JP2018031036A - 金属皮膜形成品の製造方法および金属皮膜形成品 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 119
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 113
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 90
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 86
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 70
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 40
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 26
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 18
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 66
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 19
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 abstract description 15
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 abstract 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 223
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 25
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 15
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 11
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 7
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 238000004952 furnace firing Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000011165 process development Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Laser Beam Processing (AREA)
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】金属粒子と溶媒とを混合し、金属粒子分散液を作製する金属粒子分散液作製工程と、金属粒子分散液を基材の表面に塗布して塗布膜を得る塗布膜形成工程と、塗布膜にレーザ光を照射して金属粒子の焼結膜を得るレーザ光照射工程と、を有し、上記レーザ光は、環状の集光部を有するリングビームであることを特徴とする金属皮膜形成品の製造方法を提供する。
【選択図】図3
Description
図1は本発明に係る金属皮膜形成品の製造方法の一例を示すフロー図であり、図2は本発明に係る金属皮膜形成品の製造方法の他の例を示すフロー図である。図1に示すように、本発明に係る金属皮膜形成品の製造方法は、金属粒子と溶媒を混合し、金属粒子分散液を作製する金属粒子分散液作製工程(S10)と、この金属粒子分散液を、基材の表面に塗布して、塗布膜を得る塗布膜形成工程(S11)と、塗布膜にレーザ光を照射して上記金属粒子の焼結膜を得るレーザ光照射工程(S12)とを必須の工程として有する。また、図2に示すように、塗布膜形成工程とレーザ光照射工程の間に、基材の表面に塗布した塗布膜を加熱して分散液に含まれる溶媒を乾燥除去する乾燥工程(S22)を有していても良い。以下、図2の乾燥工程を有するフロー図に沿って、各工程について詳述する。
金属粒子分散液作製工程では、基材に形成する金属皮膜の原料となる金属粒子と、この金属粒子を分散させる溶媒を混合し、金属粒子分散液(インク)を得る。金属粒子分散液には、必要に応じて、粒子結合剤(バインダー)や粘度調整剤が更に添加されていてもよい。金属粒子としては、金属皮膜形成品の用途を考慮し、後述するレーザ光照射工程において焼結可能なものを選択することができる。具体的には、Sn(スズ)Cu(銅)、Au(金)およびAg(銀)のナノ粒子およびマイクロ粒子を用いることができる。金属ナノ粒子を用いる場合、市販されている平均粒径5〜30nm(5nm以上30nm以下)のナノ粒子を用いることができる。一般に、表面エネルギーの高い金属ナノ粒子を分散液中(溶媒中)で凝集することなく安定に保つために、金属ナノ粒子表面には、金属ナノ粒子と化学結合した有機化合物の単分子膜が形成されている。
図3は図2のフローの一部(S21〜S23)を断面図とともに詳述するフロー図である。図3に示すように、作製した分散液を、基材1aに塗布して塗布膜2を形成する。塗布方法は、特に限定はなく、インクジェット法、ディップコート法およびディスペンサー法などの各種のインク塗布法を用いることができる。分散液の塗布量は、後述するレーザ光照射工程(S23)後に得られる焼結膜に必要とされる厚さに応じて決定する。また、塗布膜形成工程(S21)の前に、塗布エリアからの分散液の広がりを抑制するために、予め基材1aに撥水剤処理を施してもよい。撥水剤には、シリコーン系の離型剤のほか、フッ素系の離型剤も使用することができる。
次に、塗布膜2を加熱して塗布膜2に含まれる溶媒を乾燥除去する。乾燥温度は、溶媒の沸点以上の温度で、分散液の沸点未満の温度(金属粒子の焼結が始まらない温度)が好ましい。乾燥温度を金属粒子の融点より高い温度(例えば、300℃以上)とすると、レーザ光照射前に分散液中の金属粒子が焼結する結果、レーザ光照射後に得られる焼結膜中にボイドが発生して緻密な焼結膜を得ることができず、この結果基材とレーザ焼結膜との密着性が低下する。
次に、塗布膜にレーザ光を照射して焼結膜を得る。本発明では、レーザ光として、環状の集光部を有する「リングビーム」を用いる。図4Aはリングビームの集光部とそのエネルギー密度分布を模式的に示す図である。図4Aに示すように、リングビームは環状の集光部80を有し、エネルギー密度はリングの外周側寄り(図4A中のA)もしくは内周側寄り(図4A中のB)にピークを持つ強度分布を有する。環状の集光部80内の同一円周内において、エネルギー密度は一定となることから、集光部80が基材表面に形成された塗布膜に沿うようにリングビームを照射すれば、塗布膜の全周において一定の強度のレーザ光を照射することができる。この結果、基材に形成された塗布膜の全周において、膜厚および膜質が均一な焼結膜を得ることができる。本発明において、焼結膜の均一な膜質とは、未焼結部がないこと、膜内部に介在するボイドが無いことおよびピンホールが無いことを意味する。
(2)複数回に分けてレーザ照射したときの、境界部の膜質が異なるため、円周方向に均一な膜質が得られない
(3)複数回のレーザ照射による基材の機械的特性の変化や、酸化劣化などが起こる
(4)基材が金属の場合は、複数回のレーザ照射による金属組織変化(結晶粗大化、金属間化合物の成長など)や熱ダメージによる断線を生ずる
(5)基材が樹脂の場合は、熱ダメージによる変形や溶融断線、燃焼断線を生ずる
(6)基材がガラスや石英などの無機質の場合、溶融変形や断線を生ずる
(7)レーザビーム位置を固定して、基材を回転させて焼結する場合、基材を一回転させることでも円周方向に塗布した金属ナノ粒子膜の焼結は可能であるが、レーザ照射の開始と終了(一回転の始点と終点)の重なる点で焼結膜の不均一な点ができるので、円周方向で均一な膜は得られない。
上述したように、スポットビームを用いて曲面体、多面体および球体等の基材の全周を焼結する場合、2重にレーザ光が照射される箇所や、反対に、2重の照射を避けるようにして照射してレーザ光が照射されない箇所が生じ得る。このような事態が発生すると、基材に形成された塗布膜の全周において、膜厚および膜厚が均一な焼結膜を得ることが困難となる。
次に、上述した本発明に係る金属皮膜形成品の製造方法によって製造した金属皮膜形成品について説明する。図8は本発明に係る金属皮膜形成品の一例(金属端子)を示す模式図である。上述した本発明に係る金属皮膜形成品の製造法によって、図8に示す金属端子800(オス端子),801(メス端子)や、光ファイバのハーメチックシールを作製することができる。これらが有する金属皮膜9は、曲面体、多面体および球体の基材の表面に、溶融凝固組織を有する焼結膜が形成されたものであり、レーザ走査の境界部(レーザ照射を複数回実施した場合に生じる各走査間の模様)を持たない。金属皮膜が溶融凝固組織を有することおよびレーザ走査の境界部を持たないことは、顕微鏡観察によって確認することができる。
(1)レーザ線源;Nd:YAGレーザ照射装置
(2)焦点部リングビームの集光部外径;3mm(図9参照)、焦点部リングビーム長さ;2mm(図9参照)、中心部スポットビーム径;φ1.8mm(平凹レンズ2段、平凸レンズ2段によるリングビーム造形)
(3)照射方法;ファイバ移動速度0.5mm/s(ファイバを長手方向へ移動)
(4)レーザ出力;1.0W
(5)雰囲気;大気中
図15は実施例2で作製した光ファイバの側面の観察写真である。図に示すように、円周方向に均一な膜厚の焼結膜が得ることができた。
Claims (13)
- 金属粒子と溶媒とを混合し、金属粒子分散液を作製する金属粒子分散液作製工程と、
前記金属粒子分散液を基材の表面に塗布して塗布膜を得る塗布膜形成工程と、
前記塗布膜にレーザ光を照射して前記金属粒子の焼結膜を得るレーザ光照射工程と、を有し、
前記レーザ光は、環状の集光部を有するリングビームであることを特徴とする金属皮膜形成品の製造方法。 - 前記レーザ光は、前記リングビームの中心に、点状の集光部を有するスポットビームを更に有することを特徴とする請求項1記載の金属皮膜形成品の製造方法。
- 前記基材は、曲面体、多面体および球体からなることを特徴とする請求項1または2に記載の金属皮膜形成品の製造方法。
- 前記基材は、円柱状または中空円筒状の基材であり、
前記塗布膜形成工程において、前記基材の表面に前記金属粒子分散液を塗布し、前記円柱状または中空円筒状の基材の全周に沿って前記金属粒子分散液の塗布膜を形成し、
前記レーザ光照射工程において、前記レーザ光の前記環状の集光部が、前記円柱状または中空円筒状の基材の表面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射することを特徴とする請求項1記載の金属皮膜形成品の製造方法。 - 前記基材は、中空円筒状の基材であり、
前記塗布膜形成工程において、前記基材の外側の表面および内側の表面に前記金属粒子分散液を塗布し、前記基材の外側の表面の全周および内側の表面の全周に沿って前記金属粒子分散液の塗布膜を形成し、
前記レーザ光照射工程は、前記レーザ光の前記環状の集光部が、前記中空円筒状の基材の外側の表面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射する工程と、前記レーザ光の前記環状の集光部が、前記中空円筒状の基材の内側の表面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射する工程と、を有することを特徴とする請求項1記載の金属皮膜形成品の製造方法。 - 前記基材は、中空円筒状の基材であり、
前記塗布膜形成工程において、前記基材の外側の表面および内側の表面に前記金属粒子分散液を塗布し、前記基材の外側の表面の全周および内側の表面の全周に沿って前記金属粒子分散液の塗布膜を形成し、
前記レーザ光照射工程において、前記レーザ光の前記環状の集光部が、前記中空円筒状の基材の外側の表面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射し、前記レーザ光の前記点状の集光部が、前記中空円筒状の基材の内側の表面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射することを特徴とする請求項2記載の金属皮膜形成品の製造方法。 - 前記基材は、円柱状または中空円筒状の基材であり、
前記塗布膜形成工程において、前記基材の一端の外側の端面および側面に前記金属粒子分散液を塗布し、前記端面および前記側面の表面の全周に沿って前記金属粒子分散液の塗布膜を形成し、
前記レーザ光照射工程において、前記レーザ光の前記環状の集光部が、前記側面に設けられた前記塗布膜の全周に沿うように前記レーザ光を前記塗布膜に照射し、前記レーザ光の前記点状の集光部が、前記端面に設けられた前記塗布膜の全面に照射されるように前記レーザ光を前記塗布膜に照射することを特徴とする請求項2記載の金属皮膜形成品の製造方法。 - 前記金属粒子は、スズ、銅、金または銀のナノ粒子またはマイクロ粒子であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の金属皮膜形成品の製造方法。
- 前記基材は、ガラス、銅または銅合金であることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の金属皮膜形成品の製造方法。
- 曲面体、多面体および球体の基材の表面に金属焼結膜を有する金属皮膜形成品において、
前記金属焼結膜は、溶融凝固組織を有し、レーザビーム走査の境界部を持たないことを特徴とする金属皮膜形成品。 - 前記金属焼結膜は、主成分としてスズ、銅、金または銀を含むことを特徴とする請求項10記載の金属皮膜形成品。
- 前記基材は、ガラス、銅または銅合金であることを特徴とする請求項10または11に記載の金属皮膜形成品。
- 前記金属皮膜形成品は、光ファイバまたは金属端子であることを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載の金属皮膜形成品。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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