JP2017509516A - ソーラーコントロール層を含む透明複合体およびその形成方法 - Google Patents

Abstract

透明複合体は、テクスチャ基板およびソーラーコントロール層を含むことができる。ソーラーコントロール層の部分は、テクスチャ基板の側壁によって分離されて異なる高度で置かれていてよい。該部分は、互いから電気的に切断されていてよく、または、高抵抗の他の部分を含んでいてよい。実施形態において、ソーラーコントロール層は、テクスチャ基板の上に非等角的に堆積され得る。ソーラーコントロール層は、ソーラーコントロール層の部分間に横方向のギャップが存在しないように形成され得る。特定の実施形態において、透明複合体は、近赤外放射の好適に低い透過を達成しつつも、可視光および高周波信号の良好な透過を有することができる。【選択図】 図１２

Description

本開示は、ソーラーコントロール層を含む透明複合体およびその形成方法を対象とする。

日光から建物または車両の内側への伝熱を窓によって低減することを多くの政府が命令しており、また、消費者が必要としている。熱の大部分は、８００ｎｍ〜２５００ｎｍの範囲の波長を有する近赤外放射として伝達される。ソーラーコントロール層は、長年使用されており、４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の波長を有する可視光の許容される透過を可能にしつつも近赤外放射の透過を低減するのに有効である。

携帯電話、スマートフォン、タブレットコンピュータなどは、一般に、携帯電話の中継塔または他のインフラ機器と典型的には０．８ＧＨｚ〜２．５ＧＨｚの範囲の周波数で、さらにはより高い周波数で無線通信する。かかる電話、コンピュータおよび他のセルラー機器のユーザーは、これらのデバイスを建物および車両の窓を通して無線通信させることができることを要求する。ガラスまたはプラスチックのシートを通した無線透過は、大幅な信号損失を伴わずに実施され得る。ソーラーコントロール層は、可視光を大幅に低減することなく近赤外透過を大幅に低減するが、かかるソーラーコントロール層は、無線通信に用いられる電磁放射の透過を大幅に減衰し得る。この問題に対処する多くの試みは、過剰の近赤外放射を通させるか、または、複雑な製造スキームを有している。

実施形態が例として示されているが、添付の図に限定されない。

図１は、シート抵抗の関数としての、１．８ＧＨｚでの信号の透過のプロットを含む。 図２は、実施形態によるテクスチャ基板およびソーラーコントロール層の部分の断面図を含む。 図３は、図２のソーラーコントロール層の回路モデルを含む。 図４は、実施形態によるテクスチャ基板およびソーラーコントロール層の部分の断面図を含む。 図５は、図４のソーラーコントロール層の回路モデルを含む。 図６は、実施形態による支持基板およびテクスチャ基板を含むワークピースの部分のそれぞれ断面図および斜視図を含む。 図７は、実施形態による支持基板およびテクスチャ基板を含むワークピースの部分のそれぞれ断面図および斜視図を含む。 図８は、代替の実施形態による支持基板およびテクスチャ基板を含むワークピースの部分の斜視図を含む。 図９は、別の代替の実施形態によるテクスチャ基板を含むワークピースの部分の上面図を含む。 図１０は、実施形態による、ソーラーコントロール層を形成した後の図６および７のワークピースのそれぞれ断面図および斜視図を含む。 図１１は、実施形態による、ソーラーコントロール層を形成した後の図６および７のワークピースのそれぞれ断面図および斜視図を含む。 図１２は、実施形態による、トレンチの残存部分をトレンチ充填材料によって充填した後の図１０および１１のワークピースの断面図を含む。 図１３は、実施形態による実質的に完成された透明複合体の断面図を含む。 図１４は、代替の実施形態による支持基板およびテクスチャ基板を含むワークピースの部分の断面図を含む。 図１５は、代替の実施形態による、本体およびキャップ層の部分をエッチングした後の、支持基板、本体層、キャップ層、およびマスキング層を含むワークピースの部分の断面図を含む。 図１６は、代替の実施形態による、本体層内のトレンチの部分を選択的に広くした後の図１５のワークピースの断面図を含む。 図１７は、テクスチャ基板およびテクスチャ基板上に堆積された金属層の走査電子顕微鏡画像を含む。 図１８は、テクスチャ基板およびテクスチャ基板上に堆積された金属層の走査電子顕微鏡画像を含む。 図１９は、サンプル（試験下のデバイス）を通る高周波信号の透過減衰を試験するためのシステム設定図を含む。 図２０は、シート抵抗の関数として透過減衰（信号損失）を示すグラフを含む。

当業者は、図における要素が簡素化および明瞭化のために示されていること、ならびに必ずしもスケール通りに描かれていないことを認識する。例えば、図における要素のいくつかの寸法は、本発明の実施形態の理解の改善を助けるために他の要素と比較して誇張されている場合がある。

図と組み合わせた以下の詳細な説明は、本明細書に開示されている教示の理解を補助するために提供される。以下の議論は、該教示の具体的な実行および実施形態に焦点を当てている。かかる焦点は、該教示の説明を補助するために提供されるものであり、該教示の範囲または適用可能性に対する限定として解釈されるべきではない。

用語「有効シート抵抗」は、パターンについて調整される材料または層のシート抵抗を意味することが意図される。例えば、平面上に形成されるときの層は、２００Ω／□のシート抵抗を有していてよい。パターン形成後、層の幅（厚さに直交する方向で測定される）は、元々形成されている層の幅のほんの１０％であってよい。有効シート抵抗は、パターン形成後に残存する層の幅の分数（０．１）倍のシート抵抗（２００Ω／□）、この例では２０００Ω／□である。

本明細書において用いられるとき、可視光透過率（ＶＬＴ）は、窓フィルム／ガラス系に達する全可視光に対する窓フィルム／ガラス系を透過する全可視光の比を意味することが意図される。

可視光反射率（ＶＬＲ）は、窓フィルム／ガラス系に達する全可視光に対する窓フィルム／ガラス系によって反射される全可視光を意味することが意図される。

総太陽エネルギーカット率（ＴＳＥＲ）は、窓フィルム／ガラス系によって拒絶される全太陽エネルギー（熱）を意味することが意図される。

日射熱取得係数（ＳＨＧＣ）は、式：ＳＨＧＣ＝１−ＴＳＥＲを用いて測定される全太陽エネルギー（例えば、窓フィルム／ガラス系を通して伝達された熱）を意味することが意図される。

選択性または光対日射熱取得係数（ＬＴＳＨＧＣ）は、以下の式：ｓ＝ＬＴＳＨＧＣ＝ＶＬＴ／ＳＨＧＣを用いて測定される、ＳＨＧＣによって除算されるＶＬＴの比を意味することが意図される。

ＶＬＴ、ＶＬＲ、ＴＳＥＲ、ＳＨＧＣおよびＬＴＳＨＧＣは、ＡＳＴＭ規格（例えば、ＮＦＲＣ−１００、ＮＦＲＣ−２００およびＮＦＲＣ−３００を参照されたい）に従って算出される。

本明細書において付与される性能値は、透明複合体フィルムを３ｍｍ（１／８インチ）の透明ガラスシートに適用したとき、または３ｍｍ（１／８インチ）の透明ガラスシートから透明複合体を製造したときに測定される値に相当することを意味する。

本明細書において用いられるとき、減衰とは、媒体、例えば窓フィルム／ガラス系を通過する電磁放射についての電磁放射の強度の損失である。減衰は、実際の値（例えば、−５ｄＢ）として、または同じ減衰量での絶対値（例えば、５ｄＢ）として表されてよい。

用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、またはこれらの任意の他の変形例は、非排他的包含を含むことが意図される。例えば、特徴の列挙を含むプロセス、方法、物品、または装置は、必ずしもこれらの特徴のみに限定されないが、明確に列挙されていない他の特徴、またはかかるプロセス、方法、物品、もしくは装置に固有の他の特徴を含んでいてよい。さらに、反対であることが明確に記述されていない限り、「または（ｏｒ）」は、包括的な「または」を称し、排他的な「または」を称するのではない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のうちいずれか１つによって満たされる：Ａが真（または存在する）かつＢが偽（または存在しない）、Ａが偽（または存在しない）かつＢが真（または存在する）、ならびにＡおよびＢの両方が真（または存在する）。

「１つの（ａ）」または「１つの（ａｎ）」の使用は、本明細書に記載されている要素および構成要素を記載するのに使用される。このことは、単に便宜上のものであり、本発明の範囲の一般的な意味を付与するためのものである。かかる記載は、別途意味することが明らかでない限り、１つまたは少なくとも１つを含むと読み取られるべきであり、単数形は複数形も含み、また逆も然りである。

別途定義されていない限り、本明細書において用いられている全ての技術および科学用語は、本発明が属する分野における当業者によって一般的に理解されているのと同じ意味を有する。材料、方法、および例は、単に説明目的のものであり、限定的であることは意図されていない。本明細書に記載されていない程度まで、具体的な材料および処理作業に関する多くの詳細は、従来的なものであり、ソーラーコントロールおよび窓の分野内のテキストおよび他の情報源において見出され得る。

透明複合体は、テクスチャ基板およびソーラーコントロール層を含むことができる。ソーラーコントロール層の部分は、側壁によって互いから分離されて種々の高度で形成され得る。実施形態において、テクスチャ基板内のトレンチは、テクスチャ基板が形成されるとき存在し得、または、該トレンチは、層内に形成されても、層上に材料を堆積することによって形成されてもよい。トレンチの底部とトレンチの外側の面との間の高度差は、ソーラーコントロール層が、トレンチ内または外に個々の離間された部分を有することを可能にすることができる。実施形態において、ソーラーコントロール層は、テクスチャ基板の上に非等角的に堆積され得る。ソーラーコントロール層は、粉砕されたり、破砕されたり、またはレーザーアブレーションされた部分を有したり、もしくは他の場合には除去されて個々の離間された部分を形成したりする必要はない。ソーラーコントロール層は、透明複合体の主面に垂直な方向において、横方向のギャップを何ら有さないため、ソーラーコントロール層が形成された後にソーラーコントロール層が破壊されて片になる従来の窓フィルムと比較して、近赤外放射の透過が大幅に低減される。ナノ粒子を含む従来のソーラーコントロール層は、（１）良好な近赤外（ＩＲ）性能を付与するのに十分なナノ粒子を含むが可視光透過が乏しいか、または（２）可視光透過は良好であるが過剰の近ＩＲ放射を透過させるかのいずれかであり得る。さらに、透明複合体は、たった１つのソーラーコントロール層によって形成されてよい。そのため、複数のソーラーコントロール層が堆積されてパターン形成されることを必要としない。透明複合体は、ヘイズが低くなるように製造され得る。ヘイズは、ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ製のＨａｚｅ−Ｇａｒｄ（商標）ブランドのヘイズ測定器を用いて測定され得る。特定の実施形態において、ヘイズは、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って測定され得る。

特定の実施形態に取り組む前に、ソーラーコントロール層による高周波信号の減衰に関係する問題に取り組む。ソーラーコントロール層において用いられるいくつかの材料、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、または透明導電酸化物（ＴＣＯ）、一般には、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、ＡｌまたはＧａドープト酸化亜鉛（ＺｎＯ）は、高導電性である。図１は、層のシート抵抗の関数としての、層を通しての１．８ＧＨｚの周波数での電磁放射の透過のプロットを含む。該プロットによって分かるように、信号減衰は、シート抵抗が減少するにしたがって顕著である。特に、透過は、１Ω／□（図ではΩ□と記述）で−４６ｄＢ、１０Ω／□で−２７ｄＢ、１００Ω／□で−１０ｄＢである。このように、シート抵抗が低すぎると、無線通信に十分な電磁放射の透過を可能にしない。しかし、透過は、１０，０００Ω／□以上で０ｄＢと−１ｄＢとの間である。

添付の特許請求の範囲を示すが限定しない例示的な実施形態を以下に記載する。図２は、テクスチャ基板２００の部分およびソーラーコントロール層の部分の断面図を含む。ソーラーコントロール層は、近ＩＲ放射の透過を大幅に低減し、可視光の十分な透過を依然として可能にする。図２の実施形態において、テクスチャ基板２００は、実質的に垂直な側壁２２２を有するトレンチ２２０を有する。ソーラーコントロール層の部分２４２、２４４、および２４６は、トレンチ２２０の外側のテクスチャ基板２００の上面の上に堆積されている。ソーラーコントロール層の部分２６２および２６４は、トレンチ２２０の底面の上に堆積されている。部分２４２、２４４、および２４６は、トレンチの側壁２２２によって部分２６２および２６４から分離されている。

図２の実施形態が電気的にモデリングされるとき、各部分は、図３に示すように、対応する抵抗Ｒ_２４２、Ｒ_２４４、Ｒ_２４６、Ｒ_２６２、およびＲ_２６４を有することができる。ソーラーコントロール層の部分２４２、２４４、２４６、２６２、および２６４が離間されているため、かかる部分は、互いに電気接続されていないレジスタとして表されており、したがって、開回路である。電圧差が部分２４２および２４６間のソーラーコントロール層を横切って適用されると、電流は流れない。図１を参照すると、かかる状況は、非常に高いシート抵抗（１００，０００Ω／□を大幅に超える）を結果として生じさせ、無線通信に有意な信号減衰を有さない。

別の実施形態において、テクスチャ基板は、メサおよびメサ間の相互接続したトレンチの形態であってよい。この実施形態において、レジスタＲ_２６２およびＲ_２６４は接続されている。トレンチの幅は、トレンチ内のソーラーコントロール層の部分について所望の有効シート抵抗を達成するように調整され得る。例えば、より高い有効シート抵抗が要求または所望されるほど、トレンチが狭くなり得る。レジスタＲ_２４２、Ｒ_２４４、およびＲ_２４６は、メサの上のソーラーコントロール層の部分に対応していて、互いから、および、相互接続したトレンチ内のソーラーコントロール層の部分から電気的に切断されたままである。

図４は、ソーラーコントロール層４００がテクスチャ基板２００の上に形成されている連続層である代替の実施形態の図示を含む。図４の実施形態において、ソーラーコントロール層の部分４４２、４４４、および４４６は、トレンチ２２０の外側でテクスチャ基板２００の上面の上に堆積されている。ソーラーコントロール層の部分４６２および４６４は、トレンチ２２０の底面の上に堆積されている。この実施形態において、部分４５２、４５４、４５６、および４５８は、トレンチの底面に沿って置かれているソーラーコントロール層２００の部分と、トレンチ２２０の外側に置かれている他の部分との間のトレンチ２２０の側壁２２２に沿って設けられている。各部分４５２、４５４、４５６、および４５８の厚さは、各部分４４２、４４４、４４６、４６２、および４６４の厚さよりも実質的に薄い。

図４の実施形態が電気的にモデリングされるとき、各部分は、図５に示すように、対応する抵抗Ｒ_４４２、Ｒ_４４４、Ｒ_４４６、Ｒ_４５２、Ｒ_４５４、Ｒ_４５６、Ｒ_４５８、Ｒ_４６２、およびＲ_４６４を有することができる。レジスタは、ソーラーコントロール層４００がテクスチャ基板４００に沿って連続しているため、直列に接続されている。部分４５２、４５４、４５６、および４５８の厚さが、部分４４２、４４４、４４６、４６２、および４６４よりも実質的に薄いため、各Ｒ_４５２、Ｒ_４５４、Ｒ_４５６、およびＲ_４５８は、各Ｒ_４４２、Ｒ_４４４、Ｒ_４４６、Ｒ_４６２、およびＲ_４６４よりも大幅に大きく、回路内の等価な抵抗は、側壁部分４５２、４５４、４５６、および４５８に対応しているＲ_４５２、Ｒ_４５４、Ｒ_４５６、およびＲ_４５８によって支配される。そのため、電圧差が部分４４２および４４６間のソーラーコントロール層を横切って適用されると、電流が流れるが、かかる電流は非常に小さい。図１を参照すると、かかる状況は、図２における実施形態よりも低いシート抵抗に相当するが、図４における実施形態は、薄い側壁部分４５２、４５４、４５６、および４５８に起因して少なくとも１０００Ω／□に相当する有効シート抵抗を有し得る。ソーラーコントロール層４００を通しての透過損失は、−１ｄＢ以下であってよい。そのため、ソーラーコントロール層の部分がテクスチャ基板２００のトレンチ２２０の側壁に堆積されていると、無線通信に関する透過損失は、依然として許容限界以内であり得る。

ここで、ソーラーコントロール層を有する透明複合体を形成するのに用いられ得る製造プロセスに関しての説明的かつ非限定的な実施形態に注意を向ける。議論の多くは、窓に適用されるフィルムの形態での透明複合体を対象としているが、ソーラーコントロール層が窓内または窓上に形成されるようなプロセスへの変形がなされてもよい。

透明複合体を形成する方法は、テクスチャ基板の付与によって開始することができる。図６を参照すると、テクスチャ基板６００は、互いに実質的に平行である主面６０２および６０４を有する。テクスチャ基板６００は、図６に示されている実施形態では垂直方向である、主面６０２および６０４間の距離である厚さを有する。一実施形態において、テクスチャ基板６００の厚さは、少なくとも１１０ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、少なくとも５００ｎｍ、または少なくとも１．１μｍであり、また、別の実施形態において、テクスチャ基板の厚さは、２０μｍ以下、または９μｍ以下、または７μｍ以下である。テクスチャ基板６００は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば１１０ｎｍ〜２０μｍ、５００ｎｍ〜９μｍ、または１．１μｍ〜７μｍの厚さを有することができる。

テクスチャ基板６００は、有機または無機材料を含むことができる。実施形態において、テクスチャ基板６００は、透明ポリマーを含むことができる。透明ポリマーは、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリシロキサン、ポリエーテル、ポリビニル化合物、別の好適な透明ポリマー群、またはこれらの混合物を含むことができる。

特定の実施形態において、透明ポリマーは、ポリアクリレートを含む。ポリアクリレートは、ポリ（メチルアクリレート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレート）、ポリ（ビニルアクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチルメタクリレート）、ポリ（プロピルメタクリレート）、ポリ（ビニルメタクリレート）、またはこれらの混合物であってよい。別の実施形態において、ポリアクリレートは、２、３またはそれより多くのアクリル前駆体のコポリマーであってよい。アクリル前駆体は、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ビニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ビニルメタクリレートを含むことができる。例えばコポリマー性ポリアクリレートは、ポリ（メチルメタクリレートビニルメタクリレート）を含むことができる。１つの特定の実施形態において、透明ポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）を含む。１つの他の特定の実施形態において、透明ポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）から本質的になる。１つのさらなる実施形態において、透明ポリマーは、ポリ（ビニルメタクリレート）を含む。１つの他の特定の実施形態において、透明ポリマーは、ポリ（ビニルメタクリレート）から本質的になる。

一実施形態において、透明ポリマーは、ポリエステルを含む。ポリエステルは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンイソナフタレート、またはこれらの任意の組み合わせを含むことができる。１つの特定の実施形態において、透明ポリマーは、ＰＥＴを含む。別の特定の実施形態において、透明ポリマーは、ＰＥＴから本質的になる。

一実施形態において、透明ポリマーは、ポリエーテルを含む。ポリエーテルは、ポリエチレンエーテル、ポリプロピレンエーテル、ポリブチレンエーテル、またはこれらの任意の組み合わせであってよい。別の実施形態において、ポリエーテルは、２、３またはそれより多くのポリオールのコポリマーであってよい。例えば、ポリエーテルは、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオールのコポリマーであってよい。

一実施形態において、透明ポリマーは、ポリビニル化合物であってよい。ポリビニル化合物は、ポリビニルアルコール、ポリビニルエステル、ポリビニルアセタール、またはこれらの任意の組み合わせであってよい。一実施形態において、ポリビニルアセタールは、ポリビニルブチラールを含むことができる。１つの特定の実施形態において、透明ポリマーは、ポリビニルブチラールから本質的になる。別の実施形態において、ポリビニル化合物は、ビニルアルコール誘導体およびオレフィンのコポリマーであってよい。ビニルアルコール誘導体は、酢酸ビニルであってよい。一実施形態において、ポリビニル化合物は、ポリ（エチレン酢酸ビニル）であってよい。

なおさらなる１つの実施形態において、透明ポリマーは、隣接層から０．０３単位に等しいまたはそれ以内である屈折率を有することができる。例えば、隣接層が１．４７と１．５５との間の屈折率を有するガラスであるとき、透明ポリマーは、ガラスの屈折率の０．０３単位以内である材料からできていてよい。一実施形態において、隣接層は、１．４９の屈折率を有することができ、透明ポリマーは、約１．４９の屈折率を有する材料からなっていてよい。例えば、透明ポリマーは、１．４９の屈折率を有するポリ（メチルメタクリレート）であってよい。別の実施形態において、隣接層は、１．５５の屈折率を有することができ、透明ポリマーは、約１．５７の屈折率を有する材料からなっていてよい。例えば、透明ポリマーは、１．５７の屈折率を有するポリ（エチレンテレフタレート）であってよい。より特定的な実施形態において、テクスチャ基板６００は、ポリアルキルメタクリレートを含み、アルキル基は、１〜３個の炭素原子を有する。

ヘイズが関心事である特定の実施形態において、テクスチャ基板６００は、高いレベルのヘイズを生じさせる大幅に異なる屈折率を有する結晶および非結晶相に少なくとも部分的に起因する、ポリオレフィン、例えばポリエチレンを含まない。実施形態において、テクスチャ基板６００は、ナノ粒子、例えば、シリカ、ＴｉＯ_２、ＩＴＯ、ＳｂドープトＳｎＯ_２を含むことができる。ナノ粒子は、テクスチャ基板６００の屈折率を（ＩＴＯ、ＳｂドープトＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２の場合）増加させ、または（シリカの場合）減少させることを目的とする。別の実施形態において、テクスチャ基板６００は、ガラス、サファイア、スピネル、またはアルミニウム酸窒化物（「ＡｌＯＮ」）を含むことができる。

別の実施形態において、テクスチャ基板６００は、１ｍｍを超える厚さを有していてよく、また、自立していてよく、支持基板、例えば支持基板６１０は、必要とされない場合がある。多くの実施形態において、テクスチャ基板６００は、１ｍｍより大幅に薄く、支持基板６１０が用いられてよい。支持基板６１０の厚さおよび組成は、用途に基づいて決定され得る。作製される透明複合体が、窓に適用されるフィルムであるとき、支持基板６１０は、可撓性であってよい。一実施形態において、支持基板６１０は、少なくとも１１μｍ、少なくとも１７μｍ、または少なくとも２５μｍの厚さを有することができ、また、別の実施形態において、支持基板６１０の厚さは、９００μｍ以下、６００μｍ以下、または３００μｍ以下であってよい。支持基板６１０は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば１１μｍ〜９００μｍ、１７μｍ〜６００μｍ、または２５μｍ〜３００μｍの厚さを有することができる。支持基板６１０は、テクスチャ基板６００に関して先に記載されている任意の材料を含むことができる。実施形態において、支持基板６１０は、テクスチャ基板６００とは異なる組成を有する。例えば、支持基板６１０は、ＰＥＴを含む。

テクスチャ基板６００は、底面６２４、および主面６０２と底面６２４との間の側壁を有するトレンチ６２０を画定する。図６に示されている実施形態において、底面６２４は、主面６０２と実質的に平行であり、側壁６２２は、図６に示すアルファ（α）によって記されている側壁角を有する。側壁角は、理想的には９０°である；しかし、側壁角は、９０°でなければならないことはない。側壁角は、少なくとも５０°、少なくとも８０°、少なくとも８５°、少なくとも８８°、または少なくとも８９°であってよい。側壁角は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば５０°〜９０°、８０°〜９０°、８５°〜９０°、８８°〜９０°、または８９°〜９０°であってよい。ソーラーコントロール層が側壁上に形成されない、または堆積されるときには比較的薄くあるべき用途において、側壁角は、少なくとも８５°であってよく、側壁角は、８５°〜９０°の範囲である。ヘイズが低減されるべきである特定の実施形態において、側壁角は、９０°に近い、例えば８８°〜９０°の範囲であってよい。示されていないが、トレンチ６２０のコーナーは、主面６０２または底面６２４付近で丸くなっていてよい。

トレンチ６２０は、底面６２４の高度に対する主面６０２に相当する高度から測定される深さを有する。トレンチ６２０の深さは、続いて形成されるソーラーコントロール層の厚さを大幅に超えていてよく、その結果、ソーラーコントロール層の個々の離間された部分が、主面６０２および底面６２４の上に置かれることとなるか、側壁６２２に沿ったソーラーコントロール層の厚さが、主面６０２または底面６２４の上に置かれているソーラーコントロール層の部分よりも実質的に薄くなる。トレンチ６２０は、テクスチャ基板６００の厚さを完全に通ってまたはその一部のみを通って延在していてよい。別の実施形態において、トレンチ６２０は、テクスチャ基板６２０の実質的に全てを通って延在していてよい。実施形態において、トレンチ６２０は、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも３００ｎｍ、または少なくとも１０００ｎｍの深さを有し、また、別の実施形態において、深さは、１０μｍ以下、４μｍ以下、または１μｍ以下である。トレンチの深さは、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば５０ｎｍ〜１０μｍ、３００ｎｍ〜４μｍであってよい。

トレンチ６２０の幅は、続いて形成されるソーラーコントロール層の有効シート抵抗を制御するように用いられてよい。ソーラーコントロール層のシート抵抗は、大きな面積を有する平面に沿って２０Ω／□であってよい。該層の幅が９０％低減されると、有効シート抵抗は、２００Ω／□となる。このように、上部から見て、ソーラーコントロール層が形成されている全表面積に対するトレンチ６２０内の面積の割合は、有効シート抵抗を、ソーラーコントロール層の特定の組成に所要または所望される値に調整するのに用いられ得る。実施形態において、上部から見て、テクスチャ基板の表面積に対するトレンチ６２０の底面６２４に沿った面積の割合は、５０％以下、１％以下、または０．０１％以下であり、また、別の実施形態において、該割合は、少なくとも１×１０^−５％、少なくとも１×１０^−４％、または少なくとも１×１０^−３％である。テクスチャ基板の表面積に対するトレンチ６２０の底面６２４に沿った面積の割合は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば１×１０^−５％〜５０％、１×１０^−４％〜１％、または１×１０^−３％〜．０１％であってよい。

別の実施形態において、ソーラーコントロール層の異なる部分は、窓を支持するフレームまたは別の構造部材の導電性部分と接触しない。この実施形態において、ソーラーコントロール層のシート抵抗は、有意な問題とはなり得ない。

実施形態において、トレンチの幅は、トレンチに沿って中点で測定され、９０μｍ以下、７０μｍ以下、または５０μｍ以下、または３０μｍ以下、９μｍ以下、５μｍ以下であり、また、別の実施形態において、該幅は、少なくとも０．１１μｍ、少なくとも１．１μｍ、少なくとも２μｍ、少なくとも３μｍ、少なくとも４μｍ、少なくとも５μｍ、または少なくとも１１μｍである。該幅は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．１１μｍ〜９０μｍ、１．１μｍ〜７０μｍ、少なくとも５μｍ〜５０μｍ、または２μｍ〜３０μｍ、または３μｍ〜９μｍであってよい。

図７は、加工の際のこの点における斜視図を含む。図６および７における図示は、例示的な実施形態を単に示すためだけのものであり、スケール通りに描かれていないことに注意されたい。図７を参照すると、トレンチ６２０の底面６２４は、テクスチャ基板６００の下方露出面に相当する。そのため、特定の実施形態においては、単一のトレンチのみが画定されており、テクスチャ基板６００の下方露出面の上方のテクスチャ基板の部分は、図６において主面６０２に相当する上面を含むメサである。図７に示されている実施形態は、特徴（メサの幅）および空間（トレンチの幅）の合計であるピッチ７００を有する。実施形態において、ピッチ７００は、少なくとも０．１１μｍ、少なくとも０．５μｍ、または少なくとも１．１μｍまたは少なくとも５μｍ、少なくとも１．１ｍｍ、少なくとも２ｍｍであり、また、別の実施形態において、ピッチ７００は、９ｃｍ以下、９ｍｍ以下、５ｍｍ以下、４ｍｍ以下、または９００μｍ以下である。ピッチ７００は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．１１μｍ〜９ｃｍ、０．５μｍ〜９ｍｍ、１．１μｍ〜５ｍｍ、または２ｍｍ〜４ｍｍであってよい。

テクスチャ基板は、多くの異なる方法で形成され得、部分的には、テクスチャ基板の材料およびテクスチャ基板のパターンに左右され得る。実施形態において、テクスチャ基板は、ポリマーを含むことができ、金型またはダイを用いて形成され得る。特定の実施形態において、テクスチャ基板６００は、ポリマー層を硬化させつつ、ポリマー層を支持基板６１０上にコーティングし、また、表面を金型によってエンボス加工して形成され得る。硬化は、放射、例えば紫外線放射によって、または熱によって（すなわち、熱硬化）実施され得る。別の実施形態において、金型は、支持基板６１０の上に設置されてよく、テクスチャ基板は、支持基板６１０の上に射出成形されてよい。さらなる実施形態において、ポリマーの層は、支持基板６１０の上にあるときまたは支持基板６１０から分離されているとき、テクスチャ基板６００内に形成およびトランスファー成形されてよい。テクスチャ基板６００は、メサおよびメサ間の相互接続したトレンチを有する。

図８に示されている別の実施形態において、テクスチャ基板７２０は、自身が押し出されて、または支持基板６１０と共に押し出されて、部分的に完成されたワークピースを形成することができる。この実施形態において、ダイは、テクスチャ基板７２０の形状に相当する形状を有することができ、離間された（相互接続されていない）トレンチ７２２および７２４は、テクスチャ基板７２０が押し出された方向に延在することができる。さらなる実施形態において、市松模様が、図９に示されているように形成されていてよく、図９は、メサ８１２および窪み８２２を含む市松模様を有するテクスチャ基板８００を含む部分的に完成されたワークピースの一部の上面図を含む。テクスチャ基板８００のパターンは、テクスチャ基板６００を形成するのに用いられる任意の技術を用いて形成され得る。

ポリマーまたは別の材料、例えば無機材料を含むテクスチャ基板を形成するのに、他の技術が用いられてよい。実施形態において、初期基板は、略平面状の面を有し、初期基板の一部が除去されてテクスチャ基板を形成する。該除去は、レーザーもしくはイオンビームを用いて実施されてよく、またはマスクおよびエッチング技術を用いて実施されてよい。別の実施形態において、テクスチャ基板は、減法（すなわち、材料を除去する）プロセスよりもむしろ追加法（すなわち、材料を添加する）を用いて形成され得る。実施形態において、初期基板は、初期基板の上に選択的に形成されてテクスチャ基板を形成する透明材料を有することができる。図７を参照すると、かかるプロセスは、初期基板の上にメサを形成して、テクスチャ基板６１０を形成する。特定の実施形態において、ステンシルマスクは、初期基板の表面の上に設置されてよく、透明材料は、透明材料の形状がメサを形成する際の開口部の形状に相当するようにステンシルマスク内の開口部を通して堆積されてよい。添付の特許請求の範囲から逸脱することなく他の形成技術が用いられてよい。

後に続く処理シーケンスは、図６および７に示されているテクスチャ基板６００および支持基板６１０をベースとする。他のテクスチャ基板、例えば図８および９におけるテクスチャ基板についての処理は、実質的には、図６および７について記載されているように実施され得る。

ソーラーコントロール層は、図１０に示されているように、テクスチャ基板６００の上に形成され得る。ソーラーコントロール層は、主面６０２に沿って置かれている部分８０２、およびトレンチ６２０の底面６２４に沿って置かれている部分８２４を含む。図１０および１１に示されているように、ソーラーコントロール層は、側壁６２２の実質的に全てに沿って置かれておらず、そのため、図１１に示されている実施形態において、側壁６２２の部分が、ソーラーコントロール層の部分８０２および８２４間に露出されている。ソーラーコントロール層は、１つ以上の導電性材料層を含むことができるが、部分８０２は、互いおよび部分８２４から離間されている。このように、部分８０２および８２４は互いに電気接続されていない。主面６０２に垂直な方向で上部から見たとき、部分８０２は、部分８２４の上に置かれていない。別の実施形態において、部分８０２のほんの僅かだけ、例えば５％未満が、部分８２４の上に置かれている。

ソーラーコントロール層は、垂直面、例えばトレンチ６２０の側壁６２２と比較して、水平面、例えば、トレンチ６２０の主面６０２および底面６２４に沿って、ソーラーコントロール層をより容易に形成する技術を用いて形成され得る。ソーラーコントロール層は、テクスチャ基板６２０の上に非等角的に堆積され得る。実施形態において、非等角堆積は、物理蒸着または化学蒸着技術を用いて真空下に実施される。特定の実施形態において、非等角堆積は、スパッタリング、イオンビーム堆積、めっき、またはプラズマ化学蒸着を用いて実施される。特定の実施形態において、ソーラーコントロール層は、金属またはセラミック金属酸化物からできている回転可能なまたは板状ターゲットを用いてＤＣマグネトロン、パルスＤＣ、デュアルパルスＤＣ、またはデュアルパルスＡＣスパッタリングによって形成され得る。必要または所望により、コリメータまたは別の同様のデバイスが、側壁６２２に沿ったソーラーコントロール層の堆積の防止または低減を助けるためのスパッタリングのときに用いられ得る。

ソーラーコントロール層は、部分８０２が部分８２４と接触しないような厚さに堆積され得る。該厚さは、トレンチの深さで表されてよく、該厚さは、（近接効果を低減するために）側壁６２２から離間された主面６０２の上で測定される。実施形態において、ソーラーコントロール層は、主面６０２および底面６２４間の高度差の８０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、または９％以下である厚さを有する。別の実施形態において、ソーラーコントロール層は、主面６０２および底面６２４間の高度差の少なくとも０．０２％、少なくとも０．０５％、少なくとも０．２％、少なくとも０．５％、少なくとも２％、少なくとも１１％、または少なくとも２０％である厚さを有する。主面６０２および底面６２４間の高度差の割合は、主面６０２および底面６２４間の高度差の上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．０２％〜８０％、０．０５％〜３０％、または０．２％〜９％であってよい。代替的には、ソーラーコントロール層の厚さは、相対基準よりもむしろ測定の単位で表され得る。実施形態において、ソーラーコントロール層は、１５００ｎｍ以下、４００ｎｍ以下、１６０ｎｍ以下、１００ｎｍ以下である厚さを有し、また、別の実施形態において、ソーラーコントロール層は、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２０ｎｍ、少なくとも４０ｎｍ、または少なくとも２００ｎｍである厚さを有する。厚さは、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば１０ｎｍ〜１５００ｎｍ、２０ｎｍ〜４００ｎｍ、４０ｎｍ〜１６０ｎｍ、または５０ｎｍ〜１００ｎｍであってよい。

ソーラーコントロール層内の層の数、層の組成および厚さは、相当量の近ＩＲ放射を減衰させながらも、可視光の実質的透過を可能にするように選択される。ソーラーコントロール層内の層は、銀ベース層、金属ベース層（銀ベース層以外）、金属酸化物層、金属窒化物層を含むことができ、バリア層をさらに含んでいてよい。上記に記載されている任意の１以上の銀ベース層が銀を含有していてよく、特定の実施形態において、銀から本質的になることができる。本明細書において用いられるとき、句「銀から本質的になる」は、少なくとも９５原子％の銀を含有する銀ベース層に関する。他の実施形態において、１以上の銀ベース層は、３０原子％以下、２０原子％以下、またはさらには１０原子％以下の別の金属、例えば、金、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、インジウム、亜鉛、またはこれらの任意の組み合わせを有していてよい。本明細書に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、金属から本質的になることができる。本明細書において用いられるとき、句「金属から本質的になる」は、少なくとも９５原子％の上記金属に関する。

任意の１以上の銀ベース層は、少なくとも０．１ｎｍ、少なくとも０．５ｎｍ、またはさらには少なくとも１ｎｍの厚さを有することができる。さらに、任意の１以上の銀ベース層は、約１００ｎｍ以下、５０ｎｍ以下、２５ｎｍ以下、またはさらには２０ｎｍ以下の厚さを有していてよい。さらに、任意の１以上の銀ベース層は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．５ｎｍ〜約２５ｎｍ、またはさらには１ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有することができる。

実施形態において、本明細書に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、本質的に純粋な金属、または他の実施形態において、金属合金を含有することができる。他の実施形態において、任意の１以上の金属ベース層は、例えば、金属ベース層の合計重量を基準にして少なくとも７０原子％の濃度の主たる金属、および３０原子％未満の濃度の副次金属を含有する金属合金を含有することができる。本明細書に記載されている任意のもう１つの金属ベース層は、金、チタン、アルミニウム、白金、パラジウム、銅、インジウム、亜鉛またはこれらの組み合わせを含めた金属を含有することができる。特定の実施形態において、本明細書に記載されている任意のもう１つの金属ベース層は、金を含有することができる。他の特定の実施形態において、金属ベース層は、金を本質的に含まなくてよい。本明細書において用いられるとき、句「金を本質的に含まない」は、５原子％未満の金を含有する金属ベース層に関する。

上記に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、該金属ベース層が実質的に透明であることを可能にし、かつ銀ベース層に十分な保護を付与するような厚さを有することができる。特定の実施形態において、上記に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、少なくとも０．１ｎｍ、少なくとも０．５ｎｍ、またはさらには少なくとも１ｎｍの厚さを有することができる。さらに、上記に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、１００ｎｍ以下、５５ｎｍ以下、５ｎｍ以下、またはさらには約２ｎｍ以下の厚さを有してよい。

上記に記載されている任意の１以上の金属ベース層は、同じ厚さを有しても異なる厚さを有してもよい。特定の実施形態において、１以上の金属ベース層は、それぞれ、実質的に同じ厚さを有する。本明細書において用いられるとき、「実質的に同じ厚さ」は、互いの１０％以内である厚さを称する。金属酸化物ベース層は、銀ベース層と対向する金属ベース層の主面と隣接して、またはさらには直接接触して設けられ得る。

上記で議論されている任意の１以上の金属酸化物層は、金属酸化物、例えば、酸化チタン（例えば、ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム、ＢｉＯ_２、ＰｂＯ、ＮｂＯ、ＳｎＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、またはこれらの任意の組み合わせを含有することができる。特定の実施形態において、金属酸化物層は、酸化チタンまたは酸化アルミニウムを含有し得、さらには、これらから実質的に構成され得る。金属酸化物層は、少なくとも約０．５ｎｍ、少なくとも１ｎｍ、または少なくとも２ｎｍの厚さを有することができ、また、別の実施形態において、１００ｎｍ以下、５０ｎｍ以下、２０ｎｍ以下、またはさらには１０ｎｍ以下の厚さを有していてよい。さらに、上記で議論されている任意の１以上の金属酸化物層は、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．５ｎｍ〜１００ｎｍ、またはさらには２ｎｍ〜５０ｎｍの厚さを有することができる。

図１２は、トレンチ充填材料１００２がトレンチ６２０の残部に充填された後の図示を含む。図１２に示されている実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、ソーラーコントロール層の部分８０２の上にも置かれている。部分８０２の上のトレンチ充填材料１００２の厚さは、少なくとも０．２μｍ、少なくとも０．５μｍ、少なくとも０．８μｍまたは少なくとも１．１μｍであってよく、また、別の実施形態において、該厚さは、７μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、または３μｍ以下である。該厚さは、上記に記載されている最大および最小値のいずれかの範囲、例えば０．２μｍ〜７μｍ、０．５μｍ〜５μｍ、０．８μｍ〜４μｍ、または１．１μｍ〜３μｍであってよい。別の実施形態において、トレンチ充填材料１００２が部分８０２の上に実質的に置かれていない。かかる実施形態において、トレンチ充填材料１００２の上面は、トレンチ６２０付近の部分８０２の主面６０２および上面の高度の間の高度であってよい。ヘイズが関心事である実施形態において、例えば、図１２に示すように、トレンチ充填材料１００２は、トレンチ６２０を充填し、部分８０２の上に置かれて、トレンチ６２０内またはその直上方の材料の界面の数を低減することができる。

特定の実施形態において、ヘイズは、テクスチャ基板６００およびトレンチ充填材料１００２の屈折率が同じであるときさらに低減され得る。トレンチ充填材料１００２の厚さが３００ｎｍ未満であると、テクスチャ基板６００と続いて形成される透明な耐候性層との間の屈折率が同じであり得る。トレンチの底部６２４（図６）と支持基板６１０との距離が３００ｎｍ未満であると、支持基板６１０およびトレンチ充填材料１００２の屈折率が同じであり得る。

トレンチ充填材料１００２は、テクスチャ基板６００に関して先に記載されているように任意の材料を含んでいてよい。実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、接着剤、例えば積層接着剤または圧感接着剤を含む。実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、ポリエステル、アクリレート、ポリ酢酸ビニル（「ＰＶＡｃ」）、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール（「ＰＶＡ」）、シリコーンゴム、別の好適な接着剤、またはこれらの任意の混合物を含むことができる。別の実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、接着剤ではない。かかる実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、ナノ粒子、例えば、シリカ、ＴｉＯ_２、ＩＴＯ、ＳｂドープトＳｎＯ_２を含むことができる。ナノ粒子は、トレンチ充填材料１００２の屈折率をテクスチャ基板６００の材料の屈折率まで増加させ（ＩＴＯ、ＳｂドープトＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２の場合）または減少させ（シリカの場合）て、ヘイズを低減することを目的とする。かかる実施形態において、トレンチ充填材料１００２は、コーティングかつ硬化されていてよい。この特定の実施形態は、別個の接着層によってトレンチ充填材料１００２を後に付着される層、例えば耐候性層に接着させることを必要とし得る。

テクスチャ基板６００およびトレンチ充填材料１００２の材料の選択は、特定の性質を達成するように実施されてよい。例えば、ヘイズが関心事であることがあり、ヘイズを低減するために、テクスチャ基板６００およびトレンチ充填材料１００２の材料の屈折率は、互いの０．０３以内、互いの０．０２以内、または互いの０．０１以内であってよい。屈折率は、５８９ｎｍの光（黄色光）を放出する放射源によって２０℃で決定される。屈折率が異なるとき、テクスチャ基板６００の材料の屈折率は、トレンチ充填材料１００２よりも高くてよく、その逆もまた然りである。特定の実施形態において、テクスチャ基板６００は、約１．４９の屈折率を有するアクリレートを含むことができ、トレンチ充填材料１００２は、約１．４７の屈折率を有するＰＶＡｃを含むことができる。別の特定の実施形態において、テクスチャ基板６００は、約１．５４の屈折率を有するガラス（ＳｉＯ_２）を含むことができ、トレンチ充填材料１００２は、約１．５３の屈折率を有するＰＶＡを含むことができる。そのため、当業者は、本明細書を読んだ後、テクスチャ基板６００の材料およびトレンチ充填材料１００２の適合するペアを決定して、比較的低いヘイズを達成することができる。

図１３は、（図示されていない）窓に適用されるように設計された透明フィルムであってよい、実質的に完成された透明複合体１１００の図示を含む。ハードコート層１１１０は、テクスチャ基板６００に対向する面において支持基板６１０に沿って置かれている。ハードコート層１１１０は、摩耗耐性の改善を付与することができ、その結果、支持層６１０が擦られにくくなる。ハードコート層１１００は、架橋アクリレート、アクリレート含有ナノ粒子、例えばＳｉＯ_２またはＡｌ_２Ｏ_３、またはこれらの任意の組み合わせを含むことができる。ハードコート層１１１０は、１μｍ〜５μｍの範囲の厚さを有することができる。

透明複合体１１００は、トレンチ充填材料１００２の上に透明な耐候性層１１０２をさらに含むことができる。透明な耐候性層１１０２は、ソーラーコントロール層の保護を助ける。透明な耐候性層１１０２は、高透過率の可視層を有し、日光への長期の暴露にわたって黄変またはクラッキングに対して比較的耐性がある。透明な耐候性層１００２は、支持基板６１０に関して先に記載されている任意の材料を含むことができる。透明な耐候性層１１０２は、１０μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有することができる。トレンチ充填材料１００２が積層接着剤または圧感接着剤であるとき、透明な耐候性層１１０２は、トレンチ充填材料１００２に適用されてよい。トレンチ充填材料１００２が、接着剤でないとき、透明な耐候性層１１０２をトレンチ充填材料１００２に接着させるのに、接着剤、例えば圧感接着剤が用いられてよい。

接着層１１０４は、透明な耐候性層１１０２と剥離層１１０６との間に設けられる。接着層１１０４は、トレンチ充填材料１００２が接着剤であるとき、トレンチ充填材料１００２に関して先に記載されている任意の接着剤材料および厚さを含むことができる。別の実施形態において、接着層１１０４は、透明であってかつ接着層１１０４の特定の厚さについて可視光に対して少なくとも８５％の透明度を有する任意の接着剤を含むことができる。一実施形態において、接着層は、圧感接着剤である。いくつかの場合において、接着層１１０４は、一旦窓に取り付けられたら、日光が横断する透明複合体内の第１層となる。かかる場合、耐ＵＶ層は、接着層１１０４、例えば、アクリレートとして用いられ得る。添加剤、例えばＵＶ吸収剤は、透明複合体１１００全体の耐久性を増加させるために添加され得る。剥離ライナー１１０６は、透明複合体１１００の輸送および取り扱いの際に接着層１１０４を保護する。剥離ライナー１１０６は、透明複合体１１００が窓に適用される前に除去される。そのため、剥離ライナー１１０６の透過性は重要ではなく；剥離ライナー１１０６は、可視光に対して不透明であっても、半透明であってもよい。そのため、剥離層１１０６の組成および厚さは、厳密ではない。透明複合体１１００がロールとして保存される特定の実施形態において、剥離ライナー１１０６の厚さは、透明複合体１１００を可撓性にするように選択される。別の実施形態において、剥離ライナー１１０６が用いられない。例えば、透明複合体１１００は、透明複合体１１００が製造された後すぐに窓上に取り付けられてもよい。接着層１１０４が適用された後、透明複合体１１００が窓上に取り付けられる。

異なる実施形態において、透明複合体は、窓上にまたは窓を用いて製造され得る。特定の実施形態において、支持基板６１０およびハードコート層６１０は、窓によって置き換えられてよい。窓は、ガラス、サファイア、スピネル、ＡｌＯＮ、または上記の任意の複合体、例えば透明の防衛手段を含むことができる。テクスチャ基板６００は、窓の表面に形成または適用され得る。ソーラーコントロール層は、先に記載されているように形成され得る。先に記載されているトレンチ充填材料１００２および透明な耐候性層１１０４が用いられてよい。この実施形態において、透明な耐候性層１１０４は、最大１０００μｍの厚さを有していてよい。次いで、ハードコート層が透明な耐候性層１１０４上に形成され、ハードコート層は、ハードコート層１１１０に関して先に記載されている組成および厚さを有する。

別の異なる実施形態において、窓は、テクスチャ基板６００を取り換えてよい。この実施形態において、窓の表面は、マスキング層によって覆われていてよく、窓の部分は、エッチングまたは他の場合には除去されて、テクスチャ基板６００に関して先に記載されているメサおよびトレンチを有する表面を形成することができる。マスクを除去した後、ソーラーコントロール層、透明な耐候性層、およびハードコート層の製造は、先の実施形態に記載されているのと実質的に同じである。さらなる実施形態において、窓は、ステンシルマスクを用い、透明材料を窓上に選択的に堆積してテクスチャ基板を得ることによってテクスチャ化され得る。さらなる実施形態において、テクスチャ基板６００は、ガラスを含むことができる。ソーラーコントロール層を形成した後、トレンチの残部は、トレンチ充填材料の屈折率をガラス近くまでまたは同程度まで増加させるナノ粒子がドープされているポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を含むトレンチ充填材料によって充填されてよい。

図４を参照すると、特定の実施形態においてソーラーコントロール層を形成するとき、側壁に沿っていくらかの堆積が生じてよい。かかる側壁堆積は、ソーラーコントロール層の側壁部分の耐性が十分に高いことを条件として、問題にはならない。本明細書において用いられるとき、段差被覆は、側壁に垂直に測定されるとき、任意のトポロジ変化から離間した水平面に沿った層の厚さによって除算された、側壁に沿った層の最小厚さの割合である。図４に示されている実施形態等の実施形態において、段差被覆は５０％以下であってよい。別の実施形態において、段差被覆は、２０％未満、９％未満、５％未満、または０．９％未満であってよい。段差被覆が０％であるとき、層は、側壁に沿って不連続である。このように、図２は、段差被覆が０％である実施形態を示す。

９０°の側壁角はいずれの側壁堆積も有さないはずであるが、いくらかのソーラーコントロール層は、側壁角が９０°であるときでも側壁上に堆積されることになり得る。ソーラーコントロール層の不連続性が要求または所望されるとき、トレンチの形状は、トレンチの上部におけるトレンチの幅がトレンチの上部から離間した箇所でのトレンチの幅より小さくなるように変化してよい。図１４を参照すると、テクスチャ基板１２００は、主面１２０２および１２０４、ならびに蟻継ぎ形状を有するトレンチ１２２０を有する。トレンチ１２２０は、鈍角である側壁角アルファ（α）を有する側壁１２２２を有する。側壁角は、９０°〜１２０°の範囲であってよい。テクスチャ基板６００は、蟻継ぎ形状のトレンチ１２２０に相当するパターンを含むダイを有する押出によって形成され得る。

別の実施形態において、アンダーカット部分を有するトレンチが形成されていてよい。図１５を参照すると、本体層１３００およびキャップ層１３１０が支持基板６１０の上に形成されている。特定の実施形態において、支持基板６１０は窓であってよく、本体層１３００は、ドープガラスを含むことができ、キャップ層１３１０は、非ドープガラス層を含むことができる。マスキング層１３４０は、キャップ層１３１０の上に形成され、パターン形成されて、トレンチ１３２０が形成される箇所に相当する開口部を形成することができる。キャップ層１３１０および本体層１３００は、異方的にエッチングされて、実質的に垂直な側壁を有するトレンチ１３２０を形成することができる。ワークピースは、図１６に示されているように、キャップ層１４１０よりも迅速に本体層１４００をエッチングする等方性エッチャントに暴露されてよい。特定の実施形態において、本体層１３００は、リンドープガラスであってよく、エッチャントは、リンドープガラスがＨＦ酸溶液に暴露されたときに非ドープガラスよりも迅速にエッチングするため、ＨＦ酸溶液であってよい。そのため、本体層１４００内のトレンチ１４２０の幅１４４０は、キャップ層１４１０内のトレンチ１４２０の幅１４１０よりも広い。マスキング層１３４０は、ＨＦ酸溶液への暴露の前後に除去されてよい。

図１７および１８は、エンボス加工技術を用いて形成されたテクスチャ基板、およびテクスチャ基板の上に非等角的に堆積された金属層の走査電子顕微鏡画像を含む。トレンチは、２．２μｍ〜２．４μｍの幅および５μｍ未満の深さを有する。トレンチの深さは、３．５〜４．５μｍの範囲であってよい。他の実施形態において、幅および深さの値は、異なっていてよい。

図１４および１６〜１８において記載され示されている各実施形態について、ソーラーコントロール層およびトレンチ充填材料１００２は、先に記載されているように形成されている。ソーラーコントロール層は、トレンチの形状に起因して不連続部分を有する。特に、トレンチは、テクスチャ基板の上面におけるものと比較して、上面から離間する点において、より幅広い。図１４において、底部におけるトレンチの幅は、トレンチの上部および底部間の途中の高度におけるものと同じである。図１６において、トレンチは、トレンチの上部および底部間の途中の高度におけるものと比較して、トレンチの底部において、より幅広い。図１８において、トレンチは、（テクスチャ基板の上面に垂直な）トレンチ内に垂直に延在する中心線から外側に湾曲しており、その結果、幅が、トレンチの上部および底部間の高度において最大となっている。図１４、１６、および１８におけるトレンチの任意のプロファイルは、ソーラーコントロール層がトレンチの壁に沿って不連続であるようにソーラーコントロール層を形成するのに有用であり得る。

図１４〜１８に記載され示されている実施形態には、別のガラスシートが付着されてよい。ＰＶＢ層がガラス層に適用されてよく、ガラス層およびテクスチャ基板が、ソーラーコントロール層と共に、一緒にプレスされる。ＰＶＢ層は、ＰＶＢの屈折率をガラス層とより良好に適合させるためにナノ粒子を含んでいてよい。

本明細書に記載されている実施形態は、他の構造およびプロセスに優る利点を有する。表面に垂直な方向で見たとき、ソーラーコントロール層の被覆において横方向のギャップがない。例えば特開第２００５−１０４７９３号に開示されている従来の窓フィルムは、ソーラーコントロール層を堆積した後に、ソーラーコントロール層の部分を互いから電気的に切断するために、ソーラーコントロール層を破壊して分割片にするように該層を粉砕し、または他の場合には破壊もしくは破砕する場合がある。他の従来の窓フィルムは、ナノ粒子を含むフィルムを含み得る。さらに他の従来の窓フィルムは、レーザーアブレーションまたは他の除去技術によって除去されたソーラーコントロール層の部分を有し得る。ソーラーコントロール層の部分（分割片、ナノ粒子、またはレーザーアブレーションされたソーラーコントロール層）間の横方向のギャップは、相当な近ＩＲ放射が従来の窓フィルムを通過することを可能にする場合がある。

別の実施形態において、テクスチャ基板内のトレンチの幅およびアスペクト比（深さ対幅の比）は、トレンチの底面に沿ってソーラーコントロール層が形成されないように、またはソーラーコントロール層の厚さがほとんどないようにされる。特定の実施形態において、テクスチャ基板は、ターゲットに対してある速度で移動することができ、その結果、ソーラーコントロール層が、トレンチの底面に沿ってほとんどまたは全く形成されないようにする。さらなる実施形態において、ワークピースは、ターゲットに対して傾斜されていてよく、その結果、スパッタリングされた材料が、テクスチャ基板の主面に直交しない角度で堆積されることとなる。別の特定の実施形態において、トレンチの幅は、５μｍ未満、４μｍ未満、３μｍ未満、１．５μｍ未満、１μｍ未満、または０．５μｍ未満であってよく、さらなる特定の実施形態において、アスペクト比は、少なくとも１：１、少なくとも１．５：１、少なくとも２：１、少なくとも４：１または少なくとも８：１である。トレンチの中心内で測定したとき、トレンチの底部に沿った厚さは、隣接するメサの上のソーラーコントロール層の厚さの７０％、５０％、３０％、または９％以下である。

上記に記載されているように、新規の透明複合体は、ソーラーコントロール層が上に形成されているテクスチャ基板を含む。ソーラーコントロール層は、形成されるとき、互いに離間して電気的に切断されている部分を含むか、または、かかる部分が、高周波信号の減衰が許容可能に低くなるように十分に高い有効シート抵抗を有する。そのため、本明細書に記載されている実施形態による透明複合体は、ソーラーコントロール層の部分間に横方向のギャップを有さないため、近ＩＲ放射の透過を低減するのに好適である。したがって、本明細書に記載されている実施形態は、少なくとも１．０５、少なくとも１．３、少なくとも１．４、少なくとも１．５、または少なくとも１．６のＬＴＳＨＧＣ、および１．８ＧＨｚ、４ＧＨｚ、６ＧＨｚ、またはこれらの間の任意の周波数、例えば４．５ＧＨｚにおける電磁放射について１０ｄＢ以下、８ｄＢ以下、または７ｄＢ以下、５ｄＢ以下、３ｄＢ以下、または１ｄＢ以下の減衰を達成することが可能であり得る。そのため、近ＩＲ放射の低い透過を維持しながら、良好な可視光透過および高い周波数を達成することができる。一実施形態において、ＶＬＴは、７０％超であり、ＳＨＧＣは、４７％未満であり、１．８ＧＨｚにおける電磁放射の減衰は、１０ｄＢ以下、または７ｄＢ以下、５ｄＢ以下、３ｄＢ以下、または１ｄＢ以下である。一実施形態において、ＶＬＴは、７３％超であり、ＳＨＧＣは、６９％未満であり、１．８ＧＨｚにおける電磁放射の減衰は、１０ｄＢ以下、または７ｄＢ以下、５ｄＢ以下、３ｄＢ以下、または１ｄＢ以下である。本明細書に記載されている透明複合体を形成するプロセスは、パターン形成されたソーラーコントロール層を複数層形成することを含まず、したがって、必要とされる処理操作がより少ない。さらに、上部から見て、メサのサイズおよびトレンチの幅は、透明複合体が（拡大しなくても）ヒトの眼に均一な外観を有するように選択され得る。そのため、透明複合体の列もしくは行または僅かに明るいもしくは暗い部分は形成されない。

透明複合体のヘイズは、全ての水平界面を互いに平行にし、（水平界面に対して測定したとき）９０°に近い垂直界面を保ち、かかる垂直界面で、垂直界面の対向する側で材料の屈折率を適合させることによって低く保たれ得る。それゆえ、図１２に示されている実施形態は、低いヘイズを達成するのに好適である。僅かに高いヘイズが許容されるとき、界面は、例えば図１４の実施形態に示されるように垂直である必要はなく、垂直界面に沿った材料の屈折率は、さほど密に適合される必要はなく（垂直界面に沿った材料の屈折率間の差で０．０３超）、またはこれらの任意の組み合わせである。そのため、界面の配向および材料の選択は、透明複合体が用いられる具体的な用途に影響され得る。

多くの異なる態様および実施形態が可能である。これらの態様および実施形態のいくつかは、本明細書に記載されている。当業者は、本明細書を読んだ後、これらの態様および実施形態が単に説明目的のものであり、本発明の範囲を限定しないことを認識する。実施形態は、以下に列挙されている項目のいずれか１つ以上によるものであってよい。

項１．第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板と；
第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、第１部分が第１面の上に置かれており、第２部分がトレンチの第２面の上に置かれており、第２部分が、トレンチの側壁によって第１部分から分離されている、ソーラーコントロール層と；
トレンチ内に延在して上に置かれており、ソーラーコントロール層の第２部分の上に置かれているトレンチ充填材料と、
を含む透明複合体であって、
透明複合体が５％以下のヘイズを有する、透明複合体。

項２．第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板であって、第１屈折率を有するテクスチャ基板と；
第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、第１部分が第１面の上に置かれており、第２部分が第２面の上に置かれている、ソーラーコントロール層と；
トレンチ内にあり、ソーラーコントロール層の第２部分の上に置かれているトレンチ充填材料であって、第２屈折率を有するトレンチ充填材料と
を含む透明複合体。

項３．第１面、第２面、および側壁を有するテクスチャ基板であって：
側壁が、第１面から第２面に向かって延在し、トレンチが、第１面におけるものと比較して、第１面から離間する点においてより幅広く；
第１面が、第２面と比較して異なる高度で置かれており、テクスチャ基板の少なくとも側壁によって第２面から離間されている、テクスチャ基板と；
第１部分、およびテクスチャ基板の側壁によって第１部分から分離されている第２部分を有するソーラーコントロール層と
を含む透明複合体。

項４．第１面、第２面、および側壁を有するテクスチャ基板であって：
側壁が、第１面から第２面に向かって延在し、少なくとも５０°である対応する側壁角度を有し；
第１面が、第２面と比較して異なる高度で置かれており、テクスチャ基板の少なくとも側壁によって第２面から離間されている、テクスチャ基板と；
第１部分、およびテクスチャ基板の側壁によって第１部分から分離されている第２部分を有するソーラーコントロール層と
を含む透明複合体。

項５．第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板と；
第１面の上に第１厚さを有する第１部分、および第２面の上に第２厚さを有する第２部分を有するソーラーコントロール層であって、トレンチの中心で測定したとき、第２厚さが第１厚さの７０％以下である、ソーラーコントロール層と
を含む透明複合体。

項６．第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板であって、トレンチが、４μｍ以下の幅、および１：１超の深さ：幅のアスペクト比を有する、テクスチャ基板と；
第１面の上に第１厚さを有する第１部分を有するソーラーコントロール層であって、トレンチ内の第２面に沿って実質的に置かれていないソーラーコントロール層と
を含み、
第１屈折率が、第２屈折率の０．０３以内である、透明複合体。

項７．第１面および第２面を有するテクスチャ基板であって、第２面が互いに離間しており、第１面と比較して異なる高度で置かれている、テクスチャ基板と；
第１面の上に置かれている連続層を含むソーラーコントロール層であって、ソーラーコントロール層の部分が第２面の上に置かれており、連続層が、少なくとも１００Ω／□の有効シート抵抗を有する、ソーラーコントロール層と
を含む透明複合体。

項８．テクスチャ基板であって、第１面を有し、かつ、第１面から、トレンチの底部に沿って置かれているテクスチャ基板の第２面に向かって延在するトレンチを画定しており、トレンチが、第１面に近位の高度で第１幅、第１面から遠位の高度で第２幅を有し、第２幅が第１幅より大きい、テクスチャ基板と；
第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、上部から見て、第１部分が第１面の上に置かれており、第２部分が第２面の上に置かれている、ソーラーコントロール層と
を含む透明複合体。

項９．第１面、側壁、および第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、側壁が第１面から第２面に向かって延在している、テクスチャ基板と；
第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、第１部分が第１面の上に置かれており、第２部分が第２面の上に置かれている、ソーラーコントロール層と
を含む透明複合体であって、
１．０５超の光対日射熱取得係数（ＬＴＳＨＧＣ）を有し；
１．８ＧＨｚの周波数で７ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させ、または、４．５ＧＨｚの周波数で１５ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させる、透明複合体。

項１０．第１面、側壁、および第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、側壁が第１面から第２面に向かって延在している、テクスチャ基板と；
第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、第１部分が第１面の上に置かれており、第２部分が第２面の上に置かれている、ソーラーコントロール層と
を含む透明複合体であって、
金属薄膜を含むソーラーコントロール層を有し：
１．８ＧＨｚの周波数で７ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させ、または、４．５ＧＨｚの周波数で１５ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させる、透明複合体。

項１１．透明複合体を形成する方法であって：
第１面、側壁、および第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、側壁が第１面から第２面に向かって延在している、テクスチャ基板を付与することと；
テクスチャ基板の上にソーラーコントロール層を非等角的に堆積することであって、側壁に沿った点における段階被覆が５０％以下である、上記堆積することと
を含む方法。

項１２．ソーラーコントロール層が、第１面の上に置かれている第１部分、および第２面の上に置かれている第２部分を有する、項１１に記載の方法。

項１３．非等角的に堆積することが、物理蒸着または化学蒸着技術を用いて真空下に実施される、項１１または１２に記載の方法。

項１４．非等角的に堆積することが、スパッタリング、イオンビーム堆積、めっき、またはプラズマ化学蒸着を用いて実施される、項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。

項１５．側壁に沿って置かれているソーラーコントロール層の一部を除去することをさらに含み、ソーラーコントロール層の一部を除去した後、ソーラーコントロール層の第１および第２部分が互いから切断される、項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。

項１６．テクスチャ基板を付与することが、テクスチャ基板に対応する金型またはダイを用いることを含む、項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。

項１７．テクスチャ基板を付与することが、ダイを用いてポリマーを押し出すことを含む、項１６に記載の方法。

項１８．基板を付与することが、金型を用いてポリマーを射出成形することを含む、項１６に記載の方法。

項１９．基板を付与することが、金型を用いてポリマーをトランスファー成形することを含む、項１６に記載の方法。

項２０．基板を付与することが：
下層基板をコーティングすることと；
該層をダイでエンボス加工することと；
エンボス加工の際に該層を硬化することと
を含む、項１６に記載の方法。

項２１．テクスチャ基板を付与することが：
略平面状の第１面を有する初期基板を付与することと；
初期基板の一部を除去してテクスチャ基板を形成することと
を含む、項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。

項２２．テクスチャ基板を付与することが：
略平面状の第１面を有する初期基板を付与することと；
初期基板の第１面の上に透明材料を選択的に形成してテクスチャ基板を形成することと
を含む、項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。

項２３．選択的に堆積することが：
ステンシルマスクを初期基板の第１面の上に置くことと；
初期基板の第１面における透明材料の形状が開口部の形状に相当するように、ステンシルマスクにおける開口部を通して透明材料を堆積することと
を含む、項２２に記載の方法。

項２４．テクスチャ基板を形成することが：
支持基板の上に第１層を形成することと；
第１層の上に第２層を形成することと；
第２層の上にパターン形成されたマスキング層を形成することと；
第２層を超えるエッチングレートで第１層をエッチングするエッチャントによって第１層をエッチングすることと
を含む、項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。

項２５．ソーラーコントロール層が第２面に沿って形成されないように、または第２面に沿ったソーラーコントロール層の厚さが、第１面に沿ったソーラーコントロール層の厚さの７０％以下であるように、テクスチャ基板をターゲットに対して移動させることをさらに含む、項１１〜２４のいずれか一項に記載の方法。

項２６．ソーラーコントロール層が第２面に沿って形成されないように、または第２面に沿ったソーラーコントロール層の厚さが、第１面に沿ったソーラーコントロール層の厚さの７０％以下であるように、ターゲットに対してテクスチャ基板にタイルを敷くことをさらに含む、項１１〜２５のいずれか一項に記載の方法。

項２７．側壁が、少なくとも５０°、少なくとも８０°、少なくとも８５°、少なくとも８８°、または少なくとも８９°である対応する側壁角を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項２８．側壁が、５０°〜９０°、８０°〜９０°、８５°〜９０°、８８°〜９０°、または８９°〜９０°の範囲である対応する側壁角を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項２９．側壁が、９０°超の対応する側壁角を有する、項１〜２６のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３０．側壁が、９０．５°〜１２０°の範囲である対応する側壁角を有する、項２９に記載の透明複合体または方法。

項３１．トレンチが、第１面におけるものと比較して、第１面から離間する点においてより幅広い、項１、２、および４〜３０のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３２．断面で見て、トレンチが、トレンチの中心線から外側に湾曲している、項３または３１に記載の透明複合体または方法。

項３３．断面で見て、トレンチが、トレンチの上部と比較してトレンチの底部でより幅広い、項３または３１に記載の透明複合体または方法。

項３４．テクスチャ基板が、第１面から延在するトレンチを画定しており；
ソーラーコントロール層が、第１面の上に第１厚さを有する第１部分、および第２面の上に第２厚さを有する第２部分を有し、トレンチの中心で測定したとき、第２厚さが、第１厚さの７０％以下、５０％以下、３０％以下、または９％以下である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３５．テクスチャ基板が、第１面から延在するトレンチを画定しており；
ソーラーコントロール層が、第１面の上に第１厚さを有する第１部分、および第２面の上に第２厚さを有する第２部分を有し、トレンチの中心で測定したとき、第２厚さが、第１厚さの少なくとも１％である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３６．テクスチャ基板が、第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定しており、トレンチが、５μｍ以下、４μｍ以下、３μｍ以下、２．５μｍ以下、１．５μｍ以下、０．９μｍ以下、または０．５μｍ以下の幅を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３７．テクスチャ基板が、第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定しており、トレンチが、少なくとも０．３μｍまたは少なくとも０．５μｍの幅を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３８．テクスチャ基板が、第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定しており、トレンチが、１：１、少なくとも１．５：１、少なくとも２：１、少なくとも４：１、または少なくとも８：１超の深さ：幅のアスペクト比を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項３９．テクスチャ基板が、第１面および第２面を有し、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定し、トレンチが、１０００：１以下の深さ：幅のアスペクト比を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４０．透明複合体が、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、または１％以下のヘイズを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４１．透明複合体が、少なくとも０．０１％のヘイズを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４２．第２屈折率を有するトレンチ充填材料をさらに含み、テクスチャ基板が、第１面から延在するトレンチを画定し、第１屈折率を有し、トレンチ充填材料がトレンチ内にあり；かつ
第１屈折率が第２屈折率の０．０３以内にあり；
第１屈折率が第２屈折率の０．０２以内にあり；または
第１屈折率が第２屈折率の０．０１以内にある、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４３．ソーラーコントロール層が、第１面の上に置かれている連続層を含み、連続層が、少なくとも１００Ω／□、少なくとも２００Ω／□、少なくとも４００Ω／□、少なくとも７００Ω／□、少なくとも１０００Ω／□、または少なくとも２０００Ω／□の有効シート抵抗を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４４．ソーラーコントロール層が、第１面の上に置かれている連続層を含み、連続層が、１ＭΩ／□以下の有効シート抵抗を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４５．透明複合体が、１．０５超、１．３超、１．４超、１．５超、または１．６超の光対日射熱取得係数（ＬＴＳＨＧＣ）を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４６．透明複合体が、２．３以下の光対日射熱取得係数（ＬＴＳＨＧＣ）を有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４７．透明複合体が、１．８ＧＨｚの周波数で７ｄＢ以下、５ｄＢ以下、３ｄＢ以下、もしくは１ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させ、または４．５ＧＨｚの周波数で１０ｄＢ以下、９ｄＢ以下、８ｄＢ以下、もしくは７ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させる、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４８．透明複合体が、１．８ＧＨｚの周波数で少なくとも０．０１ｄＢだけ電磁放射を減衰する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項４９．テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差が、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも３００ｎｍ、または少なくとも１０００ｎｍである、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５０．テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差が、１０μｍ以下、４μｍ以下、１μｍ以下である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５１．テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差が、５０ｎｍ〜１０μｍ、３００ｎｍ〜４μｍの範囲である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５２．テクスチャ基板が、９ｃｍ以下、９ｍｍ以下、５ｍｍ以下、４ｍｍ以下、または９００μｍ以下であるピッチを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５３．テクスチャ基板が、少なくとも０．１１μｍ、少なくとも０．５μｍ、少なくとも１．１μｍ、または少なくとも２μｍであるピッチを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５４．テクスチャ基板が、０．１１μｍ〜９ｃｍ、０．５μｍ〜９ｍｍ、１．１μｍ〜５μｍ、または少なくとも２μｍ〜４μｍの範囲のピッチを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５５．テクスチャ基板が、１０μｍ以下、６μｍ以下、または５μｍ以下である深さを有するトレンチを画定する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５６．テクスチャ基板が、少なくとも少なくとも０．０５μｍ、少なくとも０．３μｍ、少なくとも１μｍ、または少なくとも２μｍである深さを有するトレンチを画定する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５７．テクスチャ基板が、０．３μｍ〜１０μｍ、１μｍ〜６μｍ、または２μｍ〜５μｍの範囲である深さを有するトレンチを画定する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５８．テクスチャ基板が、幅および深さを有するトレンチを画定し、幅が、深さに沿って中点において測定され、幅が、９０μｍ以下、７０μｍ以下、５０μｍ以下、３０μｍ以下、９μｍ以下、または５μｍ以下である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項５９．テクスチャ基板が、幅および深さを有するトレンチを画定し、幅が、深さに沿って中点において測定され、幅が、少なくとも０．１１μｍ、少なくとも１．１μｍ、少なくとも２μｍ、少なくとも３μｍ、少なくとも４μｍ、少なくとも５μｍ、または少なくとも１１μｍである、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６０．テクスチャ基板が、幅および深さを有するトレンチを画定し、幅が、深さに沿って中点において測定され、幅が、０．１１μｍ〜９０μｍ、１．１μｍ〜７０μｍ、５μｍ〜５０μｍ、または２μｍ〜３０μｍ、または３μｍ〜９μｍの範囲である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６１．テクスチャ基板が、底面を有するトレンチを画定し、上部から見て、テクスチャ基板の表面積で除算した、トレンチの底面に沿った面積の割合が、５０％以下、０．１％以下、または０．０１％以下である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６２．テクスチャ基板がトレンチを画定し、第２面がトレンチの底面であり、上部から見て、テクスチャ基板の表面積で除算した、トレンチの底面に沿った面積の割合が、少なくとも１×１０^−５％、少なくとも１×１０^−４％、または少なくとも１×１０^−３％である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６３．テクスチャ基板がトレンチを画定し、第２面が底面であり、上部から見て、テクスチャ基板の表面積で除算した、トレンチの底面に沿った面積の割合が１×１０^−５％〜５０％、１×１０^−４％〜１％、または１×１０^−３％〜０．０１％の範囲である、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６４．ソーラーコントロール層が、テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差の８０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、９０％以下、または９％以下である厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６５．ソーラーコントロール層が、テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差の少なくとも０．０２％、少なくとも０．０５％、少なくとも０．２％、少なくとも０．５％、少なくとも２％、少なくとも１１％、または少なくとも２０％である厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６６．ソーラーコントロール層が、テクスチャ基板の第１面とテクスチャ基板の第２面との間の高度差の０．０２％〜８０％、０．０５％〜３０％、または０．２％〜９％の範囲である厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６７．ソーラーコントロール層が、１５００ｎｍ以下、４００ｎｍ以下、１６０ｎｍ以下、または１００ｎｍ以下である第１面の上の厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６８．ソーラーコントロール層が、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２０ｎｍ、少なくとも４０ｎｍ、または少なくとも２００ｎｍである第１面の上の厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項６９．ソーラーコントロール層が、１０ｎｍ〜１５００ｎｍ、２０ｎｍ〜４００ｎｍ、４０ｎｍ〜１６０ｎｍ、または５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である第１面の上の厚さを有する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７０．第１面がテクスチャ基板の第１主面であり；
テクスチャ基板が第１主面に対向する第２主面を有し；
テクスチャ基板の厚さが、第１および第２主面間の距離に相当する、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７１．テクスチャ基板の厚さが、少なくとも１１０ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、少なくとも５００ｎｍ、または少なくとも１．１μｍである、項７０に記載の透明複合体または方法。

項７２．テクスチャ基板の厚さが、２０μｍ以下、９μｍ以下、７μｍ以下である、項７０または７１に記載の透明複合体または方法。

項７３．テクスチャ基板の厚さが、１１０ｎｍ〜２０μｍ、５００ｎｍ〜９μｍ、または１．１μｍ〜７μｍの範囲である、項６９〜７２のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７４．支持基板をさらに含み、テクスチャ基板が支持基板とソーラーコントロール層との間に設けられている、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７５．支持基板の厚さが、少なくとも１１μｍ、少なくとも１７μｍ、または少なくとも２５μｍである、項７４に記載の透明複合体または方法。

項７６．支持基板の厚さが、９００μｍ以下、６００μｍ以下、または３００μｍ以下である、項７４または７５に記載の透明複合体または方法。

項７７．テクスチャ基板の厚さが、１１μｍ〜９００μｍ、１７μｍ〜６００μｍ、または２５μｍ〜３００μｍの範囲である、項７４〜７６のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７８．トレンチ充填材料をさらに含み：
テクスチャ基板が、第１面と第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定し；
トレンチ充填材料がトレンチ内にあり、ソーラーコントロール層の第２部分の上に置かれている、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項７９．トレンチ充填材料が第１面の上に置かれており、第１面上のトレンチ充填材料層の厚さが、少なくとも０．２μｍ、少なくとも０．５μｍ、少なくとも０．８μｍ、または少なくとも１．１μｍである、項７８に記載の透明複合体または方法。

項８０．トレンチ充填材料が第１面の上に置かれており、第１面上のトレンチ充填材料層の厚さが、７μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、または３μｍ以下である、項７８または７９に記載の透明複合体または方法。

項８１．トレンチ充填材料が第１面の上に置かれており、第１面上のトレンチ充填材料層の厚さが、０．２μｍ〜７μｍ、０．５μｍ〜５μｍ、０．８μｍ〜４μｍ、または１．１μｍ〜３μｍの範囲である、項７８〜８０のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項８２．テクスチャ基板が、トレンチ充填材料とは異なる第１材料を含む、項７８〜８１のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項８３．テクスチャ基板がアクリレートを含み、トレンチ充填材料がアセテートを含む、項８２に記載の透明複合体または方法。

項８４．テクスチャ基板がガラスを含み、トレンチ充填材料がポリビニルアルコールを含む、項８２に記載の透明複合体または方法。

項８５．テクスチャ基板がガラスを含み、トレンチ充填材料が、ナノ粒子を有さないポリビニルブチラールと比較して、ガラスの屈折率とより密に適合することを助けるナノ粒子を有するポリビニルブチラールを含む、項８２に記載の透明複合体または方法。

項８６．テクスチャ基板が無機材料を含む、項１〜１６、２１〜８３、および８５のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項８７．テクスチャ基板が、ガラス、サファイア、スピネル、またはアルミニウム酸窒化物を含む、項８６のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項８８．トレンチ充填材料が、積層接着剤または圧感接着剤を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項８９．トレンチ充填材料が、ポリエステル、アクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、シリコーンゴム、またはこれらの任意の混合物を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９０．トレンチ充填材料がナノ粒子を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９１．ナノ粒子が、シリカ、ＴｉＯ_２、インジウムスズ酸化物、またはＳｂドープトＳｎＯ_２を含む、項９０に記載の透明複合体または方法。

項９２．テクスチャ基板が透明ポリマーを含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９３．テクスチャ基板が、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリシロキサン、ポリエーテル、またはポリビニル化合物を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９４．ソーラーコントロール層が、金属、金属合金、金属酸化物、または金属合金を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９５．ソーラーコントロール層が、１または複数のＡｇ層と：
（１）金、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、インジウム、亜鉛、もしくはこれらの任意の組み合わせの１もしくは複数の層；
（２）酸化チタン（例えば、ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム、ＢｉＯ_２、ＰｂＯ、ＮｂＯ、ＳｎＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、もしくはこれらの任意の組み合わせの１もしくは複数の層；または
（１）および（２）の両方と
を含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９６．テクスチャ基板の下に置かれている支持基板をさらに含む、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９７．ハードコート層をさらに含み、テクスチャ基板が、ソーラーコントロール層とハードコート層との間に設けられている、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９８．剥離層をさらに含み、ソーラーコントロール層が、テクスチャ基板と剥離層との間に設けられている、上記項のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。

項９９．テクスチャ基板が、メサおよびメサ間の相互接続したトレンチを含む、上記項のいずれかに記載の透明複合体または方法。

項１００．テクスチャ基板が、離間したトレンチを含む、上記項のいずれかに記載の透明複合体または方法。

項１０１．テクスチャ基板が、メサおよび窪みの市松模様を有する、上記項のいずれかに記載の透明複合体または方法。

詳細な説明全体および実施例において上記に記載されているアクティビティの全てが必要とされるわけではないこと、具体的なアクティビティの一部が必要とされない場合があること、および記載されているアクティビティに加えて１つ以上のさらなるアクティビティが実施されてよいことに注意されたい。さらにまた、アクティビティが列挙されている順序は、必ずしも、これらが実施される順序ではない。

実施例は、説明目的でのみ付与されており、添付の特許請求の範囲に定義されている本発明の範囲を限定しない。実施例は、ソーラーコントロール層を含む透明複合体が、高周波信号の過度の信号透過減衰を有することなく、良好なソーラー性能を有して形成され得ることを実証する。

実施例１を、５０μｍ（２ミル）の透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板の基板を用いて実施する。紫外線放射によって硬化可能なアクリレート樹脂（ＵＶ−アクリレート樹脂）をＰＥＴ基板の一方の側に適用し、ＵＶ硬化の間、パターン形成されたスタンプを用いることによってエンボス加工した。パターン形成されたスタンプは、フォトレジストのフォトリソグラフィによって作製されたパターンを有するシリコンウェハを含んだ。ＰＥＴ基板上にエンボス加工された、パターン形成されたＵＶ−アクリレート樹脂は、以下の寸法：３ｍｍのピッチ、２．２μｍのトレンチ幅；および４μｍのトレンチ深さ；を有するグリッドのパターンを有した。

続いて、エンボス加工された構造体の上部に、パイロットのバッチ式のスパッタリングツールを用いてソーラーコントロール層をスパッタリングした。ＰＥＴ基板を１枚の平面ガラスにテーピングし、その後、真空堆積チャンバに入れた。ソーラーコントロール層は、以下の組成を有し、以下のシーケンスで形成された複数のフィルムを含んだ：３０ｎｍのＴｉＯ_２／＜１ｎｍのＡｕ／１０ｎｍのＡｇ／＜１ｎｍのＡｕ／３０ｎｍのＴｉＯ_２。厚さは、機械式表面形状測定装置を用いてガラス上に堆積した単層の厚さを測定することによる堆積状態の事前のキャリブレーションをベースにした。

実施例２は、トレンチ幅が２．２μｍの代わりに４μｍであることのみ、実施例１と異なる。

実施例３は、ＵＶ−アクリレート樹脂をエンボス加工しなかったということにおいてのみ実施例１と異なる。そのため、実施例３は、パターンを有さない。

実施例４は、ソーラーコントロール層の組成のシーケンスのみにおいて実施例２と異なる。実施例４において、ソーラーコントロール層は、以下の組成を有し、以下のシーケンスで形成された複数のフィルムを含んだ：＜１ｎｍのＡｕ／１０ｎｍのＡｇ／＜１ｎｍのＡｕ。

実施例５は、ソーラーコントロール層の組成のシーケンスのみにおいて実施例３と異なる。実施例５において、ソーラーコントロール層は、以下の組成を有し、以下のシーケンスで形成された複数のフィルムを含んだ：＜１ｎｍのＡｕ／１０ｎｍのＡｇ／＜１ｎｍのＡｕ。

シート抵抗は、機器、例えばＮａｇｙシステムを用いて、非接触シート抵抗を用いて測定した。

無線周波数信号の透過の測定を、図１９に示されている特別に設計された透過セットアップにおいて行った。２つのホーンアンテナを垂直偏波構成において互いに対向して搭載した。ネットワークアナライザを信号源および受信器として用いた。ネットワークアナライザを４．５ＧＨｚで作動する送受信アンテナに接続した。送信アンテナでは、試験下のデバイス（ＤＵＴ）の位置で平面波であるとされる電磁場を発生させる。かかる測定セットアップのキャリブレーションは、サンプルを含まない開口部を通過する信号、すなわち、空気を通る送信よって実施する。そのため、以下の全ての測定は、（測定セットアップの開口部の限界における）空気を伝播する信号に関してのサンプルを通る透過率の値に相当する。以下の表１は、収集したデータを含む。

実施例１、２および４は、本明細書に記載されている概念に従って構成されており、実施例３および５は比較例である。図２０は、シート抵抗の関数としての透過減衰のプロットを含む。明確に観察されていることは、上記寸法に従ったパターングリッドの付加が、無線周波数の透過の大幅な改善を可能にすること（＞−１５ｄＢ減衰）、およびこれにより、窓が、パターン無しの層上に形成されているソーラーコントロール層とは対照的に、パターン形成された層上に形成されたソーラーコントロール層を有しているとき、高周波無線通信に関する信号強度の損失が大幅に低減されることである。

利益、他の利点、および問題に対する解決策は、具体的な実施形態に関して上記に記載されている。しかし、利益、利点、問題に対する解決策、および任意の利益、利点もしくは解決策を生じさせ得る、またはより明白にさせ得る任意の特徴は、特許請求の範囲のいずれかまたは全ての重要な、所要のまたは本質的な特徴として構成されるべきではない。

本明細書に記載されている実施形態の仕様および説明は、種々の実施形態の構造の全体的な理解を提供することが意図される。該仕様および説明は、本明細書に記載されている構造または方法を用いる装置およびシステムの要素および特徴の全ての包括的かつ総合的な記載として機能することは意図されていない。明確化のために、別個の実施形態の文脈において本明細書に記載されているある特定の特徴は、単一の実施形態において組み合わされて提供されてもよい。対照的に、明確化のために、単一の実施形態の文脈において記載されている種々の特徴が、別個にまたはサブ組み合わせにおいて提供されてもよい。さらに、範囲において記述されている値への言及は、該範囲内のありとあらゆる値を含む。多くの他の実施形態は、本明細書を読んだ後にのみ、当業者に明らかとなり得る。他の実施形態が用いられて本開示から誘導されてよく、その結果、構造的置換、論理的置換、または別の変形が開示の範囲から逸脱することなくなされてよい。したがって、本開示は、制限的であるよりもむしろ説明的であるとみなされるべきである。

Claims (15)

1. 第１面および第２面を有し、前記第１面と前記第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板と；
   第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、前記第１部分が前記第１面の上に置かれており、前記第２部分が前記第２面の上に置かれており、前記第２部分が、前記トレンチの前記側壁によって前記第１部分から分離されている、前記ソーラーコントロール層と；
   前記トレンチ内に延在して上に置かれており、前記ソーラーコントロール層の前記第２部分の上に置かれているトレンチ充填材料と、
   を含む透明複合体であって、
   ５％以下のヘイズを有する、前記透明複合体。
2. 第１面および第２面を有し、前記第１面と前記第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板であって、第１屈折率を有する前記テクスチャ基板と；
   第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、前記第１部分が前記第１面の上に置かれており、前記第２部分が前記第２面の上に置かれている、前記ソーラーコントロール層と；
   トレンチ内にあり、前記ソーラーコントロール層の前記第２部分の上に置かれているトレンチ充填材料であって、第２屈折率を有する前記トレンチ充填材料と
   を含む透明複合体であって、
   前記第１屈折率が、前記第２屈折率の０．０３以内である、透明複合体。
3. 第１面、第２面、および側壁を有し、トレンチを画定するテクスチャ基板であって：
   前記側壁が、前記第１面から前記第２面に向かって延在し、前記トレンチが、前記第１面におけるものと比較して、前記第１面から離間する点においてより幅広く；
   前記第１面が、前記第２面と比較して異なる高度で置かれており、前記テクスチャ基板の少なくとも前記側壁によって前記第２面から離間されている、前記テクスチャ基板と；
   第１部分、および前記テクスチャ基板の前記側壁によって前記第１部分から分離されている第２部分を有するソーラーコントロール層と
   を含む前記透明複合体。
4. 第１面、第２面、および側壁を有するテクスチャ基板であって：
   前記側壁が、前記第１面から前記第２面に向かって延在し、少なくとも５０°である対応する側壁角度を有し；
   前記第１面が、前記第２面と比較して異なる高度で置かれており、前記テクスチャ基板の少なくとも前記側壁によって前記第２面から離間されている、前記テクスチャ基板と；
   第１部分、および前記テクスチャ基板の前記側壁によって前記第１部分から分離されている第２部分を有するソーラーコントロール層と
   を含む透明複合体。
5. 第１面および第２面を有し、前記第１面と前記第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板と；
   前記第１面の上に第１厚さを有する第１部分、および前記第２面の上に第２厚さを有する第２部分を有するソーラーコントロール層であって、前記トレンチの中心で測定したとき、前記第２厚さが前記第１厚さの７０％以下である、前記ソーラーコントロール層と
   を含む透明複合体。
6. 第１面および第２面を有し、前記第１面と前記第２面との間に置かれている側壁を有するトレンチを画定するテクスチャ基板であって、前記トレンチが、４μｍ以下の幅、および１：１超の深さ：幅のアスペクト比を有し、第１の屈折率を有する前記テクスチャ基板と；
   前記第１面の上に第１厚さを有する第１部分を有するソーラーコントロール層であって、前記トレンチ内の前記第２面に沿って実質的に置かれていない前記ソーラーコントロール層と
   前記トレンチ内にあり、第２屈折率を有するトレンチ充填材料と
   を含み、前記第１屈折率が、前記第２屈折率の０．０３以内である、透明複合体。
7. 第１面および第２面を有するテクスチャ基板であって、前記第２面が互いに離間しており、前記第１面と比較して異なる高度で置かれている、前記テクスチャ基板と；
   前記第１面の上に置かれている連続層を含むソーラーコントロール層であって、前記ソーラーコントロール層の部分が前記第２面の上に置かれており、前記連続層が、少なくとも１００Ω／□の有効シート抵抗を有する、前記ソーラーコントロール層と
   を含む透明複合体。
8. テクスチャ基板であって、第１面を有し、かつ、前記第１面から、トレンチの底部に沿って置かれている前記テクスチャ基板の第２面に向かって延在する前記トレンチを画定しており、前記トレンチが、前記第１面に近位の高度で第１幅、前記第１面から遠位の高度で第２幅を有し、前記第２幅が前記第１幅より大きい、前記テクスチャ基板と；
   第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、上部から見て、前記第１部分が前記第１面の上に置かれており、前記第２部分が前記第２面の上に置かれている、前記ソーラーコントロール層と
   を含む透明複合体。
9. 第１面、側壁、および前記第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、前記側壁が前記第１面から前記第２面に向かって延在している、前記テクスチャ基板と；
   第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、前記第１部分が前記第１面の上に置かれており、前記第２部分が前記第２面の上に置かれている、前記ソーラーコントロール層と
   を含む透明複合体であって、
   １．０５超の光対日射熱取得係数（ＬＴＳＨＧＣ）を有し；
   １．８ＧＨｚの周波数で７ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させ、または、４．５ＧＨｚの周波数で１５ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させる、前記透明複合体。
10. 第１面、側壁、および前記第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、前記側壁が前記第１面から前記第２面に向かって延在している、前記テクスチャ基板と；
    第１部分および第２部分を有するソーラーコントロール層であって、前記第１部分が前記第１面の上に置かれており、前記第２部分が前記第２面の上に置かれている、前記ソーラーコントロール層と
    を含む透明複合体であって、
    金属薄膜を含むソーラーコントロール層を有し：
    １．８ＧＨｚの周波数で７ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させ、または、４．５ＧＨｚの周波数で１５ｄＢ以下だけ電磁放射を減衰させる、前記透明複合体。
11. 透明複合体を形成する方法であって：
    第１面、側壁、および前記第１面と比較して異なる高度で置かれている第２面を含むテクスチャ基板であって、前記側壁が前記第１面から前記第２面に向かって延在している、前記テクスチャ基板を付与することと；
    前記テクスチャ基板の上にソーラーコントロール層を非等角的に堆積することであって、前記側壁に沿った点における段階被覆が５０％以下である、前記堆積することと
    を含む方法。
12. 前記基板を付与することが：
    下層基板をコーティングすることと；
    該層をダイでエンボス加工することと；
    エンボス加工の際に該層を硬化することと
    を含む、請求項１１に記載の方法。
13. 前記透明複合体が、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、または１％以下のヘイズを有する、請求項１〜請求項１２のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。
14. 第２屈折率を有するトレンチ充填材料をさらに含み、前記テクスチャ基板が前記、第１面から延在するトレンチを画定し、第１屈折率を有し、前記トレンチ充填材料が前記トレンチ内にあり；かつ
    前記第１屈折率が前記第２屈折率の０．０３以内にあり；
    前記第１屈折率が前記第２屈折率の０．０２以内にあり；または
    前記第１屈折率が前記第２屈折率の０．０１以内にある、請求項１〜請求項３、請求項５、請求項６、請求項８、および請求項１３のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。
15. 前記トレンチが、前記第１面におけるものと比較して、前記第１面から離間する点においてより幅広い、請求項１、請求項２、請求項５、請求項６、および請求項８〜請求項１４のいずれか一項に記載の透明複合体または方法。