JP2018001029A - レーザ治療システム - Google Patents

Abstract

【課題】患者眼の対象部位にレーザ光を適度に照射することが可能なレーザ治療システムを提供する。
【解決手段】実施形態のレーザ治療システムの照射光学系は、治療用レーザ光を患者眼に照射する。干渉光学系は、測定光を患者眼に照射し、その戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く。光学系制御手段は、あらかじめ設定された配列のスポットパターンに基づく複数の位置に対して順次に治療用レーザ光が照射されるように照射光学系を制御し、かつ、治療用レーザ光が照射されている位置および／または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように干渉光学系を制御する。特定手段は、上記複数の位置を含む患者眼の３次元領域に光コヒーレンストモグラフィを適用して取得された３次元画像データにおける、治療用レーザ光が照射された位置に相当する画像領域を特定する。
【選択図】図７

Description

この発明は、眼科分野で用いられるレーザ治療システムに関する。

眼科用のレーザ治療システムは、組織の光凝固や光切除などに用いられる。従来のレーザ治療システムでは、スリットランプ顕微鏡や手術用顕微鏡などの観察装置を用いて眼の正面画像を観察しつつ照準を合わせている。近年、眼の断面像を取得可能な光コヒーレンストモグラフィ装置（ＯＣＴ）装置が組み込まれたレーザ治療システムも登場している（特許文献１を参照）。

また、レーザ治療システムにおいて、所定配列のスポットパターンからなる照準光を眼底に投影し、それにより照準合わせがなされた複数の位置に対して順次に治療用レーザ光を照射するよう構成されたものが知られている（特許文献２を参照）。

また、組織の吸光特性に起因する凝固斑の不均一性を改善するために、眼の経時的な正面画像に基づき凝固斑の形成状態（色、大きさ）を監視し、レーザ光の照射条件（出力、照射時間）をリアルタイムで制御するよう構成されたレーザ治療システムが知られている（特許文献３を参照）。

特許第４１２６０５４号 特許第４３７７４０５号 特許第３８８９９０４号

レーザ治療においては、対象部位にレーザ光を正確に照射することだけでなく、対象部位にレーザ光を適度に照射することも重要である。特許文献３に記載の発明では、眼の正面画像から把握される凝固斑の形成状態を参照することによって、レーザ光が適度に照射されるように制御を行っている。

一方、眼の正面画像では認識できない領域に存在する対象部位を治療する場合がある。たとえば、網膜色素上皮（ＲＰＥ）のように網膜の深い領域に存在する部位にレーザ治療を施すことがある。このような場合、対象部位（ＲＰＥ）がどの程度焼灼されているかを正面画像（網膜表面の画像）から把握することは困難である。

また、特許文献３に記載の技術によれば、正面画像が表す表面組織の焼灼度合を認識することはできるが、深さ方向への焼灼の進行を把握することは困難である。

この発明の目的は、眼科分野のレーザ治療システムにおいて、対象部位にレーザ光を適度に照射することが可能な技術を提供することにある。

請求項１に記載の発明は、治療用レーザ光を第１の光走査手段を介して患者眼に照射する照射光学系と、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、第２の光走査手段を介して測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く干渉光学系と、あらかじめ設定された配列のスポットパターンに基づく複数の位置に対して順次に治療用レーザ光が照射されるように前記照射光学系を制御し、かつ、治療用レーザ光が照射されている位置および／または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように前記干渉光学系を制御する光学系制御手段と、前記複数の位置を含む患者眼の３次元領域に光コヒーレンストモグラフィを適用して取得された３次元画像データにおける、治療用レーザ光が照射された位置に相当する画像領域を特定する特定手段とを有するレーザ治療システムである。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のレーザ治療システムであって、患者眼を撮影するための撮影系を更に有し、前記特定手段は、前記撮影系により得られた画像と前記３次元画像データとの位置合わせを行い、前記位置合わせの結果に基づいて前記画像領域を特定することを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のレーザ治療システムであって、前記特定手段は、前記位置合わせにおいて、前記撮影系により得られた画像と前記３次元画像データの少なくとも一部をＡラインに沿って加算して得られた２次元画像との画像マッチングを実行することを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のレーザ治療システムであって、治療用レーザ光が照射された位置におけるレーザ治療の度合を示す情報を求める情報取得手段を更に有することを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のレーザ治療システムであって、前記３次元画像データは、前記光学系制御手段が、治療用レーザ光が照射されている位置および／または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように前記干渉光学系を制御することにより取得され、前記情報取得手段は、前記３次元画像データを解析することにより前記情報を求めることを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のレーザ治療システムであって、前記情報取得手段により求められる前記情報は、治療用レーザ光による焼灼の程度および／または範囲を含むことを特徴とする。
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載のレーザ治療システムであって、前記情報取得手段により求められる前記情報は、治療用レーザ光による焼灼の程度を少なくとも含み、当該焼灼の程度の分布状態を表現した画像またはグラフを作成することを特徴とする。
請求項８に記載の発明は、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のレーザ治療システムであって、前記光学系制御手段による制御により得られた干渉光を検出した前記検出手段からの出力に基づいて、治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御する照射条件制御手段を更に有することを特徴とする。

実施形態に係るレーザ治療システムによれば、患者眼の対象部位にレーザ光を適度に照射することが可能である。

実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムによる照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの構成の例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療システムの動作の例を示すフローチャートである。 実施形態に係るレーザ治療システムの動作の例を示すフローチャートである。 実施形態に係るレーザ治療システムの動作の例を示すフローチャートである。 実施形態に係るレーザ治療システムの動作の例を示すフローチャートである。

この発明に係るレーザ治療システムの実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、実施形態において、この明細書において引用されている文献に記載された技術を任意に援用することが可能である。

実施形態で使用される方向を定義する。装置光学系から患者に向かう方向を「前方向」とし、その逆方向を「後方向」とする。また、前方向に直交する水平方向を「左右方向」とする。左方向と右方向は任意に設定されていてよい（たとえば、患者の左眼側が左方向とされ、右眼側が右方向とされる）。さらに、前後方向と左右方向の双方に直交する方向を「上下方向」とする。上方向は実質的に鉛直上方と一致し、下方向は実質的に鉛直下方と一致する。

レーザ治療システムの構成例を図１Ａに示す。レーザ治療システム１０００の光学系は、照明光学系１１００と、観察光学系１２００と、照射光学系１３００と、干渉光学系１４００と、第１の合成部材１５１０と、第２の合成部材１５２０と、光走査ユニット１６００とを含む。制御ユニット１８００は、レーザ治療システム１０００の各部を制御する。表示ユニット１９００は、制御ユニット１８００による制御を受けて情報を表示する。操作ユニット１９５０は、ユーザによる操作を受け付け、この操作に対応する信号（操作信号）を制御ユニット１８００に入力する。制御ユニット１８００は、この操作信号に基づき、システムの各部を制御する。

照明光学系１１００は、患者眼Ｅの眼底Ｅｆを照明する。観察光学系１２００は、照明光学系１１００により照明されている眼底Ｅｆを観察するために用いられる。

観察光学系１２００は、照明光学系１１００により照明されている眼底Ｅｆからの戻り光を、接眼レンズおよび／または撮像装置に導くように構成されている。前者は眼底Ｅｆの肉眼観察に用いられ、後者は眼底Ｅｆの表示画像の観察に用いられる。この表示画像は、撮像装置からの信号を受けた制御ユニット１８００が表示ユニット１９００を制御することによって提供される。

なお、眼底Ｅｆからの戻り光は、反射ミラー１２１０の左右の位置を介して観察光学系１２００に導かれる。そのための光学系の例を図１Ｂに示す。反射ミラー１２１０は、幅が広い部分と狭い部分とを有する。図１Ｂに示す例では、第２の合成部材１５２０側（上側）に幅が狭い部分が設けられている。照明光学系１１００から出力された光は、第２の合成部材１５２０を透過して反射ミラー１２１０に到達し、幅が狭い部分において反射ミラー１２１０に反射されて患者眼Ｅに入射する。その眼底反射光は、反射ミラー１２１０の幅が狭い部分の両側（左右の位置）を通過して観察光学系１２００に入射する。なお、図１Ｂに示す例においては、光走査ユニット１６００を経由する光路は、反射ミラー１２１０の幅が狭い部分を通過して患者眼Ｅに導かれるように記載されているが、当該光路は幅が広い部分を通過するように構成されてもよい。また、当該光路は、幅が狭い部分と幅が広い部分の双方を通過できるように構成されてもよい。つまり、当該光路は、光走査ユニット１６００による偏向方向に応じて、幅が狭い部分または幅が広い部分を通過するように構成されてもよい。

照射光学系１３００は、治療用レーザ光を眼底Ｅｆに照射する機能と、治療用レーザ光の照準を合わせるための照準光を眼底Ｅｆに照射する機能とを有する。眼底Ｅｆに対する治療用レーザ光および照準光の照射位置は、光走査ユニット１６００によって移動される。

干渉光学系１４００は、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、測定光の眼底Ｅｆからの戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く。レーザ治療システム１０００においては、たとえばスペクトラルドメインタイプまたはスウェプトソースタイプのＯＣＴが適用される。なお、眼底Ｅｆに対する測定光の照射位置は、光走査ユニット１６００によって移動される。

スペクトラルドメインタイプのＯＣＴが適用される場合、光源は、低コヒーレンス光を発する低コヒーレンス光源を含み、かつ、検出手段は、低コヒーレンス光に基づき干渉光学系１４００により生成される干渉光のスペクトル情報を取得する分光器を含む。分光器により取得されたスペクトル情報は、画像形成ユニット１７００に入力される。画像形成ユニット１７００は、分光器から入力されるスペクトル情報に基づいて、眼底Ｅｆの画像を形成する。この画像は、２次元断面像または３次元断面像である。制御ユニット１８００は、画像形成ユニット１７００により形成された画像を表示ユニット１９００に表示させる。

スウェプトソースタイプのＯＣＴが適用される場合、光源は、出力波長の掃引が可能な波長掃引光源を含み、かつ、検出手段は、波長掃引光源から出力された光に基づき干渉光学系１４００により生成される干渉光を検出する光検出器を含む。光検出器は、干渉光の検出結果としての信号を画像形成ユニット１７００に送る。画像形成ユニット１７００は、出力波長の掃引に伴い光検出器によって順次に得られた検出結果に基づいて、眼底Ｅｆ画像を形成する。この画像は、２次元断面像または３次元断面像である。制御ユニット１８００は、画像形成ユニット１７００により形成された画像を表示ユニット１９００に表示させる。

第１の合成部材１５１０および第２の合成部材１５２０は、照明光学系１１００の光路と、照射光学系１３００の光路と、干渉光学系１４００により導かれる測定光の光路とを、実質的に同軸に合成する光路合成手段として機能する。光走査ユニット１６００は、照射光学系１３００の光路と測定光の光路との合成位置よりも患者眼Ｅ側に設けられる。本例では、第１の合成部材１５１０によって照射光学系１３００の光路と測定光の光路とが実質的に同軸に合成される。第２の合成部材１５２０は、第１の合成部材１５１０よりも患者眼Ｅ側に設けられ、第１の合成部材１５１０による照射光学系１３００と測定光との合成光路と、照明光学系１１００の光路とを、実質的に同軸に合成する。光走査ユニット１６００は、第１の合成部材１５１０と第２の合成部材１５２０との間に配置されている。つまり、光走査ユニット１６００は、照射光学系１３００と測定光との合成光路において、この合成光路が照明光学系１１００の光路と合成される位置よりも第１の合成部材１５１０側に配置されている。

上記の構成では、第１の合成部材１５１０よりも患者眼Ｅ側に光走査ユニット１６００が配置されている。すなわち、治療用レーザ光、照準光および測定光の偏向が、単一の光走査ユニット１６００により行われる。なお、２以上の光走査手段が設けられた構成を適用することも可能である。たとえば、治療用レーザ光および照準光の偏向を第１の光走査手段により実行し、測定光の偏向を第２の光走査手段により実行するように構成することが可能である。

また、上記の構成では、治療用レーザ光および照準光の光路の一部と、測定光の光路の一部とが共通である。つまり、これら光路は、第１の合成部材１５１０よりも患者眼Ｅ側の部分において共通である。一方、これら光路を別々に設けることも可能である。或いは、治療用レーザ光の光路と照準光の光路と測定光の光路とを別々に設けることも可能である。

以上のような構成を有するレーザ治療システムによれば、治療用レーザ光の照射中またはその照射後に当該照射位置のＯＣＴ計測を行い、このＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御することが可能である。このＯＣＴ計測によれば、治療用レーザ光の照射位置における組織の変性状態を示す情報が得られる。この情報は、干渉光学系１４００から出力される信号、またはこの信号を処理して得られる情報（たとえば画像形成ユニット１７００により形成された画像）である。制御ユニット１８００は、この情報に基づいて（つまり組織の変性状態に基づいて）、治療用レーザ光の照射条件を求め、照射光学系１３００および／または光走査ユニット１６００を制御する。なお、照射条件の具体例については後述する。

実施形態に係るレーザ治療システムは、所定配列のスポットパターンからなる照準光を眼底に投影し、それにより照準合わせがなされた複数の照射位置に対して順次に治療用レーザ光を照射することができる。さらに、このようなパターン照射と並行して上記のＯＣＴ計測および照射条件の制御を実行することが可能である。

ここで、一般に、一回のＯＣＴ計測を行う時間（Ａスキャンに掛かる時間、つまり測定光の照射時間）は、各照射位置に対する治療用レーザ光の照射時間よりも十分に短い。ＯＣＴ計測は、治療用レーザ光が照射されている間に、または治療用レーザ光の照射位置を変更している間に、実行される。

前者の場合、照射条件の制御は、現に治療用レーザ光が適用されている照射位置またはそれより後に治療用レーザ光が適用される照射位置に関する照射条件を調整するために行われる。後者の場合、照射条件の制御は、次に治療用レーザ光が適用される照射位置またはそれより後に治療用レーザ光が適用される照射位置に関する照射条件を調整するために行われる。

調整後の照射条件が適用されるタイミングは、ＯＣＴ計測に掛かる時間と、新たな照射条件を求める処理に掛かる時間と、新たな照射条件に基づく照射光学系１３００および／または光走査ユニット１６００の制御に掛かる時間とに基づく。このような処理が照射条件のリアルタイム制御に相当する。

ＯＣＴの計測時間が治療用レーザ光の照射時間よりも十分に短い場合、治療用レーザ光の１の照射位置（スポット）に対してＯＣＴ計測を複数回実行し、これらＯＣＴ計測で得られたデータに基づいて照射条件の制御を行うことが可能である。この構成によれば、複数回のＯＣＴ計測で得られた複数のデータを統計的に処理することにより、照射条件の制御における確度や精度の向上を図ることができる。

また、一般に、測定光のビーム断面のサイズは、治療用レーザ光のビーム断面のサイズよりも十分に小さい。つまり、測定光が眼底Ｅｆに形成するスポットのサイズは、治療用レーザ光が眼底Ｅｆに形成するスポットのサイズよりも十分に小さい。この場合、治療用レーザ光のスポット内の複数の位置に対してそれぞれＯＣＴ計測を実行することが可能である。この構成によれば、治療用レーザ光の照射領域内を細かくＯＣＴ計測することにより、照射条件の制御における確度や精度の向上を図ることができる。

治療用レーザ光のスポット内の複数の位置をＯＣＴ計測する場合において、複数の位置のうちの１以上の位置についてＯＣＴ計測を２回以上行うことができる。

以下、上記のような照射条件のリアルタイム制御を実現するために適用可能なレーザ治療システムの具体例について説明する。

［具体例］
この実施形態に係るレーザ治療システムの具体例を図２に示す。レーザ治療システム１は、治療対象である患者眼Ｅの眼底Ｅｆに対してレーザ治療を施すために使用される。また、レーザ治療システム１は、眼底Ｅｆを正面から観察するための機能と、眼底Ｅｆの断面像を取得するための機能とを有する。

レーザ治療システム１は、レーザ光源ユニット２と、スリットランプ顕微鏡３と、光ファイバ４と、処理ユニット５と、操作ユニット６と、表示ユニット７と、ＯＣＴユニット８と、光ファイバ９とを有する。なお、スリットランプ顕微鏡３に代えて、手術用顕微鏡や眼底カメラなどの公知の観察装置を用いてもよい。

レーザ光源ユニット２とスリットランプ顕微鏡３は、光ファイバ４を介して光学的に接続されている。光ファイバ４は、１つ以上の導光路を有する。２以上の導光路が設けられる場合、光ファイバ４は、マルチコアファイバまたはファイババンドルであってよい。また、光ファイバ４は、イメージファイバ（画像伝送ファイバ）であってよい。

ＯＣＴユニット８とスリットランプ顕微鏡３は、光ファイバ９を介して光学的に接続されている。光ファイバ９は、たとえばシングルモードファイバである。

処理ユニット５は、レーザ光源ユニット２、スリットランプ顕微鏡３、操作ユニット６、表示ユニット７およびＯＣＴユニット８のそれぞれに対して、信号を伝送可能に接続されている。信号の伝送形態は有線でも無線でもよい。

処理ユニット５は、ハードウェアとソフトウェアとの協働によって動作するコンピュータを含む。処理ユニット５が実行する処理については後述する。操作ユニット６は、各種のハードウェアキーおよび／またはソフトウェアキー（ＧＵＩ）を含んで構成される。ハードウェアキーの例として、スリットランプ顕微鏡３に設けられたボタン・ハンドル・ノブや、スリットランプ顕微鏡３に接続されたコンピュータ（処理ユニット５等）に設けられたキーボード・ポインティングデバイス（マウス・トラックボール等）や、別途に設けられたフットスイッチ・操作パネルなどがある。ソフトウェアキーは、たとえばスリットランプ顕微鏡３や上記コンピュータに設けられた表示デバイスに表示される。

（レーザ光源ユニット２）
レーザ光源ユニット２は、眼底Ｅｆに照射される光を発生する。レーザ光源ユニット２は、照準光源２ａと、治療用レーザ光源２ｂと、ガルバノミラー２ｃと、遮光板２ｄとを有する。なお、図２に示す部材以外の部材をレーザ光源ユニット２に設けることができる。たとえば、光ファイバ４の直前位置に、レーザ光源ユニット２により発生された光を光ファイバ４の端面に入射させるための光学素子（レンズ等）を設けることができる。

（照準光源２ａ）
照準光源２ａは、レーザ治療を施す部位に照準を合わせるための照準光ＬＡを発する。照準光源２ａとしては任意の光源が用いられる。たとえば、眼底Ｅｆを肉眼で観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、術者眼Ｅ_０により認識可能な可視光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源２ａとして用いられる。また、眼底Ｅｆの撮影画像を観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、撮影画像を取得するための撮像素子が感度を有する波長帯の光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源２ａとして用いられる。照準光ＬＡは、ガルバノミラー２ｃに導かれる。照準光源２ａの動作は、処理ユニット５により制御される。

（治療用レーザ光源２ｂ）
治療用レーザ光源２ｂは、眼底Ｅｆのレーザ治療（光凝固、光切除等）に用いられる光（治療用レーザ光ＬＴ）を発する。治療用レーザ光ＬＴは、その用途に応じて可視レーザ光でも不可視レーザ光でもよい。また、治療用レーザ光源２ｂは、異なる波長帯のレーザ光を発する単一のレーザ光源または複数のレーザ光源であってよい。治療用レーザ光ＬＴは、ガルバノミラー２ｃに導かれる。治療用レーザ光源２ｂの動作は、処理ユニット５により制御される。

（ガルバノミラー２ｃ）
ガルバノミラー２ｃは、反射面を有するミラーと、ミラーの向き（反射面の向き）を変更するアクチュエータとを含んで構成される。照準光ＬＡと治療用レーザ光ＬＴは、ガルバノミラー２ｃの反射面の同じ位置に到達するようになっている。なお、照準光ＬＡと治療用レーザ光ＬＴをまとめて「照射光」と呼ぶことがある。ガルバノミラー２ｃ（の反射面）の向きは、少なくとも、照射光を光ファイバ４に向けて反射させる向き（照射用向き）と、照射光を遮光板２ｄに向けて反射させる向き（停止用向き）とに変更される。ガルバノミラー２ｃの動作は、処理ユニット５により制御される。

（遮光板２ｄ）
ガルバノミラー２ｃが停止用向きに配置されている場合、照射光は遮光板２ｄに到達する。遮光板２ｄは、たとえば照射光を吸収する材質および／または形態からなる部材であり、遮光作用を有する。

この実施形態では、照準光源２ａと治療用レーザ光源２ｂは、それぞれ連続的に光を発する。そして、ガルバノミラー２ｃを照射用向きに配置させることで、照射光を患者眼Ｅに照射させる。また、ガルバノミラー２ｃを停止用向きに配置させることで、患者眼Ｅに対する照射光の照射を停止させる。なお、このようなガルバノミラー２ｃの代わりに、照準光源２ａおよび／または治療用レーザ光源２ｂの出力をオン／オフさせることによって、患者眼Ｅに対する照射光の照射／照射停止を切り替えるように構成することも可能である。

（スリットランプ顕微鏡３）
スリットランプ顕微鏡３は、患者眼Ｅの前眼部および眼底Ｅｆの観察に用いられる装置である。より詳しく説明すると、スリットランプ顕微鏡３は、患者眼Ｅをスリット光で照明し、この照射野を拡大観察するための眼科装置である。なお、「観察」には、肉眼での観察と撮影画像の観察の一方または双方が含まれる。この実施形態のスリットランプ顕微鏡３は、患者眼Ｅの肉眼観察と撮影の双方を実現可能な構成を有する。

スリットランプ顕微鏡３は、照明部３ａと、観察部３ｂと、接眼部３ｃとを有する。照明部３ａには、図３に示す照明光学系１０が収容されている。また、詳細については後述するが、照明部３ａには、レーザ光源ユニット２から延びる光ファイバ４と、ＯＣＴユニット８から延びる光ファイバ９とが接続されている。観察部３ｂと接眼部３ｃには、観察光学系３０が格納されている。

図示は省略するが、スリットランプ顕微鏡３には、従来と同様に、レバー、ハンドル、ボタン、ノブ等の操作部材が設けられている。これら操作部材は、機能的に操作ユニット６に含まれる。なお、図２に示す構成では、操作ユニット６からの信号を受けた処理ユニット５がスリットランプ顕微鏡３を制御するようになっているが、このような電気的な駆動力を用いて動作する機構だけでなく、操作者が印加した力によって動作する機構を適用することもできる。

（スリットランプ顕微鏡３の光学系）
図３を参照してスリットランプ顕微鏡３の光学系について説明する。なお、図３には、眼底Ｅｆのレーザ治療に用いられるコンタクトレンズＣＬが示されている。スリットランプ顕微鏡３は、照明光学系１０と、観察光学系３０とを有する。

また、スリットランプ顕微鏡３の照明部３ａには、レーザ光源ユニット２から入力された照射光の光路を照明光学系１０に合成するための光学系と、ＯＣＴユニット８から入力された測定光の光路を照明光学系１０に合成するための光学系とが設けられている。これら光学系を合成光学系と呼ぶ。

（照明光学系１０）
照明光学系１０は、患者眼Ｅを観察するための照明光を出力する。照明部３ａは、照明光学系１０の光軸（照明光軸）１０ａの向きを、左右方向、上下方向、回転方向および俯仰方向にそれぞれ変更可能に構成されている。それにより、患者眼Ｅの照明方向を任意に変更することができる。

照明光学系１０は、光源１１と、収束レンズ１２と、フィルタ１３、１４および１５と、スリット絞り１６と、結像レンズ１７、１８および１９と、偏向部材２０とを有する。

光源１１は照明光を出力する。なお、照明光学系１０に複数の光源を設けてもよい。たとえば、定常光を出力する光源（ハロゲンランプ、ＬＥＤ等）と、フラッシュ光を出力する光源（キセノンランプ、ＬＥＤ等）の双方を光源１１として設けることができる。また、角膜観察用の光源と眼底観察用の光源とを別々に設けてもよい。収束レンズ１２は、光源１１から出力された光を集めるレンズ（またはレンズ系）である。光源１１の動作は、処理ユニット５により制御される。

フィルタ１３〜１５は、それぞれ、照明光の特定の成分を除去または弱める作用を持つ光学素子である。フィルタ１３〜１５としては、たとえば、ブルーフィルタ、無赤色フィルタ、減光フィルタ、防熱フィルタ、角膜蛍光フィルタ、色温度変換フィルタ、演色性変換フィルタ、紫外線カットフィルタ、赤外線カットフィルタなどがある。各フィルタ１３〜１５は、照明光の光路に対して挿脱可能とされている。フィルタ１３〜１５の挿脱は、処理ユニット５により制御される。

スリット絞り１６は、スリット光（細隙光）を生成するためのスリットを形成する。スリット絞り１６は、一対のスリット刃を有する。これらスリット刃の間隔を変化させることによりスリット幅が変更される。なお、スリット絞り１６以外の絞り部材を照明光学系１０に設けることができる。この絞り部材の例として、照明光の光量を変更するための照明絞りや、照明野のサイズを変更するための照明野絞りなどがある。また、これら絞り部材以外の部材を用いて照明光の光量や照射野のサイズを変更することが可能である。このような部材の例として液晶シャッタがある。スリット絞り１６、照明絞り、照明野絞り、および液晶シャッタのそれぞれの動作は、処理ユニット５により制御される。

結像レンズ１７、１８および１９は、照明光の像を形成するためのレンズ系である。偏向部材２０は、結像レンズ１７〜１９を経由した照明光を偏向して患者眼Ｅに照射させる。偏向部材２０としては、たとえば反射ミラーまたは反射プリズムが用いられる。

上記以外の部材を照明光学系１０に設けることができる。たとえば、偏向部材２０の後段に、拡散板を挿脱可能に設けることができる。拡散板は、照明光を拡散することにより、照明野の明るさを一様にする。また、照明光による照明野の背景領域を照明する背景光源を設けることができる。

（合成光学系）
合成光学系は、照明部３ａに設けられ、レーザ光源ユニット２からの光路およびＯＣＴユニット８からの光路を、照明光学系１０に合成するように機能する。

この実施形態における合成光学系は、コリメータレンズ５１と、ガルバノスキャナ５２と、リレーレンズ５３および５４と、ダイクロイックミラー５５と、ダイクロイックミラー９１と、コリメータレンズ９２とを有する。ダイクロイックミラー９１は、レーザ光源ユニット２からの照射光の光路と、ＯＣＴユニット８からの測定光の光路とを実質的に同軸に合成する。ダイクロイックミラー９１により得られる照射光と測定光との合成光路は、スリット絞り１６と結像レンズ１７との間に設けられたダイクロイックミラー５５により、照明光学系１０の光路と実質的に同軸に合成される。

光ファイバ４から出射した照射光は、コリメータレンズ５１により平行光束とされ、ダイクロイックミラー９１に反射されてガルバノスキャナ５２に入射する。ガルバノスキャナ５２は、照射光を２次元的に偏向する。ガルバノスキャナ５２から出射した照射光は、リレーレンズ５３および５４を介してダイクロイックミラー５５に到達する。ダイクロイックミラー５５は、照射光を反射して照明光学系１０に入射させる。照射光は、結像レンズ１７、１８および１９、並びに偏向部材２０を介して、患者眼Ｅに入射する。

光ファイバ９から出射した測定光は、コリメータレンズ９２により平行光束とされ、ダイクロイックミラー９１を透過してガルバノスキャナ５２に入射する。ガルバノスキャナ５２は、測定光を２次元的に偏向する。ガルバノスキャナ５２から出射した測定光は、リレーレンズ５３および５４を介してダイクロイックミラー５５に到達する。ダイクロイックミラー５５は、測定光を反射して照明光学系１０に入射させる。測定光は、結像レンズ１７、１８および１９、並びに偏向部材２０を介して、患者眼Ｅに入射する。

ガルバノスキャナ５２は、たとえば、入射光を左右方向に偏向するためのガルバノミラーと、入射光を上下方向に偏向するためのガルバノミラーとを含む。これらガルバノミラーは、反射面の偏向可能方向が互いに直交している。これらガルバノミラーの向きをそれぞれ独立に変更することで、入射光の２次元的な偏向が実現される。ガルバノスキャナ５２の動作は、処理ユニット５により制御される。

（観察光学系３０）
観察光学系３０は、患者眼Ｅによる照明光の反射光を術者眼Ｅ_０に案内する光学系である。観察光学系３０は、左右両眼での観察を可能とする左右一対の光学系を有する。左右の光学系は実質的に同一の構成を有するので、図３には一方の光学系のみが示されている。

観察部３ｂは、観察光学系３０の光軸（観察光軸）３０ａの向きを左右方向および上下方向に変更可能に構成されている。それにより、患者眼Ｅを観察する方向を任意に変更することができる。

観察光学系３０は、対物レンズ３１と、変倍レンズ３２および３３と、保護フィルタ３４と、結像レンズ３５と、正立プリズム３６と、視野絞り３７と、接眼レンズ３８とを有する。また、観察光学系３０には後述の撮影系が設けられている。

対物レンズ３１は、患者眼Ｅに対峙する位置に配置される。対物レンズ３１は、左右の光学系に共通であってもよいし、左右別々に設けられていてもよい。

変倍レンズ３２および３３は、変倍光学系（ズームレンズ系）を構成する。各変倍レンズ３２および３３は、観察光軸３０ａに沿って移動可能とされている。それにより、患者眼Ｅの肉眼観察像や撮影画像の倍率（画角）を変更できる。倍率の変更は、たとえば、観察部３ｂに設けられた倍率変更ノブを手動で操作することにより行われる。また、処理ユニット５が、操作ユニット６に含まれるスイッチ等による操作に基づいて、倍率を制御するようにしてもよい。

また、変倍光学系として、観察光学系３０の光路に対して選択的に挿入可能な複数の変倍レンズ群を設けてもよい。これら変倍レンズ群は、それぞれ異なる倍率を付与するように構成されている。観察光学系３０の光路に配置された変倍レンズ群が変倍レンズ３２および３３として用いられる。倍率の変更、つまり観察光学系３０の光路に配置される変倍レンズ群の切り替えは、たとえば、観察部３ｂに設けられた倍率変更ノブを手動で操作することにより行われる。

保護フィルタ３４は、患者眼Ｅに照射されるレーザ光を遮蔽するフィルタである。それにより、術者眼Ｅ_０をレーザ光から保護することができる。保護フィルタ３４は、たとえば、レーザ治療（またはレーザ出力）の開始トリガに対応して光路に挿入される。通常の観察時には、保護フィルタ３４は光路から退避される。保護フィルタ３４の挿脱は、処理ユニット５により制御される。或いは、レーザ光（特に治療用レーザ光ＬＴ）のみを遮断するよう構成されたバンドパスフィルタを保護フィルタ３４として用いることが可能である。この場合、バンドパスフィルタは、光路に常時配置されていてよい（つまり挿脱用の機構が設けられていなくてよい）。

結像レンズ３５は、患者眼Ｅの像を結ばせるレンズ（レンズ系）である。正立プリズム３６は、接眼レンズ３８を介して観察される像を正立像にする光学部材であり、プリズム３６ａおよび３６ｂを含んで構成される。接眼レンズ３８は正立プリズム３６と一体的に移動する。正立プリズム３６と接眼レンズ３８は接眼部３ｃに格納されている。観察光学系３０を構成する他の部材は、観察部３ｂに格納されている。

患者眼Ｅを撮影するための撮影系について説明する。撮影系は、観察光軸３０ａから分岐した光路上に設けられた撮像装置４２を含む。この分岐は、結像レンズ３５と正立プリズム３６との間に設けられたビームスプリッタ（ハーフミラー等）４１により実現される。つまり、本例における撮影系は、対物レンズ３１と、変倍レンズ３２および３３と、保護フィルタ３４と、結像レンズ３５と、ビームスプリッタ４１と、撮像装置４２とを含んで構成される。撮像装置４２は、ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサ等の撮像素子を含む。また、撮像装置４２は、レンズ等の光学素子を含んでいてもよい。

撮像装置４２は、照射光（照準光ＬＡおよび／または治療用レーザ光ＬＴ）の波長帯に感度を有する撮像素子を含む。よって、照射光を眼底Ｅｆに照射した状態で撮像装置４２による撮影を行うと、その撮影画像には眼底Ｅｆに対する照射光の投影パターンが描出される。また、撮像素子は、照明光学系１０による照明光の波長帯に感度を有していてもよい。その場合、撮影画像には、眼底Ｅｆの形態（つまり眼底Ｅｆの正面画像）と、照射光の投影パターンとが描出される。

撮像装置４２を用いた撮影の対象は眼底Ｅｆには限定されず前眼部であってもよい。撮像装置４２による撮影対象の選択は、たとえば、結像レンズ３５や、撮像装置４２内部のレンズを制御することにより行われる。

（光ファイバ４）
レーザ光源ユニット２とスリットランプ顕微鏡３とを光学的に接続する光ファイバ４の構成について説明する。さらに、光ファイバ４の構成に応じた照射光の制御について説明する。

光ファイバ４は、径が異なる複数のコアを有するマルチコアファイバであってよい。複数のコアは、患者眼Ｅに照射される光束の径（スポットサイズ）に関する複数の選択肢に対応している。光ファイバ４の入射端（レーザ光源ユニット２側のファイバ端）には、複数のコアの入射端が露出している。

処理ユニット５は、ガルバノミラー２ｃを制御することにより、複数のコアのうちの１つの入射端に照射光を入射させる。なお、処理ユニット５には、スポットサイズに関する複数の選択肢と、複数のコア（つまりガルバノミラー２ｃに対する制御の内容）とが一対一に対応付けられた情報（対応情報）が、あらかじめ記憶されている。ユーザまたは処理ユニット５は、患者眼Ｅに適用されるスポットサイズの指定を行う。処理ユニット５は、この対応情報を参照することにより、指定されたスポットサイズに対応する制御内容を取得し、この制御内容に基づいてガルバノミラー２ｃを制御する。それにより、指定されたスポットサイズの照射光が患者眼Ｅに適用される。

複数のコアの入射端の配置に応じて、ガルバノミラー２ｃの構成を決定することができる。たとえば複数のコアおよび遮光板２ｄが実質的に直線的に配置されている場合、ガルバノミラー２ｃは、その反射面の向きを１次元的に変更できるように構成されていればよい。複数のコアおよび遮光板２ｄが直線的に配置されていない場合、つまり、ガルバノミラー２ｃの側から見て、複数のコアおよび遮光板２ｄが２次元的に配置されている場合、ガルバノミラー２ｃは、その反射面の向きを２次元的に変更できるように構成される。なお、反射面の向きについては、たとえば、反射面の法線の方向として定義することが可能である。

光ファイバ４の構成例を図４に示す。図４は、光ファイバ４の入射端を示す。この光ファイバ４は、径が異なる複数のコア４ａ、４ｂ、４ｃおよび４ｄを有する。たとえば、コア４ａ、４ｂ、４ｃおよび４ｄの径は、それぞれ、５０μm、１００μm、２００μmおよび４００μmとされている。なお、コアの径と、眼底Ｅｆに投影されるスポットのサイズとが一致している必要はない。しかし、コアの径とスポットサイズとは既知の対応関係を有する。この対応関係は、たとえば、光ファイバ４と眼底Ｅｆとの間の光学系の設計により定義される。

複数のコア４ａ、４ｂ、４ｃおよび４ｄは、光ファイバ４の中心軸４Ａの周りに配置されている。この配置は、複数のコアおよび遮光板２ｄが２次元的に配置されている場合の一例に相当する。

また、本例において、光ファイバ４の中心軸４Ａと、後述のＯＣＴ光学系の光軸とが同軸になるように、光学系を構成することができる。なお、図３に示すように、レーザ治療に関する照射光の光路と、ＯＣＴ計測を行うための光（測定光）の光路は、ダイクロイックミラー９１によって合成される。ダイクロイックミラー９１は、たとえば、光ファイバ４から出射した光を透過させ、光ファイバ９から出射した光を反射するように構成されていてもよい。また、ダイクロイックミラー９１の代わりにハーフミラーなどの合成部材を用いてこれら光路を合成するようにしてもよい。

（ＯＣＴユニット８）
ＯＣＴユニット８について説明する。図５は、ＯＣＴユニット８の構成例を示す。

ＯＣＴユニット８には、眼底ＥｆのＯＣＴ画像を取得するための光学系が設けられている。この光学系は、たとえば、従来のスペクトラルドメインタイプのＯＣＴ装置と同様の構成を有する。すなわち、この光学系は、低コヒーレンス光を参照光と測定光に分割し、眼底Ｅｆを経由した測定光と参照光路を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成し、この干渉光のスペクトル成分を検出するように構成されている。この検出結果（検出信号）は処理ユニット５に送られる。

レーザ治療システムに適用されるＯＣＴのタイプはスペクトラルドメインタイプには限られない。たとえばスウェプトソースタイプのＯＣＴが用いられる場合、波長掃引光源が光源ユニット８１に設けられ、バランス型フォトダイオード等のバランス型光検出器が検出ユニット８９に設けられる。一般に、ＯＣＴユニット８の構成については、ＯＣＴのタイプに応じた公知の技術が適用される。

光源ユニット８１は、ＯＣＴを行うための光Ｌ０を出力する。本例ではスペクトラルドメインタイプのＯＣＴが用いられるので、光源ユニット８１から出力される光Ｌ０は、広帯域の低コヒーレンス光である。低コヒーレンス光Ｌ０は、たとえば、近赤外領域の波長帯（約８００ｎｍ〜９００ｎｍ程度）を含み、数十マイクロメートル程度の時間的コヒーレンス長を有する。なお、他の波長帯、たとえば１０４０〜１０６０ｎｍ程度の中心波長を有する近赤外光を低コヒーレンス光Ｌ０として用いてもよい。

光源ユニット８１は、スーパールミネセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）や、ＬＥＤや、ＳＯＡ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）等の光出力デバイスを含んで構成される。

光源ユニット８１から出力された低コヒーレンス光Ｌ０は、光ファイバ８２によりファイバカプラ８３に導かれて測定光ＬＭと参照光ＬＲに分割される。測定光ＬＭの光路は測定アームなどと呼ばれ、参照光ＬＲの光路は参照アームなどと呼ばれる。

参照光ＬＲは、光ファイバ８４により導かれる。ファイバカプラ８３とは反対側の光ファイバ８４の端部には、光ファイバ８４から出射した参照光ＬＲを平行光束にするコリメータ８５が設けられている。平行光束とされた参照光ＬＲは、収束レンズ８６により収束されて参照ミラー８７に到達する。参照ミラー８７の反射面は、参照アームの光軸に直交している。参照ミラー８７により反射された参照光ＬＲは、収束レンズ８６により平行光束となり、コリメータ８５により収束されて光ファイバ８４に入射し、ファイバカプラ８３に導かれる。

一方、ファイバカプラ８３により生成された測定光ＬＭは、光ファイバ９によってスリットランプ顕微鏡３の照明部３ａに導かれる（図３を参照）。光ファイバ９から出射した測定光ＬＭは、コリメータレンズ９２により平行光束とされ、ダイクロイックミラー９１を透過し、ガルバノスキャナ５２により偏向され、リレーレンズ５３および５４を経由し、ダイクロイックミラー５５により反射されて、照明光学系１０の光路に入射する。さらに、測定光ＬＭは、照明光学系１０の光路を介して患者眼Ｅに照射される。ガルバノスキャナ５２による偏向方向を変化させつつ測定光ＬＭを順次に照射することにより、測定光ＬＭによる眼底Ｅｆのスキャン（ＯＣＴスキャン）が実行される。

眼底Ｅｆに照射された測定光ＬＭは、眼底Ｅｆの様々な深さ位置において散乱される。眼底Ｅｆによる測定光ＬＭの後方散乱光は、往路と同じ経路を逆向きに進行してダイクロイックミラー５５に導かれる。さらに、測定光ＬＭの後方散乱光は、ダイクロイックミラー５５により反射され、リレーレンズ５４および５３、並びにガルバノスキャナ５２を経由し、ダイクロイックミラー９１を透過し、コリメータレンズ９２により収束されて光ファイバ９に入射する。光ファイバ９に入射した測定光ＬＭの後方散乱光は、ファイバカプラ８３に導かれる。

ファイバカプラ８３は、測定アームを経由した測定光ＬＭ（つまり測定光ＬＭの後方散乱光）と、参照アームを経由した参照光ＬＲとを重ね合わせる。それにより干渉光ＬＣが生成される。干渉光ＬＣは、光ファイバ８８によって検出ユニット８９に導かれる。

スペクトラルドメインタイプにおいて、検出ユニット８９には、コリメータレンズと、分光素子と、収束レンズと、検出デバイスとが設けられる。分光素子は、たとえば回折格子である。また、検出デバイスは、たとえばラインセンサである。光ファイバ８８から出射した干渉光ＬＣは、コリメータレンズにより平行光束とされ、分光素子により分光（スペクトル分解）され、収束レンズにより収束されて検出デバイスの受光面に投影される。検出デバイスは、干渉光ＬＣを光電変換して検出信号を生成する。この検出信号は、処理ユニット５内の画像形成部１０３に送られる。

この実施形態ではマイケルソン型の干渉計を採用しているが、たとえばマッハツェンダー型など任意のタイプの干渉計を適宜に採用することが可能である。また、検出デバイスとしては、ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサが用いられる。

また、ＯＣＴユニット８は、光減衰器（アッテネータ）や偏波調整器（偏波コントローラ）などを含んでいてよい。光減衰器や偏波調整器は、たとえば参照アームに設けられる。光減衰器は、たとえば、公知の技術を用いて、処理ユニット５の制御の下、光ファイバ８４を通過している参照光ＬＲの光量を自動で調整する。また、偏波調整器は、たとえば、ループ状にされた光ファイバ８４に対して外部から応力を与えることで、光ファイバ８４内を通過している参照光ＬＲの偏光状態を調整する。ＯＣＴユニット８は、他のデバイスを含んでいてもよい。

また、照射光や測定光ＬＭによる走査に用いられるデバイスは、ガルバノスキャナ５２に限定されない。たとえば、ポリゴンミラー、共振スキャナー、音響光学変調器、回転プリズム、振動プリズムなどを用いて走査を実行するように構成することが可能である。

［照射光のパターン］
照射光（照準光ＬＡ、治療用レーザ光ＬＴ）のパターンについて説明する。照射光のパターンには様々な条件（照射条件）がある。照射光の投影像（つまり眼底に対する照射光の照射範囲）をスポットと呼ぶ。照射条件としては、複数のスポットの配列（配列条件）、配列のサイズ（配列サイズ条件）、配列の向き（配列方向条件）、各スポットのサイズ（スポットサイズ条件）、スポットの間隔（スポット間隔条件）、スポットの個数（スポット数条件）などがある。

配列条件は、複数のスポットがどのように配列されているかを示す条件である。配列条件には、たとえば上記特許文献に記載されているように、様々なものがある。その具体例として、円状配列（図６Ａ）、楕円状配列（図６Ｂ）、矩形状配列（図６Ｃ）、弧状配列（図６Ｄ）、直線状配列（図６Ｅ）、円板状配列（図６Ｆ）、楕円板状配列（図６Ｇ）、矩形板状配列（格子状配列：図６Ｈ）、扇形板状配列（図６Ｉ）、幅の有る円状配列（円環状配列（図６Ｊ））、幅の有る弧状配列（円環状配列の一部：部分円環状配列（図６Ｋ））、幅の有る直線状配列（帯状配列（図６Ｌ））などがある。また、ユーザが任意に配列を設定できるように構成することも可能である。また、２以上の配列を組み合わせて使用することも可能である。配列条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

配列サイズ条件は、或る配列において、その配列をどのようなサイズで投影するかを示す条件である。たとえば、円状配列において、そのサイズ（たとえば径）を示すパラメータが配列サイズ条件である。配列サイズ条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば大、中、小）を設けるように構成してもよい。配列サイズ条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

配列方向条件は、或る配列において、その配列をどのような向きで投影するかを示す条件である。たとえば、弧状配列の向きを示すパラメータが配列方向条件である。配列方向条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば上向き、下向き、左向き、右向き）を設けるように構成してもよい。配列方向条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

スポットサイズ条件は、各スポットをどの程度のサイズで投影するかを示す条件である。たとえば、円状配列において、各スポットの投影サイズ（径、面積、周囲長等）を変更することで、異なるパターンの円状配列を適用することができる。スポットサイズ条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば大、中、小）を設けるように構成してもよい。なお、或る配列において、全てのスポットサイズが同じである必要はない。その場合、或る配列を複数の部分に分け、各部分についてスポットサイズを個別に設定するように構成することができる。

スポットサイズを変更するための構成について説明する。光ファイバ４が単一の導光路からなる場合、スポットサイズを変更するための光学部材が照射光の光路に設けられる。この光学部材は、たとえば変倍レンズ（レンズ系）である。処理ユニット５は、照射光の光路の光軸（照射光軸）に沿って変倍レンズを移動させることにより、設定されたスポットサイズを実現する。

光ファイバ４が２つ以上の導光路を有する場合、これら導光路の径をそれぞれ異ならせることができる。この場合、２つ以上の導光路を択一的に使用することで、患者眼Ｅに照射される光のスポットサイズが変更される。処理ユニット５は、目的のスポットサイズに対応する導光路に照射光が入射される向きに、レーザ光源ユニット２のガルバノミラー２ｃを配置させる。このような構成の一例が、図４に示すマルチコアファイバが光ファイバ４として使用される場合である。なお、マルチコアファイバの各コアが導光路に相当する。

光ファイバ４は、パターンを保持しつつ光を伝送することが可能なイメージファイバであってもよい。この場合、光ファイバ４の前段または後段の任意の位置に、スポットサイズを変更するための光学部材（変倍レンズ等）が設けられる。この光学部材の制御は、光ファイバ４が単一の導光路からなる場合と同様である。また、レーザ光源ユニット２には、光ファイバ４（イメージファイバ）に所定パターンの照射光を入射するための、２次元的走査が可能なガルバノスキャナが設けられる。このガルバノスキャナは、たとえばガルバノミラー２ｃの代わりに設けられる。

スポット間隔条件は、隣接するスポットをどの程度の間隔（ピッチ）で投影するかを示す条件である。スポット間隔条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば疎、密）を設けるように構成してもよい。なお、或る配列において、全てのスポット間隔が同じである必要はない。その場合、或る配列を複数の部分に分け、各部分についてスポット間隔を個別に設定するように構成することができる。スポット間隔条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

照射条件には、照射光のパターン以外の事項に関するものも含まれる。たとえば、複数種別の照射光を選択的に使用可能な場合、照射光の種別を照射条件に含めることができる。照射条件の種別の具体例として、照準光ＬＡや治療用レーザ光ＬＴの種別（波長、用途等）がある。このような照射光種別条件は、照準光源２ａおよび／または治療用レーザ光源２ｂの制御に用いられる。

また、照射条件は、照射光の強度に関する条件を含んでいてもよい。この照射強度条件の例として、照準光源２ａや治療用レーザ光源２ｂによる照射光の出力強度を示す出力強度条件がある。出力強度条件は、照準光源２ａおよび／または治療用レーザ光源２ｂの制御に用いられる。また、出力強度条件は、治療用レーザ光源２ｂから出力される治療用レーザ光（レーザ光）のエネルギーを示すパラメータを含んでいてもよい。

照射強度条件の他の例として、照射光の光量を減光部材によって調整するための条件（減光条件）がある。減光部材としては減光フィルタがある。より具体的には、１つの減光フィルタを光路に挿脱する構成や、透過率が異なる複数の減光フィルタを選択的に光路に配置可能な構成などがある。

また、照射条件は、照射光を照射する時間に関する条件を含んでいてよい。この照射時間条件の例として、照射光を連続的に照射する場合における照射の継続時間がある。また、照射光を断続的に照射する場合には、各回の照射の継続時間や、照射の反復回数などが照射時間条件に含まれていてよい。なお、照射強度条件と照射時間条件とを相互に考慮して照射条件を設定することができる。

［制御系］
レーザ治療システム１の制御系について、図７および図８を参照しながら説明する。図８は、図７に示す制御部１０１およびデータ処理部１１０の内部構成の例を示す。レーザ治療システム１の制御系は、処理ユニット５に設けられた制御部１０１を中心に構成される。

（制御部１０１）
制御部１０１は、レーザ治療システム１の各部を制御する。たとえば、制御部１０１は、レーザ光源ユニット２の制御、表示ユニット７の制御、照明光学系１０の制御、観察光学系３０の制御、ＯＣＴユニット８の制御などを行う。制御部１０１は、照射光学系制御部１０１ａと、ＯＣＴ光学系制御部１０１ｂとを有する。照射光学系制御部１０１ａは、照射光（照準光ＬＡ、治療用レーザ光ＬＴ）の照射に関する制御処理を実行する。ＯＣＴ光学系制御部１０１ｂは、ＯＣＴ計測に関する制御処理を実行する。

レーザ光源ユニット２の制御として、制御部１０１（照射光学系制御部１０１ａ）は、照準光源２ａの制御、治療用レーザ光源２ｂの制御、ガルバノミラー２ｃの制御などを行う。照準光源２ａおよび治療用レーザ光源２ｂの制御は、照射光の出力のオン／オフ、照射光の出力強度（出力光量）の制御などを含む。また、１つ以上の治療用レーザ光源２ｂにより複数種別の治療用レーザ光ＬＴを出力可能な構成が適用される場合、制御部１０１は、治療用レーザ光ＬＴが選択的に出力されるように治療用レーザ光源２ｂを制御する。ガルバノミラー２ｃの制御は、ガルバノミラー２ｃの反射面の向きを変更する制御を含む。それにより、照射光の出力のオン／オフの切り替えや、照射光のスポットサイズの切り替えが実現される。

表示ユニット７は、制御部１０１の制御を受けて各種の情報を表示する。表示ユニット７は、ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ、またはＣＲＴディスプレイなど、任意の表示デバイスを含んで構成される。表示ユニット７は、たとえばスリットランプ顕微鏡３または処理ユニット５（コンピュータ）に設けられる。或いは、表示ユニット７は、処理ユニット５に接続された外部ディスプレイである。操作ユニット６がＧＵＩを含む場合、制御部１０１は、ＧＵＩの表示制御や、ＧＵＩに対する操作に基づく装置各部の動作制御を行う。

照明光学系１０の制御として、制御部１０１は、光源１１の制御、フィルタ１３〜１５の制御、スリット絞り１６の制御、その他の絞り部材の制御などを行う。光源１１の制御は、照明光の出力のオン・オフ、照明光の出力強度（出力光量）の制御などを含む。

フィルタ１３〜１５の制御は、照明光軸１０ａに対してフィルタ１３〜１５をそれぞれ独立に挿脱する制御を含む。フィルタ１３〜１５の制御は、フィルタ駆動部１３Ａを制御することにより行われる。フィルタ駆動部１３Ａは、ソレノイドやパルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力をフィルタ１３〜１５に伝達する機構とを含む。

スリット絞り１６の制御は、一対のスリット刃の間隔を変更する制御や、一対のスリット刃を一体的に移動させる制御などを含む。前者の制御は、スリット幅の変更制御に相当する。後者の制御は、スリット幅を一定に保った状態で照明光（スリット光）の照射位置を変更する制御に相当する。その他の絞り部材には、前述のように、照明光の光量を変更するための照明絞りや、照明野のサイズを変更するための照明野絞りがある。スリット絞り１６、照明絞り、照明野絞りの制御は、絞り駆動部１６Ａを制御することによりそれぞれ独立に行われる。絞り駆動部１６Ａは、パルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を絞り部材に伝達する機構とを含む。

観察光学系３０の制御として、制御部１０１は、変倍レンズ３２および３３の制御、保護フィルタ３４の制御、結像レンズ３５の制御などを行う。変倍レンズ３２および３３の制御は、変倍駆動部３２Ａを制御してこれらを観察光軸３０ａに沿って移動させるものである。それにより、観察倍率（画角）が変更される。変倍駆動部３２Ａは、パルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を変倍レンズ３２および３３に伝達する機構とを含む。変倍光学系として複数の変倍レンズ群が設けられている場合、変倍駆動部３２Ａは、これら変倍レンズ群を観察光学系３０の光路に対して選択的に挿入させる機構を含む。制御部１０１は、この変倍駆動部３２Ａを制御することで観察倍率（画角）の変更を行う。

保護フィルタ３４の制御は、保護フィルタ駆動部３４Ａを制御して、保護フィルタ３４を観察光軸３０ａに対して挿脱するものである。結像レンズ３５の制御は、結像駆動部３５Ａを制御することにより、結像レンズ３５を観察光軸３０ａに沿って移動させるものである。それにより、術者眼Ｅ_０により観察される像のピント合わせがなされる。

制御部１０１は、撮影系の制御を行う。撮影系の制御としては、撮像装置４２の制御がある。撮像装置４２の制御には、撮像素子の蓄積時間の制御や、内蔵の光学素子による合焦制御などがある。また、撮像系の他の制御として、上記した観察光学系３０の制御と同様に、変倍レンズ３２および３３の制御（撮影倍率・画角の変更制御）や、結像レンズ３５の制御（ピント合わせ）などがある。また、ビームスプリッタ４１を観察光学系３０の光路に対して挿脱可能に構成する場合において、制御部１０１は、当該動作を行うための機構を制御する。

照射光を患者眼Ｅに適用するための制御として、制御部１０１（照射光学系制御部１０１ａ）は、前述したレーザ光源ユニット２の制御に加え、ガルバノスキャナ５２の制御などを行う。ガルバノスキャナ５２は、前述のように、左右方向への偏向を行うためのガルバノミラー（第１のガルバノミラー）と、上下方向への偏向を行うためのガルバノミラー（第２のガルバノミラー）とを含む。制御部１０１は、第１のガルバノミラーの反射面の向きと、第２のガルバノミラーの反射面の向きとを、それぞれ独立に変更する。それにより、レーザ光源ユニット２から光ファイバ４を介して入射した照射光を２次元的に偏向することができる。

ＯＣＴユニット８の制御として、制御部１０１（ＯＣＴ光学系制御部１０１ｂ）は、光源ユニット８１の制御、収束レンズ８６および参照ミラー８７の制御、検出ユニット８９の制御などを行う。光源ユニット８１の制御は、光Ｌ０（低コヒーレンス光、波長掃引光など）の出力のオン／オフ、光Ｌ０の出力強度（出力光量）の制御などを含む。また、光源ユニット８１に設けられた１つ以上の光源から複数種別の光Ｌ０を出力可能な構成が適用される場合、制御部１０１は、光Ｌ０を選択的に出力させるように光源ユニット８１を制御する。

収束レンズ８６および参照ミラー８７の制御は、参照駆動部８７Ａを制御してこれらを参照アームの光軸に沿って一体的に移動させるものである。それにより、参照アームの光路長が変更される。参照アームの光路長の変更は、患者眼Ｅの眼軸長に応じた光路長の補正や、ＯＣＴ計測における干渉状態の調整などに利用される。参照駆動部８７Ａは、パルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を収束レンズ８６および参照ミラー８７に伝達する機構とを含む。

なお、この実施形態においては、参照ミラー８７等の位置を変更することによって、参照アームの光路長と測定アームの光路長との間の差を変更している。しかし、この光路長差を変更するための構成は、これに限定されるものではない。たとえば、コーナーキューブとこれを移動するための機構とを、参照アームおよび／または測定アームに設けることによって、参照アームの光路長および／または測定アームの光路長を変更する構成を適用することができる。また、患者眼Ｅに対してレーザ治療システム１を移動させることによって測定アームの光路長を変更し、それにより光路長差の変更を行うように構成することも可能である。

検出ユニット８９には、前述したように、コリメータレンズと、分光素子（回折格子など）と、収束レンズと、検出デバイス（ラインセンサなど）とが設けられている。収束レンズの制御は、図示しない駆動機構を制御してこれを光軸に沿って移動させるものである。それにより、検出デバイスの受光面に対する干渉光ＬＣの収束状態を調整することができる。検出デバイスの制御は、蓄積時間の制御などを含む。

また、干渉光ＬＣを導く光ファイバ８８と検出ユニット８９との間の位置調整を実行可能に構成することが可能である。一例として、光ファイバ８８の出射端（検出ユニット８９側の端部）、コリメータレンズ、分光素子、収束レンズ、および検出デバイスのうちの少なくとも１つに、制御部１０１の制御を受けて動作する駆動機構（図示せず）を設けることができる。

制御部１０１は、記憶部１０２に記憶されたデータの読み出し処理や、記憶部１０２に対するデータの書き込み処理を行う。

制御部１０１は、マイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ等を含んで構成される。このハードディスクドライブには、制御プログラムが予め記憶されている。制御部１０１の動作は、この制御プログラムと上記ハードウェアとが協働することによって実現される。また、制御部１０１は、外部装置と通信するための通信デバイスを含んでいてもよい。

（記憶部１０２）
記憶部１０２は各種のデータやコンピュータプログラムを記憶する。記憶部１０２に記憶されるデータとしては、たとえば、ＯＣＴ画像の画像データ、眼底像の画像データ、患者眼情報などがある。患者眼情報は、患者ＩＤや氏名などの患者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの患者に関する情報を含む。

記憶部１０２は、たとえばＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ等の記憶装置を含んで構成される。

（画像形成部１０３）
画像形成部１０３は、検出ユニット８９の検出デバイスから入力される検出信号に基づいて、眼底Ｅｆの断面像を形成する。この処理には、従来のスペクトラルドメインタイプの光コヒーレンストモグラフィと同様に、ノイズ除去（ノイズ低減）、フィルタ処理、分散補償、ＦＦＴ（Ｆａｓｔ Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）などの処理が含まれる。それにより形成される断面像は、走査線上の複数の走査点からｚ方向に延びる複数の１次元画像データ（Ａラインデータ）を含んで構成される。また、各Ａラインデータには、対応する走査点の位置に応じたｘｙ座標が付与される。

他のタイプのＯＣＴ装置の場合、画像形成部１０３は、そのタイプに応じた公知の処理を実行する。画像形成部１０３は、専用の回路基板および／またはマイクロプロセッサを含んで構成される。

なお、ｚ方向は測定光の進行方向（眼底Ｅｆの深さ方向）を示し、ｘｙ方向はｚ方向に直交する面に設定された２次元座標系を示す。換言すると、前述した方向の定義において、ｚ軸は前後方向に、ｘ軸は左右方向に、ｙ軸は上下方向に、それぞれ設定される。

（操作ユニット６、表示ユニット７）
操作ユニット６は、前述のように、各種のハードウェアキーおよび／またはソフトウェアキーを含んで構成される。また、表示ユニット７は、各種の情報を表示する。

操作ユニット６は、照射光の照射条件の設定に用いられる。照射条件の設定操作は、たとえば、所定のハードウェアキーまたはソフトウェアキーを用いて行われる。前者の具体例として、配列条件、配列サイズ条件、配列方向条件、スポットサイズ条件、スポット間隔条件、スポット数条件、照射光種別条件、照射強度条件（出力強度条件、減光条件）など、任意の照射条件を設定するためのハードウェアキーが操作ユニット６に予め設けられる。ユーザは所望の照射条件に対応するハードウェアキーを操作することで、照射条件の設定を行う。後者の具体例として、上記のような照射条件を設定するための設定画面が、制御部１０１によって表示ユニット７に表示される。ユーザは、表示された設定画面に設けられたＧＵＩを操作ユニット６によって操作することにより、照射条件の設定を行う。

なお、実施形態において、操作ユニット６を介して設定された照射条件は、たとえば、一連のレーザ治療の開示時に適用される（つまり初期条件として用いられる）。また、一連のレーザ治療を行っている間に、または、一連のレーザ治療と一連のレーザ治療との間に、操作ユニット６を介して照射条件を設定することができる。なお、一連のレーザ治療の例として、所定配列のスポットパターンに基づくレーザ治療がある。

また、操作ユニット６は、眼底Ｅｆに対する照射光の照射位置を移動するために用いられる。照射位置の移動操作についても、所定のハードウェアキーまたはソフトウェアキーを用いて行われる。なお、照射位置の移動は、たとえば、制御部１０１がガルバノスキャナ５２を制御することにより、またはスリットランプ顕微鏡３の光学系を移動制御することにより行われる。なお、後者の場合、光学系を移動させるための移動機構（光学系移動機構）がスリットランプ顕微鏡３に設けられる。この光学系移動機構は、電動制御されるものであり、アクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を伝達する機構とを含んで構成される。また、ユーザにより行われた操作を駆動力としてスリットランプ顕微鏡３の光学系を移動させることにより光学系を移動させるように構成することも可能である。

図７においては操作ユニット６と表示ユニット７とが別々に表されているが、これらを一体的に構成することも可能である。その具体例として、タッチパネル式のＬＣＤを用いることができる。

（データ処理部１１０）
データ処理部１１０は各種のデータ処理を行う。このデータ処理の例として、レーザ治療に関する処理と、ＯＣＴに関する処理と、レーザ治療とＯＣＴとの連係処理とがある。

レーザ治療に関する処理の例として、照準光ＬＡの照射パターンに基づいて、治療用レーザ光ＬＴの照射パターンを決定する処理がある。この処理は、たとえば、照準光ＬＡが照射されている状態の眼底Ｅｆの撮影画像から照準光ＬＡのスポット像を抽出し、抽出されたスポット像のパターンを治療用レーザ光ＬＴの照射パターンとして設定することにより行われる。

ＯＣＴに関する処理の例として、画像形成部１０３により形成された画像に対して各種の画像処理や解析処理を施す。たとえば、データ処理部１１０は、画像の輝度補正等の各種補正処理を実行する。また、データ処理部１１０は、撮像装置４２により得られた画像（眼底像、前眼部像等）に対して各種の画像処理や解析処理を施す。

データ処理部１１０は、複数の走査線に沿って得られた複数の断面像の間の画素を補間する補間処理などの公知の画像処理を実行することにより、眼底Ｅｆの３次元画像データを形成する。なお、３次元画像データとは、３次元座標系により画素の位置が定義された画像データを意味する。３次元画像データとしては、３次元的に配列されたボクセルからなる画像データがある。この画像データは、ボリュームデータ或いはボクセルデータなどと呼ばれる。

ボリュームデータに基づく画像を表示させる場合、データ処理部１１０は、このボリュームデータに対してレンダリング処理（ボリュームレンダリング、ＭＰＲ（Ｍｕｌｔｉ Ｐｌａｎａｒ Ｒｅｃｏｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ：任意多断面再構成）、ＭＩＰ（Ｍａｘｉｍｕｍ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ：最大値投影）など）を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像データを形成する。この擬似的な３次元画像が表示ユニット７に表示される。

また、３次元画像データとして、複数の断面像のスタックデータを形成することも可能である。スタックデータは、複数の走査線に沿って得られた複数の断面像を、走査線の位置関係に基づいて３次元的に配列させることで得られる画像データである。すなわち、スタックデータは、元々個別の２次元座標系により定義されていた複数の断面像の画像データを、１つの３次元座標系により表現する（つまり１つの３次元空間に埋め込む）ことにより得られる画像データである。

レーザ治療とＯＣＴとの連係処理の例を説明する。データ処理部１１０は、レーザ治療が施された眼底Ｅｆを撮像装置４２で撮影して得られた眼底像と、眼底Ｅｆのボリュームデータとの位置合わせを行うことができる。この位置合わせ処理は、たとえば、ボリュームデータの少なくとも一部のボクセルをＡラインに沿って加算して得られた２次元画像と、眼底像との画像マッチングを含む。さらに、データ処理部１１０は、この位置合わせ結果に基づいて、レーザ治療が施された部位に相当するボリュームデータ中の画像領域を特定することができる。また、データ処理部１１０は、ボリュームデータを解析することにより、実施されたレーザ治療の度合を示す情報を求めることができる。この情報は、たとえば、治療用レーザ光ＬＴによる焼灼の程度や範囲（到達深度、広がり等）などを含む。さらに、データ処理部１１０は、焼灼の程度の分布状態を画像やグラフで表現した情報を作成することができる。

データ処理部１１０は照射条件設定部１１１を含む。照射条件設定部１１１には、照射位置選択部１１２と、照射順序設定部１１３とが設けられている。

（照射条件設定部１１１）
この実施形態に係るレーザ治療システムは、所定配列のスポットパターンからなる照準光ＬＡを眼底Ｅｆに投影し、それにより照準合わせがなされた複数の照射位置に対して順次に治療用レーザ光ＬＴを照射する。さらに、レーザ治療システムは、このようなパターン照射と並行してＯＣＴ計測と照射条件の制御とを実行する。このＯＣＴ計測は、治療用レーザ光ＬＴが現に照射されている位置、または治療用レーザ光ＬＴが既に照射された位置について実行される。

照射条件設定部１１１は、このＯＣＴ計測により得られた干渉光ＬＣを検出した検出ユニット８９からの出力に基づいて、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を設定する。この処理は、パターン照射と並行してリアルタイムで実行される。照射条件設定部１１１は、設定された照射条件を示す信号を照射光学系制御部１０１ａに送る。照射光学系制御部１０１ａは、この信号に基づいて、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を変更する。照射条件設定部１１１および照射光学系制御部１０１ａの組み合わせは「照射条件制御手段」に相当する。照射条件設定部１１１が実行する処理の例の以下に説明する。

第１の例を説明する。制御部１０１は、検出ユニット８９から出力された信号（検出信号）を照射条件設定部１１１に送る。照射条件設定部１１１は、この検出信号を解析することにより、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を設定する。この処理の具体例を説明する。照射条件設定部１１１は、検出信号の特性（強度、周波数、パターン等）と、照射条件とが対応付けられた対応情報をあらかじめ記憶している。照射条件は、配列条件、配列サイズ条件、配列方向条件、スポットサイズ条件、スポット間隔条件、スポット数条件、照射光種別条件、照射強度条件（出力強度条件、減光条件）など、１つ以上の照射条件を含む。照射条件設定部１１１は、この対応情報を参照することにより、検出信号に対応する照射条件を求める。

第２の例を説明する。画像形成部１０３は、検出ユニット８９から出力された検出信号に基づいて画像データを形成する。制御部１０１は、画像形成部１０３により形成された画像データを照射条件設定部１１１に送る。照射条件設定部１１１は、この画像データを解析することにより、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を設定する。この処理は、たとえば、第１の例と同様に、画像データの特性（画素値、パターン等）と、照射条件とが対応付けられた対応情報を参照することにより実行される。

照射条件を設定する処理に供される画像データは、１次元画像データ、２次元画像データ、または３次元画像データである。１次元画像データは、測定光ＬＭの進行方向（ｚ方向）に沿う眼底Ｅｆの１次元領域からの測定光ＬＭの反射強度分布を表す輝度画像データであり、Ａラインデータ、Ａスキャン像などと呼ばれる。この１次元画像データは、治療用レーザ光ＬＴが現に照射されている位置、または治療用レーザ光ＬＴが既に照射された位置における１次元領域を表す。

１次元画像データが用いられる場合、照射条件設定部１１１は、たとえば、治療用レーザ光ＬＴの照射位置における焼灼の程度および／または範囲（深度）など、焼灼状態を表す情報を求める。この情報は、焼灼状態の１次元分布などの分布情報を含んでいてよい。対応情報には、焼灼状態と照射条件とがあらかじめ対応付けられている。照射条件設定部１１１は、入力された１次元画像データと対応情報とに基づいて照射条件を設定する。

２次元画像データは、眼底Ｅｆに対する測定光ＬＭの照射位置を１次元的に移動させることにより得られる、この移動方向とｚ方向とにより張られる２次元領域を表す輝度画像データである。測定光ＬＭの照射位置を１次元的に移動させて行われるＯＣＴ計測はＢスキャンなどと呼ばれ、それにより得られる２次元画像データはＢスキャン像などと呼ばれる。この２次元画像データは、治療用レーザ光ＬＴが現に照射されている位置、または治療用レーザ光ＬＴが既に照射された位置を含む２次元断面を表す。

２次元画像データが用いられる場合、照射条件設定部１１１は、たとえば、治療用レーザ光ＬＴの照射位置における焼灼の程度および／または範囲（２次元分布等）など、焼灼状態を表す情報を求める。対応情報には、焼灼状態と照射条件とがあらかじめ対応付けられている。照射条件設定部１１１は、入力された２次元画像データと対応情報とに基づいて照射条件を設定する。

３次元画像データは、前述したように、データ処理部１１０によって形成される。３次元画像データは、眼底Ｅｆに対する測定光ＬＭの照射位置を２次元的に移動させることにより得られる、この２次元的な移動方向とｚ方向とにより張られる３次元領域を表す輝度画像データである。測定光ＬＭの照射位置を２次元的に移動させて行われるＯＣＴ計測は３次元スキャン、ボリュームスキャンなどと呼ばれ、それにより得られる３次元画像データはボリュームデータ、ボクセルデータ、スタックデータなどと呼ばれる。この３次元画像データは、治療用レーザ光ＬＴが現に照射されている位置、または治療用レーザ光ＬＴが既に照射された位置を含む３次元領域を表す。

３次元画像データが用いられる場合、照射条件設定部１１１は、たとえば、治療用レーザ光ＬＴの照射位置における焼灼の程度および／または焼灼部位の範囲（３次元分布等）など、焼灼状態を表す情報を求める。対応情報には、焼灼状態と照射条件とがあらかじめ対応付けられている。照射条件設定部１１１は、入力された３次元画像データと対応情報とに基づいて照射条件を設定する。

（照射位置選択部１１２）
照射位置選択部１１２は、検出ユニット８９からの出力（検出信号、これに基づく画像データなど）に基づいて、パターン照射における複数の照射位置の少なくとも一部を選択する。照射位置選択部１１２は、パターン照射において「予備的照射」が行われる場合に動作する。予備的照射とは、パターン照射における複数の照射位置の一部（１以上の照射位置）に対して治療用レーザ光ＬＴを照射しつつＯＣＴ計測を実行することであり、このＯＣＴ計測により得られたデータに基づいてパターン照射（複数の照射位置の一部または全部）が行われる。照射位置選択部１１２は、このＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、後者のパターン照射における治療用レーザ光ＬＴの照射位置、つまり前者のパターン照射における複数の照射位置の一部または全部を選択する。

照射位置選択部１１２が実行する処理の例を説明する。まず、照射位置選択部１１２は、予備的照射におけるＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、焼灼状態を示す情報（焼灼の程度、範囲など）を求める。この処理は、たとえば、照射条件設定部１１１に関する上記処理と同様にして実行される。

次に、照射位置選択部１１２は、求められた焼灼状態を示す情報に基づく判定処理を行う。この判定処理は、たとえば、予備的照射が適用された照射位置における焼灼の程度が閾値以上であるか判定する閾値処理、および／または、焼灼の範囲が閾値以上であるか判定する閾値処理を含む。このような判定処理は、予備的照射におけるそれぞれの照射位置について実行される。なお、閾値はあらかじめ設定される。

予備的照射における照射位置の個数が２つ以上である場合、照射位置選択部１１２は、判定結果を統計的に処理することができる。この統計処理の例として、閾値に対する差分の統計値（平均値、総和、標準偏差、分散、最大値、最小値など）を求める演算処理がある。

照射位置選択部１１２は、上記の判定処理（または統計処理）の結果に基づいて、照射位置の選択を行う。この処理の一例として、照射の程度および範囲が閾値以上である場合、照射位置選択部１１２は、予備的照射で適用された照射位置を全ての照射位置から除いた部分を選択することができる。照射の程度および範囲が閾値以上である場合における他の例として、照射位置選択部１１２は、照射の程度および範囲が閾値以上である照射位置を全ての照射位置から除いた部分を選択することができる。また、照射位置を選択するためのパラメータは、照射の程度および範囲のうち一方のみであってよい。また、照射位置の選択処理において、照射の程度および／または範囲が閾値よりも所定値以上大きい場合、当該照射位置の近傍の照射位置を除外することができる。

照射位置選択部１１２は、選択された照射位置を示す情報を照射光学系制御部１０１ａおよび／または照射順序設定部１１３に送る。また、選択された照射位置を示す情報は、焼灼状態を示す情報を含んでいてもよい。照射光学系制御部１０１ａに情報が送られた場合、照射光学系制御部１０１ａは、照射条件設定部１１１により設定された照射条件の治療用レーザ光ＬＴが、照射位置選択部１１２により選択された照射位置に対して順次に照射されるように、照射光学系（治療用レーザ光源２ｂ、ガルバノミラー２ｃ、ガルバノスキャナ５２等）の制御を行うことができる。照射順序設定部１１３に情報が送られた場合、照射順序設定部１１３は以下に説明する処理を実行する。

（照射順序設定部１１３）
照射順序設定部１１３は、検出ユニット８９からの出力（検出信号、これに基づく画像データなど）に基づいて、照射位置選択部１１２により選択された照射位置に対して治療用レーザ光ＬＴを照射する順序（照射順序）を設定する。

照射順序を設定する処理の例を説明する。まず、照射順序設定部１１３は、照射の程度および／または範囲が閾値よりも所定値以上大きいか否か判定する。なお、同様の判定処理を照射位置選択部１１２が実行する場合、照射順序設定部１１３は、照射位置選択部１１２による判定結果を受ける。

照射の程度（照射の範囲）が閾値より所定値以上大きいと判定された場合、照射順序設定部１１３は、この判定結果に対応する照射位置が後回しになるように照射順序を設定する。ここで、「後回し」とは、予備的照射後のパターン照射における当該照射位置の順序を、デフォルトの順序よりも後に変更するものであり、たとえば当該パターン照射の最後の順序に変更される。

一方、照射の程度（照射の範囲）が閾値より所定値以上大きいと判定された場合、照射順序設定部１１３は、たとえば、予備的照射後のパターン照射におけるデフォルトの順序を適用する。

照射順序設定部１１３は、照射位置選択部１１２により選択された照射位置について設定された照射順序を示す情報を、照射光学系制御部１０１ａに送る。照射光学系制御部１０１ａは、選択された照射位置に対する治療用レーザ光ＬＴの照射がこの照射順序に応じて実行されるように、照射光学系（治療用レーザ光源２ｂ、ガルバノミラー２ｃ、ガルバノスキャナ５２等）を制御することができる。

（入出力部１２０）
入出力部１２０は、外部装置や記録媒体から情報の入力を受ける機能と、外部装置や記録媒体に情報を出力する機能とを有する。入出力部１２０は、通信回線を介して外部装置（サーバ、コンピュータ端末、眼科装置等）と情報通信を行うための通信インターフェイスを含んでいてよい。また、入出力部１２０は、記録媒体に記録されている情報を読み取る処理や、記録媒体に情報を書き込む処理を行うためのドライブ装置を含んでいてよい。

入出力部１２０は、外部装置によって過去に取得されたデータを受け付けることができる。このデータとしては、眼科撮影装置（ＯＣＴ装置、眼底カメラ、スリットランプ顕微鏡、走査型レーザ検眼鏡など）を用いて過去に実施された撮影により取得された患者眼Ｅの画像がある。また、このデータは、当該医療機関に記録されている当該患者の診療情報（電子カルテ情報など）や、他の医療機関から送信された当該患者の診療情報を含んでいてよい。入出力部１２０が受け付けるデータはこれらに限定されるものではない。制御部１０１は、入出力部１２０により受け付けられたデータを表示ユニット７に表示させることができる。このような構成によれば、たとえばフォローアップ撮影や術前術後観察において、過去に取得されたデータを参照することが可能となる。なお、このレーザ治療システム１を用いて過去に取得されたデータを表示ユニット７に表示可能であることは言うまでもない。

［動作］
実施形態に係るレーザ治療システムの動作について説明する。以下、レーザ治療システムの動作についていくつかの例を説明する。実施形態に係るレーザ治療システムは、以下の動作例のいずれかを実行可能に構成されていてよい。なお、レーザ治療システムは、実行可能な動作例に関する構成要素のみを含んでいればよい。また、以下の動作例のうち任意の２つ以上を組み合わせることが可能である。

［動作例１］
図９に示す動作例について説明する。この動作例では、照射位置選択部１１２および照射順序設定部１１３は使用されない。

（ステップＳ１：眼底の観察を開始する）
まず、眼底Ｅｆの観察を開始する。具体的には、制御部１０１が、光源１１を点灯させ、かつ撮像装置４２から出力される信号に基づく画像を表示ユニット７に表示させる。この画像（観察画像）は、たとえばリアルタイム赤外動画像である。

（ステップＳ２：眼底に照準光を照射する）
制御部１０１（照射光学系制御部１０１ａ）は、照射光学系（照準光源２ａ、ガルバノミラー２ｃ、ガルバノスキャナ５２等）を制御することにより、眼底Ｅｆに照準光ＬＡを照射させる。このとき、所定配列のスポットパターンからなる照準光ＬＡが照射される。適用されるスポットパターンはあらかじめ設定される。ステップＳ１で表示が開始された観察画像には、眼底Ｅｆに投影されている照準光ＬＡの像、つまりスポットパターンに応じた複数のスポット像が描出される。

（ステップＳ３：ユーザが照準合わせを行う）
ユーザ（術者）は、この観察画像を観察しつつ、または接眼レンズ３８を介した肉眼観察を行いつつ、照準合わせを行う。この照準合わせは、たとえば、眼底Ｅｆに対する複数のスポット像の投影位置を、操作ユニット６を用いて変更することによって行われる。

（ステップＳ４：治療用レーザ光の照射とＯＣＴ計測を開始する）
ステップＳ３の照準合わせが完了したら、ユーザは、操作ユニット６を介して、治療用レーザ光ＬＴの照射（予備的照射）を開始させるための指示を入力する。このトリガを受けた制御部１０１は、治療用レーザ光ＬＴの照射とＯＣＴ計測を開始させる。治療用レーザ光ＬＴの照射は照射光学系制御部１０１ａにより実行され、ＯＣＴ計測はＯＣＴ光学系制御部１０１ｂにより実行される。

ここで、治療用レーザ光ＬＴの照射パターンと、予備的照射に適用される当該照射パターンの一部（サブパターン）は、あらかじめ設定される。なお、治療用レーザ光ＬＴの照射パターンは、照準光ＬＡのそれと同じでもよいし、異なってもよい。後者の場合、治療用レーザ光ＬＴの照射パターンは、たとえば、照準光ＬＡのそれの一部である。また、ＯＣＴ計測における測定光ＬＭのスキャンパターンもあらかじめ設定される。

（ステップＳ５：照射条件を設定する処理を開始する）
ステップＳ４でＯＣＴ計測が開始されたことに対応し、照射条件設定部１１１は、このＯＣＴ計測により逐次に得られたデータに基づき照射条件を設定する処理を開始する。

（ステップＳ６：照射条件を設定する）
照射条件設定部１１１は、予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を設定する。設定された照射条件を示す情報は、照射光学系制御部１０１ａに送られる。

（ステップＳ７：照射条件を変更する）
照射光学系制御部１０１ａは、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を、ステップＳ６で設定された照射条件に変更する。

（ステップＳ８：所定パターンでのレーザ照射の完了）
照射光学系制御部１０１ａは、あらかじめ設定された照射パターンと、ステップＳ７で変更された照射条件とに基づいて、治療用レーザ光ＬＴを照射する。この段階における治療用レーザ光ＬＴの照射は、たとえば、予備的照射に引き続く一連のレーザ治療として行われる。

この段階におけるレーザ照射は、あらかじめ設定された照射位置に対して実行される。たとえば、この段階におけるレーザ照射は、予備的照射が適用されなかった照射位置に対するパターン照射であってよい。つまり、この段階におけるレーザ照射は、照射パターンにおける全ての照射位置から予備的照射が適用された部分を除いた照射位置（残りの照射位置と呼ぶ）に対するレーザ照射であってよい。この場合、制御部１０１は、ステップＳ６で設定された照射条件の治療用レーザ光ＬＴが、残りの照射位置に対して順次に照射されるように照射光学系の制御を行う。

或いは、この段階におけるレーザ照射の対象となる照射位置は、予備的照射が適用された照射位置の少なくとも一部を含んでいてよい。その場合、この段階のレーザ照射における全ての照射位置に対して同じ照射条件を適用することもできるし、予備的照射が適用された照射位置と残りの照射位置とに対して異なる照射条件を適用することもできる。

（ステップＳ９：レーザ治療をさらに行うか？）
ユーザは、レーザ治療をさらに行うか判断する。さらなるレーザ治療が行われる場合（ステップＳ９：Ｙｅｓ）、ステップＳ２に戻る。一方、さらなるレーザ治療が行われない場合（ステップＳ９：Ｎｏ）、レーザ治療は終了となる（エンド）。

［動作例２］
図１０に示す動作例について説明する。この動作例では、照射位置選択部１１２が使用され、かつ照射順序設定部１１３は使用されない。

（ステップＳ１〜ステップＳ６）
ステップＳ１（眼底観察の開始）〜ステップＳ６（照射条件の設定）は、動作例１と同様であってよい。

（ステップＳ１１：照射位置を選択する）
照射位置選択部１１２は、予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、照射パターンにおける全ての照射位置のうちの少なくとも一部を選択する。

（ステップＳ１２：照射条件を変更する）
照射光学系制御部１０１ａは、ステップＳ１１で設定された照射位置に対する治療用レーザ光ＬＴの照射条件を、ステップＳ６で設定された照射条件に変更する。

（ステップＳ１３：所定パターンでのレーザ照射の完了）
照射光学系制御部１０１ａは、ステップＳ１２で変更された照射条件の治療用レーザ光ＬＴを、ステップＳ１１で設定された照射位置に対して照射する。

（ステップＳ９：レーザ治療をさらに行うか？）
動作例１と同様に、ユーザは、レーザ治療をさらに行うか判断する。さらなるレーザ治療が行われる場合（ステップＳ９：Ｙｅｓ）、ステップＳ２に戻る。一方、さらなるレーザ治療が行われない場合（ステップＳ９：Ｎｏ）、レーザ治療は終了となる（エンド）。

［動作例３］
図１１に示す動作例について説明する。この動作例では、照射位置選択部１１２および照射順序設定部１１３が使用される。

（ステップＳ１〜ステップＳ６）
ステップＳ１（眼底観察の開始）〜ステップＳ６（照射条件の設定）は、動作例１と同様であってよい。

（ステップＳ１１：照射位置を選択する）
動作例２と同様に、照射位置選択部１１２は、予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、照射パターンにおける全ての照射位置のうちの少なくとも一部を選択する。

（ステップＳ２１：照射順序を設定する）
照射順序設定部１１３は、予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、ステップＳ１１で選択された照射位置に対する治療用レーザ光の照射順序を設定する。

（ステップＳ１２：照射条件を変更する）
動作例２と同様に、照射光学系制御部１０１ａは、ステップＳ１１で設定された照射位置に対する治療用レーザ光ＬＴの照射条件を、ステップＳ６で設定された照射条件に変更する。

（ステップＳ２２：所定パターンでのレーザ照射の完了）
照射光学系制御部１０１ａは、ステップＳ１２で変更された照射条件の治療用レーザ光ＬＴを、ステップＳ１１で設定された照射位置に対して照射する。これら照射位置に対する治療用レーザ光ＬＴの照射は、ステップＳ２１で設定された照射順序にしたがって実行される。

（ステップＳ９：レーザ治療をさらに行うか？）
動作例１と同様に、ユーザは、レーザ治療をさらに行うか判断する。さらなるレーザ治療が行われる場合（ステップＳ９：Ｙｅｓ）、ステップＳ２に戻る。一方、さらなるレーザ治療が行われない場合（ステップＳ９：Ｎｏ）、レーザ治療は終了となる（エンド）。

［動作例４］
この動作例に係るレーザ治療システムは、照射条件を設定するための予備的照射において２以上の異なる照射条件を適用し、この予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて照射条件の制御を行うように構成される。

ここで適用される照射条件は、たとえば、眼底Ｅｆの組織の焼灼状態に影響を与え得る照射条件を含む。このような照射条件の例として、単一のスポットに対する焼灼状態に影響を与え得る照射条件（スポットサイズ条件、照射光種別条件、照射強度条件（出力強度条件、減光条件）、照射時間条件など）や、近傍のスポットにおける焼灼状態に影響を与え得る照射条件（スポット間隔条件など）がある。

このように２以上の異なる照射条件を用いて予備的照射を行うことにより、単一の照射条件で予備的照射を行う場合よりもバラエティに富んだデータを収集することができ、その結果、照射条件の制御の確度や精度の向上を図ることが可能となる。

なお、動作例４において、照射位置選択部１１２および照射順序設定部１１３の使用は任意である。つまり、動作例４は、これらを使用しなくてもよいし、これらのうち一方のみを使用してもよいし、これら双方を使用してもよい。たとえば、動作例４に係る予備的照射の動作および照射条件の制御を、動作例１、動作例２および動作例３のいずれかに適用することが可能である。以下、動作例４における特徴的な動作を動作例１に適用した場合について、図１２を参照しつつ説明する。

（ステップＳ１〜ステップＳ３）
ステップＳ１（眼底観察の開始）〜ステップＳ３（照準合わせ）は、動作例１と同様にして実行される。

（ステップＳ３１：異なる照射条件の治療用レーザ光の照射とＯＣＴ計測を開始する）
ステップＳ３の照準合わせが完了し、ユーザがトリガ操作を行うと、制御部１０１は、治療用レーザ光ＬＴの照射とＯＣＴ計測を開始させる。

治療用レーザ光ＬＴの照射は予備的照射から始まる。この予備的照射では、２以上のスポットに対して治療用レーザ光ＬＴが照射される。さらに、この予備的照射では、２以上の異なる照射条件が適用される。たとえば２つのスポットに対して予備的照射が行われる場合、第１のスポットに適用される治療用レーザ光ＬＴの照射条件と、第２のスポットに適用される治療用レーザ光ＬＴの照射条件とが異なるように、照射光学系制御部１０１ａは動作する。

ここで、動作例１と同様に、治療用レーザ光ＬＴの照射パターンと、予備的照射に適用されるサブパターン（２以上のスポットを含む）は、あらかじめ設定される。

（ステップＳ３２：照射条件を設定する処理を開始する）
ステップＳ３１でＯＣＴ計測が開始されたことに対応し、照射条件設定部１１１は、このＯＣＴ計測により逐次に得られたデータに基づき照射条件を設定する処理を開始する。

この動作例の予備的照射では２以上の異なる照射条件が適用される。制御部１０１は、予備的照射が実行される各スポットについて、そのスポットに適用された照射条件と、そのスポットに対するＯＣＴ計測で得られたデータとを関連付けて、照射条件設定部１１１に送る。照射条件設定部１１１は、この照射条件とＯＣＴデータとに基づいて、照射条件を設定する処理を実行する。

（ステップＳ３３：照射条件を設定する）
照射条件設定部１１１は、予備的照射と並行して行われたＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を設定する。設定された照射条件を示す情報は、照射光学系制御部１０１ａに送られる。

この動作例における照射条件設定処理の例を説明する。２以上の異なるスポットサイズ条件が適用される場合、少なくともサイズが異なる焼灼領域が得られる。照射条件設定部１１１は、これら焼灼領域に関するＯＣＴデータに基づいて、新たな照射条件（たとえばスポットサイズ条件を含む）を設定する。この処理は、たとえば、十分な領域（１次元領域（Ａスキャン方向の深さ）、２次元領域（Ｂスキャン方向の広がり）、３次元領域）が焼灼されているか判定する処理、隣接する焼灼領域が干渉しているか判定する処理を含む。

２以上の異なる照射強度条件が適用される場合、少なくとも焼灼の程度が異なる焼灼領域が得られる。照射条件設定部１１１は、これら焼灼領域に関するＯＣＴデータに基づいて、新たな照射条件（たとえば照射強度条件を含む）を設定する。この処理は、たとえば、焼灼の程度が十分であるか判定する処理を含む。

２以上の異なる照射光種別条件が適用される場合、少なくとも焼灼の程度および／または特に焼灼されている組織の種別が異なる焼灼領域が得られる。照射条件設定部１１１は、これら焼灼領域に関するＯＣＴデータに基づいて、新たな照射条件（たとえば照射光種別条件を含む）を設定する。この処理は、たとえば、焼灼の程度が十分であるか判定する処理、特に焼灼されている組織が適当であるか判定する処理を含む。

２以上の異なる照射時間条件が適用される場合、少なくとも焼灼の程度および／または焼灼範囲が異なる焼灼領域が得られる。照射条件設定部１１１は、これら焼灼領域に関するＯＣＴデータに基づいて、新たな照射条件（たとえば照射時間条件を含む）を設定する。この処理は、たとえば、焼灼の程度が十分であるか判定する処理、焼灼範囲が適当であるか判定する処理を含む。

２以上の異なるスポット間隔条件が適用される場合、少なくとも間隔が異なる２以上の焼灼領域が得られる。照射条件設定部１１１は、これら焼灼領域に関するＯＣＴデータに基づいて、新たな照射条件（たとえばスポット間隔条件を含む）を設定する。この処理は、たとえば、隣接する焼灼領域が干渉しているか判定する処理を含む。

予備的照射において変更される照射条件の個数は１つには限定されない。たとえば上記した例示のうち２以上の照射条件をそれぞれ変更しつつ予備的照射を行うことが可能である。その場合、照射条件設定部１１１は、２以上の照射条件の組み合わせに基づいて、新たな照射条件を設定することができる。

（ステップＳ３４：照射条件を変更する）
照射光学系制御部１０１ａは、治療用レーザ光ＬＴの照射条件を、ステップＳ３３で設定された照射条件に変更する。

（ステップＳ３５：所定パターンでのレーザ照射の完了）
照射光学系制御部１０１ａは、ステップＳ３４で変更された照射条件の治療用レーザ光ＬＴを用いてレーザ治療を実行する。

（ステップＳ９：レーザ治療をさらに行うか？）
動作例１と同様に、ユーザは、レーザ治療をさらに行うか判断する。さらなるレーザ治療が行われる場合（ステップＳ９：Ｙｅｓ）、ステップＳ２に戻る。一方、さらなるレーザ治療が行われない場合（ステップＳ９：Ｎｏ）、レーザ治療は終了となる（エンド）。

［動作例５］
広範囲のレーザ治療が行われる場合などにおいて、一連のパターン照射を繰り返し行うことがある。このような場合、パターン照射ごとに予備的照射を行うこともできるが（たとえば動作例１のステップＳ９において「Ｙｅｓ」の場合）、１のパターン照射における予備的照射に基づき設定された照射条件を、その後に行われるパターン照射において適用することも可能である。動作例５は後者の場合に相当する。

なお、動作例５において照射位置選択部１１２および照射順序設定部１１３の使用は任意である。たとえば、動作例１（図９のフローチャート）のステップＳ９において「Ｙｅｓ」の場合、ステップＳ６で設定された照射条件が、引き続き実施されるパターン照射において適用される。この動作は、たとえば、照射光学系制御部１０１ａが、ステップＳ７で変更された照射条件を維持しつつパターン照射を引き続き実行することによって実現される。

なお、このような反復的なパターン照射における任意の段階において、予備的照射およびＯＣＴ計測を再度実行し、照射条件の設定および変更を再度行うように構成することも可能である。このような再制御を実行するためのトリガとしては、パターン照射が所定回数繰り返されたこと、ユーザがそれの実行を指示したこと、パターン照射の対象部位が変わったこと（たとえば眼底周縁部から黄斑近傍に対象部位が移動したこと）などがある。

［動作例６］
予備的照射における治療用レーザ光ＬＴの１のスポットに対してＯＣＴ計測を複数回行い、それにより得られた複数のＯＣＴデータに基づいて照射条件を設定することが可能である。この処理には、次の２つの態様が含まれる。

第１の態様として、測定光ＬＭのビーム断面のサイズが、治療用レーザ光ＬＭのビーム断面のサイズよりも十分に小さい場合に、治療用レーザ光ＬＭのスポット内の複数の位置に対してそれぞれＯＣＴ計測を実行することができる。この態様によれば、治療用レーザ光ＬＴの照射領域内を細かくＯＣＴ計測することにより、照射条件の制御における確度や精度の向上を図ることができる。

また、第２の態様として、治療用レーザ光ＬＭのスポットにおける実質的に同じ位置について、ＯＣＴ計測を複数回実行することができる。この態様によれば、複数回のＯＣＴ計測で得られた複数のＯＣＴデータを統計的に処理することにより、照射条件の制御における確度や精度の向上を図ることができる。

［効果］
この実施形態に係るレーザ治療システムの効果について説明する。

実施形態に係るレーザ治療システムは、照射光学系と、干渉光学系と、光学系制御手段と、照射条件制御手段とを有する。

照射光学系は、患者眼のレーザ治療を行うための構成を有する。照射光学系は、治療用レーザ光（ＬＴ）を第１の光走査手段を介して患者眼（Ｅ）に照射する。図１Ａ等に示す例において、照射光学系は、照射光学系１３００と、光走査ユニット１６００（第１の光走査手段）とを含む。また、図２等に示す具体例において、照射光学系は、レーザ光源ユニット２と、ガルバノスキャナ５２（第１の光走査手段）とを含む。

干渉光学系は、ＯＣＴ計測を行うための構成を有する。干渉光学系は、光源からの光（Ｌ０）を測定光（ＬＭ）と参照光（ＬＲ）とに分割し、第２の光走査手段を介して測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光（ＬＣ）を検出手段に導く。図１Ａ等に示す例において、干渉光学系は、干渉光学系１４００と、光走査ユニット１６００（第２の光走査手段）とを含む。また、図２等に示す具体例において、干渉光学系は、ＯＣＴユニット８と、ガルバノスキャナ５２（第２の光走査手段）とを含む。図２等に示す具体例において、検出ユニット８９は検出手段の例である。

光学系制御手段は、照射光学系の制御と、干渉光学系の制御とを行う。照射光学系の制御は、あらかじめ設定されたパターンの複数の位置に対して治療用レーザ光（ＬＴ）が照射されるように照射光学系を制御することを含む。干渉光学系の制御は、次の制御の一方または双方を含む：治療用レーザ光が現に照射されている位置に測定光が照射されるように干渉光学系を制御すること；治療用レーザ光が既に照射された位置に測定光が照射されるように干渉光学系を制御すること。図１Ａ等に示す例において、光学系制御手段は、制御ユニット１８００を含む。また、図２等に示す具体例において、光学系制御手段は、制御部１０１（照射光学系制御部１０１ａ、ＯＣＴ光学系制御部１０１ｂ）を含む。

照射条件制御手段は、治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御する。照射条件制御手段は、光学系制御手段による制御により得られた干渉光を検出した検出手段からの出力に基づいて、治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御する。図１Ａ等に示す例において、光学系制御手段は、制御ユニット１８００を含む。また、図２等に示す具体例において、光学系制御手段は、制御部１０１（照射光学系制御部１０１ａ）およびデータ処理部１１０を含む。

このような実施形態によれば、治療用レーザ光の照射とともに実行されるＯＣＴ計測により得られたデータに基づいて、治療用レーザ光の照射条件を制御することができる。したがって、患者眼の対象部位にレーザ光を適度に照射することが可能である。

以下、この実施形態に係るレーザ治療システムにおいて適用可能な構成の例を示す。

あらかじめ設定されたパターンにおける複数の位置のうちの第１の部分に治療用レーザ光が照射されている間に、光学系制御手段は、干渉光学系に対する上記制御（ＯＣＴ計測）を行うことができる。この処理は、予備的照射とＯＣＴ計測との並行的な実施に相当する。この場合、次の処理をさらに実行することが可能である：照射条件制御手段が、このＯＣＴ計測における検出手段からの出力に基づいて、照射条件の制御を行う；光学系制御手段が、この制御による照射条件の治療用レーザ光が上記複数の位置の少なくとも一部に対して照射されるように、照射光学系の制御を行う。

この構成によれば、一連のパターン照射のサブプロセス（予備的照射）を利用して照射条件の制御を行うことができ、レーザ治療の円滑化を図ることが可能である。

予備的照射を実施する場合において、光学系制御手段は、照射条件制御手段により制御された照射条件の治療用レーザ光が、あらかじめ設定されたパターンにおける複数の位置から上記第１の部分を除外した第２の部分に対して照射されるように、照射光学系の制御を行ってよい。ここで、第１の部分は予備的照射が適用される位置の集合に相当し、第２の部分はパターン全体から第１の部分を除いた補集合に相当する。また、上記具体例で説明した「残りの照射位置」は第２の部分に相当する。

予備的照射を実施する場合において、光学系制御手段は、以下に示す第１および第２の制御を行ってよい。
第１の制御：照射条件制御手段により制御された第１の照射条件の治療用レーザ光が、第１の部分の少なくとも一部に対して照射されるように、照射光学系を制御すること。
第２の制御：照射条件制御手段により制御された第２の照射条件の治療用レーザ光が、パターン全体からから第１の部分を除外した第２の部分に対して照射されるように、照射光学系を制御すること。
ここで、第１の照射条件と第２の照射条件とは異なっていてよい。それにより、予備的照射が適用された第１の部分の一部または全部に対して再度照射される治療用レーザ光の照射条件（第１の照射条件）と、残りの照射位置（第２の部分）に対して照射される治療用レーザ光の照射条件とを違えることができる。具体例として、照射強度条件が適用される場合、第１の照射条件における照射強度は、第２の照射条件における照射強度よりも低く設定される。これは、第１の照射条件によるレーザ照射は２度目のレーザ照射であり、第２の照射条件によるレーザ照射は１度目のレーザ照射であることによる。

予備的照射を実施する場合において、照射条件制御手段は、検出手段からの出力に基づいて、パターン全体（上記複数の位置）の少なくとも一部を選択する照射位置選択手段を含んでいてよい。この場合、光学系制御手段は、照射条件制御手段により制御された照射条件の治療用レーザ光が、照射位置選択手段により選択された位置に対して照射されるように、照射光学系の制御を行う。なお、図１Ａ等に示す例において、照射位置選択手段は制御ユニット１８００を含む。また、第３等に示す例において、照射位置選択手段は照射位置選択部１１２を含む。

この構成によれば、予備的照射とともに取得されたＯＣＴデータにより認識可能な焼灼状態を参照することにより、治療用レーザ光の照射対象となる位置を好適に選択することが可能である。

予備的照射を実施する場合において、照射条件制御手段は、検出手段からの出力に基づいて、照射位置選択手段により選択された位置に対する治療用レーザ光の照射順序を設定する照射順序設定手段を含んでいてよい。この場合、光学系制御手段は、照射順序設定手段により設定された照射順序に応じて治療用レーザ光が、照射位置選択手段により選択された位置に対して照射されるように、照射光学系の制御を行うことができる。なお、図１Ａ等に示す例において、照射順序設定手段は制御ユニット１８００を含む。また、第３等に示す例において、照射順序設定手段は照射順序設定部１１３を含む。

この構成によれば、予備的照射とともに取得されたＯＣＴデータにより認識可能な焼灼状態を参照することにより、治療用レーザ光の照射対象である複数の位置に対する照射順序を好適に設定することが可能である。

予備的照射を実施する場合において、第１の部分は２以上の位置を含んでいてよい。その場合、光学系制御手段が、異なる照射条件の治療用レーザ光を２以上の位置に対して照射し、さらに、照射条件制御手段が、２以上の位置に対応する検出手段からの出力に基づいて照射条件の制御を行うように構成することが可能である。

この構成によれば、予備的照射において２以上のスポットに異なる照射条件を適用することができるので、照射条件制御手段により得られる照射条件の確度や精度の向上を図ることが可能である。

予備的照射を実施し、かつ、パターン照射を複数回実施する場合、次の第１〜第３の制御を実行することが可能である。なお、第１のパターンの複数の位置に対して治療用レーザ光を照射するための第１の照射制御を行った後に、第２のパターンの複数の位置に対して治療用レーザ光を照射するための第２の照射制御を行うとする。
第１の制御：光学系制御手段が、第１の照射制御（予備的照射）と並行して、干渉光学系に対する制御（ＯＣＴ計測）を行う。
第２の制御：照射条件制御手段が、このＯＣＴ計測における検出手段からの出力に基づいて照射条件の制御を行う。
第３の制御：光学系制御手段が、第２の制御による照射条件の治療用レーザ光によって第２の照射制御を行う。

この構成によれば、既に実施されたパターン照射で得られた照射条件を準用してさらなるパターン照射を実行することができる。それにより、レーザ治療の円滑化を図ることが可能である。

予備的照射の実施の有無に関わらず、次の第１および第２の制御を実行することが可能である。
第１の制御：光学系制御手段が、治療用レーザ光の１の照射位置に対して測定光が複数回照射されるように干渉光学系の制御を行う。つまり、治療用レーザ光の１つのスポットについて複数回のＯＣＴ計測が実行される。
第２の制御：照射条件制御手段が、このＯＣＴ計測における検出手段からの出力に基づいて照射条件の制御を行う。

この構成によれば、治療用レーザ光のスポット内の異なる複数の位置をＯＣＴ計測することや、同じ位置を繰り返しＯＣＴ計測することができるので、照射条件の制御における確度や精度の向上を図ることが可能である。

実施形態に係るレーザ治療システムは、検出手段からの出力に基づいて画像データを形成する画像データ形成手段を有していてよい。この場合、照射条件制御手段は、画像データ形成手段により形成された画像データに基づいて照射条件の制御を行うことができる。なお、図１Ａ等に示す例において、画像データ形成手段は画像形成ユニット１７００を含む。また、図２等に示す例において、画像データ形成手段は、画像形成部１０３（およびデータ処理部１１０）を含む。

この構成は、ＯＣＴによって得られた画像データに基づいて照射条件を制御する実施形態に相当する。これに対し、画像データ以外のデータ、たとえば、検出手段から出力されたデータ（信号）に基づいて照射条件の制御を行うように構成することも可能である。

画像データに基づいて照射条件の制御を行う場合において、当該制御に供される画像データは、１次元画像データでも、２次元画像データでも、３次元画像データでもよい。１次元画像データは、測定光の進行方向に沿う１次元領域を表す画像データである。２次元画像データは、１次元的に配列された複数の位置に対して測定光が照射されるように干渉光学系を制御することにより得られる画像データであり（つまりＢスキャンを行うことにより得られる画像データであり）、当該複数の位置が配列されたラインと測定光の進行方向とにより張られる２次元領域を表す。３次元画像データは、２次元的に配列された複数の位置に対して測定光が照射されるように干渉光学系を制御することにより得られる画像データであり（つまり３次元スキャンを行うことにより得られる画像データであり）、当該複数の位置が配列された面と測定光の進行方向とにより張られる３次元領域を表す。照射条件制御手段は、このような画像データに基づいて照射条件の制御を行う。なお、３次元画像データが取得された場合、ＭＰＲによって得られる任意の断面の２次元画像データに基づいて照射条件の制御を実行することも可能である。

実施形態に係るレーザ治療システムは、治療用レーザ光の光路と測定光の光路とを合成する光路合成手段を有していてよい。この場合、光路合成手段による光路の合成位置よりも患者眼側の位置に、レーザ治療用の第１の光走査手段と、ＯＣＴ計測用の第２の光走査手段とを兼ねる光走査手段を設けることが可能である。なお、図１Ａ等に示す例においては、第１の合成部材１５１０が光路合成手段に相当し、光走査ユニット１６００が光走査手段に相当する。また、また、第３等に示す例においては、ダイクロイックミラー９１が光路合成手段に相当し、ガルバノスキャナ５２が光走査手段に相当する。

この構成によれば、治療用レーザ光の照射位置に対して測定光を確実に照射することができるので、治療用レーザ光による焼灼状態を把握するためのＯＣＴデータを確実に取得することが可能である。

なお、治療用レーザ光の光路と測定光の光路とが実質的に同軸になるように光路合成手段を構成することにより、当該効果の向上を図ることができる。ここで、「実質的に同軸」には、完全に同軸な場合だけでなく、所定の誤差を有する場合も含まれる。この誤差は、上記効果が確保される範囲に含まれていればよい。当該範囲は、たとえば、治療用レーザ光のビーム径（スポットサイズ）、測定光のビーム系（スポットサイズ）などに基づいて、あらかじめ決定される。

実施形態において適用されるＯＣＴは、スペクトラルドメインタイプであってよい。その場合、ＯＣＴ用の光源（光源ユニット８１）は、低コヒーレンス光を発する低コヒーレンス光源を含む。検出手段（検出ユニット８９）は、低コヒーレンス光に基づき干渉光学系により生成される干渉光のスペクトル情報を取得する分光器を含む。

また、実施形態において適用されるＯＣＴは、スウェプトソースタイプであってよい。その場合、ＯＣＴ用の光源（光源ユニット８１）は、出力波長の掃引が可能な波長掃引光源を含む。検出手段（検出ユニット８９）は、波長掃引光源から出力された光に基づき干渉光学系により生成される干渉光を検出する光検出器を含む。

実施形態に係るレーザ治療システムは、照明光学系と、観察光学系を有していてよい。照明光学系は、患者眼を照明する。観察光学系は、照明光学系により照明されている患者眼を観察するために用いられる。この構成が適用される場合、照射光学系は、治療用レーザ光の照準を合わせるための照準光（ＬＡ）を第１の光走査手段を介して患者眼に照射する。

さらに、観察光学系は、照明光学系により照明されている患者眼からの戻り光と、照射光学系により照射された照準光の患者眼からの戻り光とを接眼レンズ（３８）に導くように構成されていてよい。

また、観察光学系は、照明光学系により照明されている患者眼からの戻り光と、照射光学系により照射された照準光の患者眼からの戻り光とを撮像装置（４２）に導くように構成されていてよい。この場合、レーザ治療システムは、撮像装置により取得された画像を表示手段に表示させる表示制御手段を有する。図１等に示す例においては、制御ユニット１８００が表示制御手段として機能する。また、図２等に示す例においては、制御部１０１が表示制御手段として機能する。なお、表示手段は、レーザ治療システムに含まれていてもよいし、外部に設けられていてもよい。

このような構成によれば、患者眼に対する照準光の照射位置（つまり治療用レーザ光の照射ターゲット）を肉眼で観察したり、画像で観察したりすることができる。

以上に示した実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。

１、１０００ レーザ治療システム
２ レーザ光源ユニット
２ａ 照準光源
２ｂ 治療用レーザ光源
３ スリットランプ顕微鏡
５ 処理ユニット
６ 操作ユニット
７ 表示ユニット
８ ＯＣＴユニット
５２ ガルバノスキャナ
８１ 光源ユニット
８９ 検出ユニット
１０１ 制御部
１０１ａ 照射光学系制御部
１０１ｂ ＯＣＴ光学系制御部
１０３ 画像形成部
１１０ データ処理部
１１１ 照射条件設定部
１１２ 照射位置選択部
１１３ 照射順序設定部
１３００ 照射光学系
１４００ 干渉光学系
１５１０ 第１の合成部材
１６００ 光走査ユニット
１７００ 画像形成ユニット
１８００ 制御ユニット
１９００ 表示ユニット
１９５０ 操作ユニット
ＬＡ 照準光
ＬＴ 治療用レーザ光
ＬＭ 測定光
ＬＲ 参照光
ＬＣ 干渉光
Ｅ 患者眼
Ｅｆ 眼底

Claims (8)

1. 治療用レーザ光を第１の光走査手段を介して患者眼に照射する照射光学系と、
   光源からの光を測定光と参照光とに分割し、第２の光走査手段を介して測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く干渉光学系と、
   あらかじめ設定された配列のスポットパターンに基づく複数の位置に対して順次に治療用レーザ光が照射されるように前記照射光学系を制御し、かつ、治療用レーザ光が照射されている位置および／または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように前記干渉光学系を制御する光学系制御手段と、
   前記複数の位置を含む患者眼の３次元領域に光コヒーレンストモグラフィを適用して取得された３次元画像データにおける、治療用レーザ光が照射された位置に相当する画像領域を特定する特定手段と
   を有するレーザ治療システム。
2. 患者眼を撮影するための撮影系を更に有し、
   前記特定手段は、前記撮影系により得られた画像と前記３次元画像データとの位置合わせを行い、前記位置合わせの結果に基づいて前記画像領域を特定する
   ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ治療システム。
3. 前記特定手段は、前記位置合わせにおいて、前記撮影系により得られた画像と前記３次元画像データの少なくとも一部をＡラインに沿って加算して得られた２次元画像との画像マッチングを実行する
   ことを特徴とする請求項２に記載のレーザ治療システム。
4. 治療用レーザ光が照射された位置におけるレーザ治療の度合を示す情報を求める情報取得手段を更に有する
   ことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のレーザ治療システム。
5. 前記３次元画像データは、前記光学系制御手段が、治療用レーザ光が照射されている位置および／または治療用レーザ光が照射された位置に測定光が照射されるように前記干渉光学系を制御することにより取得され、
   前記情報取得手段は、前記３次元画像データを解析することにより前記情報を求める
   ことを特徴とする請求項４に記載のレーザ治療システム。
6. 前記情報取得手段により求められる前記情報は、治療用レーザ光による焼灼の程度および／または範囲を含む
   ことを特徴とする請求項５に記載のレーザ治療システム。
7. 前記情報取得手段により求められる前記情報は、治療用レーザ光による焼灼の程度を少なくとも含み、当該焼灼の程度の分布状態を表現した画像またはグラフを作成する
   ことを特徴とする請求項６に記載のレーザ治療システム。
8. 前記光学系制御手段による制御により得られた干渉光を検出した前記検出手段からの出力に基づいて、治療用レーザ光の照射条件をリアルタイムで制御する照射条件制御手段を更に有する
   ことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のレーザ治療システム。
   
   

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