JP2017535067A5 - 基板をアクティブに位置合わせするアクティブ基板位置合わせシステム及び方法 - Google Patents

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図2に示すプラテン12の平面図(図2では明瞭のためにプラテン12上の基板14は示されていない)を参照すると、レジストレーション装置16,18はプラテン12の第1の側面に隣接して互いに離れて位置し、以下で述べるようにy軸に沿う基板14の移動を制御可能に制限するために使用することができる。システム10はさらに、レジストレーション装置16,18と反対側のプラテン12の第2の側面に隣接して位置する1以上のプッシャー24を含み得る。プッシャー24は、プッシャー24を水平に前後に選択的に駆動するように構成された1以上の駆動機構に動作可能に接続し得る。基板14(図1)がプラテン12の上に置かれると、後述するように、プッシャー24を用いて基板14をレジストレーション装置16,18に押し付け係合させることができる。システム10はさらに、以下で述べるようにx軸に沿う基板の移動を制御可能に制限するためにプラテン12の第3の側面に隣接する第3のレジストレーション装置26を含み得る。代わりに、レジストレーション装置26は、x軸に沿う基板14(図1)の移動を制限するための固定の壁、ポスト、止め、又は他の静止構造と置き換えてもよい。

Claims (15)

  1. プラテンと、
    前記プラテンの上に置かれた基板の移動を制限するために前記プラテンに隣接して配置された基板係合表面を選択的に移動するように構成されたレジストレーション装置と、
    前記基板が前記プラテンの上に置かれる前に前記基板の画像をキャプチャするように構成されたカメラと、
    前記カメラ及び前記レジストレーション装置と通信するコントローラとを備え、
    前記コントローラは、前記基板の移動を予め決められた方法で制限するために、前記基板係合表面を前記画像に基づいて移動させるように、前記レジストレーション装置に命令するように構成されている、イオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  2. 前記プラテンに隣接して配置され、前記基板を前記基板係合表面と係合するまで押すように構成されたプッシャーをさらに備える、請求項1記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  3. 前記プッシャーは前記プラテンの第1の側面に互いに平行に配置された第1及び第2のプッシャーを備える、請求項2記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  4. 前記レジストレーション装置は、前記プラテンの前記第1の側面に配置された第1のレジストレーション装置及び第2のレジストレーション装置を備える、請求項1記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  5. 前記レジストレーション装置は前記プラテンの第2の側面に配置された第3のレジストレーション装置をさらに備える、請求項4記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  6. 前記カメラは、前記基板が前記プラテンの上に置かれる前に前記基板上の第1のドーパントパターンの像をキャプチャするように構成され、前記コントローラは、前記基板上の前記第1のドーパントパターンが、前記基板が前記プラテン上に置かれた後で、前記基板上に投射される第2のドーパントパターンと整列するために、前記基板係合表面を前記画像に基づいて移動させるように、前記レジストレーション装置に命令するように構成されている、請求項1記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせ装置。
  7. 前記コントローラは、前記基板が前記プラテン上に置かれた後で、前記基板上に投射されるドーパントパターンが前記基板の中心に位置するために、前記基板係合表面を前記画像に基づいて移動させるように、前記レジストレーション装置に命令するように構成されている、請求項1記載のイオン注入装置用のアクティブ基板位置合わせシステム。
  8. プラテンと、
    前記プラテンの上に置かれた基板の移動を制限するために、前記プラテンの第1の側面に配置された第1及び第2の基板係合表面をそれぞれ選択的に移動するように構成された第1及び第2のレジストレーション装置と、
    前記基板が前記プラテンの上に置かれる前に前記基板の画像をキャプチャするように構成されたカメラと、
    前記カメラ及び前記第1及び第2のレジストレーション装置と通信するコントローラであって、前記基板の移動を予め決められた方法で制限するために、前記第1及び第2の基板係合表面を前記画像に基づいて移動させるように前記第1及び第2のレジストレーション装置に命令するように構成されているコントローラと、
    前記プラテンの第2の側面に互いに平行に配置され、前記基板を前記第1及び第2の基板係合表面と係合するまで押すように構成された第1及び第2のプッシャーと、
    を備える、アクティブ基板位置合わせシステム。
  9. 基板を位置合わせする方法であって、前記方法は、
    前記基板のライブ画像をキャプチャするステップと、
    前記基板のライブ画像に基づいて、プラテンに隣接して配置された基板係合表面を、前記基板がプラテンの上に置かれた後で所定の向きを呈するように移動させるステップと、
    前記基板を前記プラテンの上に置くステップと、
    前記基板を前記基板係合表面と係合するまで移動させるステップと、
    を備える、基板を位置合わせする方法。
  10. 前記基板のライブ画像をキャプチャするステップは、前記基板上の第1のドーパントパターンのライブ画像をキャプチャするステップを含み、前記基板係合表面を移動させるステップは、前記第1のドーパントパターンが前記基板が前記プラテン上に置かれた後で、前記基板上に投射される第2のドーパントパターンと整列するように前記基板係合表面を移動させるステップを含む、請求項9記載の基板を位置合わせする方法。
  11. 前記第2のドーパントパターンのテスト画像をキャプチャするステップと、
    前記第1のドーパントパターンのライブ画像を前記第2のドーパントパターンの前記テスト画像と比較するステップと、
    をさらに備える、請求項10記載の基板を位置合わせする方法。
  12. 前記基板係合表面を移動させるステップは、前記基板が前記プラテンの上に置かれた後で、前記基板上に投射されるドーパントパターンが前記基板の中心に位置するように前記基板係合表面を移動させるステップを含む、請求項9記載の基板を位置合わせする方法。
  13. 前記ドーパントパターンのテスト画像をキャプチャするステップと、
    前記基板のライブ画像を前記ドーパントパターンのテスト画像と比較するステップと、
    をさらに含む、請求項12記載の基板を位置合わせする方法。
  14. 前記基板を前記基板係合表面と係合するまで移動させるステップは、前記基板を前記基板係合表面と係合するまで押すために、前記プラテンの反対側に配置されたプッシャーを前記基板係合表面に対して駆動するステップを含む、請求項9記載の基板を位置合わせする方法。
  15. 前記基板を前記基板係合表面と係合するまで移動させるステップは、前記基板を、前記プラテンの一側面に互いに間隔を置いて配置された第1及び第2の基板係合表面と係合するまで、移動させるステップを含む、請求項9記載の基板を位置合わせする方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6948860B2 (ja) 2017-07-14 2021-10-13 株式会社荏原製作所 基板保持装置
CN109725506B (zh) * 2017-10-31 2020-11-13 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机
CN111882030B (zh) * 2020-06-29 2023-12-05 武汉钢铁有限公司 一种基于深度强化学习的加锭策略方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06281416A (ja) * 1993-03-29 1994-10-07 Matsushita Electric Works Ltd 繰り返し模様板の模様基準位置測定装置
JP2002071753A (ja) * 2000-08-30 2002-03-12 Yokogawa Electric Corp ハンドラ
US7499767B2 (en) * 2003-02-20 2009-03-03 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage
EP1450398A3 (en) * 2003-02-20 2004-11-10 Applied Materials, Inc. A method and an apparatus for positioning a substrate relative to a support stage
US7473909B2 (en) * 2006-12-04 2009-01-06 Axcelis Technologies, Inc. Use of ion induced luminescence (IIL) as feedback control for ion implantation
JP5496710B2 (ja) * 2010-03-03 2014-05-21 光洋機械工業株式会社 ウェーハの位置決め方法およびその装置
JP5477133B2 (ja) 2010-04-09 2014-04-23 日新イオン機器株式会社 ウェーハハンドリング方法およびイオン注入装置
JP5572575B2 (ja) * 2010-05-12 2014-08-13 東京エレクトロン株式会社 基板位置決め装置、基板処理装置、基板位置決め方法及びプログラムを記録した記憶媒体
US8895325B2 (en) * 2012-04-27 2014-11-25 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. System and method for aligning substrates for multiple implants

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