JP2017516873A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 硬化ポリマー材料の形成方法であって、
   ポリマー組成物を提供するステップと、
   前記組成物を紫外（ＵＶ）放射線で露光して中間組成物を形成するステップと、
   前記中間組成物を電子ビーム（ＥＢ）放射線で露光して硬化ポリマー材料を形成するステップと、
   を含む方法。
2. 前記ＵＶ放射線の波長は２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内である、請求項１に記載の方法。
3. 前記電子ビーム放射線の線量は１０キログレイ未満である、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記電子ビームの線量は１０キログレイ〜１００キログレイの範囲内である、請求項１に記載の方法。
5. 前記ポリマー組成物は、（i）少なくとも一つの低分子量ポリマー、（ii）少なくとも
   一つのモノマー希釈剤、（iii）アクリル酸、及び（iv）少なくとも一つの光開始剤を含
   む、請求項１に記載の方法。
6. 前記組成物は少なくとも一つの架橋剤をさらに含む、請求項５に記載の方法。
7. 前記組成物は溶剤を含有しない、請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
8. 前記低分子量ポリマーは架橋性アクリレートポリマーである、請求項５乃至７のいずれかに記載の方法。
9. 硬化ポリアクリレート材料の形成方法であって、
   （i）少なくとも一つの低分子量ポリマー、（ii）少なくとも一つのモノマー希釈剤、
   （iii）アクリル酸、及び（iv）少なくとも一つの光開始剤を含むアクリル組成物を提供
   するステップと、
   前記アクリル組成物を紫外（ＵＶ）放射線で露光して前記組成物を少なくとも部分的に硬化させて中間組成物を形成するステップと、
   前記中間組成物を電子ビーム（ＥＢ）放射線で露光して硬化ポリアクリレート材料を形成するステップと、
   を含む方法。
10. 前記ＵＶ放射線の波長は２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内である、請求項９に記載の方法。
11. 前記電子ビーム放射線の線量は１０キログレイ未満である、請求項９又は１０に記載の方法。
12. 前記電子ビーム放射線の線量は１０キログレイ〜１００キログレイの範囲内である、請求項９に記載の方法。
13. 前記組成物は少なくとも一つの架橋剤をさらに含む、請求項９に記載の方法。
14. 前記組成物は溶剤を含有しない、請求項９に記載の方法。
15. 少なくとも一つの低分子量アクリルポリマーと、
    少なくとも一つのモノマー希釈剤と、
    アクリル酸と、
    少なくとも一つの光開始剤と、を含み、
    溶剤を含有しない、放射線硬化性アクリル組成物。
16. 少なくとも一つの架橋剤をさらに含む、請求項１５に記載の放射線硬化性アクリル組成物。
17. 紫外（ＵＶ）放射線への露光後に、電子ビーム（ＥＢ）放射線への順次の露光によって少なくとも部分的に硬化し、前記ＵＶ放射線への露光前のポリマー材料は、（i）少なくとも一つの低分子量ポリマー、（ii）少なくとも一つのモノマー希釈剤、（iii）アクリル酸、及び（iv）少なくとも一つの光開始剤を含む、ポリマー材料。
18. 前記ＵＶ放射線の波長は、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内である、請求項１７に記載のポリマー材料。
19. 前記電子ビーム放射線の線量は１０キログレイ未満である、請求項１７又は１８に記載のポリマー材料。
20. 前記電子ビーム放射線の線量は１０キログレイ〜１００キログレイの範囲内である、請求項１７に記載のポリマー材料。