JP2017509137A - 表面コーティング - Google Patents
表面コーティング Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017509137A JP2017509137A JP2016538690A JP2016538690A JP2017509137A JP 2017509137 A JP2017509137 A JP 2017509137A JP 2016538690 A JP2016538690 A JP 2016538690A JP 2016538690 A JP2016538690 A JP 2016538690A JP 2017509137 A JP2017509137 A JP 2017509137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- monomer
- electrode layer
- coating
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/52—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by electric discharge, e.g. voltolisation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/08—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/282—Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/015—Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09818—Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
- H05K2201/09872—Insulating conformal coating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/09—Treatments involving charged particles
- H05K2203/095—Plasma, e.g. for treating a substrate to improve adhesion with a conductor or for cleaning holes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Y1-X-Y2 (I)又は、
-[Si(CH3)2-X-]n- (II)
(式中、
XはO又はNHであり、
Y1は-Si(Y3)(Y4)Y5であり、
Y2はSi(Y3')(Y4')Y5'であり、
Y3、Y4、Y5、Y3'、Y4'及びY5'はそれぞれ独立して、H、又は炭素数10までのアルキル基であり、
式(II)のモノマーは、nが2〜10の環状であり、
かつ、Y3、Y4及びY5の多くとも1つが水素であり、Y3'、Y4'及びY5'の多くとも1つが水素であり、炭素原子の合計が20以下である)を有する、方法を提供する。
PCBの片面から、PCBのその片面側に配置された電極セットまでの距離が、PCBの反対面から、その反対面側の電極セットまでの距離と略同じ(すなわちその10 %以内、例えば、9 %、8 %、7 %、6 %、5 %、4 %、3 %、2 %、又は1 %となるように、
未コーティングのPCBを重合チャンバーに入れる。
(i)コーティングを除去して、部品を導電性トラックにはんだ付けすることができる;
(ii)銅トラックから汚染物質が除去される;
(iii)温度がはんだのリフロー点まで上昇するので酸化が防止される;及び、
(iv)液体はんだと洗浄された銅トラックとの間の界面として作用する。
表1のパラメータを使用して基板をコーティングする実験を行った。
1.撥水性
ASTM D5964-04に準拠する水接触角を使用して、疎水性又は表面のぬれ性を測定する。
コーティングされた物体の色変化は、ISO 105-J01-L*、a*、b*、c*、CMC 2:1に準拠して測定した(正:measured)。結果はΔE値で表す。本発明に従って堆積されるコーティングに関して、ΔEは1未満であり、これは、肉眼で見える色の変化がないという指摘を意味するものである。
本発明のコーティングは、ISO 10993に準拠して試験して、無毒性であることが分かっている。
種々のコーティングの堆積速度を示すために、或る特定の処理時間後のコーティングされたガラス板に対して楕円偏光法でコーティング厚さを測定した。結果を以下の表3に示す。
従来の電極設定について、電極セット1つにつき1つの電極層を用いて立証した。かかる従来の構成では、基板の上側又は無線周波数(RF)電極層に面する側は、表面又は接地電極層に向かう面よりも、形成されるコーティングが厚くなる。
コーティング均一性を求めるために、プロセスパラメータを従来技術の物質(C3F6)及び本発明のコーティング(ヘキサメチルジシロキサン)に対して最適化させた。
はんだ付け性に関して種々のコーティング厚さを評価した。本発明のコーティング(例えばヘキサメチルジシロキサン)(パルス方式又は連続出力方式)では、PCB接合部が十分にはんだ付けされた。本実験では10 nm〜170 nmの広範囲のコーティング厚さが良好なはんだ付け性を示すことが分かった。
耐食性を試験するために、DIN EN ISO3231に準拠するシングルガス検証試験を使用した。この試験は、銅上の金及びニッケルのコーティングを評価する迅速で効果的な方法として開発されたものである。
24時間後、サンプルをチャンバーから取り出し、写真を撮影した。
新しいH2SO3が再充填されたチャンバーにサンプルを戻した。チャンバーをオーブンに戻し、温度を45℃まで上昇させた。チャンバーをこの温度で更に4日間維持すると、一部の限定的な腐食が、ポリマーコーティングされたサンプル上に見え始めた。
試験の最後に更にサンプルの写真を撮影した。
Claims (23)
- 未コーティングのプリント回路基板上にはんだ通過ポリマーコーティングを堆積させる方法であって、該方法が、キャリアガスを用いてオルガノシラン前駆体モノマーを内部に導入した重合チャンバー内において、平均して低出力及び低圧のプラズマ重合を使用することを含み、該オルガノシランが、式(I)又は式(II):
Y1-X-Y2 (I)又は、
-[Si(CH3)2-X-]n- (II)
(式中、
XはO又はNHであり、
Y1は-Si(Y3)(Y4)Y5であり、
Y2はSi(Y3')(Y4')Y5'であり、
Y3、Y4、Y5、Y3'、Y4'及びY5'はそれぞれ独立して、H、又は炭素数10までのアルキル基であり、
式(II)のモノマーは、nが2〜10の環状であり、
かつ、Y3、Y4及びY5の多くとも1つが水素であり、Y3'、Y4'及びY5'の多くとも1つが水素であり、炭素原子の合計が20以下である)を有する、方法。 - 式(I)のオルガノシラン中に存在する各アルキル基が直鎖アルキル基である、請求項1に記載の方法。
- Y3、Y4、Y5、Y3'、Y4'又はY5’の全てがアルキル基である、請求項1又は2に記載の方法。
- Y3、Y4、Y5、Y3'、Y4'及び/又はY5’が表し得る各アルキル基がメチル又はエチルである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 式Iのオルガノシランモノマーが、ヘキサメチルジシロキサン又はヘキサメチルジシラザンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- ポリマーコーティング前に前記プリント回路基板(PCB)を洗浄及び/又はエッチング及び/又は活性化させる前処理工程を更に含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記前処理を、H2、02、N2O、CH4、CF4、He、Ar、N2、He、又はそれらの混合物を用いて行う、請求項6に記載の方法。
- 前記前処理を、O2、Ar、O2とCF4との混合物、又はO2とArとの混合物を用いて行う、請求項6又は7に記載の方法。
- 前記前処理を、連続波方式又はパルス波方式のいずれかで印加される無線周波数電力を用いて、15秒〜15分、例えば45秒〜5分間実施する、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記前処理工程とコーティング工程との間に前記チャンバーを開けることなく、これらの工程を、前記同じチャンバー内で実行する、請求項6〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだ通過ポリマーコーティングを、プラズマチャンバー内において堆積させることによって形成し、該プラズマチャンバーが、第1の電極セットと第2の電極セットとを含み、該第1の電極セット及び該第2の電極セットが前記チャンバーにおいて対向するように配列し、前記第1の電極セット及び前記第2の電極セットが複数の無線周波数電極層及び/又は複数の接地電極層を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の電極セット及び前記第2の電極セットの一方又は両方が、内部電極層と、1対の外部電極層とを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記内部電極層が無線周波数電極層又は接地電極層であり、前記外部電極層がそれぞれ、接地電極層又は無線周波数電極層である、請求項12に記載の方法。
- 前記内部電極層が接地電極層であり、前記外部電極層が無線周波数電極層であるか、又は、
前記内部電極層及び/又は前記外部電極層(単数又は複数)が無線周波型であり、該無線周波数電極層又は各無線周波数電極層が温度調節器を含む、請求項12又は13に記載の方法。 - 10 nm〜500 nm、又は40 nm〜100nm、又は、90 nm、80 nm、75 nm、70 nm、60 nm、若しくは50nm未満の厚さを有するポリマーコーティングを塗布することを含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリマー堆積プロセスの所要時間が、15秒〜10分、例えば30秒〜5分である、請求項1〜15のいずれか一項に記載の方法。
- 2つの電極セットの間に前記プリント回路基板(PCB)が配置され、各電極セットが前記チャンバーにおいて対向するように配置され、かつ各電極セットが複数の無線周波数電極層及び/又は複数の接地電極層を含むように、及び、
前記PCBの片面から、前記PCBのその片面側に配置された前記電極セットまでの距離が、前記PCBの反対面から、その反対面側の前記電極セットまでの距離の10 %以内となるように、
前記未コーティングのPCBを前記重合チャンバーに入れる、請求項1〜16のいずれか一項に記載の方法。 - 90 nm未満の厚さを有するとともに、コーティング厚さの均一性のばらつきが10 %未満であるポリマーコーティングを塗布することを含む、請求項15〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記プリント回路基板の少なくとも片面上に本質的に完全に、又は前記プリント回路基板の両面上に本質的に完全に、前記ポリマーコーティングを塗布する、請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法。
- コーティング厚さの均一性のばらつきが10 %未満であり、オルガノシラン前駆体モノマーのプラズマ重合によって得られるはんだ通過プラズマ重合コーティングを含む、プリント回路基板。
- 前記オルガノシラン前駆体モノマーが、式(I)又は式(II):
Y1-X-Y2 (I)又は、
-[Si(CH3)2-X-]n- (II)
(式中、
XはO又はNHであり、
Y1は-Si(Y3)(Y4)Y5であり、
Y2はSi(Y3')(Y4')Y5'であり、
Y3、Y4、Y5、Y3'、Y4'及びY5'はそれぞれ独立して、H、又は炭素数10までのアルキル基であり、
式(II)のモノマーは、nが2〜10の環状であり、
かつ、Y3、Y4及びY5の多くとも1つが水素であり、Y3'、Y4'及びY5'の多くとも1つが水素であり、炭素原子の合計が20以下である)を有する、請求項20に記載のプリント回路基板。 - 前記コーティングが、前記プリント回路基板の少なくとも片面上に本質的に完全に、又は前記プリント回路基板の両面上に本質的に完全に塗布される、請求項20又は21に記載のプリント回路基板。
- 請求項1〜19のいずれか一項に記載の方法によって得られる、請求項20〜22のいずれか一項に記載のプリント回路基板。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1321792.2 | 2013-12-10 | ||
GB1321792.2A GB2521137A (en) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | Surface Coatings |
PCT/EP2014/077233 WO2015086682A1 (en) | 2013-12-10 | 2014-12-10 | Surface coatings |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017509137A true JP2017509137A (ja) | 2017-03-30 |
JP2017509137A5 JP2017509137A5 (ja) | 2018-01-11 |
Family
ID=50000466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016538690A Withdrawn JP2017509137A (ja) | 2013-12-10 | 2014-12-10 | 表面コーティング |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160324011A1 (ja) |
EP (1) | EP3081058A1 (ja) |
JP (1) | JP2017509137A (ja) |
KR (1) | KR20160097326A (ja) |
CN (1) | CN106105403A (ja) |
AU (1) | AU2014363543A1 (ja) |
BE (1) | BE1021398B1 (ja) |
CA (1) | CA2933390A1 (ja) |
GB (1) | GB2521137A (ja) |
IL (1) | IL246178A0 (ja) |
WO (1) | WO2015086682A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018204054A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属部材の製造方法、プリント基板の製造方法、金属部材及びプリント基板 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106216192A (zh) * | 2016-08-30 | 2016-12-14 | 无锡荣坚五金工具有限公司 | 一种管状大容积等离子体聚合涂层装置 |
DE102017119233A1 (de) * | 2017-08-23 | 2019-02-28 | Dr. O. K. Wack Chemie Gmbh | Verfahren zum Überprüfen der Geschlossenheit einer auf eine elektronische Baugruppe aufgebrachten Schutzbeschichtung |
CN109686672A (zh) * | 2017-10-18 | 2019-04-26 | 上海稷以科技有限公司 | 在物体表面形成保护层的方法及表面形成有保护层的产品 |
CN108080228B (zh) * | 2017-10-26 | 2021-06-01 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法 |
PL3680029T3 (pl) * | 2019-01-09 | 2023-07-24 | Europlasma Nv | Metoda polimeryzacji plazmowej do powlekania polimerowego substratu |
CN114535029A (zh) * | 2022-02-24 | 2022-05-27 | 深圳市技高美纳米科技有限公司 | 纳米防水薄膜制备方法和制备系统 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA884511B (en) * | 1987-07-15 | 1989-03-29 | Boc Group Inc | Method of plasma enhanced silicon oxide deposition |
US4981713A (en) * | 1990-02-14 | 1991-01-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low temperature plasma technology for corrosion protection of steel |
DE9206834U1 (ja) * | 1992-02-21 | 1993-06-17 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De | |
JP2002012667A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリイミドシリコーン樹脂、その溶液組成物、およびポリイミドシリコーン樹脂皮膜 |
US7673970B2 (en) * | 2004-06-30 | 2010-03-09 | Lexmark International, Inc. | Flexible circuit corrosion protection |
BE1019159A5 (nl) * | 2010-01-22 | 2012-04-03 | Europlasma Nv | Werkwijze voor de afzetting van een gelijkmatige nanocoating door middel van een lage druk plasma proces. |
US8995146B2 (en) * | 2010-02-23 | 2015-03-31 | Semblant Limited | Electrical assembly and method |
GB2489761B (en) * | 2011-09-07 | 2015-03-04 | Europlasma Nv | Surface coatings |
GB2510213A (en) * | 2012-08-13 | 2014-07-30 | Europlasma Nv | Forming a protective polymer coating on a component |
-
2013
- 2013-12-10 GB GB1321792.2A patent/GB2521137A/en not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-01-07 BE BE2014/0009A patent/BE1021398B1/nl active
- 2014-12-10 CA CA2933390A patent/CA2933390A1/en not_active Abandoned
- 2014-12-10 WO PCT/EP2014/077233 patent/WO2015086682A1/en active Application Filing
- 2014-12-10 US US15/103,367 patent/US20160324011A1/en not_active Abandoned
- 2014-12-10 EP EP14814807.5A patent/EP3081058A1/en not_active Withdrawn
- 2014-12-10 AU AU2014363543A patent/AU2014363543A1/en not_active Abandoned
- 2014-12-10 KR KR1020167018570A patent/KR20160097326A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-12-10 JP JP2016538690A patent/JP2017509137A/ja not_active Withdrawn
- 2014-12-10 CN CN201480074578.XA patent/CN106105403A/zh active Pending
-
2016
- 2016-06-13 IL IL246178A patent/IL246178A0/en unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018204054A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属部材の製造方法、プリント基板の製造方法、金属部材及びプリント基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2014363543A1 (en) | 2016-07-07 |
EP3081058A1 (en) | 2016-10-19 |
CN106105403A (zh) | 2016-11-09 |
US20160324011A1 (en) | 2016-11-03 |
CA2933390A1 (en) | 2015-06-18 |
GB2521137A (en) | 2015-06-17 |
GB201321792D0 (en) | 2014-01-22 |
BE1021398B1 (nl) | 2015-11-16 |
WO2015086682A1 (en) | 2015-06-18 |
IL246178A0 (en) | 2016-07-31 |
KR20160097326A (ko) | 2016-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101666285B1 (ko) | 표면 폴리머 코팅 | |
JP2017509137A (ja) | 表面コーティング | |
EP1509332B1 (en) | Application of a coating forming material onto at least one substrate | |
KR100824088B1 (ko) | 성막 처리 방법 | |
EP1506063B1 (en) | Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate | |
KR101897604B1 (ko) | 수명이 짧은 종들을 위한 빌트-인 플라즈마 소스를 구비한 프로세스 챔버 리드 설계 | |
CN109750276B (zh) | 基于惰性气体/氧等离子体的薄膜沉积方法及装置 | |
GB2494946A (en) | Surface coatings formed by plasma polymerisation | |
US20090142511A1 (en) | Process and apparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition coating of a substrate | |
CN100564587C (zh) | 形成Ti膜的成膜方法 | |
US20100255216A1 (en) | Process and apparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition coating of a substrate | |
JP2008121054A (ja) | 真空処理装置のクリーニング方法及び真空処理装置 | |
US11380528B2 (en) | Plasma processing apparatus | |
KR101541255B1 (ko) | 알루미늄 금속층위에 hmdso층 및 af층이 함께 형성되는 코팅방법 | |
KR20100078334A (ko) | 플라즈마 처리장치 및 반사 방지막 형성방법 | |
KR101541256B1 (ko) | 이온소스를 활용한 알루미늄 금속층위에 hmdso층 및 af층이 함께 형성되는 코팅방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171127 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171127 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20180514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180625 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180626 |