JP2018056185A - エッチング液および基板処理方法 - Google Patents
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(窒化膜エッチング液)
第1の実施形態の窒化膜エッチング液は、窒化膜すなわちシリコン窒化膜(SiN)のエッチングに用いられるものである。例えば、第1の実施形態の窒化膜エッチング液は、窒化膜と窒化膜以外の膜とが設けられた基板から、窒化膜を選択的に除去するために用いることができる。窒化膜以外の膜は、シリコン酸化膜(SiO2)であってもよいが、これに限定されない。
次に、上述の窒化膜エッチング液を適用した第1の実施形態の基板処理方法について説明する。図2は、第1の実施形態による基板処理方法を示すフローチャートである。
次に、第1の実施形態の第1の実験例について説明する。図7は、第1の実施形態の第1の実験例において、シリカ析出量を模式的に示す断面図である。
次に、第1の実施形態の第2の実験例について説明する。第2の実験例では、有機化合物の塩として、試料No.1〜No.11の11種類の試料を用意した。各試料は、以下の通りである。
No.2:ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド
No.3:トリメチルフェニルアンモニウムクロリド
No.4:テトラフェニルホスホニウムブロミド
No.5:テトラフェニルホスホニウムクロリド
No.6:ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド
No.7:(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムクロリド
No.8:ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムクロリド
No.9:トリエチルメチルアンモニウムクロリド
No.10:ベンジルジメチルフェニルアンモニウムクロリド
No.11:テトラエチルホスホニウムブロミド
第2の実験例では、リン酸の濃度が85重量%のリン酸水溶液に対して、試料No.1〜No.11の各試料のそれぞれを0.1M添加して11種類の窒化膜エッチング液を得た。そして、各窒化膜エッチング液を160℃で15分間加熱し、加熱前の試料の濃度と加熱後の試料の濃度とを比較した。
次に、第1の実施形態の第3の実験例について説明する。第3の実験例では、実験例2において、15分間の加熱によって分解し難いことが確認された試料の中から、試料No.1〜No.3および試料No.5を選択した。そして、選択された各試料のそれぞれを添加した窒化膜エッチング液について、加熱時間を180分以上に延長し、加熱の過程で時間経過に応じた試料の濃度変化を測定した。試料No.1の濃度変化の測定結果を図10に示し、試料No.2、試料No.3および試料No.5の濃度変化の測定結果を図11に示す。なお、試料No.2、試料No.3および試料No.5を添加した窒化膜エッチング液の濃度変化の測定において、加熱の処理時間によっては、同じ試料について複数回の測定を行った。このため、図11において、複数回の測定を行った処理時間については、同じ試料についての複数の測定結果がプロットされている。
(基板処理装置10)
次に、第2の実施形態について説明する。図12は、第2の実施形態による基板処理方法に用いることができる基板処理装置10の一例を示す図である。基板処理装置10は、第1の実施形態の図5に示す第1膜2とシリコン窒化膜4とが形成された基板1を浸漬してシリコン窒化膜4を選択的に除去するウェットエッチング処理装置として用いることができる。
次に、第2の実施形態の基板処理方法について説明する。図13は、第2の実施形態による基板処理方法を示すフローチャートである。以下の基板処理方法では、図2のウェットエッチング処理工程(ステップS25)の一例について説明する。なお、図2の初期状態において、処理槽11には窒化膜エッチング液7が貯留されていないものとする。
11 処理槽
4 シリコン窒化膜
Claims (7)
- 水とリン酸を有するリン酸水溶液と、該リン酸水溶液に可溶な有機化合物の塩と、を含有するエッチング液。
- 前記有機化合物の塩は、液温150℃以上の前記リン酸水溶液に可溶である請求項1記載のエッチング液。
- 前記一般式(1)および前記一般式(2)において、R1〜R4はメチル基またはフェニル基である請求項3に記載のエッチング液。
- 前記リン酸の含水率は、15重量%以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載のエッチング液。
- 前記有機化合物の塩は、リン酸水溶液中において水和数が3.5以下のカチオンになる元素を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のエッチング液。
- 水とリン酸を有するリン酸水溶液と、該リン酸水溶液に可溶な有機化合物の塩を含有するエッチング液を150℃以上に加熱し、
窒化膜を有する基板を、前記エッチング液に接触させ、前記基板から前記窒化膜を除去する基板処理方法。
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JP2003257952A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Kishimoto Sangyo Co Ltd | 絶縁膜エッチング剤 |
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