as for the lower limit of m3, 1 is preferable and 2 is more preferable.

식(a-4) 중의 m3은 2 또는 3이 특히 바람직하다.As for m3 in Formula (a-4), 2 or 3 is especially preferable.

식(a-4) 중의 Ra5, 및 Ra6로서 선택될 수 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기는, Ra4로서 선택될 수 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 같다.The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms that may be selected as R a5 and R a6 in formula (a-4) is the same as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms that may be selected as R a4 .

Ra5, 및 Ra6은 테트라카르복시산 2무수물의 정제가 용이한 점으로부터, 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~10(바람직하게는 1~6, 보다 바람직하게는 1~5, 더욱 바람직하게는 1~4, 특히 바람직하게는 1~3)의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 특히 바람직하다.R a5 and R a6 are hydrogen atoms or 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, still more preferably 1, from the viewpoint of easy purification of tetracarboxylic dianhydride). It is preferable that it is an alkyl group of -4, especially preferably 1-3), and it is especially preferable that it is a hydrogen atom or a methyl group.

식(a-4)로 표시되는 테트라카르복시산 2무수물로서는, 예를 들면 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물(별명 「노르보르난-2-스피로-2'-시클로펜타논-5'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물」), 메틸노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-(메틸노르보르난)-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로헥사논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물(별명 「노르보르난-2-스피로-2'-시클로헥사논-6'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물」), 메틸노르보르난-2-스피로-α-시클로헥사논-α'-스피로-2''-(메틸노르보르난)-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로프로판온-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로부탄온-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로헵타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로옥탄온-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로노난온-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로운데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로도데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로트리데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로테트라데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타데카논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-(메틸시클로펜타논)-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물, 노르보르난-2-스피로-α-(메틸시클로헥사논)-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복시산 2무수물 등을 들 수 있다.As tetracarboxylic dianhydride represented by formula (a-4), for example, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'' ,6,6''-tetracarboxylic dianhydride (aka "norbornane-2-spiro-2'-cyclopentanone-5'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6, 6''-tetracarboxylic dianhydride"), methylnorbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-(methylnorbornane)-5,5'',6, 6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclohexanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride (aka "norbornane-2-spiro-2'-cyclohexanone-6'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride" ), methylnorbornane-2-spiro-α-cyclohexanone-α'-spiro-2''-(methylnorbornane)-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, Norbornane-2-spiro-α-cyclopropanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2- Spiro-α-cyclobutanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclohep Tanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclooctanone-α'-spiro -2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclononanone-α'-spiro-2''-nor Bornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclodecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5 '',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloundecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6 ''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclododecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid 2 Anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclotridecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane -2-spiro-α-cyclotetradecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro- α-Cyclopentadecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-(methylcyclo Pentanone) -α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-(methylcyclohexanone) -α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride; and the like.

(A1) 카르도 수지의 중량 평균 분자량은 1000~40000인 것이 바람직하고, 1500~30000인 것이 보다 바람직하며, 2000~10000인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 양호한 현상성을 얻으면서, 충분한 내열성, 막강도를 얻을 수 있다.(A1) The weight average molecular weight of cardo resin is preferably 1000 to 40000, more preferably 1500 to 30000, still more preferably 2000 to 10000. By setting it as said range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained, obtaining favorable developability.

[아크릴계 수지(A2)][Acrylic Resin (A2)]

알칼리 가용성 수지(A)는 카르도 수지(A1) 이외의 알칼리 가용성 수지를 포함하고 있어도 된다. 이러한 알칼리 가용성 수지로서는 아크릴계 수지(A2)를 들 수 있다.Alkali-soluble resin (A) may contain alkali-soluble resin other than cardo resin (A1). Acrylic resin (A2) is mentioned as such an alkali-soluble resin.

아크릴계 수지(A2)로서는 (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위, 및/또는 (메타)아크릴산에스테르 등의 다른 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하는 것을 이용할 수 있다. (메타)아크릴산은 아크릴산, 또는 메타아크릴산이다. (메타)아크릴산에스테르는 하기 식(a-5)로 표시되는 것으로서, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 한 특별히 한정되지 않는다.As the acrylic resin (A2), one containing a structural unit derived from (meth)acrylic acid and/or a structural unit derived from other monomers such as (meth)acrylic acid ester can be used. (Meth)acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. The (meth)acrylic acid ester is represented by the following formula (a-5) and is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.

[화 9][Tue 9]

Figure 112018057420203-pat00009
Figure 112018057420203-pat00009

상기 식(a-5) 중, Ra7은 수소 원자 또는 메틸기이며, Ra8은 1가의 유기기이다. 이 유기기는 상기 유기기 중에 헤테로 원자 등의 탄화수소기 이외의 결합이나 치환기를 포함하고 있어도 된다. 또, 이 유기기는 직쇄상, 분기쇄상, 환상 중 어느 하나여도 된다.In the formula (a-5), R a7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R a8 is a monovalent organic group. This organic group may contain a bond other than a hydrocarbon group such as a hetero atom or a substituent in the above organic group. Moreover, either linear, branched chain, or cyclic may be sufficient as this organic group.

Ra8의 유기기 중의 탄화수소기 이외의 치환기로서는 본 발명의 효과가 손상되지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 할로겐 원자, 수산기, 머캅토기, 술피드 기, 시아노기, 이소시아노기, 시아네이토기, 이소시아네이토기, 티오시아네이토기, 이소티오시아네이토기, 실릴기, 실라놀기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 티오카르바모일기, 니트로기, 니트로소기, 카르복시기, 카르복실레이트기, 아실기, 아실옥시기, 술피노기, 술포기, 술포네이트기, 포스피노기, 포스피닐기, 포스포노기, 포스포네이트기, 히드록시이미노기, 알킬에테르기, 알킬티오에테르기, 아릴에테르기, 아릴티오에테르기, 아미노기(-NH2, -NHR, -NRR': R 및 R'는 각각 독립적으로 탄화수소기를 나타낸다) 등을 들 수 있다. 상기 치환기에 포함되는 수소 원자는 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 된다. 또, 상기 치환기에 포함되는 탄화수소기는 직쇄상, 분기쇄상, 및 환상 중 어느 하나여도 된다.Substituents other than a hydrocarbon group in the organic group of R a8 are not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a cyano group, an isocyano group, a cyanato group, an iso Cyanato group, thiocyanato group, isothiocyanato group, silyl group, silanol group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, nitro group, nitroso group, carboxyl group, carboxylate group, a A real group, an acyloxy group, a sulfino group, a sulfo group, a sulfonate group, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphono group, a phosphonate group, a hydroxyimino group, an alkyl ether group, an alkylthio ether group, an aryl ether group, an arylthioether group, an amino group (-NH 2 , -NHR, -NRR': R and R' each independently represent a hydrocarbon group), and the like. The hydrogen atom contained in the said substituent may be substituted by the hydrocarbon group. Moreover, any of linear, branched chain, and cyclic may be sufficient as the hydrocarbon group contained in the said substituent.

Ra8로서는 알킬기, 아릴기, 아랄킬기, 또는 복소환기가 바람직하고, 이들 기는 할로겐 원자, 수산기, 알킬기, 또는 복소환기로 치환되어 있어도 된다. 또, 이들 기가 알킬렌 부분을 포함하는 경우, 알킬렌 부분은 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다.As R a8 , an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group is preferable, and these groups may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, or a heterocyclic group. Moreover, when these groups contain an alkylene moiety, the alkylene moiety may be interrupted by an ether bond, a thioether bond, or an ester bond.

알킬기가, 직쇄상 또는 분기쇄상의 것인 경우, 그 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 특히 바람직하다. 적합한 알킬기의 예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms, when an alkyl group is a linear or branched thing, 1-20 are preferable, 1-15 are more preferable, and 1-10 are especially preferable. Examples of suitable alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group etc. can be mentioned.

알킬기가, 지환식기, 또는 지환식기를 포함하는 기인 경우, 알킬기에 포함되는 적합한 지환식기로서는 시클로펜틸기, 및 시클로헥실기 등 단환의 지환식기나, 아다만틸기, 노르보르닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 및 테트라시클로도데실기 등의 다환의 지환식기를 들 수 있다.When the alkyl group is an alicyclic group or a group containing an alicyclic group, suitable alicyclic groups included in the alkyl group include monocyclic alicyclic groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, Polycyclic alicyclic groups, such as a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group, are mentioned.

또, (A2) 아크릴계 수지는 (메타)아크릴산에스테르 이외의 모노머를 중합시킨 것이어도 된다. 이러한 모노머로서는 (메타)아크릴아미드류, 불포화 카르복시산류, 알릴 화합물, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, 스티렌류 등을 들 수 있다. 이들 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Moreover, (A2) acrylic resin may be what polymerized monomers other than (meth)acrylic acid ester. Examples of such monomers include (meth)acrylamides, unsaturated carboxylic acids, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes. These monomers can be used alone or in combination of two or more.

(메타)아크릴아미드류로서는 (메타)아크릴아미드, N-알킬(메타)아크릴아미드, N-아릴(메타)아크릴아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴아미드, N,N-아릴(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-페닐(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.As (meth)acrylamides, (meth)acrylamide, N-alkyl (meth)acrylamide, N-aryl (meth)acrylamide, N,N-dialkyl (meth)acrylamide, N,N-aryl (meth)acrylamide ) Acrylamide, N-methyl-N-phenyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth)acrylamide, etc. are mentioned.

불포화 카르복시산류로서는 크로톤산 등의 모노카르복시산; 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산; 이들 디카르복시산의 무수물; 등을 들 수 있다.Examples of unsaturated carboxylic acids include monocarboxylic acids such as crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; anhydrides of these dicarboxylic acids; etc. can be mentioned.

알릴 화합물로서는 아세트산알릴, 카프로산알릴, 카프릴산알릴, 라우르산알릴, 팔미트산알릴, 스테아르산알릴, 벤조산알릴, 아세토아세트산알릴, 락트산알릴 등의 알릴에스테르류; 알릴옥시에탄올; 등을 들 수 있다.Examples of the allyl compound include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, and allyl lactate; allyloxyethanol; etc. can be mentioned.

비닐에테르류로서는 헥실비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 데실비닐에테르, 에틸헥실비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 클로로에틸비닐에테르, 1-메틸-2,2-디메틸프로필비닐에테르, 2-에틸부틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜 비닐에테르, 디메틸아미노에틸비닐에테르, 디에틸아미노에틸비닐에테르, 부틸아미노에틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 테트라히드로푸르푸릴비닐에테르 등의 알킬비닐에테르; 비닐페닐에테르, 비닐톨릴에테르, 비닐클로로페닐에테르, 비닐-2,4-디클로로페닐에테르, 비닐나프틸에테르, 비닐안트라닐에테르 등의 비닐아릴에테르; 등을 들 수 있다.As vinyl ethers, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether , 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, etc. Alkyl vinyl ether of; vinyl aryl ethers such as vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; etc. can be mentioned.

비닐에스테르류로서는 비닐부틸레이트, 비닐이소부틸레이트, 비닐트리메틸아세테이트, 비닐디에틸아세테이트, 비닐발러레이트, 비닐카프로에이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐디클로로아세테이트, 비닐메톡시아세테이트, 비닐부톡시아세테이트, 비닐페닐아세테이트, 비닐아세토아세테이트, 비닐락테이트, 비닐-β-페닐부틸레이트, 벤조산비닐, 살리실산비닐, 클로로벤조산비닐, 테트라클로로벤조산비닐, 나프토산비닐 등을 들 수 있다.Vinyl esters include vinyl butylate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate, and vinyl phenyl. Acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenyl butyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate and the like.

스티렌류로서는 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 시클로헥실스티렌, 데실스티렌, 벤질스티렌, 클로로메틸스티렌, 트리플루오로메틸스티렌, 에톡시메틸스티렌, 아세톡시메틸스티렌 등의 알킬스티렌; 메톡시스티렌, 4-메톡시-3-메틸스티렌, 디메톡시스티렌 등의 알콕시스티렌; 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리클로로스티렌, 테트라클로로스티렌, 펜타클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌, 플루오로스티렌, 트리플루오로스티렌, 2-브로모-4-트리플루오로메틸스티렌, 4-플루오로-3-트리플루오로메틸스티렌 등의 할로스티렌; 등을 들 수 있다.Examples of styrene include styrene; Methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene Alkyl styrene, such as acetoxymethyl styrene; Alkoxy styrene, such as methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, and dimethoxy styrene; Chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Halo styrene, such as styrene and 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene; etc. can be mentioned.

아크릴계 수지(A2)에서의, (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위의 양과, 다른 모노머에 유래하는 구성 단위의 양은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 아크릴계 수지(A2)에서의, (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위의 양은 아크릴계 수지의 질량에 대해서, 5~50 질량%가 바람직하고, 10~30 질량%가 보다 바람직하다.The amount of structural units derived from (meth)acrylic acid and the amount of structural units derived from other monomers in the acrylic resin (A2) are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. 5-50 mass % is preferable with respect to the mass of acrylic resin, and, as for the quantity of the structural unit derived from (meth)acrylic acid in acrylic resin (A2), 10-30 mass % is more preferable.

아크릴계 수지(A2)의 중량 평균 분자량은 2000~50000인 것이 바람직하고, 5000~30000인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 수지 조성물의 막형성능, 노광 후의 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that it is 2000-50000, and, as for the weight average molecular weight of acrylic resin (A2), it is more preferable that it is 5000-30000. By setting it as the said range, there exists a tendency for it to be easy to balance the film-forming ability of a resin composition and the developability after exposure.

[노볼락 수지(A3)][Novolac resin (A3)]

알칼리 가용성 수지는 포스트베이크시의 가열에 의한 경화막의 과도한 열 플로우를 억제하는 관점으로부터, 노볼락 수지(A3)를 포함하는 것도 바람직하다.It is also preferable that alkali-soluble resin contains novolak resin (A3) from a viewpoint of suppressing excessive heat flow of the cured film by the heating at the time of post-baking.

노볼락 수지(A3)로서는 종래부터 감광성의 수지 조성물에 배합되고 있는 여러 가지의 노볼락 수지를 이용할 수 있다. 노볼락 수지(A3)로서는 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물(이하, 간단하게 「페놀류」라고 함)과 알데히드류를 산 촉매 하에서 부가 축합시킴으로써 얻어지는 것이 바람직하다.As the novolak resin (A3), various novolac resins that have conventionally been blended in photosensitive resin compositions can be used. As the novolak resin (A3), one obtained by subjecting an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group (hereinafter simply referred to as "phenols") and an aldehyde to addition condensation under an acid catalyst is preferable.

(페놀류)(phenols)

노볼락 수지(A3)를 제조할 때에 이용되는 페놀류로서는, 예를 들면 페놀; o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸 등의 크레졸류; 2,3-크실레놀, 2,4-크실레놀, 2,5-크실레놀, 2,6-크실레놀, 3,4-크실레놀, 3,5-크실레놀 등의 크실레놀류; o-에틸페놀, m-에틸페놀, p-에틸페놀 등의 에틸페놀류; 2-이소프로필페놀, 3-이소프로필페놀, 4-이소프로필페놀, o-부틸페놀, m-부틸페놀, p-부틸페놀, 및 p-tert-부틸페놀 등의 알킬페놀류; 2,3,5-트리메틸페놀, 및 3,4,5-트리메틸페놀 등의 트리알킬페놀류; 레졸시놀, 카테콜, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 피로갈롤, 및 플로로글리시놀 등의 다가 페놀류; 알킬레졸신, 알킬카테콜, 및 알킬하이드로퀴논 등의 알킬 다가 페놀류(어느 알킬기도 탄소 원자수 1 이상 4 이하이다.); α-나프톨; β-나프톨; 히드록시디페닐; 및 비스페놀 A 등을 들 수 있다. 이들 페놀류는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the phenols used when producing the novolak resin (A3) include phenol; Cresols, such as o-cresol, m-cresol, and p-cresol; 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, etc. silenols; ethyl phenols such as o-ethyl phenol, m-ethyl phenol, and p-ethyl phenol; alkyl phenols such as 2-isopropyl phenol, 3-isopropyl phenol, 4-isopropyl phenol, o-butyl phenol, m-butyl phenol, p-butyl phenol, and p-tert-butyl phenol; trialkylphenols such as 2,3,5-trimethylphenol and 3,4,5-trimethylphenol; polyhydric phenols such as resorcinol, catechol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and phloroglycinol; alkyl polyhydric phenols such as alkylresorcines, alkylcatechols, and alkylhydroquinones (each alkyl group has 1 to 4 carbon atoms); α-naphthol; β-naphthol; hydroxydiphenyl; and bisphenol A; and the like. These phenols may be used alone or in combination of two or more.

이들 페놀류 중에서도, m-크레졸 및 p-크레졸이 바람직하고, m-크레졸과 p-크레졸을 병용하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 양자의 배합 비율을 조정함으로써, 수지 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 내열성 등의 여러 특성을 조절할 수 있다.Among these phenols, m-cresol and p-cresol are preferable, and it is more preferable to use m-cresol and p-cresol in combination. In this case, various properties, such as heat resistance, of the cured film formed using the resin composition can be adjusted by adjusting the mixing ratio of both.

m-크레졸과 p-크레졸의 배합 비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, m-크레졸/p-크레졸의 몰비로, 3/7 이상 8/2 이하가 바람직하다. m-크레졸 및 p-크레졸을 이러한 범위의 비율로 이용함으로써, 내열성이 뛰어난 경화막을 형성 가능한 수지 조성물을 얻기 쉽다.Although the blending ratio of m-cresol and p-cresol is not particularly limited, the molar ratio of m-cresol/p-cresol is preferably 3/7 or more and 8/2 or less. By using m-cresol and p-cresol in a ratio within these ranges, it is easy to obtain a resin composition capable of forming a cured film having excellent heat resistance.

또, m-크레졸과, 2,3,5-트리메틸페놀을 병용해 제조되는 노볼락 수지도 바람직하다. 이러한 노볼락 수지를 이용하는 경우, 포스트베이크시의 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성할 수 있는 수지 조성물을, 특히 얻기 쉽다.Moreover, the novolac resin manufactured by using m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol together is also preferable. In the case of using such a novolak resin, it is particularly easy to obtain a resin composition capable of forming a cured film that is difficult to excessively flow by heating at the time of post-baking.

m-크레졸과 2,3,5-트리메틸페놀의 배합 비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, m-크레졸/2,3,5-트리메틸페놀의 몰비로, 70/30 이상 95/5 이하가 바람직하다.Although the blending ratio of m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol is not particularly limited, the molar ratio of m-cresol/2,3,5-trimethylphenol is preferably 70/30 or more and 95/5 or less.

(알데히드류)(aldehydes)

노볼락 수지(A3)를 제조할 때에 이용되는 알데히드류로서는, 예를 들면 포름알데히드, 파라포름알데히드, 푸르푸랄, 벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드, 및 아세트알데히드 등을 들 수 있다. 이들 알데히드류는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.Examples of aldehydes used when producing the novolac resin (A3) include formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, benzaldehyde, nitrobenzaldehyde, and acetaldehyde. These aldehydes may be used independently or may be used in combination of 2 or more types.

(산 촉매)(acid catalyst)

노볼락 수지(A3)를 제조할 때에 이용되는 산 촉매로서는, 예를 들면 염산, 황산, 질산, 인산, 및 아인산 등의 무기산류; 포름산, 옥살산, 아세트산, 디에틸황산, 및 파라톨루엔술폰산 등의 유기산류; 및 아세트산아연 등의 금속염류 등을 들 수 있다. 이들 산 촉매는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.As an acid catalyst used when manufacturing novolac resin (A3), For example, Inorganic acids, such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and phosphorous acid; organic acids such as formic acid, oxalic acid, acetic acid, diethylsulfuric acid, and p-toluenesulfonic acid; and metal salts such as zinc acetate. These acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.

(분자량)(Molecular Weight)

노볼락 수지(A3)의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw; 이하, 간단하게 「중량 평균 분자량」이라고도 말함)은 수지 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 가열에 의한 플로우에 대한 내성의 관점으로부터, 하한값으로서 2000이 바람직하고, 5000이 보다 바람직하며, 10000이 특히 바람직하고, 15000이 더욱 바람직하며, 20000이 가장 바람직하고, 상한값으로서 50000이 바람직하고, 45000이 보다 바람직하며, 40000이 더욱 바람직하며, 35000이 가장 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw; hereinafter also simply referred to as "weight average molecular weight") of the novolac resin (A3) in terms of polystyrene is the lower limit from the viewpoint of resistance to flow caused by heating of a cured film formed using a resin composition. 2000 is preferable, 5000 is more preferable, 10000 is particularly preferable, 15000 is more preferable, 20000 is most preferable, and the upper limit is preferably 50000, more preferably 45000, still more preferably 40000, and 35000 this is most preferable

노볼락 수지(A3)로서는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 상이한 것을 적어도 2종 조합하여 이용할 수 있다. 중량 평균 분자량이 상이한 것을 대소(大小) 조합하여 이용함으로써, 수지 조성물의 현상성과, 수지 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 내열성과의 밸런스를 잡을 수 있다.As the novolak resin (A3), at least two types of resins having different weight average molecular weights in terms of polystyrene can be used in combination. By using those having different weight average molecular weights in a large or small combination, it is possible to balance the developability of the resin composition and the heat resistance of a cured film formed using the resin composition.

알칼리 가용성 수지(A)의 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 10~65 질량%인 것이 바람직하고, 15~50 질량%인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 현상성이 뛰어난 수지 조성물을 얻기 쉽다.It is preferable that it is 10-65 mass % with respect to the mass of the whole solid content of a resin composition, and, as for content of alkali-soluble resin (A), it is more preferable that it is 15-50 mass %. By setting it as said range, it is easy to obtain the resin composition excellent in developability.

카르도 수지(A1)를 이용하는 경우, 그 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 5~40 질량%인 것이 바람직하고, 10~35 질량%인 것이 보다 바람직하며, 15~30 질량%인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 보다 한층 포스트베이크시의 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성할 수 있고 현상성이 뛰어난 수지 조성물을 얻기 쉽다.When using Cardo resin (A1), the content thereof is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 30% by mass, based on the total mass of the solid content of the resin composition. more preferable By setting it as said range, it is possible to form a cured film that is more difficult to flow excessively by heating at the time of post-baking, and it is easy to obtain a resin composition excellent in developability.

아크릴계 수지(A2)를 이용하는 경우, 그 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 2~55 질량%인 것이 바람직하고, 4~50 질량%인 것이 보다 바람직하며, 8~45 질량%인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 포스트베이크시의 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성할 수 있고 현상성이 뛰어난 수지 조성물을 얻기 쉽다.When using acrylic resin (A2), its content is preferably 2 to 55% by mass, more preferably 4 to 50% by mass, and still more preferably 8 to 45% by mass with respect to the total mass of the solid content of the resin composition. desirable. By setting it as said range, it is easy to obtain the resin composition which can form the cured film which does not flow excessively by heating at the time of post-baking, and which is excellent in developability.

노볼락 수지(A3)를 이용하는 경우, 그 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 0.2~15 질량%인 것이 바람직하고, 0.5~10 질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.8~5 질량%인 것이 더욱 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 포스트베이크시의 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성할 수 있고 현상성이 뛰어난 수지 조성물을 얻기 쉽다.When using novolac resin (A3), its content is preferably 0.2 to 15% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and preferably 0.8 to 5% by mass with respect to the total mass of the solid content of the resin composition. more preferable By setting it as said range, it is easy to obtain the resin composition which can form the cured film which does not flow excessively by heating at the time of post-baking, and which is excellent in developability.

<광중합성 화합물(B)><Photopolymerizable compound (B)>

수지 조성물은 광중합성 화합물(B)을 포함한다. 광중합성 화합물(B)로서는 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머가 바람직하다. 이러한 모노머에는 단관능 모노머와 다관능 모노머가 있다.The resin composition contains a photopolymerizable compound (B). As the photopolymerizable compound (B), a monomer having an ethylenically unsaturated group is preferable. These monomers include monofunctional monomers and multifunctional monomers.

단관능 모노머로서는 (메타)아크릴아미드, 메틸올(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 에톡시메틸(메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, tert-부틸아크릴아미드술폰산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-히드록시프로필프탈레이트, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Monofunctional monomers include (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl (meth)acrylamide, and butoxymethoxymethyl. (meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-hydroxymethyl(meth)acrylamide, (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citracone acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamidesulfonic acid, methyl(meth)acrylate, ethyl(meth)acrylate, butyl(meth)acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, glycerin mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate , dimethylaminoethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) Acrylates, half (meth)acrylates of phthalic acid derivatives, and the like are exemplified. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

한편, 다관능 모노머로서는 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트 등과 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응물), 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.On the other hand, as the multifunctional monomer, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, ) Acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di ( meth)acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri( meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxy Diethoxyphenyl) propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol di Glycidyl ether di(meth)acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether Poly(meth)acrylate, urethane(meth)acrylate (i.e., a reaction product of tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, or hexamethylene diisocyanate with 2-hydroxyethyl(meth)acrylate), methylenebis(meth)acrylate ) polyfunctional monomers such as acrylamide, (meth)acrylamide methylene ether, and condensates of polyhydric alcohols and N-methylol (meth)acrylamide; triacryl formal; and the like. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

이들 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머 중에서도, 수지 조성물의 기판에 대한 밀착성, 수지 조성물의 경화 후의 강도를 높이는 경향이 있는 점으로부터, 3 관능 이상의 다관능 모노머가 바람직하고, 4 관능 이상의 다관능 모노머가 보다 바람직하며, 5 관능 이상의 다관능 모노머가 더욱 바람직하다.Among the monomers having an ethylenically unsaturated group, a trifunctional or higher functional polyfunctional monomer is preferred, and a tetrafunctional or higher functional polyfunctional monomer is more preferred from the viewpoint of tending to increase the adhesion of the resin composition to the substrate and the strength after curing of the resin composition. And, a polyfunctional monomer having 5 or more functional groups is more preferred.

구체적으로는 5 관능 이상의 다관능 모노머가 이용되는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 및/또는 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트가 이용되는 것이 보다 바람직하다.Specifically, a pentafunctional or higher functional polyfunctional monomer is preferably used, and it is more preferable that dipentaerythritol penta(meth)acrylate and/or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate be used.

광중합성 화합물(B)의 수지 조성물 중의 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 1~50 질량%가 바람직하고, 5~40 질량%가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.The content of the photopolymerizable compound (B) in the resin composition is preferably from 1 to 50% by mass, more preferably from 5 to 40% by mass, based on the total mass of the solid content of the resin composition. By setting it as the said range, there exists a tendency to balance sensitivity, developability, and resolution easily.

<광중합 개시제(C)><Photoinitiator (C)>

광중합 개시제(C)로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 광중합 개시제를 이용할 수 있다.The photopolymerization initiator (C) is not particularly limited, and conventionally known photopolymerization initiators can be used.

광중합 개시제(C)로서 구체적으로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심, (9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)[4-(2-메톡시-1-메틸에톡시)-2-메틸페닐]메탄온 O-아세틸옥심, 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥탄온, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸술피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(O-에톡시카르보닐)옥심, o-벤조일벤조산메틸, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.As the photopolymerization initiator (C), specifically, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl ]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-dodecyl Phenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl- 1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, O -Acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl]ethanone oxime, (9-ethyl-6-nitro-9H-carbazol-3-yl) [4-(2-methoxy-1-methylethoxy)-2-methylphenyl]methanone O-acetyloxime, 2-(benzoyloxyimino)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1-octane one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- Butyl dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethylacetal, benzyldimethylketal, 1-phenyl-1,2-propanedione -2-(O-ethoxycarbonyl)oxime, o-benzoylmethylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4 -Propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octaquinone Methylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzo Oxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)-imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin Methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone , p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroaceto Phenone, α,α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9- Phenylacridine, 1,7-bis-(9-acridinyl)heptane, 1,5-bis-(9-acridinyl)pentane, 1,3-bis-(9-acridinyl)propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris(trichloromethyl)-s-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2- (5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6- Bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2- [2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloro) Methyl)-s-triazine, 2-(4-ethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-n-butoxyphenyl)-4,6 -bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-triclo Romethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)styrylphenyl- s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, and the like. These photoinitiators can be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 옥심계의 광중합 개시제를 이용하는 것이, 감도의 면에서 특히 바람직하다. 옥심계의 광중합 개시제 중에서, 특히 바람직한 것으로서는 O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심, 에탄온,1-[9-에틸-6-(피롤-2-일카르보닐)-9H-카르바졸-3-일],1-(O-아세틸옥심), 및 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥탄온을 들 수 있다.Among these, it is particularly preferable from the viewpoint of sensitivity to use an oxime-based photopolymerization initiator. Among the oxime photopolymerization initiators, particularly preferred are O-acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl]ethanone oxime, ethanone, and 1-[ 9-ethyl-6-(pyrrole-2-ylcarbonyl)-9H-carbazol-3-yl],1-(O-acetyloxime), and 2-(benzoyloxyimino)-1-[4-( phenylthio)phenyl]-1-octanone.

광중합 개시제로서는 또, 하기 식(c1)로 표시되는 옥심계 화합물을 이용하는 것도 바람직하다.As the photopolymerization initiator, it is also preferable to use an oxime-based compound represented by the following formula (c1).

[화 10][Tue 10]

Figure 112018057420203-pat00010
Figure 112018057420203-pat00010

(Rc1은 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기이며, (R c1 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group,

n1은 0~4의 정수이며, n1 is an integer from 0 to 4,

n2는 0, 또는 1이며, n2 is 0 or 1;

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기, 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기이며, R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent;

Rc3은 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기이다.)R c3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)

식(c1) 중, Rc1은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적절히 선택된다. Rc1이 유기기인 경우의 적합한 예로서는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 아미노기, 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. n1이 2~4의 정수인 경우, Rc1은 동일해도 상이해도 된다. 또, 치환기의 탄소 원자수에는 치환기가 추가로 가지는 치환기의 탄소 원자수를 포함하지 않는다.In formula (c1), R c1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, Benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent , a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, an amino group, amino group, morpholin-1-yl group, and piperazin-1-yl group substituted with 1 or 2 organic groups, halogen, nitro group, cyano group, and the like. When n1 is an integer of 2 to 4, R c1 may be the same or different. Moreover, the number of carbon atoms of the substituent which a substituent further has is not included in the number of carbon atoms of a substituent.

Rc1이 알킬기인 경우, 탄소 원자수 1~20이 바람직하고, 탄소 원자수 1~6이 보다 바람직하다. 또, Rc1이 알킬기인 경우, 직쇄이어도, 분기쇄이어도 된다. Rc1이 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc1이 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R <c1> is an alkyl group, 1-20 carbon atoms are preferable and 1-6 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R <c1> is an alkyl group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples when R c1 is an alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group A real group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when Rc1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group, and methoxypropyl group.

Rc1이 알콕시기인 경우, 탄소 원자수 1~20이 바람직하고, 탄소 원자수 1~6이 보다 바람직하다. 또, Rc1이 알콕시기인 경우, 직쇄이어도, 분기쇄이어도 된다. Rc1이 알콕시기인 경우의 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc1이 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로서는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R <c1> is an alkoxy group, 1-20 carbon atoms are preferable and 1-6 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R <c1> is an alkoxy group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples in case R c1 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, etc. are mentioned. Moreover, when R <c1> is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxy group. A propyloxy group etc. are mentioned.

Rc1이 시클로알킬기, 또는 시클로알콕시기인 경우, 탄소 원자수 3~10이 바람직하고, 탄소 원자수 3~6이 보다 바람직하다. Rc1이 시클로알킬기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc1이 시클로알콕시기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R <c1> is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3-10 carbon atoms are preferable and 3-6 carbon atoms are more preferable. A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group etc. are mentioned as a specific example in case R <c1> is a cycloalkyl group. Specific examples in case R c1 is a cycloalkoxy group include cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, cycloheptyloxy group, and cyclooctyloxy group.

Rc1이 포화 지방족 아실기, 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 탄소 원자수 2~20이 바람직하고, 탄소 원자수 2~7이 보다 바람직하다. Rc1이 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로서는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc1이 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로서는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R <c1> is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2-20 carbon atoms are preferable and 2-7 carbon atoms are more preferable. Specific examples of when R c1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group, n -Heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentanoyl group A decanoyl group, and an n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples in case R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpropanoyloxy group. , n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n- Tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

Rc1이 알콕시카르보닐기인 경우, 탄소 원자수 2~20이 바람직하고, 탄소 원자수 2~7이 보다 바람직하다. Rc1이 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R <c1> is an alkoxycarbonyl group, 2-20 carbon atoms are preferable and 2-7 carbon atoms are more preferable. Specific examples of when R c1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxy group. carbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec- Octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.

Rc1이 페닐알킬기인 경우, 탄소 원자수 7~20이 바람직하고, 탄소 원자수 7~10이 보다 바람직하다. 또 Rc1이 나프틸알킬기인 경우, 탄소 원자수 11~20이 바람직하고, 탄소 원자수 11~14가 보다 바람직하다. Rc1이 페닐알킬기인 경우의 구체예로서는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc1이 나프틸알킬기인 경우의 구체예로서는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc1이, 페닐알킬기, 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc1은 페닐기, 또는 나프틸기상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R <c1> is a phenylalkyl group, 7-20 carbon atoms are preferable and 7-10 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R <c1> is a naphthylalkyl group, 11-20 carbon atoms are preferable and 11-14 carbon atoms are more preferable. Specific examples in the case where R c1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in case R c1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R c1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

Rc1이 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시크릴기이다. 헤테로시크릴기가 축합환인 경우에는 환수 3까지인 것으로 한다. 이러한 헤테로시크릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다. Rc1이 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more of N, S, and O, or a heterocyclyl group formed by condensation of such monocycles or a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed that the ring number is up to 3. Examples of the heterocycle constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, and pyrimidine. , pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthala gin, cinoline, and quinoxaline; and the like. When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc1이 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 및 헤테로시크릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 Rc1과 같다. 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로서는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a saturated aliphatic group having 2 to 20 carbon atoms. an acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, C11-C20 naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group, etc. are mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as R c1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, and di-n-butylamino group. , n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoyl amino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group; can

Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가, 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.Examples of substituents in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group in R c1 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a substituent having 2 to 7 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Dialkylamino group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group having When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c1 further have substituents, the number of substituents is not limited to the range not impairing the object of the present invention, but is preferably 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in Rc1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc1 중에서는 화학적으로 안정한 것이나, 입체적인 장해가 적고, 옥심에스테르 화합물의 합성이 용이한 점 등으로부터, 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 및 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~6의 알킬이 보다 바람직하며, 메틸기가 특히 바람직하다.In R c1 , it is chemically stable, has little steric hindrance, and is easy to synthesize an oxime ester compound, such as an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and an oxime ester compound having 2 carbon atoms. A group selected from the group consisting of a saturated aliphatic acyl group of ∼7 is preferred, an alkyl having 1 to 6 carbon atoms is more preferred, and a methyl group is particularly preferred.

Rc1이 페닐기에 결합하는 위치는 Rc1이 결합하는 페닐기에 대해서, 페닐기와 옥심에스테르 화합물의 주골격의 결합손의 위치를 1위치로 하고, 메틸기의 위치를 2위치로 하는 경우에, 4위치, 또는 5위치가 바람직하고, 5위치가 보다 바람직하다. 또, n1은 0~3의 정수가 바람직하고, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0, 또는 1이 특히 바람직하다.The position at which R c1 is bonded to the phenyl group is at position 4, when the position of the bond hand of the main skeleton of the phenyl group and the oxime ester compound is set to position 1 and the position of the methyl group is set to position 2, relative to the phenyl group to which R c1 is bonded. , or the 5th position is preferred, and the 5th position is more preferred. Moreover, n1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기, 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기이다. 또, Rc2가 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기인 경우, 카르바졸릴기상의 질소 원자는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로 치환되어 있어도 된다.R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent. Moreover, when Rc2 is a carbazolyl group which may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Rc2에서, 페닐기, 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 페닐기, 또는 카르바졸릴기가, 탄소 원자상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 1~20의 알콕시기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알콕시기, 탄소 원자수 2~20의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~20의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~20의 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 페닐티오기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기, 아미노기, 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다.In R c2 , the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the phenyl group or the carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A cycloalkoxy group of 3 to 10 atoms, a saturated aliphatic acyl group of 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group of 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group of 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent , A phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, carbon which may have a substituent Phenylalkyl group having 7 to 20 atoms, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naphthyl which may have a substituent Substituted with a toyloxy group, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, or 1 or 2 organic groups amino group, morpholin-1-yl group, and piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group, and the like.

Rc2가 카르바졸릴기인 경우, 카르바졸릴기가 질소 원자상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~20의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기 등을 들 수 있다. 이들 치환기 중에서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~6의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.When R c2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, and a cycloalkyl group of 2 to 20 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent which may have 7 to 20 carbon atoms A phenylalkyl group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, even if it has a substituent The heterocyclyl group which becomes it, and the heterocyclyl carbonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned. Among these substituents, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

페닐기, 또는 카르바졸릴기가 가져도 되는 치환기의 구체예에 대해서, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 및 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기에 관해서는 Rc1과 같다.About the specific example of the substituent which a phenyl group or a carbazolyl group may have, an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, the phenylalkyl group which may have a substituent , a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, the same as Rc1 .

Rc2에서, 페닐기, 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기의 예로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기; 탄소 원자수 1~6의 알콕시기; 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기; 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기; 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기; 페닐기; 나프틸기; 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기; 모르폴린-1-일기; 피페라진-1-일기; 할로겐; 니트로기; 시아노기를 들 수 있다. 페닐기, 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가, 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.In R c2 , examples of the substituent in case the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; A saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; a benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; morpholine-1-yl group; piperazine-1-yl group; halogen; nitro group; A cyano group is mentioned. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituents of the phenyl group or the carbazolyl group further have substituents, the number of the substituents is not limited within the range that does not impair the object of the present invention, but is 1 to 4 is preferred. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc2 중에서는 감도가 뛰어난 광중합 개시제를 얻기 쉬운 점으로부터, 하기 식(c2), 또는 (c3)으로 표시되는 기가 바람직하고, 하기 식(c2)로 표시되는 기가 보다 바람직하며, 하기 식(c2)로 표시되는 기로서, A가 S인 기가 특히 바람직하다.In R c2 , from the viewpoint of obtaining a photopolymerization initiator with excellent sensitivity, a group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferred, and a group represented by the following formula (c2) is more preferred, and the following formula (c2) As the group represented by , a group in which A is S is particularly preferred.

[화 11][Tue 11]

Figure 112018057420203-pat00011
Figure 112018057420203-pat00011

(Rc4는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기이며, A는 S 또는 O이며, n3은 0~4의 정수이다.)(R c4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group, A is S or O, and n3 is an integer of 0 to 4.)

[화 12][Tue 12]

Figure 112018057420203-pat00012
Figure 112018057420203-pat00012

(Rc5 및 Rc6은 각각 1가의 유기기이다.)(R c5 and R c6 are each a monovalent organic group.)

식(c2)에서의 Rc4가 유기기인 경우, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. 식(c2)에서 Rc4가 유기기인 경우의 적합한 예로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기; 탄소 원자수 1~6의 알콕시기; 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기; 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기; 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기; 페닐기; 나프틸기; 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기; 모르폴린-1-일기; 피페라진-1-일기; 할로겐; 니트로기; 시아노기를 들 수 있다.When R c4 in the formula (c2) is an organic group, it can be selected from various organic groups within a range not impairing the object of the present invention. Preferred examples in the case where R c4 in the formula (c2) is an organic group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; A saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; a benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; morpholine-1-yl group; piperazine-1-yl group; halogen; nitro group; A cyano group is mentioned.

Rc4 중에서는 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 니트로기가 바람직하고, 벤조일기; 나프토일기; 2-메틸페닐카르보닐기; 4-(피페라진-1-일)페닐카르보닐기; 4-(페닐)페닐카르보닐기가 보다 바람직하다.Among R c4 , a benzoyl group; naphthoyl group; a benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A nitro group is preferable, and a benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4-(piperazin-1-yl)phenylcarbonyl group; A 4-(phenyl)phenylcarbonyl group is more preferred.

또, 식(c2)에서, n3은 0~3의 정수가 바람직하고, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0, 또는 1인 것이 특히 바람직하다. n3이 1인 경우, Rc4의 결합하는 위치는 Rc4가 결합하는 페닐기가 산소 원자 또는 황 원자와 결합하는 결합손에 대해서, 파라 위치인 것이 바람직하다.In formula (c2), n3 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. When n3 is 1, the position at which R c4 is bonded is preferably para-position with respect to the bond at which the phenyl group to which R c4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom.

식(c3)에서의 Rc5는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc5의 적합한 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~20의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기 등을 들 수 있다.R c5 in formula (c3) can be selected from various organic groups within a range not impairing the object of the present invention. Preferred examples of R c5 include an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group of 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group of 2 to 20 carbon atoms, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a naphtho which may have a substituent group, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent; can

Rc5 중에서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~6의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.Among R c5 , an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

식(c3)에서의 Rc6은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc6으로서 적합한 기의 구체예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기를 들 수 있다. Rc6으로서 이들 기 중에서는 치환기를 가져도 되는 페닐기가 보다 바람직하며, 2-메틸페닐기가 특히 바람직하다.R c6 in the formula (c3) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of groups suitable for R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. As Rc6 , among these groups, a phenyl group which may have a substituent is more preferable, and a 2-methylphenyl group is particularly preferable.

Rc4, Rc5, 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc4, Rc5, 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. Rc4, Rc5, 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가, 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.Examples of substituents in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon A dialkylamino group having an alkyl group of 1 to 6 atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group, and the like. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c4 , R c5 , or R c6 further have substituents, the number of the substituents is not limited to the range not impairing the object of the present invention, but is 1 to 10 4 is preferred. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

식(c1)에서의 Rc3은 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기이다. Rc3로서는 메틸기, 또는 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.R c3 in formula (c1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. As Rc3 , a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.

식(c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물 중에서도 특히 적합한 화합물로서는 하기의 PI-1~PI-42를 들 수 있다.Among the oxime ester compounds represented by the formula (c1), PI-1 to PI-42 shown below are exemplified as particularly suitable compounds.

[화 13][Tue 13]

Figure 112018057420203-pat00013
Figure 112018057420203-pat00013

[화 14][Tue 14]

Figure 112018057420203-pat00014
Figure 112018057420203-pat00014

[화 15][Tuesday 15]

Figure 112018057420203-pat00015
Figure 112018057420203-pat00015

[화 16][Tue 16]

Figure 112018057420203-pat00016
Figure 112018057420203-pat00016

[화 17][Tue 17]

Figure 112018057420203-pat00017
Figure 112018057420203-pat00017

[화 18][Tue 18]

Figure 112018057420203-pat00018
Figure 112018057420203-pat00018

또, 하기 식(c4)로 표시되는 옥심에스테르 화합물도 광중합 개시제로서 바람직하다.Moreover, the oxime ester compound represented by following formula (c4) is also preferable as a photoinitiator.

[화 19][Tue 19]

Figure 112018057420203-pat00019
Figure 112018057420203-pat00019

(Rc7은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이며, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기, 또는 수소 원자이며, Rc8과 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 되고, Rc10은 1가의 유기기이며, Rc11은 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, n4는 0~4의 정수이며, n5는 0 또는 1이다.)(R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, R c8 and R c9 are each a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, and R c8 and R c9 may combine with each other to form a ring, R c10 is a monovalent organic group, R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, n4 is an integer from 0 to 4, and n5 is 0 or 1.)

여기서, 식(c4)의 옥심에스테르 화합물을 제조하기 위한 옥심 화합물로서는 하기 식(c5)로 표시되는 화합물이 적합하다.Here, as an oxime compound for producing the oxime ester compound of formula (c4), a compound represented by the following formula (c5) is suitable.

[화 20][Tue 20]

Figure 112018057420203-pat00020
Figure 112018057420203-pat00020

(Rc7, Rc8, Rc9, Rc10, n4, 및 n5는 식(c4)과 같다.)(R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , n4, and n5 are as shown in Formula (c4).)

식(c4) 및(c5) 중, Rc7은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이다. Rc7은 식(c4) 중의 플루오렌환상에서, -(CO)n5-로 표시되는 기에 결합하는 6원 방향환과는, 상이한 6원 방향환에 결합한다. 식(c4) 중, Rc7의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. 식(c4)로 표시되는 화합물이 1 이상의 Rc7을 가지는 경우, 식(c4)로 표시되는 화합물의 합성이 용이한 점 등으로부터, 1 이상의 Rc7 중 하나가 플루오렌환 중의 2위치에 결합하는 것이 바람직하다. Rc7이 복수인 경우, 복수의 Rc7은 동일해도 상이해도 된다.In formulas (c4) and (c5), R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group. R c7 bonds to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by -(CO) n5- on the fluorene ring in formula (c4). In formula (c4), the bonding position of R c7 to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by formula (c4) has one or more R c7 , the synthesis of the compound represented by formula (c4) is easy, so that one of the one or more R c7 bonds to the 2-position of the fluorene ring. it is desirable When there are plural R c7 , the plural R c7 may be the same or different.

Rc7이 유기기인 경우, Rc7은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적절히 선택된다. Rc7이 유기기인 경우의 적합한 예로서는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기, 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.When R c7 is an organic group, R c7 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferred examples when R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, Benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent , naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naphthoyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, substituent The heterocyclylcarbonyl group which may have, the amino group substituted with 1 or 2 organic groups, the morpholin-1-yl group, the piperazin-1-yl group, etc. are mentioned.

Rc7이 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, Rc7이 알킬기인 경우, 직쇄이어도, 분기쇄이어도 된다. Rc7이 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc7이 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of an alkyl group, when Rc7 is an alkyl group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Moreover, when Rc7 is an alkyl group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples when R c7 is an alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group A real group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when Rc7 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group, and methoxypropyl group.

Rc7이 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, Rc7이 알콕시기인 경우, 직쇄이어도, 분기쇄이어도 된다. Rc7이 알콕시기인 경우의 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc7이 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로서는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of an alkoxy group, when Rc7 is an alkoxy group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Moreover, when Rc7 is an alkoxy group, it may be straight-chain or branched-chain. Specific examples in case R c7 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, etc. are mentioned. In addition, when R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxy group. A propyloxy group etc. are mentioned.

Rc7이 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 3~6이 보다 바람직하다. Rc7이 시클로알킬기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc7이 시클로알콕시기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, when R <c7> is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3-10 are preferable and 3-6 are more preferable. A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group etc. are mentioned as a specific example in case Rc7 is a cycloalkyl group. A cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group etc. are mentioned as a specific example in case Rc7 is a cycloalkoxy group.

Rc7이 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자수는 2~21이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. Rc7이 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로서는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc7이 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로서는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.As for the carbon atom number of a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, when Rc7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2-21 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples of when R c7 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group, n -Heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentanoyl group A decanoyl group, and an n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpropanoyloxy group. , n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n- Tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자수는 2~20이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.As for the number of carbon atoms of an alkoxycarbonyl group, when Rc7 is an alkoxycarbonyl group, 2-20 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples of when R c7 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxy group. carbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec- Octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.

Rc7이 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자수는 7~20이 바람직하고, 7~10이 보다 바람직하다. 또, Rc7이 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자수는 11~20이 바람직하고, 11~14가 보다 바람직하다. Rc7이 페닐알킬기인 경우의 구체예로서는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc7이 나프틸알킬기인 경우의 구체예로서는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc7이, 페닐알킬기, 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc7은 페닐기, 또는 나프틸기상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms in the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, more preferably 7 to 10. Moreover, as for the number of carbon atoms of a naphthylalkyl group, when Rc7 is a naphthylalkyl group, 11-20 are preferable and 11-14 are more preferable. Specific examples in case R c7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in case R c7 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R c7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c7 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

Rc7이 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시크릴기이다. 헤테로시크릴기가 축합환인 경우에는 환수 3까지인 것으로 한다. 헤테로시크릴기는 방향족기(헤테로아릴기)이어도, 비방향족기이어도 된다. 이러한 헤테로시크릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 테트라히드로피란, 및 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다. Rc7이 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more of N, S, and O, or a heterocyclyl group formed by condensation of such monocycles or a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed that the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, and pyrimidine. , pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthala gin, chinoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran; and the like. When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc7이 헤테로시크릴카르보닐기인 경우, 헤테로시크릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시크릴기는 Rc7이 헤테로시크릴기인 경우와 같다.When R c7 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as the case where R c7 is a heterocyclyl group.

Rc7이 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~21의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 및 헤테로시크릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 Rc7과 같다. 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로서는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c7 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 10 carbon atoms, and a saturated aliphatic group of 2 to 21 carbon atoms. A phenyl group which may have a real group, a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a substituent A naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have, and a heterocyclyl group. Specific examples of these suitable organic groups are the same as R c7 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, and di-n-butylamino group. , n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoyl amino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group; can

Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가, 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.Examples of substituents in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group in R c7 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a substituent having 2 to 7 carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Dialkylamino group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group having When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c7 further have substituents, the number of substituents is not limited to the range not impairing the object of the present invention, but is preferably 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in Rc7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

이상 설명한 기 중에서도, Rc7로서는 니트로기, 또는 Rc12-CO-로 표시되는 기이면, 감도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다. Rc12는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc12로서 적합한 기의 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기를 들 수 있다. Rc12로서 이들 기 중에서는 2-메틸페닐기, 티오펜-2-일기, 및 α-나프틸기가 특히 바람직하다. Among the groups described above, a nitro group or a group represented by R c12 -CO- as R c7 is preferable because the sensitivity tends to be improved. R c12 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Examples of groups suitable for R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. Among these groups as R c12 , a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group are particularly preferred.

또, Rc7이 수소 원자이면, 투명성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 또한 Rc7이 수소 원자이며 또한 Rc10이 후술하는 식(c4a) 또는 (c4b)으로 표시되는 기이면 투명성은 보다 양호해지는 경향이 있다.In addition, when R c7 is a hydrogen atom, transparency tends to be improved, and is preferable. Transparency tends to be better when R c7 is a hydrogen atom and R c10 is a group represented by formula (c4a) or (c4b) described later.

식(c4) 중, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기, 또는 수소 원자이다. Rc8과 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 된다. 이들 기 중에서는 Rc8 및 Rc9로서 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기가 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 직쇄 알킬기이어도 분기쇄 알킬기이어도 된다.In formula (c4), each of R c8 and R c9 is a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. R c8 and R c9 may combine with each other to form a ring. Among these groups, chain alkyl groups which may have substituents are preferred as R c8 and R c9 . When Rc8 and Rc9 are a chain alkyl group which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 가지지 않는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~6이 특히 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc8 및 Rc9가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having no substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, particularly preferably 1 to 6. Specific examples when R c8 and R c9 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group , n-decyl group, and isodecyl group. Moreover, when Rc8 and Rc9 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group, and methoxypropyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 가지는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~6이 특히 바람직하다. 이 경우, 치환기의 탄소 원자수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자수에 포함되지 않는다. 치환기를 가지는 쇄상 알킬기는 직쇄상인 것이 바람직하다. When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having a substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 6. In this case, the number of carbon atoms in the substituent is not included in the number of carbon atoms in the chain alkyl group. It is preferable that the chain|chain alkyl group which has a substituent is linear.

알킬기가 가져도 되는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 치환기의 적합한 예로서는 시아노기, 할로겐 원자, 환상 유기기, 및 알콕시카르보닐기를 들 수 있다. 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. 이들 중에서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 바람직하다. 환상 유기기로서는 시클로알킬기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시크릴기를 들 수 있다. 시클로알킬기의 구체예로서는 Rc7이 시클로알킬기인 경우의 적합한 예와 같다. 방향족 탄화수소기의 구체예로서는 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다. 헤테로시크릴기의 구체예로서는 Rc7이 헤테로시크릴기인 경우의 적합한 예와 같다. Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다.Substituents that the alkyl group may have are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. As a cyclic organic group, a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group are mentioned. As a specific example of a cycloalkyl group, it is the same as a suitable example in case Rc7 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as those in the case where R c7 is a heterocyclyl group. When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the number of carbon atoms of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable.

쇄상 알킬기가 치환기를 가지는 경우, 치환기의 수는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 치환기의 수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자수에 따라 바뀐다. 치환기의 수는 전형적으로는 1~20이며, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다.When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1 to 20, preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6.

Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기는 지환식기이어도, 방향족기이어도 된다. 환상 유기기로서는 지방족 환상 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시크릴기를 들 수 있다. Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우에, 환상 유기기가 가져도 되는 치환기는 Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우와 같다.When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. As a cyclic organic group, an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group are mentioned. When Rc8 and Rc9 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic groups may have are the same as those in the case where Rc8 and Rc9 are chain alkyl groups.

Rc8 및 Rc9가 방향족 탄화수소기인 경우, 방향족 탄화수소기는 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 탄소-탄소 결합을 통해서 결합해 형성되는 기이거나, 복수의 벤젠환이 축합해 형성되는 기인 것이 바람직하다. 방향족 탄화수소기가, 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 결합 또는 축합해 형성되는 기인 경우, 방향족 탄화수소기에 포함되는 벤젠환의 환수는 특별히 한정되지 않고, 3 이하가 바람직하고, 2 이하가 보다 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 방향족 탄화수소기의 바람직한 구체예로서는 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, the aromatic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond, or a group formed by condensation of a plurality of benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensation of a plurality of benzene rings, the number of rings of the benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and especially 1 desirable. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

Rc8 및 Rc9가 지방족 환상 탄화수소기인 경우, 지방족 환상 탄화수소기는 단환식이어도 다환식이어도 된다. 지방족 환상 탄화수소기의 탄소 원자수는 특별히 한정되지 않지만, 3~20이 바람직하고, 3~10이 보다 바람직하다. 단환식의 환상 탄화수소기의 예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보르닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기, 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.When Rc8 and Rc9 are an aliphatic cyclic hydrocarbon group, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms in the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20 and more preferably 3 to 10. Examples of the monocyclic cyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, A tetracyclododecyl group, an adamantyl group, etc. are mentioned.

Rc8 및 Rc9가 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시크릴기이다. 헤테로시크릴기가 축합환인 경우에는 환수 3까지인 것으로 한다. 헤테로시크릴기는 방향족기(헤테로아릴기)이어도, 비방향족기이어도 된다. 이러한 헤테로시크릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 테트라히드로피란, 및 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing at least one N, S, and O, or a heterocyclyl condensed between these monocycles or such monocycles and a benzene ring. It is Ki. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed that the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, and pyrimidine. , pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthala gin, chinoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran; and the like.

Rc8과 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 된다. Rc8과 Rc9가 형성하는 환으로 이루어지는 기는 시클로알킬리덴기인 것이 바람직하다. Rc8과 Rc9가 결합해 시클로알킬리덴기를 형성하는 경우, 시클로알킬리덴기를 구성하는 환은 5원환~6원환인 것이 바람직하고, 5원환인 것이 보다 바람직하다.R c8 and R c9 may combine with each other to form a ring. It is preferable that the group consisting of the ring formed by Rc8 and Rc9 is a cycloalkylidene group. When Rc8 and Rc9 combine to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered to 6-membered ring, more preferably a 5-membered ring.

Rc8과 Rc9가 결합해 형성하는 기가 시클로알킬리덴기인 경우, 시클로알킬리덴기는 1 이상의 다른 환과 축합하고 있어도 된다. 시클로알킬리덴기와 축합하고 있어도 되는 환의 예로서는 벤젠환, 나프탈렌환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 피리딘환, 피라진환, 및 피리미딘환 등을 들 수 있다.When the group formed by combining Rc8 and Rc9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of rings that may be condensed with a cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, and a pyraline ring. A true ring, and a pyrimidine ring, etc. are mentioned.

이상 설명한 Rc8 및 Rc9 중에서도 적합한 기의 예로서는 식-A1-A2로 표시되는 기를 들 수 있다. 식 중, A1은 직쇄 알킬렌기이며, A2는 알콕시기, 시아노기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기, 환상 유기기, 또는 알콕시카르보닐기를 들 수 있다.Examples of suitable groups among R c8 and R c9 described above include groups represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a straight-chain alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

A1의 직쇄 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. A2가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. A2가 할로겐 원자인 경우, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. A2가 할로겐화 알킬기인 경우, 할로겐화 알킬기에 포함되는 할로겐 원자는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. 할로겐화 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A2가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 가지는 환상 유기기와 같다. A2가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 가지는 알콕시카르보닐기와 같다.1-10 are preferable and, as for carbon atoms of the linear alkylene group of A <1> , 1-6 are more preferable. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom, and more preferably a fluorine atom, chlorine atom or bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic groups that R c8 and R c9 have as substituents. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl groups that Rc8 and Rc9 have as substituents.

Rc8 및 Rc9의 적합한 구체예로서는 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-헥실기, n-헵틸기, 및 n-옥틸기 등의 알킬기; 2-메톡시에틸기, 3-메톡시-n-프로필기, 4-메톡시-n-부틸기, 5-메톡시-n-펜틸기, 6-메톡시-n-헥실기, 7-메톡시-n-헵틸기, 8-메톡시-n-옥틸기, 2-에톡시에틸기, 3-에톡시-n-프로필기, 4-에톡시-n-부틸기, 5-에톡시-n-펜틸기, 6-에톡시-n-헥실기, 7-에톡시-n-헵틸기, 및 8-에톡시-n-옥틸기 등의 알콕시알킬기; 2-시아노에틸기, 3-시아노-n-프로필기, 4-시아노-n-부틸기, 5-시아노-n-펜틸기, 6-시아노-n-헥실기, 7-시아노-n-헵틸기, 및 8-시아노-n-옥틸기 등의 시아노알킬기; 2-페닐에틸기, 3-페닐-n-프로필기, 4-페닐-n-부틸기, 5-페닐-n-펜틸기, 6-페닐-n-헥실기, 7-페닐-n-헵틸기, 및 8-페닐-n-옥틸기 등의 페닐알킬기; 2-시클로헥실에틸기, 3-시클로헥실-n-프로필기, 4-시클로헥실-n-부틸기, 5-시클로헥실-n-펜틸기, 6-시클로헥실-n-헥실기, 7-시클로헥실-n-헵틸기, 8-시클로헥실-n-옥틸기, 2-시클로펜틸에틸기, 3-시클로펜틸-n-프로필기, 4-시클로펜틸-n-부틸기, 5-시클로펜틸-n-펜틸기, 6-시클로펜틸-n-헥실기, 7-시클로펜틸-n-헵틸기, 및 8-시클로펜틸-n-옥틸기 등의 시클로알킬알킬기; 2-메톡시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 4-메톡시카르보닐-n-부틸기, 5-메톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-메톡시카르보닐-n-헥실기, 7-메톡시카르보닐-n-헵틸기, 8-메톡시카르보닐-n-옥틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 4-에톡시카르보닐-n-부틸기, 5-에톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-에톡시카르보닐-n-헥실기, 7-에톡시카르보닐-n-헵틸기, 및 8-에톡시카르보닐-n-옥틸기 등의 알콕시카르보닐알킬기; 2-클로로에틸기, 3-클로로-n-프로필기, 4-클로로-n-부틸기, 5-클로로-n-펜틸기, 6-클로로-n-헥실기, 7-클로로-n-헵틸기, 8-클로로-n-옥틸기, 2-브로모에틸기, 3-브로모-n-프로필기, 4-브로모-n-부틸기, 5-브로모-n-펜틸기, 6-브로모-n-헥실기, 7-브로모-n-헵틸기, 8-브로모-n-옥틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 및 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로-n-펜틸기 등의 할로겐화 알킬기를 들 수 있다.Preferable specific examples of R c8 and R c9 include alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy -n-heptyl group, 8-methoxy-n-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-phen alkoxyalkyl groups such as ethyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7-ethoxy-n-heptyl group, and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n-pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano group -cyanoalkyl groups such as n-heptyl group and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and phenylalkyl groups such as 8-phenyl-n-octyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl -n-heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-phen Cycloalkylalkyl groups such as ethyl group, 6-cyclopentyl-n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl -n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxycarbonyl-n-heptyl group, and 8 -alkoxycarbonylalkyl groups such as ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5-chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo- n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5, Halogenated alkyl groups, such as a 5-heptafluoro-n-pentyl group, are mentioned.

Rc8 및 Rc9로서 상기 중에서도 적합한 기는 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, 2-메톡시에틸기, 2-시아노에틸기, 2-페닐에틸기, 2-시클로헥실에틸기, 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-클로로에틸기, 2-브로모에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 및 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로-n-펜틸기이다.Suitable groups among the above as R c8 and R c9 are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro- It is an n-pentyl group.

Rc10의 적합한 유기기의 예로서는 Rc7과 동일하게, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기, 1, 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다. 이들 기의 구체예는 Rc7에 대해 설명한 것과 같다. 또, Rc10으로서는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기, 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 Rc7에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 같다.Examples of suitable organic groups for R c10 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, and a substituent, as in R c7 . A phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a substituent naphthoxy group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naphthoyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent, hetero group which may have a substituent A krill group, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group. Specific examples of these groups are as described for R c7 . Moreover, as Rc10 , a cycloalkylalkyl group, the phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group in Rc7 may have.

유기기 중에서도, Rc10으로서는 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~4의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자수는 5~10이 바람직하고, 5~8이 보다 바람직하며, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among organic groups, as Rc10 , an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are preferable. The alkyl group is preferably an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a methyl group. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. 5-10 are preferable, as for the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in a cycloalkylalkyl group, 5-8 are more preferable, and 5 or 6 are especially preferable. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. As for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-8 are preferable, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2-(4-chlorophenylthio)ethyl group is preferable.

또, Rc10으로서는, -A3-CO-O-A4로 표시되는 기도 바람직하다. A3은 2가의 유기기이며, 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. A4는 1가의 유기기이며, 1가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.Moreover, as Rc10 , group represented by -A 3 -CO-OA 4 is also preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group.

A3이 알킬렌기인 경우, 알킬렌기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A3이 알킬렌기인 경우, 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~4가 특히 바람직하다.When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, preferably linear. As for the number of carbon atoms of an alkylene group, when A <3> is an alkylene group, 1-10 are preferable, 1-6 are more preferable, and 1-4 are especially preferable.

A4의 적합한 예로서는 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 7~20의 아랄킬기, 및 탄소 원자수 6~20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. A4의 적합한 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 페닐기, 나프틸기, 벤질기, 페네틸기, α-나프틸메틸기, 및 β-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.Preferable examples of A 4 include an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group of 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group of 6 to 20 carbon atoms. Preferable specific examples of A 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, and β-naphthylmethyl group; and the like.

-A3-CO-O-A4로 표시되는 기의 적합한 구체예로서는 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 2-n-프로필옥시카르보닐에틸기, 2-n-부틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-펜틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-헥실옥시카르보닐에틸기, 2-벤질옥시카르보닐에틸기, 2-페녹시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 3-n-프로필옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-부틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-펜틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-헥실옥시카르보닐-n-프로필기, 3-벤질옥시카르보닐-n-프로필기, 및 3-페녹시카르보닐-n-프로필기 등을 들 수 있다.Preferred specific examples of the group represented by -A 3 -CO-OA 4 include 2-methoxycarbonylethyl, 2-ethoxycarbonylethyl, 2-n-propyloxycarbonylethyl, and 2-n-butyloxycarbonyl. Ethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group , 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl- n-propyl group, 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, and 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group, etc. are mentioned.

이상, Rc10에 대해 설명했지만, Rc10으로서는 하기 식(c4a) 또는 (c4b)으로 표시되는 기가 바람직하다.As mentioned above, although R c10 was demonstrated, as R c10 , the group represented by the following formula (c4a) or (c4b) is preferable.

[화 21][Tue 21]

Figure 112018057420203-pat00021
Figure 112018057420203-pat00021

(식(c4a) 및 (c4b) 중, Rc13 및 Rc14는 각각 유기기이며, n6은 0~4의 정수이며, Rc13 및 Rc14가 벤젠환상의 인접하는 위치에 존재하는 경우, Rc13과 Rc14가 서로 결합해 환을 형성해도 되고, n7은 1~8의 정수이며, n8은 1~5의 정수이며, n9는 0~(n8+3)의 정수이며, Rc15는 유기기이다.)(In formulas (c4a) and (c4b), R c13 and R c14 are each an organic group, n6 is an integer of 0 to 4, and when R c13 and R c14 are present at adjacent positions on the benzene ring, R c13 And R c14 may combine with each other to form a ring, n7 is an integer of 1 to 8, n8 is an integer of 1 to 5, n9 is an integer of 0 to (n8 + 3), R c15 is an organic group.)

식(c4a) 중의 Rc13 및 Rc14에 대한 유기기의 예는 Rc7과 같다. Rc13로서는 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rc13이 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, Rc13은 메틸기인 것이 가장 바람직하다. Rc13과 Rc14가 결합해 환을 형성하는 경우, 상기 환은 방향족환이어도 되며, 지방족환이어도 된다. 식(c4a)로 표시되는 기로서, Rc13과 Rc14가 환을 형성하고 있는 기의 적합한 예로서는 나프탈렌-1-일기나, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식(c4a) 중, n6은 0~4의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.Examples of organic groups for R c13 and R c14 in formula (c4a) are the same as R c7 . As R c13 , an alkyl group or a phenyl group is preferable. When R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R c13 is most preferably a methyl group. When Rc13 and Rc14 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Suitable examples of the group represented by formula (c4a), in which Rc13 and Rc14 form a ring, include naphthalen-1-yl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5-yl group, and the like. can In the formula (c4a), n6 is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1, and more preferably 0.

상기 식(c4b) 중, Rc15는 유기기이다. 유기기로서는 Rc7에 대해 설명한 유기기와 동일한 기를 들 수 있다. 유기기 중에서는 알킬기가 바람직하다. 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알킬기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하다. Rc15로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기인 것이 보다 바람직하다.In the formula (c4b), R c15 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for Rc7 . Among the organic groups, an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. As Rc15 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, etc. are exemplified preferably, and among these, a methyl group is more preferable.

상기 식(c4b) 중, n8은 1~5의 정수이며, 1~3의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식(c4b) 중, n9는 0~(n8+3)이며, 0~3의 정수가 바람직하고, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식(c4b) 중, n7은 1~8의 정수이며, 1~5의 정수가 바람직하고, 1~3의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (c4b), n8 is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2. In the formula (c4b), n9 is 0 to (n8+3), preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, particularly preferably 0. In the formula (c4b), n7 is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.

식(c4) 중, Rc11은 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이다. Rc11이 알킬기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시된다. 또, Rc7이 아릴기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등이 바람직하게 예시된다.In formula (c4), R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. As a substituent which may have when Rc11 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are illustrated preferably. Moreover, as a substituent which may have when Rc7 is an aryl group, a C1-C5 alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are illustrated preferably.

식(c4) 중, Rc11로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 페닐기, 벤질기, 메틸페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기 또는 페닐기가 보다 바람직하다.In formula (c4), preferred examples of R c11 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group, and the like. Among these, A methyl group or a phenyl group is more preferred.

식(c4)로 표시되는 화합물은 전술한 식(c5)로 표시되는 화합물에 포함되는 옥심기(>C=N-OH)를, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조된다. Rc11은 식(c4) 중의 Rc11과 같다.The compound represented by formula (c4) is a step of converting the oxime group (>C=N-OH) contained in the compound represented by formula (c5) described above to an oxime ester group represented by >C=NO-COR c11 It is prepared by a method including. R c11 is the same as R c11 in formula (c4).

옥심기(>C=N-OH)의, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로의 변환은 전술한 식(c5)로 표시되는 화합물과, 아실화제를 반응시킴으로써 실시된다.The conversion of the oxime group (>C=N-OH) to the oxime ester group represented by >C=NO-COR c11 is carried out by reacting the compound represented by the above formula (c5) with an acylating agent.

-CORc11로 표시되는 아실기를 부여하는 아실화제로서는 (Rc11CO)2O로 표시되는 산무수물이나, Rc11COHal(Hal은 할로겐 원자)로 표시되는 산할라이드를 들 수 있다.Examples of the acylating agent giving an acyl group represented by -COR c11 include an acid anhydride represented by (R c11 CO) 2 O and an acid halide represented by R c11 COHal (Hal is a halogen atom).

식(c4)로 표시되는 화합물의 적합한 구체예로서는 이하의 PI-43~PI-83을 들 수 있다.Preferable specific examples of the compound represented by the formula (c4) include the following PI-43 to PI-83.

[화 22][Tue 22]

Figure 112018057420203-pat00022
Figure 112018057420203-pat00022

[화 23][Tue 23]

Figure 112018057420203-pat00023
Figure 112018057420203-pat00023

광중합 개시제(C)의 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서 0.5~30 질량%인 것이 바람직하고, 1~20 질량%인 것이 보다 바람직하다. 광중합 개시제(C)의 함유량을 상기의 범위로 함으로써, 패턴 형상의 불량이 생기기 어려운 수지 조성물을 얻을 수 있다.It is preferable that it is 0.5-30 mass % with respect to the mass of the whole solid content of a resin composition, and, as for content of a photoinitiator (C), it is more preferable that it is 1-20 mass %. By setting the content of the photopolymerization initiator (C) within the above range, a resin composition in which defects in pattern shape hardly occur can be obtained.

또, 광중합 개시제(C)에, 광개시조제를 조합하여도 된다. 광개시조제로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토-5-메톡시벤조티아졸, 3-머캅토프로피온산, 3-머캅토프로피온산메틸, 펜타에리트리톨테트라머캅토아세테이트, 3-머캅토프로피오네이트 등의 티올 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광개시조제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Moreover, you may combine a photoinitiator (C) with a photoinitiator. As the photoinitiator, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10 -Diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-5-methoxy Thiol compounds, such as benzothiazole, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercapto methyl propionate, pentaerythritol tetramercaptoacetate, and 3-mercaptopropionate, etc. are mentioned. These photoinitiating aids can be used alone or in combination of two or more.

<안료(D)><Pigment (D)>

수지 조성물은 안료(D)를 포함한다. 안료(D)로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서, 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 붙어 있는 것을 이용할 수 있다.The resin composition contains a pigment (D). Although it does not specifically limit as a pigment (D), For example, the compound classified as a pigment in the color index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colourists), specifically, the following color index (C.I. ) numbered ones are available.

적합하게 사용할 수 있는 황색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 옐로우 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로우」는 동일하며, 번호만을 기재함), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 및 185를 들 수 있다.Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Yellow" is the same, only numbers are written), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60 , 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119 , 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, and 185 to can be heard

적합하게 사용할 수 있는 오렌지색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 동일하며, 번호만을 기재함), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 및 73을 들 수 있다.Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Orange" is the same, only numbers are written), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51 , 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

적합하게 사용할 수 있는 보라색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하며, 번호만을 기재함), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 및 50을 들 수 있다.Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter "C.I. Pigment Violet" is the same, only numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50.

적합하게 사용할 수 있는 적색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 동일하며, 번호만을 기재함)2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 및 265를 들 수 있다.Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Red" is the same, only numbers are written) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49: 2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81: 1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 2 17, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

적합하게 사용할 수 있는 청색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 동일하며, 번호만을 기재함), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 및 66을 들 수 있다.Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Blue" is the same, only numbers are written), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, and 66 can be heard

적합하게 사용할 수 있는, 상기의 다른 색상의 안료의 예로서는 C.I.피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37 등의 녹색 안료, C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28 등의 갈색 안료, C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료를 들 수 있다.Examples of pigments of the above other colors that can be suitably used include C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Green pigments such as Pigment Green 37, C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 28, C.I. Pigment Black 1, C.I. Black pigments, such as Pigment Black 7, are mentioned.

또, 수지 조성물은 안료(D)로서 흑색 안료를 포함하는 것이 바람직하다. 흑색 안료를 포함하는 수지 조성물을 이용하는 것에 의해서, 형성되는 경화막에는 차광성이 부여된다. 이 때문에, 흑색 안료를 포함하는 수지 조성물은 액정 표시 패널에서의 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼 스페이서의 형성이나, 유기 EL 소자에서의 발광층의 구획용의 뱅크의 형성에 적합하게 이용된다.Moreover, it is preferable that the resin composition contains a black pigment as a pigment (D). Light-shielding property is provided to the cured film formed by using the resin composition containing a black pigment. For this reason, the resin composition containing a black pigment is suitably used for formation of a black matrix or black column spacer in a liquid crystal display panel, and formation of a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.

흑색 안료의 예로서는 카본 블랙, 페릴렌계 안료, 락탐계 안료, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종의 안료를 들 수 있다. 이들 흑색 안료 중에서는 입수가 용이한 점이나, 차광성이 뛰어나고 또한 전기 저항이 높은 경화막을 형성하기 쉬운 점으로부터, 카본 블랙이 바람직하다. Examples of black pigments include carbon black, perylene pigments, lactam pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides, composite oxides, metal sulfides, metal sulfates, or metals. Various pigments are exemplified regardless of organic substances and inorganic substances such as carbonates. Among these black pigments, carbon black is preferable from the viewpoint of easy availability and easy formation of a cured film having excellent light-shielding properties and high electrical resistance.

또한 흑색 안료의 색상은 색채론상의 무채색인 흑색에는 한정되지 않고, 보라색을 띤 흑색이나, 푸른색을 띤 흑색이나, 붉은색을 띤 흑색이어도 된다.The hue of the black pigment is not limited to black, which is an achromatic color in terms of color theory, but may be purple-tinged black, bluish-black, or reddish-black.

카본 블랙으로서는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지된 카본 블랙을 이용할 수 있다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 사용해도 된다.As carbon black, well-known carbon blacks, such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black, can be used. Moreover, you may use resin-coated carbon black.

카본 블랙으로서는 산성기를 도입하는 처리가 실시된 카본 블랙도 바람직하다. 카본 블랙에 도입되는 산성기는 브렌스테드의 정의에 의한 산성을 나타내는 관능기이다. 산성기의 구체예로서는 카르복시기, 술폰산기, 인산기 등을 들 수 있다. 카본 블랙에 도입된 산성기는 염을 형성하고 있어도 된다. 산성기와 염을 형성하는 양이온은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 양이온의 예로서는 여러 가지의 금속 이온, 함질소 화합물의 양이온, 암모늄 이온 등을 들 수 있고, 나트륨 이온, 칼륨 이온, 리튬 이온 등의 알칼리 금속 이온이나, 암모늄 이온이 바람직하다.As the carbon black, carbon black subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity according to the definition of Brensted. A carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group etc. are mentioned as a specific example of an acidic group. The acidic group introduced into carbon black may form a salt. A cation that forms a salt with an acidic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions, and the like, and alkali metal ions such as sodium ions, potassium ions, and lithium ions, and ammonium ions are preferable.

이상 설명한 산성기를 도입하는 처리가 실시된 카본 블랙 중에서는 수지 조성물을 이용하여 형성되는 차광성의 경화막의 고저항을 달성하는 관점에서, 카르복시산기, 카르복시산 염기, 술폰산기, 및 술폰산 염기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 관능기를 가지는 카본 블랙이 바람직하다.From the viewpoint of achieving high resistance of a light-shielding cured film formed using a resin composition, among the carbon blacks subjected to the treatment of introducing an acidic group described above, from the group consisting of a carboxylic acid group, a carboxylic acid base, a sulfonic acid group, and a sulfonic acid base. Carbon black having at least one selected functional group is preferred.

카본 블랙에 산성기를 도입하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 산성기를 도입하는 방법으로서는 예를 들면 이하의 방법을 들 수 있다.The method of introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. As a method of introducing an acidic group, the following method is mentioned, for example.

1) 농황산, 발연 황산, 클로로술폰산 등을 이용하는 직접 치환법이나, 아황산염, 아황산수소염 등을 이용하는 간접 치환법에 의해, 카본 블랙에 술폰산기를 도입하는 방법.1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or the like, or an indirect substitution method using a sulfite salt, hydrogen sulfite salt, or the like.

2) 아미노기와 산성기를 가지는 유기 화합물과, 카본 블랙을 디아조 커플링 시키는 방법.2) A method of diazo-coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.

3) 할로겐 원자와 산성기를 가지는 유기 화합물과, 수산기를 가지는 카본 블랙을 윌리엄슨의 에테르화법에 의해 반응시키는 방법.3) A method of reacting an organic compound having a halogen atom and an acidic group with carbon black having a hydroxyl group by Williamson's etherification method.

4) 할로카르보닐기와 보호기에 의해 보호된 산성기를 가지는 유기 화합물과, 수산기를 가지는 카본 블랙을 반응시키는 방법.4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.

5) 할로카르보닐기와 보호기에 의해 보호된 산성기를 가지는 유기 화합물을 이용하고, 카본 블랙에 대해서 프리델 크래프츠 반응을 실시한 후, 탈보호하는 방법.5) A method in which carbon black is subjected to a Friedel Crafts reaction using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group, followed by deprotection.

이들 방법 중에서는 산성기의 도입 처리가 용이하고, 또한 안전한 점으로부터, 방법 2)가 바람직하다. 방법 2)에서 사용되는 아미노기와 산성기를 가지는 유기 화합물로서는 방향족기에 아미노기와 산성기가 결합한 화합물이 바람직하다. 이러한 화합물의 예로서는 술파닐산과 같은 아미노벤젠술폰산이나, 4-아미노벤조산과 같은 아미노벤조산을 들 수 있다.Among these methods, method 2) is preferred because the treatment for introducing an acidic group is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzenesulfonic acids such as sulfanilic acid or aminobenzoic acids such as 4-aminobenzoic acid.

카본 블랙에 도입되는 산성기의 몰수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 카본 블랙에 도입되는 산성기의 몰수는 카본 블랙 100 g에 대해서, 1~200 mmol가 바람직하고, 5~100 mmol가 보다 바람직하다.The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is preferably 1 to 200 mmol, more preferably 5 to 100 mmol per 100 g of carbon black.

산성기가 도입된 카본 블랙은 수지에 의한 피복 처리가 실시되어 있어도 된다. 수지에 의해 피복된 카본 블랙을 포함하는 수지 조성물을 이용하는 경우, 차광성 및 절연성이 뛰어나 표면 반사율이 낮은 차광성의 경화막을 형성하기 쉽다. 또한 수지에 의한 피복 처리에 의해서, 수지 조성물을 이용하여 형성되는 차광성의 경화막의 유전율에 대한 악영향은 특별히 생기지 않는다. 카본 블랙의 피복에 사용할 수 있는 수지의 예로서는 페놀 수지, 멜라민 수지, 크실렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 들 수 있다. 카본 블랙에 대한 수지의 피복량은 카본 블랙의 질량과 수지의 질량의 합계에 대해서, 1~30 질량%가 바람직하다.Carbon black into which an acidic group has been introduced may be subjected to a coating treatment with a resin. In the case of using a resin composition containing carbon black coated with a resin, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding properties and insulating properties and having a low surface reflectance. Further, the coating treatment with the resin does not particularly adversely affect the dielectric constant of the light-shielding cured film formed using the resin composition. Examples of resins usable for coating carbon black include thermosetting resins such as phenol resins, melamine resins, xylene resins, diallylphthalate resins, glyptal resins, epoxy resins, and alkylbenzene resins; polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, Polybutylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyethersulfopolyphenylenesulfone, polyarylate, polyetherether Thermoplastic resins, such as a ketone, are mentioned. The coating amount of the resin relative to the carbon black is preferably 1 to 30 mass% with respect to the total mass of the carbon black and the mass of the resin.

또, 흑색 안료로서는 페릴렌계 안료도 바람직하게 이용할 수 있다. 페릴렌계 안료의 구체예로서는 하기 식(d-1)로 표시되는 페릴렌계 안료, 하기 식(d-2)로 표시되는 페릴렌계 안료, 및 하기 식(d-3)로 표시되는 페릴렌계 안료를 들 수 있다. 시판품으로는 BASF사 제의 제품명 K0084, 및 K0086나, 피그먼트 블랙 21, 30, 31, 32, 33, 및 34 등을 페릴렌계 안료로서 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, as a black pigment, a perylene-type pigment can also be used suitably. Specific examples of the perylene pigment include a perylene pigment represented by the following formula (d-1), a perylene pigment represented by the following formula (d-2), and a perylene pigment represented by the following formula (d-3). can As a commercial item, product names K0084 and K0086 by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33 and 34, etc. can be used suitably as a perylene pigment.

[화 24][Tue 24]

Figure 112018057420203-pat00024
Figure 112018057420203-pat00024

식(d-1) 중, Rd1 및 Rd2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, Rd3 및 Rd4는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 메톡시기, 또는 아세틸기를 나타낸다.In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or an acetyl group. .

[화 25][Tue 25]

Figure 112018057420203-pat00025
Figure 112018057420203-pat00025

식(d-2) 중, Rd5 및 Rd6은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~7의 알킬렌기를 나타낸다.In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.

[화 26][Tue 26]

Figure 112018057420203-pat00026
Figure 112018057420203-pat00026

식(d-3) 중, Rd7 및 Rd8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~22의 알킬기이며, N, O, S, 또는 P의 헤테로 원자를 포함하고 있어도 된다. Rd7 및 Rd8이 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도 된다.In formula (d-3), R d7 and R d8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S, or P hetero atoms. When R d7 and R d8 are alkyl groups, the alkyl groups may be linear or branched.

상기의 식(d-1)로 표시되는 화합물, 식(d-2)로 표시되는 화합물, 및 식(d-3)로 표시되는 화합물은, 예를 들면 일본 특개 소62-1753호 공보, 일본 특소 공63-26784호 공보에 기재된 방법을 이용해 합성할 수 있다. 즉, 페릴렌-3,5,9,10-테트라카르복시산 또는 그의 2무수물과 아민류를 원료로 하여, 물 또는 유기용매 중에서 가열 반응을 실시한다. 그리고, 얻어진 조제물을 황산 중으로 재침전시키거나, 또는 물, 유기용매 혹은 이들 혼합 용매 중에서 재결정시키는 것에 의해서 목적물을 얻을 수 있다.The compound represented by the above formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2), and the compound represented by the formula (d-3) are, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-1753, Japan It can be synthesized using the method described in Japanese Patent Publication No. 63-26784. That is, a heating reaction is performed in water or an organic solvent using perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its dianhydride and amines as raw materials. Then, the target product can be obtained by reprecipitating the obtained preparation in sulfuric acid or recrystallizing it in water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof.

수지 조성물 중에서 페릴렌계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는 페릴렌계 안료의 평균 입자 지름은 10~1000 nm인 것이 바람직하다.In order to favorably disperse the perylene pigment in the resin composition, the average particle diameter of the perylene pigment is preferably 10 to 1000 nm.

또, 차광제로서는 락탐계 안료를 포함시킬 수도 있다. 락탐계 안료로서는, 예를 들면 하기 식(d-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Moreover, a lactam-type pigment can also be included as a light-shielding agent. As a lactam-type pigment, the compound represented by the following formula (d-4) is mentioned, for example.

[화 27][Tue 27]

Figure 112018057420203-pat00027
Figure 112018057420203-pat00027

식(d-4) 중, Xd는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이며, Rd9는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 염소 원자, 불소 원자, 카르복시기, 또는 술포기를 나타내고, Rd10은 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 또는 페닐기를 나타내며, Rd11은 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타낸다. In formula (d-4), X d represents a double bond, is a geometric isomer and is each independently E or Z, and R d9 is each independently a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, a bromine atom, or a chlorine atom, fluorine atom, carboxy group, or sulfo group, R d10 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R d11 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or a chlorine atom.

식(d-4)로 표시되는 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. The compound represented by formula (d-4) can be used individually or in combination of 2 or more types.

Rd9는 식(d-4)로 표시되는 화합물의 제조가 용이한 점으로부터, 디히드로인돌론환의 6위치에 결합하는 것이 바람직하고, Rd11은 디히드로인돌론환의 4위치에 결합하는 것이 바람직하다. 동일한 관점으로부터, Rd9, Rd10, 및 Rd11은 바람직하게는 수소 원자이다. Rd9 is preferably bonded to the 6th position of the dihydroindolone ring, and Rd11 is preferably bonded to the 4th position of the dihydroindolone ring from the viewpoint of easy preparation of the compound represented by formula (d-4). do. From the same viewpoint, R d9 , R d10 , and R d11 are preferably hydrogen atoms.

식(d-4)로 표시되는 화합물은 기하 이성체로서 EE체, ZZ체, EZ체를 가지지만, 이들 몇개의 단일의 화합물이어도 되고, 이들 기하 이성체의 혼합물이어도 된다.The compound represented by formula (d-4) has EE, ZZ, and EZ as geometric isomers, and may be a single compound of these several or a mixture of these geometric isomers.

식(d-4)로 표시되는 화합물은, 예를 들면 국제 공개 제2000/24736호, 및 국제 공개 제2010/081624호에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.The compound represented by formula (d-4) can be manufactured by the method described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/081624, for example.

수지 조성물 중에서 락탐계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는 락탐계 안료의 평균 입자 지름은 10~1000 nm인 것이 바람직하다.In order to favorably disperse the lactam-based pigment in the resin composition, the average particle diameter of the lactam-based pigment is preferably 10 to 1000 nm.

추가로, 은주석(AgSn) 합금을 주성분으로 하는 미립자(이하, 「AgSn 합금 미립자」라고 함)도 흑색 안료로서 바람직하게 이용된다. 이 AgSn 합금 미립자는 AgSn 합금이 주성분이면 되고, 다른 금속 성분으로서 예를 들면, Ni, Pd, Au 등이 포함되어 있어도 된다. In addition, fine particles containing a silver tin (AgSn) alloy as a main component (hereinafter referred to as "AgSn alloy fine particles") are also preferably used as the black pigment. The AgSn alloy microparticles need only have an AgSn alloy as a main component, and may contain, for example, Ni, Pd, Au, etc. as other metal components.

이 AgSn 합금 미립자의 평균 입자 지름은 1~300 nm가 바람직하다.The average particle diameter of the AgSn alloy fine particles is preferably 1 to 300 nm.

AgSn 합금은 화학식 AgxSn로 나타낸 경우, 화학적으로 안정된 AgSn 합금이 얻어지는 x의 범위는 1≤x≤10이며, 화학적 안정성과 흑색도가 동시에 얻어지는 x의 범위는 3≤x≤4이다.When the AgSn alloy is represented by the chemical formula AgxSn, the range of x in which a chemically stable AgSn alloy is obtained is 1≤x≤10, and the range of x in which both chemical stability and blackness are obtained is 3≤x≤4.

여기서, 상기 x의 범위에서 AgSn 합금 중의 Ag의 질량비를 구하면,Here, if the mass ratio of Ag in the AgSn alloy is obtained in the range of x,

x=1인 경우, Ag/AgSn=0.4762 For x=1, Ag/AgSn=0.4762

x=3인 경우, 3·Ag/Ag3Sn=0.7317 When x=3, 3·Ag/Ag3Sn=0.7317

x=4인 경우, 4·Ag/Ag4Sn=0.7843 When x=4, 4·Ag/Ag4Sn=0.7843

x=10인 경우, 10·Ag/Ag10Sn=0.9008When x=10, 10 Ag/Ag10Sn=0.9008

이 된다.becomes

따라서, 이 AgSn 합금은 Ag를 47.6~90 질량% 함유한 경우에 화학적으로 안정한 것이 되고, Ag를 73.17~78.43 질량% 함유한 경우에 Ag량에 대해 효과적으로 화학적 안정성과 흑색도를 얻을 수 있다.Therefore, this AgSn alloy becomes chemically stable when 47.6 to 90% by mass of Ag is contained, and when it contains 73.17 to 78.43% by mass of Ag, chemical stability and blackness can be obtained effectively with respect to the amount of Ag.

이 AgSn 합금 미립자는 통상의 미립자 합성법을 이용해 제조할 수 있다. 미립자 합성법으로서는 기상 반응법, 분무 열분해법, 아토마이즈법, 액상 반 응법, 동결건조법, 수열 합성법 등을 들 수 있다.This AgSn alloy fine particle can be manufactured using a normal fine particle synthesis method. Examples of fine particle synthesis methods include gas phase reaction method, spray pyrolysis method, atomization method, liquid phase reaction method, lyophilization method, hydrothermal synthesis method and the like.

AgSn 합금 미립자는 절연성이 높은 것이지만, 수지 조성물의 용도에 따라서는 추가로 절연성을 높이기 위해, 표면을 절연막으로 덮도록 해도 상관없다. 이러한 절연막의 재료로서는 금속 산화물 또는 유기 고분자 화합물이 적합하다. Although the AgSn alloy fine particles have high insulating properties, depending on the use of the resin composition, the surface may be covered with an insulating film to further enhance the insulating properties. As a material for such an insulating film, metal oxides or organic high molecular compounds are suitable.

금속 산화물로서는 절연성을 가지는 금속 산화물, 예를 들면 산화 규소(실리카), 산화 알루미늄(알루미나), 산화 지르코늄(지르코니아), 산화 이트륨(이트리아), 산화 티탄(티타니아) 등이 적합하게 이용된다.As the metal oxide, metal oxides having insulating properties such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), yttrium oxide (yttria), titanium oxide (titania), and the like are suitably used.

또, 유기 고분자 화합물로서는 절연성을 가지는 수지, 예를 들면 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리아크릴레이트, 폴리아민 화합물 등이 적합하게 이용된다.Moreover, as an organic high molecular compound, resin which has insulating property, for example, polyimide, polyether, polyacrylate, a polyamine compound, etc. are used suitably.

절연막의 막 두께는 AgSn 합금 미립자의 표면의 절연성을 충분히 높이기 위해서는 1~100 nm의 두께가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5~50 nm이다. The thickness of the insulating film is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 50 nm, in order to sufficiently increase the insulating properties of the surface of the AgSn alloy fine particles.

절연막은 표면 개질 기술 혹은 표면의 코팅 기술에 의해 용이하게 형성할 수 있다. 특히, 테트라에톡시실란, 알루미늄트리에톡시드 등의 알콕시드를 이용하면, 비교적 저온에서 막 두께가 균일한 절연막을 형성할 수 있으므로 바람직하다.The insulating film can be easily formed by surface modification technology or surface coating technology. In particular, it is preferable to use an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxide because an insulating film having a uniform film thickness can be formed at a relatively low temperature.

흑색 안료로서는 상술한 페릴렌계 안료, 락탐계 안료, AgSn 합금 미립자 단독으로도 이용해도 되고, 이들을 조합하여 이용해도 된다. As the black pigment, the aforementioned perylene-based pigment, lactam-based pigment, and AgSn alloy fine particles may be used alone or in combination thereof.

그 밖에, 흑색 안료는 색조의 조정의 목적 등으로, 적, 청, 녹, 황 등의 색상의 색소를 포함하고 있어도 된다. 흑색 안료의 다른 색상의 색소는 공지된 색소로부터 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 흑색 안료의 다른 색상의 색소로서는 상기의 여러 가지의 안료를 이용할 수 있다. 흑색 안료의 다른 색상의 색소의 사용량은 흑색 안료의 전체 질량에 대해서, 15 질량% 이하가 바람직하고, 10 질량% 이하가 보다 바람직하다.In addition, the black pigment may contain pigments of colors such as red, blue, green and yellow for the purpose of color tone adjustment and the like. Pigments of other colors of the black pigment can be appropriately selected from known pigments. For example, the above various pigments can be used as pigments of different colors from black pigments. 15 mass % or less is preferable with respect to the total mass of a black pigment, and, as for the usage-amount of the pigment|dye of another color of a black pigment, 10 mass % or less is more preferable.

이상 설명한 안료(D)를 수지 조성물에서 균일하게 분산시키기 위해서, 추가로 분산제를 사용해도 된다. 이러한 분산제로서는 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 안료(D)로서 카본 블랙을 이용하는 경우에는 분산제로서 아크릴 수지계의 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.In order to uniformly disperse the pigment (D) described above in the resin composition, you may further use a dispersing agent. As such a dispersing agent, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersing agent. In particular, when carbon black is used as the pigment (D), it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

또한 분산제에 기인하는 부식성의 가스가 경화막으로부터 생기는 경우도 있다. 이 때문에, 안료(D)가 분산제를 이용하는 경우 없이 분산 처리되는 것도 바람직한 태양의 일례이다.In addition, corrosive gas resulting from the dispersant may be generated from the cured film. For this reason, it is an example of a preferable aspect that the pigment (D) is subjected to dispersion treatment without using a dispersant.

또, 무기 안료와 유기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상 병용해도 되지만, 병용하는 경우에는 무기 안료와 유기 안료의 총량 100 질량부에 대해서, 유기 안료를 10~80 질량부의 범위로 이용하는 것이 바람직하고, 20~40 질량부의 범위로 이용하는 것이 보다 바람직하다.In addition, the inorganic pigment and the organic pigment may be used individually or in combination of two or more, but when used in combination, the organic pigment is preferably used in the range of 10 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment. It is more preferable to use it in the range of 20-40 mass parts.

또한 수지 조성물에서, 안료(D)와 염료를 조합하여 이용해도 된다. 이 염료는 공지된 재료 중으로부터 적절히 선택하면 된다.Moreover, in a resin composition, you may use combining the pigment (D) and dye. What is necessary is just to select this dye suitably from known materials.

수지 조성물에 적용 가능한 염료로서는, 예를 들면 아조 염료, 금속 착염 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 트리페닐메탄 염료, 크산텐 염료, 시아닌 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 프탈로시아닌 염료 등을 들 수 있다.As dyes applicable to the resin composition, for example, azo dyes, metal complex salt azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, phthalocyanine dyes, etc. can be heard

또, 이들 염료에 대해서는 레이크화(조염화)함으로써 유기용매 등에 분산시켜, 이것을 (D) 착색제로서 이용할 수 있다.In addition, these dyes can be dispersed in an organic solvent or the like by laking (salting), and this can be used as the (D) coloring agent.

이들 염료 이외에도, 예를 들면 일본 특개 2013-225132호 공보, 일본 특개 2014-178477호 공보, 일본 특개 2013-137543호 공보, 일본 특개 2011-38085호 공보, 일본 특개 2014-197206호 공보 등에 기재된 염료 등도 바람직하게 이용할 수 있다.In addition to these dyes, dyes and the like described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2013-225132, Japanese Patent Laid-Open No. 2014-178477, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-137543, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-38085, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-197206, etc. can be used preferably.

수지 조성물에서의 안료(D)의 사용량은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 선택할 수 있고, 전형적으로는 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서, 2~75 질량%가 바람직하고, 3~70 질량%가 보다 바람직하다.The amount of pigment (D) used in the resin composition can be appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention, and is typically preferably 2 to 75% by mass, preferably 3 to 75% by mass, based on the total mass of the solid content of the resin composition. 70 mass % is more preferable.

안료(D)는 분산제의 존재 하 또는 부존재 하에 적당한 농도로 분산시킨 분산액으로 한 후, 수지 조성물에 첨가하는 것이 바람직하다.The pigment (D) is preferably added to the resin composition after forming a dispersion in which the pigment (D) is dispersed at an appropriate concentration in the presence or absence of a dispersant.

또한, 본 명세서에서는 상술한 안료(D)의 사용량에 대해서, 이의 존재하는 분산제도 포함하는 값으로 해서 정의할 수 있다.In addition, in this specification, the usage amount of the above-mentioned pigment (D) can be defined as a value including the dispersant present therein.

<실란 커플링제(E)><Silane coupling agent (E)>

수지 조성물은 실란 커플링제(E)를 포함한다.The resin composition contains a silane coupling agent (E).

실란 커플링제(E)는 하기 식(e1):The silane coupling agent (E) is represented by the formula (e1):

(Re1O)a(Re2)3-aSi-Re3-NH-CO-Re4-Re5···(e1) (R e1 O) a (R e2 ) 3-a Si-R e3 -NH-CO-R e4 -R e5 ... (e1)

(식(e1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이며, a는 2 또는 3이며, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이며, Re4는 2가의 유기기이며, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기이다.)(In formula (e1), R e1 and R e2 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a is 2 or 3, R e3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R e4 is a divalent organic group, and R e5 is a Brensted acid group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, or a carbamoyl group.)

로 표시되는 알콕시실란 화합물을 포함한다.It includes an alkoxysilane compound represented by

상기 식(e1)로 표시되는 화합물을 포함하는 실란 커플링제를, 수지 조성물에 배합함으로써, 수지 조성물을 이용해 포토리소그래피법에 의한 패터닝을 실시할 때에, 형성되는 패턴화된 경화막을 기판에 양호하게 밀착시킬 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있다.By blending the silane coupling agent containing the compound represented by the formula (e1) with the resin composition, when patterning by the photolithography method is performed using the resin composition, the formed patterned cured film adheres well to the substrate. can be made, and generation of development residues in unexposed areas can be suppressed.

식(e1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이다.In formula (e1), R e1 and R e2 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

탄소 원자수 1~6의 탄화수소기의 적합한 예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 및 페닐기를 들 수 있다.Preferred examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n -A hexyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a phenyl group are mentioned.

이들 중에서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 및 페닐기가 바람직하고, 메틸기, 및 에틸기가 보다 바람직하다.Among these, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and a phenyl group are preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.

식(e1) 중, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이다. Re3로서의 알킬렌기, 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다.In formula (e1), R e3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. The alkylene group as R e3 may be linear or branched, preferably linear.

Re3의 적합한 구체예로서는 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 및 데칸-1,10-디일기를 들 수 있다.Preferred specific examples of R e3 include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. -diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, and decane-1,10-diyl group.

이들 중에서는 식(e1)로 표시되는 화합물의 입수나 합성이 용이하면서, 충분한, 패턴 밀착의 효과와 현상 잔사 발생의 억제 효과를 얻기 쉬운 점으로부터, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 및 헥산 1,6-디일기가 바람직하고, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기가 보다 바람직하며, 프로판-1,3-디일기가 특히 바람직하다.Among these, the compound represented by formula (e1) is easy to obtain and synthesize, and the effect of sufficient pattern adhesion and the effect of suppressing the generation of development residue are easy to obtain, so ethane-1,2-diyl group, propane-1 ,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, and hexane 1,6-diyl group are preferred, and ethane-1,2-diyl group and propane-1,3 A -diyl group and a butane-1,4-diyl group are more preferred, and a propane-1,3-diyl group is particularly preferred.

식(e1) 중, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기(-NH2), 또는 카바모일기(-CO-NH2)이다.In formula (e1), R e5 is a Brensted acidic group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group (-NH 2 ), or a carbamoyl group (-CO-NH 2 ).

이들 기는 수소결합을 형성하기 쉽기 때문에, 기판 표면에 결합하는 복수의 식(e1)로 표시되는 화합물의 말단에서, -CO-Re4-Re5로 표시되는 기끼리가, 수소결합을 통해서 블록화하기 쉽다.Since these groups easily form hydrogen bonds, groups represented by -CO-R e4 -R e5 at the terminals of a plurality of compounds represented by formula (e1) bonded to the substrate surface are blocked through hydrogen bonds. easy.

-CO-Re4-Re5로 표시되는 기끼리가 형성하는 블록이, 미노광부에서 현상 잔사가 기판 표면에 강하게 결합하는 것을 막아, 현상 잔사의 발생이 억제된다고 생각된다.It is thought that the block formed by the groups represented by -CO-R e4 -R e5 prevents the development residue from strongly binding to the substrate surface in the unexposed area, and suppresses the generation of the development residue.

또, -CO-Re4-Re5로 표시되는 기는 경화막과의 사이에도 수소결합을 형성시키기 쉽다. 이 때문에, 식(e1)로 표시되는 화합물을 포함하는 수지 조성물을 이용하여 형성된 경화막은 기판 표면에 양호하게 밀착한다고 생각된다.Moreover, the group represented by -CO-R e4 -R e5 tends to form a hydrogen bond even with a cured film. For this reason, it is thought that the cured film formed using the resin composition containing the compound represented by Formula (e1) adheres favorably to the substrate surface.

Re5로서의 브렌스테드 산성기의 적합한 구체예로서는 카르복시기, 술폰산기, 술핀산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 및 페놀성 수산기 등을 들 수 있다.Preferred specific examples of the Brensted acidic group as Re5 include a carboxy group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a phenolic hydroxyl group.

Re5 중에서는 소망하는 효과를 얻기 쉬운 점으로부터, 브렌스테드 산성기가 바람직하고, 카르복시기가 보다 바람직하다.Among R e5 , a Brensted acidic group is preferred, and a carboxy group is more preferred, because desired effects are easily obtained.

Re4로서의 2가의 유기기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. Re4로서의 2가의 유기기의 탄소 원자수는 1 이상 50 이하가 바람직하고, 1 이상 20 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 12 이하가 특히 바람직하다.The divalent organic group as Re4 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The number of carbon atoms in the divalent organic group as Re4 is preferably 1 or more and 50 or less, more preferably 1 or more and 20 or less, and particularly preferably 1 or more and 12 or less.

Re4로서의 2가의 유기기로서는 2가의 지방족 탄화수소기, 2가의 방향족 탄화수소기, 및 2가의 복소환기를 들 수 있다.Examples of the divalent organic group as Re4 include a divalent aliphatic hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, and a divalent heterocyclic group.

이들 기는 모두 치환기를 가지고 있어도 된다.All of these groups may have a substituent.

Re4로서의 2가의 지방족 탄화수소기, 2가의 방향족 탄화수소기, 및 2가의 복소환기가 치환기를 가지는 경우, 상기 치환기의 적합한 예로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다.When the divalent aliphatic hydrocarbon group, divalent aromatic hydrocarbon group, and divalent heterocyclic group as Re4 have a substituent, suitable examples of the substituent include an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon A dialkylamino group having an alkyl group of 1 to 6 atoms, a halogen, a nitro group, a cyano group, and the like are exemplified.

Re4로서의 2가의 지방족 탄화수소기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도, 환상이어도, 환상이어도, 이들 구조를 조합하여 포함하고 있어도 된다.The divalent aliphatic hydrocarbon group as Re4 may be linear, branched, cyclic or cyclic, and may contain a combination of these structures.

또, Re4로서의 2가의 지방족 탄화수소기는 불포화 이중 결합을 포함하고 있어도 된다.Moreover, the divalent aliphatic hydrocarbon group as Re4 may contain an unsaturated double bond.

Re4로서의 2가의 지방족 탄화수소기가 쇄상의 기인 경우의 적합한 예로서는 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 에텐-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 및 부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다.Suitable examples in the case where the divalent aliphatic hydrocarbon group as Re4 is a chain group include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group, an ethene-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, and a propane-1,2-diyl group. -Diyl group, propane-2,2-diyl group, and butane-1,4-diyl group, etc. are mentioned.

Re4로서의 2가의 지방족 탄화수소기가 환상인 경우, 바람직한 기로서는 모노시클로알칸, 비시클로알칸, 트리시클로알칸, 또는 테트라시클로알칸 등으로부터 2개의 수소 원자를 제외한 기를 들 수 있다.When the divalent aliphatic hydrocarbon group as Re4 is cyclic, preferable groups include monocycloalkanes, bicycloalkanes, tricycloalkanes, and groups obtained by removing two hydrogen atoms from tetracycloalkanes and the like.

구체적으로는 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄 등의 모노시클로알칸이나, 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 및 테트라시클로도데칸 등으로부터 2개의 수소 원자를 제외한 기를 들 수 있다.Specifically, from monocycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane, etc., except for two hydrogen atoms, can lift

Re4로서의 2가의 방향족 탄화수소기의 적합한 예로서는 페닐렌기, 나프탈렌디일기, 페난트렌디일기, 안트라센디일기, 및 피렌디일기 등을 들 수 있다.Preferable examples of the divalent aromatic hydrocarbon group as Re4 include a phenylene group, a naphthalenediyl group, a phenanthrendiyl group, anthracenediyl group, and a pyrendiyl group.

Re4가 2가의 복소환기인 경우, 복소환기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 기가 바람직하다.When Re4 is a divalent heterocyclic group, the heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered monocycle containing at least one of N, S, and O, or a group formed by condensation of such monocycles or a benzene ring.

이러한 2가의 복소환기로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등으로부터 2개의 수소 원자를 제외한 기를 들 수 있다.Examples of such a divalent heterocyclic group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, Benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzooxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinoline , and quinoxaline, etc., wherein two hydrogen atoms are removed.

Re4로서는 패턴 밀착의 효과와 현상 잔사 발생의 억제 효과가 양호한 점으로부터, 2가의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다.As Re44 , it is preferably a divalent aromatic hydrocarbon group from the viewpoint of good effect of pattern adhesion and suppression of development residue.

2가의 방향족 탄화수소기에서, 한쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치와, 다른 쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치의 관계는 인접 위치, 또는 페리 위치인 것이 바람직하다.In the divalent aromatic hydrocarbon group, the relationship between the position of the carbon atom to which one bond hand is bonded and the position of the carbon atom to which the other bond bond is bonded is preferably an adjacent position or a peri-position.

Re5로서의 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기는 카르보닐기와의 사이에 수소결합을 생성할 수 있는 관능기이다.A Brensted acidic group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, or a carbamoyl group as Re5 is a functional group capable of forming a hydrogen bond with a carbonyl group.

이 때문에, 2가의 방향족 탄화수소기에서, 한쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치와, 다른 쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치의 관계가, 인접 위치, 또는 페리 위치이면, 복수의 식(e1)로 표시되는 화합물이, 기판상의 근접한 위치에 결합한 경우에, 식(e1)로 표시되는 화합물 중의 Re5가, 다른 식(e1)로 표시되는 화합물 중의 카르보닐기와 수소결합을 형성하기 쉽다.Therefore, in a divalent aromatic hydrocarbon group, if the relationship between the position of a carbon atom to which one bond hand is bonded and the position of a carbon atom to which the other bond bond is bonded is an adjacent position or a peri-position, a plurality of expressions When the compound represented by (e1) is bonded to a position adjacent to the substrate, R e5 in the compound represented by formula (e1) easily forms a hydrogen bond with the carbonyl group in the compound represented by other formula (e1).

다른 한편으로, 복수의 식(e1)로 표시되는 화합물이, 기판상의 근접한 위치에 결합한 경우, Re4가 2가의 방향족기인 것에 의해, 복수의 Re4의 사이에 π-π 스태킹 등이 생길 수 있다.On the other hand, when a plurality of compounds represented by Formula (e1) are bonded to adjacent positions on a substrate, π-π stacking or the like may occur between a plurality of Ree4s because Ree4 is a divalent aromatic group. .

이상 설명한 이유에 의해, 2가의 방향족 탄화수소기에서의 2개의 결합손의 위치 관계가 인접 위치, 또는 페리 위치의 관계이면, 식(e1)로 표시되는 화합물의 말단의 -CO-Re4-Re5로 표시되는 기가, 자체 조직화적인 거동을 나타내기 쉽고, 기판 표면에, 복수의 -CO-Re4-Re5로 표시되는 기로 이루어지는 블록이 형성되기 쉽다고 추측된다.For the reasons described above, if the positional relationship of the two bonds in the divalent aromatic hydrocarbon group is adjacent or perimetric, -CO-R e4 -R e5 at the terminal of the compound represented by formula (e1) It is presumed that the group represented by is likely to exhibit a self-organizing behavior, and a block composed of a plurality of groups represented by -CO-R e4 -R e5 is easily formed on the substrate surface.

이 경우, -CO-Re4-Re5로 표시되는 기로 이루어지는 블록이, 노광부에서는 경화막과의 사이의 수소결합이나 방향환끼리의 상호작용에 의해서, 경화막을 양호하게 기판에 밀착시키고, 미노광부에서는 기판과 현상 잔사의 사이에서의 직접적인 상호작용을 저해하여, 현상 잔사의 발생을 억제시킨다고 생각된다.In this case, the block composed of groups represented by -CO-R e4 -R e5 adheres the cured film to the substrate well by hydrogen bonding with the cured film or interaction between aromatic rings in the exposed portion, and mino In the miner, direct interaction between the substrate and the developed residue is inhibited, and it is thought that the generation of the developed residue is suppressed.

Re4로서의, 2가의 방향족 탄화수소기의 적합한 구체예로서는 o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 나프탈렌-1,2-디일기, 나프탈렌-1,3-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 나프탈렌-1,5-디일기, 나프탈렌-1,6-디일기, 나프탈렌-1,7-디일기, 나프탈렌-1,8-디일기, 나프탈렌-2,3-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 및 나프탈렌-2, 7-디일기를 들 수 있다.Suitable specific examples of the divalent aromatic hydrocarbon group as R e4 include o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, naphthalene-1,2-diyl group, naphthalene-1,3-diyl group, naphthalene-1, 4-diyl group, naphthalene-1,5-diyl group, naphthalene-1,6-diyl group, naphthalene-1,7-diyl group, naphthalene-1,8-diyl group, naphthalene-2,3-diyl group, A naphthalene-2,6-diyl group and a naphthalene-2,7-diyl group are mentioned.

이들 기 중에서는 o-페닐렌기, 나프탈렌-1,2-디일기, 나프탈렌-2,3-디일기, 또는 나프탈렌-1,8-디일기가 바람직하다.Among these groups, an o-phenylene group, a naphthalene-1,2-diyl group, a naphthalene-2,3-diyl group, or a naphthalene-1,8-diyl group is preferable.

상술한 바와 같이, 2가의 방향족 탄화수소기에서, 한쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치와, 다른 쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치의 관계가, 인접 위치, 또는 페리 위치인 것이 바람직하기 때문이다.As described above, in the divalent aromatic hydrocarbon group, the relationship between the position of the carbon atom to which one bond hand is bonded and the position of the carbon atom to which the other bond bond is bonded is preferably an adjacent position or a peri-position. because it does

식(e1)로 표시되는 화합물의 적합한 구체예로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.Preferable specific examples of the compound represented by the formula (e1) include the following compounds.

[화 28][Tue 28]

Figure 112018057420203-pat00028
Figure 112018057420203-pat00028

이상 설명한 식(e1)로 표시되는 화합물은 식(e1)로 표시되는 구조 이외의 구조를 가지는 여러 가지의 실란 커플링제와 조합하여 이용할 수 있다. 식(e1)로 표시되는 화합물과 함께 이용할 수 있는 실란 커플링제로서는 종래부터 여러 가지의 목적으로 사용되고 있는 실란 커플링제로부터 적절히 선택할 수 있다.The compound represented by the formula (e1) described above can be used in combination with various silane coupling agents having structures other than the structure represented by the formula (e1). As a silane coupling agent which can be used together with the compound represented by formula (e1), it can select suitably from silane coupling agents conventionally used for various purposes.

이러한 실란 커플링제의 적합한 예로서는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-부틸트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란 등의 모노알킬트리알콕시실란; 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란 등의 디알킬디알콕시실란; 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 모노페닐트리알콕시실란; 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란 등의 디페닐디알콕시실란; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란 등의 모노비닐트리알콕시실란; 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란 등의 (메타)아크릴옥시알킬모노알킬디알콕시실란; 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메타)아크릴옥시알킬트리알콕시실란; 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 트리(또는 디)알콕시실란; 및 이들 아미노기를 알데히드 등으로 보호한 케티민실란; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 등의 비지환식 에폭시플루오레닐리덴기 함유 알킬트리(또는 디)알콕시실란; 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 등의 비지환식 에폭시기 함유 알킬모노알킬디알콕시실란; 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)메틸디에톡시실란 등의 지환식 에폭시기 함유 알킬트리(또는 디)알콕시실란; 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸메틸디에톡시실란 등의 지환식 에폭시기 함유 알킬모노알킬디알콕시실란; [(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]프로필트리메톡시실란, [(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]프로필트리에톡시실란 등의 옥세타닐기 함유 알킬트리알콕시실란; 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 머캅토알킬트리알콕시실란; 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 머캅토알킬모노알킬디알콕시실란; 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도알킬트리알콕시실란; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트알킬트리알콕시실란; 트리스-(트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트, 트리스-(트리에톡시실릴프로필)이소시아누레이트 등의 이소시아누레이트 함유 트리알콕시실란; 3-트리메톡시실릴프로필 숙신산 무수물, 그 밖의 산무수물기(예를 들면, 시클로헥산디카르복시산 무수물기, 4-메틸-시클로헥산디카르복시산 무수물기, 5-메틸-시클로헥산디카르복시산 무수물기, 비시클로헵탄디카르복시산 무수물기, 7-옥사-비시클로헵탄디카르복시산 무수물기, 프탈산 무수물기 등)를 가지는 트리알콕시실란 등의 산무수물기 함유 알킬트리알콕시실란; 카르복시기로서 숙신산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 시클로헥산디카르복시산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 4-메틸-시클로헥산디카르복시산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 5-메틸-시클로헥산디카르복시산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 비시클로헵탄디카르복시산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 7-옥사-비시클로헵탄디카르복시산기, 또는 그의 하프 에스테르기, 프탈산기, 또는 그의 하프 에스테르기를 가지는 카르복시기 함유 알킬트리알콕시실란; N-tert-부틸-3-(3-트리메톡시실릴프로필)숙신산이미드 등의 이미드기 함유 알킬트리알콕시실란; (3-트리메톡시실릴프로필)-t-부틸카바메이트, (3-트리에톡시실릴프로필)-tert-부틸카바메이트 등의 카바메이트기 함유 알킬트리알콕시실란; 등을 들 수 있다.Suitable examples of such silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, and n-butyl. monoalkyltrialkoxysilanes such as trimethoxysilane and n-butyltriethoxysilane; dialkyldialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane; monophenyltrialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane; diphenyldialkoxysilanes such as diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane; monovinyltrialkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; (meth)acryloxy, such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane alkylmonoalkyldialkoxysilanes; (meth)acryloxyalkyltrialkoxysilanes such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane; 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltri Ethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3 -Aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3- amino group-containing tri(or di)alkoxysilanes such as aminopropyltriethoxysilane and N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane; and ketiminesilane in which these amino groups are protected with aldehyde or the like; Alkyltri(or di)alkoxysilanes containing non-alicyclic epoxyfluorenylidene groups such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane ; non-alicyclic epoxy group-containing alkyl monoalkyldialkoxysilanes such as 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane; 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)methyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)methyldiethoxysilane and other alicyclic epoxy group-containing alkyltri(or di)alkoxysilanes; 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethylmethyldiethoxysilane and other alicyclic epoxy group-containing alkyl monoalkyldialkoxysilanes; [(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxy]propyltrimethoxysilane, [(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxy]propyltriethoxysilane, etc. silane; mercaptoalkyltrialkoxysilanes such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; mercaptoalkyl monoalkyldialkoxysilanes such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane; ureidoalkyltrialkoxysilanes such as 3-ureidopropyltriethoxysilane; isocyanate alkyltrialkoxysilanes such as 3-isocyanate propyltriethoxysilane; isocyanurate-containing trialkoxysilanes such as tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate and tris-(triethoxysilylpropyl)isocyanurate; 3-trimethoxysilylpropyl succinic acid anhydride, other acid anhydride groups (e.g., cyclohexanedicarboxylic acid anhydride group, 4-methyl-cyclohexanedicarboxylic acid anhydride group, 5-methyl-cyclohexanedicarboxylic acid anhydride group, Alkyl trialkoxysilanes containing an acid anhydride group such as trialkoxysilane having a cycloheptane dicarboxylic acid anhydride group, 7-oxa-bicycloheptane dicarboxylic acid anhydride group, phthalic anhydride group, etc.); As the carboxy group, a succinic acid group, or a half ester group thereof, a cyclohexanedicarboxylic acid group, or a half ester group thereof, a 4-methyl-cyclohexanedicarboxylic acid group, or a half ester group thereof, a 5-methyl-cyclohexanedicarboxylic acid group, or An alkyltrialkoxysilane containing a carboxyl group having a half ester group thereof, a bicycloheptane dicarboxylic acid group, or a half ester group thereof, a 7-oxa-bicycloheptane dicarboxylic acid group, or a half ester group thereof, a phthalic acid group, or a half ester group thereof. ; Alkyltrialkoxysilanes containing an imide group such as N-tert-butyl-3-(3-trimethoxysilylpropyl)succinic acid imide; Alkyltrialkoxysilanes containing a carbamate group such as (3-trimethoxysilylpropyl)-t-butyl carbamate and (3-triethoxysilylpropyl)-tert-butyl carbamate; etc. can be mentioned.

수지 조성물에서의 실란 커플링제(E)의 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서, 0.01~10 질량%가 바람직하고, 0.5~6 질량%가 보다 바람직하며, 1~5 질량%가 특히 바람직하다.The content of the silane coupling agent (E) in the resin composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 6% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass, based on the total mass of the solid content of the resin composition. do.

이러한 범위 내의 양의 실란 커플링제(E)를 이용함으로써, 형성되는 패턴을 기판에 특히 양호하게 밀착시키기 쉽고, 또 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 특히 억제하기 쉽다.By using the silane coupling agent (E) in an amount within this range, it is easy to adhere the formed pattern to the substrate particularly well, and it is easy to particularly easily suppress the occurrence of development residues in unexposed areas.

또, 실란 커플링제(E)의 전체 질량에 차지하는 식(e1)로 표시되는 화합물의 질량의 비율은 10 질량% 이상이 바람직하고, 15 질량% 이상이 보다 바람직하며, 30 질량% 이상이 특히 바람직하다.The ratio of the mass of the compound represented by the formula (e1) to the total mass of the silane coupling agent (E) is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more. do.

또, 실란 커플링제(E)의 전체 질량에 차지하는 식(e1)로 표시되는 화합물의 질량의 비율의 상한값은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 95 질량% 이하로 할 수 있고 90 질량% 이하로 할 수 있으며, 85 질량% 이하로 할 수 있다.In addition, the upper limit of the ratio of the mass of the compound represented by the formula (e1) to the total mass of the silane coupling agent (E) is not particularly limited. It can be 85% by mass or less.

또, 실란 커플링제(E)의 전체 질량에 차지하는 식(e1)로 표시되는 화합물의 질량의 비율을 100 질량%로 할 수도 있다.Moreover, the ratio of the mass of the compound represented by the formula (e1) to the total mass of the silane coupling agent (E) may be 100% by mass.

상기 범위 내의 양의 식(e1)로 표시되는 화합물을, 상기의 비율로 실란 커플링제(E)를 이용함으로써, 형성되는 패턴을 기판에 양호하게 밀착시키기 쉽고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제하기 쉽다.By using the compound represented by the formula (e1) in an amount within the above range and the silane coupling agent (E) in the above ratio, it is easy to adhere the formed pattern to the substrate well, and development residue is generated in the unexposed area easy to suppress

추가로, 수지 조성물에서, 식(e1)로 표시되는 화합물의 함유량은 수지 조성물의 고형분 전체의 질량에 대해서, 0.01~10 질량%가 바람직하고, 0.5~6 질량%가 보다 바람직하며, 1~5 질량%가 특히 바람직하다.Further, in the resin composition, the content of the compound represented by formula (e1) is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 6% by mass, and 1 to 5% by mass relative to the total mass of the solid content of the resin composition. Mass % is particularly preferred.

이러한 범위 내의 양의 식(e1)로 표시되는 화합물을 이용함으로써, 형성되는 패턴을 기판에 특히 양호하게 밀착시키기 쉽고, 또 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 특히 억제하기 쉽다.By using the compound represented by formula (e1) in an amount within this range, it is easy to adhere the formed pattern to the substrate particularly well, and it is easy to particularly suppress the occurrence of development residue in unexposed areas.

<유기용제(S)><organic solvent (S)>

수지 조성물은 도포성의 개선이나, 점도 조정을 위해, 유기용제(S)를 포함하는 것이 바람직하다.The resin composition preferably contains an organic solvent (S) in order to improve coating properties or adjust the viscosity.

유기용제(S)로서 구체적으로는 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산i-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산i-펜틸, 아세트산벤질, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산i-프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이소부틸아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N,N-디에틸포름아미드, N-메틸카프로락탐, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 피리딘, 및 N,N,N',N'-테트라메틸우레아 등 함질소 극성 유기용제; 등을 들 수 있다.Specifically as the organic solvent (S), ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Ethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene Glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether (poly)alkylene glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monoethyl ether acetate (poly ) alkylene glycol monoalkyl ether acetates; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; lactate alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-Hydroxy-2-methylethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, ethoxyacetate ethyl, hydroxyacetate ethyl, 2 -Hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, benzyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate other esters such as methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene; N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylisobutylamide, N,N-diethylacetamide, N,N-diethyl nitrogen-containing polar organic solvents such as formamide, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, and N,N,N',N'-tetramethylurea; etc. can be mentioned.

이들 중에서도, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류, 상술한 다른 에테르류, 락트산알킬에스테르류, 상술한 다른 에스테르류가 바람직하고, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류, 상술한 다른 에테르류, 아세트산벤질 등의 상술한 다른 에스테르류가 보다 바람직하다.Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, the above-mentioned other ethers, lactic acid alkyl esters, and the above-mentioned other esters are preferable, and alkylene glycol monoalkyl ether acetates, Other ethers and other esters described above, such as benzyl acetate, are more preferred.

또, 각 성분의 용해성이나, 안료(D)의 분산성 등의 점에서, 유기용제(S)가, 함질소 극성 유기용제를 포함하는 것도 바람직하다. 함질소 극성 유기용제로서는 N,N,N',N'-테트라메틸우레아 등을 이용할 수 있다.Moreover, it is also preferable that the organic solvent (S) contains a nitrogen-containing polar organic solvent from points, such as the solubility of each component and the dispersibility of the pigment (D). As the nitrogen-containing polar organic solvent, N,N,N',N'-tetramethylurea or the like can be used.

이들 용제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.These solvents can be used alone or in combination of two or more.

유기용제(S)의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 기판 등에 도포 가능한 농도로, 도포 막 두께에 따라 적절히 설정된다. 수지 조성물의 점도는 5~500 cp인 것이 바람직하고, 10~50 cp인 것이 보다 바람직하며, 20~30 cp인 것이 더욱 바람직하다. 또, 고형분 농도는 5~100 질량%인 것이 바람직하고, 15~50 질량%인 것이 보다 바람직하다.The content of the organic solvent (S) is not particularly limited, and is appropriately set at a concentration that can be applied to a substrate or the like depending on the coating film thickness. The viscosity of the resin composition is preferably 5 to 500 cp, more preferably 10 to 50 cp, and still more preferably 20 to 30 cp. Moreover, it is preferable that it is 5-100 mass %, and, as for solid content concentration, it is more preferable that it is 15-50 mass %.

<그 밖의 성분><Other ingredients>

수지 조성물에는 필요에 따라 계면활성제, 밀착성 향상제, 열중합 금지제, 소포제, 에폭시 화합물 등의 첨가제를 함유시킬 수 있다. 어느 첨가제도, 종래 공지된 것을 이용할 수 있다.Additives, such as a surfactant, an adhesion improver, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, and an epoxy compound, can be contained in the resin composition as needed. As any additive, conventionally known ones can be used.

계면활성제로서는 음이온계, 양이온계, 비이온계 등의 화합물을 들 수 있고, 열중합 금지제로서는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노에틸에테르 등을 들 수 있으며, 소포제로서는 실리콘계, 불소계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include compounds such as anionic, cationic, and nonionic compounds, examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether, and examples of antifoaming agents include silicone and fluorine compounds. .

<수지 조성물의 조제 방법><Preparation method of resin composition>

이상 설명한 수지 조성물은 상기 각 성분을, 각각 소정량 혼합한 후, 교반기로 균일하게 혼합함으로써 얻어진다. 또한 얻어진 혼합물이 보다 균일한 것이 되도록 필터를 이용하여 여과해도 된다.The resin composition described above is obtained by mixing each of the above components in a predetermined amount and then mixing them uniformly with a stirrer. Furthermore, you may filter using a filter so that the obtained mixture may become more uniform.

≪경화막의 제조 방법≫≪Method for producing a cured film≫

경화막의 제조 방법으로서는 광중합성 화합물(B)을 포함하는 수지 조성물을 이용하는 종래 알려진 경화막의 제조 방법을, 특별히 한정 없이 채용할 수 있다.As a method for producing a cured film, a conventionally known method for producing a cured film using a resin composition containing a photopolymerizable compound (B) can be employed without particular limitation.

경화막의 적합한 제조 방법으로서는,As a suitable manufacturing method of a cured film,

전술한 수지 조성물을 도포함으로써, 도포막을 형성하는 공정과,A step of forming a coating film by applying the resin composition described above;

도포막을 위치 선택적으로 노광하는 공정과,A step of positionally selectively exposing the coated film;

노광된 도포막을 현상하여, 패턴화된 경화막을 형성하는 공정과,A step of developing the exposed coating film to form a patterned cured film;

패턴화된 경화막을 베이크하는 공정을 포함하는 방법을 들 수 있다.A method including a step of baking the patterned cured film is exemplified.

수지 조성물을 이용해 경화막을 형성하기 위해서는 우선 수지 조성물을, 경화막의 용도에 따라 선택된 기판상에 도포해 도포막을 형성한다. 도포막의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용해 실시된다.In order to form a cured film using a resin composition, first, the resin composition is coated on a substrate selected according to the use of the cured film to form a coating film. The method of forming the coating film is not particularly limited, but is carried out using, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater, or bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater.

도포된 수지 조성물은 필요에 따라 건조되어 도포막을 구성한다. 건조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 (1) 핫 플레이트에서 80~120℃, 바람직하게는 90~100℃의 온도에서 60~120초간 건조시키는 방법, (2) 실온에서 수시간~수일간 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분간~수시간 넣어 용제를 제거하는 방법 등을 들 수 있다.The applied resin composition is dried as necessary to form a coating film. The drying method is not particularly limited, and examples include (1) a method of drying on a hot plate at a temperature of 80 to 120°C, preferably 90 to 100°C for 60 to 120 seconds, (2) a method of drying at room temperature for several hours to several days. A method of leaving it to stand, (3) a method of removing the solvent by placing it in a warm air heater or an infrared heater for several tens of minutes to several hours, and the like.

그 다음에 도포막에 대한 노광을 한다. 노광은 자외선, 엑시머 레이저 광 등의 활성 에너지선을 조사해 실시된다. 노광은, 예를 들면 네거티브형의 마스크를 통해서 노광을 실시하는 방법 등에 의해, 위치 선택적으로 실시된다. 조사하는 에너지 선량은 수지 조성물의 조성에 따라서 상이하지만, 예를 들면 40~200 mJ/cm2 정도가 바람직하다.Then, the coating film is exposed to light. Exposure is performed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light. Exposure is position-selectively performed, for example, by a method of exposing through a negative mask. The energy dose to be irradiated varies depending on the composition of the resin composition, but is preferably about 40 to 200 mJ/cm 2 , for example.

또한 도포막 전면에 노광을 실시하는 경우, 도포막의 형상에 따른 형상을 가지는 패턴화되어 있지 않은 경화막이 형성된다.Further, when exposing the entire surface of the coating film, a cured film having a shape corresponding to the shape of the coating film is formed without being patterned.

도포막이 위치 선택적으로 노광된 경우, 노광 후의 막을 현상액에 의해 현상하는 것에 의해서, 미노광부가 현상액에 용해되어 제거되어 패턴화된 경화막이 형성된다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 현상액은 수지 조성물의 조성에 따라 적절히 선택된다. 현상액으로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 염기성의 수용액을 이용할 수 있다.When the coated film is positionally selectively exposed, by developing the exposed film with a developer, the unexposed portion is dissolved in the developer and removed to form a patterned cured film. The developing method is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, or the like can be used. A developer is appropriately selected depending on the composition of the resin composition. As a developing solution, basic aqueous solutions, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and a quaternary ammonium salt, can be used, for example.

그 다음에, 패턴화된 경화막에 대한 베이크(포스트베이크)를 한다. 베이크 온도는 특별히 한정되지 않지만, 180~250℃이 바람직하고, 220~230℃이 보다 바람직하다. 베이크 시간은 전형적으로는 10~90분이며, 20~60분이 바람직하다.Next, baking (post-baking) is performed for the patterned cured film. The baking temperature is not particularly limited, but is preferably 180 to 250°C and more preferably 220 to 230°C. The baking time is typically 10 to 90 minutes, preferably 20 to 60 minutes.

이상과 같이 베이크를 실시함으로써, 수지 조성물의 경화막이 얻어진다.By baking as described above, a cured film of the resin composition is obtained.

이와 같이 하여 형성되는 안료(D)를 포함하는 착색된 경화막은 안료(D)의 색상에 따라, 예를 들면 컬러 필터에서의 블랙 매트릭스나, RGB 등의 착색막으로서 적합하게 사용될 수 있다.The colored cured film containing the pigment (D) formed in this way can be suitably used as a black matrix in a color filter or a colored film such as RGB, depending on the color of the pigment (D).

[[ 실시예Example ] ]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

[조제예 1][Preparation Example 1]

우선 500 ml 4구 플라스크 중에, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지(에폭시 당량 235) 235 g, 테트라메틸암모늄클로라이드 110 mg, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 100 mg, 및 아크릴산 72.0 g를 투입하고, 이것에 25 ml/분의 속도로 공기를 불어넣으면서 90~100℃에서 가열 용해했다. 다음에, 용액이 백탁한 상태인 채로 서서히 승온해, 120℃에서 가열해 완전 용해시켰다. 이때, 용액은 점차 투명 점조가 되었지만, 그대로 교반을 계속했다. 그 동안에, 산가를 측정해, 1.0mgKOH/g 미만이 될 때까지 가열 교반을 계속했다. 산가가 목표값에 이르기까지 12시간을 필요로 했다. 그리고 실온까지 냉각해, 무색 투명하고 고체상인 하기 식으로 표시되는 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.First, in a 500 ml four-necked flask, bisphenol fluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235) 235 g, tetramethylammonium chloride 110 mg, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol 100 mg, and acrylic acid 72.0 g was added, and heated and dissolved at 90 to 100° C. while blowing air into it at a rate of 25 ml/min. Next, while the solution was in a cloudy state, the temperature was gradually raised and heated to 120°C to completely dissolve the solution. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. In the meantime, the acid value was measured and heating and stirring were continued until it became less than 1.0 mgKOH/g. It took 12 hours for the acid value to reach the target value. And it cooled to room temperature, and the bisphenol fluorene type|mold epoxy acrylate represented by the following formula which was colorless and transparent and was solid was obtained.

[화 29][Tue 29]

Figure 112018057420203-pat00029
Figure 112018057420203-pat00029

그 다음에, 이와 같이 하여 얻어진 상기의 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트 307.0 g에 3-메톡시부틸아세테이트 600 g를 가해 용해한 후, 벤조페논테트라카르복시산 2무수물 80.5 g 및 브롬화 테트라에틸암모늄 1 g를 혼합하고, 서서히 승온하여 110~115℃에서 4시간 반응시켰다. 산무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로 무수 프탈산 38.0 g를 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜, 수지 A-1을 얻었다. 산무수물기의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인했다.Next, 600 g of 3-methoxybutyl acetate was added to 307.0 g of the bisphenol fluorene-type epoxy acrylate obtained in this way and dissolved, and then 80.5 g of benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were mixed. And, the temperature was gradually raised and reacted at 110 ~ 115 ℃ for 4 hours. After confirming disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed, and it was made to react at 90 degreeC for 6 hours, and resin A-1 was obtained. Disappearance of the acid anhydride group was confirmed by the IR spectrum.

[실시예 1, 실시예 2, 및 비교예 1~3][Example 1, Example 2, and Comparative Examples 1 to 3]

실시예 및 비교예에서, (A) 알칼리 가용성 수지로서 카르도 수지와, 노볼락 수지를 이용했다.In Examples and Comparative Examples, (A) cardo resin and novolac resin were used as the alkali-soluble resin.

카르도 수지로서는 상기 조제예 1에서 얻은 수지 A-1을 이용했다.Resin A-1 obtained in the said preparation example 1 was used as cardo resin.

노볼락 수지로서 스미토모 베이클라이트사 제의 TO-547(상품명)을 이용했다. TO-547은 m-크레졸 90 몰%과 2,3,5-트리메틸페놀 10 몰%의 혼합물에 옥살산과 농도 37 질량% 포르말린을 가하고, 상법에 의해 축합 반응하여 얻어진 Mw30000의 크레졸 노볼락 수지이다.As the novolak resin, TO-547 (trade name) manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. was used. TO-547 is a cresol novolak resin of Mw30000 obtained by condensation reaction by adding oxalic acid and 37% by mass formalin to a mixture of 90 mol% m-cresol and 10 mol% 2,3,5-trimethylphenol.

실시예 및 비교예에서, 광중합성 화합물(B)로서, DPHA(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트)를 이용했다.In Examples and Comparative Examples, DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate) was used as the photopolymerizable compound (B).

실시예 및 비교예에서, 광중합 개시제(C)로서, OXE-02(상품명, BASF사 제, O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심)을 이용했다.In Examples and Comparative Examples, as the photopolymerization initiator (C), OXE-02 (trade name, manufactured by BASF, O-acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazole-3 -yl] ethane oxime) was used.

실시예 및 비교예에서, 안료(D)로서, 카본 블랙을 이용했다.In Examples and Comparative Examples, carbon black was used as the pigment (D).

카본 블랙으로서는 다이도카세이 공업사 제의 카본 블랙(안료 A(분산액))을 이용했다.As carbon black, carbon black (pigment A (dispersion)) manufactured by Daido Kasei Co., Ltd. was used.

또한 본 실시예항의 표 1에서는 이 안료 및 분산제의 고형분의 합산값에 대해서, 그 수치를 기재하고 있다.In addition, in Table 1 of this Example section, the numerical value is described about the total value of the solid content of this pigment and a dispersant.

실시예 및 비교예에서, 실란 커플링제(E)로서, 이하의 E1~E3를 이용했다.In Examples and Comparative Examples, the following E1 to E3 were used as the silane coupling agent (E).

E1: 하기 식의 화합물 E1: a compound of the formula

[화 30][Tue 30]

Figure 112018057420203-pat00030
Figure 112018057420203-pat00030

E2: 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 E2: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane

E3: 3-페닐아미노프로필트리메톡시실란 E3: 3-phenylaminopropyltrimethoxysilane

각각 표 1에 기재된 양의, 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 안료(D)와, 표 1에 기재된 종류 및 양의 (E) 에폭시 화합물을, (S) 유기용제에 고형분 농도 15 질량%가 되도록 용해, 분산시켜 각 실시예, 비교예의 수지 조성물을 얻었다.The alkali-soluble resin (A), the photopolymerizable compound (B), the photopolymerization initiator (C), the pigment (D), and the type and amount of the (E) epoxy compound shown in Table 1, respectively, in the amount shown in Table 1, respectively. was dissolved and dispersed in (S) an organic solvent so that the solid content concentration was 15% by mass, and resin compositions of Examples and Comparative Examples were obtained.

(S) 유기용제로서는 3-메톡시부틸아세테이트:프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트:시클로헥사논=40:35:25(질량비)의 혼합 용제를 이용했다.(S) As the organic solvent, a mixed solvent of 3-methoxybutyl acetate:propylene glycol monomethyl ether acetate:cyclohexanone = 40:35:25 (mass ratio) was used.

얻어진 수지 조성물을 이용하고, 이하의 방법에 따라서, 패턴화된 경화막의 기판에 대한 밀착성과, 미노광부에서의 잔사의 발생에 대해서 평가했다. 이들 평가 결과를 표 1에 적는다.Using the obtained resin composition, adhesion of the patterned cured film to the substrate and generation of residue in unexposed areas were evaluated according to the following method. These evaluation results are written in Table 1.

<패턴화된 경화막의 기판에 대한 밀착성><Adhesion of the patterned cured film to the substrate>

수지 조성물을, 유리 기판(100 mm×100 mm) 상에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 80℃에서 120초간 프리베이크를 실시하여, 막 두께 2.0μm의 도포막을 형성했다.The resin composition was applied on a glass substrate (100 mm x 100 mm) using a spin coater and prebaked at 80°C for 120 seconds to form a coating film having a thickness of 2.0 µm.

그 다음에, 미러 프로젝션 얼라이너(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광 갭을 250μm로 하여, 하기의 폭의 라인부를 가지는 라인 패턴 형성용의 마스크를 통해서 도포막에 자외선을 조사했다. 노광량은 40 mJ/cm2로 했다.Then, using a mirror projection aligner (product name: TME-150RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.), the exposure gap was set to 250 μm, and the coating film was irradiated with ultraviolet rays through a mask for line pattern formation having a line portion having the following width did. The exposure amount was 40 mJ/cm 2 .

노광 후의 도막을, 25℃의 0.04 질량% KOH 수용액으로 60초간 침지 후, 라인의 치수가 2~100μm인 라인 패턴을 형성하고, 형성한 라인 패턴의 밀착성을 하기의 기준에 따라 평가했다.The coated film after exposure was immersed for 60 seconds in a 0.04% by mass KOH aqueous solution at 25°C to form a line pattern having a line size of 2 to 100 μm, and the adhesion of the formed line pattern was evaluated according to the following criteria.

◎: 2μm 이하의 폭의 라인 패턴이 밀착하고 있다.◎: A line pattern with a width of 2 µm or less is in close contact.

○: 3~5μm 폭의 라인 패턴이 밀착하고 있다.○: A line pattern with a width of 3 to 5 μm is in close contact with each other.

△: 6~10μm 폭의 라인 패턴이 밀착하고 있다.(triangle|delta): The line pattern of 6-10 micrometer width is closely_contact|adhering.

×: 11μm 이상의 폭의 라인 패턴이 밀착하고 있다.x: A line pattern with a width of 11 μm or more is in close contact.

<미노광부에서의 잔사의 발생><Generation of residues in unexposed areas>

수지 조성물을, 유리 기판(100 mm×100 mm) 상에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 80℃에서 120초간 프리베이크를 실시하여, 막 두께 2.0μm의 도포막을 형성했다.The resin composition was applied on a glass substrate (100 mm x 100 mm) using a spin coater and prebaked at 80°C for 120 seconds to form a coating film having a thickness of 2.0 µm.

그 다음에, 미러 프로젝션 얼라이너(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광 갭을 250μm로 하여, 하기의 형상의 매트릭스를 형성 가능한 마스크를 통해서 도포막에 자외선을 조사했다. 노광량은 40 mJ/cm2로 했다.Next, using a mirror projection aligner (product name: TME-150RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.), the coating film was irradiated with ultraviolet rays through a mask capable of forming a matrix having the following shape with an exposure gap of 250 μm. The exposure amount was 40 mJ/cm 2 .

노광 후의 도막을, 25℃의 0.04 질량% KOH 수용액에 60초간 침지 후, 치수 11μm의 매트릭스를 형성하고, 매트릭스 중에 확인할 수 있는 잔사의 개수를 계측했다. 계측된 잔사의 개수에 근거해, 이하의 기준에 따라 현상 후의 잔사의 발생을 평가했다.After immersing the coated film after exposure for 60 seconds in a 0.04% by mass KOH aqueous solution at 25°C, a matrix having a dimension of 11 µm was formed, and the number of residues that could be confirmed in the matrix was counted. Based on the number of residues measured, the generation of residues after development was evaluated according to the following criteria.

◎: 0~10개의 잔사 있음.◎: 0 to 10 residues present.

○: 11~20개의 잔사 있음.○: 11 to 20 residues present.

△: 21~40개의 잔사 있음.△: There are 21 to 40 residues.

×: 41개 이상의 잔사 있음.×: 41 or more residues are present.

Figure 112018057420203-pat00031
Figure 112018057420203-pat00031

실시예에 의하면, (A) 알칼리 가용성 수지와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 안료(D)와, 소정의 구조의 화합물을 함유하는 실란 커플링제(E)를 포함하는 수지 조성물이면, 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 또한 미노광부에서의 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있는 것을 알 수 있다.According to the embodiment, (A) an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a pigment (D), and a silane coupling agent (E) containing a compound having a predetermined structure are included. It was found that the resin composition to be used can form a pattern with good adhesion to the substrate and suppress the generation of development residues in unexposed areas.

다른 한편, 비교예 1~3에 의하면, 감광성 수지 조성물이, 실란 커플링제(E)를 포함하지 않거나, 실란 커플링제(E)가 소정의 구조의 화합물을 함유하지 않거나 하는 경우, 기판에 대한 밀착성이 양호한 패턴의 형성과, 미노광부에서의 현상 잔사의 발생의 억제를 양립시키는 것이 곤란하다는 것을 알 수 있다.On the other hand, according to Comparative Examples 1 to 3, when the photosensitive resin composition does not contain the silane coupling agent (E) or the silane coupling agent (E) does not contain a compound having a predetermined structure, adhesion to the substrate It turns out that it is difficult to achieve both the formation of this favorable pattern and suppression of the generation of development residues in unexposed areas.

Claims (8)

알칼리 가용성 수지(A)와,
광중합성 화합물(B)과,
광중합 개시제(C)와,
안료(D)와,
실란 커플링제(E)
를 포함하는 수지 조성물로서,
상기 실란 커플링제(E)가, 하기 식(e1):
(Re1O)a(Re2)3-aSi-Re3-NH-CO-Re4-Re5···(e1)
(식(e1) 중, Re1 및 Re2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기이며, a는 2 또는 3이며, Re3은 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기이며, Re4는 2가의 방향족 탄화수소기이며, 상기 2가의 방향족 탄화수소기에서의 한쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치와 다른 쪽의 결합손이 결합하는 탄소 원자의 위치의 관계는 인접 위치, 또는 페리 위치이며, Re5는 브렌스테드 산성기, 알코올성 수산기, 아미노기, 또는 카르바모일기이다.)
로 표시되는 알콕시실란 화합물을 포함하는 수지 조성물.
An alkali-soluble resin (A);
A photopolymerizable compound (B);
A photopolymerization initiator (C);
A pigment (D);
Silane Coupling Agent (E)
As a resin composition comprising a,
The silane coupling agent (E) has the following formula (e1):
(R e1 O) a (R e2 ) 3-a Si-R e3 -NH-CO-R e4 -R e5 ... (e1)
(In formula (e1), R e1 and R e2 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a is 2 or 3, R e3 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R e4 is a divalent aromatic hydrocarbon group, and the relationship between the position of the carbon atom to which one bond hand bonds in the divalent aromatic hydrocarbon group and the position of the carbon atom to which the other bond bond bond is adjacent or peri-position, , R e5 is a Brensted acidic group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, or a carbamoyl group.)
A resin composition comprising an alkoxysilane compound represented by
청구항 1에 있어서,
상기 2가의 방향족 탄화수소기가, o-페닐렌기, 나프탈렌-1,2-디일기, 나프탈렌-2,3-디일기, 또는 나프탈렌-1,8-디일기인 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition in which the divalent aromatic hydrocarbon group is an o-phenylene group, a naphthalene-1,2-diyl group, a naphthalene-2,3-diyl group, or a naphthalene-1,8-diyl group.
청구항 1에 있어서,
Re5가 카르복시기인 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition in which R e5 is a carboxyl group.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항의 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 경화막.A cured film obtained by curing the resin composition according to any one of claims 1 to 3. 청구항 4의 경화막을 구비하는 컬러 필터.A color filter comprising the cured film of claim 4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항의 수지 조성물을 도포함으로써, 도포막을 형성하는 공정과,
상기 도포막을 위치 선택적으로 노광하는 공정과,
노광된 상기 도포막을 현상하여, 패턴화된 경화막을 형성하는 공정과,
상기 패턴화된 경화막을 베이크하는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법.
A step of forming a coating film by applying the resin composition according to any one of claims 1 to 3;
A step of positionally selectively exposing the coating film;
A step of developing the exposed coating film to form a patterned cured film;
A method for producing a cured film comprising a step of baking the patterned cured film.
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