JP2018043169A - 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 - Google Patents
排ガス処理装置及び排ガス処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018043169A JP2018043169A JP2016177514A JP2016177514A JP2018043169A JP 2018043169 A JP2018043169 A JP 2018043169A JP 2016177514 A JP2016177514 A JP 2016177514A JP 2016177514 A JP2016177514 A JP 2016177514A JP 2018043169 A JP2018043169 A JP 2018043169A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- activated carbon
- mercury
- mercury concentration
- hydrogen chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明における排ガス処理装置は、次の第一発明、第二発明そして第三発明のごとく構成され、いずれによっても上記課題は解決される。ここで、活性炭供給量(mg/Nm3)は処理排ガス流量に対する活性炭吹込み重量として定められる。
炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、塩化水素濃度測定値と活性炭供給量との予め定める対応関係に基づき活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。
炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で、排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、排ガス中の水銀濃度を測定する上流側水銀濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。
炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で、排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、排ガス中の水銀濃度を測定する上流側水銀濃度計と、集塵装置の下流側で排ガス中の水銀濃度を測定する下流側水銀濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と、上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値と、下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。
本発明における排ガス処理方法は、次の第四発明、第五発明そして第六発明のごとく構成され、いずれによっても上記課題は解決される。
炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。
炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定し、排ガス中の水銀濃度を上流側水銀濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。
炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定し、排ガス中の水銀濃度を上流側水銀濃度計で測定するとともに集塵装置の下流側で排ガス中の水銀濃度を下流側水銀濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値と下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。
本実施形態装置の概要構成を示す図1(A)において、焼却炉1からの排ガスを煙突4まで導く排ガス流路に、上流側からボイラ2、さらに集塵装置としてバグフィルタ3が配設されており、バグフィルタ3の上流位置で排ガス流路へ、排ガス中の水銀を吸着除去するための活性炭を吹き込む活性炭供給装置5とこれを制御する制御装置6が設けられており、バグフィルタ3の上流側であって、活性炭供給装置5による活性炭吹込み位置よりも上流側の位置で排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計7が設けられ、該塩化水素濃度計7の測定値を出力信号として上記制御装置6へ送るように、上記塩化水素濃度計7が該制御装置6に接続されている。
塩化水素濃度測定値と活性炭供給量との対応関係を定める手順を以下に示す。
図2に示される第二実施形態は、既述の第一実施形態に比し、塩化水素濃度計7に加え、活性炭供給装置5による活性炭吹込み位置よりも上流側の位置に水銀濃度計8を設置したことのみが異なり他は図1の場合と同じである。したがって、図2では、図1の第一実施形態における部位と共通な部位について同一符号を付すことで、その説明は省略する。
塩化水素濃度測定値と水銀濃度測定値と活性炭供給量との対応関係を定める手順を以下に示す。
また、上記の形態1に付加して、水銀濃度の測定値が所定の水銀濃度に達するまでの間、水銀濃度の増加にしたがって、活性炭供給量を増大させ、水銀濃度の測定値が所定の水銀濃度以上の場合に、活性炭供給量を所定の最大値の供給量とし一定とする対応関係の形態(形態2)としてもよい。また、形態1または形態2において、水銀濃度の増加にしたがって、活性炭供給量を増大させる際に、直線的に増大させてもよいし、ステップ状に増大させてもよい。
図3に示される第三実施形態は、前出の第二実施形態に比し、活性炭供給装置5による活性炭吹込み位置よりも上流側に配された塩化水素濃度計7そして第一水銀濃度計8Aに加え、バグフィルタ3の下流側であるバグフィルタ3の出口又は煙突4に排ガス中の水銀濃度を測定する第二水銀濃度計8Bも設けられている点で特徴がある。この点以外は第二実施形態と同じである。上記第二水銀濃度計8Bの測定値は、上記塩化水素濃度計7そして第一水銀濃度計8Aの測定値とともに出力信号として制御装置6へ送られるようになっている。図3では、図2の第二実施形態における部位と共通な部位について同一符号を付すことで、その説明は省略する。
廃棄物焼却炉から排出される排ガスを図1〜図3に示す排ガス処理装置により水銀の除去処理を次のように実施例1〜3のように行い、効果を確認した。廃棄物焼却炉から排出される排ガスは、煙突からの排ガス流量が10,000Nm3/hであり、定常時に炉から排出される排ガス中の塩化水素濃度は200ppm、水銀濃度は200μg/Nm3である。煙突内の排ガス中水銀濃度を1時間平均値で50μg/Nm3以下になるように制御することとし、さらに、水銀濃度測定値が短時間で急激に増加する現象における最大水銀濃度瞬時値(水銀濃度のピーク測定値という)を低く抑えるように制御する。
バグフィルタ上流側の排ガス流路に常時一定量である供給量0.5kg/hで活性炭を吹込んでおり、定常時におけるバグフィルタ上流における排ガス中塩化水素濃度は200ppm、水銀濃度は200μg/Nm3であり、煙突における排ガス中の水銀濃度は5μg/Nm3以下となっている。焼却炉に供給されるごみ性状の変動によってバグフィルタ上流での塩化水素濃度が100ppmに減少したとき、煙突での排ガス中の水銀濃度が上昇し、煙突において最大80μg/Nm3の水銀濃度のピーク測定値が観測された。
バグフィルタ上流側の排ガス流路に常時一定量である供給量0.5kg/hで活性炭を吹込んでおり、定常時におけるバグフィルタ上流における排ガス中塩化水素濃度は200ppm、水銀濃度は200μg/Nm3であり、煙突における排ガス中の水銀濃度は5μg/Nm3以下となっている。焼却炉に供給されるごみ性状の変動によってバグフィルタ上流での塩化水素濃度が100ppmに減少し、水銀濃度が500μg/Nm3に変動したとき、煙突での排ガス中の水銀濃度が上昇し、煙突において最大200μg/Nm3の水銀濃度のピーク測定値が観測された。
実施例1では図1に示す排ガス処理装置を用いて、水銀を含む排ガスの処理を行った。
バグフィルタの上流側の排ガス中の塩化水素濃度を測定し、図5に示されている塩化水素濃度と活性炭供給量の対応関係に基づき、活性炭供給量を制御する。すなわち、図5に示すように、塩化水素濃度が150ppmより高いときは活性炭供給量を50mg/Nm3とし、塩化水素濃度が150ppm以下の場合には塩化水素濃度の減少にしたがって活性炭供給量を増加させるように制御する。
実施例2では図2に示す排ガス処理装置を用いて、水銀を含む排ガスの処理を行った。バグフィルタ上流側の排ガス中の塩化水素濃度と水銀濃度を測定し、図6に示されている塩化水素濃度と水銀濃度と活性炭供給量の対応関係に基づき、活性炭供給量を制御する。すなわち図6に示すように、排ガス中塩化水素濃度が50ppm未満、50〜150ppm、150ppmより大きい場合の3つの範囲に対して、それぞれの範囲で水銀濃度測定値に対する活性炭供給量を制御する。供給されるごみ性状の変動によってバグフィルタ上流における塩化水素濃度が100ppmに減少し、水銀濃度が500μg/Nm3に上昇した場合において、煙突における水銀濃度のピーク測定値を50μg/Nm3に抑えることができた。
実施例3では図3に示す排ガス処理装置を用いて、水銀を含む排ガスの処理を行った。バグフィルタ上流側の排ガス中の塩化水素濃度と水銀濃度を測定し、図6に示されている塩化水素濃度と水銀濃度と活性炭供給量の対応関係に基づき、活性炭供給量を制御する。さらに煙突における水銀濃度が30μg/Nm3以上になった場合に、図6に示す対応関係に基づく活性炭供給量制御に重ねて活性炭供給量を500mg/Nm3とするように制御する。ごみ性状の変動によってバグフィルタ上流側における塩化水素濃度が100ppmに減少し、水銀濃度が500μg/Nm3に上昇した場合において、図6に示す対応関係に基づく活性炭供給量制御では、煙突における水銀濃度が30μg/Nm3以上となったため、活性炭供給量を500mg/Nm3に増加する制御を行い、煙突水銀濃度を40μg/Nm3に抑えることができた。
2 ボイラ
3 集塵装置(バグフィルタ)
4 煙突
5 活性炭供給装置
6 制御装置
7 塩化水素濃度計
8 水銀濃度計
8A 第一水銀濃度計(上流側水銀濃度計)
8B 第二水銀濃度計(下流側水銀濃度計)
Claims (10)
- 炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、塩化水素濃度測定値と活性炭供給量との予め定める対応関係に基づき活性炭供給量を制御し、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。 - 炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で、排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、排ガス中の水銀濃度を測定する上流側水銀濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。 - 炉から排出され水銀を含む排ガスを除塵処理する集塵装置と、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭を吹き込む活性炭供給装置とを備える排ガス処理装置において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で、排ガス中の塩化水素濃度を測定する塩化水素濃度計と、排ガス中の水銀濃度を測定する上流側水銀濃度計と、集塵装置の下流側で排ガス中の水銀濃度を測定する下流側水銀濃度計と、活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御装置を備え、
制御装置は、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と、上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値と、下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理装置。 - 制御装置は、活性炭供給量を所定の最小値以上に維持するように制御することとする請求項1ないし請求項3のうちの一つに記載の排ガス処理装置。
- 制御装置は、上流側水銀濃度計又は下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値が所定水銀濃度以上であるとき、活性炭供給量を所定の最大値に保つように制御することとする請求項1ないし請求項4のうちの一つに記載の排ガス処理装置。
- 炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値に基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。 - 炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定し、排ガス中の水銀濃度を上流側水銀濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。 - 炉から排出され水銀を含む排ガスを集塵装置で除塵処理し、炉から集塵装置へ排ガスを導く排ガス流路へ活性炭供給装置から活性炭供給装置から活性炭を吹き込むこととする排ガス処理方法において、
炉の下流側でかつ集塵装置の上流側で排ガス中の塩化水素濃度を塩化水素濃度計で測定し、排ガス中の水銀濃度を上流側水銀濃度計で測定するとともに集塵装置の下流側で排ガス中の水銀濃度を下流側水銀濃度計で測定する測定工程と、制御装置で活性炭供給装置の活性炭供給量を制御する制御工程を備え、
制御工程で、塩化水素濃度計による塩化水素濃度測定値と上流側水銀濃度計による水銀濃度測定値と下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値とに基づき、上記集塵装置の下流側での排ガス中の水銀濃度を設定値以下とするように、活性炭供給量を制御することを特徴とする排ガス処理方法。 - 制御工程は、活性炭供給量を所定の最小値以上に維持するように制御することとする請求項6ないし請求項8のうちの一つに記載の排ガス処理方法。
- 制御工程は、上流側水銀濃度計又は下流側水銀濃度計による水銀濃度測定値が所定水銀濃度以上であるとき、活性炭供給量を所定の最大値に保つように制御することとする請求項6ないし請求項9のうちの一つに記載の排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016177514A JP6703748B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016177514A JP6703748B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018043169A true JP2018043169A (ja) | 2018-03-22 |
JP6703748B2 JP6703748B2 (ja) | 2020-06-03 |
Family
ID=61693485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016177514A Active JP6703748B2 (ja) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6703748B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009112910A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Mhi Environment Engineering Co Ltd | 水銀を含む焼却灰の水銀除去方法とその装置及び水銀を含む排ガスの処理装置 |
JP2009166012A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 石炭焚ボイラの排ガス処理システム及びその運転方法 |
JP2009208078A (ja) * | 2009-06-16 | 2009-09-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス中の水銀処理方法および排ガスの処理システム |
JP2009262081A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理システム及び排ガス中の水銀除去方法 |
JP2014091058A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-19 | Babcock-Hitachi Co Ltd | 排ガス処理装置と排ガス処理方法 |
JP2015213889A (ja) * | 2014-05-13 | 2015-12-03 | 太平洋セメント株式会社 | セメントキルン排ガスの処理装置及び処理方法 |
WO2016132894A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-25 | Jfeエンジニアリング株式会社 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
-
2016
- 2016-09-12 JP JP2016177514A patent/JP6703748B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009112910A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Mhi Environment Engineering Co Ltd | 水銀を含む焼却灰の水銀除去方法とその装置及び水銀を含む排ガスの処理装置 |
JP2009166012A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 石炭焚ボイラの排ガス処理システム及びその運転方法 |
JP2009262081A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理システム及び排ガス中の水銀除去方法 |
JP2009208078A (ja) * | 2009-06-16 | 2009-09-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス中の水銀処理方法および排ガスの処理システム |
JP2014091058A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-19 | Babcock-Hitachi Co Ltd | 排ガス処理装置と排ガス処理方法 |
JP2015213889A (ja) * | 2014-05-13 | 2015-12-03 | 太平洋セメント株式会社 | セメントキルン排ガスの処理装置及び処理方法 |
WO2016132894A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-25 | Jfeエンジニアリング株式会社 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
高岡昌輝: "廃棄物燃焼過程における水銀の挙動と制御", 廃棄物学会誌, vol. 16, no. 4, JPN6019041096, 12 May 2005 (2005-05-12), JP, pages 213 - 222, ISSN: 0004140487 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6703748B2 (ja) | 2020-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6070971B1 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP6194840B2 (ja) | 排ガス処理装置及び方法 | |
JP5953342B2 (ja) | 水銀の再排出を低下させるための亜硫酸塩制御 | |
JP7047488B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP6315275B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
US20120125240A1 (en) | System and method of managing energy utilized in a flue gas processing system | |
CN112105442B (zh) | 废气汞去除系统 | |
JP6703748B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP7047487B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP6872169B2 (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP4667577B2 (ja) | 排ガス処理脱塩剤の供給量制御方法、供給量制御装置、及び廃棄物処理システム | |
JPH09276653A (ja) | プロセスガスの浄化方法 | |
JP2009247998A (ja) | 排ガス処理方法 | |
JP2019063765A (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP2020001030A (ja) | 排ガス水銀除去システム | |
JP7019562B2 (ja) | 海水排煙脱硫システム中の水銀制御 | |
CN113996157B (zh) | 一种锅炉超低排放控制方法 | |
JP7299721B2 (ja) | 排ガス処理システムおよび排ガス処理方法 | |
JP2005270722A (ja) | 排ガス処理方法およびその設備 | |
JP2010227747A (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP2019171290A (ja) | 薬剤の添加量制御方法 | |
KR20140126418A (ko) | 산성가스의 처리방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190109 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6703748 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |