JP5890464B2 - Photosensitive resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、特定の官能基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、特定の構造の化合物を含む(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを組み合わせて含む感光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、当該感光性樹脂組成物を用いて形成される、絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサに関する。さらに、本発明は、前述の絶縁膜を備えるか、前述のカラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサのうちの少なくとも一つを備える表示装置に関する。   The present invention combines (A) an alkali-soluble resin having a specific functional group, (B) a photopolymerizable compound containing a compound having a specific structure, and (C) a photopolymerization initiator which is an oxime ester compound. It is related with the photosensitive resin composition containing. The present invention also relates to an insulating film, a color filter, a black matrix, and a black column spacer formed using the photosensitive resin composition. Furthermore, the present invention relates to a display device including the above-described insulating film or including at least one of the above-described color filter, black matrix, and black column spacer.

従来から液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子等の電子部品には、層状に配置された配線の間を絶縁するために配線間に絶縁膜等が形成されている。このような絶縁膜を形成する方法としては感光性樹脂組成物を用いて形成する方法がある。   Conventionally, in an electronic component such as a liquid crystal display element, an integrated circuit element, and a solid-state imaging element, an insulating film or the like is formed between the wirings in order to insulate the wirings arranged in layers. As a method of forming such an insulating film, there is a method of forming using a photosensitive resin composition.

かかる絶縁膜を形成するために使用される、感光性樹脂組成物としては、特定の構造のアルカリ可溶性樹脂と、光重合性モノマーと、光重合開始剤と、光の作用により塩基を発生する特定の構造の化合物とを含む組成物が知られている(特許文献1)。   The photosensitive resin composition used to form such an insulating film includes an alkali-soluble resin having a specific structure, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a base that generates a base by the action of light. There is known a composition containing a compound having a structure of (Patent Document 1).

また、感光性樹脂組成物は、液晶表示装置用のパネルにおける、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、ブラックカラムスペーサ等の形成にも使用されている。カラーフィルタ、ブラックマトリックス、ブラックカラムスペーサ等の形成に用いられる感光性樹脂組成物は、通常、着色剤により着色されている。このような感光性樹脂組成物としては、例えば、ブラックカラムスペーサ形成用の感光性樹脂組成物として、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、及びペリレン系黒色顔料と銀錫合金とを含む遮光剤を含有する組成物が知られている(特許文献2)。   The photosensitive resin composition is also used for forming color filters, black matrices, black column spacers and the like in panels for liquid crystal display devices. The photosensitive resin composition used for forming a color filter, a black matrix, a black column spacer or the like is usually colored with a colorant. As such a photosensitive resin composition, for example, as a photosensitive resin composition for forming a black column spacer, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a perylene-based black pigment and a silver tin alloy There is known a composition containing a light-shielding agent containing (Patent Document 2).

特開2013−228662号公報JP 2013-228862 A 特開2013−134264号公報JP 2013-134264 A

一般に、感光性樹脂組成物を用いて、絶縁膜や、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、ブラックカラムスペーサ等のパターンを形成する場合、パターンの断面形状は矩形であるのが好ましく、パターンの表面は微細な皺が無く平滑であるのが好ましい。   In general, when forming a pattern such as an insulating film, a color filter, a black matrix, or a black column spacer using a photosensitive resin composition, the cross-sectional shape of the pattern is preferably rectangular, and the surface of the pattern is fine. It is preferably smooth without wrinkles.

しかし、特許文献1や2に記載される感光性樹脂組成物を用いて、絶縁膜や、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、ブラックカラムスペーサ等のパターンを形成する場合、パターン形成時の加熱の影響で、パターンの変形に起因して断面形状が矩形であるパターンを形成しにくかったり、形成されるパターンの表面に微細な皺が生じたりする場合がある。また、特許文献1や2に記載される感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する場合、直進性に優れるパターンを形成しにくかったり、現像後に基板からのパターンの剥離が生じやすかったりする問題がある。   However, when forming a pattern such as an insulating film, a color filter, a black matrix, or a black column spacer using the photosensitive resin composition described in Patent Documents 1 and 2, due to the influence of heating during pattern formation, Due to the deformation of the pattern, it may be difficult to form a pattern having a rectangular cross-sectional shape, or fine wrinkles may be generated on the surface of the formed pattern. Moreover, when forming a pattern using the photosensitive resin composition described in Patent Documents 1 and 2, there is a problem that it is difficult to form a pattern having excellent straightness or that the pattern is easily peeled off from the substrate after development. There is.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無く、直進性に優れ、現像後に基板から剥離しにくいパターンを形成可能な感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物を用いて形成される絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサと、当該絶縁膜、当該カラーフィルタ、当該ブラックマトリックス、又は当該ブラックカラムスペーサを備える表示装置とを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and has a rectangular shape with a good cross-sectional shape, has no fine wrinkles on the surface, has excellent straightness, and can form a pattern that does not easily peel off from the substrate after development. Photosensitive resin composition, insulating film, color filter, black matrix, and black column spacer formed using the photosensitive resin composition, insulating film, color filter, black matrix, or black An object is to provide a display device including a column spacer.

本発明者らは、特定の官能基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、特定の構造の化合物を含有する(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を用いることにより上記の課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors include (A) an alkali-soluble resin having a specific functional group, (B) a photopolymerizable compound containing a compound having a specific structure, and (C) a photopolymerization initiator that is an oxime ester compound. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by using a photosensitive resin composition containing the present invention, and have completed the present invention.

本発明の第一の態様は、(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤とを含有し、(A)アルカリ可溶性樹脂が、アクリロイル基又はエポキシ基を有し、(B)光重合性化合物が、下式(I)で表される化合物を含み、(C)光重合開始剤がオキシムエステル化合物である感光性樹脂組成物である。

Figure 0005890464
(式(I)中、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Xは、下式(II):
Figure 0005890464
で表される基又は水素原子であり、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Rは、下式(III):
Figure 0005890464
で表される基であり、pは0〜4の整数であり、qは0〜5の整数であり、式(I)中の6つのXのうちの式(II)で表される基の数は4〜6の整数であり、式(I)中の複数の式(II)で表される基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、式(I)で表される化合物中の−(R−O)−で表される2価基の数と−(R−O)−で表される2価基の数との合計は1以上であり、式(III)中、Rは、水素原子又はメチル基である。)
The first aspect of the present invention comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerizable compound, and (C) a photopolymerization initiator, and (A) the alkali-soluble resin is an acryloyl group or an epoxy. A photosensitive resin composition having a group, wherein (B) the photopolymerizable compound includes a compound represented by the following formula (I), and (C) the photopolymerization initiator is an oxime ester compound.
Figure 0005890464
(In the formula (I), R 1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents the following formula (II):
Figure 0005890464
Or a hydrogen atom, R 2 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 is represented by the following formula (III):
Figure 0005890464
P is an integer of 0 to 4, q is an integer of 0 to 5, and the group represented by the formula (II) among the six Xs in the formula (I) The number is an integer of 4 to 6, and a plurality of groups represented by the formula (II) in the formula (I) may be the same or different, and the compound represented by the formula (I) The sum of the number of divalent groups represented by — (R 1 —O) — and the number of divalent groups represented by — (R 2 —O) — is 1 or more, and the formula (III) R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. )

本発明の第二の態様は、第一の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、(D)着色剤を含有しない感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁膜である。   The 2nd aspect of this invention is the photosensitive resin composition concerning a 1st aspect, Comprising: (D) The insulating film formed using the photosensitive resin composition which does not contain a coloring agent.

本発明の第三の態様は、第二の態様にかかる絶縁膜を備える表示装置である。   3rd aspect of this invention is a display apparatus provided with the insulating film concerning 2nd aspect.

本発明の第四の態様は、第一の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、(D)着色剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタである。   4th aspect of this invention is the photosensitive resin composition concerning 1st aspect, Comprising: It is a color filter formed using the photosensitive resin composition containing (D) coloring agent.

本発明の第五の態様は、第一の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、遮光剤を(D)着色剤として含有する感光性樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスである。   A fifth aspect of the present invention is a photosensitive resin composition according to the first aspect, which is a black matrix formed using a photosensitive resin containing a light-shielding agent as a colorant (D).

本発明の第六の態様は、第一の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、遮光剤を(D)着色剤として含有する感光性樹脂を用いて形成されたブラックカラムスペーサである。   The sixth aspect of the present invention is a photosensitive resin composition according to the first aspect, which is a black column spacer formed using a photosensitive resin containing a light-shielding agent as a colorant (D).

本発明の第七の態様は、第四の態様にかかるカラーフィルタ、第五の態様にかかるブラックマトリックス、及び第六の態様にかかるブラックカラムスペーサからなる群より選択される1種以上を備える表示装置である。   A seventh aspect of the present invention is a display comprising at least one selected from the group consisting of a color filter according to the fourth aspect, a black matrix according to the fifth aspect, and a black column spacer according to the sixth aspect. Device.

本発明によれば、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無く、直進性に優れ、現像後に基板から剥離しにくいパターンを形成可能な感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物を用いて形成される絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサと、当該絶縁膜、当該カラーフィルタ、当該ブラックマトリックス、又は当該ブラックカラムスペーサを備える表示装置とを提供することができる。   According to the present invention, a photosensitive resin composition capable of forming a pattern having a rectangular shape with a good cross-sectional shape, no fine wrinkles on the surface, excellent straightness, and difficult to peel off from a substrate after development, and the photosensitive resin composition. Provided are an insulating film, a color filter, a black matrix, and a black column spacer that are formed using a conductive resin composition, and a display device that includes the insulating film, the color filter, the black matrix, or the black column spacer. be able to.

≪感光性樹脂組成物≫
感光性樹脂組成物は、特定の官能基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、特定の構造の化合物を含む(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含む。感光性樹脂組成物は、(D)着色剤を含まないものでもよく、(D)着色剤を含むものでもよい。感光性樹脂組成物は、塗布性の調整の目的等で(S)有機溶剤を含んでいてもよい。以下、感光性樹脂組成物に含まれる、必須又は任意の成分と、感光性樹脂組成物の調製方法とについて順に説明する。
≪Photosensitive resin composition≫
The photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin having a specific functional group, (B) a photopolymerizable compound containing a compound having a specific structure, and (C) a photopolymerization initiator which is an oxime ester compound. including. The photosensitive resin composition may contain (D) a coloring agent, and may contain (D) a coloring agent. The photosensitive resin composition may contain (S) an organic solvent for the purpose of adjusting coating properties. Hereinafter, essential or optional components contained in the photosensitive resin composition and a method for preparing the photosensitive resin composition will be described in order.

<(A)アルカリ可溶性樹脂>
(A)アルカリ可溶性樹脂(以下、「(A)成分」ともいう。)とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、濃度0.05質量%のKOH水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。
<(A) Alkali-soluble resin>
(A) An alkali-soluble resin (hereinafter also referred to as “component (A)”) is a resin solution having a resin concentration of 20% by mass (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate). When the film is immersed in a KOH aqueous solution having a concentration of 0.05% by mass for 1 minute, the film thickness is 0.01 μm or more.

(A)アルカリ可溶性樹脂は、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する。(A)アルカリ可溶性樹脂は、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有し、上述のアルカリ可溶性を示す樹脂であれば特に限定されず、従来公知の樹脂から適宜選択して使用できる。   (A) The alkali-soluble resin has a (meth) acryloyl group or an epoxy group. The (A) alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it has a (meth) acryloyl group or an epoxy group and exhibits the above-described alkali solubility, and can be appropriately selected from conventionally known resins.

(A)アルカリ可溶性樹脂として好適な樹脂としては、(A1)カルド構造を有する樹脂が挙げられる。(A)アルカリ可溶性樹脂としての(A1)カルド構造を有する樹脂と、後述する(D)着色剤としての遮光剤とを組み合わせて含む感光性樹脂組成物は、ブラックマトリックスやブラックカラムスペーサのような遮光部材の形成用途において特に好ましい。   (A) As resin suitable as alkali-soluble resin, (A1) resin which has a cardo structure is mentioned. (A) A photosensitive resin composition containing a combination of (A1) a resin having a cardo structure as an alkali-soluble resin and (D) a light-shielding agent as a colorant described later is a black matrix or a black column spacer. It is particularly preferable for use in forming a light shielding member.

(A1)カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である下記式(a−1)で表される樹脂が好ましい。   (A1) The resin having a cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among these, a resin represented by the following formula (a-1) which is a resin having a (meth) acryloyl group is preferable.

Figure 0005890464
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上記式(a−1)中、Xは、下記式(a−2)で表される基を示す。 In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).

Figure 0005890464
Figure 0005890464

上記式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Wは、単結合又は下記式(a−3)で表される基を示す。 In the formula (a-2), R a1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , W a represents a single bond or a group represented by the following formula (a-3).

Figure 0005890464
Figure 0005890464

また、上記式(a−1)中、Yは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), Y a represents a residue obtained by removing an acid anhydride group (—CO—O—CO—) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.

また、上記式(a−1)中、Zは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を示す。
Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, and the like.
Moreover, in said formula (a-1), m shows the integer of 0-20.

(A1)カルド構造を有する樹脂の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。   (A1) The mass average molecular weight of the resin having a cardo structure is preferably 1000 to 40000, and more preferably 2000 to 30000. By setting it as the above range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained while obtaining good developability.

また、(A)アルカリ可溶性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体であって、不飽和カルボン酸に由来する単位を含み、(メタ)アクリロイルオキシ基又はエポキシ基を有する樹脂も好ましい。以下、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体であって、不飽和カルボン酸に由来する単位を含み、(メタ)アクリロイルオキシ基又はエポキシ基を有する樹脂を(A2)共重合体とも記す。   The (A) alkali-soluble resin is a monomer polymer having an ethylenically unsaturated double bond, which contains a unit derived from an unsaturated carboxylic acid, and is a (meth) acryloyloxy group or an epoxy group. Also preferred is a resin having Hereinafter, a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, including a unit derived from an unsaturated carboxylic acid and having a (meth) acryloyloxy group or an epoxy group (A2) Also described as coalescence.

不飽和カルボン酸の例としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸アミド;クロトン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として使用されるエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体に含まれる、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂が所望するアルカリ可溶性を有する限り特に限定されない。アルカリ可溶性樹脂として使用される樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、5〜25質量%が好ましく、8〜16質量%がより好ましい。   Examples of the unsaturated carboxylic acid include (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and anhydrides of these dicarboxylic acids. The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid contained in the polymer of the monomer having an ethylenically unsaturated double bond used as the alkali-soluble resin is not particularly limited as long as the resin has the desired alkali solubility. . 5-25 mass% is preferable with respect to the mass of resin, and, as for the quantity of the unit derived from unsaturated carboxylic acid in resin used as alkali-soluble resin, 8-16 mass% is more preferable.

(A2)共重合体の中では、透明性、製膜性、形成される膜の硬度等のバランスがよいことから、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体が好ましい。以下、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体について説明する。   (A2) Among the copolymers, one having a good balance of transparency, film-forming property, hardness of the film to be formed, etc. is selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester A monomer polymer containing the above is preferred. Hereinafter, a monomer polymer containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters will be described.

上述の通り(A)アルカリ可溶性樹脂は、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する。(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体とからなる重合体がエポキシ基を有する樹脂である場合、当該樹脂は、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂であるのが好ましい。   As described above, the (A) alkali-soluble resin has a (meth) acryloyl group or an epoxy group. When the polymer comprising a monomer containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters is a resin having an epoxy group, the resin is a group having an epoxy group. It is preferable that it is resin containing the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has this.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、芳香族基とエポキシ基とを有する(メタ)アクリル酸エステルであっても、鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルであっても、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルであってもよい。   The (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group is a (meth) acrylic acid having a group having a chain aliphatic epoxy group even if it is a (meth) acrylic acid ester having an aromatic group and an epoxy group. Even an acid ester may be a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、芳香族基を含んでいてもよい。芳香族基を構成する芳香環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。芳香族基を有し、且つエポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、4−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、2−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、及び2−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   The (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group may contain an aromatic group. Examples of the aromatic ring constituting the aromatic group include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of the (meth) acrylic acid ester having an aromatic group and an epoxy group include 4-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, and 2-glycidyloxy. Examples include phenyl (meth) acrylate, 4-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, and 2-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate.

感光性樹脂組成物を用いて形成される膜の透明性の観点から、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、芳香族基を含まないものが好ましい。   From the viewpoint of the transparency of the film formed using the photosensitive resin composition, the (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group preferably does not contain an aromatic group.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、エポキシアルキル(メタ)アクリレート、及びエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレート等のような、エステル基(−O−CO−)中のオキシ基(−O−)に鎖状脂肪族エポキシ基が結合する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸エステルが有する鎖状脂肪族エポキシ基は、鎖中に1又は複数のオキシ基(−O−)を含んでいてもよい。鎖状脂肪族エポキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、3〜20が好ましく、3〜15がより好ましく、3〜10が特に好ましい。   Examples of (meth) acrylic acid ester having a group having a chain aliphatic epoxy group include an ester group (—O—CO, such as epoxyalkyl (meth) acrylate, epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylate, and the like. (Meth) acrylic acid ester in which a chain aliphatic epoxy group is bonded to the oxy group (—O—) in —). Such a chain aliphatic epoxy group possessed by the (meth) acrylate ester may contain one or a plurality of oxy groups (—O—) in the chain. The number of carbon atoms of the chain aliphatic epoxy group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 15, and particularly preferably 3 to 10.

鎖状脂肪族エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキル(メタ)アクリレート;2−グリシジルオキシエチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシ−n−ブチル(メタ)アクリレート、5−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート、6−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having a chain aliphatic epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 6 , 7-epoxyheptyl (meth) acrylate and other epoxy alkyl (meth) acrylates; 2-glycidyloxyethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxy-n-propyl (meth) acrylate, 4-glycidyloxy-n-butyl ( Examples thereof include epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 5-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate, and 6-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate.

脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、後述する式(a3−1)〜(a3−15)で表される化合物が好ましい。   As the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group, compounds represented by formulas (a3-1) to (a3-15) described later are preferable.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体における、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の含有量は、樹脂の質量に対して、1〜95質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましい。   In a polymer of a monomer containing (meth) acrylic acid containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group, and one or more selected from (meth) acrylic acid ester The content of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a group having an epoxy group is preferably 1 to 95% by mass and more preferably 30 to 70% by mass with respect to the mass of the resin.

また、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体の中では、感光性樹脂組成物を用いて透明性に優れる絶縁膜を形成しやすいことから、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂も好ましい。   Moreover, in the polymer of the monomer containing (meth) acrylic acid and 1 or more types selected from (meth) acrylic acid ester, the insulating film which is excellent in transparency using the photosensitive resin composition is used. A resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton is also preferable because it is easy to form.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルにおいて、脂環式骨格を有する基は、脂環式炭化水素基を有する基であっても、脂環式エポキシ基を有する基であってもよい。脂環式骨格を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。   In the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, the group having an alicyclic skeleton is a group having an alicyclic epoxy group, even if the group has an alicyclic hydrocarbon group. May be. The alicyclic group constituting the alicyclic skeleton may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルのうち、脂環式炭化水素基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば下記式(a2−1)〜(a2−8)で表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式(a2−3)〜(a2−8)で表される化合物が好ましく、下記式(a2−3)又は(a2−4)で表される化合物がより好ましい。   Of the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic hydrocarbon group include the following formulas (a2-1) to (a2- The compound represented by 8) is mentioned. Among these, compounds represented by the following formulas (a2-3) to (a2-8) are preferable, and compounds represented by the following formula (a2-3) or (a2-4) are more preferable.

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上記式中、Ra3は水素原子又はメチル基を示し、Ra4は単結合又は炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ra5は水素原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を示す。Ra4としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ra5としては、メチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R a3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a4 represents a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a5 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group of ~ 5. R a4 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group or a hexamethylene group. R a5 is preferably a methyl group or an ethyl group.

脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルのうち、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えば下記式(a3−1)〜(a3−15)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性樹脂組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式(a3−1)〜(a3−5)で表される化合物が好ましく、下記式(a3−1)〜(a3−3)で表される化合物がより好ましい。   Among the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton, specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group include, for example, the following formulas (a3-1) to ( and a compound represented by a3-15). Among these, in order to make the developability of the photosensitive resin composition appropriate, compounds represented by the following formulas (a3-1) to (a3-5) are preferable, and the following formula (a3-1) The compound represented by (a3-3) is more preferable.

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上記式中、Ra6は水素原子又はメチル基を示し、Ra7は炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ra8は炭素原子数1〜10の2価の炭化水素基を示し、nは0〜10の整数を示す。Ra7としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ra8としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−CH−Ph−CH−(Phはフェニレン基を示す)が好ましい。 In the above formulas, R a6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a7 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R a8 are the divalent 1 to 10 carbon atoms A hydrocarbon group is shown, n shows the integer of 0-10. R a7 is preferably a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a8 , for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a phenylene group, a cyclohexylene group, —CH 2 —Ph—CH 2 — (Ph is A phenylene group) is preferred.

(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体が、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂である場合、樹脂中の脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、5〜95質量%が好ましく、10〜90質量%がより好ましく、30〜70質量%がさらに好ましい。   A unit derived from a (meth) acrylic acid ester in which a polymer of a monomer containing (meth) acrylic acid and at least one selected from (meth) acrylic acid esters has a group having an alicyclic skeleton. When the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton in the resin is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, 30-70 mass% is further more preferable.

また、脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。このような樹脂は、基材に対する密着性に優れる。また、このような樹脂を用いる場合、樹脂に含まれるカルボキシル基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることが可能である。このため、このような樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いると、膜を加熱する方法等を用いて、カルボキシル基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることによって、形成された膜の硬度のような機械的物性を向上させることができる。   Moreover, the monomer containing (meth) acrylic acid containing the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has group which has alicyclic skeleton, and 1 or more types selected from (meth) acrylic acid ester Among these polymers, a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group is preferable. Such a resin is excellent in adhesion to the substrate. When such a resin is used, it is possible to cause a self-reaction between a carboxyl group contained in the resin and an alicyclic epoxy group. Therefore, when a photosensitive resin composition containing such a resin is used, it is formed by causing a self-reaction between a carboxyl group and an alicyclic epoxy group using a method of heating a film or the like. Mechanical properties such as film hardness can be improved.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましい。   In a resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group, a unit derived from (meth) acrylic acid in the resin Is preferably 1 to 95% by mass, more preferably 10 to 50% by mass. In a resin including a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group, a group having an alicyclic epoxy group in the resin 1-95 mass% is preferable and, as for the quantity of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has, 30-70 mass% is more preferable.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。   Selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, including units derived from (meth) acrylic acid and units derived from (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group In the monomer polymer containing one or more of the above, a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and fat A resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a group having a cyclic epoxy group is preferred.

(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましい。   Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from (meth) acrylic acid in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 50% by mass. Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass. Derived from a (meth) acrylic acid ester having a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a group having an alicyclic epoxy group. In the resin containing the unit, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic epoxy group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, more preferably 30 to 70% by mass. preferable.

(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体は、(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位として、エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステル、及び脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステル以外の(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含んでいてもよい。   The polymer of the monomer containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid ester has a group having an epoxy group as a unit derived from (meth) acrylic acid ester. Units derived from (meth) acrylic acid esters other than (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylic acid esters having a group having an alicyclic skeleton may be included.

エポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸、及び脂環式骨格を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステル以外の(メタ)アクリル酸エステルの好適な例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル(メタ)アクリレート;クロロエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、及びフルフリル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Suitable examples of (meth) acrylic acid esters other than (meth) acrylic acid having a group having an epoxy group and (meth) acrylic acid ester having a group having an alicyclic skeleton include methyl (meth) acrylate, Linear or branched alkyl (meth) acrylates such as ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate; chloroethyl (meth) acrylate, 2,2 -Dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and furfuryl (meth) acrylate.

(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体の調製に使用される単量体は、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステル以外の他のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体を含んでいてもよい。   Monomers used for the preparation of a polymer of monomers containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters are (meth) acrylic acid and (meth) acrylic. A monomer having an ethylenically unsaturated double bond other than the acid ester may be included.

(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸以外の他のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Monomers having ethylenically unsaturated double bonds other than (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid include (meth) acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes and the like. Can be mentioned. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリルアミド類としては、(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、N−アリール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−アリール(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。   (Meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N-aryl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-aryl (meth) acrylamide, N -Methyl-N-phenyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide and the like.

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類;アリルオキシエタノール;等が挙げられる。   Examples of the allyl compound include allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, etc .; allyloxyethanol; Can be mentioned.

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル;等が挙げられる。   Examples of vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether. Alkyl vinyl ethers such as diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether; vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichloropheny And the like; ethers, vinyl naphthyl ether, vinyl aryl ethers such as vinyl anthranyl ether.

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。   Vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxyacetate, vinyl phenyl Examples include acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate.

スチレン類としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン;メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン;クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン;等が挙げられる。   Styrenes include: styrene; methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy Alkyl styrene such as methyl styrene and acetoxymethyl styrene; alkoxy styrene such as methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene and dimethoxy styrene; chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Styrene, halostyrenes such as 4-fluoro-3-trifluoromethyl styrene; and the like.

(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体の中では、感光性樹脂組成物を用いて形成される膜の透明性や機械的性質の点から、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とからなる単量体の重合体が好ましい。   Among polymers of monomers containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters, the transparency and mechanical properties of the film formed using the photosensitive resin composition From the viewpoint of physical properties, a monomer polymer comprising (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters is preferred.

(A2)共重合体が、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体とからなる重合体であって、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である場合、例えば、以下に説明する樹脂を用いることができる。   (A2) The copolymer is a polymer comprising a monomer containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid esters, and has a (meth) acryloyl group. In the case of a resin, for example, a resin described below can be used.

具体的には、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体に含まれるカルボキシル基の一部を、前述のエポキシ基を有する基を有する(メタ)アクリル酸エステルと反応させて得られる、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体を、(メタ)アクリロイル基を有する重合体として使用することができる。   Specifically, a part of the carboxyl group contained in the polymer of the monomer containing (meth) acrylic acid and one or more selected from (meth) acrylic acid ester has the aforementioned epoxy group. A polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain obtained by reacting with a (meth) acrylic acid ester having a group can be used as a polymer having a (meth) acryloyl group.

また、(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体の重合体が、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、及びヒドロキシエチルビニルエーテル等の水酸基を有する単量体に由来する単位を含む場合、重合体の側鎖中の水酸基を(メタ)アクリロイルハライド(例えば、(メタ)アクリロイルクロライド)のようなアシル化剤と反応させることにより、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体が得られる。   Moreover, the polymer of the monomer containing (meth) acrylic acid and 1 or more types selected from (meth) acrylic acid ester is 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( When a unit derived from a monomer having a hydroxyl group such as (meth) acrylate and hydroxyethyl vinyl ether is included, the hydroxyl group in the side chain of the polymer is a (meth) acryloyl halide (eg, (meth) acryloyl chloride). By reacting with an acylating agent, a polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain is obtained.

(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体とからなる重合体であって、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸と、(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上とを含む単量体とからなる重合体であって、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂中の、(メタ)アクリロイル基を有する単位の量は、樹脂の質量に対して、1〜95質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましい。   (Meth) acrylic acid and a polymer comprising a monomer containing at least one selected from (meth) acrylic acid esters, and (meth) acrylic in a resin having a (meth) acryloyl group 1-95 mass% is preferable with respect to the mass of resin, and, as for the quantity of the unit derived from an acid, 10-50 mass% is more preferable. A polymer comprising (meth) acrylic acid and a monomer comprising at least one selected from (meth) acrylic acid esters, and (meth) acryloyl in a resin having a (meth) acryloyl group 1-95 mass% is preferable with respect to the mass of resin, and, as for the quantity of the unit which has group, 10-70 mass% is more preferable.

(A2)共重合体の質量平均分子量(Mw:ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)のポリスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。)は、2000〜200000であることが好ましく、5000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。   (A2) The weight average molecular weight of the copolymer (Mw: measured value in terms of polystyrene of gel permeation chromatography (GPC). Same in this specification) is preferably 2000 to 200000, and preferably 5000 to 30000. It is more preferable. By setting it as the above range, the film forming ability of the photosensitive resin composition and the developability after exposure tend to be easily balanced.

(A)アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して30〜90質量%であることが好ましく、45〜75質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスをとりやすい傾向がある。   (A) The content of the alkali-soluble resin is preferably 30 to 90% by mass and more preferably 45 to 75% by mass with respect to the solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the above range, there is a tendency that developability is easily balanced.

<(B)光重合性化合物>
感光性樹脂組成物は、(B)光重合性化合物として下記式(I)で表される化合物を含む。

Figure 0005890464
(式(I)中、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Xは、下式(II):
Figure 0005890464
で表される基又は水素原子であり、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Rは、下式(III):
Figure 0005890464
で表される基であり、pは0〜4の整数であり、qは0〜5の整数であり、式(I)中の6つのXのうちの式(II)で表される基の数は4〜6の整数であり、式(I)中の複数の式(II)で表される基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、式(I)で表される化合物中の−(R−O)−で表される2価基の数と−(R−O)−で表される2価基の数との合計は1以上であり、式(III)中、Rは、水素原子又はメチル基である。) <(B) Photopolymerizable compound>
The photosensitive resin composition contains a compound represented by the following formula (I) as a photopolymerizable compound (B).
Figure 0005890464
(In the formula (I), R 1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents the following formula (II):
Figure 0005890464
Or a hydrogen atom, R 2 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 is represented by the following formula (III):
Figure 0005890464
P is an integer of 0 to 4, q is an integer of 0 to 5, and the group represented by the formula (II) among the six Xs in the formula (I) The number is an integer of 4 to 6, and a plurality of groups represented by the formula (II) in the formula (I) may be the same or different, and the compound represented by the formula (I) The sum of the number of divalent groups represented by — (R 1 —O) — and the number of divalent groups represented by — (R 2 —O) — is 1 or more, and the formula (III) R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. )

式(I)中のRは炭素原子数2〜4のアルキレン基である。炭素原子数2〜4のアルキレン基の具体例としては、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、ブタン−2,3−ジイル基、ブタン−1,2−ジイル基、及び2−メチルプロパン−1,3−ジイル基が挙げられる。これらの2価の基の中では、エチレン基、プロパン−1,2−ジイル基、及びプロパン−1,3−ジイル基が好ましく、エチレン基、及びプロパン−1,2−ジイル基がより好ましい。−R−O−で表される2価基において、アルキレン基であるRが有する2つの結合手は、いずれが酸素原子と結合してもよい。 R 1 in formula (I) is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. Specific examples of the alkylene group having 2 to 4 carbon atoms include ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, butane-1,3. -Diyl group, butane-2,3-diyl group, butane-1,2-diyl group, and 2-methylpropane-1,3-diyl group. Among these divalent groups, an ethylene group, a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group are preferable, and an ethylene group and a propane-1,2-diyl group are more preferable. In the divalent group represented by —R 1 —O—, any of the two bonds of R 1 that is an alkylene group may be bonded to an oxygen atom.

式(I)中の−R−O−で表される2価基の繰り返し数であるpは0〜4の整数である。式(I)で表される化合物としては、pが0である化合物が好ましい。pが0である場合、式(I)で表される化合物中の−R−O−で表される2価基の数と−R−O−で表される2価基の数との合計は1以上であるから、式(I)で表される化合物は、6つのX中に、必ず1以上の−OR−O−で表される2価基を有する。 P which is the repeating number of the bivalent group represented by -R < 1 > -O- in Formula (I) is an integer of 0-4. As the compound represented by the formula (I), a compound in which p is 0 is preferable. When p is 0, the number of divalent groups represented by —R 1 —O— and the number of divalent groups represented by —R 2 —O— in the compound represented by formula (I) Therefore, the compound represented by the formula (I) always has one or more divalent groups represented by —OR 2 —O— in six Xs.

式(I)で表される化合物に含まれるXは、水素原子、又は式(II)で表される基である。式(I)で表される化合物に含まれる6つのXのうち、式(II)で表される基の数は4〜6の整数である。式(II)で表される基の末端に存在するRは、水素原子、又は式(III)で表される基である。式(III)中の、Rは水素原子又はメチル基である。つまり、式(III)で表される基は、アクリロイル基、又はメタクリロイル基である。 X contained in the compound represented by the formula (I) is a hydrogen atom or a group represented by the formula (II). Of the six Xs contained in the compound represented by formula (I), the number of groups represented by formula (II) is an integer of 4-6. R 3 present at the terminal of the group represented by the formula (II) is a hydrogen atom or a group represented by the formula (III). In the formula (III), R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. That is, the group represented by the formula (III) is an acryloyl group or a methacryloyl group.

式(II)で表される基には、−R−O−で表される2価基が含まれる。式(I)で表される化合物に含まれる、−R−O−で表される2価基の数は、0〜10が好ましく、1〜8がより好ましく、2〜6が特に好ましい。 The group represented by Formula (II), include divalent groups represented by -R 2 -O-. Expression contained in the compound represented by (I), 2 divalent group the number of which is represented by -R 2 -O- is preferably 0-10, more preferably 1-8, 2-6 is particularly preferred.

また、式(I)で表される化合物が有する4〜6の式(II)で表される基について、qがいずれも0である場合も好ましい。式(I)で表される化合物中の−(R−O)−で表される2価基の数と−(R−O)−で表される2価基の数との合計は1以上であるから、この場合、式(I)中のpは、1〜4の整数である。つまり、式(I)で表される化合物は、側鎖には、−R−O−で表されるアルキレンオキシド繰り返し単位を有さず、その中心に、1〜4の−R−O−で表されるアルキレンオキシド繰り返し単位を有する。 Moreover, it is also preferable that q is 0 for the groups represented by formula (II) of 4 to 6 which the compound represented by formula (I) has. The sum of the number of divalent groups represented by — (R 1 —O) — and the number of divalent groups represented by — (R 2 —O) — in the compound represented by formula (I) is: Since it is 1 or more, in this case, p in the formula (I) is an integer of 1 to 4. That is, the compound represented by the formula (I) does not have an alkylene oxide repeating unit represented by —R 2 —O— in the side chain, and 1 to 4 —R 1 —O at the center thereof. It has an alkylene oxide repeating unit represented by-.

式(I)で表される化合物の中でも好適なものとしては、下式(I−1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0005890464
(式(I−1)中、Rは式(III)と同様であり、q1、q2、q3、q4、q5、及びq6はそれぞれ0〜5の整数であり、q1、q2、q3、q4、q5、及びq6の和は、2〜6の整数である。) Among the compounds represented by the formula (I), a compound represented by the following formula (I-1) is preferable.
Figure 0005890464
(In the formula (I-1), R 4 is the same as in the formula (III), q1, q2, q3, q4, q5, and q6 are each an integer of 0 to 5, q1, q2, q3, q4 , Q5, and q6 are integers of 2 to 6.)

(B)光重合性化合物は、上記式(I)で表される化合物とともに、式(I)で表される化合物以外の光重合性化合物を含んでいてもよい。式(I)で表される化合物とともに用いることができる光重合性化合物には、単官能化合物と、多官能化合物とがある。   (B) The photopolymerizable compound may contain a photopolymerizable compound other than the compound represented by the formula (I) together with the compound represented by the formula (I). Photopolymerizable compounds that can be used with the compound represented by formula (I) include monofunctional compounds and polyfunctional compounds.

単官能化合物としては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Monofunctional compounds include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamidesulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate , Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- ( (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) ) Acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional compounds can be used alone or in combination of two or more.

一方、多官能化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能化合物や、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   On the other hand, as polyfunctional compounds, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxy) Ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) Acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly ( ) Acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, tolylene diisocyanate), reaction product of trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene Examples thereof include polyfunctional compounds such as condensates of ether, polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide, and triacryl formal. These polyfunctional compounds can be used alone or in combination of two or more.

式(I)で表される化合物とともに使用される重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。   As the polymerizable compound used together with the compound represented by the formula (I), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is preferable.

また、(B)光重合性化合物として、式(I)で表される化合物とともに、アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートを用いるのも好ましい。   In addition, as the photopolymerizable compound (B), together with the compound represented by the formula (I), alkyl (meth) acrylate, alkanediol monoalkyl ether mono (meth) acrylate, alkanediol di (meth) acrylate, poly It is also preferable to use monoalkyl ether mono (meth) acrylate of alkylene oxide or di (meth) acrylate of polyalkylene oxide.

(B)光重合性化合物が、式(I)で表される化合物とともに、アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートを含む場合、パターン形成時の加熱による、パターンの過度の変形と、パターン表面における微細な皺の発生とを抑制しやすい点で好ましい。   (B) The photopolymerizable compound, together with the compound represented by formula (I), alkyl (meth) acrylate, alkanediol monoalkyl ether mono (meth) acrylate, alkanediol di (meth) acrylate, polyalkylene oxide When the monoalkyl ether mono (meth) acrylate or polyalkylene oxide di (meth) acrylate is included, excessive deformation of the pattern due to heating during pattern formation and generation of fine wrinkles on the pattern surface are suppressed. It is preferable in terms of easy.

ここで、「ポリアルキレンオキシド」とは、アルキレンオキシ基、又は2以上のアルキレンオキシ基が繰り返された鎖を中心に有し、前記鎖の、一方の末端の酸素原子に水素原子が結合し、他方の末端の炭素原子に水酸基が結合している化合物を意味する。   Here, the “polyalkylene oxide” has an alkyleneoxy group or a chain in which two or more alkyleneoxy groups are repeated, and a hydrogen atom is bonded to an oxygen atom at one end of the chain, It means a compound in which a hydroxyl group is bonded to the other terminal carbon atom.

アルキル(メタ)アクリレートについて、アルキルエステルは直鎖アルキルエステルでもよく、分岐鎖アルキルエステルでもよく、直鎖アルキルエステルであるのが好ましい。アルキルエステルを構成するアルキル基の炭素原子数は特に限定されないが、1〜8が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。   Regarding the alkyl (meth) acrylate, the alkyl ester may be a linear alkyl ester or a branched alkyl ester, and is preferably a linear alkyl ester. Although the carbon atom number of the alkyl group which comprises alkylester is not specifically limited, 1-8 are preferable, 1-6 are more preferable, and 1-4 are especially preferable.

アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、及びポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレートについて、モノアルキルエーテルは、直鎖アルキルエーテルでも、分岐鎖アルキルエーテルでもよく、直鎖アルキルエーテルであるのが好ましい。モノアルキルエーテルを構成するアルキル基の炭素原子数は特に限定されないが、1〜8が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましく、1が最も好ましい。   For the monoalkyl ether mono (meth) acrylate of alkanediol and the monoalkyl ether mono (meth) acrylate of polyalkylene oxide, the monoalkyl ether may be a linear alkyl ether or a branched alkyl ether, Preferably there is. The number of carbon atoms of the alkyl group constituting the monoalkyl ether is not particularly limited, but is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 4, and most preferably 1.

n−アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートとしては、下式(IV)で表される化合物、又は(V)で表される化合物が好ましい。

Figure 0005890464
(式(IV)及び式(V)中、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Rは水素原子又はメチル基であり、Rは炭素原子数1〜8の直鎖アルキル基であり、sは0〜9の整数であり、tは1〜9の整数である。) n-alkyl (meth) acrylate, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of alkanediol, di (meth) acrylate of alkanediol, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of polyalkylene oxide, or di (meta) of polyalkylene oxide The acrylate is preferably a compound represented by the following formula (IV) or a compound represented by (V).
Figure 0005890464
(In Formula (IV) and Formula (V), R 5 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 7 is a straight chain having 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group, s is an integer of 0 to 9, and t is an integer of 1 to 9.)

式(IV)及び式(IV)中、Rとしての、炭素原子数2〜4のアルキレン基は、式(I)中のRと同様である。Rとしてのアルキレン基としては、エチレン基、プロパン−1,2−ジイル基、及びプロパン−1,3−ジイル基が好ましく、プロパン−1,2−ジイル基、及びエチレン基がより好ましい。式(IV)中、sが0である場合、Rとしては、炭素原子数2〜8の直鎖アルキル基が好ましく、炭素原子数2〜6の直鎖アルキル基がより好ましい。式(IV)中、sが1〜8の整数である場合、Rとしては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 In formula (IV) and formula (IV), the alkylene group having 2 to 4 carbon atoms as R 5 is the same as R 1 in formula (I). As the alkylene group as R 5 , an ethylene group, a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group are preferable, and a propane-1,2-diyl group and an ethylene group are more preferable. In formula (IV), when s is 0, R 7 is preferably a linear alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. In formula (IV), when s is an integer of 1 to 8, R 7 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

(B)光重合性化合物中の、アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートの含有量は、特に限定されず、(B)光重合性化合物の質量に対して、20質量%超であるのが好ましく、20〜50質量%であるのがより好ましく、20〜30質量%であるのが特に好ましい。   (B) In the photopolymerizable compound, alkyl (meth) acrylate, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of alkanediol, di (meth) acrylate of alkanediol, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of polyalkylene oxide, Alternatively, the content of the poly (alkylene oxide) di (meth) acrylate is not particularly limited, and is preferably more than 20% by mass with respect to the mass of the (B) photopolymerizable compound, and is 20 to 50% by mass. Is more preferable, and it is especially preferable that it is 20-30 mass%.

このような範囲の量でアルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートを含む(B)光重合性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いる場合、パターン形成時の加熱による、パターンの過度の変形と、パターン表面における微細な皺の発生とを特に抑制しやすい。   Alkyl (meth) acrylates, alkanediol monoalkyl ether mono (meth) acrylates, alkanediol di (meth) acrylates, polyalkylene oxide monoalkyl ether mono (meth) acrylates, or polyalkylenes in such range amounts When a photosensitive resin composition containing (B) a photopolymerizable compound containing di (meth) acrylate of oxide is used, excessive deformation of the pattern due to heating during pattern formation and generation of fine wrinkles on the pattern surface And is particularly easy to suppress.

(B)光重合性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して0.5〜15質量%が好ましく、2〜10質量%がより好ましい。   (B) 0.5-15 mass% is preferable with respect to solid content of the photosensitive resin composition, and, as for content of a photopolymerizable compound, 2-10 mass% is more preferable.

<(C)光重合開始剤>
感光性樹脂組成物は、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤を含有する。オキシムエステル化合物は、2つの有機基が=N−O−CO−で表されるオキシムエステル結合を介して結合した化合物である。感光性樹脂組成物に、前述の式(I)で表される化合物を含有する(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを組み合わせて配合することにより、特に露光感度を良好なものとすることができる。
<(C) Photopolymerization initiator>
The photosensitive resin composition contains (C) a photopolymerization initiator that is an oxime ester compound. The oxime ester compound is a compound in which two organic groups are bonded through an oxime ester bond represented by ═N—O—CO—. By blending the photosensitive resin composition in combination with (B) a photopolymerizable compound containing the compound represented by the above formula (I) and (C) a photopolymerization initiator which is an oxime ester compound. In particular, the exposure sensitivity can be made favorable.

オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。オキシムエステル化合物の中では、下記式(c1)で表される化合物が好ましい。

Figure 0005890464
It does not specifically limit as (C) photoinitiator which is an oxime ester compound, A conventionally well-known thing can be used. Among the oxime ester compounds, compounds represented by the following formula (c1) are preferable.
Figure 0005890464

上記式(c1)中、Rc1は、置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基を示す。aは、0又は1である。Rc2は、置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基を示す。Rc3は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。 In the above formula (c1), R c1 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, or an optionally substituted carbazolyl. Indicates a group. a is 0 or 1. R c2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. R c3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent.

c1が置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基である場合、アルキル基が有する置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。 When R c1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms that may have a substituent, the type of substituent that the alkyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.

炭素原子数1〜10のアルキル基が有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。   Examples of suitable substituents that the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may have include an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and 3 to 3 carbon atoms. 10 cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 20 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy groups having 2 to 20 carbon atoms, and substituents. Good phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted phenylthio group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, substituted Benzoyloxy group which may have a group, phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy which may have a substituent Group, substituent An optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, and an optionally substituted naphthylalkyl having 11 to 20 carbon atoms Group, optionally substituted heterocyclyl group, optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, amino group, amino group substituted with 1 or 2 organic groups, morpholin-1-yl group, and piperazine Examples include a -1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group.

炭素原子数1〜10のアルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよい。この場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましい。   The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear or branched. In this case, 1-8 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable.

c1が、置換基を有してもよいフェニル基である場合、置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基が有していてもよい置換基の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc1が、置換基を有してもよいフェニル基であり、フェニル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 When R c1 is a phenyl group which may have a substituent, the type of the substituent is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Suitable examples of the substituent that the phenyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocycle which may have a substituent Group, an amino group, 1 or 2 of the organic amino group substituted with groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group, a halogen, and nitro group, and a cyano group. When R c1 is a phenyl group which may have a substituent, and the phenyl group has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

フェニル基が有する置換基がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6がさらに好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。また、アルキル基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。フェニル基が有する置換基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。この場合、フェニル基が有する置換基としては、例えば、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がアルコキシアルキル基である場合、−Rc4−O−Rc5で表される基が好ましい。Rc4は、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基である。Rc5は、炭素原子数1〜10の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキル基である。Rc4の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rc5の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When the substituent which a phenyl group has is an alkyl group, 1-20 are preferable, 1-10 are more preferable, 1-10 are more preferable, 1-6 are more preferable, 1-3 are especially preferable, and 1 is the most preferable. . In addition, the alkyl group may be linear or branched. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group , Isononyl group, n-decyl group, and isodecyl group. The alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. In this case, examples of the substituent that the phenyl group has include an alkoxyalkyl group and an alkoxyalkoxyalkyl group. When the substituent that the phenyl group has is an alkoxyalkyl group, a group represented by -R c4 -O-R c5 is preferable. R c4 is an alkylene group which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms. R c5 is an alkyl group which may be a straight chain or branched chain having 1 to 10 carbon atoms. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of Rc4 , 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. The number of carbon atoms in R c5 is 1-8, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

フェニル基が有する置換基がアルコキシ基である場合、その炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、アルコキシ基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。フェニル基が有する置換基がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、2−メトキシ−1−メチルエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is an alkoxy group, 1-20 are preferable and 1-6 are more preferable. Further, the alkoxy group may be linear or branched. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert- Butyloxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec Examples include -octyloxy group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. The alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of alkoxy groups having ether linkages in the carbon chain include methoxyethoxy groups, ethoxyethoxy groups, 2-methoxy-1-methylethoxy groups, methoxyethoxyethoxy groups, ethoxyethoxyethoxy groups, propyloxyethoxyethoxy groups, and A methoxypropyloxy group etc. are mentioned.

フェニル基が有する置換基がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、その炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。フェニル基が有する置換基がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3-10 are preferable and 3-6 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group. It is done.

フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、その炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2-20 are preferable and 2-7 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group. Noyl group, n-hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, Examples include an n-pentadecanoyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy Group, 2,2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyl Examples include an oxy group, an n-dodecanoyloxy group, an n-tridecanoyloxy group, an n-tetradecanoyloxy group, an n-pentadecanoyloxy group, and an n-hexadecanoyloxy group.

フェニル基が有する置換基がアルコキシカルボニル基である場合、その炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。フェニル基が有する置換基がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。   When the substituent which a phenyl group has is an alkoxycarbonyl group, 2-20 are preferable and, as for the carbon atom number, 2-7 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group , Sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n -Heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxy group Aryloxycarbonyl group, isononyl oxycarbonyl group, n- decyl oxycarbonyl group, and the like isodecyl oxycarbonyl group.

フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基である場合、その炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。またフェニル基が有する置換基がナフチルアルキル基である場合、その炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。フェニル基が有する置換基がフェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、置換基は、フェニル基又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。   When the substituent which a phenyl group has is a phenylalkyl group, 7-20 are preferable and 7-10 are more preferable. Moreover, when the substituent which a phenyl group has is a naphthyl alkyl group, 11-20 are preferable and 11-14 are more preferable. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when the substituent of the phenyl group is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl. Groups. When the substituent that the phenyl group has is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, the substituent may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

フェニル基が有する置換基がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。フェニル基が有する置換基がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。   When the substituent of the phenyl group is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, such monocycles, or such monocycles and benzene. A heterocyclyl group condensed with a ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When the substituent that the phenyl group has is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

フェニル基が有する置換基が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例としては、フェニル基が有する置換基について上記したものと同様のものが挙げられる。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、β−ナフトイルアミノ基、及びN−アセチル−N−アセチルオキシアミノ基等が挙げられる。   When the substituent of the phenyl group is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms. Group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, An optionally substituted phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, and an optionally substituted carbon Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 to 20 atoms and a heterocyclyl group. Specific examples of these suitable organic groups include the same ones as described above for the substituent of the phenyl group. Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, β-naphthoylamino group, and N-acetyl-N-a And a cetyloxyamino group.

フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基が有する置換基に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。   In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group further include a substituent contained in the substituent of the phenyl group, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy having 1 to 6 carbon atoms. Group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples thereof include a monoalkylamino group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent that the phenyl group has further have a substituent, the number of the substituents is not limited as long as the object of the present invention is not hindered. Is preferred. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent that the phenyl group has have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

以上、Rc1が置換基を有してもよいフェニル基である場合の置換基について説明したが、これらの置換基の中では、アルキル基又はアルコキシアルキル基が好ましい。 As mentioned above, although the substituent in case Rc1 is the phenyl group which may have a substituent was demonstrated , in these substituents, an alkyl group or an alkoxyalkyl group is preferable.

c1が置換基を有してもよいフェニル基である場合、置換基の数と、置換基の結合位置とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。Rc1が、置換基を有してもよいフェニル基である場合、塩基の発生効率に優れる点で、置換基を有してもよいフェニル基は、置換基を有していてもよいo−トリル基であるのが好ましい。 When R c1 is a phenyl group which may have a substituent, the number of substituents and the bonding position of the substituent are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. In the case where R c1 is a phenyl group which may have a substituent, the phenyl group which may have a substituent is an o- which may have a substituent in terms of excellent base generation efficiency. A tolyl group is preferred.

c1が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カルバゾリル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいフェニルカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフチルカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 When R c1 is a carbazolyl group which may have a substituent, the type of the substituent is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a cycloalkyl having 3 to 10 carbon atoms. Group, a cycloalkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a phenylcarbonyl group which may have a substituent, and a substituent An optionally substituted benzoyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, an optionally substituted benzoyloxy group, an optionally substituted phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a substituted group A naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthylcarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent A good naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, an optionally substituted heterocyclyl group, a substituted group An optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group Etc.

c1が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R c1 is a carbazolyl group which may have a substituent, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, carbon atoms A cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, and a substituent. A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a substituent An optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted heterocyclyl group , And substituents Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group which may be included. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

カルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc1が置換基を有してもよいフェニル基である場合の、フェニル基が有する置換基の例と同様である。 Specific examples of the substituent that the carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. R c1 is substituted for an optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthylalkyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, and an amino group substituted with 1 or 2 organic groups. In the case of a phenyl group which may have a group, it is the same as the example of the substituent which the phenyl group has.

c1において、カルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。カルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent when the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in the substituent that the carbazolyl group has in R c1 further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; A benzoyl group; a naphthoyl group; a benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a carbon atom A monoalkylamino group having an alkyl group of 1 to 6; a dialkylamino group having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms; morpholin-1-yl Group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the substituent of the carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1-4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

c2は、置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、又は置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。 R c2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, or an optionally substituted carbazolyl group.

c2が置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基である場合、アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよい。この場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましい。 When R c2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, the alkyl group may be linear or branched. In this case, 1-8 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable.

c2において、アルキル基又はフェニル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
アルキル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
フェニル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、アルキル基が炭素原子上に有してもよい好適な置換基として上記で例示した基に加えて、炭素原子数1〜20のアルキル基が挙げられる。
In R c2 , the substituent that the alkyl group or the phenyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
Examples of suitable substituents that the alkyl group may have on the carbon atom include an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a cyclohexane having 3 to 10 carbon atoms. An alkoxy group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted phenyl group A phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. Benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent, substituted Even if it has a group Naphthoyl group, optionally substituted naphthoxycarbonyl group, optionally substituted naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, substituted A heterocyclyl group which may have a group, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and piperazine-1- Yl group, halogen, nitro group, cyano group and the like.
Examples of suitable substituents that the phenyl group may have on the carbon atom include, in addition to the groups exemplified above as suitable substituents that the alkyl group may have on the carbon atom, the number of carbon atoms 1-20 alkyl groups are mentioned.

アルキル基又はフェニル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc1が置換基を有してもよいフェニル基である場合の、フェニル基が有する置換基の例と同様である。 Specific examples of the substituent that the alkyl group or the phenyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. For a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and an amino group substituted with one or two organic groups, R This is the same as the example of the substituent that the phenyl group has when c1 is a phenyl group that may have a substituent.

c2において、アルキル基又はフェニル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。アルキル基又はフェニル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In R c2 , examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in the substituent of the alkyl group or the phenyl group further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; morpholine -1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the substituent of the alkyl group or phenyl group further have a substituent, the number of substituents is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. ~ 4 is preferred. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

c2が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が有する置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カルバゾリル基が有してもよい置換基の好適な例としては、Rc1が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合の置換基の例と同様である。 When R c2 is a carbazolyl group which may have a substituent, the type of substituent that the carbazolyl group has is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent that the carbazolyl group may have are the same as those of the substituent in the case where R c1 is a carbazolyl group that may have a substituent.

式(c1)で表される化合物の反応性の点から、Rc2としては、下記式(c2):

Figure 0005890464
又は、下記式(c3):
Figure 0005890464
で表される基が好ましい。 From the viewpoint of the reactivity of the compound represented by the formula (c1), R c2 is represented by the following formula (c2):
Figure 0005890464
Or the following formula (c3):
Figure 0005890464
The group represented by these is preferable.

式(c2)中、Rc6及びRc7は、それぞれ1価の有機基であり、bは0又は1である。式(c3)中、Rc8は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、AはS又はOであり、cは0〜4の整数である。 In formula (c2), R c6 and R c7 are each a monovalent organic group, and b is 0 or 1. In formula (c3), R c8 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, A is S or O, and c is 0 to 0. It is an integer of 4.

式(c2)におけるRc6は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rc6の好適な例としては、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R c6 in formula (c2) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired . Preferable examples of R c6 include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 carbon atoms. ~ 20 alkoxycarbonyl groups, optionally substituted phenyl groups, optionally substituted benzoyl groups, optionally substituted phenoxycarbonyl groups, optionally substituted carbons A phenylalkyl group having 7 to 20 atoms, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.

c6の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 Among R c6 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

式(c2)におけるRc7は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc7として好適な基の具体例としては、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc7として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基、及び置換基を有してもよいナフチル基がより好ましく、2−メチルフェニル基及びナフチル基が特に好ましい。 R c7 in formula (c2) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R c7 include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. And a heterocyclyl group which may have As R c7 , among these groups, a phenyl group which may have a substituent and a naphthyl group which may have a substituent are more preferable, and a 2-methylphenyl group and a naphthyl group are particularly preferable.

c6又はRc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc6又はRc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc6又はRc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c6 or R c7 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. , Monocyclic compounds having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Examples include an alkylamino group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c6 or R c7 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1-4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c6 or R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(c3)におけるRc8が有機基である場合、Rc8は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(c3)においてRc8が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基が挙げられる。 When R c8 in formula (c3) is an organic group, R c8 can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired . In the formula (c3), when R c8 is an organic group, preferred examples include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; and a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms. An acyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a -1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Dialkylamino groups having 1-6 alkyl groups; morpholin-1-yl groups; piperazin-1-yl groups; halogens; nitro groups; cyano groups; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group.

c8の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In Rc8 , it is substituted by a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group. Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferred.

また、式(c3)において、cは、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1であるのが特に好ましい。cが1である場合、Rc8の結合する位置は、Rc8が結合するフェニル基が硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In the formula (c3), c is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. when c is 1, the binding position of R c8, relative bond which the phenyl group R c8 is bonded is bonded to the sulfur atom is preferably in the para position.

c3は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基である。置換基を有していてもよいフェニル基である場合、フェニル基が有していてもよい置換基は、Rc1が置換基を有していてもよいフェニル基である場合と同様である。Rc3としては、メチル基、エチル基、又はフェニル基が好ましく、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 R c3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an optionally substituted phenyl group. When it is a phenyl group which may have a substituent, the substituent which the phenyl group may have is the same as the case where R c1 is a phenyl group which may have a substituent. R c3 is preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and more preferably a methyl group or a phenyl group.

上記式(c1)で表されるオキシムエステル化合物は、aが0である場合、例えば、以下に説明する方法により合成できる。まず、Rc2−CO−Rc1で表されるケトン化合物を、ヒドロキシルアミンによりオキシム化して、Rc2−(C=N−OH)−Rc1で表されるオキシム化合物を得る。次いで、得られたオキシム化合物を、Rc3−CO−Hal(Halはハロゲンを示す)で表される酸ハロゲン化物や、(Rc3CO)Oで表される酸無水物によりアシルして、aが0である上記式(c1)で表されるオキシムエステル化合物が得られる。 When a is 0, the oxime ester compound represented by the above formula (c1) can be synthesized, for example, by the method described below. First, a ketone compound represented by R c2 —CO—R c1 is oximed with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by R c2 — (C═N—OH) —R c1 . Next, the obtained oxime compound is acylated with an acid halide represented by R c3 —CO—Hal (Hal represents halogen) or an acid anhydride represented by (R c3 CO) 2 O, An oxime ester compound represented by the above formula (c1) in which a is 0 is obtained.

また、上記式(c1)で表されるオキシムエステル化合物は、aが1である場合、例えば、以下に説明する方法により合成できる。まず、Rc2−CO−CH−Rc1で表されるケトン化合物を、塩酸の存在下に亜硝酸エステルと反応させ、Rc2−CO−(C=N−OH)−Rc1で表されるオキシム化合物を得る。次いで、得られたオキシム化合物を、Rc3−CO−Hal(Halはハロゲンを示す)で表される酸ハロゲン化物や、(Rc3CO)Oで表される酸無水物によりアシルして、aが1である上記式(c1)で表されるオキシムエステル化合物が得られる。 Moreover, when a is 1, the oxime ester compound represented by the said formula (c1) is compoundable by the method demonstrated below, for example. First, a ketone compound represented by R c2 —CO—CH 2 —R c1 is reacted with a nitrite in the presence of hydrochloric acid, and represented by R c2 —CO— (C═N—OH) —R c1. An oxime compound is obtained. Next, the obtained oxime compound is acylated with an acid halide represented by R c3 —CO—Hal (Hal represents halogen) or an acid anhydride represented by (R c3 CO) 2 O, An oxime ester compound represented by the above formula (c1) in which a is 1 is obtained.

上記式(c1)で表される化合物としては、下記式(c4)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0005890464
Examples of the compound represented by the formula (c1) include a compound represented by the following formula (c4).
Figure 0005890464

上記式(c4)中、a、Rc2、及びRc3は上記の通りである。Rc9は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、dは0〜4の整数である。 In the above formula (c4), a, R c2 and R c3 are as described above. R c9 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, and d is an integer of 0-4.

上記式(c4)中、Rc9は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、有機基である場合、種々の有機基から適宜選択される。Rc9の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。sが2〜4の整数である場合、Rc9は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。 In the above formula (c4), R c9 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired , and when it is an organic group, it is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples of R c9 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, It may have a phenoxy group that may have a substituent, a benzoyl group that may have a substituent, a phenoxycarbonyl group that may have a substituent, a benzoyloxy group that may have a substituent, and a substituent. An optionally substituted phenylalkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoxy group, an optionally substituted naphthoyl group, and an optionally substituted naphtho Xyloxycarbonyl group, optionally substituted naphthoyloxy group, optionally substituted naphthylalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, amino group, 1 or 2 Examples include an amino group substituted with an organic group, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group. When s is an integer of 2 to 4, R c9 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent that the substituent further has.

c9がアルキル基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc99がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc9がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc9がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c9 is an alkyl group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c99 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c9 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R c9 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c9がアルコキシ基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc9がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc9がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc9がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c9 is an alkoxy group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Further, when R c9 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R c9 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R c9 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

c9がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3〜10が好ましく、炭素原子数3〜6がより好ましい。Rc9がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc9がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c9 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples in the case where R c9 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where R c9 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

c9が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc9が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc9が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c9 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c9 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R c9 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.

c9がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc9がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c9 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples in the case where R c9 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Examples include an isononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

c9がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7〜20が好ましく、炭素原子数7〜10がより好ましい。またRc9がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11〜20が好ましく、炭素原子数11〜14がより好ましい。Rc9がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rc9がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc9が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc9は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c9 is a phenylalkyl group, 7 to 20 carbon atoms are preferable, and 7 to 10 carbon atoms are more preferable. Further, when R c9 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably from 11 to 20, and more preferably from 11 to 14 carbon atoms. Specific examples in the case where R c9 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R c9 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R c9 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c9 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.

c9がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Rc9がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c9 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles are fused with each other, or such monocycle and a benzene ring. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When R c9 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

c9が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc9と同様である。1又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c9 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R c9 . Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, and n-butyl. Amino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthyl Amino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-deca Examples thereof include a noylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

c9に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc9に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc9に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R c9 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c9 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c9 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

c9の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、及び炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。 Among R c9 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms because it is chemically stable, has few steric hindrances, and is easy to synthesize an oxime ester compound. A group selected from the group consisting of 6 alkoxy groups and saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms is preferred, alkyls having 1 to 6 carbon atoms are more preferred, and methyl groups are particularly preferred.

c9がフェニル基に結合する位置は、Rc9が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を1位とし、メチル基の位置を2位とする場合に、4位、又は5位が好ましく、5位がより好ましい。また、dは、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0又は1が特に好ましい。 Position R c9 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R c9 is attached, the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group 4th or 5th is preferable, and 5th is more preferable. D is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.

上記式(c4)におけるRc3は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基である。Rc3の具体例は、式(c1)について前述した通りである。式(c4)中のRc3としては、メチル基、エチル基、及びフェニル基が好ましく、メチル基、及びフェニル基がより好ましい。 R c3 in the above formula (c4) is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent. Specific examples of R c3 are as described above for the formula (c1). As R c3 in formula (c4), a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group are preferable, and a methyl group and a phenyl group are more preferable.

(C)成分として使用されるオキシムエステル化合物のうち、式(c1)に含まれるが式(c4)に含まれない化合物の、好適例としては以下の化合物が挙げられる。

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Among the oxime ester compounds used as the component (C), preferred examples of the compounds that are included in the formula (c1) but are not included in the formula (c4) include the following compounds.
Figure 0005890464

また、オキシムエステル化合物として特に好適である式(c4)で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記式の化合物が挙げられる。

Figure 0005890464
Among the oxime ester compounds represented by formula (c4) that are particularly suitable as oxime ester compounds, particularly preferred compounds include compounds of the following formulae.
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(C)光重合開始剤は、オキシムエステル化合物のみを含むのが好ましいが、本発明の目的を阻害しない範囲で、オキシムエステル化合物の他の化合物を僅少量含んでいてもよい。具体的には、(C)光重合開始剤は、(C)光重合開始剤の全質量に対して、10質量%以下、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下のオキシムエステル化合物の他の化合物を含んでいてもよい。   The (C) photopolymerization initiator preferably contains only the oxime ester compound, but may contain a small amount of other compounds of the oxime ester compound as long as the object of the present invention is not impaired. Specifically, (C) the photopolymerization initiator is 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, based on the total mass of (C) the photopolymerization initiator. Other compounds of the compound may be included.

(C)光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分の質量に対して0.5〜20質量%であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な塗布性と硬化性とを兼ね備える感光性樹脂組成物を調製しやすい。   (C) It is preferable that content of a photoinitiator is 0.5-20 mass% with respect to the mass of solid content in the photosensitive resin composition. By setting it as said range, it is easy to prepare the photosensitive resin composition which has favorable applicability | paintability and sclerosis | hardenability.

<(D)着色剤>
感光性樹脂組成物としては、(D)着色剤を含まないものも好ましく、(D)着色剤を含んでいるものも好ましい。(D)着色剤を含まない感光性樹脂組成物は、透明な硬化膜を形成できるため、例えば、透明絶縁膜の形成において有用である。(D)着色剤を含む感光性樹脂組成物は、(D)着色剤の色相に応じて種々の色相に着色された硬化膜を形成でき、カラーフィルタや、ブラックカラムスペーサの形成において有用である。
<(D) Colorant>
As the photosensitive resin composition, those containing no (D) colorant are preferred, and those containing (D) a colorant are also preferred. (D) Since the photosensitive resin composition which does not contain a coloring agent can form a transparent cured film, it is useful in the formation of a transparent insulating film, for example. The photosensitive resin composition containing (D) the colorant can form a cured film colored in various hues according to the hue of the (D) colorant, and is useful in the formation of color filters and black column spacers. .

本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される(D)着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)において、ピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを用いるのが好ましい。   The colorant (D) contained in the photosensitive resin composition according to the present invention is not particularly limited. For example, in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), pigment (Pigment) It is preferable to use a compound classified under (), specifically, a compound with a color index (CI) number as shown below.

好適に使用できる黄色顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー1(以下、「C.I.ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73,74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、及び185が挙げられる。   Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, “CI Pigment Yellow” is the same, and only the number is described) 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 , And 185.

好適に使用できる橙色顔料の例としては、C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、及び73が挙げられる。   Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Orange 1 (hereinafter, “CI Pigment Orange” is the same, and only the number is described) 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

好適に使用できる紫色顔料の例としては、C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、及び50が挙げられる。   Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, “CI Pigment Violet” is the same, and only the numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50 Can be mentioned.

好適に使用できる赤色顔料の例としては、C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、及び265が挙げられる。   Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Red 1 (hereinafter, “CI Pigment Red” is the same, and only the number is described) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57: 1, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 1 8, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

好適に使用できる青色顔料の例としては、C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、及び66が挙げられる。   Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. I. Pigment Blue 1 (hereinafter, “CI Pigment Blue” is the same, and only the number is described) 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 , And 66.

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37等の緑色顔料、C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28等の茶色顔料、C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7等の黒色顔料が挙げられる。   Examples of pigments of other hues that can be suitably used include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment Green 37 and other green pigments, C.I. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25, C.I. I. Pigment brown 26, C.I. I. Pigments such as CI Pigment Brown 28, C.I. I. Pigment black 1, C.I. I. And black pigments such as CI Pigment Black 7.

また、(D)着色剤は遮光剤であるのも好ましい。(D)着色剤として遮光剤を含む感光性樹脂組成物を用いることで、好適な特性を備える、ブラックカラムスペーサや、ブラックマトリックス等を形成することができる。着色剤を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。   The colorant (D) is preferably a light-shielding agent. (D) By using a photosensitive resin composition containing a light-shielding agent as a colorant, a black column spacer, a black matrix, or the like having suitable characteristics can be formed. When the colorant is a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment or a purple pigment as the light-shielding agent. Examples of black pigments and purple pigments include carbon black, perylene pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides, composite oxides, metal sulfides In addition, various pigments can be mentioned regardless of organic matter or inorganic matter such as metal sulfate or metal carbonate. Among these, it is preferable to use carbon black having high light shielding properties.

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。   As the carbon black, known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used, but it is preferable to use channel black having excellent light shielding properties. Resin-coated carbon black may also be used.

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。   As the carbon black, carbon black subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity according to the Bronsted definition. Specific examples of the acidic group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation that forms a salt with the acidic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions, and the like, and alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion, lithium ion, and ammonium ion are preferable.

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、感光性樹脂組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の比誘電率が低い点で、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される1種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。   Among the carbon blacks that have been treated to introduce acidic groups as described above, the light-blocking cured film formed using the photosensitive resin composition has a low relative dielectric constant, and thus has a carboxylic acid group and a carboxylic acid group. Carbon black having one or more functional groups selected from the group consisting of a base, a sulfonic acid group, and a sulfonic acid group is preferable.

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
1)濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
2)アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
3)ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
4)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
5)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。
The method for introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. Examples of the method for introducing an acidic group include the following methods.
1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or the like, or an indirect substitution method using sulfite, bisulfite, or the like.
2) A method of diazo coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.
3) A method of reacting an organic compound having a halogen atom and an acidic group with carbon black having a hydroxyl group by Williamson's etherification method.
4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.
5) A method of performing deprotection after performing a Friedel-Crafts reaction on carbon black using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group.

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法2)が好ましい。方法2)で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、4−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。   Among these methods, the method 2) is preferred because the acidic group introduction treatment is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in the method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzene sulfonic acids such as sulfanilic acid and aminobenzoic acids such as 4-aminobenzoic acid.

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック100gに対して、1〜200mmolが好ましく、5〜100mmolがより好ましい。   The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1-200 mmol is preferable with respect to 100 g of carbon black, and, as for the number of moles of the acidic group introduce | transduced into carbon black, 5-100 mmol is more preferable.

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物を用いる場合、遮光性及び絶縁性に優れ、表面反射率が低い遮光性の硬化膜を形成しやすい。なお、樹脂による被覆処理によって、感光性樹脂組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の誘電率に対する悪影響は特段生じない。カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、1〜30質量%が好ましい。
Carbon black introduced with acidic groups may be coated with a resin.
When a photosensitive resin composition containing carbon black coated with a resin is used, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding properties and insulating properties and low surface reflectance. In addition, the bad influence with respect to the dielectric constant of the light-shielding cured film formed using a photosensitive resin composition does not produce especially by the coating process by resin. Examples of resins that can be used to coat carbon black include thermosetting resins such as phenolic resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyphtal resin, epoxy resin, alkylbenzene resin, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, poly Examples thereof include thermoplastic resins such as butylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyamino bismaleimide, polyether sulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, and polyether ether ketone. The coating amount of the resin on the carbon black is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total mass of the carbon black and the mass of the resin.

また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式(d−1)で表されるペリレン系顔料、下記式(d−2)で表されるペリレン系顔料、及び下記式(d−3)で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、BASF社製の製品名K0084、及びK0086や、ピグメントブラック21、30、31、32、33、及び34等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。   A perylene pigment is also preferable as the light-shielding agent. Specific examples of the perylene pigment include the perylene pigment represented by the following formula (d-1), the perylene pigment represented by the following formula (d-2), and the following formula (d-3). Perylene pigments. As commercial products, product names K0084 and K0086 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene pigments.

Figure 0005890464
式(d−1)中、Rd1及びRd2は、それぞれ独立に炭素原子数1〜3のアルキレン基を表し、Rd3及びRd4は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。
Figure 0005890464
In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or Represents an acetyl group.

Figure 0005890464
式(d−2)中、Rd5及びRd6は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜7のアルキレン基を表す。
Figure 0005890464
In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.

Figure 0005890464
式(d−3)中、Rd7及びRd8は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜22のアルキル基であり、N,O、S、又はPのヘテロ原子を含んでいてもよい。Rd7及びRd8がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Figure 0005890464
In formula (d-3), R d7 and R d8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S, or P heteroatoms. Good. When R d7 and R d8 are alkyl groups, the alkyl group may be linear or branched.

上記の式(d−1)で表される化合物、式(d−2)で表される化合物、及び式(d−3)で表される化合物は、例えば、特開昭62−1753号公報、特公昭63−26784号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−3,5,9,10−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。   Examples of the compound represented by the formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2), and the compound represented by the formula (d-3) include, for example, JP-A-62-17353. Can be synthesized using the method described in JP-B 63-26784. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or a dianhydride thereof and an amine are used as raw materials, and a heating reaction is performed in water or an organic solvent. The target product can be obtained by reprecipitation of the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallization in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.

感光性樹脂組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。   In order to satisfactorily disperse the perylene pigment in the photosensitive resin composition, the average particle size of the perylene pigment is preferably 10 to 1000 nm.

遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、15質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。   The light-shielding agent may contain a dye having a hue such as red, blue, green, and yellow together with the black pigment and the purple pigment for the purpose of adjusting the color tone. The pigment of other hues of the black pigment and the purple pigment can be appropriately selected from known pigments. For example, the above-mentioned various pigments can be used as the coloring matter of other hues of black pigments and purple pigments. The amount of the dye having a hue other than the black pigment or the purple pigment is preferably 15% by mass or less and more preferably 10% by mass or less with respect to the total mass of the light shielding agent.

上記の(D)着色剤を感光性樹脂組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、(D)着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。   In order to uniformly disperse the colorant (D) in the photosensitive resin composition, a dispersant may be further used. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the colorant (D), it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は2種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との質量の合計に対して、有機顔料を10〜80質量%の範囲で用いることが好ましく、20〜40質量%の範囲で用いることがより好ましい。   In addition, each of the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more. It is preferably used in the range, and more preferably in the range of 20 to 40% by mass.

感光性樹脂組成物における(D)着色剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、感光性樹脂組成物中の固形分の質量に対して、5〜70質量%が好ましく、25〜60質量%がより好ましい。   The amount of the colorant (D) used in the photosensitive resin composition can be appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention. Typically, the amount used is 5 with respect to the mass of the solid content in the photosensitive resin composition. -70 mass% is preferable, and 25-60 mass% is more preferable.

(D)着色剤は、分散剤を用いて適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。   (D) It is preferable to add the colorant to the photosensitive resin composition after making the dispersion liquid dispersed at an appropriate concentration using a dispersant.

<(S)有機溶剤>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、塗布性の改善や、粘度調整のため、(S)有機溶剤(以下、「(S)成分」ともいう。)を含むことが好ましい。
<(S) Organic solvent>
The photosensitive resin composition according to the present invention preferably contains (S) an organic solvent (hereinafter, also referred to as “component (S)”) for improving coating properties and adjusting viscosity.

有機溶剤として具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;等が挙げられる。これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。これらの溶剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the organic solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n- Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether , Dipropylene glycol monomethyl ether, (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monoethyl ether acetate Diethylene Other ethers such as recall dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, etc. Alkyl 2-lactic acid esters; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxy Ethyl acetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3- Methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-butyrate Other esters such as -propyl, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate; toluene, xylene Aromatic hydrocarbons such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, amides such as N, N-dimethylacetamide, and the like. Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, other ethers described above, alkyl lactate esters, and other esters described above are preferable, alkylene glycol monoalkyl ether acetates described above. Other ethers and other esters described above are more preferred. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

(S)成分の含有量は、特に限定されず、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。感光性樹脂組成物の粘度は5〜500cpであることが好ましく、10〜50cpであることがより好ましく、20〜30cpであることがさらに好ましい。また、固形分濃度は5〜100質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。   The content of the component (S) is not particularly limited, and is a concentration that can be applied to a substrate or the like, and is appropriately set according to the coating film thickness. The viscosity of the photosensitive resin composition is preferably 5 to 500 cp, more preferably 10 to 50 cp, and still more preferably 20 to 30 cp. Moreover, it is preferable that solid content concentration is 5-100 mass%, and it is more preferable that it is 20-50 mass%.

<その他の成分>
本発明に係る感光性樹脂組成物には、必要に応じて、界面活性剤、密着性向上剤、熱重合禁止剤、消泡剤等の添加剤を含有させることができる。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられ、密着性向上剤としては、従来公知のシランカップリング剤が挙げられ、熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられ、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系化合物等が挙げられる。
<Other ingredients>
The photosensitive resin composition according to the present invention may contain additives such as a surfactant, an adhesion improver, a thermal polymerization inhibitor, and an antifoaming agent as necessary. Any additive can be used as the additive. Examples of the surfactant include anionic, cationic, and nonionic compounds, examples of the adhesion improver include conventionally known silane coupling agents, and examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone mono Examples of the antifoaming agent include silicone-based and fluorine-based compounds.

<感光性樹脂組成物の調製方法>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、上記各成分を3本ロールミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合(分散・混練)し、必要に応じて5μmメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。
<Method for preparing photosensitive resin composition>
The photosensitive resin composition according to the present invention is prepared by mixing (dispersing and kneading) each of the above components with a stirrer such as a three-roll mill, a ball mill, or a sand mill and, if necessary, filtering with a filter such as a 5 μm membrane filter. can do.

≪絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサ、これらの形成方法、並びにこれらを備える表示装置≫
絶縁膜は、(D)着色剤を含まない感光性樹脂組成物を用いて形成されることを除き、従来の絶縁膜と同様である。カラーフィルタは、(D)着色剤を含む感光性樹脂組成物を用いて形成されることを除き、従来のカラーフィルタと同様である。ブラックマトリックス及びブラックカラムスペーサは、(D)着色剤として遮光剤を含む感光性樹脂組成物から形成されたことを除き、従来のブラックマトリックス及びブラックカラムスペーサと同様である。また、表示装置は、前述の絶縁膜を備えること、又は前述のカラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサのうちの少なくの一つを備えることを除き、従来の表示装置と同様である。
≪Insulating film, color filter, black matrix, black column spacer, formation method thereof, and display device including them≫
The insulating film is the same as the conventional insulating film except that it is formed using a photosensitive resin composition not containing (D) a colorant. The color filter is the same as the conventional color filter except that it is formed using a photosensitive resin composition containing (D) a colorant. The black matrix and the black column spacer are the same as the conventional black matrix and the black column spacer except that the black matrix and the black column spacer are formed from a photosensitive resin composition containing a light-shielding agent as a colorant (D). The display device is the same as the conventional display device except that the display device includes the above-described insulating film or includes at least one of the above-described color filter, black matrix, and black column spacer.

前述の感光性樹脂組成物を用いる、絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサの形成方法は特に限定されない。典型的な、絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサの形成方法としては、感光性樹脂組成物を所定の基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、感光性樹脂層を所定のブラックカラムスペーサのパターンに応じて露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂層を現像して、ブラックカラムスペーサのパターンを形成する現像工程と、を含む方法が挙げられる。   A method for forming the insulating film, the color filter, the black matrix, and the black column spacer using the above-described photosensitive resin composition is not particularly limited. As a typical method for forming an insulating film, a color filter, a black matrix, and a black column spacer, a photosensitive resin composition is applied on a predetermined substrate, and a photosensitive resin layer is formed. There is a method including an exposure step of exposing the resin layer according to a predetermined black column spacer pattern and a development step of developing the exposed photosensitive resin layer to form a black column spacer pattern.

まず、塗布工程では、絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、又はブラックカラムスペーサが形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて本発明に係る感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥により溶媒を除去して、感光性樹脂層を形成する。   First, in the coating process, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, a bar coater or a spinner (rotary coating device) is formed on a substrate on which an insulating film, a color filter, a black matrix, or a black column spacer is to be formed. ), The photosensitive resin composition according to the present invention is applied using a non-contact coating apparatus such as a curtain flow coater, and the solvent is removed by drying as necessary to form a photosensitive resin layer.

次いで、露光工程では、ネガ型のマスクを介して、感光性樹脂層に紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射し、感光性樹脂層をブラックカラムスペーサのパターンに応じて部分的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば10〜600mJ/cm程度が好ましい。 Next, in the exposure process, the photosensitive resin layer is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light through a negative mask, and the photosensitive resin layer is partially exposed according to the pattern of the black column spacer. To do. For the exposure, a light source that emits ultraviolet rays such as a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, or a carbon arc lamp can be used. The amount of exposure varies depending on the composition of the photosensitive resin composition, but is preferably about 10 to 600 mJ / cm 2 , for example.

なお、基板がTFT基板等の、その表面に素子を備える基板上にブラックカラムスペーサを形成する場合、素子上又は、素子が形成された基板と対になる基板の素子と対向する個所にブラックカラムスペーサを形成する必要がある場合がある。かかる場合、素子の高さを考慮して、素子が形成された個所と、その他の個所とで、ブラックカラムスペーサの高さを変える必要がある。そこで、このような場合には、ハーフトーンマスクを介して露光を行うのが好ましい。   When a black column spacer is formed on a substrate having an element on its surface, such as a TFT substrate, the black column is placed on the element or at a position facing the element on the substrate that is paired with the element-formed substrate. It may be necessary to form spacers. In such a case, it is necessary to change the height of the black column spacer between the part where the element is formed and the other part in consideration of the height of the element. Therefore, in such a case, it is preferable to perform exposure through a halftone mask.

次いで、現像工程では、露光後の感光性樹脂層を現像液で現像することにより、所定の形状にパターン化された絶縁膜、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、又はブラックカラムスペーサが形成される。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。   Next, in the developing step, the exposed photosensitive resin layer is developed with a developer, thereby forming an insulating film, a color filter, a black matrix, or a black column spacer patterned in a predetermined shape. The development method is not particularly limited, and an immersion method, a spray method, or the like can be used. Specific examples of the developer include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and quaternary ammonium salts.

その後、現像後のブラックカラムスペーサにポストベークを施して加熱硬化する。ポストベークは、150〜250℃で15〜60分間が好ましい。   Thereafter, the black column spacer after development is post-baked and cured by heating. Post baking is preferably performed at 150 to 250 ° C. for 15 to 60 minutes.

このようにして形成される、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、及びブラックカラムスペーサは、現像後の基板からの剥離が抑制されており、ポストベークや、パネル加工時の加熱によっても形状変化や表面での微細な皺の発生を起こしにくいため、画像表示装置用のパネルの構成部材として好適に使用される。特に、以上説明した感光性樹脂組成物を用いる場合、直進性に優れるパターンを形成できるため、カラーフィルタやブラックマトリックスはパターンの直進性の点でも画像表示装置用パネルの構成部材として好適である。   The color filter, black matrix, and black column spacer formed in this manner are prevented from being peeled off from the substrate after development, and the shape change or surface change due to post-baking or heating during panel processing. Since it is difficult to cause generation of fine wrinkles, it is preferably used as a constituent member of a panel for an image display device. In particular, when the photosensitive resin composition described above is used, a pattern having excellent straightness can be formed. Therefore, a color filter or a black matrix is suitable as a constituent member of a panel for an image display device from the viewpoint of straightness of the pattern.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

<アルカリ可溶性樹脂>
実施例及び比較例では、アルカリ可溶性樹脂としてR1〜R4を用いた。R1は、下記合成例に従って調製された。R2〜R3は、下式で表される樹脂である。下式中、各単位の右下の数字は、樹脂中の各単位の含有量(質量%)を意味する。R1〜R4の質量平均分子量は下記の通りである。
(R1〜R4の質量平均分子量)
R1:3,000
R2:15,000
R3:8,000
R4:15,000
<Alkali-soluble resin>
In Examples and Comparative Examples, R1 to R4 were used as alkali-soluble resins. R1 was prepared according to the following synthesis example. R2 to R3 are resins represented by the following formula. In the following formula, the number on the lower right of each unit means the content (% by mass) of each unit in the resin. The mass average molecular weights of R1 to R4 are as follows.
(Mass average molecular weight of R1 to R4)
R1: 3,000
R2: 15,000
R3: 8,000
R4: 15,000

Figure 0005890464
(R3において、Zは、下記Z1又はZ2である)
Figure 0005890464
(In R3, Z is the following Z1 or Z2)

Figure 0005890464
Figure 0005890464

〔樹脂(R1)合成例〕
まず、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量235)235g、テトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール100mg、及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまでに12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式(a−4)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
[Resin (R1) Synthesis Example]
First, in a 500 ml four-necked flask, 235 g of bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid Was heated and dissolved at 90 to 100 ° C. while blowing air at a rate of 25 ml / min. Next, the temperature was gradually raised while the solution was clouded, and the solution was heated to 120 ° C. to be completely dissolved. At this time, the solution gradually became transparent and viscous, but stirring was continued as it was. During this time, the acid value was measured, and heating and stirring were continued until the acid value was less than 1.0 mgKOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target value. And it cooled to room temperature and obtained the bisphenol fluorene type epoxy acrylate represented by the following transparent formula (a-4) colorless and transparent.

Figure 0005890464
Figure 0005890464

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート307.0gに3−メトキシブチルアセテート600gを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物80.5g及び臭化テトラエチルアンモニウム1gを混合し、徐々に昇温して110〜115℃で4時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸38.0gを混合し、90℃で6時間反応させ、樹脂(R1)を得た。酸無水物基の消失はIRスペクトルにより確認した。なお、この樹脂(R1)は、上記式(a−1)で表される樹脂に相当する。   Next, after adding 600 g of 3-methoxybutyl acetate to 307.0 g of the bisphenolfluorene type epoxy acrylate thus obtained and dissolving, 80.5 g of benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were added. The mixture was gradually heated and reacted at 110 to 115 ° C. for 4 hours. After confirming disappearance of the acid anhydride group, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain a resin (R1). The disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum. In addition, this resin (R1) is corresponded to resin represented by the said Formula (a-1).

<光重合性化合物>
光重合性化合物としては、6官能性化合物として、下記式(I−2)で表される化合物であるHM1〜HM3と、HM4(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)とを用いた。HM1について、q1、q2、q3、q4,q5、及びq6の和は2である。HM2について、q1、q2、q3、q4,q5、及びq6の和は4である。HM3について、q1、q2、q3、q4,q5、及びq6の和は6である。また、1又は2官能性化合物として、下記のMM1〜MM3、及びDM1〜DM3を用いた。

Figure 0005890464
(式(I−2)中、q1、q2、q3、q4、q5、及びq6はそれぞれ0〜5の整数であり、q1、q2、q3、q4、q5、及びq6の和は、2〜6の整数である。) <Photopolymerizable compound>
As the photopolymerizable compound, HM1 to HM3, which are compounds represented by the following formula (I-2), and HM4 (dipentaerythritol hexaacrylate) were used as hexafunctional compounds. For HM1, the sum of q1, q2, q3, q4, q5, and q6 is 2. For HM2, the sum of q1, q2, q3, q4, q5, and q6 is 4. For HM3, the sum of q1, q2, q3, q4, q5, and q6 is 6. The following MM1 to MM3 and DM1 to DM3 were used as mono- or bifunctional compounds.
Figure 0005890464
(In Formula (I-2), q1, q2, q3, q4, q5, and q6 are each an integer of 0-5, and the sum of q1, q2, q3, q4, q5, and q6 is 2-6. Is an integer.)

MM1:ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアクリレート
MM2:n−ブチルアクリレート
MM3:テトラエチレングリコールモノメチルエーテルモノアクリレート
DM1:ジエチレングリコールジアクリレート
DM2:1,4−ブタンジオールジアクリレート
DM3:テトラエチレングリコールジアクリレート
MM1: diethylene glycol monomethyl ether monoacrylate MM2: n-butyl acrylate MM3: tetraethylene glycol monomethyl ether monoacrylate DM1: diethylene glycol diacrylate DM2: 1,4-butanediol diacrylate DM3: tetraethylene glycol diacrylate

<光重合開始剤>
実施例及び比較例では、光重合開始剤として、以下のPI−A、及びPI−Bを用いた。

Figure 0005890464
<Photopolymerization initiator>
In Examples and Comparative Examples, the following PI-A and PI-B were used as photopolymerization initiators.
Figure 0005890464

<着色剤>
実施例及び比較例では、着色剤としてカーボンブラック(CFブラック、御国色素製)を用いた。
<Colorant>
In Examples and Comparative Examples, carbon black (CF black, manufactured by Gokoku Dye) was used as a colorant.

〔実施例1〜19、及び比較例1〜6(非着色感光性樹脂組成物)〕
それぞれ表1に記載の種類及び量の(A)アルカリ可溶性樹脂((A)成分)と、(B)光重合性化合物((B)成分)と、(C)光重合開始剤((C)成分)とを、固形分濃度が15質量%となるように混合溶媒(組成:メチルエチルジグリコール60質量%、プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量%)に溶解させて、各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を得た。
[Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 6 (non-colored photosensitive resin composition)]
(A) Alkali-soluble resin (component (A)), (B) photopolymerizable compound (component (B)), and (C) photopolymerization initiator ((C), each of the types and amounts listed in Table 1. Ingredients) are dissolved in a mixed solvent (composition: methyl ethyl diglycol 60% by mass, propylene glycol monomethyl ether 40% by mass) so that the solid content concentration is 15% by mass. A functional resin composition was obtained.

<パターン直進性評価>
感光性樹脂組成物を、ガラス基板(100mm×100mm)上にスピンコーターを用いて塗布し、90℃で120秒間プリベークを行い、膜厚1.0μmの塗布膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光ギャップを50μmとして、幅10μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗布膜に紫外線を照射した。露光量は、20、40、60、80mJ/cmの4段階とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
形成されたラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン直進性を評価した。パターン直進性は、ラインのエッジにがたつきがないものを「○」、がたつきがあるものを「×」として評価した。パターン直進性の評価結果を表2に記す。
<Pattern straightness evaluation>
The photosensitive resin composition was applied onto a glass substrate (100 mm × 100 mm) using a spin coater and pre-baked at 90 ° C. for 120 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 μm. Next, using a mirror projection aligner (product name: TME-150 RTO, manufactured by Topcon Corporation), the exposure gap was 50 μm, and the coating film was irradiated with ultraviolet rays through a negative mask having a line pattern with a width of 10 μm. The exposure amount was set in four stages of 20 , 40, 60, and 80 mJ / cm 2 . The exposed coating film was developed with a 0.04 mass% KOH aqueous solution at 26 ° C. for 40 seconds and then post-baked at 230 ° C. for 30 minutes to form a line pattern.
The formed line pattern was observed with an optical microscope, and pattern straightness was evaluated. The straightness of the pattern was evaluated as “◯” when the edge of the line is not wobbled, and “x” when the line is wobbled. Table 2 shows the evaluation results of the pattern straightness.

<パターン剥がれ評価>
パターン直進性評価と同様にして、露光量を、40、60、80、120mJ/cmの4段階に変えてラインパターンを形成した。ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、基板からのラインパターンの剥がれや、ラインパターンの欠けの有無を確認した。ラインパターンの剥がれや欠けが観察されなかった場合を「○」と評価し、ラインパターンの剥がれや欠けが観察された場合を「×」と評価した。パターン剥がれの評価結果を表2に記す。
<Pattern peeling evaluation>
In the same manner as the pattern straightness evaluation, a line pattern was formed by changing the exposure amount into four stages of 40, 60, 80, and 120 mJ / cm 2 . The line pattern was observed with an optical microscope, and the presence or absence of peeling of the line pattern from the substrate or chipping of the line pattern was confirmed. The case where no peeling or chipping of the line pattern was observed was evaluated as “◯”, and the case where the peeling or chipping of the line pattern was observed was evaluated as “x”. The evaluation results of pattern peeling are shown in Table 2.

<加熱後パターン形状>
露光量を120mJ/cmとした以外はパターン直進性評価と同様にして、ラインパターンを形成した。
ポストベーク後のパターンの断面を電子顕微鏡により観察し、基板表面とパターン側面とのなす角のうち鋭角であるテーパー角を求めた。求められたテーパー角より、以下の基準に従って、加熱後のパターン形状の良否を評価した。加熱後のパターンの形状の評価結果を表2に記す。
◎:テーパー角が80°以上90°以下
○:テーパー角が60°以上80°未満
△:テーパー角が40°以上60°未満
×:テーパー角が40°未満
<Pattern shape after heating>
A line pattern was formed in the same manner as the pattern straightness evaluation except that the exposure amount was 120 mJ / cm 2 .
The cross section of the pattern after post-baking was observed with an electron microscope, and the taper angle, which is an acute angle among the angles formed by the substrate surface and the pattern side surfaces, was determined. From the obtained taper angle, the quality of the pattern shape after heating was evaluated according to the following criteria. Table 2 shows the evaluation results of the shape of the pattern after heating.
◎: Taper angle of 80 ° or more and 90 ° or less ○: Taper angle of 60 ° or more and less than 80 ° Δ: Taper angle of 40 ° or more and less than 60 ° ×: Taper angle of less than 40 °

<加熱後パターンの表面状態>
加熱後パターン形状の評価と同様にしてパターンを形成した。
加熱後のパターンの表面粗さを触針式膜厚測定値器(Dektak ブルカー社製)により測定した。測定された表面粗さ(Ra(Å))より、以下の基準に従って、加熱後のパターンの表面状態の良否を評価した。加熱後のパターンの表面状態の評価結果を表2に記す。
◎:Raが35Å以下
○:Raが35Å超45Å以下
△:Raが45Å超55Å以下
×:Raが55Å超
<Surface condition of pattern after heating>
A pattern was formed in the same manner as the evaluation of the pattern shape after heating.
The surface roughness of the pattern after heating was measured with a stylus type film thickness measuring device (manufactured by Dektak Bruker). From the measured surface roughness (Ra (Å)), the quality of the surface state of the pattern after heating was evaluated according to the following criteria. The evaluation results of the surface state of the pattern after heating are shown in Table 2.
◎: Ra is 35 Å or less ○: Ra is more than 35 Å 45 Å or less Δ: Ra is more than 45 Å 55 or less ×: Ra is more than 55 Å

Figure 0005890464
Figure 0005890464

Figure 0005890464
Figure 0005890464

実施例1〜19によれば、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、前述の式(I)で表される化合物を含有する(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物を用いることにより、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無く、直進性に優れ、現像後に基板から剥離しにくいパターンを形成できることが分かる。   According to Examples 1 to 19, (A) an alkali-soluble resin having a (meth) acryloyl group or an epoxy group, and (B) a photopolymerizable compound containing the compound represented by the above formula (I), By using a photosensitive resin composition containing (C) a photopolymerization initiator that is an oxime ester compound, the cross-sectional shape is a good rectangle, there are no fine wrinkles on the surface, excellent straightness, and after development. It can be seen that a pattern that is difficult to peel off from the substrate can be formed.

実施例5〜19によれば、(B)光重合化合物として、式(I)で表される化合物と、MM1〜MM3、及びDM1〜DM3のような1官能又は2官能性化合物とを併用することにより、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無いパターンを特に形成しやすいことが分かる。   According to Examples 5 to 19, (B) As the photopolymerizable compound, a compound represented by the formula (I) and a monofunctional or bifunctional compound such as MM1 to MM3 and DM1 to DM3 are used in combination. Thus, it can be seen that it is particularly easy to form a pattern having a favorable cross-sectional shape and having no fine wrinkles on the surface.

比較例1〜3によれば、感光性樹脂組成物が、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含んでいても、式(I)で表される化合物を(B)光重合性化合物として含有しない場合、パターン形成時の加熱によってパターン断面におけるテーパー角が著しく低下し、パターンの矩形性が大きく損なわれることが分かる。   According to Comparative Examples 1 to 3, the photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin having a (meth) acryloyl group or an epoxy group, and (C) a photopolymerization initiator that is an oxime ester compound. However, when the compound represented by the formula (I) is not contained as the photopolymerizable compound (B), the taper angle in the pattern cross section is remarkably lowered by heating during pattern formation, and the rectangularity of the pattern is greatly impaired. I understand.

比較例4〜6によれば、感光性樹脂組成物が、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂を含有しない場合、低露光量では直進性に優れ、基板からの剥離が抑制されたパターンを形成できず、加熱後のパターンの矩形性も大きく損なわれることが分かる。   According to Comparative Examples 4 to 6, when the photosensitive resin composition does not contain (A) an alkali-soluble resin having a (meth) acryloyl group or an epoxy group, it is excellent in straightness at low exposure and peeled from the substrate. It can be seen that a pattern in which the pattern is suppressed cannot be formed, and the rectangularity of the pattern after heating is greatly impaired.

〔実施例20〜39、及び比較例7〜11(非着色感光性樹脂組成物)〕
それぞれ表3に記載の種類及び量の(A)アルカリ可溶性樹脂((A)成分)と、(B)光重合性化合物((B)成分)と、(C)光重合開始剤((C)成分)と、表3に記載の量の(D)着色剤((D)成分)とを、固形分濃度が15質量%となるように混合溶媒(組成:メチルエチルジグリコール60質量%、プロピレングリコールモノメチルエーテル20質量%、シクロヘキサノン20質量%)に溶解させて、各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を得た。
[Examples 20 to 39 and Comparative Examples 7 to 11 (non-colored photosensitive resin composition)]
(A) Alkali-soluble resin (component (A)), (B) photopolymerizable compound (component (B)), and (C) photopolymerization initiator ((C), each of the types and amounts listed in Table 3 Component) and the amount of (D) colorant (component (D)) described in Table 3 in a mixed solvent (composition: 60% by mass of methyl ethyl diglycol, propylene, so that the solid concentration is 15% by mass) Glycol monomethyl ether 20% by mass, cyclohexanone 20% by mass) to obtain photosensitive resin compositions of Examples and Comparative Examples.

得られた感光性樹脂組成物を用いて、前述の方法に従って、パターン直進性、パターン剥がれ、加熱後パターン形状、及び加熱後パターンの表面状態を評価した。なお、パターン直進性評価時の露光量を、30、60、90、120mJ/cmに変更した。これらの評価結果を表4に記す。

Figure 0005890464
Using the obtained photosensitive resin composition, the pattern straightness, pattern peeling, the pattern shape after heating, and the surface state of the pattern after heating were evaluated according to the methods described above. In addition, the exposure amount at the time of pattern straightness evaluation was changed to 30, 60, 90, 120 mJ / cm 2 . These evaluation results are shown in Table 4.
Figure 0005890464

Figure 0005890464
Figure 0005890464

実施例20〜39によれば、感光性樹脂組成物が(D)着色剤を含有する場合であっても、感光性樹脂組成物が、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、前述の式(I)で表される化合物を含有する(B)光重合性化合物と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含有すれば、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無く、直進性に優れ、現像後に基板から剥離しにくいパターンを形成できることが分かる。   According to Examples 20 to 39, even when the photosensitive resin composition contains (D) a colorant, the photosensitive resin composition has a (meth) acryloyl group or an epoxy group (A) alkali. If a soluble resin, (B) a photopolymerizable compound containing the compound represented by the formula (I) and (C) a photopolymerization initiator which is an oxime ester compound are contained, the cross-sectional shape is good. It can be seen that a rectangular pattern having no fine wrinkles on the surface, excellent straightness, and difficult to peel off from the substrate after development can be formed.

実施例23〜39によれば、(B)光重合化合物として、式(I)で表される化合物と、MM1〜MM3、及びDM1〜DM3のような1官能又は2官能性化合物とを併用することにより、断面形状が良好な矩形であって、表面に微細な皺が無いパターンを特に形成しやすいことが分かる。   According to Examples 23 to 39, as the photopolymerizable compound (B), a compound represented by the formula (I) and a monofunctional or bifunctional compound such as MM1 to MM3 and DM1 to DM3 are used in combination. Thus, it can be seen that it is particularly easy to form a pattern having a favorable cross-sectional shape and having no fine wrinkles on the surface.

比較例7及び8によれば、感光性樹脂組成物が、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂と、オキシムエステル化合物である(C)光重合開始剤とを含んでいても、式(I)で表される化合物を(B)光重合性化合物として含有しない場合、パターン形成時の加熱によってパターン断面におけるテーパー角が著しく低下し、パターンの矩形性が大きく損なわれることが分かる。   According to Comparative Examples 7 and 8, the photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin having a (meth) acryloyl group or an epoxy group, and (C) a photopolymerization initiator which is an oxime ester compound. However, when the compound represented by the formula (I) is not contained as the photopolymerizable compound (B), the taper angle in the pattern cross section is remarkably lowered by heating during pattern formation, and the rectangularity of the pattern is greatly impaired. I understand.

比較例9〜11によれば、感光性樹脂組成物が、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有する(A)アルカリ可溶性樹脂を含有しない場合、低露光量では直進性に優れ、基板からの剥離が抑制されたパターンを形成できず、加熱後のパターンの矩形性も大きく損なわれることが分かる。   According to Comparative Examples 9 to 11, when the photosensitive resin composition does not contain (A) an alkali-soluble resin having a (meth) acryloyl group or an epoxy group, it is excellent in straightness at low exposure and peeled from the substrate. It can be seen that a pattern in which the pattern is suppressed cannot be formed, and the rectangularity of the pattern after heating is greatly impaired.

Claims (13)

(A)アルカリ可溶性樹脂と、(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤とを含有し、
前記(A)アルカリ可溶性樹脂が、アクリロイル基又はエポキシ基を有し、
前記(B)光重合性化合物が、下式(I)で表される化合物を含み、
前記(C)光重合開始剤が下記式(c4):
Figure 0005890464
(R c9 は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、aは0又は1であり、dは0〜4の整数であり、R c2 は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、R c3 は、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又は置換基を有してもよいフェニル基である。)
で表されるオキシムエステル化合物を含むオキシムエステル化合物である感光性樹脂組成物。
Figure 0005890464
(式(I)中、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Xは、下式(II):
Figure 0005890464
で表される基又は水素原子であり、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Rは、下式(III):
Figure 0005890464
で表される基であり、pは0〜4の整数であり、qは0〜5の整数であり、式(I)中の6つのXのうちの式(II)で表される基の数は4〜6の整数であり、式(I)中の複数の式(II)で表される基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、式(I)中の複数の式(II)で表される基において全てのqが0であることはなく、式(I)で表される化合物中の−(R−O)−で表される2価基の数と−(R−O)−で表される2価基の数との合計は1以上であり、式(III)中、Rは、水素原子又はメチル基である。)
(A) an alkali-soluble resin, (B) a photopolymerizable compound, and (C) a photopolymerization initiator,
The (A) alkali-soluble resin has an acryloyl group or an epoxy group,
The photopolymerizable compound (B) includes a compound represented by the following formula (I):
The (C) photopolymerization initiator is represented by the following formula (c4):
Figure 0005890464
(R c9 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, amino group, halogen, nitro group, and cyano group, a is 0 or 1, and d is an integer of 0-4. , R c2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent, and R c3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituent Which may have a phenyl group.)
The photosensitive resin composition which is an oxime ester compound containing the oxime ester compound represented by these.
Figure 0005890464
(In the formula (I), R 1 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and X represents the following formula (II):
Figure 0005890464
Or a hydrogen atom, R 2 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 is represented by the following formula (III):
Figure 0005890464
P is an integer of 0 to 4, q is an integer of 0 to 5, and the group represented by the formula (II) among the six Xs in the formula (I) The number is an integer of 4 to 6, and the groups represented by the plurality of formulas (II) in the formula (I) may be the same or different, and the plurality of formulas in the formula (I) In the group represented by (II), not all q are 0, and the number of divalent groups represented by-(R 1 -O)-in the compound represented by formula (I) and- The total number of divalent groups represented by (R 2 —O) — is 1 or more, and in formula (III), R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. )
前記pが0である、請求項1記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition of Claim 1 whose said p is 0. さらに、アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートを含有する、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。 Further, an alkyl (meth) acrylate, a monoalkyl ether mono (meth) acrylate of an alkanediol, a di (meth) acrylate of an alkanediol, a monoalkyl ether mono (meth) acrylate of a polyalkylene oxide, or a di (meta) of a polyalkylene oxide The photosensitive resin composition of Claim 1 or 2 containing an acrylate. 前記アルキル(メタ)アクリレート、アルカンジオールのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、アルカンジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレンオキシドのモノアルキルエーテルモノ(メタ)アクリレート、又はポリアルキレンオキシドのジ(メタ)アクリレートが、下式(IV)で表される化合物、又は(V)で表される化合物の少なくとも一方である請求項に記載の感光性樹脂組成物。
Figure 0005890464
(式(IV)及び式(V)中、Rは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Rは水素原子又はメチル基であり、Rは炭素原子数1〜8の直鎖アルキル基であり、sは0〜9の整数であり、tは1〜9の整数である。)
Alkyl (meth) acrylate, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of alkanediol, di (meth) acrylate of alkanediol, monoalkyl ether mono (meth) acrylate of polyalkylene oxide, or di (meth) of polyalkylene oxide The photosensitive resin composition according to claim 3 , wherein the acrylate is at least one of a compound represented by the following formula (IV) or a compound represented by (V).
Figure 0005890464
(In Formula (IV) and Formula (V), R 5 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 7 is a straight chain having 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group, s is an integer of 0 to 9, and t is an integer of 1 to 9.)
(D)着色剤を含有しない、請求項1〜のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。 (D) The photosensitive resin composition of any one of Claims 1-4 which does not contain a coloring agent. さらに(D)着色剤を含有する、請求項1〜のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。 Furthermore, (D) The photosensitive resin composition of any one of Claims 1-4 containing a coloring agent. 前記(D)着色剤が遮光剤である、請求項に記載の感光性樹脂組成物。 The photosensitive resin composition of Claim 6 whose said (D) coloring agent is a light-shielding agent. 請求項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁膜。 An insulating film formed using the photosensitive resin composition according to claim 5 . 請求項に記載の絶縁膜を備える表示装置。 A display device comprising the insulating film according to claim 8 . 請求項又はに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ。 Color filter formed using the photosensitive resin composition according to claim 6 or 7. 請求項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されたブラックマトリックス。 A black matrix formed using the photosensitive resin composition according to claim 7 . 請求項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されたブラックカラムスペーサ。 A black column spacer formed using the photosensitive resin composition according to claim 7 . 請求項10に記載のカラーフィルタ、請求項11に記載のブラックマトリックス、及び請求項12に記載のブラックカラムスペーサからなる群より選択される1種以上を備える表示装置。
The color filter according to claim 10, the display device comprising at least one selected from the group consisting of black column spacer according black matrix, and to claim 12 of claim 11.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180044813A (en) * 2016-10-24 2018-05-03 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6847580B2 (en) * 2016-02-09 2021-03-24 東京応化工業株式会社 A photosensitive resin composition for a black column spacer, a black column spacer, a display device, and a method for forming the black column spacer.
JP6755822B2 (en) * 2016-03-30 2020-09-16 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. A green photosensitive resin composition, a color filter manufactured by using the green photosensitive resin composition, and a display element including the color filter.
KR20170112959A (en) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 Green colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
WO2017204079A1 (en) * 2016-05-27 2017-11-30 昭和電工株式会社 Photosensitive resin composition for forming black column spacer, black column spacer and image display device
JP7049067B2 (en) * 2017-05-10 2022-04-06 株式会社Adeka Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix and cured product
JP2021109969A (en) * 2020-01-09 2021-08-02 住友化学株式会社 Colored curable composition
KR20220136155A (en) 2021-03-31 2022-10-07 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition for black resist, light-shielding layer cured thereof, and manufacturing method of color filter with them
CN113372757A (en) * 2021-07-29 2021-09-10 业成科技(成都)有限公司 Ultraviolet light curing printing ink

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002341528A (en) * 2001-05-17 2002-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive transfer material and color filter each using the same
JP4442710B2 (en) * 2003-06-10 2010-03-31 三菱化学株式会社 Photopolymerizable composition, color filter and liquid crystal display device
WO2008138724A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
CN101357987B (en) * 2008-09-26 2010-10-27 陕西师范大学 Hexamine type polyethyleneglycol derivatives
JP5396833B2 (en) * 2008-11-28 2014-01-22 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition, spacer and protective film for liquid crystal display element, and method for forming them
JP5535692B2 (en) * 2009-03-17 2014-07-02 富士フイルム株式会社 Colored curable composition, color filter, and method for producing color filter
CN103153952B (en) 2010-10-05 2016-07-13 巴斯夫欧洲公司 The oxime ester derivative of benzo carbazole compound and in photopolymerisable compositions as the purposes of photoinitiator
JP5817562B2 (en) * 2011-03-24 2015-11-18 Jsr株式会社 COLOR FILTER, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
JP5862081B2 (en) * 2011-07-06 2016-02-16 Jsr株式会社 Array substrate, liquid crystal display element, and method of manufacturing array substrate
JP5916373B2 (en) 2011-12-22 2016-05-11 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for black column spacer, black column spacer, display device, and method for forming black column spacer
JP5843604B2 (en) * 2011-12-22 2016-01-13 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for black column spacer, black column spacer, display device, and method for forming black column spacer
KR101225695B1 (en) * 2012-01-20 2013-02-05 (주)휴넷플러스 New high sensitive a-ketoximester photo compounds and photosensitive composition comprising the same
JP6022847B2 (en) 2012-03-28 2016-11-09 東京応化工業株式会社 Insulating film forming photosensitive resin composition, insulating film, and insulating film forming method
KR101374210B1 (en) * 2012-10-24 2014-03-14 타코마테크놀러지 주식회사 New High sensitive a-ketoximester photo compounds and photosensitive composition comprising the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180044813A (en) * 2016-10-24 2018-05-03 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator
KR102071770B1 (en) 2016-10-24 2020-01-30 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator
KR20200010550A (en) * 2016-10-24 2020-01-30 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator
KR102189463B1 (en) 2016-10-24 2020-12-11 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, photopolymerization initiator, and method for preparing photopolymerization initiator

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