JP2018058234A - Hard coat film for bonding of inorganic compound layer, and transparent conductive film and touch panel prepared with the hard coat film - Google Patents

Hard coat film for bonding of inorganic compound layer, and transparent conductive film and touch panel prepared with the hard coat film Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film that has a hard coat layer having improved adhesion to an inorganic compound layer; particularly, the hard coat film shows little change with time and maintains the adhesiveness satisfactorily.SOLUTION: A hard coat film 1 has a hard coat layer 20. The hard coat layer 20 has particles 21 modified so as to have reactivity and a binder resin 22. The content of the particles is 1-60 pts.wt. relative to 100 pts.wt. of the binder resin solid content, and the particles are 1-100 nm in particle diameters. The hard coat layer is provided on a support 10.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電極フィルム、ガスバリアフィルム等に好適な、無機化合物層を接着するためのハードコート層を有するハードコートフィルムに関する。   The present invention relates to a hard coat film having a hard coat layer for bonding an inorganic compound layer, which is suitable for an electrode film, a gas barrier film and the like.

タッチパネルに用いる電極フィルムは、透明基材の表面に積層されたハードコート層上にスパッタリング法によりITO(スズドープ酸化インジウム)を成膜し、ITO膜にエッチングにより電極パターンを形成することにより作成される。
特許文献1は、ハードコート層にITOのような透明導電層を形成した場合に、これらの層が良好な接着性を有するハードコートフィルムの技術を開示している。
ところが、ハードコート層にITOを成膜した電極フィルムでは、ITO膜が存在する部分とITOが除去された部分とに光学特性(透過率、色相、反射率など)の差が生じ、電極パターンが見えてしまう現象が発生し、見栄えが悪くなる。そのため、近年、電極フィルムは、光学特性を調整する光学調整層をハードコート層とITO膜との間に配置する構成をとるようになった。これにより、ITO膜が存在する部分における光学特性と、ITO膜が除去され光学調整層が露出した部分における光学特性との差が小さくなり電極パターンが目立たなくなる。
An electrode film used for a touch panel is formed by forming an ITO (tin-doped indium oxide) film by sputtering on a hard coat layer laminated on the surface of a transparent substrate, and forming an electrode pattern by etching on the ITO film. .
Patent Document 1 discloses a technique of a hard coat film in which, when a transparent conductive layer such as ITO is formed on the hard coat layer, these layers have good adhesiveness.
However, in the electrode film in which ITO is formed on the hard coat layer, a difference in optical characteristics (transmittance, hue, reflectance, etc.) occurs between the portion where the ITO film is present and the portion where the ITO is removed. The phenomenon that you can see occurs, and it looks bad. Therefore, in recent years, electrode films have come to have a configuration in which an optical adjustment layer for adjusting optical characteristics is disposed between a hard coat layer and an ITO film. Thereby, the difference between the optical characteristics in the portion where the ITO film is present and the optical characteristics in the portion where the ITO film is removed and the optical adjustment layer is exposed becomes small, and the electrode pattern becomes inconspicuous.

特開2015−183168号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-183168

上述のようにハードコート層とITO膜との間に光学調整層を有する電極フィルムでは、ハードコート層の上に光学調整層をスパッタリング法により成膜するため、光学調整層との接着性がよいハードコート層を有するフィルムが必要である。特に、電極フィルムの信頼性を高めるために、経時での変化が少なく、光学調整層との接着性が良好に維持されることが望まれる。   As described above, in the electrode film having the optical adjustment layer between the hard coat layer and the ITO film, since the optical adjustment layer is formed on the hard coat layer by the sputtering method, the adhesion to the optical adjustment layer is good. A film having a hard coat layer is required. In particular, in order to increase the reliability of the electrode film, it is desired that the change with time is small and the adhesiveness with the optical adjustment layer is maintained well.

特許文献1は、ハードコート層に所定の疎水化シリカゲルおよび特定のレベリング剤を配合することにより、ハードコート層とITOとの良好な接着性に関して開示しているが、光学調整層との接着性に関しては開示も示唆もしていない。   Patent Document 1 discloses a good adhesion between the hard coat layer and ITO by blending a predetermined hydrophobic silica gel and a specific leveling agent into the hard coat layer, but the adhesion with the optical adjustment layer is disclosed. Is not disclosed or suggested.

そこで、本発明は、無機化合物層との接着性を向上したハードコート層を有するハードコートフィルム(以下、「ハードコートフィルム」)の提供を目的とする。特に、経時での変化が少なく、接着性が良好に維持されるハードコートフィルムの提供を目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a hard coat film (hereinafter referred to as “hard coat film”) having a hard coat layer with improved adhesion to an inorganic compound layer. In particular, an object is to provide a hard coat film that is less changed with time and maintains good adhesion.

本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層上に無機化合物層が接着される。ハードコート層は反応性を有するように修飾された粒子とバインダー樹脂とを含み、前記粒子の含有量が前記バインダー樹脂固形分の100重量部に対して1重量部以上60重量部以下である。   In the hard coat film of the present invention, the inorganic compound layer is bonded onto the hard coat layer. The hard coat layer includes particles modified to have reactivity and a binder resin, and the content of the particles is 1 part by weight or more and 60 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin solid content.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記粒子の平均粒子径が100nm以上1000nm以下である。   In the hard coat film of the present invention, the average particle diameter of the particles is preferably 100 nm or more and 1000 nm or less.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記粒子が一次粒子の凝集体として二次粒子を構成する場合、前記一次粒子の径が1nm以上100nm以下である。   In the hard coat film of the present invention, preferably, when the particles constitute secondary particles as an aggregate of primary particles, the diameter of the primary particles is 1 nm or more and 100 nm or less.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記粒子が、シリカ、アルミナ、チタン、ジルコニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、またはこれらの2以上の組み合わせである。   In the hard coat film of the present invention, preferably, the particles are silica, alumina, titanium, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, or a combination of two or more thereof.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記粒子が、アクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、またはこれらの官能基の2以上の組み合わせを有する。   In the hard coat film of the present invention, preferably, the particles have an acryloyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an isocyanate group, or a combination of two or more of these functional groups.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、JIS−K5600−5−1(1999)に準拠した円筒形マンドレル法で測定した前記ハードコート層の耐屈曲試験の値が6mm以下である。   Moreover, the value of the bending resistance test of the hard coat layer measured by the cylindrical mandrel method according to JIS-K5600-5-1 (1999) is preferably 6 mm or less for the hard coat film of the present invention.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記フィルムに無機化合物層を積層し、煮沸処理した後の砂時計クロスカット剥離試験で、無機化合物層がハードコート層から部分的にしか剥がれていないまたはそれより良好である。   In addition, the hard coat film of the present invention preferably has an inorganic compound layer peeled only partially from the hard coat layer in an hourglass cross-cut peel test after laminating an inorganic compound layer on the film and boiling it. No or better.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記無機化合物層が光学調整層またはガスバリア層である。   In the hard coat film of the present invention, preferably, the inorganic compound layer is an optical adjustment layer or a gas barrier layer.

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記無機化合物がSiOまたはNbOx(但し4≦x≦5)である。 In the hard coat film of the present invention, preferably, the inorganic compound is SiO 2 or Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5).

また、本発明のハードコートフィルムは、好適には、前記無機化合物層が単層または多層で構成される。   In the hard coat film of the present invention, the inorganic compound layer is preferably composed of a single layer or multiple layers.

また、本発明の透明導電性フィルムは、上述した本発明のハードコートフィルムを用いたことを特徴とする。   The transparent conductive film of the present invention is characterized by using the above-described hard coat film of the present invention.

また、本発明のタッチパネルは、上述した本発明のハードコートフィルムを使用したことを特徴とする。   The touch panel of the present invention is characterized by using the above-described hard coat film of the present invention.

本発明によれば、無機化合物層とハードコート層との接着性が向上できる。特に、経時での変化が少なく、接着性が良好に維持される。   According to the present invention, the adhesion between the inorganic compound layer and the hard coat layer can be improved. In particular, there is little change over time, and good adhesion is maintained.

(a)本発明のハードコートフィルムの実施形態の一例を示す断面図、(b)本発明のハードコートフィルムの実施形態の他の例を示す断面図、(c)本発明のハードコートフィルムの実施形態の他の例を示す断面図(A) Sectional drawing which shows an example of embodiment of the hard coat film of this invention, (b) Sectional drawing which shows the other example of embodiment of the hard coat film of this invention, (c) Hard coat film of this invention Sectional drawing which shows the other example of embodiment 無機化合物層が積層されたハードコートフィルムの一例を示す断面図Sectional drawing which shows an example of the hard coat film by which the inorganic compound layer was laminated | stacked 砂時計クロスカット剥離試験における切込みの形状を説明する上面図Top view explaining the shape of the cut in the hourglass crosscut peel test (a)本発明のハードコートフィルムが適用された透明導電性フィルムの一例を示す断面図、(b)透明導電膜がエッチング処理された(a)の透明導電性フィルムの断面構造および透明導電性フィルムの反射した光を説明する図(a) Sectional drawing which shows an example of the transparent conductive film to which the hard coat film of this invention was applied, (b) Sectional structure and transparent conductivity of the transparent conductive film of (a) where the transparent conductive film was etched The figure explaining the light which the film reflected (a)SiO膜がハードコート層上に積層された本発明のハードコートフィルムの断面図、(b)NbOx(但し4≦x≦5)膜およびSiO膜がこの順でハードコート層上に積層された本発明のハードコートフィルムの断面図(a) A cross-sectional view of a hard coat film of the present invention in which an SiO 2 film is laminated on a hard coat layer, (b) an Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5) film and an SiO 2 film are hard coated in this order Sectional view of the hard coat film of the present invention laminated on the layer

以下、図1から5を参照して、本発明の、無機化合物層40を接着するためのハードコートフィルム1の実施の形態について説明する。なお、無機化合物層40は、無機化合物を有する層であれば、無機化合物を含む層の場合でも、無機化合物それ自体の層の場合でもよい。   Hereinafter, an embodiment of the hard coat film 1 for bonding the inorganic compound layer 40 of the present invention will be described with reference to FIGS. The inorganic compound layer 40 may be a layer containing an inorganic compound or a layer containing the inorganic compound itself as long as it is a layer having an inorganic compound.

本発明のハードコートフィルム1は、ハードコート層20を有し、ハードコート層20が反応性を有するように修飾された粒子(反応性修飾粒子)21とバインダー樹脂22とを含み、反応性修飾粒子21の含有量がバインダー樹脂22の100重量部に対して1重量部以上60重量部以下であることを特徴とする。   The hard coat film 1 of the present invention has a hard coat layer 20, includes particles (reactive modified particles) 21 modified so that the hard coat layer 20 has reactivity, and a binder resin 22. The content of the particles 21 is 1 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin 22.

本発明の実施形態は、基本的な構成として、図1(a)に示すように、支持体10と支持体10の上に形成されたハードコート層20とを備える。ハードコートフィルム1は、図1(a)に示すものだけでなく、ハードコート層単層のフィルム(図1(b))であってもよいし、支持体10の、ハードコート層20が形成された面とは反対側の面にバックコート層(図1(c))を備えていてもよい。   As shown in FIG. 1A, the embodiment of the present invention includes a support 10 and a hard coat layer 20 formed on the support 10 as a basic configuration. The hard coat film 1 is not limited to that shown in FIG. 1A, and may be a single hard coat layer film (FIG. 1B), or the hard coat layer 20 of the support 10 is formed. A back coat layer (FIG. 1C) may be provided on the surface opposite to the formed surface.

このようなハードコートフィルム1は、図2に示すように、無機化合物層40がハードコート層20上に積層される。この時、ハードコート層20は無機化合物層40に対して優れた接着性を有する。   In such a hard coat film 1, as shown in FIG. 2, the inorganic compound layer 40 is laminated on the hard coat layer 20. At this time, the hard coat layer 20 has excellent adhesion to the inorganic compound layer 40.

まず、ハードコート層20を構成する反応性修飾粒子21とバインダー樹脂22とについて説明する。   First, the reactive modified particles 21 and the binder resin 22 constituting the hard coat layer 20 will be described.

バインダー樹脂22は、後述する反応性修飾粒子21のバインダーとしての機能を有する。バインダー樹脂22は反応性官能基を有することが望ましい。その場合、反応性修飾粒子21の反応性官能基と結合し、反応性修飾粒子21の脱落を効果的に防止する事が出来る。バインダー樹脂22の反応性官能基としては、アクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。   The binder resin 22 has a function as a binder of the reactive modified particles 21 described later. The binder resin 22 desirably has a reactive functional group. In that case, it can bind to the reactive functional group of the reactive modified particle 21 and effectively prevent the reactive modified particle 21 from falling off. Examples of the reactive functional group of the binder resin 22 include an acryloyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group.

バインダー樹脂22としては、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の樹脂を単独又は2以上組み合わせる事ができ、目的に応じて使い分ける事ができる。中でもより優れた硬度が必要な場合は電離放射線硬化樹脂を使用することが好ましい。   As the binder resin 22, resins such as an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin can be used alone or in combination of two or more, and they can be used properly according to the purpose. Among these, it is preferable to use an ionizing radiation curable resin when higher hardness is required.

電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線(紫外線または電子線)の照射により架橋硬化することができる樹脂を挙げることができ、例えば、1分子中に1又は2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するアクリル樹脂が特に好ましく使用される。このアクリル系化合物としては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include resins that can be crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams). For example, one or two (meth) acryloyl groups are contained in one molecule. The acrylic resin that has is particularly preferably used. Examples of the acrylic compound include urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, polyfluoroalkyl (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate. .

熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。   Examples of the thermosetting resin include polyester acrylate resins, polyurethane acrylate resins, epoxy acrylate resins, epoxy resins, melamine resins, phenol resins, and silicone resins.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂などが挙げられる。   Examples of thermoplastic resins include polyester resins, acrylic resins, polycarbonate resins, cellulose resins, acetal resins, vinyl resins, polyethylene resins, polystyrene resins, polypropylene resins, polyamide resins, and polyimide resins. Examples thereof include resins and fluorine resins.

また、バインダー樹脂22は、高分子量樹脂を一定量含むことが、より好ましい。高分子量樹脂と後述する反応性修飾粒子21とを組み合わせることで、ハードコート層20に、硬度を損なうことなく、ある程度の柔軟性を付与することができ、ハードコート層20に対する無機化合物層40のアンカー効果が高まる。これにより、ハードコート層20と無機化合物層40の接着性がより向上する。
高分子量樹脂とは、重量平均分子量(Mw)が10000以上の樹脂であり、好ましくは10000〜150000、より好ましくは30000〜100000である。
高分子量樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の樹脂を単独又は2以上を組み合わせる事ができる。電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂の例としては、バインダー樹脂22の電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂の例として上記に列挙したものと同様である。
含有量としては、バインダー樹脂22(固形分)100重量部に対して、1重量部以上50重量部以下、より好ましくは5重量部以上40重量部以下である。なお、バインダー樹脂22が高分子量樹脂を含む場合、「バインダー樹脂22(固形分)」とは、高分子量樹脂を含んだバインダー樹脂22全体の固形分をいう。
Moreover, it is more preferable that the binder resin 22 includes a certain amount of a high molecular weight resin. By combining the high molecular weight resin and the reactive modified particles 21 described later, a certain degree of flexibility can be imparted to the hard coat layer 20 without impairing the hardness, and the inorganic compound layer 40 with respect to the hard coat layer 20 can be imparted. Anchor effect increases. Thereby, the adhesiveness of the hard-coat layer 20 and the inorganic compound layer 40 improves more.
The high molecular weight resin is a resin having a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 or more, preferably 10,000 to 150,000, more preferably 30,000 to 100,000.
As the high molecular weight resin, an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like can be used alone or in combination of two or more. Examples of the ionizing radiation curable resin, thermosetting resin, and thermoplastic resin are the same as those listed above as examples of the ionizing radiation curable resin, thermosetting resin, and thermoplastic resin of the binder resin 22.
As content, it is 1 to 50 weight part with respect to 100 weight part of binder resin 22 (solid content), More preferably, it is 5 to 40 weight part. When the binder resin 22 includes a high molecular weight resin, the “binder resin 22 (solid content)” refers to the solid content of the entire binder resin 22 including the high molecular weight resin.

反応性修飾粒子21は、ハードコート層20の無機化合物層40に対する接着性の向上、及び経時での接着性の維持に寄与する。
反応性修飾粒子21は、無機系粒子の表面を修飾処理することにより、無機系粒子の表面に反応性官能基が付与された粒子である。反応性官能基はバインダー樹脂22の反応性官能基と結合することにより、反応性修飾粒子21のハードコート層20からの脱落を防止する。また、反応性官能基を有することにより高温多湿状態でも無機化合物層との接着性を維持することが出来ると推察される。
無機系粒子の一例として、シリカ、アルミナ、チタン、ジルコニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム等があげられ、これら無機系粒子を単独又は2以上組み合わせて使用することが出来る。反応性官能基としては、例えばアクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基等を例示することができ、単独およびこれらの反応性官能基の2以上を組み合わせて使用することが出来る。
The reactive modified particles 21 contribute to improving the adhesion of the hard coat layer 20 to the inorganic compound layer 40 and maintaining the adhesion over time.
The reactive modified particle 21 is a particle in which a reactive functional group is added to the surface of the inorganic particle by modifying the surface of the inorganic particle. The reactive functional group is bonded to the reactive functional group of the binder resin 22, thereby preventing the reactive modified particles 21 from falling off the hard coat layer 20. Moreover, it is guessed that adhesiveness with an inorganic compound layer can be maintained even in a high temperature and high humidity state by having a reactive functional group.
Examples of inorganic particles include silica, alumina, titanium, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, and the like, and these inorganic particles can be used alone or in combination of two or more. Examples of the reactive functional group include an acryloyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group, and these can be used alone or in combination of two or more of these reactive functional groups. I can do it.

反応性修飾粒子21の含有量は、無機化合物層40への接着性を発揮させるために、反応性修飾粒子21の下限値がバインダー樹脂22(固形分)の100重量部に対して1重量部以上、好ましくは3重量部以上、より好ましくは5重量部以上、もっとも好ましくは10重量部以上である。一方、反応性修飾粒子21の上限値は特に決まっていないが、バインダー樹脂22(固形分)の100重量部に対して60重量部以下、好ましくは40重量部以下、より好ましくは30重量部以下である。
反応性修飾粒子21の含有量が上述した範囲より少ない場合は、無機化合物層40との接着性が弱くなりやすい。一方、上述した範囲より多い場合は、透明性を保つことが困難となり好ましくない。
The content of the reactive modified particle 21 is 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin 22 (solid content) so that the lower limit of the reactive modified particle 21 is 100 parts by weight of the binder resin 22 (solid content). Above, preferably 3 parts by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, and most preferably 10 parts by weight or more. On the other hand, the upper limit value of the reactive modified particles 21 is not particularly determined, but is 60 parts by weight or less, preferably 40 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin 22 (solid content). It is.
When the content of the reactive modified particles 21 is less than the above range, the adhesion with the inorganic compound layer 40 tends to be weak. On the other hand, when the amount is larger than the above range, it is difficult to maintain transparency, which is not preferable.

反応性修飾粒子21は、所定の大きさであれば、一次粒子でも凝集体である二次粒子であってもかまわないが、より接着性を得る為には、二次粒子の方が好ましい。一次粒子の凝集体である二次粒子を反応性修飾粒子21として使用した場合、単に同等の大きさの一次粒子を使用した場合よりも、接着性が向上する理由については、はっきりとしていないが、表面に突出した粒子の無機化合物層40との接触面積が増える為ではないかと考えられる。
反応性修飾粒子21の平均粒子径(一次粒子又は一次粒子からなる凝集体としての二次粒子を含む)は、ハードコート層20の厚みによって異なるため、一概には言えないが、下限値が100nm以上、好ましくは、110nm以上、より好ましくは、130nm以上である。また上限値が、1000nm以下、好ましくは、800nm以下、より好ましくは、600nm以下である。さらに上記の内、反応性修飾粒子21が一次粒子の凝集体としての二次粒子で構成される場合、その二次粒子の構成物である一次粒子の平均粒子径は、下限値が1nm以上、好ましくは、20nm以上、より好ましくは、30nm以上である。また上限値が、100nm以下、好ましくは、80nm以下、より好ましくは、60nm以下である。
反応性修飾粒子21の平均粒子径あるいは反応性修飾粒子21が二次粒子で構成される場合は一次粒子の平均粒子径を上述した下限値以上とすることにより、無機化合物層40に対する接着性を得ることができる。一方、これらの平均粒子径をそれぞれ上述した上限値以下とすることにより、透明用途に使用できる光透過性を得ることができる。
なお、粒子の平均粒子径はレーザー回析・散乱法により測定できる体積平均粒子径(D50)の値を指す。
The reactive modified particles 21 may be primary particles or secondary particles that are aggregates as long as they have a predetermined size. However, in order to obtain more adhesiveness, secondary particles are preferable. When secondary particles, which are aggregates of primary particles, are used as the reactive modified particles 21, the reason why the adhesion is improved compared with the case where primary particles having the same size are simply used is not clear. This is probably because the contact area between the particles protruding from the surface and the inorganic compound layer 40 increases.
The average particle diameter of the reactive modified particles 21 (including secondary particles as primary particles or aggregates composed of primary particles) varies depending on the thickness of the hard coat layer 20 and therefore cannot be generally stated, but the lower limit is 100 nm. As mentioned above, Preferably it is 110 nm or more, More preferably, it is 130 nm or more. Moreover, an upper limit is 1000 nm or less, Preferably, it is 800 nm or less, More preferably, it is 600 nm or less. Furthermore, among the above, when the reactive modified particles 21 are composed of secondary particles as aggregates of primary particles, the average particle diameter of the primary particles that are constituents of the secondary particles has a lower limit of 1 nm or more, Preferably, it is 20 nm or more, more preferably 30 nm or more. The upper limit value is 100 nm or less, preferably 80 nm or less, and more preferably 60 nm or less.
In the case where the average particle diameter of the reactive modified particles 21 or the reactive modified particles 21 are composed of secondary particles, the adhesiveness to the inorganic compound layer 40 is improved by setting the average particle diameter of the primary particles to the above-described lower limit value or more. Can be obtained. On the other hand, by setting these average particle diameters to be equal to or less than the above-described upper limit values, light transmittance that can be used for transparent applications can be obtained.
In addition, the average particle diameter of particle | grains points out the value of the volume average particle diameter (D50) which can be measured with a laser diffraction / scattering method.

ハードコート層20中には、さらに硬化方法に応じて、光開始剤、硬化剤等を含んでいてもよい。
光開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類などの光ラジカル重合開始剤や、オニウム塩類、スルホン酸エステル、有機金属錯体などの光カチオン重合開始剤が挙げられる。
また、硬化剤としては、ポリイソシアネート、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、カルボン酸などの化合物を、適合する樹脂に合わせて適宜使用することができる。
The hard coat layer 20 may further contain a photoinitiator, a curing agent, or the like depending on the curing method.
Photoinitiators include photo radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, Michler ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, α-acyl oxime esters, thioxanthones, onium salts, sulfonate esters, organometallic complexes And a cationic photopolymerization initiator.
Moreover, as a hardening | curing agent, compounds, such as polyisocyanate, an amino resin, an epoxy resin, and carboxylic acid, can be suitably used according to suitable resin.

ハードコート層20中には、性能を阻害しない範囲内で、上述したバインダー樹脂、高分子樹脂、反応性修飾粒子、光開始剤、硬化剤の他に、帯電防止剤、分散剤、凝集剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。   In the hard coat layer 20, in addition to the binder resin, polymer resin, reactive modified particles, photoinitiator, and curing agent described above, an antistatic agent, a dispersant, a flocculant, Additives such as ultraviolet absorbers, antioxidants, and leveling agents may be further included.

ハードコート層20の厚み(図1(a)のL参照)は、ハードコートフィルム1が支持体10を備える場合は、0.1〜10.0μm、好ましくは0.5〜5.0μm、より好ましくは1.0〜3.0μmである。また、ハードコートフィルム1が支持体10に加えてバックコート層30も備える場合は、0.1〜10.0μm、好ましくは1.0〜5.0μm、より好ましくは1.0〜3.0μmである。このような厚みを有することにより、ハードコート層20と無機化合物層40との接着性が改善する。
なお、ハードコート層単層の場合は、その厚みが0.1〜10.0μm、好ましくは0.5〜5.0μm、より好ましくは1.0〜3.0μmである。厚みを0.1μ以上とすることにより、無機化合物層40との接着性を有しながら、塗膜強度を十分なものとし、また、ハンドリング性を良好なものとする。
ハードコート層20の厚みは反射分光膜厚計(大塚電子 FE−300)を用いて測定される。
When the hard coat film 1 includes the support 10, the thickness of the hard coat layer 20 (see L in FIG. 1A) is 0.1 to 10.0 μm, preferably 0.5 to 5.0 μm. Preferably it is 1.0-3.0 micrometers. Further, when the hard coat film 1 is provided with the back coat layer 30 in addition to the support 10, it is 0.1 to 10.0 μm, preferably 1.0 to 5.0 μm, more preferably 1.0 to 3.0 μm. It is. By having such a thickness, the adhesion between the hard coat layer 20 and the inorganic compound layer 40 is improved.
In the case of a single hard coat layer, the thickness is 0.1 to 10.0 μm, preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 1.0 to 3.0 μm. By setting the thickness to 0.1 μm or more, the coating film strength is sufficient while the adhesiveness with the inorganic compound layer 40 is maintained, and the handling property is favorable.
The thickness of the hard coat layer 20 is measured using a reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics FE-300).

次に、ハードコートフィルム1が支持体10を有する場合の支持体10について説明する。支持体10は光学的透明性の高いプラスチックフィルムであれば特に制限されることなく使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビニル、ノルボルネン化合物等が使用できる。このうち、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエチレンテレフタレートフィルムが、機械的強度や寸法安定性に優れる点で好ましい。また、ハードコート層20との接着性を向上させるために、表面にコロナ放電処理を施したり、易接着層を設けたものも好適に用いられる。なお、支持体10の厚みは、通常6〜250μ程度であることが好ましく、より好ましくは23〜188μm程度である。
支持体10は、光透過性あることが好ましく、具体的には、全光線透過率(JISK7136)として85%以上、好適には90%以上である。
Next, the support 10 when the hard coat film 1 has the support 10 will be described. The support 10 can be used without any particular limitation as long as it is a plastic film having high optical transparency. For example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polycycloolefin, polyethylene, polycarbonate, polypropylene, polystyrene, triacetyl cellulose, acrylic, polyvinyl chloride, norbornene compound and the like can be used. Of these, a stretched polyethylene terephthalate film, particularly a biaxially stretched film, is preferred because of its excellent mechanical strength and dimensional stability. Moreover, in order to improve adhesiveness with the hard-coat layer 20, what gave the surface a corona discharge process or provided the easily bonding layer is used suitably. In addition, it is preferable that the thickness of the support body 10 is normally about 6-250 micrometers, More preferably, it is about 23-188 micrometers.
The support 10 is preferably light transmissive, and specifically has a total light transmittance (JISK7136) of 85% or more, preferably 90% or more.

また、ハードコートフィルム1は、上述のように、支持体10のハードコート層20とは反対の面にバックコート層30(図1(c))をさらに備えても良い。
その場合、バックコート層30は特に限定されないが、ハードコート層、粘着層、帯電防止層等から選ぶ事ができ、また上述のハードコート層20を備えても良い。
Further, as described above, the hard coat film 1 may further include a back coat layer 30 (FIG. 1C) on the surface opposite to the hard coat layer 20 of the support 10.
In this case, the back coat layer 30 is not particularly limited, but can be selected from a hard coat layer, an adhesive layer, an antistatic layer, and the like, and the hard coat layer 20 described above may be provided.

ハードコートフィルム1の作製方法は特に限定されないが、例えば、支持体10を有する場合、上述したハードコート層20の材料を適当な溶媒に溶解または分散させたハードコート層用塗布液を、バーコーティングのような公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、必要に応じて紫外線照射して、作製できる。また、あらかじめ支持体10上に離型層を形成しておくことで、ハードコート層20を支持体10上に形成したのち、当該支持体10を剥離除去することで、ハードコート層単層からなるフィルムとすることができる。また、バックコート層30を有するハードコートフィルム1の場合は、ハードコート層20を備えた支持体10のハードコート層20とは反対側の面に、適当な溶媒に溶解または分散させたバックコート層用塗布液上を、バーコーティングのような公知の方法で塗布し、乾燥し、必要に応じて紫外線照射して、作製できる。   The method for producing the hard coat film 1 is not particularly limited. For example, when the support 10 is provided, a hard coat layer coating solution obtained by dissolving or dispersing the above-described hard coat layer 20 material in an appropriate solvent is used for bar coating. It can be prepared by coating on a support by a known method such as, drying, and irradiating with ultraviolet rays as necessary. Further, by forming a release layer on the support 10 in advance, after forming the hard coat layer 20 on the support 10, the support 10 is peeled and removed, so that the hard coat layer can be separated from the single layer. It can be set as the film which becomes. Further, in the case of the hard coat film 1 having the back coat layer 30, the back coat dissolved or dispersed in a suitable solvent on the surface opposite to the hard coat layer 20 of the support 10 provided with the hard coat layer 20. The layer coating solution can be applied by a known method such as bar coating, dried, and irradiated with ultraviolet rays as necessary.

次に、ハードコート層20の特性について説明する。ハードコート層20が備えるべき特性は、接着性および柔軟性である。   Next, the characteristics of the hard coat layer 20 will be described. The properties that the hard coat layer 20 should have are adhesion and flexibility.

まず、接着性は、例えば、無機化合物層を積層して何も処理していない状態(以下、「初期接着性試験」という)と促進耐候性試験である煮沸処理を行った後の状態(以下、「煮沸後接着性試験」という)の2種類の状態で砂時計クロスカット剥離試験を行い、その結果によって優劣の判定を行い評価することができる。砂時計クロスカット剥離試験は、後述するように、無機化合物層40の表面を砂時計のような形状にクロスカットして剥離を行うため、碁盤目状にクロスカットするよりも過酷な条件下で接着性の優劣が評価できる。   First, the adhesiveness is, for example, a state in which an inorganic compound layer is laminated and nothing is treated (hereinafter referred to as “initial adhesiveness test”) and a state after performing boiling treatment which is an accelerated weathering test (hereinafter referred to as “initial adhesion test”). The hourglass cross-cut peel test is performed in two types of states (hereinafter referred to as “adhesion test after boiling”), and the superiority or inferiority can be determined and evaluated according to the result. As will be described later, the hourglass cross-cut peel test is performed by cross-cutting the surface of the inorganic compound layer 40 into an hourglass-like shape, so that it adheres under conditions more severe than cross-cutting. Can be evaluated.

ここで、初期接着性試験方法(砂時計クロスカット剥離試験方法)は、次の通りである。   Here, the initial adhesiveness test method (hourglass crosscut peel test method) is as follows.

ハードコートフィルム1に無機化合物(例えば、SiO、NbOx(但し、4≦x≦5)等)をスパッタし、厚み約200nmの無機化合物層40を成膜した試験片を作製する(試験片作製工程)。 A test piece in which an inorganic compound layer 40 having a thickness of about 200 nm is formed by sputtering an inorganic compound (for example, SiO 2 , Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5), etc.) on the hard coat film 1 (test) Piece production process).

次いで、図3に示すように、線分DD´および線分EE´が平行であって、これらの線分の間の幅が2cmになるように、無機化合物層40の表面に切れ込みを入れる。次に、線分FF´および線分GG´が互いに交差し、線分FF´およびGG´の一端部がそれぞれ線分DD´に交わり、線分FF´およびGG´の他端部がそれぞれ線分EE´に交わるように、無機化合物層40の表面に切れ込みを入れる。この時、線分DD´、EE´、FF´およびGG´により形成される二つの三角形ABCおよびAB´C´が、頂角30度かつ高さ1cmの二等辺三角形となるように切れ込みを入れる。ここで、線分FF´および線分GG´が交差する点を頂点Aとし、線分DD´上の線分GG´および線分FF´の交点をそれぞれ点Bと点Cとし、線分EE´上の線分GG´および線分FF´の交点をそれぞれ点B´と点C´とする(切り込み工程)。   Next, as shown in FIG. 3, the surface of the inorganic compound layer 40 is cut so that the line segment DD ′ and the line segment EE ′ are parallel and the width between these line segments is 2 cm. Next, the line segment FF ′ and the line segment GG ′ intersect with each other, one end portions of the line segments FF ′ and GG ′ intersect with the line segment DD ′, and the other end portions of the line segments FF ′ and GG ′ respectively A cut is made in the surface of the inorganic compound layer 40 so as to intersect with the minute EE ′. At this time, the two triangles ABC and AB′C ′ formed by the line segments DD ′, EE ′, FF ′ and GG ′ are cut so as to form an isosceles triangle having an apex angle of 30 degrees and a height of 1 cm. . Here, a point where the line segment FF ′ and the line segment GG ′ intersect is a vertex A, an intersection point of the line segment GG ′ and the line segment FF ′ on the line segment DD ′ is a point B and a point C, respectively, and the line segment EE The intersecting points of the line segment GG ′ and the line segment FF ′ on “′ are point B ′ and point C ′, respectively (cutting step).

切り込みを入れた二つの二等辺三角形を覆うように、粘着テープ(ニチバン社製、セロテープ(登録商標))を接着させ、接着した粘着テープを所定の角度および速さで引き離す(1回目の剥離)。ついで、1回目剥離後の試験片に、新しく用意した粘着テープを用いて、1回目の剥離を行った同一場所にて、再度同様に剥離試験を行う(2回目の剥離)。なお、上述した切り込みの仕方および連続して同一場所に2回の剥離を行う以外はJISK5600−5−6に規定されているクロスカット法に準拠して行う(剥離工程)。   Adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Cellotape (registered trademark)) is adhered so as to cover the two isosceles triangles with cuts, and the adhered adhesive tape is pulled away at a predetermined angle and speed (first peeling) . Next, a peel test is performed again in the same place where the first peel is performed on the test piece after the first peel using a newly prepared adhesive tape (second peel). In addition, it carries out based on the cross-cut method prescribed | regulated to JISK5600-5-6 except performing the cutting method mentioned above and peeling twice in the same place continuously (peeling process).

初期接着性試験方法に従って試験して、本発明においては、ハードコート層の接着性は、2回目の剥離において、無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものが好ましい。このような接着性を有することにより、無機化合物層40への経時での接着性が向上する。   Tested according to the initial adhesion test method, in the present invention, the adhesion of the hard coat layer is preferably such that the inorganic compound layer 40 is not peeled off from the hard coat layer 20 at the second peeling. By having such adhesiveness, the adhesiveness over time to the inorganic compound layer 40 is improved.

また、煮沸後接着性試験方法は、上記に説明した初期接着性試験方法における試験片作製工程後、切り込み工程前に、試験片作製工程で得られた試験片を所定の時間にて純水を用いて煮沸処理する工程(煮沸処理工程)を有する点が初期接着性試験方法と異なる。
なお、煮沸処理工程は、無機化合物層40がSiOの場合は6時間煮沸する。また、無機化合物層40がNbOx(但し、4≦x≦5)の場合は1時間煮沸する。
In addition, the post-boiling adhesion test method is a method in which the test piece obtained in the test piece preparation step is subjected to pure water at a predetermined time after the test piece preparation step in the initial adhesion test method described above and before the cutting step. The point which has the process (boiling process process) of using and boiling is different from the initial adhesiveness test method.
Incidentally, the boiling process, the inorganic compound layer 40 in the case of SiO 2 is boiled for 6 hours. When the inorganic compound layer 40 is Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5), boiling is performed for 1 hour.

煮沸後接着性試験方法に従って試験して、本発明においては、ハードコート層の接着性は、1回目または2回目の剥離において、無機化合物層40がハードコート層20から部分的にしか剥がれていないまたはそれより良好なものが好ましく、1回目または2回目の剥離において、無機化合物層40がハードコート層20から部分的にしか剥がれていないものより良好なものがより好ましく、2回目の剥離において、無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものがさらに好ましい。
このような接着性を有することにより、高温多湿下での無機化合物層40への接着性が向上する。
In the present invention, the adhesion of the hard coat layer is determined according to the post-boil adhesion test method, and the inorganic compound layer 40 is only partially peeled from the hard coat layer 20 in the first or second peeling. Or better than that, and in the first or second peeling, the inorganic compound layer 40 is more preferable than the one in which the inorganic coating layer 40 is only partially peeled off, and in the second peeling, More preferably, the inorganic compound layer 40 is not peeled off from the hard coat layer 20 at all.
By having such adhesiveness, the adhesiveness to the inorganic compound layer 40 under high temperature and high humidity is improved.

あるいは、初期接着性試験および煮沸後接着性試験法を合わせた場合、本発明においては、ハードコート層20の接着性は、初期接着性試験の2回目の剥離にて無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものかつ煮沸後接着性試験の1回目剥離にて無機化合物層40がハードコート層20から部分的にしか剥がれていないものより良好なものが好ましく、初期接着性試験の2回目の剥離にて無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものかつ煮沸後接着性試験の2回目の剥離にて無機化合物層40がハードコート層20から部分的にしか剥がれていないものより良好なものがより好ましい。
このような接着性を有することにより、高温多湿のような厳しい環境でも、経時変化が起こりにくく、初期の接着性が維持できる。
Alternatively, when the initial adhesion test and the post-boil adhesion test method are combined, in the present invention, the adhesion of the hard coat layer 20 is that the inorganic compound layer 40 is hard coated by the second peeling of the initial adhesion test. What is not peeled off from the layer 20 at all and is better than that in which the inorganic compound layer 40 is only partially peeled off from the hard coat layer 20 in the first peeling after the boiling test is preferable. The inorganic compound layer 40 is not peeled off from the hard coat layer 20 at the second peeling, and the inorganic compound layer 40 is peeled only partially from the hard coat layer 20 at the second peeling in the adhesion test after boiling. Those that are better than those that are not are more preferred.
By having such adhesiveness, even with severe environments such as high temperature and high humidity, changes with time are unlikely to occur, and the initial adhesiveness can be maintained.

また、ハードコート層20の柔軟性は、耐屈曲試験で評価することができる。耐屈曲試験の値は、ハードコート層20の材料や厚み、あるいは、ハードコートフィルム1が支持体10およびバックコート層30を有する場合はそれらの種類や厚みによって異なってくる為、本明細では、支持体として、帝人デュポン社製易接着付きPETフィルム「KFL10W」の膜厚125μmを使用し、裏面には易接着層以外の層を積層していない条件で耐屈曲性試験を行っている。
本発明においては、耐屈曲試験の値(ハードコート層にクラックまたは支持体からの剥がれが初めて起こった鉄棒の直径)は、好ましくは6mm以下、より好ましくは2mm以下であることが望ましい。耐屈曲試験の値が所定値以下とすることにより、ハードコート層20が柔軟性を有し、無機化合物層40への接着性が向上できる。なお、耐屈曲試験の値は、JIS−K5600−5−1(1999)に準拠した円筒形マンドレル法で測定した値である。
Further, the flexibility of the hard coat layer 20 can be evaluated by a bending resistance test. Since the value of the bending resistance test varies depending on the material and thickness of the hard coat layer 20, or when the hard coat film 1 has the support 10 and the back coat layer 30, depending on the type and thickness thereof, As a support, a film thickness of 125 μm made of Teijin DuPont's easy-adhesive PET film “KFL10W” was used, and a flex resistance test was performed under the condition that no layer other than the easy-adhesion layer was laminated on the back surface.
In the present invention, the value of the bending resistance test (the diameter of the iron bar in which the hard coat layer is cracked or peeled off from the support for the first time) is preferably 6 mm or less, more preferably 2 mm or less. By setting the value of the bending resistance test to a predetermined value or less, the hard coat layer 20 has flexibility and the adhesion to the inorganic compound layer 40 can be improved. In addition, the value of a bending test is a value measured by the cylindrical mandrel method based on JIS-K5600-5-1 (1999).

次に、本発明のハードコートフィルム1が備えるべき光学的特性について説明する。   Next, the optical characteristics that the hard coat film 1 of the present invention should have will be described.

ハードコートフィルム1の光学的特性として全光線透過率(JISK7136)は、好ましくは85%以上であり、より好ましくは90%以上である。このような光透過性を備えることにより、ハードコートフィルム1が貼着される表示装置等の視認性を妨げることなく、無機化合物層40への接着性を付与することができる。   As an optical characteristic of the hard coat film 1, the total light transmittance (JISK7136) is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. By providing such light transmittance, the adhesiveness to the inorganic compound layer 40 can be imparted without hindering the visibility of a display device or the like to which the hard coat film 1 is attached.

ハードコートフィルム1のヘーズ(JISK7136)は、好ましくは4.0%以下、より好ましくは、2.0%以下、さらに好ましくは1.0%以下、もっとも好ましくは0.8%以下である。粒子の平均粒子径に応じてその含有量を調整することにより、好適なヘーズを保つことができる。   The haze (JISK7136) of the hard coat film 1 is preferably 4.0% or less, more preferably 2.0% or less, still more preferably 1.0% or less, and most preferably 0.8% or less. A suitable haze can be maintained by adjusting the content according to the average particle diameter of the particles.

次に、図1(a)に示す構造のハードコートフィルム1を例に、ハードコートフィルム1の適用例を説明する。
図2に、無機化合物層40が積層されたハードコートフィルム(積層体)2の一例を示す。積層体2は、ハードコートフィルム1のハードコート層20上に無機化合物層40が接着されて積層体となる。
Next, an application example of the hard coat film 1 will be described taking the hard coat film 1 having the structure shown in FIG.
FIG. 2 shows an example of a hard coat film (laminated body) 2 on which the inorganic compound layer 40 is laminated. The laminate 2 is formed by adhering the inorganic compound layer 40 on the hard coat layer 20 of the hard coat film 1.

無機化合物層40として、光学調整層50またはガスバリア層51が挙げられる。
光学調整層50がハードコート層20の上に積層される場合、ハードコートフィルム1は、光学調整層付フィルム3に用いられる(図2)。また、図4(a)に示すように、光学調整層50の上にさらに透明導電膜60が積層されることにより、本実施形態のハードコートフィルム1は、透明導電性フィルム4に用いることができる。光学調整層付フィルム3および透明導電性フィルム4は、静電容量式または抵抗膜式のタッチパネルの電極シート部材として使用できる。
Examples of the inorganic compound layer 40 include an optical adjustment layer 50 or a gas barrier layer 51.
When the optical adjustment layer 50 is laminated | stacked on the hard-coat layer 20, the hard-coat film 1 is used for the film 3 with an optical adjustment layer (FIG. 2). Moreover, as shown in FIG. 4A, the hard coat film 1 of the present embodiment is used for the transparent conductive film 4 by further laminating a transparent conductive film 60 on the optical adjustment layer 50. it can. The film 3 with an optical adjustment layer and the transparent conductive film 4 can be used as an electrode sheet member of a capacitive type or resistive film type touch panel.

光学調整層50の無機化合物としては、透明導電膜60の光学特性を調整するものであればよく、SiO、NbOx(但し、4≦x≦5)等があげられる。また、光学調整層50は、単層または多層で構成されてよい。単層の場合、図5(a)に示すように、光学調整層50として、例えば、SiO膜がハードコート層20の上に成膜される。多層の場合、図5(b)に示すように、例えば、NbOx(但し、4≦x≦5)膜およびSiO膜が、ハードコート層20の上に、その順に積層される。SiOやNbOx(但し、4≦x≦5)の積層は従来公知の方法でよく、スパッタ法や蒸着法より成膜される。 The inorganic compound of the optical adjustment layer 50 may be any compound that adjusts the optical characteristics of the transparent conductive film 60, and examples thereof include SiO 2 and Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5). Further, the optical adjustment layer 50 may be composed of a single layer or multiple layers. In the case of a single layer, as shown in FIG. 5A, for example, a SiO 2 film is formed on the hard coat layer 20 as the optical adjustment layer 50. In the case of a multilayer, as shown in FIG. 5B, for example, an Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5) film and an SiO 2 film are laminated on the hard coat layer 20 in that order. The lamination of SiO 2 or Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5) may be performed by a conventionally known method, and is formed by sputtering or vapor deposition.

透明導電膜60としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、銀、銅又は銅の合金、カーボンナノチューブなどからなる膜があげられる。透明導電膜60の積層は、従来公知の方法でよく、DCスパッタやRFスパッタなどのスパッタ法や蒸着法より成膜される。静電容量式タッチパネルに使用する場合、成膜した透明導電膜60にエッチング処理をして所望の電極パターンが形成される(図4(b))。
このような電極パターンが形成された場合、光学調整層50は、その電極パターンの不可視化をする。例えば、ITO電極パターンを備えた透明導電性フィルム4の場合、図4(b)に示すように、光学調整層50は、ITO除去部分で反射された光71とITO残存部分で反射された光70との光学特性(反射率、色相、透過率など)の差を小さくし、ITO電極パターンを見えにくくさせる。
Examples of the transparent conductive film 60 include films made of tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), silver, copper or copper alloys, carbon nanotubes, and the like. The transparent conductive film 60 may be laminated by a conventionally known method, and is formed by a sputtering method such as DC sputtering or RF sputtering or a vapor deposition method. When used for a capacitive touch panel, a desired electrode pattern is formed by etching the formed transparent conductive film 60 (FIG. 4B).
When such an electrode pattern is formed, the optical adjustment layer 50 makes the electrode pattern invisible. For example, in the case of the transparent conductive film 4 provided with the ITO electrode pattern, as shown in FIG. 4B, the optical adjustment layer 50 includes light 71 reflected by the ITO removed portion and light reflected by the remaining ITO portion. The difference in optical characteristics (reflectance, hue, transmittance, etc.) from 70 is reduced, making the ITO electrode pattern difficult to see.

一方、ガスバリア層51がハードコート層20の上に積層される場合、ハードコートフィルム1は、ELディスプレイ、EL照明、太陽電池などに好適なガスバリアフィルム5に用いられる(図2)。ガスバリア層51の無機化合物としては、マグネシウム、チタン、アルミニウム、インジウム、珪素、スズ、およびそれらの酸化物が挙げられ、これらを単独もしくは2種以上を組合わせることができる。加工性やコストの点からアルミニウム又は酸化アルミニウムが好ましく用いられる。ガスバリア層51のハードコート層20の上への積層は、従来公知の方法でよく、スパッタ法や蒸着法より成膜される。   On the other hand, when the gas barrier layer 51 is laminated | stacked on the hard-coat layer 20, the hard-coat film 1 is used for the gas barrier film 5 suitable for EL display, EL illumination, a solar cell, etc. (FIG. 2). Examples of the inorganic compound of the gas barrier layer 51 include magnesium, titanium, aluminum, indium, silicon, tin, and oxides thereof, and these can be used alone or in combination of two or more. Aluminum or aluminum oxide is preferably used in terms of workability and cost. The gas barrier layer 51 may be stacked on the hard coat layer 20 by a conventionally known method, which is formed by sputtering or vapor deposition.

本発明のハードコートフィルム1によれば、ハードコート層20の無機化合物層40への接着性が向上できる。特に、経時変化が少なく、接着性が良好に維持できる。   According to the hard coat film 1 of the present invention, the adhesion of the hard coat layer 20 to the inorganic compound layer 40 can be improved. In particular, there is little change with time, and good adhesion can be maintained.

以下、本発明の保護フィルムの実施例を説明する。なお以下の実施例において、特に断らない限り、「%」及び「部」はいずれも重量基準である。   Examples of the protective film of the present invention will be described below. In the following examples, “%” and “parts” are based on weight unless otherwise specified.

<実施例1>
厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人デュポン社製 KFL10W)の一方の面に下記処方のハードコート用塗工液を塗布、乾燥後、紫外線を照射し硬化させ、厚み2.0μmのハードコート層を形成し、実施例1のハードコートフィルムを製造した。
<Example 1>
A hard coat layer having a thickness of 2.0 μm is formed by applying a hard coat coating solution having the following formulation on one surface of a 125 μm-thick polyethylene terephthalate film (KFL10W, manufactured by Teijin DuPont), drying, and then curing with ultraviolet light Then, the hard coat film of Example 1 was produced.

<ハードコート用塗工液>
・バインダー樹脂
電離放射線硬化型樹脂 30部
(ユニディック17−813:DIC社、固形分80%)
高分子量樹脂 15部
(アクリディックA195:DIC社、固形分40%)
(重量平均分子量:85000)
・反応性修飾粒子分散液 15部
(SIRMIBK30WT%−M06:CIKナノテック社、固形分30%)
(シリカ粒子:平均一次粒子径30nm、平均二次粒子径200〜300nm)
・希釈溶剤 60部
・光開始剤 0.4部
(イルガキュア184:BASF社)
<Coating liquid for hard coat>
-Binder resin ionizing radiation curable resin 30 parts (Unidic 17-813: DIC, solid content 80%)
15 parts of high molecular weight resin (Acridic A195: DIC, solid content 40%)
(Weight average molecular weight: 85000)
・ Reactive modified particle dispersion 15 parts (SIRMIBK30WT% -M06: CIK Nanotech, solid content 30%)
(Silica particles: average primary particle size 30 nm, average secondary particle size 200-300 nm)
・ Diluted solvent 60 parts ・ Photoinitiator 0.4 parts (Irgacure 184: BASF)

<実施例2>
実施例1のハードコート用塗工液のうち、反応性修飾粒子の重量部を30に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の保護フィルムを得た。
<Example 2>
A protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the weight part of the reactive modified particles in the coating liquid for hard coat of Example 1 was changed to 30.

<実施例3>
実施例1のハードコート用塗工液のうち、反応性修飾粒子の重量部を60に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の保護フィルムを得た。
<Example 3>
A protective film of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the weight part of the reactive modified particles in the coating liquid for hard coat of Example 1 was changed to 60.

<比較例1>
実施例1のハードコート用塗工液のうち、反応性修飾粒子を除いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1の保護フィルムを得た。
<Comparative Example 1>
A protective film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive modified particles were removed from the hard coat coating solution of Example 1.

上述した実施例および比較例で製造した保護フィルムについて下記の特性を評価した。   The following characteristics were evaluated about the protective film manufactured by the Example and comparative example which were mentioned above.

1.光学特性
JISK7136測定方法に従って、ヘーズメーター(スガ試験機社、型式HGM−2K)、カラーコンピューター(スガ試験機社、型式SM−4)により、各保護フィルムのハードコート層を入光面として、全光線透過率(Tt)およびヘーズ(Haze)を測定した。
1. Optical properties According to the JISK7136 measurement method, using a haze meter (Suga Test Instruments Co., Model HGM-2K) and a color computer (Suga Test Instruments Co., Model SM-4) The light transmittance (Tt) and haze were measured.

3.「耐屈曲性」については、JIS−K5600−5−1(1999)に準拠した耐屈曲性(円筒形マンドレル法)に基づき、直径が約3mmと7mmの鉄棒を用意し、それぞれの鉄棒にてハードコート層付保護フィルムをハードコート層20が外側になるようにそれぞれ折り返して巻き付け、その巻き付けた部分のハードコート層20にクラックまたは支持体からの剥がれが生じるか否かを目視で観察する。その結果、3mmの鉄棒にてクラックまたは支持体からの剥がれが確認できなかったものを「○」、3mmの鉄棒ではクラックまたは支持体からの剥がれが確認できるが、7mmの鉄棒ではクラックまたは支持体からの剥がれが確認できなかったものを「△」、どちらの鉄棒でもクラックまたは支持体からの剥がれが確認されたものを「×」として評価した。   3. Regarding “flexion resistance”, based on the flex resistance (cylindrical mandrel method) based on JIS-K5600-5-1 (1999), we prepared iron bars with diameters of about 3 mm and 7 mm. The protective film with a hard coat layer is folded and wound so that the hard coat layer 20 is on the outside, and whether or not the hard coat layer 20 in the wound portion is cracked or peeled off from the support is visually observed. As a result, it was confirmed that the crack or peeling from the support was not confirmed with a 3 mm iron bar, and the crack or peeling from the support was confirmed with a 3 mm iron bar, but the crack or support was not observed with a 7 mm iron bar. The case where peeling from the steel was not confirmed was evaluated as “Δ”, and the case where cracking or peeling from the support was confirmed in either iron bar was evaluated as “x”.

4.初期接着性試験(砂時計クロスカット剥離試験)
上述した実施例および比較例で製造したハードコートフィルムのハードコート層の上に、スパッタリング装置(芝浦メカトロニクス製:CFS−4EP−LL)で、SiOまたはNbOx(但し、4≦x≦5)をスパッタし、厚み約200nmの無機化合物層40を成膜した試験片を作製した(試験片作製工程)。
4). Initial adhesion test (hourglass crosscut peel test)
On the hard coat layer of the hard coat film produced in the above-described Examples and Comparative Examples, SiO 2 or Nb 2 Ox (however, 4 ≦ x ≦ 5) by a sputtering apparatus (manufactured by Shibaura Mechatronics: CFS-4EP-LL). ) Was sputtered to prepare a test piece on which an inorganic compound layer 40 having a thickness of about 200 nm was formed (test piece preparation step).

次いで、図3に示すように、線分DD´および線分EE´が平行であって、これらの線分の間の幅が2cmになるように、無機化合物層40の表面に切れ込みを入れた。次に、線分FF´および線分GG´が互いに交差し、線分FF´およびGG´の一端部がそれぞれ線分DD´に交わり、線分FF´およびGG´の他端部がそれぞれ線分EE´に交わるように、無機化合物層40の表面に切れ込みを入れた。この時、線分DD´、EE´、FF´およびGG´により形成される二つの三角形ABCおよびAB´C´が、頂角30度かつ高さ1cmの二等辺三角形となるように切れ込みを入れた。ここで、線分FF´および線分GG´が交差する点を頂点Aとし、線分DD´上の線分GG´および線分FF´の交点をそれぞれ点Bと点Cとし、線分EE´上の線分GG´および線分FF´の交点をそれぞれ点B´と点C´とした(切り込み工程)。   Next, as shown in FIG. 3, the surface of the inorganic compound layer 40 was cut so that the line segment DD ′ and the line segment EE ′ were parallel and the width between these line segments was 2 cm. . Next, the line segment FF ′ and the line segment GG ′ intersect with each other, one end portions of the line segments FF ′ and GG ′ intersect with the line segment DD ′, and the other end portions of the line segments FF ′ and GG ′ respectively A cut was made in the surface of the inorganic compound layer 40 so as to intersect with the minute EE ′. At this time, the two triangles ABC and AB′C ′ formed by the line segments DD ′, EE ′, FF ′ and GG ′ are cut so as to form an isosceles triangle having an apex angle of 30 degrees and a height of 1 cm. It was. Here, a point where the line segment FF ′ and the line segment GG ′ intersect is a vertex A, an intersection point of the line segment GG ′ and the line segment FF ′ on the line segment DD ′ is a point B and a point C, respectively, and the line segment EE The intersecting points of the line segment GG ′ and the line segment FF ′ on “′ are point B ′ and point C ′, respectively (cutting step).

切り込みを入れた二つの二等辺三角形を覆うように、粘着テープ(ニチバン社製、セロテープ(登録商標))を接着させ、接着した粘着テープを所定の角度および速さで引き離した(1回目の剥離)。ついで、1回目の剥離後の試験片に、新しく用意した粘着テープを用いて、1回目の剥離を行った同一場所にて、再度同様に剥離試験を行った(2回目の剥離)。なお、上述した切り込みの仕方および連続して同一場所に2回の剥離を行う以外はJISK5600−5−6に規定されているクロスカット法に準拠して行った(剥離工程)。   Adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Cellotape (registered trademark)) was adhered so as to cover the two isosceles triangles with cuts, and the adhered adhesive tape was pulled away at a predetermined angle and speed (first peeling) ). Next, a peel test was performed again in the same place where the first peeling was performed on the test piece after the first peeling using the newly prepared adhesive tape (second peeling). In addition, it carried out based on the cross-cut method prescribed | regulated to JISK5600-5-6 except performing the cutting method mentioned above and peeling twice in the same place continuously (peeling process).

この剥離試験において、無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものを○(剥離無し)、無機化合物層40がハードコート層20から部分的に剥がれているものを△(部分剥離有り)、無機化合物層40がハードコート層20からほぼ全部剥がれているものを×(全部剥離)として評価した。   In this peel test, the case where the inorganic compound layer 40 is not peeled off from the hard coat layer 20 is ○ (no peel), and the case where the inorganic compound layer 40 is partially peeled off from the hard coat layer 20 is Δ (partial peel is present) ), The case where the inorganic compound layer 40 was peeled off almost from the hard coat layer 20 was evaluated as x (all peeled).

5.煮沸後接着性試験法
無機化合物層がSiOの場合、上記に説明した初期接着性試験の試験片作製工程後、試験片を純水にて6時間煮沸した(煮沸処理工程)。次いで上記に説明した切込み工程、剥離行程を行い、無機化合物層40がハードコート層20から全く剥がれていないものを○(剥離無し)、無機化合物層40がハードコート層20から部分的に剥がれているものを△(部分剥離有り)、無機化合物層40がハードコート層20からほぼ全部剥がれているものを×(全部剥離)とした。
無機化合物層がNbOx(但し、4≦x≦5)の場合、上述した煮沸処理工程において、煮沸時間が1時間であること以外は上述したSiOの場合と同様にして試験および評価を行った。
5. Post-boil adhesion test method When the inorganic compound layer was SiO 2 , the test piece was boiled in pure water for 6 hours after the test piece preparation step of the initial adhesion test described above (boiling treatment step). Next, the cutting process and the peeling process described above are performed, and the inorganic compound layer 40 is partially peeled off from the hard coat layer 20 when the inorganic compound layer 40 is not peeled off from the hard coat layer 20 (no peeling). The case where the inorganic compound layer 40 was peeled off almost from the hard coat layer 20 was shown as x (all peeled).
When the inorganic compound layer is Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5), in the above-described boiling treatment step, tests and evaluations were performed in the same manner as in the case of SiO 2 except that the boiling time was 1 hour. went.

表1に結果を示す。   Table 1 shows the results.

Figure 2018058234
Figure 2018058234

接着性の評価について、実験例1〜3のフィルムおける初期接着性試験のSiOおよびNbOx(但し、4≦x≦5)に対する接着性は1回目および2回目の剥離においてすべて「剥離無し」であった。また、これら実施例の煮沸後接着性試験のSiOに対する接着性は、1回目の剥離では「剥離無し」、二回目では「部分剥離有り」または「剥離無し」であり、NbOx(但し、4≦x≦5)に対する接着性は、実施例1以外は1回目および2回目の両方の剥離においてすべて「剥離無し」であった。
一方、比較例1のフィルムのSiOおよびNbOx(但し、4≦x≦5)に対する接着性の評価は、初期接着性試験では実施例1〜3のものより劣り、煮沸後接着性試験では「全部剥離」であった。
これらの結果は、反応性修飾粒子21を有する実施例1〜3のフィルムは、高温多湿のような厳しい環境でも、経時変化が起こりにくく、初期の無機化合物層40への接着性を維持できることを示した。
Regarding the evaluation of adhesiveness, the adhesiveness to SiO 2 and Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5) in the initial adhesive test in the films of Experimental Examples 1 to 3 was “no peeling” in the first and second peeling. "Met. In addition, the adhesion to SiO 2 in the post-boil adhesion test of these examples was “no peeling” in the first peeling, “partial peeling” or “no peeling” in the second peeling, and Nb 2 Ox (however, 4 ≦ x ≦ 5) All except for Example 1 were “no peeling” in both the first and second peeling.
On the other hand, the evaluation of the adhesion of the film of Comparative Example 1 to SiO 2 and Nb 2 Ox (4 ≦ x ≦ 5) is inferior to those of Examples 1 to 3 in the initial adhesion test, and the post-boil adhesion test Then it was “all peeling”.
These results show that the films of Examples 1 to 3 having the reactive modified particles 21 hardly change over time even in a severe environment such as high temperature and high humidity, and can maintain the adhesiveness to the initial inorganic compound layer 40. Indicated.

柔軟性については、実施例1〜3は、比較例1より柔軟性を有していた。したがって、ハードコート層20が適度な柔軟性を備えることにより、無機化合物層40への接着性が向上していることがわかった。   Regarding flexibility, Examples 1 to 3 were more flexible than Comparative Example 1. Therefore, it was found that the adhesion to the inorganic compound layer 40 is improved by providing the hard coat layer 20 with appropriate flexibility.

1・・・ハードコートフィルム、20・・・ハードコート層、21・・・反応性修飾粒子、22・・・バインダー樹脂、40・・・無機化合物層、50・・・光学調整層、51・・・ガスバリア層

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hard coat film, 20 ... Hard coat layer, 21 ... Reactive modified particle, 22 ... Binder resin, 40 ... Inorganic compound layer, 50 ... Optical adjustment layer, 51. ..Gas barrier layer

Claims (12)

無機化合物層を接着するためのハードコート層を有するハードコートフィルムであって、
前記ハードコート層は反応性を有するように修飾された粒子とバインダー樹脂とを含み、
前記粒子の含有量が前記バインダー樹脂固形分の100重量部に対して1重量部以上60重量部以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
A hard coat film having a hard coat layer for bonding an inorganic compound layer,
The hard coat layer includes particles modified to have reactivity and a binder resin,
The hard coat film, wherein the content of the particles is 1 part by weight or more and 60 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin solid content.
請求項1に記載のハードコートフィルムであって、
前記粒子の平均粒子径が100nm以上1000nm以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to claim 1,
An average particle diameter of the particles is 100 nm or more and 1000 nm or less.
請求項1または2に記載のハードコートフィルムであって、
前記粒子が一次粒子の凝集体として二次粒子を構成する場合、前記一次粒子の径が1nm以上100nm以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to claim 1 or 2,
When the particles constitute secondary particles as aggregates of primary particles, the diameter of the primary particles is from 1 nm to 100 nm.
請求項1から3のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記粒子が、シリカ、アルミナ、チタン、ジルコニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、またはこれらの2以上の組み合わせであることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 3,
The hard coat film, wherein the particles are silica, alumina, titanium, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, or a combination of two or more thereof.
請求項1から4のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記粒子が、アクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、またはこれらの官能基の2以上の組み合わせを有することを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 4,
The hard coat film, wherein the particles have an acryloyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an isocyanate group, or a combination of two or more of these functional groups.
請求項1から5のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
JIS−K5600−5−1(1999)に準拠した円筒形マンドレル法で測定した前記ハードコート層の耐屈曲試験の値が6mm以下であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 5,
A hard coat film, wherein a value of a bending resistance test of the hard coat layer measured by a cylindrical mandrel method according to JIS-K5600-5-1 (1999) is 6 mm or less.
請求項1から6のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記フィルムに無機化合物層を積層し、煮沸処理した後の砂時計クロスカット剥離試験で、無機化合物層がハードコート層から部分的にしか剥がれていないまたはそれより良好であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 6,
A hard coat, wherein the inorganic compound layer is only partially peeled from the hard coat layer or better in an hourglass cross-cut peel test after laminating an inorganic compound layer on the film and boiled. the film.
請求項1から7のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記無機化合物層が光学調整層またはガスバリア層であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 7,
The hard coat film, wherein the inorganic compound layer is an optical adjustment layer or a gas barrier layer.
請求項1から7のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記無機化合物がSiOまたはNbOx(但し4≦x≦5)であることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 7,
The hard coat film, wherein the inorganic compound is SiO 2 or Nb 2 Ox (where 4 ≦ x ≦ 5).
請求項1から7のいずれか一つに記載のハードコートフィルムであって、
前記無機化合物層が単層または多層で構成されることを特徴とするハードコートフィルム。
The hard coat film according to any one of claims 1 to 7,
The hard coat film, wherein the inorganic compound layer is composed of a single layer or multiple layers.
請求項1から10のいずれか一つに記載のハードコートフィルムを用いた透明導電性フィルム。   The transparent conductive film using the hard coat film as described in any one of Claim 1 to 10. 請求項1から10のいずれか一つに記載のハードコートフィルムを使用したタッチパネル。   A touch panel using the hard coat film according to claim 1.
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