JP2018016763A - Ｎ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル誘導体とのランダム共重合体およびそれを用いた細胞培養用材料 - Google Patents

Abstract

【課題】細胞培養用材料に用いる、新規の温度応答性材料の提供。【解決手段】式（１）で表されるＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物に由来する繰り返し単位と式（２）で表されるアクリル酸エステル誘導体に由来する繰り返し単位とを含む、ランダム共重合体からなる温度応答性材料。【選択図】なし

Description

本発明は、細胞培養用材料、または温度応答性ポリマー材料としての応用が期待されるＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル化合物とのランダム共重合体に関する。

近年、刺激応答性材料、とりわけＮ−イソプロピルアクリルアミド（ＮＩＰＡＡＭ）を用いて合成される温度応答性材料に関する開発が盛んである。ＮＩＰＡＡＭのホモポリマーの場合、下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ）は体温近傍の３２℃であり、これより低温ではＮＩＰＡＡＭのホモポリマーは水に可溶であるが、これより高温では水に不溶であることが知られている。ＮＩＰＡＡＭと種々のコモノマーとのコポリマーが合成され、薬剤の放出制御材、クロマトグラフィー用分離ゲル、細胞の培養床などへの応用が検討されている。またコモノマーの種類や組成を制御することでＬＣＳＴを調節したり、特定のタンパクへの親和性を高めたりした報告がある（非特許文献１〜４参照。）。

一方、特許文献１および２においてＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン誘導体およびそのポリマーについて記載がある。具体的にはポリ（１−ビニルイミダゾリジン−２−オン）、ポリ（１−メチル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン）、ポリ（１−エチル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン）およびポリ（１−ブチル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン）の合成例、またはポリ（１−メチル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン）を用いた殺菌性組成物が示されているが、本発明に係るＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル誘導体とのランダム共重合体の合成、およびこれを用いた細胞培養用材料、温度応答性材料についての記述は一切無い。

特開２００１−１７２２６２号公報。

特開２００１−１７２３３３号公報。

Ｌａｎｇｍｕｉｒ、第１４巻、４６５７−４６６２頁（１９９８年）。

Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、第３３巻、８３１２−８３１６頁（２０００年）。

Ｂｉｏｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、第５巻、５０５−５１０頁（２００４年）。

Ｌａｎｇｍｕｉｒ、第２８巻、１６６２３−１６６３７頁（２０１２年）。

細胞培養用材料として応用可能なＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル誘導体とのランダム共重合体を提供する。

本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有するＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル誘導体とのランダム共重合体をコート剤成分として用いることによって、担体の表面を容易に処理可能で有り、コート剤で処理して得られる担体を細胞培養用材料として用いることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、
下記一般式（１）

（式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアシル基を表す。）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）

（式中、Ｒ^２は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^３は炭素数１〜１２のアルキル基、または炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表される繰り返し単位からなるランダム共重合体（以下、本発明のランダム共重合体と称する。）に関するものであり、下記一般式（３）

（式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアシル基を表す。）で表されるＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物、および下記一般式（４）

（式中、Ｒ^２は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^３は炭素数１〜１２のアルキル基、または炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表される（メタ）アクリル酸エステル誘導体をラジカル重合させるＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物と（メタ）アクリル酸エステル誘導体とのランダム共重合体の製造法に関するものである。さらに本発明のランダム共重合体を含むコート剤、および該コート剤で担体表面を処理して得られる細胞培養用材料に関するものである。

一般式（１）の繰り返し単位および一般式（３）のＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物において、Ｒ^１が表す炭素数１〜１２のアルキル基は分岐および／または環状構造を有してもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ウンデシル基、ドデシル基などを例示できる。Ｒ^１が表す炭素数１〜１２のアシル基は分岐および／または環状構造を有してもよく、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、３−メチルブチリル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基などを例示できる。合成の容易さ、および細胞の培養に適している点で、Ｒ^１はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基またはイソブチリル基のいずれかであることが好ましく、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アセチル基またはプロピオニル基であることがさらに好ましい。

一般式（２）の繰り返し単位および一般式（４）の（メタ）アクリル酸エステル誘導体において、Ｒ^３が表す炭素数１〜１２のアルキル基は分岐および／または環状構造を有してもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ウンデシル基、ドデシル基などを例示できる。Ｒ^３が表す炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、３−メチル−４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ペンチルフェニル基、４−（２−メチルブチル）フェニル基、４−（１，１−ジメチルプロピル）フェニル基、４−ヘキシルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェニル基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、２，６−ジメトキシ−４−メチルフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−プロポキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、４−アミロキシフェニル基、４−ヘキシルオキシフェニル基などを例示できる。合成の容易さ、およびコーティング性に優れる点で、Ｒ^３はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基が好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル誘導体（４）として具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ネオペンチル、アクリル酸イソペンチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ペンチル、アクリル酸１−メチルブチル、アクリル酸１−エチルプロピル、アクリル酸シクロペンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸１−メチルペンチル、アクリル酸４−メチルペンチル、アクリル酸１−エチルブチル、アクリル酸２−エチルブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ネオペンチル、メタクリル酸イソペンチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ペンチル、メタクリル酸１−メチルブチル、メタクリル酸１−エチルプロピル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸１−メチルペンチル、メタクリル酸４−メチルペンチル、メタクリル酸１−エチルブチル、メタクリル酸２−エチルブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、またはメタクリル酸フェニルなどをあげることができる。

本発明のランダム共重合体を製造する際、ラジカル重合を用いると簡便に且つ効率よく重合体を得ることができる。より具体的なラジカル重合法として、フリーラジカル重合を利用したバルク重合、溶液重合、乳化重合などの公知の方法をあげることができる。ラジカル重合をより効率よく開始させるために、任意の量のラジカル開始剤を添加できる。反応に好適に用いられるラジカル開始剤として、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの無機過酸化物を例示でき、重合促進剤と呼ばれるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジンなどのアミン化合物と組み合わせて用いることによって低温で迅速な重合が可能である。さらに、ラジカル開始剤としてジラウロイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドなどの有機過酸化物、またα、α−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）やアゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ化合物を例示することができる。

Ｎ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物（３）と（メタ）アクリル酸エステル誘導体（４）とを任意の割合で混合してラジカル重合を行うことにより、本発明のランダム共重合体を製造できる。通常、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気下または脱酸素下で重合を行うことで再現性良く該ランダム共重合体を製造でき、溶媒を用いると重合反応が円滑に進行する。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、ヘキシルアルコール、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アンモニア、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ピコリン等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの溶媒を二種以上混合して用いることもできる。重合反応は通常０℃〜１００℃の範囲内で円滑に進行する。

本発明のランダム共重合体における繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の比率は、担体表面のコーティングや細胞培養などが可能であれば特に制限は無いが、概ね、繰り返し単位（１）：繰り返し単位（２）＝１：９〜９：１（重量比）、好ましくは２：８〜８：２である。この比率は^１Ｈ−ＮＭＲなどの核磁気共鳴スペクトルを測定し、それぞれの繰り返し単位由来のスペクトルの積分値から数平均値として求めることができ、重量比に換算することで求めることができる。

本発明のランダム共重合体の分子量としては重量平均分子量、数平均分子量、粘度平均分子量など測定方法に応じて用いることができる。重量平均分子量（Ｍｗ）に関しては１０００〜１００００００であることが好ましく、重合体の性質の制御および加工性などの観点から５０００〜５０００００であることがさらに好ましい。分子量分布（ＰＤ）に特に制限はないが、概ね１〜２０の範囲であることが好ましく、重合体の均一性の観点から１〜５の範囲であることがさらに好ましい。分子量の算出方法として、ポリスチレンやポリエチレングリコールなどの標準試料を基準に換算するゲル濾過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法、粘度法、光散乱法など公知の方法をあげることができる。

本発明のランダム共重合体を溶媒に溶解してコート剤を調製できる。コート剤に用いられる溶媒としては本発明のランダム共重合体を溶解し、担体表面などに塗布した後、溶媒を除去できれば特に制限は無いが、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジン−２−オン、エチレングリコール、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノールなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの溶媒を二種以上混合して用いることもできる。

コート剤の濃度は、コーティングに支障なければ特に制限は無いが、概ね、本発明のランダム共重合体の濃度を０．０１〜２０重量％となるように調整すると良い。

ガラス製、樹脂製など様々な材質から成るシャーレ、袋、スポンジ状の多孔質基材、粒状多孔質基材、不織布や織布など繊維基材などの種々の形状の担体の表面を本発明のランダム共重合体を含むコート剤で処理することによって、細胞培養用材料を作製することができる。コート剤の処理方法は特に制限は無く、公知の方法を用いることができ、例えばディップ法、スプレイ法、キャスト法、スピンキャスト法、インクジェット印刷法などを用いることができる。

種々の材質・形状の担体表面を、本発明のランダム共重合体を含むコート剤で処理することにより、これらの担体表面の細胞への影響を低減し、細胞の培養、培養細胞の保存、培養細胞の回収や移送などの取扱いの便宜性を向上できることから、生体適合性材料、細胞培養用材料としての応用が期待される。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。得られたポリマーの分子量はＧＰＣの結果から求めた。ＧＰＣシステムはＧＬサイエンス社製ＧＬ−７４００（検出器：ＧＬ−７４５６、カラム（４本）：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ５０００、Ｈ４０００×２、Ｈ２０００、カラム温度：４０℃、展開溶媒：０．０１ＭのＬｉＣｌのＤＭＦ溶液、標準ポリスチレン換算）を用いた。ランダム共重合体の構造および共重合比率はＢｒｕｋｅｒ−Ｂｉｏｓｐｉｎ社製ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ−４００を用いた^１Ｈ−ＮＭＲ測定の結果から決定した。

参考例１

２００ｍＬナスフラスコにイミダゾリジン−２−オン１０．３ｇ（１２０ｍｍｏｌ）およびプロピオン酸無水物１００ｍＬを加えて、１５０℃で１時間撹拌した。室温まで放冷して析出した固体を回収し、少量の冷エタノールで洗浄することにより、無色固体の１−プロピオニルイミダゾリジン−２−オン１３．０ｇ（収率：７６．２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ），δ：１．６６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．９３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．６８（１Ｈ，ｂｓ）．ＥＩ−ＭＳ，ｍ／ｚ：１４２（Ｍ）^＋，１２７（Ｍ−ＣＨ_３）^＋，１１３（Ｍ−Ｃ_２Ｈ_５）^＋，１００．ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^−１），ν：３２３０（ｗ），３１２９（ｗ），２９８３（ｗ），２８９８（ｗ），１７３４（ｍ），１６７０（ｍ），１３７７（ｍ），１２６５（ｍ），１１５９（ｍ），１０６２（ｍ），１０２６（ｍ），９４１（ｍ）。

アルゴン雰囲気下、１００ｍＬのシュレンク管に１−プロピオニルイミダゾリジン−２−オン２．８６ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１９ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン０．２１ｍＬ（２．０ｍｍｏｌ），炭酸カリウム５．５３ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）および１Ｍの臭化ビニルのＴＨＦ溶液４０．０ｍＬ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えて、７０℃で７時間撹拌した。反応液をセライトで濾過して濾液を濃縮した。アルミナカラムクロマトグラフィー（展開液：クロロホルム）で精製することにより、無色固体の１−プロピオニル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン（ＶＩｍ）２．８３ｇ（収率：８３．６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ），δ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．９６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），３．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，１５．９Ｈｚ），４．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，９．０Ｈｚ），６．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１５．９Ｈｚ）．ＥＩ−ＭＳ，ｍ／ｚ：１６８（Ｍ）^＋，１３９（Ｍ−Ｃ_２Ｈ_５）^＋，１１１（Ｍ−ＣＯＣ_２Ｈ_５）^＋．ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ^−１）：ν：３１１１（ｗ），２９７９（ｗ），１７１６（ｍ），１６９１（ｍ），１６３３（ｍ），１４０２（ｍ），１３６０（ｍ），１３６０（ｍ），１２３０（ｍ），１０４９（ｍ）。

実施例１〜３
参考例１で得られた１−プロピオニル−３−ビニルイミダゾリジン−２−オン（ＶＩｍ）とブチルメタクリレート（ＢＭＡ）をナスフラスコに所定量秤量し、これらのトータルモノマーの１／５０当量のＡＩＢＮを加えて、２ｍｏｌ／Ｌとなるように溶媒を加えた。凍結脱気を行い、封管した後、６０℃で２２時間撹拌した。過剰量のジエチルエーテルに投入して析出した目的物を得た。共重合組成比ｘ／ｙは^１Ｈ−ＮＭＲの積分値から求めた。結果を表１に示した。

実施例１〜３で得られたランダム共重合体の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャートを図１〜３に示した。ＶＩｍ由来の重合体に帰属される２．８ｐｐｍ付近のピークの積分値とＢＭＡ由来の重合体に帰属される０．９ｐｐｍ付近のピークの積分値の比から組成比を求めた。
実施例４
実施例１で得られたランダム共重合体０．０２ｇをＤＭＦ２ｍＬに溶解して１重量％ＤＭＦ溶液を調製し、コート剤とした。スピンコート法にて直径１５ｍｍ丸型カバーグラス（松浪硝子工業社製）にコート剤を塗布した後、乾燥させた。

続いて、上記カバーグラスを、コーニング社製２４ウェルプレートにはめ込み、細胞培養評価の基材として使用した。このカバーグラス上にチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞を１．９×１０^４個／ウェルの密度で播種した。培地は１０ｖｏｌ％ウシ胎児血清を含むＨａｍ’ｓＦ−１２培地を用い、１ウェルあたり１．０ｍＬ加えた。３７℃、５％二酸化炭素雰囲気下で培養し、所定時間毎に、１０×１０倍の倒立型位相差顕微鏡（オリンパス社製ＩＸ７３）で観察した。初期細胞密度１００個／ｍｍ^２に対して、３日間で細胞接着密度が６５０個／ｍｍ^２に達し、コート剤で処理したカバーグラスは細胞培養用材料として有効に作用した。

実施例５
実施例２で得られたランダム共重合体０．０２ｇをＤＭＦ２ｍＬに溶解して１重量％ＤＭＦ溶液を調製し、コート剤とした。スピンコート法にて直径１５ｍｍ丸型カバーグラス（松浪硝子工業社製）にコート剤を塗布した後、乾燥させた。

続いて、上記カバーグラスを、コーニング社製２４ウェルプレートにはめ込み、細胞培養評価の基材として使用した。チャイニーズハムスター卵巣細胞（ＣＨＯ細胞）を１．９×１０^４個／ウェルの密度で播種した。培地は１０ｖｏｌ％ウシ胎児血清を含むＨａｍ’ｓＦ−１２培地を用い、１ウェルあたり１．０ｍＬ加えた。３７℃、５％二酸化炭素雰囲気下で培養し、所定時間毎に、１０×１０倍の倒立型位相差顕微鏡（オリンパス社製ＩＸ７３）で観察した。初期細胞密度１００個／ｍｍ^２に対して、３日間で細胞接着密度が６７０個／ｍｍ^２に達し、コート剤で処理したカバーグラスは細胞培養用材料として有効に作用した。

実施例６
実施例３で得られたランダム共重合体０．０２ｇをＤＭＦ２ｍＬに溶解して１重量％ＤＭＦ溶液を調製し、コート剤とした。スピンコート法にて直径１５ｍｍ丸型カバーグラス（松浪硝子工業社製）にコート剤を塗布した後、乾燥させた。

続いて、上記カバーグラスを、コーニング社製２４ウェルプレートにはめ込み、細胞培養評価の基材として使用した。チャイニーズハムスター卵巣細胞（ＣＨＯ細胞）を１．９×１０^４個／ウェルの密度で播種した。培地は１０ｖｏｌ％ウシ胎児血清を含むＨａｍ’ｓＦ−１２培地を用い、１ウェルあたり１．０ｍＬ加えた。３７℃、５％二酸化炭素雰囲気下で培養し、所定時間毎に、１０×１０倍の倒立型位相差顕微鏡（オリンパス社製ＩＸ７３）で観察した。初期細胞密度１００個／ｍｍ^２に対して、３日間で細胞接着密度が６８０個／ｍｍ^２に達し、コート剤で処理したカバーグラスは細胞培養用材料として有効に作用した。

本発明のランダム共重合体は、種々の材質・形状の担体表面を処理することにより、これらの担体表面の細胞への影響を低減し、細胞の培養、培養細胞の保存、培養細胞の回収や移送などの取扱いの便宜性を向上できることから、生体適合性材料、細胞培養用材料としての応用が期待されるものである。

実施例１で得られたランダム共重合体の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャート（ＣＤＣｌ_３溶液）。 実施例２で得られたランダム共重合体の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャート（ＣＤＣｌ_３溶液）。 実施例３で得られたランダム共重合体の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャート（ＣＤＣｌ_３溶液）。

Claims (6)

1. 下記一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアシル基を表す。）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^２は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^３は炭素数１〜１２のアルキル基、または炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表される繰り返し単位を含むランダム共重合体。
2. Ｒ^１が炭素数２〜３のアルキル基または炭素数２〜３のアシル基であり、Ｒ^３が炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基であることを特徴とする、請求項１に記載のランダム共重合体。
3. 下記一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアシル基を表す。）で表されるＮ−ビニルイミダゾリジン−２−オン化合物、および下記一般式（４）
   

   

   （式中、Ｒ^２は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^３は炭素数１〜１２のアルキル基、または炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で表されるアクリル酸エステル誘導体をラジカル重合させる請求項１に記載のランダム共重合体の製造法。
4. Ｒ^１が炭素数２〜３のアルキル基または炭素数２〜３のアシル基であり、Ｒ^３が炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基であることを特徴とする、請求項３に記載のランダム共重合体の製造法。
5. 請求項１または２に記載のランダム共重合体を含むコート剤。
6. 請求項５に記載のコート剤で担体表面を処理して得られる細胞培養用材料。

Images