JP2018010232A - 表示装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】歩留りを向上することが可能な表示装置、及び表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本実施形態によれば、表示機能層を有する絶縁基板と、絶縁基板に接着された保護部材と、を有する表示装置であって、絶縁基板は、表示機能層が形成される第1面と、保護部材が接着され、第1面とは反対側の面である第2面とを有し、第1面と第2面の少なくとも一方は、凸部及び凹部を有する面である、表示装置が提供される。【選択図】図2
Description
本実施形態は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。
有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子を有する表示装置や液晶表示装置において、狭額縁化が望まれている。このため、可撓性を有する基板が用いた表示装置が開発されている。このような表示装置は、可撓性を有する基板を折り曲げることにより、額縁領域を減少させている。
このような表示装置を製造する際は、例えば、可撓性を有する基板を、ガラス基板等の支持基板から剥離する工程が必要となる。このとき異物等が支持基板に付着していると、支持基板に向けて剥離用のレーザー光が照射された際に、レーザー光が異物に吸収され、剥離不良が生じる場合がある。また、異物が支持基板に密着していた場合には、レーザー光を照射する前に洗浄したとしても、その洗浄だけでは異物が除去できないこともあり得る。
本実施形態の目的は、歩留りを向上することが可能な表示装置、及び表示装置の製造方法を提供することである。
一実施形態によれば、表示機能層を有する絶縁基板と、前記絶縁基板に接着された保護部材と、を有する表示装置であって、前記絶縁基板は、前記表示機能層が形成される第1面と、前記保護部材が接着され、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有し、前記第1面と前記第2面の少なくとも一方は、凸部及び凹部を有する面である、表示装置が提供される。
一実施形態によれば、凸部及び凹部を有するガラス基板上に絶縁基板を形成し、前記絶縁基板上に、スイッチング素子を含むアレイ層を形成し、前記アレイ層上に表示機能層を形成し、前記ガラス基板の前記絶縁基板が形成されていない面に、レーザー光を照射し、前記ガラス基板から前記絶縁基板を剥離する、表示装置の製造方法が提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、本実施形態に係る表示装置1を概略的に示す斜視図である。なお、本実施形態においては、表示装置1の一例として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子を有する有機EL表示装置を示しているが、表示装置1は、液晶層を有する液晶表示装置、あるいは電気泳動型素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、他の表示装置であってもよい。図1は、第1方向Xと、第1方向Xに垂直な第2方向Yと、第1方向X及び第2方向Yに垂直な第3方向Zによって規定される三次元空間を示している。なお、第1方向X及び第2方向Yは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していても良い。また、例えば、第1方向Xは表示装置1の短辺と平行であり、第2方向Yは表示装置1の長辺と平行であり、第3方向Zは表示装置1の厚さ方向に相当する。
本実施形態においては、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向を上又は上方と定義し、第3方向Zの矢印の先端に向かう方向とは反対側の方向を下又は下方と定義する。また、「第1部材の上方の第2部材」及び「第1部材の下方の第2部材」とした場合、第2部材は、第1部材に接していてもよく、又は第1部材から離れて位置していてもよい。後者の場合、第1部材と第2部材との間に、第3の部材が介在していてもよい。一方、「第1部材の上の第2部材」及び「第1部材の下の第2部材」とした場合、第2部材は第1部材に接している。
表示装置1は、表示パネル2、第1回路基板3、第2回路基板4などを備えている。表示パネル2は、第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された第2基板SUB2と、を備えている。
表示パネル2は、表示領域DA、表示領域を囲む周辺領域SA、及び実装部MTを有している。表示領域DAは、画像を表示する領域であり、例えばマトリクス状に配置された複数の画素PXにより構成されている。画素PXは、後述する発光素子と、発光素子を駆動するためのスイッチング素子などを含んでいる。
実装部MTは、表示パネル2の第2方向Yの一端側に設けられている。つまり、第1基板SUB1が、第2基板SUB2と重なる領域よりも外側に延出した部分を有している。具体的には、第1基板SUB1の3つの側縁は、第3方向Zにおいて、第2基板SUB2の3つの側縁と揃っている。第1基板SUB1の第1方向Xに平行な側縁の長さは、第2基板SUB2の第1方向Xに平行な側縁の長さと略等しい。また、第1基板SUB1の第2方向Yに平行な側縁の長さは、第2基板SUB2の第2方向Yに平行な側縁の長さより大きい。つまり、第1基板SUB1のX−Y平面に平行な面積は、第2基板SUB2のX−Y平面に平行な面積より大きい。ここで、X−Y平面は、第1方向Xと第2方向Yとで規定される平面である。なお、本実施形態においては、第2基板SUB2の第2方向Yに平行な側縁の長さは、第1基板SUB1の第2方向Yに平行な側縁の長さと同等に形成されていても良い。このとき、第1基板SUB1のX−Y平面に平行な面積は、第2基板SUB2のX−Y平面に平行な面積と略同等となる。
第1回路基板3、及び、第2回路基板4は、表示パネル2の第2方向Yの一端側に設けられている。第1回路基板3は、表示パネル2と第2回路基板4との間に設けられている。第1回路基板3は、例えばフレキシブルプリント回路基板である。第1回路基板3は、表示パネル2を駆動する駆動ICチップ5などを備えている。駆動ICチップ5は、第1回路基板3の上に配置されている。図示した例では、第1回路基板3は、実装部MTの上方に実装されている。図示した例では、第1回路基板3の第1方向Xに平行な側縁の長さは、第1基板SUB1及び第2基板SUB2の第1方向Xに平行な側縁の長さと比べて小さいが、同等であっても良い。表示パネル2及び第1回路基板3は、互いに電気的に接続されている。なお、図示した例では、駆動ICチップ5は第1回路基板3の上に配置されているが、下に配置されていても良い。
第2回路基板4は、例えばフレキシブルプリント回路基板である。第2回路基板4は、第1回路基板3の例えば下方において第1回路基板3と接続されている。
ここで、本実施形態においては、表示装置1は、電子機器等の筐体に収容される際に折り曲げられる領域である折り曲げ領域BAを有している。図中、折り曲げ領域BAに斜線を付している。すなわち、第1回路基板3及び第2回路基板4が、表示領域DAの下方側に配置されるように、折り曲げ領域BAが折り曲げられる。
保護部材PPは、表示パネル2の下方に貼り付けられている。保護部材PPは、第3方向Zに折り曲げ領域BAと重なる位置には配置されていない。
図2は、本実施形態に係る表示装置1の表示領域DAにおける断面図である。
図2に示すように、第1基板SUB1は、第1絶縁基板10、スイッチング素子SW、発光素子としての有機EL素子ODなどを備えている。
第1絶縁基板10は、例えばポリイミド等の有機絶縁材料により形成されている。第1絶縁基板10は、第1面10Aと、第1面10Aと反対側の面である第2面10Bとを有している。第1面10A側には、有機EL素子ODが形成されている。第2面10B側には、接着層GLを介して保護部材PPが設けられている。保護部材PPは、第1絶縁基板10を保護する保護フィルムであり、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)などによって形成されている。保護部材PPは、第2面10Bに接着される第3面PAを有している。
本実施形態において、第1面10Aと第2面10Bとのうち、少なくとも一方は凸部及び凹部を有する粗面である。なお、粗面についての詳細は後述するが、例えば表面粗さによって粗面の程度を定義することができる。図2に示した例では、第1面10A及び第2面10Bの双方が粗面である。第2面10Bの表面粗さは、第1面10Aの表面粗さと同等以上である。また、第2面10Bの表面粗さは、第3面PAの表面粗さより大きい。なお、ここで述べる表面粗さとは、JIS B 0601(1994)によって定義される(あるいは測定される)値(例えば算術平均粗さRa)である。
第1絶縁基板10の第1面10A上には、オーバーコート層としての第1絶縁膜11が形成されている。第1絶縁膜11は、省略されてもよい。また、第1絶縁膜11は、第1絶縁基板10から有機EL素子ODへ向かう水分等の侵入を抑制するためのバリア層を含んでいてもよい。
スイッチング素子SWは、第1絶縁膜11上に形成されている。スイッチング素子SWは、例えば薄膜トランジスタ(TFT;thin-film-transistor)により構成されている。スイッチング素子は、半導体層SC、ゲート電極GE、ソース電極SE、及び、ドレイン電極DEを備えている。半導体層SCは、第1絶縁膜11上に形成され、第2絶縁膜12により覆われている。ゲート電極GEは、第2絶縁膜12の上に形成され、第3絶縁膜13により覆われている。ソース電極SE、及び、ドレイン電極DEは、それぞれ第3絶縁膜13の上に形成され、半導体層SCに接触している。第1乃至第3絶縁膜11乃至13は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン等の無機絶縁材料により形成されている。図示した例では、スイッチング素子SWは、トップゲート型の薄膜トランジスタで構成されているが、ボトムゲート型の薄膜トランジスタで構成されていても良い。
スイッチング素子SWは、第4絶縁膜14により覆われている。第4絶縁膜は、有機絶縁材料により形成されている。
有機EL素子ODは、第4絶縁膜14上に形成されている。図示した例では、有機EL素子ODは、第1絶縁基板10とは反対側に光を出射する所謂トップエミッションタイプであるが、この例に限らず、第1絶縁基板10の側に光を出射する所謂ボトムエミッションタイプであっても良い。有機EL素子ODは、画素電極PE、共通電極CE、及び画素電極PEと共通電極CEとの間の有機発光層ORGにより構成されている。
有機EL素子ODは、有機絶縁材料からなるリブ15により、画素PXごとに区画されている。すなわち、リブ15が設けられた領域では、画素電極PEと有機発光層ORGとが接触されない(すなわち絶縁される)ため、有機発光層ORGは発光しない。
画素電極PEは、第4絶縁膜14上に設けられている。画素電極PEは、第4絶縁膜14内に設けられたコンタクトホールを介して、スイッチング素子SWのドレイン電極DEとコンタクトし、スイッチング素子SWと電気的に接続されている。なお、図2に示すように、トップエミッションタイプの場合には、有機EL素子ODは、第4絶縁膜14と画素電極PEとの間に反射層RLを含んでいることが望ましい。反射層RLは、例えばアルミニウム等の反射率の高い金属材料により形成されている。なお、反射層RLは、図示したように平坦であっても良いし、光散乱性を付与するために凹凸面であっても良い。
有機発光層ORGは、画素電極PEと共通電極CEとの間に印加される電圧(あるいは電流)に応じた輝度で発光する。有機発光層ORGは、発光層の他、発光効率を向上するために、電子注入層、正孔注入層、電子輸送層、正孔輸送層等の他の層を含んでいてもよい。
共通電極CEは、有機発光層ORG上に形成されている。共通電極CEと画素電極PEとは、例えばインジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)等の透明な導電材料によって形成されている。なお、図示を省略するが、有機EL素子ODは、有機EL素子ODを水分等から保護するための保護膜によって封止されることが望ましい。
有機EL素子ODは、封止層30によって覆われている。封止層30は、第1絶縁基板10と封止層30との間に配置された部材を封止するように形成されている。封止層30は、有機EL素子ODへの酸素や水分の侵入を抑制し、有機EL素子ODの劣化を抑制する。なお、封止層30は、無機膜と有機膜との積層体から構成されていても良い。
一方、第2基板SUB2は、第2絶縁基板20、カラーフィルタ層21などを備えている。第2絶縁基板20は、ガラス基板や樹脂基板でもよく、光学フィルムや偏光板などを含んだ光学素子でもよい。カラーフィルタ層21は、第2絶縁基板20の内面側(すなわち第1基板SUB1と対向する側)に設けられている。カラーフィルタ層21は、カラーフィルタCFを含んでいる。カラーフィルタCFは、例えば赤色、青色、緑色、白色等に着色された樹脂材料により形成されている。
上記のように形成された第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、例えば、封止層30により接着されている。第2基板SUB2に設けられたカラーフィルタCFは、第1基板SUB1に設けられた有機EL素子ODの少なくとも発光領域を覆うように配置される。
なお、図示した例では、有機EL素子ODは、複数の画素PXに亘って、共通の有機発光層ORGを備えるように形成されているが、これに限定されるものではない。例えば、画素毎に、青色に発光する有機発光層と、緑色に発光する有機発光層と、赤色に発光する有機発光層と、が備えられていても良い。このような構成においては、カラーフィルタ層21を省略しても良い。
図3は、本実施形態に係る表示装置1の表示領域DAの他の例を示す断面図である。図3に示した例は、図2に示した例と比較して、第2面10Bの表面粗さが第1面10Aの表面粗さよりも大きい点で相違しており、その他の構成については、図2と同一である。図3に示した例では、第1面10Aがほぼ平坦面であるのに対して、第2面10Bが粗面である。
図4は、図2及び図3において点線で囲んだ部分の一部を拡大して示す断面図である。以下では、第2面10Bを例として説明するが、第1面10Aについても同様である。但し、凹部と凸部との関係は、第1面10Aと第2面10Bとでは逆となる。例えば、図示した例が第2面10Bの断面図である場合、第1位置P1を含む領域A1は凹部となり、第2位置P2を含む領域A2は凸部となる。一方で、図示した例が第1面10Aの断面図である場合には、第2位置P2を含む領域A2は凹部となり、第1位置P1を含む領域A1は凸部となる。
図4において、第3方向Zは、第1絶縁基板10の厚さ方向に相当する。
第2面10Bにおいては、第1絶縁基板10の厚さ方向で有機EL素子ODに最も近接した第1位置P1と、厚さ方向で有機EL素子ODから最も離間した第2位置P2との厚さ方向の距離H2が、0.01μm乃至10μm、となるように形成されている。また、第2面10Bにおいては、隣り合う凹部と凸部との距離についても規定することができる。例えば、領域A3は凹部に相当し、領域A4は領域A3に隣り合う凸部に相当する。領域A3の底部となる第3位置P3と、領域A4の頂部となる第4位置P4との距離L2は、15μm以下となるように形成されている。
なお、第1絶縁基板10の厚さが例えば20μmよりも厚い場合などにおいては、第1面10Aは、第2面10Bよりも平坦となる場合があり得る。すなわち、第1面10Aの表面粗さRa1は、第2面10Bの表面粗さRa2より小さくなる場合があり得る。このような場合には第1面10Aにおける第1位置P1と第2位置P2の厚さ方向の距離H1は、第2面10Bにおける第1位置P1と第2位置P2の厚さ方向の距離H2より小さいことがあり得る。あるいは、隣り合う凹部及び凸部において、第1面10Aにおける第3位置P3と第4位置P4との距離L1は、第2面10Bにおける第3位置P3と第4位置P4との距離L2よりも小さいことがあり得る。
次に、図5乃至図12を参照して、表示装置1の製造方法について説明する。
まず、図5に示すように、ガラス基板40の表面40A上に、例えばポリイミド等の有機絶縁材料からなる第1絶縁基板10が形成される。ガラス基板40は、表面40Aが粗面化されている。なお、ガラス基板40を粗面化する手法については詳細を省略するが、例えばフッ酸などで化学的に腐食させるなどの手法が適用可能である。これにより、第1絶縁基板10において、少なくともガラス基板40の表面40Aと接する第2面10Bは、ガラス基板40の表面40Aと同様に粗面化される。
なお、図示した例では、ガラス基板40の表面40A及び裏面40Bの双方が粗面化されているが、第1絶縁基板10を粗面化するためには、少なくとも第1絶縁基板10が形成される表面40Aのみが粗面化されていれば良い。後述するガラス基板40への異物の密着を抑制するためには、裏面40Bが粗面化されていれば良い。また、ガラス基板40の表面40A及び裏面40Bについても、上記の図4を参照した説明が適用できる。すなわち、ガラス基板40の表面40A及び裏面40Bの少なくとも一方が粗面である場合、第1位置P1と第2位置P2との厚さ方向の距離が、0.01μm乃至10μmであり、第3位置P3と第4位置P4との距離が、15μm以下となるように形成されている。
次に、図6に示すように、第1絶縁基板10上に、スイッチング素子SWを含むアレイ層41が形成される。アレイ層41は、図2及び図3における第1絶縁膜11から第4絶縁膜14までの層に相当する。次いで、アレイ層41上に、有機EL素子ODを含む表示機能層42が形成される。表示機能層42は、図2及び図3における反射層RLから共通電極CEまでの層に相当する。なお、必要に応じて、有機EL素子ODの表面は保護膜によって封止される。その後、ガラス基板40が例えば半分にカットされる。なお、ガラス基板40は、複数の表示装置1が含まれるようにカットされてもよく、1つの表示装置1に対応する大きさ(セル個片)にカットされてもよい。また、ガラス基板40は、カットされなくてもよい。
次に、表示機能層42上に、絶縁基板20を含む光学層43が貼り付けられる。光学層43は、図2及び図3における第2基板SUB2に相当する。光学層SUB2は、例えば偏光板を含んでいてもよい。その後、必要に応じて、ガラス基板40が洗浄される。
図7は、ガラス基板を洗浄する前の状態を概略的に示す断面図である。
例えば、ガラス基板40をカットする場合、カットの際にガラス屑(カレット)が生じる場合がある。ガラス基板40の裏面40Bは、カレットのサイズよりも十分に小さい凹部及び凸部を有する程度に粗面化されている。このため、図7に示すように、カレットCと、ガラス基板40の裏面40Bとの間には、隙間が生じる。この結果、カレットCのガラス基板40の裏面40Bへの密着を抑制することができ、カレットCを容易に除去することができる。
次に、図8に示すように、ガラス基板40に、レーザー光を照射して、第1絶縁基板10からガラス基板を剥離する。
ガラス基板40に、波長が例えば355nmのレーザー光が照射される。レーザー光は、ガラス基板40の下方(つまりガラス基板40の裏面40B)から照射され、ガラス基板40を透過し、第1絶縁基板10の第2面10Bに到達する。第1絶縁基板10は、ガラス基板40と第1絶縁基板10との間の界面付近において、レーザー光を吸収し、その一部が分解されるアブレーションが生じる。これにより、ガラス基板40と第1絶縁基板10との間に空間が生じ、第1絶縁基板10からガラス基板40が剥離される。
図9は、レーザー光を照射している状態を概略的に示す断面図である。
図示した例では、ガラス基板40の裏面40Bに異物が付着している。図9のように、ガラス基板40の裏面40Bに、洗浄では除去しきれなかった異物などが付着している場合であっても、レーザー光を第1絶縁基板10の第2面10Bに到達させることが可能である。すなわち、ガラス基板40の裏面40Bは、粗面化されていることから、レーザー光は裏面40Bで散乱し、散乱したレーザー光が異物などと重なる領域に回り込み、レーザー光を第1絶縁基板10の第2面10Bに到達させることが可能となる。したがって、ガラス基板40の剥離不良を抑制することが可能となる。これにより、ガラス基板40は、第1絶縁基板10から剥離される。
次に、図10に示すように、第1絶縁基板10の第2面10Bに、接着層GLを介して、保護部材PPが貼り付けられる。具体的には、第1絶縁基板10及び保護部材PPの間に接着層GLとして、例えば接着シートなどを配置した状態で、保護部材PPをアライメントした後、加熱処理することで、保護部材PPを、第1絶縁基板10の下に貼り付ける。このように、保護部材PPは、アライメント後に加熱処理されるため、位置ズレが生じるのを抑制することができる。また、接着層GL及び保護部材PPは、折り曲げ領域BAを除く領域に貼り付けられる。
次に、図11に示すように、第1絶縁基板10に、第1回路基板3が圧着される。すなわち、第1絶縁基板10と第1回路基板3との間に、異方性導電膜(図示しない)を配置し、第1絶縁基板10の下方及び第1回路基板3の上方から、図11に示した矢印の方向に圧力を加え加熱する。これにより、異方性導電膜が溶融して、第1絶縁基板10及び第1回路基板が電気的及び物理的に接続される。
次に、図12に示すように、表示パネル2の折り曲げ領域BAを折り曲げる。まず、折り曲げ領域BAにおいて、第1回路基板3の端部、アレイ層41の端部及び表示機能層42の端部からの水分などの侵入を防ぐために、樹脂層44が配置される。樹脂層44は、例えば、有機絶縁材料を用いて形成され、UV照射によって硬化されることにより形成される。
次に、支持部50の位置をアライメントして、支持部50が保護部材PPに接着材51を介して接着される。その後、第1回路基板3及び第2回路基板4が、表示領域DAの下方側に配置されるように、表示パネル2の折り曲げ領域BAが折り曲げられる。つまり、支持部50を基点として、第1回路基板3及び第2回路基板4が支持部50の下方に配置されるように回し、接着材51を介して支持部50に貼り付けられる。なお、本実施形態において、折り曲げ領域BAにおける表示パネルPNLの厚みは、例えば、約130μmである。
図13は、図12に示した表示パネル2の折り曲げ領域BAを折り曲げた後の状態を示す断面図である。尚、図13では要部のみを示しており、アレイ層41等は図示を省略している。
折り曲げ領域BAは、表示パネル2と第1回路基板3及び第2回路基板4とが対向するように折れ曲がっている。本実施形態においては、曲率半径を1.0mm以下にすることが可能であり、例えば、折り曲げ領域BAの曲率半径は、約0.3mmである。支持部50は、保護部材PPと第1回路基板3との間に配置されている。支持部50が配置されることにより、外部から衝撃が加わった場合でも、表示パネル2や第1回路基板3が損傷し難くなる。また、支持部50が配置されることにより、保護部材PPと第1回路基板3との間の接着性が向上する。
なお、上記の工程は一例であり、各工程は上記の順に限定されない。
本実施形態よれば、表示装置1は、第1面10A及び第2面10Bの少なくとも一方の面が粗面である第1絶縁基板10を有している。第1絶縁基板10が粗面化されているため、応力の集中を緩和することが可能となるため、第1絶縁基板10を曲げることが容易になる。さらに、保護部材PPと接着される第2面10Bが粗面である場合には、第2面10Bと接着層GLとの接触面積が大きくなるため、保護部材PPの密着性を向上することができる。
また、ガラス基板40においても、第1絶縁基板10が形成される表面40A及び表面40Aと反対側の裏面40Bが粗面化されているため、ガラス基板40の裏面40Bに、異物などが付着することを抑制することができる。ガラス基板40の裏面40Bに異物などが付着したとしても、容易に除去することができる。
さらに、第1絶縁基板10からガラス基板40を剥離するためのレーザー光が、ガラス基板40の裏面40Bで散乱するため、ガラス基板40の裏面40Bに異物が付着している場合であっても、レーザー光を第1絶縁基板10の第2面10Bに到達させることが可能となる。したがって、ガラス基板の剥離不良を抑制することが可能となる。
以上のように、表示装置1を製造する際に、粗面を有するガラス基板40を用いることにより、容易に歩留りを向上することができる。
なお、表示装置1が液晶表示装置である場合は、液晶表示装置は、その背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型、その前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型、及び、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型のいずれであっても良い。表示装置1が液晶表示装置の場合、上記の表示機能層42は、画素電極と、液晶層と、共通電極とを含む層に相当する。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1…表示装置、2…表示パネル、3…第1回路基板、4…第2回路基板、5…駆動ICチップ、10…第1絶縁基板、10A…第1面、10B…第2面、11…第1絶縁膜、12…第2絶縁膜、13…第3絶縁膜、14…第4絶縁膜、20…絶縁基板、21…カラーフィルタ層、30…封止層、40…ガラス基板、40A…表面、40B…裏面、41…アレイ層、42…表示機能層、43…光学層、PP…保護部材、PA…第3面、GL…接着層、SW…スイッチング素子、SC…半導体層、GE…ゲート電極、SE…ソース電極、DE…ドレイン電極、PE…画素電極、CE…共通電極、ORG…有機発光層、PX…画素、DA…表示領域、SA…周辺領域、MT…実装部、BA…折り曲げ領域、H1,H2…厚さ方向の距離、L1,L2…距離。
Claims (12)
- 表示機能層を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板に接着された保護部材と、を有する表示装置であって、
前記絶縁基板は、前記表示機能層が形成される第1面と、前記保護部材が接着され、前記第1面とは反対側の面である第2面とを有し、
前記第1面と前記第2面の少なくとも一方は、凸部及び凹部を有する面である、表示装置。 - 前記第2面の表面粗さは、前記第1面の表面粗さよりも大きい、請求項1に記載の表示装置。
- 前記保護部材は、前記絶縁基板の前記第2面と対向する第3面を有し、
前記第2面の表面粗さは、前記第3面の表面粗さよりも大きい、請求項1または2に記載の表示装置。 - 前記第2面は、前記絶縁基板の厚さ方向で前記表示機能層に最も近接している第1位置と、前記第1位置と離間し、前記絶縁基板の前記厚さ方向で前記表示機能層から最も離間している第2位置と、を有している、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の表示装置。
- 前記第1位置と前記第2位置との前記厚さ方向の距離は、0.01乃至10μmである、請求項4に記載の表示装置。
- 前記第2面は、第3位置と、前記第3位置と隣接する第4位置と、を有し、
前記第3位置と前記第4位置との距離は、15μm以下である、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の表示装置。 - 凸部及び凹部を有するガラス基板上に絶縁基板を形成し、
前記絶縁基板上に、スイッチング素子を含むアレイ層を形成し、
前記アレイ層上に表示機能層を形成し、
前記ガラス基板の前記絶縁基板が形成されていない面に、レーザー光を照射し、
前記ガラス基板から前記絶縁基板を剥離する、
表示装置の製造方法。 - 前記絶縁基板は、有機絶縁材料からなる、請求項7に記載の製造方法。
- 前記ガラス基板は、前記絶縁基板が形成される表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、を有し、
前記凸部及び前記凹部は、前記表面と前記裏面の少なくとも一方の面に形成されている、請求項7または8に記載の製造方法。 - 前記絶縁基板は、前記アレイ層が形成される第1面と、前記ガラス基板と接し、前記第1面とは反対側の面である第2面と、を有し、
前記第2面は、前記絶縁基板の厚さ方向で前記表示機能層に最も近接する第1位置と、前記第1位置と離間し、前記絶縁基板の厚さ方向で前記表示機能層から最も離間した第2位置と、を有している、請求項7乃至9のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記第1位置と前記第2位置との前記厚さ方向の距離が、0.01乃至10μmである、請求項10に記載の製造方法。
- 前記第2面は、第3位置と、前記第3位置と隣接する第4位置と、を有し、
前記第3位置と前記第4位置との距離が、15μm以下である、請求項10又は11に記載の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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