JP2018016826A - Power supply jig, work holding jig, and chemical treatment device - Google Patents

Power supply jig, work holding jig, and chemical treatment device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a power supply jig that prevents the peeling of a fluorine resin film provided on a substrate.SOLUTION: A power supply jig for power supply to a workpiece has a substrate with at least its surface made of titanium, a portion of the substrate that is connected to the workpiece is provided with a noble metal film, and at least part of the surface of the substrate, excluding the portion at which the noble metal film is provided, includes a fluorine resin film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、給電治具、ワーク保持治具、化学処理装置に関する。   The present invention relates to a power feeding jig, a work holding jig, and a chemical processing apparatus.

近年各種電子機器には、絶縁性基材上に導電層や、各種機能層を形成した基板が用いられるようになっている。そして、上述の基板を製造するに当って、絶縁性基材上に導電層や、各種機能層を化学処理により形成する場合などに、様々な化学処理装置が従来から用いられている。   In recent years, various electronic devices have come to use substrates in which conductive layers and various functional layers are formed on an insulating base material. And in manufacturing the above-mentioned board | substrate, various chemical processing apparatuses are used conventionally, when forming a conductive layer and various functional layers on an insulating base material by chemical processing.

例えば特許文献1には、リールに巻かれたワークである長尺シートを供給するワーク供給装置とワークをリールに巻き取るワーク巻取り装置との間に処理槽を配置して構成し、ワークの面を垂直方向としてワーク供給装置からワーク巻取り装置へワークを連続的に搬送しながらめっき処理する長尺シートのめっき装置であって、処理槽の上部にワークの上端を挾持して給電しながら搬送する搬送装置を設け、該搬送装置のワークを挾持するワーク挾持部は処理槽内で下降してワークを挾持するものとし、ワーク巻取り装置によるワークの搬送速度と搬送装置によるワークの搬送速度とを同期させたことを特徴とする長尺シートのめっき装置が開示されている。 For example, in Patent Document 1, a processing tank is disposed between a workpiece supply device that supplies a long sheet, which is a workpiece wound on a reel, and a workpiece winding device that winds the workpiece on a reel. It is a long sheet plating device that performs plating while conveying the workpiece continuously from the workpiece supply device to the workpiece winding device with the surface vertical, while holding the upper end of the workpiece on the upper part of the treatment tank and feeding power Provided with a transport device for transporting, the work gripping part that grips the work of the transport device is lowered in the processing tank to grip the work, and the work transport speed by the work winding device and the work transport speed by the transport device And a long sheet plating apparatus characterized by the fact that they are synchronized with each other.

特許文献1に開示されためっき装置のように、化学処理装置の種類によってはワークに対して給電する必要があり、給電治具が用いられている。特許文献1に開示されためっき装置においては、ワークを搬送する搬送装置が、ワークを挟持して給電しながら搬送するように構成されている。   Like the plating apparatus disclosed in Patent Document 1, it is necessary to supply power to the workpiece depending on the type of the chemical processing apparatus, and a power supply jig is used. In the plating apparatus disclosed in Patent Document 1, a conveying device that conveys a workpiece is configured to convey the workpiece while feeding and feeding the workpiece.

このような給電治具は、ワークに対して給電するため、基体には金属を用いるのが一般的である。ただし、化学処理装置により、基体についても化学処理がなされたり、基体と他の部材とが接触する等して漏電することを防止するため、ワークと接触する部分や、他の部材との接続部を除いて、基体の表面にフッ素樹脂製の膜を配置することが行われている。   Since such a power supply jig supplies power to the workpiece, a metal is generally used for the base. However, in order to prevent chemical processing from being performed on the substrate by the chemical processing apparatus, or leakage due to contact between the substrate and other members, etc., the contact portion with the workpiece or a connection portion with another member A film made of a fluororesin is disposed on the surface of the substrate except for.

特開2006−193794号公報JP 2006-193794 A

しかしながら、基体の表面にフッ素樹脂製の膜(フッ素樹脂膜)を配置した場合、基体とフッ素樹脂膜との密着性が低く、繰り返し用いることで、フッ素樹脂膜が剥離する場合があるという問題があった。   However, when a fluororesin film (fluororesin film) is disposed on the surface of the substrate, the adhesion between the substrate and the fluororesin film is low, and the fluororesin film may peel off due to repeated use. there were.

上記従来技術の問題に鑑み、本発明の一側面では、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制した給電治具を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems of the related art, an object of one aspect of the present invention is to provide a power supply jig that suppresses peeling of a fluororesin film provided on a substrate.

上記課題を解決するため本発明の一側面では、
ワークに給電するための給電治具であって、
少なくとも表面がチタン製である基体を有し、
前記基体の、ワークと接続する部分に貴金属膜が配置され、
前記貴金属膜を配置した部分を除いた、前記基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜が配置された給電治具を提供する。
In order to solve the above problems, in one aspect of the present invention,
A power supply jig for supplying power to a workpiece,
Having at least a substrate whose surface is made of titanium;
A noble metal film is disposed on a portion of the base that is connected to the workpiece,
Provided is a power supply jig in which a fluororesin film is directly disposed on at least a part of the surface of the base body excluding a portion where the noble metal film is disposed.

本発明の一側面によれば、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制した給電治具を提供することができる。   According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a power supply jig that suppresses peeling of a fluororesin film provided on a substrate.

本発明の実施形態に係る給電治具の説明図。Explanatory drawing of the electric power feeding jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るワーク保持治具の説明図。Explanatory drawing of the workpiece holding jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る化学処理装置の説明図。Explanatory drawing of the chemical processing apparatus which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
[給電治具]
以下に本発明の給電治具の一実施形態について説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are not departed from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
[Power supply jig]
An embodiment of the power supply jig of the present invention will be described below.

本実施形態の給電治具は、ワークに給電するための給電治具であって、
少なくとも表面がチタン製である基体を有し、
前記基体の、ワークと接続する部分に貴金属膜が配置され、
前記貴金属膜を配置した部分を除いた、前記基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜が配置された給電治具とすることができる。
The power supply jig of this embodiment is a power supply jig for supplying power to a workpiece,
Having at least a substrate whose surface is made of titanium;
A noble metal film is disposed on a portion of the base that is connected to the workpiece,
A power feeding jig in which a fluororesin film is directly disposed on at least a part of the surface of the substrate excluding a portion where the noble metal film is disposed can be provided.

図1(a)、図1(b)を用いながら、本実施形態の給電治具について説明する。   The power supply jig according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b).

図1(a)は、本実施形態の給電治具のワークと接触する部分を含む側の面を正面とした正面図を示している。また、図1(b)は、図1(a)におけるA−A´線での断面図を示している。   Fig.1 (a) has shown the front view which made the surface of the side containing the part which contacts the workpiece | work of the electric power feeding jig | tool of this embodiment the front. Moreover, FIG.1 (b) has shown sectional drawing in the AA 'line in Fig.1 (a).

図1(a)、図1(b)は、本実施形態の給電治具10を示しており、少なくとも表面がチタン製である基体11を有している。   FIG. 1A and FIG. 1B show a power supply jig 10 according to this embodiment, which has a base body 11 having at least a surface made of titanium.

そして、基体11のワークと対向する面、すなわちワークと接続する部分上に貴金属膜12が配置されている。また、貴金属膜12を配置した部分を除いた、基体11の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜13が配置されている。   A noble metal film 12 is disposed on the surface of the substrate 11 facing the workpiece, that is, on the portion connected to the workpiece. Further, the fluororesin film 13 is directly disposed on at least a part of the surface of the base 11 except for the portion where the noble metal film 12 is disposed.

以下、各部材について説明する。   Hereinafter, each member will be described.

基体11は、少なくとも表面がチタン製であればよく、すなわち少なくとも表面部分がチタンにより構成されていればよく、例えばチタン以外の金属等で形成されたコア部の表面に、チタン膜を配置した構成とすることもできる。また、基体11全体が、チタンから構成されていてもよい。   The substrate 11 only needs to have at least a surface made of titanium, that is, at least the surface portion may be made of titanium. For example, a structure in which a titanium film is arranged on the surface of a core portion formed of a metal other than titanium or the like. It can also be. Moreover, the whole base | substrate 11 may be comprised from titanium.

本発明の発明者の検討によれば、基体11の少なくとも表面をチタン製とし、フッ素樹脂膜13を基体11の表面と直接接触するように配置することで、基体11とフッ素樹脂膜13との密着性を特に高めることができる。このため、基体11上に設けた樹脂膜であるフッ素樹脂膜13が剥離することを抑制することが可能になる。   According to the study of the inventor of the present invention, at least the surface of the substrate 11 is made of titanium, and the fluororesin film 13 is disposed so as to be in direct contact with the surface of the substrate 11. Adhesion can be particularly enhanced. For this reason, it becomes possible to suppress that the fluororesin film | membrane 13 which is a resin film provided on the base | substrate 11 peels.

また、基体11の少なくとも表面をチタン製とすることで、基体11の電気抵抗を抑制することができるため、給電治具に接続される給電手段から、ワークへ供給する電力のロスを低減することが可能になる。   Moreover, since at least the surface of the base body 11 is made of titanium, the electrical resistance of the base body 11 can be suppressed, so that the loss of power supplied to the workpiece from the power supply means connected to the power supply jig can be reduced. Is possible.

基体11の形状は特に限定されるものではないが、図1(b)に示したように、基体11は、後述する貴金属膜を配置した部分と垂直な面、すなわちワークと接続する部分と垂直な面であるA−A´線での断面形状が、L字形状であることが好ましい。このため、基体11は、図1(b)に示すように屈曲部111を有し、貴金属膜12を配置した部分を含む側の一方の辺112と、もう一方の辺、すなわち例えば給電手段等他の部材と接続する側の辺となる他方の辺113と、でL字形状を形成できる。   The shape of the substrate 11 is not particularly limited, but as shown in FIG. 1B, the substrate 11 is perpendicular to a surface perpendicular to a portion where a noble metal film to be described later is arranged, that is, a portion connected to a workpiece. It is preferable that the cross-sectional shape along the line AA ′, which is a flat surface, is L-shaped. For this reason, the base body 11 has a bent portion 111 as shown in FIG. 1B, and includes one side 112 on the side including the portion where the noble metal film 12 is disposed, and the other side, that is, for example, a power supply means. An L-shape can be formed by the other side 113 serving as a side connected to another member.

後述するように、本実施形態の給電治具は、2つ組み合わせてワーク保持治具とすることができ、給電治具の上記断面形状をL字形状とすることで、ワーク保持治具とした場合に、ワークへの給電と、ワークの保持との機能を両立し易いためである。   As will be described later, two power supply jigs of the present embodiment can be combined into a work holding jig, and the cross-sectional shape of the power supply jig is L-shaped to form a work holding jig. This is because it is easy to achieve both functions of supplying power to the workpiece and holding the workpiece.

なお、図1(b)においては、一方の辺112の方が、他方の辺113よりも短い例を示しているが、係る形態に限定されるものではない。ただし、上述のように、ワーク保持治具とする場合、ワークを保持(挟持)する爪部となる一方の辺112の方が短く、把持したワークの端部を収納する他方の辺113の方が長いことが好ましい。   In FIG. 1B, an example in which one side 112 is shorter than the other side 113 is shown, but the present invention is not limited to such a form. However, as described above, when the workpiece holding jig is used, one side 112 serving as a claw for holding (clamping) the workpiece is shorter, and the other side 113 storing the end of the gripped workpiece is stored. Is preferably long.

貴金属製の膜である貴金属膜12を、基体11のワークと接続する部分、すなわち基体11のワークと電気的に接続する部分に配置することにより、基体11と、ワークとの間の接触を高め、より電気を流れやすくすることが可能になる。貴金属としては耐酸性があり、銅よりも貴な金属を好ましく使用でき、例えば、白金、金、銀、パラジウム、イリジウム等を用いることができる。このように貴金属膜12を配置するため、本実施形態の給電治具10の基体11は、貴金属膜12を介してワークと接続することになる。   By placing the noble metal film 12, which is a noble metal film, on the portion of the substrate 11 that is connected to the workpiece, that is, the portion of the substrate 11 that is electrically connected to the workpiece, the contact between the substrate 11 and the workpiece is enhanced. It becomes possible to make electricity flow more easily. As the noble metal, there is acid resistance, and a noble metal can be preferably used rather than copper. For example, platinum, gold, silver, palladium, iridium and the like can be used. Since the noble metal film 12 is arranged in this way, the base 11 of the power supply jig 10 of the present embodiment is connected to the workpiece via the noble metal film 12.

なお、従来の給電治具においては、基体の表面全体に貴金属膜を形成する場合があったが、本実施形態の給電治具においては、貴金属膜を、基体11のワークと接続する部分に配置し、基体11の表面のチタンと、フッ素樹脂膜13とを直接接触するように構成することにより、フッ素樹脂膜13の基体11に対する密着性を高めることができる。また、貴金属膜を形成する範囲を限定することにより、高価な貴金属の使用量を低減し、コストを抑制できる。   In the conventional power supply jig, a noble metal film may be formed on the entire surface of the base. However, in the power supply jig of the present embodiment, the noble metal film is disposed at a portion of the base 11 connected to the workpiece. In addition, when the titanium on the surface of the substrate 11 and the fluororesin film 13 are configured to be in direct contact, the adhesion of the fluororesin film 13 to the substrate 11 can be enhanced. Further, by limiting the range in which the noble metal film is formed, the amount of expensive noble metal used can be reduced and the cost can be suppressed.

そして、フッ素樹脂膜13は、基体11の表面のうち、貴金属膜12を配置した部分を除いた少なくとも一部に形成することができる。フッ素樹脂製の膜であるフッ素樹脂膜13を設けることにより、基体11が化学処理装置において化学処理されたり、基体11と他の部材とが接触し、漏電することを防止できる。   And the fluororesin film | membrane 13 can be formed in at least one part except the part which has arrange | positioned the noble metal film | membrane 12 among the surfaces of the base | substrate 11. FIG. By providing the fluororesin film 13 which is a film made of a fluororesin, it is possible to prevent the base 11 from being chemically processed in the chemical processing apparatus, or from contacting the base 11 with another member and causing electric leakage.

フッ素樹脂膜13は、基体11のうち、上述の貴金属膜12を配置した部分、及び他の部材と接続する部分114を除いた、基体11の表面全体に配置することが好ましい。このように、所定の領域を除いた基体11の表面全体にフッ素樹脂膜13を配置することにより、特に基体11が化学処理装置において化学処理されることや、他の部材との接触により漏電することをより確実に防ぐことができるため、好ましい。   The fluororesin film 13 is preferably disposed on the entire surface of the substrate 11 excluding the portion of the substrate 11 where the above-described noble metal film 12 is disposed and the portion 114 connected to another member. As described above, by disposing the fluororesin film 13 on the entire surface of the base 11 excluding a predetermined region, the base 11 is subjected to chemical processing in a chemical processing apparatus, or leakage due to contact with other members. This can be prevented more reliably.

なお、他の部材と接続する部分114の他の部材とは、特に限定されないが、例えば給電治具10を固定する部材や、給電治具10に電力を供給する給電手段や、給電手段と給電治具を接続する部材等が挙げられる。本実施形態の給電治具10を後述するワーク保持治具に用いる場合、他の部材としては回転支持板や、ベース板等が挙げられる。   In addition, although it does not specifically limit with the other member of the part 114 connected to another member, For example, the member which fixes the electric power feeding jig | tool 10, the electric power feeding means which supplies electric power to the electric power feeding jig 10, and the electric power feeding means and electric power feeding Examples include a member for connecting a jig. When the power supply jig 10 of this embodiment is used for a work holding jig described later, examples of other members include a rotation support plate and a base plate.

フッ素樹脂膜に用いるフッ素樹脂としては特に限定されるものではないが、チタン上に直接形成できるフッ素樹脂であることが好ましい。具体的にはフッ素樹脂としては、例えばエチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー(ETFE)を好ましく用いることができる。すなわち、フッ素樹脂膜は、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー膜(ETFE膜)であることが好ましい。   The fluororesin used for the fluororesin film is not particularly limited, but is preferably a fluororesin that can be directly formed on titanium. Specifically, as the fluororesin, for example, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE) can be preferably used. That is, the fluororesin film is preferably an ethylene-tetrafluoroethylene copolymer film (ETFE film).

次に、本実施形態の給電治具の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the power supply jig of this embodiment will be described.

本実施形態の給電治具の製造方法は例えば以下の工程を有することができる。   The manufacturing method of the electric power feeding jig of this embodiment can have the following processes, for example.

基体を用意する基体準備工程。   A substrate preparation step of preparing a substrate.

基体のワークと接続する部分に貴金属膜を形成する貴金属膜形成工程。   A noble metal film forming step of forming a noble metal film on a portion of the substrate connected to the workpiece;

基体の貴金属膜を配置した部分を除いた、基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜を形成するフッ素樹脂膜形成工程。   A fluororesin film forming step of directly forming a fluororesin film on at least a part of the surface of the substrate excluding a portion where the noble metal film is disposed on the substrate.

上記各工程を実施する順番は特に限定されないが、上述の順に実施することが好ましい。   The order in which the above steps are performed is not particularly limited, but it is preferable to perform the steps in the order described above.

基体準備工程では、所定の形状に加工した基体を準備することができる。基体はその形状は特に限定されないが、例えば、図1(a)、図1(b)を用いて説明したように、貴金属膜形成工程で貴金属膜を形成する部分と垂直な面であるA−A´線での断面形状が、L字形状であることが好ましい。このため、例えばL字形状に加工した基体11を準備することができる。   In the substrate preparation step, a substrate processed into a predetermined shape can be prepared. The shape of the substrate is not particularly limited. For example, as described with reference to FIGS. 1A and 1B, the surface A− is a surface perpendicular to the portion where the noble metal film is formed in the noble metal film formation step. The cross-sectional shape at the A ′ line is preferably L-shaped. For this reason, the base | substrate 11 processed into the L shape, for example can be prepared.

所定の形状に基体を加工する方法は特に限定されるものではないが、例えばプレス加工や、溶接等により、原料となる金属板等から所望の形状に加工することができる。また、鋳造等により、所望の形状の基体とすることもできる。   The method for processing the substrate into a predetermined shape is not particularly limited, but it can be processed into a desired shape from a metal plate or the like as a raw material by, for example, press working or welding. Moreover, it can also be set as the base | substrate of a desired shape by casting etc.

なお、既述のように、基体は少なくとも表面がチタン製であることが好ましい。このため、基体準備工程は、例えばチタン以外の金属等で所定の形状のコア部を形成し、該コア部の表面にチタン膜を形成(成膜)する工程とすることもできる。   As described above, it is preferable that at least the surface of the substrate is made of titanium. For this reason, a base | substrate preparation process can also be set as the process of forming a core part of a predetermined shape, for example with metals other than titanium, and forming a titanium film on the surface of the core part (film formation).

また、基体はチタンにより構成されていても良い。このため、基体準備工程は、チタン製の金属板を用いてプレス加工や、溶接等により所望の形状を有するチタン製の基体を製造する工程とすることもできる。また、鋳造により所望の形状を有するチタン製の基体を製造する工程とすることもできる。   The substrate may be made of titanium. For this reason, a base | substrate preparation process can also be made into the process of manufacturing the base | substrate made from titanium which has a desired shape by press work, welding, etc. using a metal plate made from titanium. Moreover, it can also be set as the process of manufacturing the base | substrate made from titanium which has a desired shape by casting.

そして、貴金属膜形成工程では、基体のワークと接続する部分に貴金属膜を形成することができる。貴金属膜の形成方法は特に限定されるものではなく、任意の方法により形成することができる。例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法等の乾式めっき法や、電解めっき法等の湿式めっき法などを用いることができる。   In the noble metal film forming step, the noble metal film can be formed on the portion of the substrate that is connected to the workpiece. The method for forming the noble metal film is not particularly limited, and can be formed by any method. For example, a dry plating method such as a sputtering method, an ion plating method, or an evaporation method, or a wet plating method such as an electrolytic plating method can be used.

フッ素樹脂膜形成工程では、貴金属膜を配置した部分を除いた、基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜を形成することができる。   In the fluororesin film forming step, the fluororesin film can be directly formed on at least a part of the surface of the substrate excluding the portion where the noble metal film is disposed.

なお、本実施形態の給電治具の製造方法では、フッ素樹脂膜形成工程を実施する前に、焼成工程を実施することが好ましい。これは、焼成工程を実施することで、基体の表面に付着した有機物の低減、除去や、化学状態の改質を行うことができるからである。   In addition, in the manufacturing method of the electric power feeding jig of this embodiment, it is preferable to implement a baking process before implementing a fluororesin film | membrane formation process. This is because by performing the firing step, organic substances adhering to the surface of the substrate can be reduced and removed, and the chemical state can be modified.

焼成工程の条件は特に限定されないが、例えば300℃以上600℃以下の温度で、30分以上3時間以下実施することが好ましい。焼成工程における雰囲気の条件は特に限定されないが、大気雰囲気等の酸素含有雰囲気であることが好ましい。   There are no particular restrictions on the conditions for the firing step, but it is preferable to carry out at a temperature of 300 ° C. to 600 ° C. for 30 minutes to 3 hours, for example. The conditions of the atmosphere in the firing step are not particularly limited, but an oxygen-containing atmosphere such as an air atmosphere is preferable.

焼成工程は、例えば貴金属膜形成工程の後、フッ素樹脂膜形成工程の前に実施することが好ましい。   The firing step is preferably performed, for example, after the noble metal film forming step and before the fluororesin film forming step.

以上に説明した本実施形態の給電治具によれば、少なくとも表面がチタン製である基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜が配置されている。このため、基体と、フッ素樹脂膜との密着性を特に高めることができ、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制できる。
[ワーク保持治具]
次に、ワーク保持治具の一実施形態について説明する。
According to the power supply jig of the present embodiment described above, the fluororesin film is disposed directly on at least a part of the surface of the substrate having at least a surface made of titanium. For this reason, the adhesiveness of a base | substrate and a fluororesin film | membrane can be improved especially, and it can suppress that the fluororesin film | membrane provided on the base | substrate peels.
[Work holding jig]
Next, an embodiment of a workpiece holding jig will be described.

本実施形態のワーク保持治具は、既述の給電治具を一対有し、一対の給電治具の、貴金属膜が対向するように配置した構成を有することができる。   The work holding jig of the present embodiment can have a configuration in which a pair of the above-described power supply jigs is provided and the noble metal films of the pair of power supply jigs are opposed to each other.

図2を用いて、本実施形態のワーク保持治具の構成例について説明する。   A configuration example of the workpiece holding jig of the present embodiment will be described with reference to FIG.

図2に示したように、本実施形態のワーク保持治具20は、既述の給電治具10a、10bを有することができる。係る一対の給電治具10a、10bは、貴金属膜12a、12bが対向するように配置することができる。このように一対の給電治具10a、10bを、貴金属膜12a、12bが対向するように配置することで、ワークを貴金属膜12a、12b間で保持(挟持)し、ワークに対して貴金属膜12a、12bを介して給電することができるワーク保持治具とすることができる。   As shown in FIG. 2, the workpiece holding jig 20 of the present embodiment can include the power feeding jigs 10 a and 10 b described above. The pair of power supply jigs 10a and 10b can be arranged so that the noble metal films 12a and 12b face each other. Thus, by arranging the pair of power supply jigs 10a and 10b so that the noble metal films 12a and 12b face each other, the work is held (clamped) between the noble metal films 12a and 12b, and the noble metal film 12a is held against the work. , 12b can be used as a work holding jig that can be powered.

そして、ワーク保持治具20は、貴金属膜12a、12b間の距離を変化させることにより、ワークの保持と、解放とを行うことができる。   The workpiece holding jig 20 can hold and release the workpiece by changing the distance between the noble metal films 12a and 12b.

ワーク保持治具は、必要に応じてさらに任意の部材を有することができる。   The workpiece holding jig can further include an arbitrary member as necessary.

例えば図2に示したように、ワーク保持治具20は、ベース板21や、回転支持板22、回転軸23、ローラ24を有することができる。   For example, as shown in FIG. 2, the workpiece holding jig 20 can include a base plate 21, a rotation support plate 22, a rotation shaft 23, and a roller 24.

ベース板21は、例えば金属材料等の導電体で形成された板状部材とすることができ、後述する給電手段27等からベース板21を介して給電治具に電力を供給することができる。   The base plate 21 can be a plate-like member formed of a conductor such as a metal material, for example, and power can be supplied to the power supply jig via the base plate 21 from power supply means 27 and the like described later.

回転支持板22は、回転軸23を中心に回転可能に設けられ、例えばばね等により図2における反時計回り方向に付勢されている。また、回転支持板22は、上端部にローラ24を設けておくことができる。   The rotation support plate 22 is provided so as to be rotatable about a rotation shaft 23 and is urged counterclockwise in FIG. 2 by, for example, a spring or the like. Further, the rotation support plate 22 can be provided with a roller 24 at the upper end.

そして、既述の給電治具10a、10bは、それぞれベース板21、回転支持板22の下端部に接続しておくことができる。   The power feeding jigs 10 a and 10 b described above can be connected to the lower ends of the base plate 21 and the rotation support plate 22, respectively.

回転支持板22は、例えばローラ24をベース板21に向かって押圧することで、給電治具10bと共に回転軸23を中心に時計回り方向に回転し、給電治具10a、10bの貴金属膜12a、12b間を開いた状態とすることができる。この状態で、給電治具10a、10bの貴金属膜12a、12b間にワークが供給された後、押圧されていたローラ24を解放することで、回転支持板22及び給電治具10bが図2に示す位置に戻り、給電治具10a、10bの貴金属膜12a、12bの間でワークを保持できる。   The rotation support plate 22 is rotated clockwise around the rotation shaft 23 together with the power supply jig 10b by pressing the roller 24 toward the base plate 21, for example, and the noble metal film 12a of the power supply jigs 10a and 10b, 12b can be opened. In this state, after the workpiece is supplied between the noble metal films 12a and 12b of the power supply jigs 10a and 10b, the pressed roller 24 is released, so that the rotation support plate 22 and the power supply jig 10b are shown in FIG. The workpiece can be held between the noble metal films 12a and 12b of the power supply jigs 10a and 10b.

そして、ワークを保持した状態で、ローラ24が再び押圧されて回転支持板22及び給電治具10bが回転軸23を中心に時計回り方向に回転すると、給電治具10a、10bの貴金属膜12a、12b間が開いてワークが開放される。   When the roller 24 is pressed again with the workpiece held, and the rotation support plate 22 and the power supply jig 10b rotate in the clockwise direction around the rotation shaft 23, the noble metal films 12a of the power supply jigs 10a and 10b, The space between 12b is opened and the workpiece is released.

また、後述する化学処理装置等に装着してワーク保持治具を用いる場合、必要に応じて任意の部材をワーク保持治具に接続するように構成することもできる。これらの部材については後述する。   In addition, when a work holding jig is used by being mounted on a chemical processing apparatus or the like described later, an arbitrary member can be connected to the work holding jig as necessary. These members will be described later.

以上に説明した本実施形態のワーク保持治具によれば、既述の給電治具を有しており、係る給電治具は、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制できている。このため、例えば給電治具の交換等のメンテナンスを行う回数を減らすことができ、生産性を向上させることができる。
[化学処理装置]
次に、本実施形態の化学処理装置の一実施形態について説明する。
According to the work holding jig of the present embodiment described above, the power supply jig described above is included, and the power supply jig can suppress the peeling of the fluororesin film provided on the substrate. Yes. For this reason, the frequency | count of performing maintenance, such as replacement | exchange of an electric power feeding jig, can be reduced, for example, and productivity can be improved.
[Chemical processing equipment]
Next, an embodiment of the chemical treatment apparatus of this embodiment will be described.

本実施形態の化学処理装置は、既述のワーク保持治具を備えた化学処理装置とすることができる。従って、本実施形態の化学処理装置は、既述の給電治具を備えた化学処理装置ということもできる。   The chemical treatment apparatus of this embodiment can be a chemical treatment apparatus provided with the above-described workpiece holding jig. Therefore, the chemical treatment apparatus of the present embodiment can also be referred to as a chemical treatment apparatus provided with the power feeding jig described above.

本実施形態の化学処理装置について、図2、図3を用いて説明する。   The chemical processing apparatus of this embodiment is demonstrated using FIG. 2, FIG.

図3は、本実施形態の化学処理装置の上面図を示している。   FIG. 3 shows a top view of the chemical treatment apparatus of the present embodiment.

図3に示すように、化学処理装置30は例えば、ワーク供給装置31、ワーク回収装置32、化学処理槽34、ワーク保持治具20を有することができる。また、化学処理装置30はさらに、前処理槽33、後処理槽35、エンドレスベルト36、プーリー371、372等を有することもできる。そして、被処理対象物であるワーク38の表面に化学処理槽34において化学処理、例えば電気めっき処理等を施すことができる。なお、以下に示す図面において、X方向はプーリー371からプーリー372までの間におけるワーク38の搬送方向、かつ化学処理槽34の長手方向を示し、Y方向は化学処理槽34の短手方向を示し、Z方向は鉛直方向を示している。   As shown in FIG. 3, the chemical treatment apparatus 30 can include, for example, a work supply device 31, a work collection device 32, a chemical treatment tank 34, and a work holding jig 20. The chemical treatment apparatus 30 can further include a pretreatment tank 33, a posttreatment tank 35, an endless belt 36, pulleys 371, 372, and the like. Then, the surface of the workpiece 38 that is the object to be processed can be subjected to chemical processing, for example, electroplating processing in the chemical processing tank 34. In the drawings shown below, the X direction indicates the conveyance direction of the workpiece 38 between the pulley 371 and the pulley 372 and the longitudinal direction of the chemical treatment tank 34, and the Y direction indicates the short direction of the chemical treatment tank 34. , Z direction indicates the vertical direction.

ワーク38としては特に限定されるものではなく、化学処理を要する材料が挙げられる。ワーク38としては、例えば樹脂材料等の各種材料で形成された絶縁性基材等を用いることができる。なお、ワーク38が絶縁性基材の場合には、ワーク保持治具20の給電治具から給電ができるように、その表面に例えば金属薄膜等の導電体からなるシード層を配置しておくことが好ましい。係るシード層は、ワーク38の化学処理を行う面に配置しておくことができる。従って、例えばワーク38の両面を化学処理する場合には両面に、ワーク38の片面を化学処理する場合には片面に、シード層を配置しておくことが好ましい。   The workpiece 38 is not particularly limited, and examples thereof include materials that require chemical treatment. As the work 38, for example, an insulating base material formed of various materials such as a resin material can be used. When the work 38 is an insulating substrate, a seed layer made of a conductor such as a metal thin film is disposed on the surface so that power can be supplied from the power supply jig of the work holding jig 20. Is preferred. Such a seed layer can be disposed on the surface of the workpiece 38 on which chemical treatment is performed. Therefore, for example, it is preferable to dispose a seed layer on both surfaces when both surfaces of the workpiece 38 are chemically treated, and on one surface when one surface of the workpiece 38 is chemically treated.

図3においては、ワーク38として長尺シート状のものを用いた例を示しているが、係る形態に限定されるものではない。ただし、生産性等の観点から長尺シート状のワークを用いることが好ましい。   In FIG. 3, although the example which used the long sheet-like thing as the workpiece | work 38 is shown, it is not limited to the form which concerns. However, it is preferable to use a long sheet-shaped workpiece from the viewpoint of productivity and the like.

ワーク供給装置31の構成は特に限定されないが、化学処理装置30の化学処理ラインにワーク38を供給する供給手段である。図3に示した例では、ロール状に巻き取られた状態のワーク38を複数の搬送ローラで送り出すことができるが、係る形態に限定されるものではない。   The configuration of the workpiece supply device 31 is not particularly limited, but is a supply means for supplying the workpiece 38 to the chemical processing line of the chemical processing device 30. In the example shown in FIG. 3, the workpiece 38 wound in a roll shape can be sent out by a plurality of conveyance rollers, but is not limited to such a form.

ワーク回収装置32の構成についても特に限定されないが、化学処理装置30において化学処理が施されたワーク38を回収する回収手段である。図3に示した例では、ワーク回収装置32は、ワーク38をロール状に巻き取って回収することができる。   The configuration of the workpiece recovery device 32 is not particularly limited, but is a recovery means for recovering the workpiece 38 that has been subjected to chemical processing in the chemical processing device 30. In the example illustrated in FIG. 3, the workpiece collection device 32 can collect the workpiece 38 by winding it in a roll shape.

従って、図3に示した例では、ロール・トゥー・ロール方式によりワーク38を搬送している。また、図3に示した例では、ワーク38はその幅方向を地面と鉛直方向に沿って保持し、搬送するように構成されている。   Therefore, in the example shown in FIG. 3, the workpiece 38 is conveyed by the roll-to-roll method. In the example shown in FIG. 3, the workpiece 38 is configured to hold and convey the width direction along the ground and the vertical direction.

前処理槽33は、ワーク38に化学処理の前処理を施す処理槽であり、例えば、ワーク38の表面を清浄化する処理や、ワーク38の表面の濡れ性を高める処理等を行うことができる。   The pretreatment tank 33 is a treatment tank that performs pretreatment for chemical treatment on the workpiece 38, and can perform, for example, a treatment for cleaning the surface of the workpiece 38, a treatment for improving the wettability of the surface of the workpiece 38, or the like. .

化学処理槽34は、ワーク38に化学処理を施す槽であり、例えば電解めっき処理を施すことができる。化学処理槽34において電解めっき処理を施す場合、該化学処理槽はめっき槽であり、その内部にめっき液を貯留することができる。また、電解めっき処理を施すため、電極や、めっき液を撹拌する手段等、図示しない任意の部材を配置することもできる。   The chemical treatment tank 34 is a tank that performs chemical treatment on the workpiece 38, and can perform, for example, electrolytic plating treatment. When the electrolytic plating treatment is performed in the chemical treatment tank 34, the chemical treatment tank is a plating tank, and a plating solution can be stored therein. Moreover, in order to perform an electroplating process, arbitrary members which are not shown in figure, such as an electrode and a means to stir a plating solution, can also be arrange | positioned.

なお、化学処理槽34としては電解めっき処理を施すめっき槽に限定されるものではなく、例えば電解エッチング等の他の電気化学的処理を施す化学処理槽とすることもできる。   The chemical treatment tank 34 is not limited to a plating tank for performing an electrolytic plating process, and may be a chemical treatment tank for performing other electrochemical treatment such as electrolytic etching.

化学処理槽34の形状やサイズは特に限定されるものではなく、化学処理に要する時間や、ワーク38の搬送速度等に応じて任意に選択することができる。例えば、化学処理槽34は、ワーク38の搬送方向に沿って長く延びる直方体形状とすることができる。   The shape and size of the chemical treatment tank 34 are not particularly limited, and can be arbitrarily selected according to the time required for the chemical treatment, the conveyance speed of the workpiece 38, and the like. For example, the chemical treatment tank 34 can have a rectangular parallelepiped shape that extends long along the conveyance direction of the workpiece 38.

また、化学処理槽34は、図3における右側面にZ方向、すなわち槽の高さ方向に長いスリット状の入口を、さらに左側面に右側面と同様にZ方向に長いスリット状の出口をそれぞれ配置しておくことができる。このように化学処理槽34の、ワークの搬送方向上流側、及び搬送方向下流側の側面にスリットを設けておくことで、ワーク38は、該スリットを通って、図3における右側面の入口から化学処理槽34に入り、例えば化学処理槽内の溶液に浸漬されて化学処理が施された後に左側面の出口から排出することができる。   In addition, the chemical treatment tank 34 has a slit-like inlet that is long in the Z direction, that is, the height direction of the tank on the right side in FIG. 3, and a slit-like outlet that is long in the Z direction like the right side on the left side. Can be placed. Thus, by providing slits on the side surfaces of the chemical treatment tank 34 on the upstream side and the downstream side in the conveyance direction of the workpiece, the workpiece 38 passes through the slit from the right side entrance in FIG. For example, after entering the chemical treatment tank 34 and being immersed in a solution in the chemical treatment tank to be subjected to chemical treatment, it can be discharged from the outlet on the left side.

後処理槽35では、化学処理が施されたワーク38の後処理として、例えば洗浄等を行うことができる。後処理槽35において洗浄を行う場合、例えば水洗や、薬液を用いた薬液洗浄等であってもよい。   In the post-treatment tank 35, for example, cleaning or the like can be performed as post-treatment of the workpiece 38 that has been subjected to chemical treatment. When washing is performed in the post-treatment tank 35, for example, washing with water or chemical cleaning using a chemical may be used.

エンドレスベルト36は、例えばステンレス等で形成された無端状の金属ベルトであり
、上述のように所定間隔で複数のワーク保持治具20が固定して設けられ、プーリー371、372に掛け渡すことができる。プーリー371、372は、少なくとも一方が、例えば図示しないモーター等により回転駆動し、プーリー371、372の回転に伴ってエンドレスベルト36を回転することができる。なお、エンドレスベルト36に配置したワーク保持治具20によりワーク38の端部を保持するため、エンドレスベルト36の回転速度は、ワーク供給装置31から供給されたワーク38の搬送速度に対応していることが好ましい。このため、ワーク供給装置31から供給されたワーク38の搬送速度に応じてプーリー371、372の回転速度を調整することが好ましい。
The endless belt 36 is an endless metal belt made of, for example, stainless steel, and is provided with a plurality of work holding jigs 20 fixed at predetermined intervals as described above, and can be wound around pulleys 371 and 372. it can. At least one of the pulleys 371 and 372 is rotationally driven by, for example, a motor (not shown), and the endless belt 36 can be rotated as the pulleys 371 and 372 rotate. Since the end of the workpiece 38 is held by the workpiece holding jig 20 disposed on the endless belt 36, the rotational speed of the endless belt 36 corresponds to the conveyance speed of the workpiece 38 supplied from the workpiece supply device 31. It is preferable. For this reason, it is preferable to adjust the rotational speed of the pulleys 371 and 372 according to the conveyance speed of the workpiece 38 supplied from the workpiece supply device 31.

エンドレスベルト36に設けられている複数のワーク保持治具20は、エンドレスベルト36により搬送され、ワーク供給装置31から送り出されるワーク38の幅方向の端部、例えば上端部を保持することができ、エンドレスベルト36と共に回転してワーク38を搬送できる。ワーク保持治具20は、ワーク38を保持した状態で前処理槽33、化学処理槽34、後処理槽35を通過し、所定の処理が施された後にワーク38を開放するように構成できる。ワーク保持治具20から開放されたワーク38は、ワーク回収装置32に巻き取られて回収される。   The plurality of work holding jigs 20 provided on the endless belt 36 can be held by the endless belt 36 in the width direction end, for example, the upper end, of the work 38 fed from the work supply device 31. The workpiece 38 can be conveyed by rotating together with the endless belt 36. The workpiece holding jig 20 can be configured to pass through the pretreatment tank 33, the chemical treatment tank 34, and the posttreatment tank 35 while holding the workpiece 38, and to release the workpiece 38 after a predetermined treatment is performed. The workpiece 38 released from the workpiece holding jig 20 is taken up and collected by the workpiece collection device 32.

このため、例えばワーク保持治具20がワーク38の保持(挟持)を開始する部分、及びワーク38を解放する部分には、例えば図2を用いて説明したローラ24をベース板21に向かって押圧する押圧手段を設けておくことができる。押圧手段としては、例えばワーク保持治具20の搬送経路と略平行な板状体(当て板)等を用いることができる。係る押圧手段は、エンドレスベルト36によるワーク保持治具20の搬送経路のうち、ワーク38の搬送経路と合流する直前から合流した直後の間や、ワーク38の搬送経路から離れる直前から離れた直後に渡って、該ワーク保持治具20の搬送経路と略平行に、かつローラ24を押圧するように設けることができる。   Therefore, for example, the roller 24 described with reference to FIG. 2 is pressed toward the base plate 21 at a part where the work holding jig 20 starts to hold (clamp) the work 38 and a part where the work 38 is released. It is possible to provide a pressing means to perform. As the pressing means, for example, a plate-like body (applying plate) substantially parallel to the conveyance path of the workpiece holding jig 20 can be used. Such a pressing means is included in the transport path of the work holding jig 20 by the endless belt 36, immediately after joining the transport path of the work 38, immediately after joining, or immediately after leaving the transport path of the work 38. It can be provided so as to press the roller 24 substantially in parallel with the transport path of the workpiece holding jig 20.

なお、ワーク38の上端を保持するワーク保持治具20に替えて、または加えて、ワーク38の下端を保持するワーク保持治具20を設けることもできる。特に、ワーク38の幅方向の上端、および下端それぞれを保持するワーク保持治具20を設けることが好ましい。これは、ワーク38の両端部を保持する構成にすることで、ワーク38にしわや弛み等の発生が防止され、より均一にめっき処理等の化学処理を行うことが可能になるからである。   A work holding jig 20 that holds the lower end of the work 38 may be provided instead of or in addition to the work holding jig 20 that holds the upper end of the work 38. In particular, it is preferable to provide a work holding jig 20 that holds the upper end and the lower end of the work 38 in the width direction. This is because the structure in which both ends of the work 38 are held prevents wrinkles or slack from occurring on the work 38 and enables chemical treatment such as plating to be performed more uniformly.

ワーク38の下端を保持するワーク保持治具20を設ける場合、ワーク38の上端を保持するワーク保持治具20の場合と同様に、ワーク38の下端側にプーリー間に掛け渡されたエンドレスベルトを設け、該エンドレスベルトに所定間隔で複数のワーク保持治具20を固定することができる。この場合、係るエンドレスベルトについてもプーリーの回転にあわせて回転するように構成できる。また、ワーク38の上端を保持するワーク保持治具の場合と同様に、ワーク保持治具20のローラ24をベース板21に向かって押圧する押圧手段等を設けることもできる。   When the work holding jig 20 that holds the lower end of the work 38 is provided, the endless belt that is stretched between the pulleys on the lower end side of the work 38 is provided in the same manner as the work holding jig 20 that holds the upper end of the work 38. And a plurality of workpiece holding jigs 20 can be fixed to the endless belt at predetermined intervals. In this case, the endless belt can also be configured to rotate in accordance with the rotation of the pulley. In addition, as in the case of the work holding jig that holds the upper end of the work 38, a pressing unit that presses the roller 24 of the work holding jig 20 toward the base plate 21 may be provided.

以上に説明した構成を有する化学処理装置30では、まず、ワーク供給装置31からワーク38が送り出され、エンドレスベルト36に設けられている複数のワーク保持治具20がワーク38の上端および/または下端を保持して搬送する。ワーク38は、ワーク保持治具20に保持された状態で搬送され、前処理槽33、化学処理槽34、後処理槽35を通って各処理が施される。一連の化学処理が施されたワーク38は、ワーク保持治具20から開放されてワーク回収装置32に巻き取られて回収される。化学処理装置30における以上の動作により、ワーク38に化学処理を施すことができる。   In the chemical processing apparatus 30 having the above-described configuration, first, the work 38 is sent out from the work supply apparatus 31, and the plurality of work holding jigs 20 provided on the endless belt 36 include the upper end and / or the lower end of the work 38. Hold and transport. The workpiece 38 is conveyed while being held by the workpiece holding jig 20, and is subjected to each treatment through the pretreatment tank 33, the chemical treatment tank 34, and the posttreatment tank 35. The workpiece 38 that has undergone a series of chemical treatments is released from the workpiece holding jig 20, wound around the workpiece collection device 32, and collected. Through the above operation in the chemical processing apparatus 30, the workpiece 38 can be subjected to chemical processing.

なお、図3に示した化学処理装置30においては、化学処理槽34に加えて、前処理槽33、および後処理槽35を設けた構成を用いて説明したが、前処理槽33、および後処理槽35はいずれか一方のみ設けるか、両方設けない構成とすることもできる。さらに、前処理槽33、及び後処理槽35は、それぞれ一槽のみに限定されず、複数設けることもできる。   In the chemical treatment apparatus 30 shown in FIG. 3, the pretreatment tank 33 and the posttreatment tank 35 are provided in addition to the chemical treatment tank 34, but the pretreatment tank 33 and the posttreatment tank 30 are provided. Only one or both of the treatment tanks 35 may be provided. Further, the pretreatment tank 33 and the posttreatment tank 35 are not limited to only one tank, and a plurality of them can be provided.

また、化学処理槽34についても、ワーク38の搬送経路上に複数設けることもできる。複数の化学処理槽34を設けた場合、該複数の化学処理槽34で実施する化学処理は同じである必要はなく、異なる化学処理を行う化学処理槽34を配置することもできる。   Also, a plurality of chemical treatment tanks 34 can be provided on the conveyance path of the workpiece 38. When a plurality of chemical treatment tanks 34 are provided, the chemical treatment performed in the plurality of chemical treatment tanks 34 is not necessarily the same, and chemical treatment tanks 34 that perform different chemical treatments can be arranged.

前処理槽33、化学処理槽34、及び後処理槽35の間には、各槽で用いた薬液を他の槽に持ち込まないようにワークを洗浄する洗浄手段や、ワークに付着した液を液切りする液切り手段、等を設けることもできる。化学処理槽34等を複数設けた場合には、各槽間についても同様に洗浄手段等を設けることもできる。   Between the pretreatment tank 33, the chemical treatment tank 34, and the posttreatment tank 35, cleaning means for cleaning the workpiece so that the chemical solution used in each tank is not brought into other tanks, or liquid attached to the workpiece is liquid. It is also possible to provide liquid draining means for cutting. When a plurality of chemical treatment tanks 34 and the like are provided, cleaning means and the like can be similarly provided between the tanks.

また、上述のように、エンドレスベルト36に、ワーク保持治具20を固定して用いる場合、ワーク保持治具20とエンドレスベルト36との間には必要に応じてさらに任意の部材を配置することもできる。さらに、ワーク保持治具20が、化学処理装置が有する、図3には図示していない給電手段から電力の供給を受けられるように構成することもできる。構成例について図2を用いて説明する。   In addition, as described above, when the work holding jig 20 is fixed to the endless belt 36, an arbitrary member is further disposed between the work holding jig 20 and the endless belt 36 as necessary. You can also. Furthermore, the work holding jig 20 can be configured to receive power from a power supply means (not shown in FIG. 3) of the chemical processing apparatus. A configuration example will be described with reference to FIG.

図2に示すように、ワーク保持治具20は、位置決めローラ25、ベルト固定板26、に接続した構成とすることができる。また、ワーク保持治具20は、ワークを保持して搬送すると共に、給電手段27からワークに通電するように、給電手段27と接続できるように構成することもできる。   As shown in FIG. 2, the workpiece holding jig 20 can be configured to be connected to a positioning roller 25 and a belt fixing plate 26. The work holding jig 20 can also be configured to be able to be connected to the power supply means 27 so as to hold and transport the work and to supply power to the work from the power supply means 27.

位置決めローラ25は、ベルト固定板26の両面に設けられ、例えば化学処理槽に設けられている位置決め部材の上面に当接することで、ワークが化学処理槽内の溶液の液面に対して適切な位置で搬送されるようにワーク保持治具の位置(高さ)決めをすることができる。   The positioning rollers 25 are provided on both surfaces of the belt fixing plate 26. For example, the positioning roller 25 is in contact with the upper surface of a positioning member provided in the chemical processing tank, so that the workpiece is appropriately applied to the liquid level of the solution in the chemical processing tank. The position (height) of the workpiece holding jig can be determined so that the workpiece is conveyed at the position.

ベルト固定板26は、両面に位置決めローラ25が設けられると共に、図2における右側に位置する不図示のエンドレスベルト36に固定される。ワーク保持治具20は、ベルト固定板26によってエンドレスベルト36に固定され、回転するエンドレスベルト36に伴って移動することができる。また、ベルト固定板26の上端側は略水平方向に屈曲し、給電手段27の給電ブラシ271に接触する接触面261を設けておくことができる。   The belt fixing plate 26 is provided with positioning rollers 25 on both sides, and is fixed to an endless belt 36 (not shown) located on the right side in FIG. The work holding jig 20 is fixed to the endless belt 36 by the belt fixing plate 26 and can move along with the rotating endless belt 36. Further, the upper end side of the belt fixing plate 26 can be bent in a substantially horizontal direction, and a contact surface 261 that contacts the power supply brush 271 of the power supply means 27 can be provided.

給電手段27は、給電ブラシ271に加えて、カソードブスバー272、押圧ばね273を有することができる。   The power supply means 27 can include a cathode bus bar 272 and a pressing spring 273 in addition to the power supply brush 271.

カソードブスバー272は、不図示の電源に整流器を介して接続されているX方向に長い矩形板状の電極であり、例えば化学処理槽の上部に固定して設けることができる。また、カソードブスバー272の下部には、複数の給電ブラシ271を設けておくことができる。   The cathode bus bar 272 is a rectangular plate-like electrode that is long in the X direction and is connected to a power source (not shown) via a rectifier, and can be fixed to the upper part of the chemical treatment tank, for example. A plurality of power supply brushes 271 can be provided below the cathode bus bar 272.

給電ブラシ271は、カソードブスバー272の下側を通過するワーク保持治具20に接続したベルト固定板26の接触面261に順次接触し、給電治具10a、10bに給電することができる。   The power supply brush 271 sequentially contacts the contact surface 261 of the belt fixing plate 26 connected to the work holding jig 20 that passes under the cathode bus bar 272, and can supply power to the power supply jigs 10a and 10b.

給電ブラシ271は、カソードブスバー272との間に設けられている押圧手段としての押圧ばね273によって、ベルト固定板26の接触面261に向かって押圧することができる。このため、給電ブラシ271は、ワーク保持治具20に接続されたベルト固定板26の接触面261のZ方向における位置にばらつきがあっても、接触面261との接触面積を一定に保つことができる。   The power supply brush 271 can be pressed toward the contact surface 261 of the belt fixing plate 26 by a pressing spring 273 as pressing means provided between the power supply brush 271 and the cathode bus bar 272. For this reason, the power supply brush 271 can keep the contact area with the contact surface 261 constant even if the position in the Z direction of the contact surface 261 of the belt fixing plate 26 connected to the workpiece holding jig 20 varies. it can.

以上に説明した本実施形態の化学処理装置によれば、既述の給電治具を含むワーク保持治具を有している。そして、係る給電治具は、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制できている。このため、例えば給電治具の交換等のメンテナンスを行う回数を減らすことができ、生産性を向上することができる。   According to the chemical treatment apparatus of the present embodiment described above, the work holding jig including the power feeding jig described above is included. And the electric power feeding jig which concerns can suppress that the fluororesin film provided on the base | substrate peels. For this reason, the frequency | count of performing maintenance, such as replacement | exchange of an electric power feeding jig, can be reduced, for example, and productivity can be improved.

以下に具体的な実施例、比較例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
チタン製の金属板をプレス成型によりL字型に折り曲げ、図1(a)、図1(b)に示した基体11を用意した(基体準備工程)。
Specific examples and comparative examples will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
[Example 1]
A metal plate made of titanium was bent into an L shape by press molding to prepare a base 11 shown in FIGS. 1A and 1B (base preparation step).

なお、図1(b)に示したように、基体11は折り曲げた箇所に屈曲部111を有し、端部に貴金属膜12を配置する側の一方の辺112と、給電手段等他の部材と接続する側の辺である他方の辺113とでL字形状を形成している。また、一方の辺112の方が他方の辺113よりも短くなるように、屈曲部111の位置を選択した。   As shown in FIG. 1B, the base 11 has a bent portion 111 at the bent portion, one side 112 on the side where the noble metal film 12 is disposed at the end, and other members such as a power supply means. An L-shape is formed with the other side 113 which is the side connected to the. In addition, the position of the bent portion 111 is selected so that one side 112 is shorter than the other side 113.

次いで、基体のワークと接続する部分にのみ電解めっき法により白金めっきを施し、貴金属膜12として白金膜を形成した(貴金属膜形成工程)。   Next, platinum plating was performed only on the portion of the substrate that is connected to the workpiece by electrolytic plating to form a platinum film as the noble metal film 12 (noble metal film forming step).

そして、貴金属膜12として白金膜を形成した基体11を500℃で1時間の加熱処理を行った(焼成工程)。   And the base | substrate 11 which formed the platinum film | membrane as the noble metal film | membrane 12 was heat-processed at 500 degreeC for 1 hour (baking process).

次に、基体11の表面のうち、貴金属膜12である白金膜を配置した部分、および他の部材と接続する部分114を除いて、全面にETFEのフッ素樹脂膜を直接形成し、給電治具10を形成した(フッ素樹脂膜形成工程)。   Next, an ETFE fluororesin film is directly formed on the entire surface of the substrate 11 except for the portion where the platinum film as the noble metal film 12 is disposed and the portion 114 connected to other members. 10 was formed (fluororesin film forming step).

得られた給電治具を銅濃度30g/L、硫酸濃度200g/Lの硫酸銅水溶液中で、給電治具の露出した貴金属膜上で電着と剥離を定電圧4V、電着時間:剥離時間=50秒:10秒で繰り返し行い、フッ素樹脂膜が基体から剥離するまでの日数を評価した。同様にして作製した5個の給電治具で評価したところ、剥離までの日数は平均で21日となった。
[実施例2]
焼成工程を実施しなかった点以外は、実施例1と同様にして給電治具を作製し、評価を行った。同様にして作製した5個の給電治具で評価したところ、フッ素樹脂膜が基体から剥離するまでの日数は、平均で18日であった。
[比較例1]
実施例1の場合と同様に、チタン製の金属板をプレス成型によりL字型に折り曲げ、基体を用意した(基体準備工程)。
The obtained power supply jig was subjected to electrodeposition and peeling on a noble metal film exposed to the power supply jig in a copper sulfate aqueous solution having a copper concentration of 30 g / L and a sulfuric acid concentration of 200 g / L. = 50 seconds: repeated for 10 seconds, and the number of days until the fluororesin film peels from the substrate was evaluated. When evaluated with five power supply jigs produced in the same manner, the average number of days until peeling was 21 days.
[Example 2]
A power feeding jig was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the firing step was not performed. When evaluated with five power supply jigs produced in the same manner, the average number of days until the fluororesin film was peeled off from the substrate was 18 days.
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, a titanium metal plate was bent into an L shape by press molding to prepare a base (base preparation step).

次いで、基体の表面全体にスパッタリング法により白金めっきを施し、貴金属膜として白金膜を形成した(貴金属膜形成工程)。   Next, platinum plating was performed on the entire surface of the substrate by sputtering to form a platinum film as a noble metal film (noble metal film forming step).

さらに、ワークと接続する面、及び他の部材と接続する部分を除いて白金膜の表面に下地材で表面処理を実施した(下地材処理工程)。   Furthermore, a surface treatment was performed on the surface of the platinum film with a base material except for a surface connected to the workpiece and a portion connected to another member (base material processing step).

次に、基体の表面のうち、ワークと接続する面、及び他の部材と接続する部分を除いて、全面にECTFE(エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー)のフッ素樹脂膜を形成し、給電治具を形成した(フッ素樹脂膜形成工程)。   Next, a fluorinated resin film of ECTFE (ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer) is formed on the entire surface except for the surface connected to the workpiece and the portion connected to other members on the surface of the substrate, and the power supply jig Was formed (fluororesin film forming step).

得られた給電治具を実施例1の場合と同様にして評価を行った。同様にして作製した5個の給電治具で評価したところ、フッ素樹脂膜が基体から剥離するまでの日数は平均で2日となった。   The obtained power supply jig was evaluated in the same manner as in Example 1. When evaluated with five power supply jigs produced in the same manner, the average number of days until the fluororesin film peeled from the substrate was 2 days.

以上に示した実施例1、実施例2、比較例1の結果から、少なくとも表面がチタン製である基体を有し、基体の、ワークと接続する部分に貴金属膜が配置され、貴金属膜を配置した部分を除いた、基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜が配置された給電治具とすることで、基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制できることを確認できた。   From the results of Example 1, Example 2 and Comparative Example 1 shown above, at least the surface has a base made of titanium, the noble metal film is arranged on the part of the base that is connected to the workpiece, and the noble metal film is arranged. It was confirmed that the fluororesin film provided on the substrate can be prevented from being peeled off by using the power supply jig in which the fluororesin film is directly disposed on at least a part of the surface of the substrate excluding the part.

また、実施例1、実施例2、比較例1で作製した給電治具をそれぞれ用い、図2を用いて説明したワーク保持治具20とし、図3を用いて説明した化学処理装置30に取付け、給電治具の貴金属膜表面に電着と剥離とを繰り返し実施した。その結果、上述の結果と同様に、実施例1、実施例2で作製した給電治具を用いたワーク保持治具を含む化学処理装置においては、比較例1で作製した給電治具を用いたワーク保持治具を含む化学処理装置と比較して、給電治具の基体上に設けたフッ素樹脂膜が剥離することを抑制できることが確認できた。このため、給電治具の交換等のメンテナンスを行う回数を減らすことができ、生産性を向上させることが可能になることを確認できた。   In addition, each of the power supply jigs prepared in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 is used as the work holding jig 20 described with reference to FIG. 2, and is attached to the chemical processing apparatus 30 described with reference to FIG. Then, electrodeposition and peeling were repeatedly performed on the surface of the noble metal film of the power supply jig. As a result, similarly to the above-described results, the chemical processing apparatus including the work holding jig using the power supply jigs manufactured in Example 1 and Example 2 used the power supply jig manufactured in Comparative Example 1. It was confirmed that the fluororesin film provided on the substrate of the power supply jig can be prevented from peeling as compared with the chemical treatment apparatus including the workpiece holding jig. For this reason, it has been confirmed that the number of maintenance operations such as replacement of the power supply jig can be reduced, and productivity can be improved.

なお、上記化学処理装置30の評価を行う際には、化学処理槽34として銅めっき液を入れた銅めっき槽を用意して実施した。この際、銅濃度が30g/l、硫酸濃度が200g/l、浴温が50℃の銅めっき液を用いている。また、前処理槽33としては、硫酸水溶液を入れた槽を、後処理槽35としては水を入れた槽をそれぞれ用意して実施した。   In addition, when evaluating the said chemical processing apparatus 30, the copper plating tank which put the copper plating solution as the chemical processing tank 34 was prepared, and it implemented. At this time, a copper plating solution having a copper concentration of 30 g / l, a sulfuric acid concentration of 200 g / l, and a bath temperature of 50 ° C. is used. In addition, a tank containing an aqueous sulfuric acid solution was prepared as the pretreatment tank 33, and a tank containing water was prepared as the posttreatment tank 35.

10、10a、10b 給電治具
11 基体
12、12a、12b 貴金属膜
13 フッ素樹脂膜
20 ワーク保持治具
30 化学処理装置
10, 10a, 10b Power supply jig 11 Base body 12, 12a, 12b Precious metal film 13 Fluororesin film 20 Work holding jig 30 Chemical treatment apparatus

Claims (5)

ワークに給電するための給電治具であって、
少なくとも表面がチタン製である基体を有し、
前記基体の、ワークと接続する部分に貴金属膜が配置され、
前記貴金属膜を配置した部分を除いた、前記基体の表面の少なくとも一部に直接フッ素樹脂膜が配置された給電治具。
A power supply jig for supplying power to a workpiece,
Having at least a substrate whose surface is made of titanium;
A noble metal film is disposed on a portion of the base that is connected to the workpiece,
A power feeding jig in which a fluororesin film is directly disposed on at least a part of the surface of the base, excluding a portion where the noble metal film is disposed.
前記フッ素樹脂膜が、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー膜である請求項1に記載の給電治具。   The power feeding jig according to claim 1, wherein the fluororesin film is an ethylene-tetrafluoroethylene copolymer film. 前記基体は、前記貴金属膜を配置した部分と垂直な面での断面形状が、L字形状である請求項1または2に記載の給電治具。   The power feeding jig according to claim 1, wherein the base body has an L-shaped cross section in a plane perpendicular to a portion where the noble metal film is disposed. 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の給電治具を一対有し、
一対の前記給電治具の、前記貴金属膜が対向するように配置したワーク保持治具。
It has a pair of electric power feeding jigs as described in any one of Claims 1 thru | or 3,
A workpiece holding jig arranged such that the noble metal films of a pair of the feeding jigs face each other.
請求項4に記載のワーク保持治具を備えた化学処理装置。   A chemical processing apparatus comprising the workpiece holding jig according to claim 4.
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