JP2017519752A - 金属−有機構造体 - Google Patents

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Abstract

開示するのはMOFバインダを介して互いに付着したMOF結晶子を含む金属−有機構造体(MOF)ボディである。一実施形態において、ボディは、MOF結晶子と、ボディ内で結晶子を結合するMOFバインダと、任意で、残留溶媒と、任意で、10質量%以下のレベルで存在する1種以上の添加剤とから成る。MOFバインダはMOF結晶子と実質的に同じ組成を有し得る。あるいは、MOFバインダはMOF結晶子とは異なる組成を有し得る。

Description

本発明は、金属−有機構造体(MOF)材料及びその製造方法に関する。本発明は特には、他を排除するものではないが、モノリス形態の材料への適用可能性を有する。ガス吸着用途を含めた様々な用途にとって興味深い。
金属−有機構造体(MOF)は、金属イオン及び有機リガンドの自己組織化により調製される多孔質の結晶性材料である。MOFは、大きな細孔体積及び8000m2/gもの広い見掛けの表面積を有し得る。MOFは構造的、化学的多様性を併せもつため、ガス貯蔵、ガス分離及び精製、検出、触媒並びに薬剤の送達を含めた数多くの潜在用途にとって魅力的なものとなっている。従来型の多孔質材料に対してMOFが最も際立っている利点は、MOFを構成する適切なビルディングブロック、すなわち金属イオン及び有機リガンドを選択することでホスト/ゲスト相互作用を調節できる可能性があることである。
国際公開第2010/148463号パンフレットには、合成条件が穏和(典型的には30℃未満)であり合成が比較的迅速(典型的には1時間未満)に進むMOF合成方法が開示されている。この合成は、水とエタノールとの混合物において起きる。国際公開第2010/148463号で研究されている材料はCu3(BTC)2タイプのMOFである。
Fuら(2013)は、液体クロマトグラフィで使用するためにMOF(UiO−66)をコポリマー(MAA−co−EDMA)マトリックスに組み込む取り組みについて報告している。得られた構造体は「モノリス」と表現され、コポリマーだけを用いて形成したモノリスと比較している。SEM分析により、この材料のミクロ構造には、コポリマーのマトリックスに付着する球形のMOF粒子が含まれることが判明した。Huangら(2013)も同様の開示をしている。
米国特許出願公開第2010/0181212号明細書には、ガス貯蔵用途向けの、連続気泡ポリマー発泡構造体に支持されたMOF材料が開示されている。
Kusgensら(2010)は、菫青石モノリス型ハニカム構造体上にその場でCu3(BTC)2MOF材料を製造することを開示している。結果は思わしくないものであると報告されている。加えて、Kusgensら(2010)は、Cu3(BTC)2粉末をシリコーン系バインダ及びメチルヒドロキシルプロピルセルロース可塑剤と混合することで形成するCu3(BTC)2系ハニカム構造体の製造について開示している。構造体は、押出成形及び続く120℃での乾燥により形成されている。
国際公開第2010/148463号パンフレット 米国特許出願公開第2010/0181212号明細書
Y.−Y.Fu,C.−X.Yang,及びX.−P.Yan,Chem.Commun.,2013,49,7162−4 Hsi−Ya Huang,Cheng−Lan Lin,Cheng−You Wu,Yi−Jie Cheng,Chia−Her Lin Analytica Chimica Acta Volume 779,2013,pp.96−103 P.Kusgens,A.Zgaverdea,H.−G.Fritz,S.Siegle,及びS.Kaskel,J.Am.Ceram.Soc.,2010,93,2476−2479
発明者らは、MOFを工業的に使用するにあたっての主な課題の1つは、MOFを所与の用途に適した形状で調製することで材料の有利な性質を工業製品で生かすことであると考えている。当該分野において今日まで用いられている合成工程において、MOFは概して粉末の結晶状態で得られる。これだと最終的な工業用途向けに成形するのにコストが高くついてしまう。さらに、適切なモノリス型構造体を創り出すためのバインダ及び材料をペレット化するための高圧工程を用いることで材料の多孔性(例えば、単位体積あたりのBET表面積及び/又はミクロ多孔性の程度)は大きく低下する。多孔性は、高圧を用いた際の細孔の潰れ、細孔へのアクセスを阻むバインダにより引き起こされる細孔閉塞及び/又はペレットにおける吸着材の最終的な重量を減少させるバインダの存在により低下し得る。加えて、ペレットのMOF密度がMOFの粉末結晶子間の間隙の存在のせいで低くなり、体積吸着量(volumetric adsorption capacity)が少なくなり、またMOF単結晶と比較して機械的性質が低下し得る。
本発明は、上記の問題の少なくとも1つに取り組むために考案された。好ましくは、本発明は、上記の問題の少なくとも1つを軽減、改善、回避又は克服する。
したがって、第1の好ましい態様において、本発明は、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって以下の特徴を有するものを提供する:
(i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物からモノリスが形成された場合、モノリスの単位かさ体積あたりのBET表面積は同じ組成のMOF単結晶の単位かさ体積あたりのBET表面積の少なくとも0.6倍であり、
(ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分からモノリスが形成された場合、モノリスの単位かさ体積あたりのBET表面積はMOF単結晶及び残りの成分の単位かさ体積あたりのBET表面積の体積加重算術平均(volumetric weighted arithmetic mean)の少なくとも0.6倍であり、
単位かさ体積あたりのBET表面積は77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる。
ここで本発明の第1の態様の特定の任意の特徴について説明する。これらの特徴は、文脈に反しない限り、単体又は任意の組み合わせで適用し得る。これらの特徴は、文脈に反しない限り、本発明の他の態様にも任意の組み合わせで適用し得る。
好ましくは、モノリスは、(i)同じ組成のMOF単結晶の単位かさ体積あたりのBET表面積又は(ii)MOF単結晶及び残りの成分の単位かさ体積あたりのBET表面積の体積加重算術平均の少なくとも0.7倍、0.8倍又は0.9倍の単位かさ体積あたりのBET表面積を有する。
あるいは、必要に応じて、MOF単結晶の単位かさ体積あたりのBET表面積は、結晶構造及びその結晶構造に取り込まれたミクロ細孔についての情報に基づいた計算により求めることができる。したがって、単結晶はメソ細孔及びマクロ細孔を含まないものとする。
好ましくは、モノリスの単位かさ体積あたりのBET表面積は少なくとも600m2/cm3である。
モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
第2の好ましい態様において、本発明は、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、該モノリスの単位かさ体積あたりのBET表面積が少なくとも600m3/cm3である(単位かさ体積あたりのBET表面積は、77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる)ものを提供する。
モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
本発明の幾つかの態様及び実施形態並びに比較用材料について述べるにあたっては、多孔度に関する値を体積パーセント(体積%)で提示することが有用である。これは細孔の総体積(場合によっては定義されたサイズ範囲内)のモノリスの体積に対する比を表す。モノリスのかさ体積を、水銀ポロシメータでアルキメデス法(すなわち、モノリスにより押しのけられる水銀の体積を求めてからモノリスの細孔に水銀を浸透させる)により測定することが可能である。
第3の好ましい態様において、本発明は、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、最大で10体積%のメソ多孔度を有するもの[メソ多孔度は2〜50nmの範囲の直径を有する細孔と定義され(マクロ多孔度は、直径50nmを超える細孔と定義される)、多孔度及び細孔径分布は77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる]ものを提供する。
モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
現時点で、77KでのN2吸着等温線に基づいた多孔度及び細孔径分布の決定は、MOF材料についてのミクロ多孔度及びメソ多孔度の決定に適していると考えられる。50nmを超える多孔度及び細孔径分布の決定(すなわち、マクロ多孔度)は、別の方法、例えば水銀多孔度測定法により行い得る。
好ましくは、MOFモノリスは、少なくとも40体積%のミクロ多孔度(直径2nm未満の細孔と定義される)を有する。より好ましくは、MOFモノリスは少なくとも50体積%、より一層好ましくは少なくとも55体積%、より一層好ましくは少なくとも60体積%のミクロ多孔度を有する。
第4の好ましい態様において、本発明は、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、以下の特徴を有するものを提供する:
(i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物からモノリスが形成された場合、このモノリスは、同じ組成のMOF単結晶のミクロ多孔度の少なくとも0.6倍のミクロ多孔度(直径2nm未満の細孔と定義される)を有し、
(ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分からモノリスが形成された場合、モノリスは、MOF単結晶及び残りの成分のミクロ多孔度の体積加重算術平均の少なくとも0.6倍のミクロ多孔度を有し、
多孔度及び細孔径分布は、77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる。
ミクロ多孔度、メソ多孔度及びマクロ多孔度の範囲設定は以下の通りである。
ミクロ多孔度:2nmの細孔径
メソ多孔度:2〜50nmの範囲の細孔径
マクロ多孔度:50nmより大きい細孔径
この範囲設定はIUPACの範囲設定に準拠しており、MOF材料を含めた多孔質材料に適用可能である[Rouquerolら(1994)及びSing(1982)]。
必要に応じて、MOF単結晶のミクロ多孔度は別の方法により、結晶構造及びその結晶構造に取り込まれたミクロ細孔についての情報に基づいた計算により求めることができる。したがって、単結晶は、メソ細孔及びマクロ細孔を含まないものとする。
好ましくは、モノリスは、(i)同じ組成のMOF単結晶のミクロ多孔度又は(ii)MOF単結晶及び残りの成分のミクロ多孔度の体積加重算術平均の少なくとも0.7倍、0.8倍又は0.9倍のミクロ多孔度を有する。
好ましくは、MOFモノリスの密度は、(i)同じ組成のMOF単結晶の密度又は(ii)MOF単結晶及び残りの成分の密度の体積加重算術平均の少なくとも90%である。この場合、同じ組成のMOF単結晶の密度は、結晶構造についての情報に基づいた計算により求めることができる。単結晶は、メソ細孔及びマクロ細孔を含まないものとする。より好ましくは、MOFモノリスは、(i)同じ組成のMOF単結晶又は(ii)MOF単結晶及び残りの成分の密度の体積加重算術平均の密度の少なくとも95%、より好ましくは少なくとも100%、より好ましくは少なくとも105%又はより好ましくは少なくとも110%の密度を有する。
幾つかの実施形態において、モノリスが、メソ多孔度及びマクロ多孔度について可能な限り低い値を有することが好ましい。例えば、累積メソ多孔度及びマクロ多孔度は1体積%未満になり得る。これは、材料の用途が例えばCO2、H2、CH4等のガス用の吸着材である場合に有利であり、ミクロ細孔が占める体積を広げることで関連するガスをより多く吸着できる。
しかしながら、幾つかの実施形態においては、モノリス内の流れを円滑にするために、モノリスがある程度のメソ多孔性及び/又はマクロ多孔性を有することが好ましい。このような状況において、メソ細孔及びマクロ細孔はミクロ細孔に通じる流路となる。ここでもまた、それが必要とされるか否かは材料の用途次第であり、モノリス内の流れが改善されるという利点は、単位体積あたりのミクロ細孔の量が比例して少なくなって吸着に利用できる表面積が減少することで相殺される。メソ細孔及び/又はマクロ細孔は、製造工程中に添加剤を使用することでモノリスに含めることができる。このタイプのよく計算された階層的な多孔度は、モノリス内部での流れを必要とする特定の用途向けのモノリスの性質のバランスをとるのに役立ち得る。
例えば、モノリスはテンプレート材料を用いて製造でき、テンプレート材料の内側及び/又は周囲でモノリスを形成できる。このテンプレート材料を続いて除去すると、モノリス全体に適切な細孔網を残すことができる。細孔網は、メソスケール多孔度及び/又はマクロスケール多孔度のものになり得る。適切な2相連続的多孔性(bi−continuous porosity)を、Caoら(2013)が報告しているようなMOFの状況で形成できる。
77KでのN2吸着を用いて、ミクロ多孔度及びメソ多孔度を測定可能である。典型的には、ミクロ細孔の体積は相対圧力P/P0=0.1で得られ、より高い圧力での吸着はP/P0=0.98までメソ多孔度に関係する。
水銀多孔度測定法を用いてモノリスの「かさ」密度を測定できるが、これはHgは大気圧では細孔に浸入しないからである。別のやり方においては、水銀多孔度測定法を用いて、Hg圧力を上昇させ、Hgがモノリスの細孔に圧力で浸入する度合いを測定することでマクロ及びメソ多孔度を測定することもできる。水銀多孔度測定法は、ミクロ多孔度の測定には用いることができない。
比較を目的として報告されている一部の研究は粉末材料に関する。この場合、かさ密度はタップかさ密度、すなわち、軽く叩いて粉末サンプルを容器内で落ち着かせ、質量を測定し、この質量をサンプルの見掛けの体積で割ることに基づいた粉末の見掛けの密度である。粉末形態のMOF材料の場合、したがって、これにはミクロ細孔、メソ細孔及びマクロ細孔、また粉末粒子間の間隙が占める体積が含まれる。
モノリス(又はボディ)の体積は、場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
好ましくは、モノリスは、少なくとも50mm3、より好ましくは少なくとも100mm3、より好ましくは少なくとも500mm3、より一層好ましくは少なくとも1000mm3の体積を有する。用語「モノリス」は、自立型のボディを含むものとする。基体又は他の支持体上に形成される、あるいは別の構造体による支持に依存する材料の形態は除外するものとする。
好ましくは、MOFモノリス又はボディは、少なくとも1mmの最小線寸法を有する。すなわち、モノリスが完全な球形ではないと仮定すると、モノリス材料を通る最も短い直線はモノリスにおいて少なくとも1mmの長さを有する。この寸法は、モノリスの概形によってはモノリスの厚さと見なし得る。より好ましくは、MOFモノリスは少なくとも5mmの最小線寸法を有する。
モノリスは、第2MOF組成物のマトリックス中に第1MOF組成物の粒子を含む複合材料を含み得て、これに関しては本発明の独立した態様との関連で後に詳述する。
第5の好ましい態様において、本発明は、実質的に透明である、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスを提供する。
透明MOF材料は、分光ガス分析用途において特に有用である。
モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
第6の好ましい態様において、本発明は、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、該モノリスの材料の645nmの光の直線透過率は材料厚さ0.8mmで少なくとも10%であるものを提供する。
好ましくは、直線透過率を、Apetz及びvan Bruggen(2003)の論文に記載される通りに測定し、レーザー源を645nmで用いる。サンプルを粉砕し、厚さ0.8mmまで研磨することで表面散乱を排除する。サンプルを透過した光は検出器で検出され、この検出器は、軸から0.5°を超える角度で散乱した光は検出しないようにサンプル及び光源に対して寸法設計及び位置決めされる。直線透過率は、光源と検出器との間の正しい位置にあるサンプルで検出される光と、サンプルが不在の場合に検出される光との強度比として求められる。
好ましくは、モノリスの材料の645nmの光の直線透過率は、材料厚さ0.8mmで少なくとも20%、少なくとも30%、少なくとも40%、少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%又は少なくとも80%である。
モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
第7の好ましい態様において、本発明は、MOFバインダを介して互いに付着したMOF結晶子を含む金属−有機構造体(MOF)ボディを提供する。
好ましくは、MOFボディはモノリスである。好ましくは、ボディは少なくとも10mm3の体積を有する。ボディの体積についてのさらなる好ましい範囲はモノリスに関して上で述べている。例えば、モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
あるいは、MOFボディは、基体上に形成された層である。基体の性質に特に制限はない。層の用途が層の実質的な透明性に基づく場合は、好ましくは、基体は透明又は実質的に透明である。
結晶子は典型的には互いに異なる配向を有する。例えば、結晶子は実質的にランダムに配向され得る。
MOFバインダは好ましくは、MOF結晶子と実質的に同じ組成を有する。しかしながら、MOFバインダは、MOF結晶子とは異なる多孔度又は細孔径分布を有し得る。MOFバインダは、MOF結晶子より低い結晶化度を有し得る。例えば、MOFバインダは実質的に非晶質になり得る。
あるいは、MOFバインダは、MOF結晶子とは異なる組成を有し得る。その場合、MOFボディはMOF複合材料から形成され得る。
第8の好ましい態様において、本発明は、
MOF結晶子と、
モノリス内で結晶子を結合するMOFバインダと、
任意で、残留溶媒と、
任意で、10質量%以下のレベルで存在する1種以上の添加剤と
から成る金属−有機構造体(MOF)ボディを提供する。
第7の態様に関して記載した任意の特徴は第8の態様にも適用可能である。
好ましくは、存在する場合、添加剤は5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下、より一層好ましくは1質量%以下のレベルで存在する。ボディにおける回避不可能な不純物の存在は認められる。
好ましくは、存在するならば、残留溶媒は、5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下、より一層好ましくは1質量%以下のレベルで存在する。
好ましくは、MOFボディはモノリスである。好ましくは、ボディは少なくとも10mm3の体積を有する。ボディの体積に関するさらなる好ましい範囲は、モノリスに関して上で述べている。例えば、モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
結晶子は典型的には互いに異なる配向を有する。例えば、結晶子は実質的にランダムに配向され得る。
MOFバインダは好ましくは、MOF結晶子と実質的に同じ組成を有する。しかしながら、MOFバインダは、MOF結晶子とは異なる多孔度又は細孔径分布を有し得る。MOFバインダは、MOF結晶子より低い結晶化度を有し得る。例えば、MOFバインダは実質的に非晶質になり得る。
あるいは、MOFバインダは、MOF結晶子とは異なる組成を有し得る。その場合、MOFボディはMOF複合材料から形成され得る。
第9の好ましい態様において、本発明は、金属−有機構造体(MOF)モノリス又は基体上に形成されたMOF層であって、以下の特徴を有するものを提供する:
(i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物からモノリス又は層を形成させた場合、モノリスは、同じ組成のMOF単結晶のヤング率及び/又は硬度より大きいヤング率及び/又は硬度(ナノインデンテーション法で測定)を有し、
(ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び組成物の1種以上の残りの成分からモノリス又は層を形成させた場合、モノリスは、MOF単結晶及び残りの成分のヤング率及び/又は硬度の体積加重算術平均より大きいヤング率及び/又は硬度(ナノインデンテーション法で測定)を有する。
(ii)が当てはまる場合、モノリス又は層は、第2MOF組成物のマトリックス中に第1MOF組成物の粒子を含む複合材料を含み得る。
モノリスは、例えば少なくとも10mm3の体積又は上述したような別の好ましい体積範囲を有し得る。例えば、モノリス(又はボディ)の体積は場合によっては10mm3未満になり得る。例えば、モノリスの体積は少なくとも1mm3、より好ましくは少なくとも2mm3、より好ましくは少なくとも3mm3、より好ましくは少なくとも4mm3、より好ましくは少なくとも5mm3になり得る。
ヤング率(本明細書においては用語「弾性率」と同じ意味で用いられる)及び/又は硬度は、(i)同じ組成のMOF単結晶のヤング率及び/若しくは硬度又は(ii)MOF単結晶及び残りの成分のヤング率及び/若しくは硬度の体積加重算術平均の少なくとも1.05倍、より好ましくは少なくとも1.5倍又は少なくとも2倍になり得る。
第10の好ましい態様において、本発明は、第1〜第9の態様のいずれかによるモノリス又はボディの集まりを提供する。
そのような集まりは様々な用途で有用である。例えば、モノリスは実質的に同様の形状及び/又は寸法になり得る。これらは、流体(例えば、ガス)を流すことができる、間隔を空けたカラム配列で使用し得る。モノリス又はボディの集まりはガス分離用途で有用である。集まりにおけるモノリスの数に特に制限はないが、例えば、モノリスの数は少なくとも10個、少なくとも50個又は少なくとも100個になり得る。
第11の好ましい態様において、本発明は、金属−有機構造体(MOF)モノリス又は基体上に形成されたMOF層の製造方法を提供し、この方法は、
MOF前駆体を溶媒中で反応させることでMOF組成物を生成するステップと、
溶媒の少なくとも一部を除去する乾燥段階を含み、乾燥段階中の最高温度は50℃以下である、MOF組成物のモノリス又は層を形成するステップとを含む。
この方法は、MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップを含み得る。このステップは、例えば遠心分離により行い得る。
乾燥段階中の最高温度は好ましくは40℃以下、より好ましくは30℃以下である。
好ましくは、モノリスを、材料を金型にいれて行う乾燥段階により所望の形状に形成する。その時、乾燥中の材料は好ましくは金型の形状に沿う。
第12の好ましい態様において、本発明は、金属−有機構造体(MOF)ボディの製造方法を提供し、この方法は、
MOF前駆体を溶媒中で反応させることでMOF組成物を生成するステップと、
MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップと、
追加のMOF前駆体を濃縮物に添加するステップと、
溶媒の少なくとも一部を除去する乾燥段階を含み、乾燥段階中の最高温度は50℃以下である、MOF組成物のボディを形成するステップとを含む。
好ましくは、MOFボディはMOFモノリスである。あるいは、MOFボディは、基体上に形成されたMOF層である。
MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップは、例えば遠心分離により行い得る。
乾燥段階中の最高温度は好ましくは40℃以下、より好ましくは30℃以下である。
好ましくは、ボディを、材料を金型にいれて行う乾燥段階により所望の形状に形成する。その時、乾燥中の材料は好ましくは金型の形状に沿う。
第13の好ましい態様において、本発明は、金属−有機構造体(MOF)ボディの製造方法を提供し、この方法は、
第1MOF組成物の粒子を用意するステップと、
第2MOF組成物に対応するMOF前駆体を第1MOF組成物の粒子に添加するステップと、
第2MOF組成物のマトリックス中に第1MOF組成物の粒子を含むMOF複合材ボディを形成するステップとを含む。
好ましくは、MOFボディはMOFモノリスである。あるいは、MOFボディは、基体上に形成されたMOF層である。
本発明は、MOFへの広い適用可能性を有すると考えられる。本発明での使用に適したMOF組成物は
ZIF、例えばZIF−4、ZIF−8、ZIF−90、ZIF−zni、UiO構造体、例えばUiO−66、UiO−67、UiO−68、
HKUST−1、
MIL−47、MIL−53である。
MOF複合材料の場合、第1MOF組成物は上で挙げたMOF組成物のいずれにもなり得て、第2MOF組成物は上で挙げた他のMOF組成物のいずれにもなり得る。
本発明のさらなる任意の特徴については後述する。
ここで、本発明の実施形態について添付の図面を参照しながら例を挙げて説明する。
様々な材料の光学顕微鏡写真である。 ZIF−8−HTを示す。 ZIF−8−LTを示す。 通常の照明下でのZIF−8−ERを示す。 365nmの紫外光下でのZIF−8−ERを示す。 様々なサンプルの粉末X線回折(PXRD)パターンをZIF−8についての模擬パターンと共に示す。 ZIF−8−HTのSEM顕微鏡写真である。 ZIF−8−LTのSEM顕微鏡写真である。 ZIF−8−ERのSEM顕微鏡写真である。 様々なサンプルの77KでのN2吸着の結果を示す。 様々なサンプルの熱重量分析(TGA)の結果を示す。 ZIF−8−LTのTEM画像である。 ZIF−8−LTサンプルのナノインデンテーションについての10本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。 ZIF−8−LTのサンプル(5×5mm)に形成された1000nmの2列の圧痕のSEM画像である。 ZIF−8−LTHTサンプルについての20本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。 ZIF−8−LTHTのサンプル(5×5mm)に形成された1000nmの2列の圧痕のSEM画像である。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−LTHTの弾性率についての結果を示す。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−LTHTの硬度についての結果を示す。 3000nmまでくぼんだZIF−8−ERサンプルについての6本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。 ZIF−8−ERのサンプル(5×5mm)に形成された3000nmの圧痕を示す。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−ERの弾性率についての結果を示す。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−ERの硬度についての結果を示す。 1000nmまでくぼんだZIF−8−ERサンプルについての15本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。 ZIF−8−ERのサンプル(5×5mm)に形成された1000nmの圧痕の列を示す。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−ERの弾性率についての結果を示す。 押し込み深さの関数としてのZIF−8−ERの硬度についての結果を示す。 ZIF−8−LT及びZIF−8−ERのマクロ細孔及びメソ細孔の細孔径分布を示す水銀多孔度測定法の結果を示す。 ZIF−zniモノリスのPXRDパターンをZIF−zniの模擬パターンと共に示す。挿入図は、図2及び3と同様のやり方で撮影したモノリスの画像である。 本研究で合成したUiO−66、MIL−101及びZIF−90のPXRDパターンをその模擬パターンと共に示す。 本研究で合成したUiO−66のSEM画像である。 本研究で合成したMIL−101のSEM画像である。 本研究で合成したZIF−90のSEM画像である。 MIL−101@ZIF−8複合材モノリスの断面のSEM画像である。 ZIF−90@ZIF−8複合材モノリスの断面のSEM画像である。 ZIF−8LT(ひし形)、UiO−66(四角形)及びUiO−66@ZIF−8(三角形)のN2等温線を示す。 ZIF−8LT(ひし形)、MIL−101(四角形)及びMIL−101@ZIF−8(三角形)のN2等温線を示す。 ZIF−8LT(ひし形)、ZIF−90(四角形)及びZIF−90@ZIF−8(三角形)のN2等温線を示す。 100℃の水に3、5及び7日間浸漬させた後のZIF−8ERのモノリスのPXRDパターンを示す。
本発明の実施形態は、モノリス型金属−有機構造体(MOF)である。これらは例えばガス吸着用途において有用である。
発明者らは本明細書において、モノリス型ZIF−8構造体を合成する新しいやり方を開示する。これはその高い熱安定性及び化学安定性により昨今、大いに注目されているMOFである。本発明の合成方法は一段階法になり得て、バインダ及び/又は高圧を用いることなく頑強なモノリスを製造する。したがって、この方法は、多孔性の喪失及び機械的性質の低下に関して上で論じた問題に取り込むものである。本明細書で報告する研究はモデルMOFとしてのZIF−8に注力しているが、本発明は、慣例的に粉末形態で製造される他のMOF材料にも適用される。
簡単に説明すると、モノリス型ZIF−8構造体を、Zn2+及び2−メチルイミダゾールのエタノール(又は別の適切な溶媒、例えばメタノール又はDMF)溶液を混合し、周囲条件で乾燥させ、任意で遠心分離ステップを含めて溶媒の除去を加速させることにより周囲温度で製造する。低コストな方法で工業用の所望の形状で用意できる。ナノインデンテーション法を用いた機械的なアッセイにより、モノリス型材料が本来のZIF−8単結晶より頑強な機械的性質を呈することが判明した。材料が機械的応力にさらされる可能性がある工業利用の場合、これは重要である。材料の工業用途には、ガス吸着/分離技術、例えばガス貯蔵(例えば、H2貯蔵)、炭素捕捉、ガス精製、例えばH2及び/又はCH4精製、ガス分離、例えばエタン/エチレン分離、戦争用及び毒性の工業化合物(例えば、キシレン、SO2、アンモニア、神経ガス等)の捕捉、ガス検出、ゼオライトの代用、活性炭の代用、活性炭のコーティング、薬剤の送達、触媒及び水処理が含まれる。
既知の合成技法で得られた結晶質ZIF−8粉末とは対照的に、本発明の好ましい実施形態のモノリスは依然として完全に又は大部分が結晶質であるが、実質的に透明である。これが本発明のモノリスを検出用途にふさわしい候補にしている。
SEM画像及びN2吸着測定から、本発明の好ましい実施形態においてはメソ細孔及びマクロ細孔が実質的に不在であることがわかる。これは工業用途における吸着工程にとって極めて重要なより高い密度、ひいてはより大きい容積へとつながる。
結晶質モノリス型ZIF−8[Zn(C4522]を製造する一段階合成手順についてこれから説明する。これらのマクロスケールの構造体は実質的に、同じ組成の単結晶より剛性が高いが、ガス吸着試験は、ZIF−8の特徴的な多孔性を保持していることを示した。本発明の好ましい実施形態によるモノリス型構造体は、慣用のZIF−8の3倍高いかさ密度を示した。
金属−有機構造体(MOF)のサブファミリーであるゼオライト様イミダゾレート構造体(ZIF)は、金属イオン及びイミダゾレート有機リンカーの自己組織化により調製される結晶質の材料である[Parkら(2006)]。ZIFはゼオライト様のトポロジーをとり、またこれら古典的な無機材料の真髄である安定性の幾つかを示す[Tianら(2007)]。その大きい細孔体積及び表面積は、化学的官能化の可能性と相まって、ガス吸着、分離及び触媒における潜在用途につながってきていた[Furukawaら(2013)、Bennettら(2013)]。しかしながら、そのような用途におけるZIF及びMOFの有用性は現在、その合成で得られるミクロ結晶質の粉末を加工できないことで行き詰っている。そのような成形は、粉末の圧密化によるカラム内でのガス流の圧力低下を軽減するのに極めて重要である。殆どの場合、バインダ及び/又は高圧工程を用いることで材料をペレット化するが、(i)高圧を用いる際に内部の細孔が部分的又は完全に潰れる[Chapmanら(2009)]又は(ii)バインダにより細孔が塞がれ、細孔にアクセスできなくなってしまうことが多い。加えて、バインダの使用それ自体が最終製品におけるMOFの量を制限してしまうため、総ゲスト容量(guest capacity)の低下につながると予測される。
MOF研究は急速に進んでいるにも関わらず、「モノリス型」構造体の開発について報告している文献は殆どない。これらの問題を回避する研究の殆どが、MOFを多孔質ポリマーのモノリス[例えば、Fuら(2013)及びHuangら(2013)を参照のこと]及び開放気孔ポリマー発泡体[米国特許出願公開第2010/0181212号]に組み込むこと、高機械圧力の使用又は押出成形工程を用いること[Kusgensら(2010)]に集中している。そのため、文献で報告されている研究では概してMOF材料それ自体のモノリスは得られず、得られるのはMOFを支持している別の材料のモノリス型支持体又はMOF粒子をまとめて保持するのに高分子バインダが必要とされる構造体である。
本研究において、発明者らは、ソーダライト様トポロジーを有するプロトタイプ型のZIFであるZIF−8[Zn(mIm)2](mIm=2−メチルイミダゾレート、C452 -)に焦点を絞っている。これは大きい細孔空隙(直径約11.6Å)を含み、それらは小さいウィンドウ(直径約3.4Å)により相互連結されている。ZIF−8は特徴的な可撓性を有するため、これらのウィンドウは、mImリンカーが協調的に「揺れ」動くことでウィンドウより大きいゲスト分子が細孔に入り込むことを可能にする[Fairen−Jimenezら(2011)及びFairen−Jimenezら(2012)]。
Fairen−Jimenezら(2011)によると、ZIF−8は1750m2/gのBET比表面積を有する。Parkら(2006)によると、ZIF−8は0.663cm3/gの比細孔体積を有する。本発明の好ましい実施形態には、バインダ、高圧又は高温を用いることなく周囲条件下で頑強なモノリスを製造する低コストな方法が伴う。製造されるモノリスはZIF−8の単結晶より高いヤング率を有し、重要なことに、高いかさ密度を示しながらも構造体の特徴的な多孔性を保持している。さらに、得られるモノリスは透明であり蛍光を発するため(ZIF−8と同様)、本研究は検出用途への新たな道を切り開くものである。
サンプルを、室温で2時間撹拌してから、HmIm(20ml、0.395M)及びZn(NO3)・6H2O(20ml、0.049M)のエタノール溶液から調製した。5500rpmでの10分間にわたる遠心分離後、白色の固形物を回収し、3種の異なる方法により乾燥させた。白色のペレット(ZIF−8HT)が、真空下、100℃での一晩にわたる乾燥により得られ、室温で一晩乾燥させると透明のモノリス(ZIF一8LT)が得られた。第2の透明なサンプル(ZIF−8LTHT)は、ZIF−8LTをさらに100℃で一晩にわたって真空排気に供することで得られた。
Zn(NO3)・6H2O(98%)及び2−メチルイミダゾール(97%)をAlfa Aesar社から購入し、エタノール(≧99.5%)をSigma−Aldrich社から購入した。全ての化学物質をそのまま使用した。
HmIm(20ml、0.395M)及びZn(NO3)・6H2O(20ml、0.049M)のエタノール溶液を混合し、2時間にわたって室温で撹拌した。5500rpmでの10分間にわたる遠心分離後、白色の固形物を回収し、4種の異なる方法により処理した。第1に、ZIF−8HT(HT=高温)を、白色の固形物の一部を100℃で一晩、真空オーブンにおいて乾燥させることで得た。第2に、ZIF−8LT(LT=低温)を、白色の粉末の第2の一部を室温で一晩乾燥させることで得た。第3に、ZIF−8−LTHTを、ZIF−8LTをさらに100℃で一晩にわたって真空オーブンにおいて排気に供することで得た。最後に、ZIF−8ER(ER=長時間反応)を、最初の白色の固形物を2回、エタノールで洗浄し、HmIm(20ml、0.395M)及びZn(NO3)・6H2O(20ml、0.049M)の新しいエタノール溶液を添加することで得た。混合物を10分間にわたって室温で超音波処理し、5500rpmで遠心分離し、室温で一晩乾燥させた。
図1−4は、比較的低倍率の光学顕微鏡写真である。図1はZIF−8HTを示す。図2はZIF−8LTを示す。ZIF−8LTHTの同様のモノリスの製造が可能である。図3は通常の照明下でのZIF−8ERを示し、図4は365nmの紫外光下でのZIF−8ERを示す。
図5は、様々なサンプルの粉末X線回折(PXRD)パターンを、ZIF−8についての模擬パターンと共に示す。
図1に示すように、ZIF−8HTの白色のペレットは典型的な白色のZIF−8粉末へと容易に崩壊する。しかしながら、ZIF−8LT(図2を参照のこと)及びZIF−8LTHTは共に実質的に透明なモノリス型構造体であり続ける。ZIF−8LTが高温活性化中(すなわち、ZIF−8LTHTを形成する処理中)その巨視的モノリス型モルホロジーを保持したという事実は注目に値する。
図4はZIF−8ERの蛍光発光を示し、このサンプルについては後でより詳細に論じる。好ましい実施形態のこの実質的に透明な性質がこの材料を検出用途にとっての完璧な候補にしている。
図5は、様々なサンプルの粉末X線回折(PXRD)パターンを示す。3つのサンプルは結晶構造については同じであるが、そのモルホロジーは異なる。発明者らは、これらの違いを走査型電子顕微鏡法(SEM)により調査した。図6、7及び8はそれぞれZIF−8HT、ZIF−8LT及びZIF−8ERのSEM顕微鏡写真である。図6、7及び8から、ZIF−8HTではメソ多孔度及びマクロ多孔度の範囲の細孔に関わるかなりの体積の間隙が一次粒子間に見られること、ZIF−8LT及びZIF−8ERでは比較的平坦な面が見られることがわかる。マクロスケール及びミクロスケールでのこれらの異なるモルホロジーは、非晶質MOF様材料[Loheら(2009)]だけでなく炭素及びシリカエーロゲル[Fairen−Jimenezら(2008)、Fairen−Jimenezら、Carbon(2006)]についてキセロゲル及びエーロゲル[Loheら(2009)、Liら(2013)]でこれまでに観察されているものに似ている。透過型電子顕微鏡法(TEM)で得られる、前駆体の初期混合物からのZIF−8の一次粒子のサイズは約60〜70nmであった。
下の表1は、様々なZIF−8構造体についての弾性率(ヤング率)及び硬度の機械的性質を示す。
Figure 2017519752
単結晶についてのデータは、{1,0,0}ファセットで得られた。
ZIF−8HTのミクロ結晶性によりヤング率E及び硬度Hをナノインデンテーション法により調査することはできなかったが、ZIF−8LTHTのモノリスはキャラクタリゼーションを可能にするのに十分な大きさであった。
表1において、H値はこれまでに見られたものと同等であるが、ヤング率は有意に高かった。一部のケースにおいて、測定はモノリスの一面でしか行えなかった。他の面は測定するには狭すぎたからである。
例えば燃料タンク又はカラムベッドにおいて使用するためには、MOFモノリスはカラム内部の吸着材の重量及びベッドの振動又は動きからくる機械的応力を支える適切な機械的性質を有していなければならない。理論により縛ることを望むものではないが、発明者らは、モノリス型構造体の形成は、小さい一次粒子の存在及び穏和な乾燥条件から起きると考えている。ZIF−8LT及びZIF−8LTHTが透明であるため光散乱を示さないという事実は恐らくは相間の電子コントラストの不在[Fairen−Jimenezら、J.Phys.Chem.(2006)]又は光波長より小さい一次粒子の存在[Apetz及びvan Bruggen(2003)]に関係している。執筆時、発明者らは、サンプル内の残留反応物(Znイオン及びmIm)の存在及び穏和な乾燥工程が重合反応の延長及びモノリス型構造体の形成を可能にすると仮説を立てる。この場合、新しいZIF−8が室温でのZIF−8LTの乾燥工程中に形成され、一次ZIF−8粒子のバインダとして作用する。
この仮説を調査するために、発明者らは新しいサンプルの合成を進め、遠心分離直後の最初の析出物をmIm及びZn(NO3)・6H2Oの新しいエタノール溶液に含めた。この混合物を10分間にわたって室温で超音波処理し、5500rpmで遠心分離し、室温で一晩乾燥させた。得られた白色だが部分的に透明なモノリス型構造体を長時間反応サンプルZIF−8ERと名付けた。表1からみてとれるように、ZIF−8ERはこれまでのモノリス及びZIF−8単結晶より有意に剛性が高い。報告された高いE値は、Eslavaら(2012)が作製したZIF−8の薄膜(すなわち、モノリスではない)(3.5GPa)に匹敵し、Eslavaらの薄膜の弾性率における単結晶からの逸脱は表面粗さ効果が原因であるとされた。
HKUST−1の薄膜間のEにおける注目に値する違い[Bunschuhら(2012)](9.3GPa及び3.5GPa)は以前にも指摘されており、異方性効果に起因するとされている。
作製したサンプルの多孔性を、77KでのN2吸着を用いて分析した。図9A及び図9Bはそれぞれ片対数目盛及び均等目盛での結果を示す。図9A及び図9BにおけるデータポイントはZIF−8−LT(四角形)、ZIF−8−HT(三角形)及びZIF−8−LTHT(ひし形)である。片対数目盛の使用により低圧範囲に関してより細かいことがわかることに注目されたい。表2に主な結果を示す。図9A及び図9Bとの比較のために、理論上の単結晶容量を約420cm3/gSTPの水平線により表し得る。
サンプル間の密度差が体積吸着に及ぼす影響は極めて大きい。まず、粉末ZIF−8の低密度は容積、体積BET面積及びミクロ細孔体積が極めて小さいことを意味する。次に、本発明で調製するモノリス型材料は慣用の粉末ZIF−8より格段に優れており、高密度により、値はZIF−8ER及び粉末ZIF−8の場合、3倍を超えて高くそれぞれ1660対485m2/cm3である。体積吸着量が理論上の単結晶容量(18mmolg-12容量及び結晶密度0.95g/cm3から計算)より大きいという事実は、かさ密度を計算する際の問題の存在又は不純物の存在が関係していると思われる。MOFを高密度化する試みはこれまでにもMOF−177でなされ[Zacharia(2010)]、MOF−177の密度は0.1g/cm3から1.40g/cm3まで上昇した。しかしながら、全てのケースにおいて、容積は理論上の単結晶容量を下回った。MOF−177についての最大容積が高調製圧力で低下する前の密度0.53g/cm3のペレットについて得られたという事実は、高圧を用いると徐々に非晶質化し、細孔の潰れを引き起こすことを示唆している。これは、超高圧で得られたペレットについてのXRD研究により実際に確認されている。
全てのサンプルが、ZIF−8におけるN2の典型的な段階的吸着機序を呈し、これはサンプルが実際に微孔質であることを示す。加えて、ZIF−8−HTは飽和圧力に近い高い圧力でより高い吸着を示し、これはSEMで観察されたメソ細孔及びマクロ細孔の存在と合致している。重量BET面積は約1390m2/gであり、ZIF−8の重量BET面積は概して1300〜1600m2/gの範囲にあり[Songら(2012)]、これはモノリス型材料がZIF−8の特徴的な多孔性を維持していることを意味する。さらに、体積吸着量(すなわち、特定の材料1cm3あたりの吸着可能なガスの量)及び体積BET面積(重量データにサンプルのかさ密度をかけることで得られる)は、吸着材料を一定の所与の空間に閉じ込めなくてはいけない殆どの工業用途における応用的観点から特に重要である。
これらの違いを、水銀多孔度測定法を用いてサンプルの密度を測定することで調べた。水銀は大気圧では材料の細孔に浸入しないため、アルキメデス法を応用してサンプルのかさ密度を測定することでき、アルキメデス法によりかさ密度の計算は容易となる。
下の表2は、様々なZIF−8構造体についてのBET面積(SBET)、ミクロ細孔体積(W0)、メソ細孔体積(V2)(N2吸着分析では典型的には50nmまでしか多孔度を調べられないことに留意されたい)、総細孔体積(VTot)及びかさ密度(ρb)のデータを示す。
Figure 2017519752
a P/P0=0.1で得られる
b P/P0=0.98で得られる
c 水銀多孔度測定法を用いた重量及び体積の測定により定量化されるかさ密度
d BASFが報告しているZIF−8タップかさ密度
e 参考Fairen−Jimenezら[2011]
ZIF−8の単結晶密度は高い(約0.95cm3/g)。しかしながら、当然のことながら、微粒子の形態では、粒子間の空間が粉末材料のかさ体積のかなりの割合を占める。ZIF−8の場合、粒子間の空間により、単結晶密度の約50%のタップかさ密度を有する粉末になると予測される[Juan−Juanら(2010)]。実際に、BASF社から市販のZIF−8(Basolite(登録商標)Z1200)は、0.35g/cm3のかさ密度を呈する[URL:http://www.sigmaaldrich.com/catalog/product/aldrich/691348?lang=en&region=GBを参照のこと。2014年6月10日にアクセス]。対照的に、好ましい実施形態の全てのモノリス型構造体が極めて高いかさ密度を示し、これは吸着材料を所与の空間に閉じ込めなくてはいけない場合の応用的観点から特に重要である。測定された密度がZIF−8の結晶密度より高いという事実は、より密度が高い非晶質相の存在又は完了していない活性化、それゆえの若干狭い重量表面積を示唆している。BET面積及びミクロ細孔体積を体積に換算すると、モノリス型材料は慣用の粉末ZIF−8の3倍を超える値を呈する。
モノリス型ZIF−8ERの安定性を100℃の水中で7日間にわたって試験した。図39は、3、5及び7日目のサンプルのPXRDパターンを示す。沸騰水への浸漬後、ZIF−8ERはモノリス型モルホロジー及びZIF−8の結晶構造を維持でき、標準的な粉末ZIF−8についてこれまでに報告されたデータと同様であった。
上で挙げた例において、サンプルは、溶媒及びMOFの形成に必要な成分以外の成分を意図的に添加することなく製造した。他の実施形態においては、他の成分を含めることが可能である。そのような他の成分は例えばモノリスのメソ多孔度又はマクロ多孔度を上昇させる(特定の用途で必要とされる場合)ために含め得る。この場合、典型的には、モノリスの組成をMOF単結晶の組成と同等であるとみなすことはできない。むしろ、モノリスの組成はMOF単結晶及び組成物の1種以上の残りの成分(すなわち、添加剤)の組成と同等であるとみなすことができる。特定の性質(例えば、BET表面積、多孔度、細孔径分布、ヤング率、硬度等)についてモノリスの性質を公正に評価するために、モノリスの性質を、MOF単結晶及び残りの成分の対応する性質の体積加重算術平均と比較する。したがって、例えば、モノリスの組成がヤング率E0を有するMOF単結晶を形成可能な80体積%のMOF材料及びヤング率E1を有する15体積%の第1添加剤及びヤング率E2を有する5体積%の第2添加剤であるとみなせる場合、MOF単結晶及び残りの成分のヤング率の体積荷重算術平均は[0.8E0+0.15E1+0.05E2]となる。
図10は、様々なサンプルの熱重量分析(TGA)の結果を示す。この図からは、サンプルの安定性についての情報が得られる。図10は、ZIF−8LT、ZIF−8LTHT及びZIF−8ERについての150〜300℃でのそれぞれ12、7及び8%の重量損失を示す。これらの損失は、材料中の残留エタノール及び水に原因がある。ZIF−8−HTは150〜300℃で約4%の重量を失い、これはモノリス中の残留溶媒分子は粉末の場合より除去しにくいことを示している。熱劣化による第2の重量損失ステップが3つの全てのサンプルについて600℃で観察され、これはこれまでの文献の報告と一致している[例えば、Parkら(2006)]。
要約すると、上で開示するのは、穏和な条件を用いた一段階法によるZIF−8の透明モノリスの合成である。モノリス型材料はZIF−8の特徴的な多孔性を保持し、それでいて慣用のZIF−8の3倍のかさ密度を示す。加えて、サンプルは同じ組成の単結晶より実質的に剛性が高かった。これらの特徴は全て、記載の方法を、最適な材料が高い体積吸着量及び十分な機械的性質を呈する必要がある工業用途にとって理想的なものにしている。
MOF層/コーティング
上記のモノリス型MOFと同じ合成原理を用いて基体上にMOF層(本明細書においてはコーティングとも称する)コーティングが形成されている。ここでZIF−8Nと命名するZIF−8コーティングの合成方法は、上記のZIF−8LTのものと同様であった。撹拌しながらの2時間にわたる反応後、白色の溶液を30分間にわたって静置した。白色の固形物の殆どが析出したら、30mlの上清を慎重にピペットを用いて除去した。残りの溶媒及び固形物をペトリ皿に注ぎ、24時間にわたって周囲条件で乾燥させた。ペトリ皿(基体)の底に形成された得られたZIF−8コーティングはしっかりとペトリ皿に付着しており(除去は困難であった)、実質的に透明であった。本発明の実施形態の層に適用可能な実質的な透明度は、本発明の第5又は第6の態様に関して記載したアプローチに基づいて適切に求めることができる。
他のMOF組成物をベースにした例
上記の研究は主にZIF−8に関する。しかしながら、本発明は必ずしもZIF−8に限定されない。本発明のさらなる実施形態では異なるMOF組成物を用いる。この例はMOF材料ZIF−zniに関する。
有機リンカーを2−メチルイミダゾール(ZIF−8で用いたもの)からイミダゾールに切り換えることでZIF−zniを調製することができる。この例の合成方法において、ZIF−zniモノリスは、ZIF−8MOFのものと同様の方法を用いて得られた。
1mlのNaOH(1M)(有機リンカーの脱プロトン化を改善するため)をイミダゾール(20ml、0.395M)のエタノール溶液に添加した。次に、この溶液をZn(NO3)・6H2O(20ml、0.049M)のエタノール溶液と混合し、1時間にわたって室温で撹拌した。溶液を5500rpmで10分間にわたって遠心分離した後、白色の固形物を回収し、室温で一晩乾燥させることでモノリスを形成した。この場合、ZIF−8ERの場合と実質的に同じモノリス型材料が観察された。
図29はモノリスのPXRDパターンを示し(上部PXRDトレース)、既知のZIF−zniのPXRDトレース(下部PXRDトレース)との比較により構造体がZIF−zniであることが確認された。挿入図は、図2及び図3と同様のやり方で撮影したモノリスの画像である。
MOF@ZIF−8複合材モノリス
MOFの性質を例えば異なる選択性、異なる親水性/疎水性等と組み合わせるために、一連の親水性MOFを用意した。UiO−66、MIL−101及びZIF−90であった。これらを続いて疎水性ZIF−8のマトリックスに異なるMOF:ZIF−8比で埋め込んだ。ZIF−8はバインダとしての役割を果たす。このようにして、MOF複合材のモノリスを形成した。このアプローチは、上述した長時間反応サンプルの特別なケースを一般化したものであると考えることができる。
UiO−66を、Katzら(2013)が報告している方法を用いて合成した。0.75gの塩化ジルコニウムを30mlのDMFに6mlのHCl(37%)と共に溶解させた。次に、60mlのDMF中の0.738gのテレフタル酸の溶液を添加した。混合物を80℃で一晩加熱した。得られた固形物を熱いDMF(70℃、100ml、3回)及びエタノール(20ml、3回)でそれぞれ洗浄し、80℃、真空下で乾燥させた。
MIL−101を、Khanら(2011)の手順にしたがって合成した。0.532gのCrCl3・6H2O、0.332gのテレフタル酸及び20mlの脱イオン水を45mlオートクレーブにおいて混合した。混合物を20分間にわたって超音波処理してから210℃で24時間にわたって加熱した。得られた固形物を熱いDMF(70℃、100ml、3回)及びエタノール(20ml、3回)でそれぞれ洗浄し、80℃、真空下で乾燥させた。
ZIF−90を、Shiehら(2013)が報告している方法にしたがって合成した。0.48gのイミダゾール−2−カルボキシアルデヒド(ICA)及び0.5gのポリビニルピロリドン(PVP、MW:40000)を12.5mlの脱イオン水に溶解させた。次に、12.5mlのエタノール中の0.371gのZn(NO3)・6H2Oの溶液を添加した。混合物を室温で3分間にわたって撹拌した。遠心分離後に得られた固形物を3回、エタノールで洗浄し、80℃、真空下で乾燥させた。
MOF複合材を形成するための典型的な反応において、0.04gのUiO−66、MIL−101又は0.02gのZIF−90を40mlのエタノールにそれぞれ分散させ、20分間にわたって超音波処理した。各MOF溶液について、0.649gの2−メチルイミダゾールを添加し、さらに3分間にわたって全てが溶解するまで超音波処理した。次に、0.293gのZn(NO3)・6H2Oを添加した。混合物を10分間にわたって超音波処理し、得られた固形物をエタノール(20ml、3回)で3分間にわたる超音波処理下で洗浄し、室温で一晩乾燥させた。得られたサンプルをUiO−66@ZIF−8モノリス、MIL−101@ZIF−8モノリス及びZIF−90@ZIF−8モノリスとそれぞれ名付けた。
図30は、擬似パターンと比較したUiO−66、MIL−101及びZIF−90のPXRDパターンを示す。一致は、MOFの合成の成功を示す。
図31〜図33はそれぞれ合成したUiO−66、MIL−101及びZIF−90のSEM画像である。UiO−66は粒径100〜150nmを有し、MIL−101は粒径400−500nmを有し、ZIF−90は粒径約2μmを有する。MOFは、MOF@ZIF−8モノリスの合成中の析出を阻害するために小さい粒子として合成される。
図34及び図35はそれぞれMIL−101@ZIF−8及びZIF−90@ZIF−8モノリス複合材の内部の断面のSEM画像である。MIL−101@ZIF−8の場合、断面には幾つかの穴があり、また平坦な表面上で幾つかの大きな粒子が孤立している。穴及び粒子の直径は約400〜500nmであり、合成されたMIL−101粒子のサイズと同様である。ZIF−90@ZIF−8の場合、効果はよりはっきりとしており、粒径約2μmの粒子がマトリックスに埋め込まれている(合成されたZIF−90粒子のサイズと同様である)。
図36〜図38、表3はそれぞれ様々な複合材についてのN2吸着等温線及びBET面積を示す。N2等温線が示すように、複合材の多孔性特性はZIF−8と含まれるMOFとの組み合わせである。しかしながら、複合材のBET面積は理論値より減少する。UiO−66@ZIF−8及びMIL−101@ZIF−8複合材に関し、実験的BET面積は約500m2/g理論値より狭い。ZIF−90@ZIF−8複合材の場合、BET面積は250m2/gだけ理論値より狭い。理論により縛ることを望むものではないが、これは細孔ブロック効果のせいであると推測される。
Figure 2017519752
表4は、UiO−6@ZIF8及びMIL−101@ZIF−8の機械的性質を示す。MOF@ZIF−8複合材の弾性率(E)及び硬度(H)の両方が、ZIF−8ERのものと同様である。
Figure 2017519752
2吸着による多孔度及びBET比表面積の測定
2吸着等温線を、77KでMicromeritics社の機器ASAP2020を用いて記録した。測定に先立って、サンプルを、425K、加熱速度5K/分で4時間にわたって脱気した。
BET式を、文献において提唱されている整合性基準を用い、BET定数が正であり続けるように慎重に万全を期し、実験的N2等温線に適用した[Rouquerolら(1999)]。実験的等温線において、BET式を広い範囲の圧力にわたってフィットさせた。
ナノインデンテーション法
ナノインデンテーション実験を、熱の変動及び音響干渉から守るために隔離キャビネットに入れたMTSナノインデンタXPを用いて行った。
インデンテーション前、モノリス表面をエポキシ樹脂を用いてまずコールドマウント処理し、次に徐々に細かくなるダイヤモンド懸濁液を使用して慎重に研磨した。インデンテーションを、動的変位制御「連続的剛さ測定」モードで行った。続いてE(弾性率)及びH(硬度)の機械的性質を表面侵入深さの関数として求めた。45Hzでの2nm正弦波変位をシステムの一次負荷信号上に重ね、負荷及び除荷ひずみ速度を5×10-2-1に設定した。全ての試験を最大押し込み深さ1000nmまで、半径約100nmのバーコビッチ(すなわち、三面ピラミッド状)型ダイヤモンドチップを用いて行った。得られた生データ(荷重−変位曲線)をOliver及びPharr(2004)法及び0.2に設定したポアソン比を用い、ゼオライト様イミダゾレート構造体についての以前の研究[Tanら(2010)]にしたがって分析した。100nm未満の表面侵入から得られたデータは、チップと表面との接触が不完全であるため廃棄した。
ZIF−8LTに関して、1000nmの45個の圧痕を形成した。説明すると、10本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を図12に示し、図12はZIF−8LTサンプルの挙動の一貫性を示している。図13は、ZIF−8LTのサンプル(5×5mm)に形成された2列の1000nmの圧痕のSEM画像である。図14は、押し込み深さの関数としてのZIF−8LTの弾性率についての結果を示す。図15は、押し込み深さの関数としてのZIF−8LTの硬度についての結果を示す。図14及び15のそれぞれにおいて、各エラーバーは45個の圧痕の標準偏差から生じる。
図16は、ZIF−8LTHTサンプルについての20本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。図17は、ZIF−8LTHTのサンプル(5×5mm)に形成された2列の1000nmの圧痕のSEM画像である。図18は、押し込み深さの関数としてのZIF−8LTHTの弾性率についての結果を示す。図19は、押し込み深さの関数としてのZIF−8LTHTの硬度についての結果を示す。図18及び図19のそれぞれにおいて、各エラーバーは45個の圧痕の標準偏差から生じる。
ZIF−8−ERに関し、2回のナノインデンテーション分析を行った。第1の分析においては、ZIF−8ERのモノリスに深さ3000nmの6個の圧痕を形成した。第2の分析においては、ZIF−8ERの別のモノリスに深さ1000nmの15個の圧痕を形成した。
図20は、3000nmまでくぼんだZIF−8ERサンプルについての6本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。図21は、ZIF−8ERのサンプル(5×5mm)に形成された3000nmの圧痕を示す。図22は、押し込み深さの関数としてのZIF−8ERの弾性率についての結果を示す。図23は、押し込み深さの関数としてのZIF−8ERの硬度についての結果を示す。図22及び23のそれぞれにおいて、各エラーバーは6個の圧痕の標準偏差から生じる。
図24は、1000nmまでくぼんだZIF−8ERサンプルの15本の重ね合わせた荷重−深さ曲線を示す。図25は、ZIF−8ERのサンプル(5×5mm)に形成された1000nmの圧痕の列を示す。図26は、押し込み深さの関数としてのZIF−8ERの弾性率についての結果を示す。図27は、押し込み深さの関数としてのZIF−8ERの硬度についての結果を示す。図26及び図27のそれぞれにおいて、各エラーバーは15個の圧痕の標準偏差から生じる。
更なる実験の詳細
粉末X線回折(XRD)パターンをBruker D8回折計によりCuKα1(λ=1.5405Å-1)線を用いて、0.02°のステップ、走査速度0.1°秒-1で記録した。
走査型電子顕微鏡(SEM)画像を、FEI XL30 FEGSEMにより加速電圧5kVで撮影した。
TEM画像を、FEI Tecnai G2を用いて電圧200kVで撮影した。1mlの母液をとり、エタノールで10倍に希釈してから遠心分離に供した。50μlの溶液を銅製のグリッド上に滴下した。図11に示すTEM画像は、エタノールを室温で蒸発させた後に撮影された。
熱重量分析(TGA)をPyris 1 TGAを用いてN2雰囲気下、室温から750℃までランプ速度10℃/分で行った。
水銀多孔度測定法を、最終圧力2000バールまで機器AutoPore IV 9500を用いて行った。この技法により、大気圧で100nmを超える細孔の体積及び粒子かさ密度が得られた。図28は水銀多孔度測定法の結果であり、ZIF−8LT及びZIF−8ERのマクロ細孔及びメソ細孔の細孔径分布を示す。
ZIF−8ERの化学安定性を、100℃の還流する水において7日間にわたって試験した。安定性をXRDを用いて48時間毎に3日目からモニタした。
本発明について上記の実施形態例と併せて説明してきたが、本開示を与えられれば数多くの同等の改変及び変形が当業者には明らかとなる。したがって、上記の本発明の実施形態例は例示であって限定ではないとみなされる。記載の実施形態には、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく多様な変更を加え得る。
上で挙げた全ての参考文献は参照により本願に援用される。

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Claims (34)

  1. MOFバインダを介して互いに付着したMOF結晶子を含む金属−有機構造体(MOF)ボディ。
  2. MOF結晶子と、
    ボディ内で結晶子を結合するMOFバインダと、
    任意で、残留溶媒と、
    任意で、10質量%以下のレベルで存在する1種以上の添加剤と
    から成る金属−有機構造体(MOF)ボディ。
  3. 前記ボディがモノリスである、請求項1又は2に記載のMOFボディ。
  4. 前記ボディが少なくとも1mm3の体積を有する、請求項3に記載のMOFボディ。
  5. 前記ボディが少なくとも10mm3の体積を有するモノリスである、請求項3に記載のMOFボディ。
  6. 前記ボディが基体上に形成された層である、請求項1又は2に記載のMOFボディ。
  7. 前記MOFバインダが前記MOF結晶子と実質的に同じ組成を有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のMOFボディ。
  8. 前記MOFバインダが前記MOF結晶子とは異なる組成を有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のMOFボディ。
  9. (i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物から形成させた場合には、密度が同じ組成のMOF単結晶の密度の少なくとも90%であり、又は
    (ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分から形成させた場合には、密度が前記MOF単結晶及び残りの成分の密度の体積加重算術平均の少なくとも90%である、請求項1〜8のいずれか一項に記載のMOFボディ。
  10. 密度が、
    (i)前記同じ組成のMOF単結晶の密度又は
    (ii)前記MOF単結晶及び残りの成分の密度の体積加重算術平均
    の少なくとも105%である、請求項9に記載のMOFボディ。
  11. 少なくとも1mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、
    (i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物から形成させた場合には、単位かさ体積あたりのBET表面積が前記同じ組成のMOF単結晶の単位かさ体積あたりのBET表面積の少なくとも0.6倍であり、
    (ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分から形成させた場合には、単位かさ体積あたりのBET表面積が前記MOF単結晶及び残りの成分の単位かさ体積あたりのBET表面積の体積加重算術平均の少なくとも0.6倍であり、
    前記単位かさ体積あたりのBET表面積が77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる、前記金属−有機構造体(MOF)モノリス。
  12. 少なくとも10mm3の体積を有する、請求項11に記載のMOFモノリス。
  13. 前記単位かさ体積あたりのBET表面積が少なくとも600m2/cm3である、請求項11又は12に記載のMOFモノリス。
  14. 最大で10体積%のメソ多孔度を有し、メソ多孔度が2〜50nmの範囲の直径を有する細孔と定義され(マクロ多孔度は、直径50nmを超える細孔と定義される)、多孔度及び細孔径分布が77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる、請求項11〜13のいずれか一項に記載のMOFモノリス。
  15. 少なくとも40体積%の、直径2nm未満の細孔と定義されるミクロ多孔度を有する、請求項11〜14のいずれか一項に記載のMOFモノリス。
  16. 少なくとも1mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリスであって、
    (i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物から形成させた場合には、同じ組成のMOF単結晶のミクロ多孔度の少なくとも0.6倍の、直径2nm未満の細孔と定義されるミクロ多孔度を有し、
    (ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分から形成させた場合には、前記MOF単結晶及び残りの成分のミクロ多孔度の体積加重算術平均の少なくとも0.6倍のミクロ多孔度を有し、
    多孔度及び細孔径分布が77KでのN2吸着等温線に基づいて求められる、前記金属−有機構造体(MOF)モノリス。
  17. 少なくとも10mm3の体積を有する、請求項16に記載のMOFモノリス。
  18. 第2MOF組成物のマトリックス中に第1MOF組成物の粒子を含む複合材料を含む、請求項16又は17に記載のMOFモノリス。
  19. 少なくとも100mm3の体積を有する請求項1〜10のいずれか一項に記載のMOFボディ又は請求項11〜18のいずれか一項に記載のMOFモノリス。
  20. 少なくとも1mmの最小線寸法を有する請求項1〜10のいずれか一項に記載のMOFボディ又は請求項11〜18のいずれか一項に記載のMOFモノリス。
  21. 実質的に透明である、少なくとも10mm3の体積を有する金属−有機構造体(MOF)モノリス。
  22. 金属−有機構造体(MOF)モノリス又は基体上に形成されたMOF層であって、
    (i)同じ組成のMOF単結晶を形成可能な組成物から前記モノリス又は層を形成させた場合には、同じ組成のMOF単結晶のヤング率又は硬度より大きい、ナノインデンテーション法で測定されるヤング率又は硬度を前記モノリスが有し、
    (ii)同じ組成の単結晶を形成可能ではない組成物であってMOF単結晶を形成可能な組成物及び前記組成物の1種以上の残りの成分から前記モノリス又は層を形成させた場合には、前記MOF単結晶及び残りの成分のヤング率又は硬度の体積加重算術平均より大きい、ナノインデンテーション法で測定されるヤング率又は硬度を前記モノリスが有する、前記金属−有機構造体(MOF)モノリス又は基体上に形成されたMOF層。
  23. (ii)が当てはまる場合、第2MOF組成物のマトリックス中に第1MOF組成物の粒子を含む複合材料を含む、請求項22に記載のMOFモノリス又は層。
  24. 請求項1〜10のいずれか一項に記載のボディの集まり又は請求項11〜18のいずれか一項に記載のモノリスの集まり。
  25. MOF前駆体を溶媒中で反応させることでMOF組成物を生成するステップと、
    前記溶媒の少なくとも一部を除去する乾燥段階を含み、前記乾燥段階中の最高温度が50℃以下である、前記MOF組成物のモノリス又は層を形成するステップとを含む、金属−有機構造体(MOF)モノリス又は基体上に形成されたMOF層の製造方法。
  26. 前記MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップを含む、請求項25に記載の方法。
  27. 前記MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップを遠心分離により行う、請求項26に記載の方法。
  28. MOF前駆体を溶媒中で反応させることでMOF組成物を生成するステップと、
    前記MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップと、
    追加のMOF前駆体を前記濃縮物に添加するステップと、
    前記溶媒の少なくとも一部を除去する乾燥段階を含み、前記乾燥段階中の最高温度が50℃以下である、前記MOF組成物のボディを形成するステップとを含む、金属−有機構造体(MOF)ボディの製造方法。
  29. 前記MOF組成物の粒子を粒子と溶媒との濃縮物へと濃縮するステップが遠心分離により行われる、請求項28に記載の方法。
  30. 第1MOF組成物の粒子を用意するステップと、
    第2MOF組成物に対応するMOF前駆体を前記第1MOF組成物の粒子に添加するステップと、
    前記第2MOF組成物のマトリックス中に前記第1MOF組成物の粒子を含むMOF複合材ボディを形成するステップとを含む、金属−有機構造体(MOF)ボディの製造方法。
  31. 前記MOFボディが基体上に形成されたMOF層である、請求項28〜30のいずれか一項に記載の方法。
  32. 前記MOFボディがMOFモノリスである、請求項28〜31のいずれか一項に記載の方法。
  33. 前記モノリスが、材料を金型にいれて行う乾燥段階により所望の形状に形成される、請求項32に記載の方法。
  34. 前記層が、前記基体上で乾燥段階を行うことで形成される、請求項31に記載の方法。
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