JP2017537914A5 - - Google Patents
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Claims (6)
- 式(I)
〔式中、
Aは、(A−a)〜(A−f)
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の窒素原子への結合を示している]
の群から選択されるラジカルであり;及び、
G1は、N又はC−B1であり;
B1は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハ
ロアルコキシ、並びに、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル及びシク
ロアルケニルの群から選択されるラジカルであり;
B2は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハ
ロアルコキシ、並びに、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル及びシク
ロアルケニルの群から選択されるラジカルであり;
Tは、酸素又は電子対であり;
R1は、水素、アルキル、アルコキシ及びシアノの群から選択されるラジカルであり;
R2は、(a) (B−1)〜(B−36)
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
の群から選択されるBラジカルであり;又は、
R2は、(b) (D−1)〜(D−3)
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
の群から選択されるDラジカルであり;又は、
R2は、(c) 式
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
で表されるラジカルであり;又は、
R2は、(d) 式
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
で表されるラジカルであり;又は、
R2は、(e) (F−1)〜(F−11)
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
の群から選択されるFラジカルであり;又は、
R2は、(f) ハロアルキル、カルボキシル及びアミノの群から選択されるラジカル
であり;
ここで、
G2は、水素であるか、又は、ハロゲン、ニトロ、アミノ、シアノ、アルキルアミノ、
ハロアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシカルボニ
ルアルキル、飽和若しくは不飽和のシクロアルキル(ここで、該シクロアルキルは、置換
されていてもよく、及び、1個以上のヘテロ原子で中断されていてもよい)、シクロアル
キルアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、ハロゲン化アルコキ
シアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニ
ルアルキル、ビス(アルコキシ)アルキル、ビス(ハロアルコキシ)アルキル、アルコキ
シ(アルキルスルファニル)アルキル、アルコキシ(アルキルスルフィニル)アルキル、
アルコキシ(アルキルスルホニル)アルキル、ビス(アルキルスルファニル)アルキル、
ビス(ハロアルキルスルファニル)アルキル、ビス(ヒドロキシアルキルスルファニル)
アルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、α−ヒドロキシイミ
ノアルコキシカルボニルアルキル、α−アルコキシイミノアルコキシカルボニルアルキル
、C(X2)NR3R4、NR6R7、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、ヘテロシクリルラジカル[ジオキサニル、ジオキソラニル、ジオキセパニル
、ジオキソカニル、オキサチアニル、オキサチオラニル、オキサチエパニル、オキサチオ
カニル、ジチアニル、ジチオラニル、ジチエパニル、ジチオカニル、オキサチアニルオキ
シド、オキサチオラニルオキシド、オキサチエパニルオキシド、オキサチオカニルオキシ
ド、オキサチアニルジオキシド、オキサチオラニルジオキシド、オキサチエパニルジオキ
シド、オキサチオカニルジオキシド、モルホリニル、トリアゾリノニル、オキサゾリニル
、ジヒドロオキサジアジニル、ジヒドロジオキサジニル、ジヒドロオキサゾリル、ジヒド
ロオキサジニル及びピラゾリノニル(ここで、これらは、これらに関する限り、同様に、
アルキル、ハロアルキル、アルコキシ及びアルコキシアルキルで置換されていてもよい)
]、フェニル(ここで、これは、これに関する限り、同様に、ハロゲン、シアノ、ニトロ
、アルキル及びハロアルキルで置換されていてもよい)、ヘテロアリールラジカル[ピリ
ジル、ピリジルN−オキシド、ピリミジル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、
チアゾリル、フラニル、チエニル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサジアゾリル、チ
アジアゾリル、ピラジニル、トリアジニル、テトラジニル及びイソキノリニル(ここで、
これらは、これらに関する限り、同様に、ハロゲン、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、
アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキルチオアルキ
ル及びシクロアルキルで置換されていてもよい)]、及び、ヘテロアリールアルキルラジ
カル[トリアゾリルアルキル、ピリジルアルキル、ピリミジルアルキル及びオキサジアゾ
リルアルキル(ここで、これらは、これらに関する限り、同様に、ハロゲン及びアルキル
で置換されていてもよい)]の群から選択されるラジカルであり;又は、
G2は、(C−1)〜(C−9)
[ここで、破線は、ラジカル(B−1)〜ラジカル(B−34)への結合を示している]
の群から選択されるラジカルであり;
Xは、酸素又は硫黄であり;
X1は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル
、アルコキシ及びハロアルコキシの群から選択されるラジカルであり;
X2は、酸素、硫黄、NR5又はNOHであり;
Lは、酸素又は硫黄であり;
V−Zは、R24CH−CHR25又はR24C=CR25であり;
nは、1又は2であり;
mは、1、2、3又は4であり;
Rは、NR18R19であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキ
シアルキル、アルキル−S−アルキル、アルキル−S(O)−アルキル、アルキル−S(
O)2−アルキル、R18−CO−アルキル、NR18R19−CO−アルキル、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルアルキル、シクロアルケニルアルキル、ヘ
テロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、フェニル、フェニルアルキル、ヘタリール及び
ヘタリールアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカル
であり;
R3は、水素又はアルキルであり;
R4は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシ
カルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキル
スルホニルアルキル、アリール、アリールアルキル及びヘタリールアルキルの群から選択
されるラジカルであり;
R5は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシ
カルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アリール、アリールアルキル及びヘタリー
ルアルキルの群から選択されるラジカルであり;又は、
R3とR4は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環(ここで、該環は、窒素、
酸素及び硫黄の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子を含んでいてもよい)を
形成し;又は、
R3とR5は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環を形成し;
R6は、水素又はアルキルであり;
R7は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アル
キルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アル
コキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルチオアルキル、アリール、
アリールアルキル及びヘタリールアルキルの群から選択されるラジカルであり;又は、
R6とR7は、それらが結合している窒素原子と一緒に、環(ここで、該環は、窒素、
酸素及び硫黄の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子を含んでいてもよい)を
形成し;
R8は、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルケニル、アルコキシアルキル、いずれの場合にもハロゲンで置換されていてもよ
いアルキルカルボニル及びアルキルスルホニル、ハロゲンで置換されていてもよいアルコ
キシカルボニル、ハロゲン−、アルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−及びシアノ−
で置換されていてもよいシクロアルキルカルボニルの群から選択されるラジカルであるか
、又は、カチオンであるか、又は、アルキル−若しくはアリールアルキル−で置換されて
いてもよいアンモニウムイオンであり;
R9は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル及びアルキニル
、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルアルキル及び
シクロアルケニル(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接
してはならない)及び窒素の群から選択される少なくとも1個のヘテロ原子を含んでいて
もよい)、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリール、アリール
アルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいアミノ基の群から
選択されるラジカルであり;
(C−1)ラジカル及び(F−1)ラジカルにおけるR8とR9は、それらが結合して
いるN−S(O)n基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環(
ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及
び窒素の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1のカ
ルボニル基を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R10は、水素又はアルキルであり;
(C−2)ラジカル及び(F−2)ラジカルにおけるR8とR10は、それらが結合し
ている窒素原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環(ここで
、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及び窒素
の群から選択される少なくとも1個のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1のカ
ルボニル基を含んでいてもよい)であることもでき;
(C−2)ラジカル及び(F−2)ラジカルにおけるR9とR10は、それらが結合し
ているN−S(O)n基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環
(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)
及び窒素の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1の
カルボニル基を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R11は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アル
キニルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シク
ロアルキルアルコキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、フェノキシ、フェニルチオ、ベ
ンジルオキシ、ベンジルチオ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリ
ールアルコキシ及びヘテロアリールアルキルチオの群から選択されるいずれの場合にも置
換されていてもよいラジカルであり;
R12は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アル
キニルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シク
ロアルキルアルコキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、フェノキシ、フェニルチオ、ベ
ンジルオキシ、ベンジルチオ、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリ
ールアルコキシ及びヘテロアリールアルキルチオの群から選択されるいずれの場合にも置
換されていてもよいラジカルであり;
(C−3)ラジカル及び(F−3)ラジカルにおけるR11とR12は、それらが結合
しているリン原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい5〜7員の環(ここ
で、該環は、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及び硫黄の群
から選択される1個又は2個のヘテロ原子を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R13は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフェニルアルキルの群か
ら選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであり;
R14は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフェニルアルキルの群か
ら選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであり;
R15は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル及びアルキニ
ル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルアルキル及
びシクロアルケニル(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣
接してはならない)及び窒素の群から選択される少なくとも1個のヘテロ原子を含んでい
てもよい)、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリール、アリー
ルアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいアミノ基の群か
ら選択されるラジカルであり;
(C−6)ラジカル及び(F−6)ラジカルにおけるR8とR15は、それらが結合し
ているN−S(O)n基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環
(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)
及び窒素の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1の
カルボニル基を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R16は、水素、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アル
ケニル及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロ
アルキルアルキル及びシクロアルケニル(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原
子は、互いに直接隣接してはならない)及び窒素の群から選択される少なくとも1個のヘ
テロ原子を含んでいてもよい)、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテ
ロアリール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていても
よいアミノ基の群から選択されるラジカルであり;
(C−7)ラジカル及び(F−7)ラジカルにおけるR8とR16は、それらが結合し
ている窒素原子と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環(ここで
、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及び窒素
の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1のカルボニ
ル基を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R17は、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルケニル
及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキ
ルアルキル及びシクロアルケニル(ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、
互いに直接隣接してはならない)及び窒素の群から選択される少なくとも1個のヘテロ原
子を含んでいてもよい)、いずれの場合にも置換されていてもよいアリール、ヘテロアリ
ール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキル、並びに、置換されていてもよいア
ミノ基の群から選択されるラジカルであり;
(C−8)ラジカル及び(F−8)ラジカルにおけるR8とR17は、それらが結合し
ているN−C(X)基と一緒に、飽和又は不飽和の置換されていてもよい4〜8員の環(
ここで、該環は、硫黄、酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及
び窒素の群から選択される1個以上のさらなるヘテロ原子並びに/又は少なくとも1のカ
ルボニル基を含んでいてもよい)を形成することもでき;
R18は、水素、ヒドロキシ、いずれの場合にも置換されていてもよいアルキル、アル
コキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、
アルキルスルホニルアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニル
及びアルキニル、いずれの場合にも置換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキ
ルアルキル、シクロアルケニル及びシクロアルケニルアルキル(ここで、該環は、硫黄、
酸素(ここで、酸素原子は、互いに直接隣接してはならない)及び窒素の群から選択され
る少なくとも1個のヘテロ原子を含んでいてもよい)、いずれの場合にも置換されていて
もよいアリール、アリールアルキル、ヘテロアリール及びヘテロアリールアルキル、並び
に、置換されていてもよいアミノ基の群から選択されるラジカルであり;
R19は、水素の群から選択されるラジカルであるか、又は、アルカリ金属イオン若し
くはアルカリ土類金属イオンであるか、又は、C1−C4−アルキルで1〜4置換されて
いてもよいアンモニウムイオンであるか、又は、いずれの場合にもハロゲン−若しくはシ
アノ−で置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチ
オアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキルラジカルであ
り;
Y1及びY2は、独立して、C=O又はS(O)2であり;
Y3は、水素、ハロゲン、シアノ、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコ
キシ、ハロアルコキシ及びNR20R21の群から選択されるラジカルであり;
Wは、O、S、SO及びSO2の群から選択されるラジカルであり;
R22は、アルキル、ハロゲン−、カルバモイル−、チオカルバモイル−若しくはシア
ノ−で置換されていてもよいシクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキ
シ、アルコキシアルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホ
ニル、ハロアルキルチオ、ハロアルキルスルフィニル、ハロアルキルスルホニル、アルキ
ルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アルキ
ルチオアルキルオキシ、アルキルスルフィニルアルキルオキシ、アルキルスルホニルアル
キルオキシ、ハロアルキルチオアルキル、ハロアルキルスルフィニルアルキル、ハロアル
キルスルホニルアルキル、アルキルチオアルケニル、アルキルスルフィニルアルケニル、
アルキルスルホニルアルケニル、アルケニルチオアルキル、アルケニルスルフィニルアル
キル、アルケニルスルホニルアルキル、アルキルカルボニルアルキル、ハロアルキルカル
ボニルアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、アルコキシカルボニル
アルキル、ハロアルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミノスルホニル、ジ(アルキ
ルアミノ)スルホニルの群から選択されるラジカルであり;又は、
R2=(d)である場合は、
R22は、さらに、置換されていてもよいアリールであるか、又は、(E−1)〜(E
−51)
の群から選択されるラジカルであり;
R20は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、並びに、いずれの
場合にも置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シ
クロアルキルアルキル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアル
キルオキシ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカル
ボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アルキ
ルスルホニルオキシ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、シクロア
ルキルアミノ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シ
クロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニル、
アルコキシイミノアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アルキルアミノ
カルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノチオカルボニル、アルキルアミノスル
ホニル、アルキルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニル
アミノ、アルキニルカルボニルアミノ、シクロアルキルカルボニルアミノ、アルコキシカ
ルボニルアミノ、アルキルチオカルボニルアミノ、ビシクロアルキル、アリール、アリー
ルオキシ、ヘテロアリール及びヘテロアリールオキシ(ここで、該置換基は、互いに独立
して、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、アルキル及びハロアルキルから
選択される)の群から選択されるラジカルであり;
R21は、水素、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル
、シクロアルキルアルキル、シアノアルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニ
ル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、アルコキシアルキル、アルコ
キシカルボニル、アルキルスルホニル及びハロアルキルスルホニルの群から選択されるラ
ジカルであり;
R23は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケ
ニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、アル
キルチオアルキル、アルケニルチオアルキル、シアノアルキル、アルコキシアルキルの群
から選択されるラジカルであり;及び、
R24は、水素であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフ
ェニルアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであ
り;及び、
R25は、水素であるか、又は、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル及びフ
ェニルアルキルの群から選択されるいずれの場合にも置換されていてもよいラジカルであ
り;
R27は、水素又はアルキルであり;及び、
R26は、水素、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル
、シクロアルキルアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、アルキルスル
フィニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル及びシアノアルキルの群から選択される
ラジカルである〕
で表される化合物。 - Aが、ラジカル
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の窒素原子への結合を示している]
であり;
G1が、C−B1であり;
B1が、水素であり;
Tが、電子対であり;
R1が、水素であり;
R2が、(a)
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
であり;又は、
R2が、(b) (D−2)ラジカル
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
であり;又は、
R2が、(c) 式
[ここで、破線は、式(I)で表される二環式系の炭素原子への結合を示している]
で表されるラジカルであり;又は、
G2が、水素及びC1−C4−アルキルの群から選択されるラジカルであり;
Xが、酸素であり;
X1が、水素、フッ素、塩素及び臭素の群から選択されるラジカルであり;
Rが、1、2、3、4又は5個のフッ素−又は塩素−で置換されていてもよいC1−C
4−アルキルであり;
Wが、S、SO及びSO2の群から選択されるラジカルであり;
Y3が、メチル又はエチルであり;
R22が、C1−C6−アルキル、C1−C6−ハロアルキル及びC1−C4−アルキ
ルチオ−C1−C4−アルキルの群から選択されるラジカルであり;及び、
R23が、水素又はC1−C6−アルキルである;
請求項1に記載の式(I)で表される化合物。 - 組成物であって、請求項1及び2のいずれかに記載の式(I)で表される少なくとも1
種類の化合物並びに慣習的な増量剤及び/又は界面活性剤を含んでいることを特徴とする
、前記組成物。 - 有害生物を防除するための、請求項1及び2のいずれかに記載の式(I)で表される化
合物又は請求項3に記載の組成物の使用。
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